Die Erfindung bezieht sich auf einen Dünnfilm-Magnetkopf
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 sowie auf ein
Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilm-Magnetkopfs gemäß
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 4.
Aus der DE-OS 23 41 832 ist ein dem Oberbegriff des Patent
anspruchs 1 entsprechender Dünnfilm-Magnetkopf bekannt,
dessen beide Spulen auf derselben Seite eines Substrats
angeordnet sind und jeweils einen zentralen langgestreckten
Abschnitt eines zweiteiligen Kerns umschließen. Die beiden
Kernteile sind durch eine langgestreckte metallische
magnetische Materialbahn gebildet, die in ihrer Mitte durch
einen Ätzschritt aufgetrennt ist. Im geätzten Abschnitt
bildet der Kern den Arbeitsspalt aus. Dieser Arbeitsspalt
besitzt allerdings aufgrund des Ätzschritts, der regelmäßig
zu einem Unterätzen führt, konischen Querschnitt, so daß
sich die Breite des Arbeitsspaltes mit zunehmender
Betriebsdauer des Geräts vergrößert, da die oberste Schicht
des den Arbeitsluftspalt umgebenden Materials beim Betrieb
des Geräts sukzessive abgetragen wird. Zudem ist auch die
anfänglich erzielte Breite des Arbeitsluftspalts großen
Toleranzen unterworfen, da der Ätzschritt nicht sehr
präzise führbar ist. Auch die lokale Spaltbreite ist in
Richtung der Länge des Arbeitsspalts unterschiedlich. Diese
Effekte beeinträchtigen die Arbeitsqualität und auch die
Langzeitstabilität der Betriebsparameter des Magnetkopfs.
Aus der US-PS 42 41 367, die ein dem Oberbegriff des
Patentanspruchs 4 entsprechendes Verfahren offenbart, ist
es bekannt, die beiden Kernteile übereinander zu schichten,
und zwar unter Zwischenlage einer Isolierschicht, die die
Breite des Arbeitsspalts definiert. Die Spule ist durch
Leiterabschnitte gebildet, die auf der Oberfläche des
magnetischen Substrats angeordnet sind. Mit dem
magnetischen Substrat findet sich eine magnetische Schicht
in direktem Kontakt, was dann, wenn die Magnetschicht aus
metallischem ferromagnetischem Material bestehen würde, zu
dem unerwünschten Effekt eines sog. "Pseudo-Magnetspalts"
zwischen der Magnetschicht und dem magnetischen Substrat
führen würde. Ein solcher Pseudo-Magnetspalt würde auch
unerwünschte Signale erfassen, so daß der resultierende
Magnetkopf ein schlechtes Signal/Rausch-Verhältnis besitzen
würde.
Aus der US-PS 44 58 279 ist ein Dünnfilm-Magnetkopf
bekannt, auf dessen Substrat eine magnetische Schicht ange
ordnet ist, die von einer Isolierschicht überlagert ist.
Auf der Isolierschicht ist eine leitende Wicklung in zwei
Etagen ausgebildet, die von Isoliermaterial umhüllt ist.
Auf der Oberseite des Dünnfilm-Magnetkopfs befindet sich
eine zweite magnetische Schicht, die auf der Vorderseite
des Magnetkopfs zusammen mit der ersten magnetischen
Schicht unter Zwischenlage der Isolierschicht den Arbeits
spalt ausbildet, während sie auf der Rückseite mit der
ersten magnetischen Schicht in direkter Verbindung steht.
Weiterhin ist in der japanischen vorläufigen Pa
tentbeschreibung JP 57-58 216 A ein Verfahren beschrieben, bei
dem ein Dünnfilm-Magnetkopf dadurch hergestellt wird, daß
auf einer ebenen Fläche eines isolierenden Substrats ein
unterer Wicklungsabschnitt ausgebildet wird, auf
den eine dünne Harzschicht aufgebracht wird. Auf die
erste Harzschicht wird Permalloy aufgebracht, das eine
untere Kernhälfte bildet, auf der eine den Kopfspalt
bestimmende Isolierschicht ausgebildet wird. Dann wird
in einer auf die den Kopfspalt bestimmende Isolierschicht
aufgebrachten zweiten Harzschicht ein oberer Wicklungs
abschnitt ausgebildet. Schließlich wird auf der zweiten
Harzschicht eine obere Kernhälfte aufgebracht. Wegen
der geringen Dicke folgt die erste Harzschicht den Kon
turen des unteren Wicklungsabschnitts, so daß infolge
dessen die darüberliegende untere Kernhälfte der welligen
Kontur der ersten Harzschicht folgt. Da diese wellige
Form schlechte Betriebseigenschaften ergibt, ist dieses
Verfahren nicht zufrieden
stellend.
Nach einem anderen Verfahren wird in einer Nut in einem
Ferrit-Substrat durch Aufbringen von Kupfer oder Alumi
nium ein unterer Wicklungsabschnitt ausgebildet, auf
den danach geschmolzenes Glas typischerweise bei einer
Temperatur in dem Bereich zwischen 450° und 750°C auf
gebracht wird. Das Substrat wird dann poliert, um die
überschüssige Menge an geschmolzenem Glas abzutragen,
bis dieses eine gemeinsame ebene Fläche bildet. Auf dem
mit Glas gefüllten Bereich wird ein oberer Wicklungs
abschnitt ausgebildet, wonach aufeinanderfolgend auf
diesen eine den Kopfspalt bestimmende Schicht und eine
Ferrit-Kernschicht aufgebracht werden.
Mit diesem Verfahren wird zwar das Welligkeitsproblem
gelöst, jedoch neigt infolge der hohen Schmelztemperatur
des Füllglases der darunterliegende Leiter zur Oxidation.
Da der Leiter einen anderen Wärmeausdehnungskoeffizienten
als das Substrat hat, könnte die von dem geschmolzenem
Glas abgegebene Wärme zu einer schwerwiegenden Beschädi
gung der Kernstruktur führen. Ein weiterer Nachteil be
steht darin, daß wegen der Ausbildung des unteren Wick
lungsteils auf dem Boden einer Nut Schwierigkeiten hin
sichtlich des gleichförmigen Aufbringens einer Foto
lackschicht entstehen. Da die Fotomaske auf die Ober
fläche des Substrats aufgelegt werden muß, besteht die
Tendenz, daß das durch die Maske hindurchtretende Licht
nicht auf dem Boden der Nut gebündelt wird, so daß ein
unscharfes bzw. verschwommenes Bild entsteht. Hierdurch
entstehen Einschränkungen hinsichtlich der Anzahl her
stellbarer Windungen der Wicklung.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Dünn
film-Magnetkopf gemäß dem Oberbegriff des Patentan
spruchs 1 zu schaffen, der gute Betriebseigenschaften
und eine hohe Anzahl von Wicklungswindungen besitzt,
sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilm-Magnetkopfs
mit solchen Eigenschaften aufzuzeigen.
Diese Aufgabe wird mit den kennzeichnenden Merkmalen
des Patentanspruchs 1 bzw. mit den Maßnahmen des Patentan
spruchs 4 gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen angegeben.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungs
beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher
erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine Schnittansicht eines Ausführungsbeispiels
des Dünnfilm-Magnetkopfs,
Fig. 2 eine Ansicht eines Schnitts entlang von Linien
16-16 in Fig. 1, und
Fig. 3 eine perspektivische Ansicht einer Abwandlung
des Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 1.
Die Fig. 1 und 2 zeigen ein Ausführungsbeispiel
des Dünnfilm-Magnetkopfs.
Mit 51 ist ein nichtmagnetisches Substrat be
zeichnet, das aus einem abriebbeständigen Material wie
Keramikmaterial (Al2O3-TiN) oder Saphir (Al2O3) herge
stellt ist. In das Substrat 51 ist eine untere Wick
lungshälfte 52 eingebettet. Dies wird dadurch bewerkstel
ligt, daß Kupfer oder Molybdän in der Form paralleler
Streifen aufgebracht und über der ganzen Oberfläche
des Substrats das gleiche Material wie dasjenige des
Substrats 51 aufgesprüht wird, bis es eine Dicke er
reicht, die größer als die Dicke der aufgebrachten Wick
lungshälfte ist. Nach dem Aufbringen dieses Materials
wird die Oberfläche bis zum Fluchten mit der Wicklungs
hälfte poliert.
Der Magnetkopf erhält eine auf die untere Wicklungshälfte
52 aufgebrachte Isolierschicht 53, auf die eine metalli
sche ferromagnetische Schicht 54 als untere Kernhälfte
aufgebracht wird. Bei dem dargestellten Ausführungsbei
spiel ist eine Mehrfachkopfeinheit gezeigt. Daher wird
gemäß Fig. 2 auf einem einzigen Substrat gleichzeitig
eine Mehrzahl von unteren Kernhälften ausgebildet. Über
einer auf die untere Kernhälfte 54 aufgebrachten Isolier
schicht 55 wird eine obere Wicklungshälfte 56 ausgebildet. Die
obere Wicklungshälfte 56 wird mit einer Isolierschicht 57
abgeschlossen. Zwischen den einander entsprechenden
Streifen der unteren und der oberen Wicklungshälfte
werden (nicht gezeigte) Durchgangsöffnungen zum Vervoll
ständigen der Wicklung gebildet. Auf einem Bereich, der
den linken Randbereich der unteren Kernhälfte 54 und die
Isolierschicht 57 enthält, wird eine den Magnetspalt
bildende Schicht 58 aufgebracht. Auf der direkt oberhalb
der oberen Wicklungshälfte 56 gelegenen oberen Fläche der
den Magnetspalt bildenden Schicht 58 wird eine verhält
nismäßig dicke Schicht 59 aus isolierendem Material aus
gebildet. Der linke Randbereich der den Spalt bildenden
Schicht 58, die isolierende Schicht 59 und der freilie
gende Bereich der unteren Kernhälfte 54 werden mit einer
oberen Kernhälfte 60 abgedeckt, die aus dem gleichen
Material wie die untere Kernhälfte 54 besteht. Geeignete
Materialien für die Kernhälften bzw. Kernteile 54 und 60
sind Sendust oder Permalloy. Da die metallischen ferro
magnetischen Materialien eine höhere Permeabilität als
die nichtmetallischen ferromagnetischen Materialien
haben, ergibt die Verwendung solcher metallischer Kernma
terialien einen Dünnfilm-Magnetkopf hoher Leistungsfähig
keit. Die verhältnismäßig dicke isolierende Schicht 59
dient dazu,
den Ab
stand zwischen denjenigen Bereichen zu vergrößern,
zwischen die die Wicklungshälfte eingelegt ist, um die
Magnetflußstreuung
zwischen der oberen und der unteren Kernhälfte zu vermindern.
Eine Abwandlungsform des Ausführungsbeispiels gemäß den Fig.
1 und 2 ist in Fig. 3 gezeigt. Bei dieser Abwandlungs
form hat ein nichtmagnetisches Substrat 61 langgestreckte
Nuten 62, in denen jeweils untere Wicklungshälften 63
derart eingelegt sind, daß die einzelnen Streifen einer
jeweiligen Wicklungshälfte parallel über den einander
gegenüberliegenden Rändern der Nut 62 liegen. Auf das
Substrat 61 und die Leiter der Wicklungshälften 63 wird
eine isolierende Schicht 64 aufgebracht, die es zuläßt,
an den isolierten Nuten 62 ein leitendes ferromagneti
sches Material zum Bilden von unteren Kernhälften 65
aufzubringen, auf denen eine isolierende Schicht 66
gebildet wird, über der obere Wicklungshälften 67 ausge
bildet werden können. Danach werden zur Fertigstellung
einer Mehrfachkopfeinheit Herstellungsschritte ausge
führt, die den vorstehend beschriebenen Schritten gleich
artig sind.