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Diese
Erfindung betrifft im allgemeinen Leiterplatten und Herstellungsverfahren
und insbesondere Leiterplatten, die so ausgeführt sind, daß sie Signale
mit sehr hohen Datenübertragungsraten übertragen.
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Wie
im Fachgebiet bekannt ist, werden Leiterplatten verwendet, um Daten
zwischen elektrischen Bauteilen zu koppeln, die auf einer Oberfläche einer
derartigen Leiterplatte montiert sind. Diese Daten werden durch
Signalleiter gekoppelt, die auf verschiedenen Ebenen in der Leiterplatte
angeordnet sind. Die Leiterplatte überträgt ebenfalls Bezugspotentiale,
wie beispielsweise Erdungs- und Bauteilversorgungsspannungen. Um
eine Trennung zwischen Signalleitern in den verschiedenen Ebenen
zu bewirken, werden leitende Ebenen des Bezugspotentials zwischen
den Ebenen der Signalleiter durchsetzt.
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Wie
es ebenfalls im Fachgebiet bekannt ist, um die Bauteile zu verbinden,
werden leitende Kontaktlöcher
bereitgestellt, die von der Oberfläche der Leiterplatte zu deren
Innenbereich für
eine Verbindung mit den Signalleitern verlaufen. Diese Kontaktlöcher bilden
das, was manchmal als „Signal-Launch" bezeichnet wird.
Außerdem
ist es in vielen Fällen
erforderlich, die Bauteile auf einer Leiterplatte mit Bauteilen
auf einer anderen Leiterplatte elektrisch zu verbinden. Das erfolgt
typischerweise mit einer elektrischen Verbinderanordnung. Die Verbinderanordnung
weist zwei Teile auf, wobei jedes Teil auf einer entsprechenden
der Leiterplatten montiert ist. Wenn es gewünscht wird, eine Leiterplatte mit
der anderen zu verbinden, werden daher die Verbinderteile ineinander
gesteckt.
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Außerdem,
wie es im Fachgebiet bekannt ist, werden die Datenübertragungsraten
der Signale, die sich durch die Leiterplatten ausbreiten, ständig größer. Während derartige
Datenübertragungsraten
größer werden,
ist es erforderlich, den Wirkungsgrad der elektrischen Kopplung
der Daten zu verbessern, die durch eine der Leiterplatten zur anderen
Leiterplatte passieren. Genauer gesagt, der Signalleiter, die Bezugspotentialebene
oder -schicht und Abschnitte des Dielektrikums der Leiterplatte
dazwischen bilden eine Übertragungsleitung
mit einer vorgegebenen Impedanz, typischerweise 50 Ohm. Die Wirkung
des Kontaktloches bringt eine Impedanzfehlanpassung an die Impedanz
der Übertragungsleitung.
Ein Verfahren, das angewandt wird, um diese Impedanzfehlanpassung
auszugleichen, ist die Bereitstellung von Kompensationselementen
im Verbinder. Für
Kontaktlöcher
mit einer Impedanz von unterhalb der Impedanz der Signalleiterbahnen
in den Leiterplatten sind bestimmte Verbinder konstruiert, die eine
höhere
Impedanz aufweisen, so daß im
Durchschnitt die Impedanz die gleiche ist wie die Verbindung, während sie sich
in der Leiterplatte befindet. Signalreflexionen, die die Leistung
einer Verbindung begrenzen können,
hängen
jedoch von Veränderungen
bei der Impedanz ab.
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Die
Japanische Patentanmeldung Nummer 05-127650 (Veröffentlichungs-Nr. 06-338687)
spricht das Problem der Impedanzfehlanpassung an, indem der Abstand
zwischen der Erdungsleiterwand und einem leitenden Durchgangsloch
gesteuert wird. Die Erdungsleiterwand liegt innerhalb der Leiterplattenkonstruktion
und ist im allgemeinen nahe der Eintritts- und Austrittswände des
Durchgangsloches kegelförmig.
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Das
WO8505529 offenbart eine mehrschichtige Leiterplattenkonstruktion,
die die Zuverlässigkeit von
metallisierten Bohrungen erhöhen
soll. Die Leiterplatte weist Durchgangslöcher auf, die gebohrt sind,
so daß die äußeren Schichten
einen größeren Durchmesser
als die Zwischenschichten aufweisen, bevor sie metallisiert werden.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die
Leiterplatte der vorliegenden Erfindung wird im vorliegenden Patentanspruch
1 definiert.
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Bei
einer derartigen Anordnung wird die Impedanzanpassung intern an
die Leiterplatte bewirkt, wodurch eine Verbindung einer derartigen
Leiterplatte mit einer anderen Leiterplatte mit verringerten Reflexionen
ermöglicht
wird, die durch die Impedanzfehlanpassung durch den Verbinder-Launch
hervorgerufen werden. Wir haben erkannt, daß eine Anpassung der mittleren
Impedanz einer Verbindung an die Impedanz der Leiterplatte die Leistung
einer Verbindung begrenzen kann, insbesondere bei Signalen von hoher
Frequenz. Wir haben die Vorteile von Kontaktlöchern mit einer Impedanz erkannt,
die der Impedanz der Leiterplatte mehr gleicht.
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In Übereinstimmung
mit einer weiteren Ausführung
der Erfindung weist das leitende Kontaktloch einen breiteren Bereich
in einem Oberflächenbereich des
Dielektrikums auf als in einem Innenbereich des Dielektrikums. Eine
Bezugspotentialschicht ist im Innenbereich des Dielektrikums angeordnet.
Ein Signalleiter ist im Dielektrikum parallel zur Bezugspotentialschicht
angeordnet, um eine Übertragungsleitung mit
einer vorgegebenen Impedanz bereitzustellen. Der Signalleiter ist
mit dem leitenden Kontaktloch verbunden. Das leitende Kontaktloch
ist so konfiguriert, daß es
der Übertragungsleitung
eine Impedanz verleiht, die im wesentlichen auf die Impedanz der Übertragungsleitung
abgestimmt ist. Genauer gesagt, der breitere Oberflächenabschnitt
des hohlen leitenden Kontaktloches wird ausgewählt, um einen Klemmenstift
des Verbinders aufzunehmen, während der
schmalere Innenbereich des leitenden Kontaktloches für eine Impedanzanpassung
ausgewählt
wird.
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In Übereinstimmung
mit einer weiteren Ausführung
der Erfindung weist eine Vielzahl der Schichten Ränder auf,
die in verschiedenen Abständen
vom leitenden Kontaktloch enden.
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In Übereinstimmung
mit einer weiteren Ausführung
der Erfindung wird eine Leiterplattenanordnung bereitgestellt, die
ein Paar Leiterplatten aufweist. Eine jede der Leiterplatten weist
ein leitendes Kontaktloch auf, das von einer Oberfläche eines
Dielektrikums in einen Innenbereich des Dielektrikums verläuft. Eine
jede der Leiterplatten weist eine Bezugspotentialschicht und einen
Signalleiter auf, der im Dielektrikum davon parallel zu deren Bezugspotentialschicht
angeordnet ist, um eine Übertragungsleitung
mit einer vorgegebenen Impedanz bereitzustellen. Der Signalleiter
einer jeden der Leiterplatten ist mit deren leitendem Kontaktloch
verbunden. Das leitende Kontaktloch in einer jeden der Leiterplatten ist
so konfiguriert, daß eine
Impedanz an deren Übertragungsleitung
bereitgestellt wird, die im wesentlichen auf die Impedanz von deren Übertragungsleitung
abgestimmt ist. Ein erster elektrischer Verbinder, der einen Signalkontakt
aufweist, der mit dem leitenden Loch der einen der Leiterplatten
verbunden ist, und ein zweiter elektrischer Verbinder, der einen Signalkontakt
aufweist, der mit dem leitenden Kontaktloch der anderen der Leiterplatten
verbunden ist, werden bereitgestellt. Der erste Signalkontakt des ersten
elektrischen Leiters ist für
eine elektrische Verbindung mit dem zweiten Kontakt des zweiten
elektrischen Verbinders angepaßt.
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In Übereinstimmung
mit einer weiteren Ausführung
der Erfindung wird ein Paar Leiterplatten mittels eines elektrischen
Leiters elektrisch miteinander verbunden. Eine jede der Leiterplatten
weist ein leitendes Kontaktloch auf, das von einer Oberfläche eines
Dielektrikums in einen Innenbereich des Dielektrikums verläuft. Eine
Bezugspotentialschicht ist im Innenbereich des Dielektrikums parallel
zur Oberfläche angeordnet.
Ein Signalleiter ist im Dielektrikum parallel zur Bezugspotentialschicht
angeordnet, um eine Übertragungsleitung
mit einer vorgegebenen Impedanz bereitzustellen. Das leitende Kontaktloch
ist so konfiguriert, daß an
der Übertragungsleitung
eine Impedanz bereitgestellt wird, die im wesentlichen auf die Impedanz
der Übertragungsleitung
abgestimmt ist. Die Impedanz von einer der Leiterplatten durch den
elektrischen Verbinder zur anderen der Leiterplatten ist im wesentlichen
konstant.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
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Diese
und weitere charakteristische Merkmale der Erfindung ebenso wie
die Erfindung selbst werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung leicht
ersichtlich werden, wenn sie zusammen mit den folgenden Zeichnungen
gesehen wird, die zeigen:
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1 eine auseinandergezogene
Schnittskizze einer Leiterplattenanordnung entsprechend der Erfindung;
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2 eine Schnittskizze einer
Leiterplattenanordnung aus 1 entsprechend
der Erfindung im zusammengebauten Zustand;
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3 eine vergrößerte Darstellung
eines Abschnittes der Anordnung aus 2,
wobei ein derartiger Abschnitt in einem Kreis 3-3 in 2 eingeschlossen ist;
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4 eine vergrößerte Darstellung
eines weiteren Abschnittes der Anordnung aus 2, wobei ein derartiger Abschnitt in
einem Kreis 4-4 in 2 eingeschlossen
ist; und
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5 eine grafische Darstellung,
die dem Verständnis
für ein
Verfahren des Konstruierens einer Leiterplatte entsprechend der
Erfindung dient.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGEN
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Mit
Bezugnahme auf 1 und 2 wird eine Leiterplattenanordnung 10 gezeigt.
Die Anordnung umfaßt
eine Paar Leiterplatten 12, 14 mit mehreren Ebenen,
wobei eine typischerweise eine Trägerplattenleiterplatte 12 und
die andere eine Tochterleiterplatte 14 ist. Eine jede der
Leiterplatten 12, 14 umfaßt ein Dielektrikum 16,
das im Innenbereich 17 davon eine Vielzahl von elektrischen
Leitern 18 aufweist, die in verschiedenen Ebenen der Leiterplatte
angeordnet sind, wobei ein Beispiel von derartigen Ebenen der Signalleiter 18 im
Detail in 3 und 4 gezeigt wird. Zwischen
den Ebenen der elektrischen Leiter 18 sind Bezugspotentialschichten
oder Schichten 20 aus elektrisch leitendem Material angeordnet.
Diese Bezugspotentialschichten 20 werden benutzt, um Erdungspotential-
oder Bezugsspannungen den elektrischen Bauteilen zu liefern, die
nicht gezeigt werden, die auf der Oberfläche der Leiterplatte 12, 14 montiert sind.
Leitende Kontaktlöcher 22,
von denen ein Beispiel gezeigt wird, gelangen von der Oberfläche 24 des
Dielektrikums 16 in den Innenbereich 17 des Dielektrikums 16.
Der elektrische Leiter 18 ist mit dem leitenden Kontaktloch 22 verbunden,
wie gezeigt wird.
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Wie
es vorangehend bemerkt wird, ist eine Vielzahl von Bezugspotentialschichten 20 im
Dielektrikum 16 zwischen und parallel zu den Bezugspotentialschichten 20 angeordnet.
Diese Bezugspotentialschichten 20 bewirken ebenfalls eine
elektrische Abschirmung zwischen dem Signalleiter 18, angeordnet zwischen
einem Paar Bezugspotentialschichten 20. Es wird bemerkt,
daß eine
Bezugspotentialschicht 20, der darunterliegende Signalleiter 18 und
der Abschnitt des Dielektrikums 16 dazwischen eine Mikrostreifenübertragungsleitung 25 mit
einer vorgegebenen Impedanz liefern, wie beispielsweise 50 Ohm.
Es wird ebenfalls bemerkt, daß der
Signalleiter 18 mit dem leitenden Kontaktloch 22 verbunden
ist. Hierbei ist das leitende Kontaktloch 22 so konfiguriert,
daß an der
Mikrostreifenübertragungsleitung 25 eine
Anschlußimpedanz
bereitgestellt wird, die im wesentlichen auf die Impedanz der Mikrostreifenübertragungsleitung 25 abgestimmt
ist. Genauer gesagt, die Form des leitenden Kontaktloches 22 und
die Trennung zwischen dem leitenden Kontaktloch 22 und den
Rändern 28 der
Bezugspotentialschichten 20 werden ausgewählt, um
die Mikrostreifenübertragungsleitung 25,
die durch eine derartige leitende Schicht 20, den Leiter 18 und
den Abschnitt des Dielektrikums 16 dazwischen gebildet
wird, in einer abgestimmten Last anzuschließen, d. h., in einer Anschlußimpedanz,
die auf die Impedanz einer derartigen Mikrostreifenübertragungsleitung 25 abgestimmt ist,
wodurch der Wirkungsgrad der Übertragung
von Daten über
den Signalleiter 18 zum leitenden Kontaktloch 22 maximiert
wird.
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BEISPIEL
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Eine
Versuchsleiterplatte wurde bei Anwendung der Konfiguration aus 4 konstruiert. Die Leiterplatte
zeigte eine Dicke von 0,564 cm (0,222 in.). Der breitere Abschnitt 29 des
Kontaktloches 22 zeigte einen Durchmesser von 0,66 mm (0,026
in.) mit einem Innendurchmesser nach Aufbringung einer leitenden
Schicht auf die Oberflächen
des Loches von 0,559 mm (0,022 in.). Das Loch wurde bis Zu einer
Tiefe von 0,635 mm (0,025 in.) gebildet. Der schmalere Abschnitt 31 des
Kontaktloches 22 zeigte einen Durchmesser von 0,356 mm
(0,014 in.). Der Abstand S1 und S2 wurden mit 0,33 cm und bzw. 0,546
mm (0,13 und bzw. 0,0215 in.) eingestellt. Die Impedanz des Kontaktloches
wurde für
Signale mit einer Anstiegszeit von 100 psec gemessen. Die Impedanz
wurde mit 45,3 Ohm gemessen, was innerhalb von 10% des Zielwertes
von 50 Ohm lag. Als Vergleich wurde ein separates Kontaktloch auf
der Leiterplatte mit einem konstanten Durchmesser hergestellt, wobei
der Setback zur Erdungsebene gleichmäßig mit 0,33 cm (0,13 in.)
ist. Dieses Kontaktloch zeigte eine gemessene Impedanz von 35 Ohm.
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Die
Anordnung 10 (1 und 2) umfaßt eine elektrische Verbinderanordnung 30 mit
einem Paar elektrischer Verbinder 32, 34. Der
elektrische Verbinder 32 weist eine Vielzahl von Signalkontakten 36 auf,
die mit den leitenden Kontaktlöchern 22 der
einen der Leiterplatte verbunden sind, hierbei der Trägerplattenleiterplatte 12.
Ein elektrischer Verbinder 34 weist Signalkontakte 38 auf,
die mit dem leitenden Kontaktloch 22 der anderen der Leiterplatten
verbunden sind, hierbei der Tochterleiterplatte 14. Die
Signalkontakte 36 des elektrischen Leiters 32 sind
für eine
elektrische Verbindung mit den Kontakten 38 des elektrischen
Verbinders 34 in einer konventionellen Weise angepaßt, wie
gezeigt wird, um die Leiterplatten 12, 14 elektrisch
zu verbinden.
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Genauer
gesagt und mit detaillierterer Bezugnahme auf 3 und 4 betreffs
der Leiterplatten 12 und bzw. 14 und unter Betrachtung
eines Beispiels der leitenden Kontaktlöcher 22 in jeder von derartigen
Leiterplatten 12 und bzw. 14 gelangt ein derartiges
leitendes Kontaktloch 22 von der Oberfläche 24 des Dielektrikums 16 in
einen Innenbereich 17 des Dielektrikums 16. Das
leitende Kontaktloch 22 ist hohl, wobei es einen oberen
Oberflächenabschnitt 29 aufweist,
der breiter ist als der untere Innenabschnitt 31. Der obere
Abschnitt 29 weist eine Breite auf, die so ausgewählt wurde,
daß ein
Klemmenstift 40 des Verbinders 32 aufgenommen
wird. Zwei Arten von derartigen Klemmenstiften 40 werden
hier gezeigt. Der Klemmenstift 40 für das Kontaktloch 22 in
der Trägerplattenleiterplatte 12 (3) ist ein elastischer Klemmenstift
mit einem darin ausgebildeten hohlen Bereich 41, um zu
ermöglichen,
daß sich
ein derartiger Klemmenstift 40 etwas zusammendrückt, während er
in den breiteren Oberflächenabschnitt 29 des Kontaktloches 22 gedrückt wird.
Der Klemmenstift 40 für
das Kontaktloch 22 in der Tochterleiterplatte 14 (4) ist ein Stift 40,
der in den breiteren Oberflächenabschnitt 29 des
Kontaktloches 22 eingesetzt wird, und danach wird der breitere
Oberflächenabschnitt 29 des
Kontaktloches 22 mit Lötmittel 43 gefüllt. Die Verbindung
zwischen dem Signalleiter 18 und dem Klemmenstift 40 des
Verbinders 32, 34 wird als Signal-Launch bezeichnet.
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Wie
es vorangehend bemerkt wird, ist eine Vielzahl von Bezugspotentialschichten 20 im
Innenbereich 17 des Dielektrikums 16 parallel
zur Oberfläche 24 angeordnet.
Die Schichten 20 weisen Ränder 48 auf, die benachbart
zum leitenden Kontaktloch 22 enden. Der Abstand S1 zwischen den Rändern 48 und den Seiten
des leitenden Kontaktloches 22 wird typischerweise vom
Hersteller der Leiterplatte so ausgewählt, daß er ein bestimmter Mindestabstand ist,
um einen Grad an Toleranz zu liefern, der einen unbeabsichtigten
Kurzschluß zwischen
dem leitenden Kontaktloch 22 und der Bezugspotentialschicht 20 verhindern
wird. Daher wird typischerweise der gleiche Mindestabstand S1 längs
der gesamten inneren Tiefe 17 des Dielektrikums 16 angewandt.
Beispielsweise beträgt
der Abstand S1 hierbei 0,33 mm (0,013 in.).
Hierbei wird der Abstand S2 zwischen den Rändern 48 der
Bezugspotentialschichten 30 und den Seiten des leitenden
Kontaktloches 22 ausgewählt,
wie es vorangehend bemerkt wird, um die Mikrostreifenübertragungsleitung 25,
die durch eine derartige leitende Schicht 20, den Leiter 18 und
den Abschnitt des Dielektrikums 16 dazwischen gebildet wird,
in einer abgestimmten Last anzuschließen, d. h., in einer Anschlußimpedanz,
die auf die Impedanz einer derartigen Mikrostreifenübertragungsleitung 25 abgestimmt
ist, wodurch der Wirkungsgrad der Übertragung von Daten über den
Signalleiter 18 zum leitenden Kontaktloch 22 maximiert
wird. Genauer gesagt, wird bemerkt, daß die Vielzahl der Bezugspotentialschichten 20 Ränder 48 aufweist,
die mit unterschiedlichen vorgegebenen Abständen S1,
S2 vom leitenden Kontaktloch 22 enden.
Genauer gesagt werden die Ränder 48 der
Bezugspotentialschichten 20 benachbart dem unteren Innenbereich 31 des
Dielektrikums 16 vom leitenden Kontaktloch 22 über einen
Abstand S2 getrennt, der größer ist
als der minimale Zwischenabstand S1 der
Bezugspotentialschichten 20, die dem breiteren Oberflächenabschnitt 29 des
leitenden Kontaktloches 22 benachbart sind. Der Abstand
S2 wird ausgewählt, um die Kapazität zwischen
den Rändern 48 der
Bezugspotentialschichten 20 und dem leitenden Kontaktloch 22 zu
reduzieren. S2 kann jedoch nicht willkürlich groß gestaltet
werden, wegen des Verlustes an Abschirmung zwischen einem Paar Signalleitern 18,
die auf beiden Seiten einer derartigen Bezugspotentialschicht 20 angeordnet
sind.
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Es
wird ebenfalls bemerkt, daß die
Kontaktlöcher 22 in
sowohl der Trägerplattenleiterplatte 12 als
auch der Tochterleiterplatte 14 so ausgewählt werden,
daß die
Mikrostreifenübertragungsleitungen 25 in
jeder von derartigen Leiterplatten 12, 14 in einer Impedanz
angeschlossen werden, die auf derartige Mikrostreifenübertragungsleitungen 25 abgestimmt ist.
Bei einer elektrischen Verbinderanordnung, die als eine Übertragungsleitung
mit einer Impedanz konstruiert ist, die auf die Impedanz der Mikrostreifenübertragungsleitungen 25 in
jeder der Leiterplatten 12, 14 abgestimmt ist, übertragen
sich daher Daten über
die Signalleiter 18 zwischen den Leiterplatten 12, 14 durch
die Verbinderanordnung 30 mit einem maximalen Wirkungsgrad,
wenn der Verbinder mit einer Impedanz konstruiert ist, die eng auf
die Impedanz der Signalleiterbahnen in den Leiterplatten abgestimmt
ist. Daher ist die Impedanz von einer der Leiterplatten durch den
elektrischen Verbinder zu der anderen der Leiterplatten im wesentlichen
konstant.
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Daher
wird der breitere Oberflächenabschnitt 29 des
hohlen leitenden Kontaktloches so ausgewählt, daß der Klemmenstift 40 aufgenommen wird,
während
der schmalere Innenabschnitt 31 des leitenden Kontaktloches
für einen
Impedanzanpassungsanschluß der
Mikrostreifenübertragungsleitung 25 ausgewählt wird.
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Ein
Verfahren für
das Konfigurieren der leitenden Kontaktlöcher 22 umfaßt das Ermitteln
einer Impedanz der Übertragungsleitungen 25 in
den Leiterplatten 12, 14, beispielsweise mit einem
konventionellen Time-Domain-Reflektometer. Wie es vorangehend bemerkt
wird, weist die Übertragungsleitung 25 einen
Signalleiter 18 auf, der von der Bezugspotentialschicht 20 durch
einen Abschnitt eines Dielektrikums 16 getrennt ist. Danach
wird die Konfiguration des leitenden Kontaktloches 22 (d.
h., die Breite des breiteren Oberflächenabschnittes 29,
die Tiefe des breiteren Oberflächenabschnittes 29 und
die Breite des schmaleren Innenabschnittes 31) zusammen
mit dem Abstand S2 zwischen den Rändern 48 der
Bezugspotentialschicht 20 und dem leitenden Kontaktloch
ausgewählt,
um die Übertragungsleitung
mit einer Anschlußimpedanz
zu versehen, die im wesentlichen auf die Impedanz der Übertragungsleitung 25 abgestimmt
ist, wobei jeglicher Verlust an Abschirmung bei einem derartigen
Abstand S2 in Betracht gezogen wird. Eine
gleiche Verfahrensweise wird für die
anderen Leiterplatten durchgeführt.
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Hierbei
liegt beispielsweise die von den Kontaktlöchern gelieferte Impedanz innerhalb
von 10% der Impedanz der Leiterplatte, die ein derartiges Kontaktloch
aufweist. Die Impedanz durch den Verbinder liegt innerhalb 10% der
Impedanz des Kontaktloches, mit dem ein derartiger Verbinder verbunden
ist.
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Es
wird erkannt werden, daß die
hierin angegebenen Zahlen nur der Veranschaulichung dienen. Die
genauen Abmessungen, die für
die Setbacks zwischen den Erdungsebenen und den Kontaktlöchern zur
Anwendung gebracht werden, werden von mehreren Faktoren abhängig sein.
Die Dicke der Leiterplatte wird die Abmessungen für S1 und
S2 beeinflussen. Für
dickere Leiterplatten werden größere Setbacks
erforderlich sein.
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Die
Erfindung wird besonders für
dicke Leiterplatten nützlich
sein. Leiterplatten mit einer Dicke von weniger als 0,318 cm (0,125
in.) könnten
Impedanzen innerhalb 10% der gewünschten
liefern, ohne daß sie
einen Abschnitt mit verringerter Dicke aufweisen, und ohne daß sie vom
Standard-Setback von den Erdungsebenen abweichen. Für Leiterplatten
mit einer Dicke von mehr als 0,508 cm (0,200 in.) wird die Erfindung
besonders vorteilhaft sein.
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Die
Abmessungen für
S1 und S2 werden ebenfalls von der Häufigkeit abhängig sein,
mit der die Leiterplatte betrieben wird. Die Häufigkeit wird oftmals als die
Anstiegszeit der schnellsten Signale ausgedrückt, die von der Leiterplatte übertragen
werden. Leiterplatten, die mit Anstiegszeiten betrieben werden,
die langsamer sind als 300 psec, könnten nicht unterschiedliche
Setbacks erfordern, um Kontaktlochimpedanzen innerhalb von 10% zu
erreichen. Die Erfindung wird jedoch besonders für Leiterplatten nützlich sein,
die mit Anstiegszeiten von unterhalb 300 psec betrieben werden,
und insbesondere nützlich,
wenn die Anstiegszeiten unter 200 psec absinken.
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Aus
dem Vorangegangenen sollte erkannt werden, daß die Abmessungen S1 und S2
auf der Basis der Dicke der Leiterplatte und der Betriebsgeschwindigkeit
variieren werden. Es wird erwartet, daß eine Person, die eine Leiterplatte
konstruiert, die Abmessungen für
S1 und S2 auf der Basis von mehreren Faktoren entsprechend der folgenden
Methode auswählen
wird: Der Durchmesser D2 wird typischerweise durch das kleinste
Loch bestimmt, das der Hersteller der Leiterplatte in einer Leiterplatte
zuverlässig fertigen
kann. Die Abmessung S1 wird ebenfalls typischerweise ein Standardparameter
im Herstellungsprozeß der
Leiterplatte sein.
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Der
Durchmesser D1 und die Höhe
H werden vom Konstrukteur der Leiterplatte basierend auf dem Typ
des Verbinders ausgewählt,
der in das Loch eingesetzt werden soll.
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Mit
diesen festgelegten Parametern kann eine Impedanzberechnung mit
verschiedenen Werten von S2 durchgeführt werden, um die Impedanz des
gesamten Signal-Launch zu ermitteln. Impedanzberechnungen dieser
Art werden typischerweise bei Verwendung eines kommerziellen Softwarepaketes
durchgeführt,
das für
Impedanzberechnungen entwickelt wurde. Der Wert von S2, der die
gewünschte
Impedanz liefert, wird dann für
die Herstellung der Leiterplatte ausgewählt.
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5 veranschaulicht eine Möglichkeit,
die das Verfahren zur Herstellung der Leiterplatte vereinfachen
könnte. 5 zeigt eine grafische Darstellung,
die ein Hersteller von Leiterplatten für ein Oberflächenloch
anfertigen könnte,
das eine spezifische Tiefe und Durchmesser aufweist. Jeder Wert
von S2 wird einen Signal-Launch mit der gewünschten Impedanz für bestimmte
Kombinationen von Leiterplattendicke und Betriebshäufigkeit
liefern. 5 veranschaulicht,
daß diese
Werte für
verschiedene Werte von S2 grafisch dargestellt werden können, was
als Sa, Sb, Sc und Sd veranschaulicht wird.
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Um
diese grafische Darstellung zu benutzen, würde eine Person, die eine Leiterplatte
konstruiert, die Leiterplattendicke und die Betriebshäufigkeit identifizieren.
Aus dieser Information würde
die Person dann den genauesten Wert von S2 ermitteln. 5 veranschaulicht einen
Punkt, der eine Leiterplattendicke von B1 und eine Häufigkeit
von F1 verkörpert.
Dieser Punkt ist der Kurve mit einem Wert von Sc am nächsten.
Daher würde
Sc als die Abmessung für
S2 ausgewählt.
Es sollte erkannt werden, daß Sc
einen tatsächlichen
Zahlenwert in Verbindung damit aufweisen würde, der aus einer Impedanzberechnung
abgeleitet wird.
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Der
Vorgang des Auswählens
von S2 würde für jede Lochgröße auf jeder
Leiterplatte wiederholt. Um die grafische Methode des Auswählens der
Werte von S2 anzuwenden, wäre
eine unterschiedliche grafische Darstellung für jede Lochgröße erforderlich.
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Beispielsweise
wird beschrieben, daß die Impedanzkontrolle
nur durch Verändern
der Abmessung S2 erreicht wird. Die Impedanzkontrolle könnte ebenfalls
durch Verändern
der Abmessung S1 erreicht werden. Ein Vergrößern von S1 wäre jedoch weniger
wünschenswert,
weil die Größe der Fläche auf
der Leiterplatte, die für
das Führen
von Signalleiterbahnen nützlich
ist, verringert wird. Als Faustregel, die Signalleiterbahnen sollten
nicht näher
am Rand einer benachbarten Erdungsebene geführt werden als das Doppelte
des vertikalen Abstandes zwischen der Signalleiterbahn und der Erdungsebene.
Wo es jedoch, um einen Signal-Launch mit der gewünschten Impedanz zu erhalten,
erforderlich wäre,
S2 so groß auszuführen, daß die Erdungsebenen
benachbart dem Kontaktloch 22 weiter von der Mitte des Kontaktloches 22 als
die Erdungsebenen entfernt wären,
die dem Oberflächenloch 29 benachbart
sind, könnte
bevorzugt werden, die Abmessung S1 zu vergrößern. Unter diesem Umstand
könnte
bevorzugt werden, S1 und S2 auf ein Niveau einzustellen, das die
Erdungsebenen benachbart dem Kontaktloch 22 und dem Loch 29 mit
dem gleichen Abstand von der Mitte des Kontaktloches 22 anordnet.
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Ebenfalls
wird eine grafische Verfahrensweise beschrieben, mittels der ein
Hersteller von Leiterplatten einem Konstrukteur die Information
zur Verfügung
stellen könnte,
die zur Konstruktion einer Leiterplatte benötigt wird. Es wird erkannt
werden, daß die gleiche
Information und Unterstützung
als ein Computerprogramm bereitgestellt werden könnte. Das Computerprogramm
würde die
Leiterplattendicke und die Betriebshäufigkeit als Eingabe akzeptieren. Die
Leiterplattendicke könnte
in Inches, Millimetern, der Anzahl von Schichten in der Leiterplatte
oder in irgendwelchen anderen zweckmäßigen Einheiten angegeben werden.
Das Computerprogramm würde ebenfalls
als eine Eingabe eine Angabe der Abmessungen des oberen Oberflächenloches
erfordern. Diese Daten könnten
in Längeneinheiten
angegeben werden, oder sie könnten
in Form der Art des Bauelementes angegeben werden, das am Loch angebracht
werden soll.
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Ein
derartiges Computerprogramm könnte dann
die erforderliche Abmessung für
S2 berechnen und, wenn es gewünscht
wird, für
S1. Das Computerprogramm könnte
laufen, indem im wesentlichen die Operationen durchgeführt werden,
die in Verbindung mit 5 veranschaulicht
werden. Alternativ könnte das
Computerprogramm programmiert werden, um die erforderlichen Abmessungen
bei Anwendung mathematischer Verfahren zu lösen.