DE69833415T2 - Platz optimierende Anordnung eines Hauptdatenleitungsschalters - Google Patents

Platz optimierende Anordnung eines Hauptdatenleitungsschalters Download PDF

Info

Publication number
DE69833415T2
DE69833415T2 DE69833415T DE69833415T DE69833415T2 DE 69833415 T2 DE69833415 T2 DE 69833415T2 DE 69833415 T DE69833415 T DE 69833415T DE 69833415 T DE69833415 T DE 69833415T DE 69833415 T2 DE69833415 T2 DE 69833415T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
driver
region
amplifier
pset
nset
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69833415T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69833415D1 (de
Inventor
Gerhard Mueller
Toshiaki Poughkeepsie Kirihata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qimonda AG
International Business Machines Corp
Original Assignee
Infineon Technologies AG
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG, International Business Machines Corp filed Critical Infineon Technologies AG
Application granted granted Critical
Publication of DE69833415D1 publication Critical patent/DE69833415D1/de
Publication of DE69833415T2 publication Critical patent/DE69833415T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4091Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
    • G11C7/065Differential amplifiers of latching type

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Halbleiterspeicher wie dynamische Zufallszugangsspeicher bzw. dynamic random access memories (DRAMSs) mit großer Kapazität. Im genaueren bezieht sich die Erfindung auf Halbleiterspeicher, die eine räumlich effiziente Auslegung durch Positionieren (Hauptdatenleitung bzw. master data line) von MDQ-Schalter in Leseverstärkerregionen aufweisen.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Speicher mit großer Kapazität enthalten typischerweise Leseverstärkerbänke zwischen Speicherzellenarrays. Die Lesespeicherbänke besetzen Raum auf der Oberfläche der Chips. Mit dem Bedarf an Speicherchips mit höherer Kapazität wurde es zunehmend wichtiger, verfügbare Oberfläche zu erhalten und so effizient wie möglich zu nutzen. Speicherchips sind in einer Vielzahl von Reihen und Spalten angeordnet. Eine Reduktion der Größe zum Beispiel einer Spalte könnte einen großen Einfluss auf die Größe des Chips haben.
  • 1 stellt ein typisches Speicherarray 10 dar. Eine Leseverstärkerbank 12 enthält eine Vielzahl von Leserverstärkern 14 für eine Spalte 16 von Speicherzellen 18. Jede Spalte 16 von Speicherzellen 18 beinhaltet ein Paar von komplementäreren Bit-Leitungen 20. Im Betrieb "liest" ein Leseverstärker 14 eine differenzielle Spannung zwischen Paaren von komplementäreren Bit-Leitungen 20. Während des Lesens der differenziellen Spannung verstärkt der Leseverstärker 14 die differenzielle Spannung an einer Bit-Leitung zu einer Hochspannung an einer Bit-Leitung des Paares und die andere Bit-Leitung ist geerdet. Jede Leitung kann hoch (Bit-Leitung hoch) oder (niedrig) bei Bedarf betrieben werden. Dies erlaubt den Speicherzellen in dieser Spalte entweder ein Hoch- oder Niedrigbit je nach Gebrauch zu speichern. Eine Region 22 ist dargestellt, die drei Leseverstärker 14 und einen Teil einer Maschenregion 23 beinhaltet, in der keine Speicherzellen positioniert sind. In einer segmentierten Wortleitungsarchitektur kann ferner ein lokaler Wortleitungstreiber in einer entsprechenden freien Region positioniert sein.
  • Bezugnehmend auf 2 beinhaltet ein Leseverstärker 14 üblicherweise große Transistoren, die die zwei geteilten Hälften des Leseverstärkers 14 treiben. Die zwei Hälften des Leseverstärkers 14 beinhalten einen P-Verstärker 24 und einen N-Verstärker 26. Die Maschenregion 23 läuft generell anliegend zu den Spalten 16 und die Maschenregion 23 hat dieselbe Basisorientierung wie die Spalten 16. Die Maschenregion 23 ist ein intermittierender Raum, frei von Bit-Leitungen 20, und erzeugt folglich Raum der geeignet ist, um notwendige Komponenten dort zu positionieren. Regionen für eine Isolationstransistoren beinhaltende Multiplexing-Schaltung sind in MUX-Regionen 28 und 30 positioniert. Eine Angleichungstransistoren beinhaltende Bit-Leitungsangleichungsschaltung ist in EQ-Regionen 32 und 34 positioniert. EQ-Regionen 32 und 34 können geteilt werden, wenn eine EQ zwischen MUX-Regionen 28 und 30 positioniert ist. Die MUX- und die EQ-Regionen sind in Richtung der Enden der Leseverstärkerbänke 12 angeordnet (1).
  • Der P-Verstärker 24 ist in der P-Verstärkerregion 36 positioniert und der N-Verstärker 26 ist in der N-Verstärker 38 positioniert. Die Transistoren, die in der Maschenregion 23 positioniert sind, beinhalten einen PSET-Transistor (PSET) Treiber 40 und einen NSET-Transistor (NSET) Treiber 42. Wie erwähnt, beinhaltet der Leseverstärker 14 einen N-Verstärker 38 und einen P-Verstärker 36. Der N-Verstärker 38 wird durch das NSET-Signal gesteuert, das durch einen NSET-Treiber 42 getrieben wird, und der P-Typ Verstärker 40 das PSET-Signal gesteuert, das durch einen PSET-Treiber 40 getrieben wird. PSET 40 und NSET 42 Treiber werden üblicherweise zum Treiben einer Vielzahl von P-Verstärkern oder N-Verstärkern verwendet. PSET-Treiber 40 und NSET-Treiber 42 tendieren dazu, relativ groß zu sein. Eine übliche Positionierungsposition für PSET-Treiber 40 und NSET-Treiber 42 ist innerhalb von Maschenregionen 23, da dort Raum für die Positionierung verfügbar ist. Mit steigendem Bedarf wird dieser Raum ungeeignet für die Positionierung dieser Vorrichtungen. Ferner benötigen PSET-Treiber 40 eine Positionierung oberhalb einer N-Source, während NSET-Treiber eine Positionierung oberhalb einer P-Source benötigen. Dies limitiert ferner die Positionierung von PSET-Treiber 40 an einer Fläche angrenzend an eine P-Verstärkerregion 24 innerhalb der Maschenregion 23 und NSET-Treiber 42 anliegend an N-Verstärker Region 26, EQ-Regionen 32 und 34 oder MUX-Regionen 28 und 30 innerhalb von Maschenregion 23.
  • Es ist vorteilhaft einen Teil des PSET-Treibers 40 und NSET-Treibers 42 innerhalb Regionen 24 respektive 26 positionieren zu können, um den PSET-Treiber 40 und NSET-Treiber 42 besser anpassen zu können. Treiber 40 und 42 innerhalb ihrer jeweiligen Verstärkerregionen reduzieren RC Zeitverzögerungen. Solche Positionierung kann aufgrund benötigter Kontakte zu Sources, Gates und Abschlüssen von PSET-Treibern 40 und NSET-Treibern 42 ein Umleitung von Bit-Leitung zur Folge haben.
  • 3 stellt Bit-Leitungen 20 dar, die um Kontakte 46, 48 und 50 herumgeleitet sind. Die Kontakte 46 und 50 erstrecken sich hinunter zu einer aktiven Fläche AA durch die Schicht M0, welche die Schicht ist, in der Bit-Leitungen 20 positioniert sind. Metallleitungen 54 und 56 werden zum Verbinden der Source 58 und des Abflusses 60 des NSET-Treibers 42 verwendet. Der N-Verstärker 26 ist schematisch dargestellt. Der Kontakt 48 des NSET-Treibers 42 muss auch von den Bit-Leitungen 20 umgangen werden. Die Umleitung von Bit-Leitungen 20 reduziert die verfügbare Chipfläche, die die Raumeffizienz des Chiplayouts reduziert, was in direkten Konflikt mit dem Wunsch, die Chipgröße zu reduzieren, steht.
  • In 4 sind Bit-Leitungen 20 dargestellt, die um Kontakte 46', 48', und 50' herumgeleitet sind. Kontakte 46' und 50' erstrecken sich herunter zu einer aktiven Fläche AA durch die Schicht M0, welche die Schicht ist, in der Datenleitungen 20 positioniert sind. Metallleitungen 54' und 56' werden zum Verbinden der Source 58' und des Abflusses 60' des PSET-Treibers 40' verwendet. Der P-Verstärker 24 ist schematisch dargestellt. Der Kontakt 48' des PSET-Treibers 40 muss auch von den Bit-Leitungen 20 umgangen werden. Die Umleitung der Bit-Leitungen 20 reduziert die verfügbare Chipfläche, die die Raumeffizienz des Chiplayouts reduziert, was in direktem Konflikt zu dem Wunsch steht, die Chipgröße zu reduzieren.
  • Raumeffiziente Layouts haben versucht, Vorrichtungen wie den Hauptdatenleitungsschalter (MDQ-Schalter) angrenzend an Leseverstärkerbänke zu positionieren, um Chiplayoutfläche zu reduzieren. MDQ-Schalter sind spärlich über den Chip verteilt. Es ist deshalb wünschenswert, solche Geräte in verfügbaren freiem Raum zu positionieren, um Layoutfläche auf einem Halbleiterspeicherchip zu erhalten.
  • Die US 5636158 beschreibt ein Speicherlayout, in dem der Abstand des Spaltenschalters und Leseverstärkers reduziert ist, um eine Fläche zu erzeugen, die von eine seltene Vorrichtung wie einem MDQ-Schalter oder einem Leseverstärkerschalter besetzt sind.
  • Deshalb besteht eine Notwendigkeit, MDQ-Schalter innerhalb von verfügbarem Raum zu positionieren, um ein raumeffizienteres Layout zu erzeugen, ohne Bit-Leitungen signifikant umleiten zu müssen, was Einfluss haben könnte auf die Gesamtfläche des Chips.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Die Erfindung ist definiert durch Anspruch 1.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die Erfindung wird im Detail in der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen mit Bezug zu den folgenden Zeichnungen beschrieben, wobei:
  • 1 ist eine Draufsicht eines Leseverstärkerbanklayouts für Halbleiterspeicher aus dem Stand der Technik;
  • 2 ist eine Explosions-Draufsicht einer Region 22 aus 1 aus dem Stand der Technik, die eine Maschenregion und mehrere Spalten in einer Leserverstärkerbank darstellt;
  • 3 ist ein schematisches Diagramm aus dem Stand der Technik, das einen N-Verstärker und einen NSET-Treiber, der in der N-Verstärker Region positioniert ist, mit Kontakten für jede Source, Drain und Gate für jeden NSET-Treiber und umgeleitete Bit-Leitungen darstellt;
  • 4 ist ein schematisches Diagramm aus dem Stand der Technik, das einen P-Verstärker und einen PSET-Treiber, der in der P-Verstärker Region positioniert ist, mit Kontakten für jede Source, Drain und Gate für jeden PSET-Treiber und umgeleitete Bit-Leitungen darstellt;
  • 5 ist ein schematisches Diagramm einer Spalte aus dem Stand der Technik, die eine Leseverstärkerschaltung mit einem PSET-Treiber und einem NSET-Treiber außerhalb des Leseverstärkers Verstärkerregion darstellt;
  • 6 ist ein schematisches Diagramm einer Spalte, die eine Leseverstärkerschaltung mit einem PSET-Treiber und einem NSET-Treiber innerhalb einer Leseverstärker-Verstärkerregion darstellt;
  • 7 ist ein schematisches Diagramm, die eine N-Verstärkerregion zeigt, mit einer reduzierten Anzahl von Kontakten zum Verbinden einer Vielzahl von NSET-Treibern zu globalen Metallverbindungen und Bit-Leitungen, mit minimalisierten Umleitungen darstellt;
  • 8 ist eine schematische Zeichnung, die eine P-Verstärkerregion mit einer reduzierten Anzahl von Kontakten zum Verbinden einer Vielzahl von PSET-Treibern zu globalen Metallverbindungen und Bit-Leitungen mit minimalisierten Umleitungen darstellt;
  • 9 ist eine Querschnittansicht einer N-Verstärkerregion, die parallel und zwischen einem komplementären Paar von Bit-Leitungen gemacht ist, die die Fusionsregionen, die zwischen NSET-Treiber und N-Verstärker geteilt ist, darstellt.
  • 10 ist eine Querschnittansicht einer P-Verstärkerregion, die parallel und zwischen einem komplementären Paar von Bit-Leitungen gemacht ist, die die Fusionsregionen, die zwischen PSET-Treiber und P-Verstärker geteilt ist, darstellt.
  • 11 ist eine Planansicht einer Leserverstärkerbank, die einen Treiber, der in einer Verstärkerregion verteilt ist, und einen MDQ-Schalter, der zwischen Segmenten des Treibers verteilt ist, darstellt.
  • Detaillierte Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
  • Speicherchips mit wahlfreiem Zugriff bzw. random access memory (DRAM) Chips, wie dynamische RAMs (DRAMs), synchrone DRAMs (SDRAMs) oder zusammengesetzte DRAM-Logikchips (eingebaute bzw. embedded DRAMs) beinhalten viele Leseverstärkerbänke. Der kontinuierliche Wunsch, die Größe von Chips zu reduzieren, während die Dichte von Merkmalen auf dem Chip vergrößert werden soll, zwingt die Technologie in die Richtung von effizienter Ausnutzung von Chiplayoutfläche. Eine rechteckige Maschenregion ist typischerweise zum Unterbringen der großen PSET- und NSET-Treiber verwendet. Um Zeitverzögerung zu reduzieren, und größer dimensionierte Treiber unterzubringen, ist es vorteilhaft, alle oder einen Teil der PSET-Treiber und NSET-Treiber unter anderen Teilen der Layoutfläche verteilen zu können. Positionierung dieser Treiber innerhalb der Leseverstärkerregionen benötigt Bit-Leitungen, die um die Kontakte der Source Drain und Gate des Treibers geleitet sind. Durch Reduzierung der Anzahl von Kontakten, die durch die Bit-Leitung Metallschicht M0 führen, können PSET und NSET-Treiber innerhalb der Leseverstärkerregion positioniert werden und ermöglichen Bit-Leitungsführung oder reduzieren den Betrag von Umleitungen um Kontakte. Dies führt zu einem effizienterem Layout.
  • 5 zeigt ein schematisches Diagramm eines Leseverstärkers 14 aus dem Stand der Technik. Bit-Leitungen 20 grenzen an der Spalte 16, in der Leseverstärker 14 untergebracht sind. PSET-Treiber 40 und NSET-Treiber 42 sind außerhalb der Spalte 16 dargestellt und sind zum Beispiel in einem Reihendecoder (nicht dargestellt) positioniert. Angleichungsschaltung 32 und 34 sind ebenfalls dargestellt. MUX-Isolationsschalter in MUX-Region 28 und 30 sind ebenfalls dargestellt. Die M-Verstärkerregion 26 beinhaltet zwei N-Typ Transistoren 26a und 26b. N-Typ Transistoren 26a und 26b sind so verbunden, dass die Source des einen die Drain des anderen an dem Knoten N1 ist. Die Drain des NSET-Treibers 42 ist ebenfalls mit N1 verbunden. Die P-Verstärkerregion 24 enthält zwei P-Typ Transistoren 24a und 24b. Die P-Transistoren 24a und 24b sind so verbunden, dass die Source des einen die Drain des anderen am Knoten N2 ist. Die Drain des PSET-Treibers 40 ist ebenfalls mit N2 verbunden. Sowohl der NSET-Treiber 42 und der PSET-Treiber 40 sind außerhalb der Grenzen der Leseverstärker 14 positioniert. Auch wenn aus dem Grund der Diskussion lediglich eine Spalte dargestellt ist, treiben NSET-Treiber und PSET-Treiber oft eine Vielzahl von Leseverstärkern. Zum Beispiel können die Treiber 512 Leseverstärker treiben.
  • 6 zeigt eine schematische Darstellung eines Leseverstärkers 114, in dem PSET-Treiber 140 und NSET-Treiber 142 in die Leseverstärkerregion verschoben sind. Bit-Leitungen 120 grenzen eine Spalte 116 ab, in der ein Leseverstärker 114 angeordnet ist. Der PSET-Treiber 140 und der NSET-Treiber 142 sind in ihrer jeweiligen Verstärkerregion dargestellt. Zum Beispiel ist der NSET-Treiber 142 innerhalb der N-Verstärkerregion 126 positioniert und der PSET-Treiber 140 ist innerhalb der P-Verstärkerregion 124 positioniert. Angleichungsschaltungen 132 und 134 sind genau so wie MUX Isolationsschalter in MUX Regionen 128 und 130 dargestellt. Die N-Verstärkerregion 126 beinhaltet zwei N-Typ Transistoren 126a und 126b wie auch einen NSET-Treiber 142. Die N-Typ Transistoren 126a und 126b sind so verbunden, dass die Source des einen die Drain des anderen am Knoten N3 ist. Die Drain des NSET-Treibers ist auch mit N3 verbunden. Die P-Verstärkerregion 124 beinhaltet zwei P-Typ Transistoren 124a und 124b wie auch einen PSET-Treiber 140. Die P-Typ Transistoren 124a und 124b sind so verbunden, dass die Source des einen die Drain des anderen beim Knoten N4 ist. Die Drain des PSET-Treibers 140 ist auch mit N4 verbunden, Sowohl der NSET-Treiber 142 als auch der PSET-Treiber 140 sind innerhalb der Grenzen des Leseverstärkers 114 positioniert. Auf diesem Weg sind RC Verzögerungen reduziert durch Reduzieren der Distanz zwischen Treibern und den Verstärkern.
  • Um die Vorteile des Positionierens der Treiber 140 und 142 in die Leseverstärkerregion zu realiesieren ist es notwendig, das Problem des Umleitens der Bit-Leitungen um die Quell-, Gate- und Drainnkontakte wie in 4 beschrieben hierüber hinaus anzugehen. Dieses Problem wird angegangen durch Reduzieren der Anzahl von Kontakten, die von Bit-Leitungen 120 umgangen werden.
  • Das schematische Diagram in 7 zeigt die Erfindung er vorliegenden Offenbarung. Kontakte 146, 148 und 150 werden verwendet, um Kontakte 46, 48 und 50 aus 3 zu ersetzen. Die gesamte Anzahl von Kontakten kann signifikant reduziert werden, da eine Vielzahl von dem Stande der Technik entsprechende Leseverstärkerkontakte 46, 48 und 50 durch Kontakte 146, 148 und 150 ersetzt werden. Der N-Verstärker 126 weist N-Verstärkertransistoren 126a und 126b auf, die zwischen Bit-Leitungen 120 angeordnet dargestellt sind. Eine erste Diffusionsregion 154 wird von NSET-Treibern 142 geteilt. Eine Vielzahl von NSET-Treibern 142 kann mit der Region 154 verbunden sein, welche die Drain für beispielsweise alle mit ihr verbundenen NSET-Treiber 142 ist. Die erste Diffusionsregion 154 ist innerhalb einer aktiven Fläche (AA) positioniert. AA repräsentiert die niedrigste Stufe in einem Chiplayout. Die nächste Stufe aufwärts ist ein Gateleiter bzw. Gate Conductor (GC), M0, die nächste ist M1 und so weiter. Die Bit-Leitungen 120 sind auf der Stufe M0, die sich oberhalb der Stufe AA und deshalb oberhalb der Region 154 befindet. Eine zweite Diffusionsregion 156 ist ebenfalls auf der Stufe AA positioniert. Eine Vielzahl von NSET-Treibern 142 kann mit der Region 156 verbunden werden, welche zum Beispiel die Source für alle mit ihr verbundenen NSET-Treiber 142 ist.
  • Die Region 154 ist mit einer globalen Metallleitung 152 verbunden, die auf einer höheren Stufe zum Beispiel M1 durch den Kontakt 146 positioniert ist. Der Kontakt 146 verbindet eine Vielzahl von den Sourcen der NSET-Treiber 142 durch einen einzelnen Kontakt 146. Die globale Metallleitung 152 ist nicht notwendig, wenn der NSET-Treiber 142 die Diffusionsregion 154 mit N-Verstärker 126 bei N3 teilt. Dies ersetzt die zuvor benötigten Kontakte, welche einen Kontakt, zum Beispiel Kontakt 46 aus 3, für jede Leseverstärkerspalte aufwiesen. Der Kontakt 146 kann viele Kontakte aus dem Stand der Technik ersetzen, zum Beispiel 512 Kontakte. Der Kontakt 150 verbindet eine globale Erdungsmetallleitung 160 mit Region 156. Der Kontakt 150 ist durch eine Verbindung 164 repräsentiert, die zu einer globalen Erdungsmetallleitung 160 gemacht ist. In einem Ausführungsbeispiel ist die globale Erdungsmetallleitung 160 direkt oberhalb der Region 156, siehe 9.
  • Der Kontakt 148 verbindet eine Vielzahl von den Gates des NSET-Treibers 142 dadurch. Dies ersetzt die Kontakte, die zuvor benötigt wurden, die einen Kontakt, zum Beispiel Kontakt 48 aus 3, für jedes Transistorgate hatten. Kontakt 148 kann viele Kontakte aus dem Stand der Technik, zum Beispiel 512 Kontakte, ersetzen. Kontakt 148 verbindet ein Gateleiter bzw. Gate Conductor 158 mit der globalen Gateverbindungsmetallleitung 162. In einer Ausführungsform könnten Gateleitungen 158 ausreichend sein, die Gates einer Vielzahl von NSET-Treibern 142 zu verbinden und dadurch den Bedarf für eine globale Gateverbindungsmetallleitung 162 zu beseitigen und dadurch die Anzahl von Kontakten weiter zu reduzieren. Das Weglassen der globalen Gateverbindungsmetallleitung 162 kann auftreten, wenn der Widerstand in Gateverbinder 158 niedrig genug ist. Kontakt 148 repräsentiert die Layoutfläche, die verwendet wird, während einer Verbindung 166 zu einer globalen Gateverbindungsmetallleitung 160 gemacht wird. In einer Ausführungsform ist die globale Gateverbindungsmetallleitung 160 direkt oberhalb des Gateverbinders 158, siehe 9. In einer anderen Ausführung ist der Gateleiter 158 senkrecht zu Spalten orientiert und wird von vielen Vorrichtungen geteilt, zum Beispiel von einer rotierten Treibvorrichtung.
  • Wie in 8 dargestellt weist der P-Verstärker 124 P-Verstärkertransistoren 124a und 124b auf, die zwischen den Bit-Leitungen 120 angeordnet dargestellt sind. Eine erste Diffusionsregion 172 wird von PSET-Treibern 140 geteilt. Eine Vielzahl von PSET-Treibern 140 kann mit der Region 172 verbunden sein, welche die Drain für zum Beispiel alle mit ihr verbundenen PSET-Treibern 142 ist. Die erste Diffusionsregion 142 ist innerhalb einer aktiven Fläche (AA) positioniert. AA repräsentiert die niedrigste Stufe in einem Chiplayout. Die nächste Stufe aufwärts ist eine Gateleiterstufe (GC), M0, die nächste ist M1 und so weiter. Die Bit-Leitungen 120 sind auf der Stufe M0, welche oberhalb der Stufe AA und deshalb oberhalb der Region 172 sind. Eine zweite Diffusionsregion 174 ist ebenfalls innerhalb der Stufe AA positioniert. Eine Vielzahl von PSET-Treibern 140 kann mit der Region 174 verbunden sein, welche die Source für alle mit ihr verbundenen PSET-Treibern 174 ist.
  • Region 172 ist mit einer globalen Metallleitung 170 verbunden, die auf einer höheren Stufe positioniert ist, zum Beispiel M1, durch Kontakt 182. Die globale Metallleitung 170 ist unnötig, wenn der PSET-Treiber 140 die Diffusionsregion 172 mit dem P-Verstärker 124 bei N4 teilt. Der Kontakt 182 verbindet eine Vielzahl von den Drainn des PSET-Treibers 140 durch einen einzelnen Kontakt 182. Dies ersetzt die zuvor benötigten Kontakte, welche einen Kontakt für jede Leseverstärkerspalte hatte, zum Beispiel Kontakt 46' aus 4. Der Kontakt 182 kann viele Kontakte aus dem Stand der Technik, zum Beispiel 512 Kontakte, ersetzen. Der Kontakt 182 repräsentiert die verwendete Layoutfläche, während eine Verbindung 188 zu einer globalen Metallleitung 170 gemacht ist. In einer bevorzugten Ausführungsform ist die globale Metallleitung 170 direkt oberhalb der Region 172, siehe 9.
  • Der Kontakt 184 verbindet eine Vielzahl der Sourcen des PSET-Treibers 140 dadurch. Dies ersetzt die zuvor benötigten Kontakte, die einen Kontakt für jede Transistorbasis hatten, zum Beispiel Kontakt 48' aus 4. Der Kontakt 186 kann viele Kontakte aus dem Stand der Technik ersetzen, zum Beispiel 512 Kontakte. Der Kontakt 186 verbindet eine lokale Basisverbindungsleitung 176 mit einer globalen Basisverbindungsmetallleitung 180. In einer Ausführungsform kann der Basisleiter 176 ausreichen, um die Basen einer Vielzahl von PSET-Treibern 140 zu verbinden, und dadurch den Bedarf für eine globale Basisverbindungsmetallleitung 180 vermeiden, was weiter die Zahl von Kontakten reduziert. Siehe 10. Die globale Basisverbindungsmetallleitung 180 kann wegfallen, wenn der Widerstand in der Basisleitung 176 niedrig genug ist. Der Kontakt 186 repräsentiert die verwendete Layoutfläche, während eine Verbindung 192 zu einer globalen Basisverbindungsmetallleitung 178 gemacht ist. In einer Ausführungsform ist die globale Basisverbindungsmetallleitung 178 direkt oberhalb der Basisleitung 176. Siehe 9. In einer anderen Ausführungsform ist der Basisleiter 176 senkrecht zu Spalten orientiert und von vielen Vorrichtungen gemeinsam benutzt, zum Beispiel eine rotierte Treibervorrichtung.
  • Wie in 7 und 8 dargestellt reduzieren die Kontakte 146, 148, 150, 182, 184 und 186 sehr stark die Anzahl von Kontakten, die benötigt sind, um den PSET-Treiber 140 und den NSET-Treiber 142 innerhalb des Leseverstärkers 114 zu positionieren. Da die Anzahl von Kontakten reduziert ist, ist die Umleitung von Bit-Leitungen um Kontaktflächen reduziert oder macht Umleitung von Bit-Leitungen möglich. Als Ergebnis ist ein raumeffizienteres Layout für den Chip bereitgestellt. In einer Ausführungsform sind die Kontakte so geformt, dass Kontakte 146, 148, 150, 182, 184 und 186 zwischen Bit-Leitungen 120 passen, und dadurch keine signifikante Umleitung von Bit-Leitung 120 notwendig ist.
  • 9 stellt einen Querschnitt einer Ausführungsform dar, in der eine globale Metallleitung 160 direkt oberhalb einer Diffusionsregion 156 des NSET-Treibers 142 angeordnet ist. Der Kontakt 150 verbindet die globale Metallleitung 160 mit der Diffusionsregion 156. Der NSET-Treiber 142 hat den Basisleiter 152 zwischen der Diffusionsregion 154 und der Diffusionsregion 156 angeordnet. In einer Ausführungsform erstreckt sich die Diffusionsregion 154 transversal, vorzugsweise senkrecht, zur Diffusionsregion 156, um effektiver verfügbaren Raum zu nutzen. Eine Vielzahl von NSET-Treibern 142 kann sich eine Diffusionsregion 156 teilen. In einer wechselnden Ausführungsform wird die Diffusionsregion 156 geteilt mit N-Verstärker 126.
  • 9 stellt den Querschnitt der N-Verstärkerregion 38 der Leseverstärkerbank 12 (siehe 2) mit Metallleitungen 152 und 162 und ausgelassenen Kontakten 146 und 148 dar. Der P-Wanne 200 ist in der N-Verstärkerregion 38 positioniert (2). Die Diffusionsregion 154 und die Diffusionsregion 156 sind N-dotiert. In einer bevorzugten Ausführungsform wird die Diffusionsregion 154 durch N-Verstärkertransistoren 126a oder 126b verwendet, und ermöglicht dadurch das Teilen der Diffusionsregion 154, zum Beispiel durch N-Verstärkertransistoren 126a und 126b und NSET-Treiber 142. Dies reduziert die Anzahl von Kontakten weiter und reduziert die Anzahl von globalen Metallleitungen über die Leseverstärkerregion.
  • Der P-Wanne 200 zusammen mit den Diffusionsregionen 154 und 156 sind auf der Stufe AA positioniert. Der Basisleiter 158 ist auf GC positioniert. Die Bit-Leitung 120 ist auf der Stufe M0 (nicht dargestellt) zwischen GC und M1 positioniert. Die globale Metallleitung 160 kann auf der Stufe M1, M2 und so weiter befinden.
  • 10 stellt einen Querschnitt einer Ausführungsform dar, die eine globale Metallleitung 178 direkt oberhalb der Diffusionsregion 174 des PSET-Treibers 140 positioniert aufweist. Der Kontakt 184 verbindet die globale Metallleitung 178 mit der Diffusionsregion 174. Der PSET-Treiber 140 weist einen Basisleiter 176 auf, der zwischen der Diffusionsregion 172 und der Diffusionsregion 174 angeordnet ist. In einer Ausführungsform erstreckt sich die Diffusionsregion 174 transversal, bevorzugt senkrecht zur Diffusionsregion 172, um verfügbaren Raum effizienter zu nutzen. Eine Vielzahl von PSET-Treibern 140 kann die Diffusionsregion 174 gemeinsam benutzen. In einer wechselnden Ausführungsform wird die Diffusionsregion 174 mit einem P-Verstärker 126 geteilt.
  • 10 stellt den Querschnitt der P-Verstärkerregion 36 dar, der Leseverstärkerbank 12 (siehe 2) mit globalen Metallleitung 170 und 180 und ausgelassenen Kontakten 182 und 186. Der N-Wanne 210 ist in der P-Verstärkerregion 36 (2) positioniert. Die Diffusionsregion 172 und die Diffusionsregion 174 sind P-dotiert. In einer Ausführungsform wird die Diffusionsregion 172 von N-Verstärkertransistoren 124a oder 124b verwendet und ermöglicht deshalb, dass die Diffusionsregion 172 zum Beispiel durch die P-Verstärkertransistoren 124a und 124b und durch den PSET-Treiber 140 gemeinsam benutzt wird. Dies reduziert die Zahl von Kontakten weiter und reduziert die Zahl von globalen Metallleitungen über die Leseverstärkerregion.
  • Der N-Wanne 210 ist zusammen mit den Diffusionsregion 172 und 174 auf der Stufe AA. Der Basisleiter 176 ist auf GC positioniert. Die Bit-Leitung 120 ist auf der Stufe M0 (nicht dargestellt) zwischen GC und M1 positioniert. Die globale Metallleitung 178 kann auf der Stufe M1, M2 und so weiter befinden.
  • 11 stellt einen Treiber 222 dar, der in der Leseverstärkerbank verteilt ist. Der Treiber 222 kann zum Beispiel ein NSET-Treiber oder PSET-Treiber sein. Ein erster Teil 222a des Treibers ist in der Maschenregion oder in einer für einen lokalen Wortleitungstreiber 228 kreierten freien Raum positioniert, und ein zweiter Teil 222b ist in einer Verstärkerregion 224 positioniert, zum
  • Beispiel die N-Verstärkerregion oder die P-Verstärkerregion, abhängig von dem benutzten Treiber. Der zweite Teil 222b kann segmentierte Teile aufweisen. Die Regionen 226 zwischen den segmentierten Teilen des PSET-Treibers oder des NSET-Treibers kann durch den Hauptdatenleitungsschalter 230 (MDQ gleich Hauptdatenleitung) oder einem Teil des MDQ-Schalter 230 beinhaltet geeignete Logikschaltung, die die Reihenadresse von einem Adressenpuffer empfängt um festzustellen, welches Array ausgewählt werden soll. Die MDQ-Schalterpositionierung ist in einem Artikel mit dem Titel „A286mm2 256Mb DRAM with X32 Both-Ends DQ" von Watanabe et al. gedruckt in IEEE Journal of Solid-State Circuits, Vol. 31 No. 4, April 1996 dargestellt. Watanabe ist hier durch Referenz eingebaut. Es ist geeignet und vorteilhaft, die MDQ-Schalter zwischen den segmentierten Teilen zu positionieren.
  • Die in dieser Veröffentlichung beschriebenen Ausführungsformen sind auf Layoutarchitekturen anwendbar, die andere als die erwähnten Maschenwortleitungsarchitektur sind. Zum Beispiel bezieht sich die Erfindung auf segmentierte Wortleitungslayoutarchitekturen. Weiterhin sind unterschiedlich geformte Diffusionsregionen zusätzlich zu den hier dargestllten rechteckig geformten Regionen in Erwägung gezogen.
  • Nach der Beschreibung von Ausführungsformen der raumeffizienten Positionierung von MDQ-Schaltern (die erläuternd aber nicht begrenzend sein soll) ist zu beachten, dass der Fachmann im Lichte der obigen Lehre vornehmen kann. Deshalb sollte man verstehen, dass Änderungen in den einzelnen dargestellten Ausführungsformen der Erfindung gemacht werden können, die innerhalb des Umfangs der Erfindung durch die angefügten Ansprüche liegen.

Claims (8)

  1. Ein Halbleiterspeicher mit einer Vielzahl von in Reihen und Spalten angeordneten Speicherzellen, der Speicher umfassend: eine Bank von Leseverstärkern, die in einer ersten generell rechteckigen Region (224) angeordnet ist, die eine Länge parallel zu den Reihen hat, wobei jeder Leseverstärker in der Bank in einer Leseverstärkerregion einer zugehörigen Spalte angeordnet ist; wobei eine Vielzahl der Leseverstärker von mindestens einem Treiber (222) betriebenen ist, jeder der Vielzahl von Leseverstärkern zwischen einem Paar von komplementären Bitleitungen angeordnet ist und innerhalb der Leseverstärkerregion positioniert ist; eine zweite Region, die sich transversal zu der Spaltenrichtung erstreckt; wobei der mindestens eine Treiber (222) in der Leseverstärkerregion innerhalb der zweiten Region positioniert ist; gekennzeichnet dadurch, dass der Speicher ferner einen Hauptdatenleitungsschalter (230) (Hauptdatenleitung: MDQ) umfasst, der zwischen einem ersten Paar von Bitleitungen und einem zweiten Paar von Bitleitungen innerhalb von nicht durch den Treiber (222) besetzten Teilen (226) der zweiten Region positioniert ist.
  2. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, wobei der mindestens eine Treiber (222) in einen ersten Teil (222a) und einen zweiten Teil (222b) geteilt ist, wobei der erste Teil (222a) in einer ersten Region (228) positioniert ist und der zweite Teil (222b) in der Leseverstärkerregion (224) positioniert ist.
  3. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 2, wobei der zweite Teil (222b) zwischen komplementären Paaren von Bitleitungen segmentiert ist.
  4. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 3, wobei der MDQ-Schalter (230) zwischen den segmentierten Teilen des zweiten Teils (222b) segmentiert und angeordnet ist.
  5. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, wobei der Treiber (222) ein NSET Treiber und der MDQ-Schalter (230) in einer N-Verstärkerregion angeordnet ist.
  6. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, wobei der Treiber (222) ein PSET Treiber und der MDQ-Schalter (230) in einer P-Verstärkerregion angeordnet ist.
  7. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, wobei die Leseverstärker P-Verstärker sind, die von mindestens einem PSET Treiber betrieben werden, und wobei der PSET Treiber segmentierte Teile zwischen komplementären Paaren von Bitleitungen angeordnet aufweist, wobei der Hauptdatenleitungsschalter (230) in der P-Verstärkerregion zwischen den segmentierten Teilen positioniert ist.
  8. Ein Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, wobei die Vielzahl von Leseverstärkern eine Vielzahl von P-Verstärkern umfassen, die in einer P-Verstärkerregion positioniert sind, und die von mindestens einem PSET Treiber betrieben werden, und eine Vielzahl von N-Verstärkern, die von mindestens einem NSET Treiber betrieben werden, der in einer N-Verstärkerregion positioniert ist, und wobei der PSET Treiber und der NSET Treiber segmentierte Teile zwischen komplementären Paaren von Bitleitungen angeordnet haben, wobei der MDQ-Schalter in mindestens einer der N-Verstärkerregionen und der P-Verstärkerregionen zwischen den segmentierten Teilen angeordnet ist.
DE69833415T 1997-09-26 1998-09-21 Platz optimierende Anordnung eines Hauptdatenleitungsschalters Expired - Fee Related DE69833415T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/938,073 US5877994A (en) 1997-09-26 1997-09-26 Space-efficient MDQ switch placement
US938073 1997-09-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69833415D1 DE69833415D1 (de) 2006-04-20
DE69833415T2 true DE69833415T2 (de) 2006-09-21

Family

ID=25470827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69833415T Expired - Fee Related DE69833415T2 (de) 1997-09-26 1998-09-21 Platz optimierende Anordnung eines Hauptdatenleitungsschalters

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5877994A (de)
EP (1) EP0913831B1 (de)
JP (1) JPH11163297A (de)
KR (1) KR100657683B1 (de)
CN (1) CN1134788C (de)
DE (1) DE69833415T2 (de)
TW (1) TW408479B (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5909388A (en) * 1998-03-31 1999-06-01 Siemens Aktiengesellschaft Dynamic random access memory circuit and methods therefor
CN1661721B (zh) * 2004-02-26 2010-09-15 钰创科技股份有限公司 高阶区域效能的资料线路结构
KR100895389B1 (ko) * 2007-09-06 2009-04-30 주식회사 하이닉스반도체 상 변화 메모리 장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5280450A (en) * 1990-05-14 1994-01-18 Hitachi, Ltd. High-speed semicondustor memory integrated circuit arrangement having power and signal lines with reduced resistance
JP3549602B2 (ja) * 1995-01-12 2004-08-04 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
US5546349A (en) * 1995-03-13 1996-08-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Exchangeable hierarchical data line structure
US5636158A (en) * 1995-03-13 1997-06-03 Kabushiki Kaisha Toshiba Irregular pitch layout for a semiconductor memory device

Also Published As

Publication number Publication date
CN1134788C (zh) 2004-01-14
EP0913831A3 (de) 1999-10-06
TW408479B (en) 2000-10-11
EP0913831A2 (de) 1999-05-06
DE69833415D1 (de) 2006-04-20
KR19990030081A (ko) 1999-04-26
EP0913831B1 (de) 2006-02-08
JPH11163297A (ja) 1999-06-18
US5877994A (en) 1999-03-02
CN1213141A (zh) 1999-04-07
KR100657683B1 (ko) 2007-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3941926C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE4122829C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE69822280T2 (de) Halbleiterspeicher
DE4433695C2 (de) Dynamische Halbleiterspeichervorrichtung
DE69829618T2 (de) Platzeffizienter Halbleiterspeicher mit hierarchischer Spaltenauswahlleitungsarchitektur
DE60013295T2 (de) Multibankspeicher mit wortleitungsbanken, bitleitungsbanken und e/a-multiplexierung unter verwendung von fliesengleichen verbindungen
DE3939337C2 (de)
DE4211844C2 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE3937068C2 (de) Dynamische Halbleiterspeicheranordnung
DE69834540T2 (de) Halbleiterspeicher
DE3906895C2 (de)
DE2760030C2 (de) Speicherschaltung
DE10228544A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung
DE3432973C2 (de)
DE3716518A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung
DE4015452C2 (de)
DE69831294T2 (de) Platzeffizienter Halbleiterspeicher
DE10144245A1 (de) Halbleiterspeicherbauelement mit Bitleitungs-Abtastschaltungsmitteln
DE4312651C2 (de) Dram
EP0224887B1 (de) Gate Array Anordnung in CMOS-Technik
DE10129928A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit einem für hohe Integration geeigneten Aufbau
DE102019200314A1 (de) Schreibunterstützung
DE69833415T2 (de) Platz optimierende Anordnung eines Hauptdatenleitungsschalters
DE10020554B4 (de) Halbleiterspeicherbauelement mit Spaltenauswahlschaltung und Aufbauverfahren hierfür
DE4126050A1 (de) Anordnung einer wortleitungstreiberstufe fuer eine halbleiterspeicheranordnung

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK,, US

Owner name: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE