DE69812573T2

DE69812573T2 - Verfahren zum Herstellen einer Kathodenstrahlröhre

Info

Publication number: DE69812573T2
Application number: DE69812573T
Authority: DE
Inventors: Nobuyuki 1-chome Hirakata-shi Aoki; Kenji Kawachi-gun Nakada; Naoyuki Neyagawa-shi Tani; Hiroshi Suita-shi Deguchi
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1998-01-14
Filing date: 1998-12-23
Publication date: 2004-01-08
Anticipated expiration: 2018-12-24
Also published as: ATE235740T1; DE69812573D1; US6103297A; EP0930636B1; EP0930636A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ausbilden eines gleichförmigen Leuchtstoffschirms auf einer Innenfläche einer Glasplatte einer Kathodenstrahlröhre (im weiteren als eine "CRT" bezeichnet), wie etwa einer Farbkathodenstrahlröhre, für einen Computermonitor (im weiteren als ein "CMT" bezeichnet) oder dergleichen, der eine hohe Luminanz erfordert.
Herkömmlich findet eine CRT weite Verwendung als Displayeinheit zum Anzeigen von Zeichen und Bildern durch Anregen von Leuchtstoffen unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Bei einem auf einer Innenfläche einer Glasplatte der CRT ausgebildeten Leuchtstoffschirm werden im allgemeinen drei Arten von Leuchtstoffpixeln, die rotes, grünes und blaues Licht emittieren, über einen als eine schwarze Matrix bezeichneten Fotoabsorptionsfilm regelmäßig als Punkte oder in einer Streifenform angeordnet.
Ein derartiger Leuchtstoffschirm kann erhalten werden durch: Ausbilden eines lichtempfindlichen Harzfilms auf einer Innenfläche einer Glasplatte einer CRT; Ausbilden von Leuchtstoffbildungsstellen an Positionen, wo auf dem lichtempfindlichen Harzfilm Leuchtstoffpixel ausgebildet werden, durch Aufbringen, Belichten und Entwickeln einer fotoreaktiven Substanz unter Verwendung einer fotolithographischen Technik; danach Aufbringen einer Leuchtstoffsuspension auf der Innenfläche der Glasplatte; und Ausbilden jeweiliger Leuchtstoffe aus Blau, Grün und Rot durch Wiederholen der gleichen fotolithographischen Technik.
Als Aufbringungsprozeß zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms einer CRT wird hauptsächlich ein Verfahren zum Aufbringen einer durch Suspendieren von Leuchtstoffen in einem lichtempfindlichen Harz hergestellten Leuchtstoffaufschlämmung unter gleichzeitiger Drehung einer Glasplatte mit einer Neigung verwendet. Die unten beschriebenen Prozesse werden sequentiell durch eine Maschine mit kontinuierlicher Schleife, eine kreisförmig arbeitende Werksmaschine oder dergleichen durchgeführt.
Als erster Schritt wird eine Leuchtstoffaufschlämmung auf eine Innenfläche einer sich mit einer niedrigen Drehzahl drehenden Glasplatte gespritzt. Während sich die gespritzte Leuchstoffaufschlämmung aufgrund der Neigung und Drehung der Glasplatte langsam über die Innenfläche verteilt, werden Leuchtstoffteilchen abgeschieden (ein Aufbringungsprozeß). Bei einem Prozeß zum Aufbringen von Leuchtstoffen ist es wichtig, einen Leuchtstoffschirm mit gleichförmiger Dicke und ohne Ungleichmäßigkeit in einem Aufbringungszustand zu erhalten. Dazu werden einige Verfahren vorgeschlagen, wie etwa ein Verfahren zum periodischen Ändern eines Neigungswinkels einer Glasplatte durch Synchronisieren mit einer Rotationsperiode der Glasplatte (beispielsweise die Veröffentlichung der japanischen ungeprüften Patentanmeldung Nr. Hei 3-122944) und ein Verfahren zum Drehen einer Glasplatte durch positive Drehung und umgekehrte Drehung (beispielsweise Veröffentlichung der japanischen ungeprüften Patentanmeldung Nr. Hei 5-101775).
Als nächster Schritt beim Aufbringungsprozeß wird überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung durch Erhöhen der Drehzahl der Glasplatte abgeschleudert (ein Abschleuderprozeß). Um einen gleichförmigen Leuchtstoffschirm zu erhalten, ist beim Abschleudern der überschüssigen Leuchtstoffaufschlämmung die Einstellung eines Neigungswinkels und einer Drehzahl der Glasplatte wichtig. Es sind ein Verfahren zum Abschleudern mit schräger und nach oben weisender Glasplatte (beispielsweise Veröffentlichung der japanischen ungeprüften Patentanmeldung Nr. Sho 55-57230), ein Verfahren zum Abschleudern mit schräger und nach unten weisender Glasplatte (beispielsweise Veröffentlichung der japanischen ungeprüften Patentanmeldung Nr. Sho 59- 186230) und dergleichen vorgeschlagen worden. Überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung wird in einer externen Fluidrückgewinnungspfanne zurückgewonnen, die in einem Hochgeschwindigkeitsabschleuderprozeß neben einem Glasplattenkopf vorgesehen ist, oder wird in Ecknäpfen zurückgewonnen, die in den vier Ecken einer Glasplatte angeordnet und auf einer Bühne vorgesehen sind, die in einem Drehkopfteil an der Glasplatte fixiert ist.
Nach dem Abschleudern der überschüssigen Leuchtstoffaufschlämmung wird der Leuchtstoffschirm von außen durch ein Infrarotheizgerät getrocknet (ein Trockenprozeß). Dann wird eine Lochmaske gesetzt, und der Leuchtstoffschirm wird mit Ultraviolettstrahlen belichtet. Eine Licht-Vernetzungs-Reaktion zwischen dem lichtempfindlichen Harz und einem sensibilisierenden Initiator läuft durch die Bestrahlung mit den Ultraviolettstrahlen ab, wodurch die belichteten Teile wasserunlöslich werden. Nach der Belichtung wird die Lochmaske entfernt und die Entwicklung wird unter Verwendung eines Warmwasserschauers oder dergleichen durchgeführt. Dadurch werden unbelichtete Teile durch das Wasser abgewaschen und Leuchtstoffmuster bilden sich nur an den erforderlichen Stellen aus.
Es wurde jüngst gefordert, daß ein Display für einen CMT über den ganzen Teil eines Displayschirms auf einer Glasplatte hohe Luminanz und hohe Auflösung aufweisen soll. Dazu sind einige Verfahren vorgeschlagen worden, beispielsweise ein Verfahren, das eine hohe Luminanz und einen hohen Kontrast ermöglicht, und zwar durch Bereitstellen eines Filters mit der gleichen Farbe wie die jeweilige Farbe an den Farbbildungsstellen in einem Leuchtstoffschirm und Kombinieren mit einer Glasplatte mit hoher Transmission, und ein Verfahren zum Verbessern des Reflexionsgrads durch Steuern einer Pigmentkonzentration von Leuchtstoffen mit Pigmenten, die mit den gleichen kleinen Farbpigmentteilchen auf den Leuchtstoffen selbst beschichtet sind, mit denen ein Leuchtstoffschirm ausgebildet wird.
Als Verfahren zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms gibt es ein Verfahren zum Verbessern der Leuchteffizienz durch Verwenden von Leuchtstoffteilchen mit einer großen Teilchengröße. Es gibt im Gegensatz ein Verfahren zum Erhalten einer höheren Luminanz durch Füllen kleiner Leuchtstoffteilchen mit hoher Dichte. Wenn Leuchtstoffteilchen mit einer großen Teilchengröße verwendet werden, wird zum Vermeiden des Auftretens des sogenannten Kreuzphänomens (Ungleichförmigkeit der Dicke aufgrund des Einflusses einer Basis) von Leuchtstoffen während der Ausbildung eines Leuchtstoffschirms ein Trockenverfahren durch Drehung mit niedriger Drehzahl verwendet. Andererseits wird bei der Verwendung kleiner Phosphorteilchen unter Berücksichtigung einer effizienten Zurückgewinnung der Phosphorteilchen ein Trockenverfahren durch eine Drehung mit mittlerer bis hoher Drehzahl verwendet (beispielsweise Veröffentlichung der japanischen ungeprüften Patentanmeldung Nr. Hei 3-230451).
Bei einem Verfahren zur Rückgewinnung überschüssiger Leuchtstoffaufschlämmung in Ecknäpfen, die wie oben beschrieben in den vier Ecken einer Glasplatte vorgesehen sind, sinkt im Fall der Verwendung von Leuchtstoffen mit einer großen Teilchengröße über 5 μm die Zentrifugalkraft, wenn die Drehzahl der Glasplatte zu gering ist. Bei einem Trockenprozeß zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms spritzt die zurückgewonnene Leuchtstoffaufschlämmung infolgedessen aus den Ecknäpfen nach außen. Um das Verspritzen einzudämmen, muß die Glasplatte somit mit hoher Drehzahl gedreht werden. Die Drehung mit hoher Drehzahl bewirkt jedoch das obenerwähnte Kreuzphänomen.
Zur Vermeidung des Kreuzphänomens ist es im Gegensatz erforderlich, die Drehzahl der Glasplatte so niedrig wie möglich zu machen. Wenn jedoch die Drehzahl gesenkt wird, spritzt die rückgewonnene Leuchtstoffaufschlämmung aus den Ecknäpfen nach außen. Deshalb verschmutzt die Umgebung, wodurch Defekte in teilverarbeiteten Artikeln induziert werden. Wie oben beschrieben existieren widersprüchliche Anforderungen hinsichtlich der Drehzahl der Glasplatte. Infolgedessen hat es ein Problem dahingehend gegeben, daß Leuchtstoffe mit einer großen Teilchengröße nicht zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms zum Erhalten einer größeren Luminanz verwendet werden können.
Unter einem anderen Gesichtspunkt gibt es als Verfahren zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms unter Verwendung eines Trockenprozesses durch eine Drehung mit niedriger Drehzahl ein Verfahren zum Rückgewinnen überschüssiger Leuchtstoffaufschlämmung in einer außerhalb eines Kopfs vorgesehenen Rückgewinnungspfanne durch diskontinuierliches Antreiben jedes Kopfs. Es hat jedoch Probleme gegeben, wie etwa eine große Zunahme der Größe des Geräts und der Komplexität eines jeden Prozeß steuernden Systems.
Die vorliegende Erfindung trachtet danach, die obigen Probleme zu lösen. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Bereitstellung eines Verfahrens nach Anspruch 1, bei dem ein Leuchtstoffschirm mit gleichförmiger Dicke und Füllrate unter Verwendung großer Leuchtstoffteilchen ausgebildet werden kann, mit denen eine große Luminanz erhalten werden kann, und überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung effizient zurückgewonnen werden kann.
Ein Verfahren zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms auf einer Innenfläche einer Glasplatte einer Kathodenstrahlröhre der vorliegenden Erfindung umfaßt einen Aufbringungsprozeß, einen Abschleuderprozeß und einen Trocknungsprozeß. Bei dem Aufbringungsprozeß wird eine Leuchtstoffaufschlämmung auf eine Innenfläche einer Glasplatte gespritzt und die Glasplatte wird bezüglich einer vertikalen Achse geneigt und gedreht, um die Leuchtstoffaufschlämmung über fast den ganzen Bereich der Innenfläche der Glasplatte zu verteilen. Bei dem Abschleuderprozeß wird durch Drehen der Glasplatte mit einer Neigung überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung abgeschleudert, und die überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung wird in in Ecken der Glasplatte vorgesehenen Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern zurückgewonnen. Bei dem Trochnungsprozeß wird durch Drehen der Glasplatte mit einer Neigung die auf die Innenfläche der Glasplatte aufgebrachte Leuchtstoffaufschlämmung getrocknet. Bei dem oben beschriebenen Verfahren werden der Neigungswinkel und die Drehzahl der Glasplatte bei mindestens einem der Prozesse Aufbringungsprozeß, Abschleuderprozeß und Trocknungsprozeß in mindestens zwei Schritten geändert.
Gemäß den oben beschriebenen Verfahren ist es möglich, einen Leuchtstoffschirm auszubilden, wobei große Leuchtstoffteilchen verwendet werden, mit denen eine große Luminanz erhalten werden kann. Ein Kreuzphänomen, Wandflecken an einer Innenfläche und Außenfläche der Glasplatte, Verschütten von Flüssigkeit auf die Innenfläche der Glasplatte oder dergleichen können vermieden werden. Zudem kann der Leuchtstoffschirm gleichförmig ausgebildet werden. Somit kann eine CRT bereitgestellt werden, die einer mächtigen Luminanzschwankung, einer großen Luminanz und einem hohen Kontrast genügt, was bei einem herkömmlichen Verfahren unmöglich war.
Es wird bevorzugt, daß der Aufbringungsprozeß einen ersten Aufbringungsschritt und einen zweiten Aufbringungsschritt umfaßt. Bei dem zweiten Aufbringungsschritt nach dem ersten Aufbringungsschritt wird die Glasplatte mit einem breiteren Neigungswinkel als dem in dem ersten Aufbringungsschritt und einer niedrigeren Drehzahl als der im ersten Aufbringungsschritt gedreht.
Gemäß diesem Verfahren wird die Leuchtstoffaufschlämmung im ersten Aufbringungsschritt über fast den ganzen Bereich der Innenfläche der Glasplatte verteilt, und im nachfolgenden zweiten Aufbringungsschritt kann die Leuchtstoffaufschlämmung auf der Innenfläche der Glasplatte abgeschieden werden.
Es wird bevorzugt, daß der Aufbringungsprozeß weiterhin nach dem zweiten Aufbringungsschritt einen dritten Aufbringungsschritt umfaßt. Beim dritten Aufbringungsschritt wird die Glasplatte mit einer niedrigeren Drehzahl als der im zweiten Aufbringungsschritt gedreht.
Gemäß diesem Verfahren kann die Leuchtstoffaufschlämmung im dritten Aufbringungsschritt auch ausreichend zum peripheren Teil der Glasplatte strömen. Außerdem kann sich die Leuchtstoffaufschlämmung sehr schnell über den ganzen Bereich der Glasplatte verteilen, wodurch sich über der ganzen effektiven Fläche der Innenfläche der Glasplatte ein gleichförmiger Leuchtstoffschirm ausbildet.
Bei dem oben beschriebenen ersten Aufbringungsschritt wird bevorzugt, daß die Glasplatte einen Neigungswinkel von 5°-20° aufweist.
Es wird bevorzugt, daß der Abschleuderprozeß einen ersten Abschleuderschritt und einen zweiten Abschleuderschritt umfaßt. Beim zweiten Abschleuderschritt nach dem ersten Abschleuderschritt wird die Glasplatte mit einem breiteren Neigungswinkel als dem im ersten Abschleuderschritt und einer höheren Drehzahl als der im Aufbringungsprozeß gedreht.
Gemäß diesem Verfahren wird im ersten Abschleuderschritt überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung in Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern (Ecknäpfen) effizient zurückgewonnen. Bei dem nachfolgenden zweiten Abschleuderschritt wird die Leuchtstoffschirmverteilung bei der Ausbildung des Leuchtstoffschirms vereinheitlicht, wodurch das Phänomen eingeschränkt wird, daß die Leuchtstoffaufschlämmung um einen Stift herum kleben bleibt und eine Plattenwand befleckt, was vorkommt, wenn die Leuchtstoffaufschlämmung in den folgenden Prozessen in die anderen Teile als in den Leuchtstoffschirm strömt.
Es wird bevorzugt, daß die Glasplatte in dem ersten Abschleuderschritt einen Neigungswinkel von 40°-80° und eine Drehzahl von 100-150 UpM und im zweiten Abschleuderschritt einen Neigungswinkel von 65°-115° und eine Drehzahl von 150-250 UpM aufweist.
Es wird bevorzugt, daß der Trocknungsprozeß einen ersten Trocknungsschritt und einen zweiten Trocknungsschritt umfaßt. Im zweiten Trocknungsschritt nach dem ersten Trocknungsschritt wird die Glasplatte mit einer Drehzahl gedreht, die mindestens so groß ist wie die im Aufbringungsprozeß.
Gemäß diesem Verfahren wird im ersten Trocknungsschritt verhindert, daß die zurückgewonnene Leuchtstoffaufschlämmung aus den Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern herausspritzt. In dem nachfolgenden zweiten Trocknungsschritt kann bei dem aus der Leuchtstoffaufschlämmung ausgebildeten Leuchtstoffschirm eine gleichförmige Dicke erzielt werden. Somit spritzt keine überschüssige in den Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern zurückgewonnene Leuchtstoffaufschlämmung während des Trocknens der Aufschlämmung nach außen. Außerdem kann das Kreuzphänomen, das Defekte in teilverarbeiteten Artikeln bewirkt, gelöst werden. Somit können große Leuchtstoffteilchen verwendet werden, mit denen man eine große Luminanz erhalten kann. Weiterhin kann das Auslaufen von Flüssigkeit aus dem ungetrockneten Leuchtstoffschirm in die effektive Fläche der Innenfläche der Glasplatte und eine Fleckausbreitung über eine Plattenabdichtfläche reduziert werden.
Es wird bevorzugt, daß die Glasplatte im ersten Trocknungsschritt einen Neigungswinkel von 85°–95° und eine Drehzahl von 30–70 UpM und im zweiten Trocknungsschritt einen Neigungswinkel von 85–95° und eine Drehzahl von 70–95 UpM aufweist.
Weiterhin wird bevorzugt, daß der Aufbringungsprozeß einen ersten Aufbringungsschritt, einen zweiten Aufbringungsschritt und einen dritten Aufbringungsschritt umfaßt, der Abschleuderprozeß einen ersten Abschleuderschritt und einen zweiten Abschleuderschritt und der Trocknungsprozeß einen ersten Trocknungsschritt und einen zweiten Trocknungsschritt umfaßt. Im ersten Aufbringungsschritt wird die Glasplatte mit einem vorbestimmten Neigungswinkel und einer vorbestimmten Drehzahl gedreht. Im zweiten Aufbringungsschritt nach dem ersten Aufbringungsschritt wird die Glasplatte mit einem breiteren Neigungswinkel als dem im ersten Aufbringungsschritt und einer niedrigeren Drehzahl als der im ersten Aufbringungsschritt gedreht. Im dritten Aufbringungsschritt nach dem zweiten Aufbringungsschritt wird die Glasplatte mit einer niedrigeren Drehzahl als der im zweiten Aufbringungsschritt gedreht. Im ersten Abschleuderschritt wird die Glasplatte mit einem vorbestimmten Neigungswinkel und einer vorbestimmten Drehzahl gedreht. Im zweiten Abschleuderschritt nach dem ersten Abschleuderschritt wird die Glasplatte mit einem breiteren Neigungswinkel als dem im ersten Abschleuderschritt und einer höheren Drehzahl als der im ersten Aufbringungsschritt gedreht. Im ersten Trocknungsschritt wird die Glasplatte mit einem vorbestimmten Neigungswinkel und einer vorbestimmten Drehzahl gedreht. Im zweiten Trocknungsschritt nach dem ersten Trocknungsschritt wird die Glasplatte mit einer Drehzahl gedreht, die mindestens so groß ist wie die im ersten Aufbringungsschritt.
Gemäß diesem Verfahren kann durch die Verwendung von Ecknäpfen mit ausgezeichneter Rückgewinnungseffizienz als Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern der Leuchtstoffschirm mit großen Leuchtstoffteilchen mit einer großen Luminanz ausgebildet werden. Folglich können das Kreuzphänomen, Wandflecken an einer Innenfläche und Außenfläche der Glasplatte, Auslaufen von Flüssigkeit auf die Innenfläche der Glasplatte oder dergleichen verhindert werden. Darüber hinaus kann der Leuchtstoffschirm gleichförmig ausgebildet werden. Somit kann eine CRT bereitgestellt werden, die eine mächtige Luminanzschwankung, eine große Luminanz und einen hohen Kontrast bereitstellt, was bei einem herkömmlichen Verfahren unmöglich war.
Es wird weiter bevorzugt, daß jedes oben beschriebene Leuchtstoffaufschlämmungrückgewinnungsglied ein kastenförmiges Objekt mit einer Öffnung und zur Innenseite des kastenförmigen Objekts nach oben gedrehten Teilen an der Kante der Öffnung ist.
Dementsprechend spritzt die einmal zurückgewonnene überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung nicht aus den Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern hinaus.
1 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Leuchtstoffschirmausbildungseinrichtung von der Seite, die bei Leuchtstoffschirmausbildungsprozessen gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
2 ist eine schematische Draufsicht auf die Leuchtstoffschirmausbildungseinrichtung.
3 ist eine teilweise weggeschnittene Vorderansicht eines Ecknapfs zum Zurückgewinnen einer Leuchtstoffaufschlämmung gemäß der vorliegenden Erfindung.
4 ist eine teilweise weggeschnittene Draufsicht auf den Ecknapf.
5 ist eine teilweise weggeschnittene Seitenansicht des Ecknapfs.
6 ist eine graphische Darstellung, die die Beziehung zwischen der Zeit und einer Plattendrehzahl in einem Aufbringungsprozeß gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
7 ist eine graphische Darstellung, die die Beziehung zwischen der Zeit und einem Plattenneigungswinkel θ in dem Aufbringungsprozeß gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
Ein spezifisches Beispiel für Prozesse zum Ausbilden eines in einem CMT verwendeten Leuchtstoffschirms mit einer Größe von 41 cm (17 Zoll) wird wie folgt erläutert.
Erste Ausführungsform
1 ist eine Querschnittsansicht einer Leuchtstoffschirmausbildungseinrichtung von der Seite, die bei Leuchtstoffschirmausbildungsprozessen gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
Wie in 1 gezeigt, ist eine Glasplatte 1, auf der eine schwarze Matrix ausgebildet worden ist, bezüglich einer vertikalen Achse unter einem vorbestimmten Neigungswinkel θ (im weiteren als "ein Plattenneigungswinkel θ" bezeichnet) positioniert. Dann wird eine aus einer Aufbringungsdüse 8 ausgetragene Leuchtstoffaufschlämmung 9 auf die Innenfläche der Glasplatte 1 gespritzt. In diesem Fall verläuft die Plattenneigungsachse 3 orthogonal zu einer Tangenten in der Mitte der Glasplatte 1 und fällt mit einer Röhrenachse der CRT zusammen. Die Glasplatte 1 ist auf einer Drehbasis 5 installiert und wird durch die Drehung einer Drehachse 7, die die Neigungsachse 3 als die Mittelachse aufweist, gedreht.
Wie in 2 gezeigt, sind in den vier Ecken der Glasplatte 1 jeweils Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsglieder 4 vorgesehen. Die Ecknäpfe sind so ausgelegt, daß sie beim Einführen und Entfernen der Glasplatte 1 durch eine Napfenklemmachse 11 bewegt werden. Die oben beschriebenen Teile sind mit einer äußeren Bühne 6 zu einer Einheit kombiniert, wodurch man eine Leuchtstoffschirmausbildungseinrichtung erhält.
3 ist eine teilweise weggeschnittene Vorderansicht eines Ecknapfs 4 (eine Öffnungsseite), 4 ist eine teilweise weggeschnittene Draufsicht und 5 ist eine teilweise weggeschnittene Seitenansicht von links. Wie in den 3-5 gezeigt, weist der Ecknapf quadratische und zylindrische zur Innenseite des Ecknapfs 4 an den Kanten einer Öffnung 31 nach oben gedrehte Teile 51 auf. Der Ecknapf empfängt überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung, die durch die Drehung der Glasplatte 1 abgeschleudert wird. Der Ecknapf ist so ausgelegt, daß es für die zurückgewonnene Leuchtstoffaufschlämmung schwierig ist, aus dem Ecknapf herauszuspritzen. Da der Ecknapf so ausgelegt ist, daß ein zwischen zwei konvexen Teilen 41 ausgebildeter konkaver Teil 42 eine Ecke der Glasplatte 1 innen hält, wird ein Verspritzen der Leuchtstoffaufschlämmung verhindert, was zu einer sicheren Rückgewinnung führt.

Die Leuchtstoffaufschlämmung 9 aus grünen Leuchtstoffen wird unter Verwendung der folgenden Materialien hergestellt.

Kupfer-Aktivzinksulfid-Leuchtstoffe (mit einer Teilchengröße von 8 μm)	25 Gew.-%
Polyvinylalkoholharz	2,5 Gew.-%
Ammoniumdichromat	0,25 Gew.-%
Tensid	0,03 Gew.-%
Antischaummittel	0,02 Gew.-%
Wasser	72,2 Gew.-%

Die obenerwähnten Materialien werden durch einen Propellermixer vermischt und dann unter Verwendung eines Dispergierers über einen festen Zeitraum dispergiert.
Zur Bereitstellung eines pH-Werts in einem Bereich von 7-9 wird zu der hergestellten Leuchtstoffaufschlämmung Ammoniumdichromat und Ammoniak hinzugegeben. Zur Vergrößerung der Haftfestigkeit der Leuchtstoffe kann ein Härtmittel (beispielsweise Primal C-72, hergestellt von ROHM AND HAAS COMPANY, oder dergleichen) zugesetzt werden oder ein Kugelmühlenprozeß kann durchgeführt werden.
Unter Verwendung der wie oben beschrieben hergestellten Leuchtstoffaufschlämmung 9 wird auf einer Innenfläche der Glasplatte 1, auf der eine schwarze Matrix ausgebildet worden ist, durch einen zweistufigen Aufbringungsprozeß, einen Abschleuderprozeß und einen zweistufigen Trocknungsprozeß wie unten beschrieben ein vorbestimmter Leuchtstoffschirm ausgebildet.
Etwa 30 cm³ der von der Aufbringungsdüse 8 zugeführten Leuchtstoffaufschlämmung 9 werden auf die Innenfläche der Glasplatte 1 gespritzt. Wie in 1 gezeigt, wird die Leuchtstoffaufschlämmung 9, während die Glasplatte 1 bezüglich einer vertikalen Achse 2 geneigt ist, über die ganze Fläche der Glasplatte 1 verteilt und dann setzen sich Leuchtstoffteilchen ausreichend ab (ein erster Aufbringungsschritt). Wenn in diesem Fall die Menge an aufzuspritzender Leuchtstoffaufschlämmung zu groß ist, entsteht aufgrund des Verspritzens der Aufschlämmung an einem peripheren Teil der Glasplatte 1 leicht Schaum. Wenn im Gegensatz die Menge der aufzuspritzenden Leuchtstoffaufschlämmung zu klein ist, kann die Aufschlämmung nicht ausreichend auf eine effektive Fläche der Innenfläche der Glasplatte 1 aufgebracht werden. Im Fall einer 41 cm großen Glasplatte beträgt die Menge deshalb bevorzugt 7–40 cm³, und die optimale Menge beträgt 28–35 cm³.
Der erste Aufbringungsschritt verwendet einen Plattenneigungswinkel θ von 10° und eine Drehzahl (im weiteren als "Plattendrehzahl" bezeichnet) von 13 UpM, wenn die Glasplatte 1 mit der Plattenneigungsachse 3 als der Mitte der Drehung gedreht wird. Wenn der Plattenneigungswinkel θ zu breit ist, entsteht dabei Schaum. Wenn im Gegensatz der Plattenneigungswinkel θ zu schmal ist, verteilt sich die Leuchtstoffaufschlämmung 9 nicht ausreichend über die Innenfläche der Glasplatte 1. Es wird deshalb bevorzugt, daß der Plattenneigungswinkel θ etwa 5°–15° und besonders bevorzugt 10° beträgt. Bei dieser Ausführungsform wird die Glasplatte 1 bezüglich der Drehbasis 5 mit nach oben weisender Innenfläche der Glasplatte 1 entgegen dem Uhrzeigersinn gedreht. Die Bedingung ist jedoch nicht darauf beschränkt.
Als nächster Schritt wird bei Änderung des Plattenneigungswinkels θ zu 23° bewirkt, daß die Leuchtstoffaufschlämmung 9 zum peripheren Teil der Glasplatte 1 strömt und sich Leuchtstoffteilchen in der Leuchtstoffaufschlämmung 9 bei einer Plattendrehzahl von 5 UpM ausreichend absetzen (ein zweiter Aufbringungsschritt). Beim zweiten Aufbringungsschritt wird die Plattendrehzahl auf eine Drehzahl eingestellt, bei der die Leuchtstoffaufschlämmung 9 ausreichend zum peripheren Teil der Innenfläche der Glasplatte 1 strömen kann.
Dann wird der Plattenneigungswinkel θ bezüglich der vertikalen Achse 2 schnell auf 110° verändert, und gleichzeitig wird die Plattendrehzahl auf 190 UpM erhöht. Wie in 2 gezeigt, wird überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung abgeschleudert und in den Ecknäpfen zurückgewonnen, und die Fläche, auf der die Leuchtstoffaufschlämmung aufgebracht worden ist, wird glatt (ein Abschleuderprozeß). Beim Abschleuderprozeß beträgt unter Berücksichtigung der Gleichförmigkeit des Leuchtstoffschirms und durch Verspritzen der Leuchtstoffaufschlämmung verursachten Flecken der Plattenneigungswinkel θ bevorzugt 65°-115°. Die Plattendrehzahl liegt bevorzugt im Bereich von etwa 150–250 UpM. Wie in 2 gezeigt, sind die Verspritzrichtungen 10 der überschüssigen Leuchststoffaufschlämmung der Drehrichtung 12 der Glasplatte 1 relativ zur Neigungsachse 3 entgegengesetzt.
Danach wird der Plattenneigungswinkel θ auf 90° verändert und die Plattendrehgeschwindigkeit wird auf 50 UpM gesenkt. Die auf die Innenfläche der Glasplatte 1 aufgebrachte Leuchtstoffaufschlämmung wird durch ein äußeres Infrarotheizgerät getrocknet (ein Trocknungsprozeß). Zu diesem Zeitpunkt kann zum Verkürzen der Trocknungszeit zusätzlich zu der Erwärmung durch das Infrarotheizgerät Heißluft auf die Innenfläche der Glasplatte 1 geblasen werden. Bei diesem Trocknungsprozeß beträgt der Plattenneigungswinkel θ bevorzugt 85°-95° und besonders bevorzugt 90°. Wenn jedoch ein Leuchtstoffschirm mit einer zweiten oder dritten Farbe ausgebildet wird, liegt durch das Vorliegen der Basis ein Einfluß vor. Es ist deshalb notwendig, den Plattenneigungswinkel θ im Vergleich zu dem bei der Ausbildung eines Leuchtstoffschirms der ersten Farbe zu vergrößern. In diesem Fall beträgt der Plattenneigungswinkel θ besonders bevorzugt 91°.
Die Plattendrehzahl beim Trocknungsprozeß beträgt im ersten Trocknungsschritt bevorzugt 30–70 UpM und in einem auf den ersten Trocknungsschritt folgenden zweiten Trocknungsschritt 70–95 UpM. Im ersten Trocknungsschritt beginnt der Leuchtstoffschirm auf der Innenfläche der Glasplatte 1 zu trocknen, und die Trocknung setzt sich über fast den ganzen Bereich der effektiven Fläche der Glasplatte 1 fort. Wenn ein Leuchtstoffschirm mit einer zweiten oder späteren Farbe ausgebildet wird, wird besonders bevorzugt, daß die Plattendrehzahl im ersten Trocknungsschritt 30–40 UpM beträgt.
Eine Lochmaske wird an der Glasplatte montiert, auf die grüne Leuchtstoffe aufgebracht und dann gemäß den obenerwähnten Prozessen getrocknet werden. Dann wird die Glasplatte Ultraviolettstrahlen ausgesetzt und entwickelt, wodurch ein aus grünen Leuchtstoffen bestehender Leuchtstoffschirm gebildet wird. Der unter den oben beschriebenen Herstellungsbedingungen erhaltene Leuchtstoffschirm weist im Mittelteil eine Punktgröße von 145 μm und am peripheren Teil von 147 μm auf. An der Innenfläche der Glasplatte fand man keine Haftung der grünen Leuchtstoffe an Löchern für die anderen Farben (auf der Glasfläche). Wenn die Haftstärke der Leuchtstoffe gering ist, kann die ganze Fläche mit schwacher Beleuchtung von der Außenfläche der Glasplatte aus mit Ultraviolettstrahlen belichtet werden.
Als nächster Schritt werden ein aus blauen Leuchtstoffen ausgebildeter Leuchtstoffschirm und ein aus roten Leuchtstoffen ausgebildeter Leuchtstoffschirm sequentiell durch die gleichen Prozesse ausgebildet wie diejenigen, die zur Ausbildung des aus den grünen Leuchtstoffen ausgebildeten Leuchtstoffschirms verwendet wurden. Bezüglich der Reihenfolge der Ausbildung der Leuchtstoffschirme werden in dieser Ausführungsform die aus grünen, blauen und roten Leuchtstoffen ausgebildeten Leuchtstoffschirme sequentiell ausgebildet. Sie können jedoch in der Reihenfolge der aus blauen, grünen und roten Leuchtstoffen ausgebildeten Leuchtstoffschirme ausgebildet werden. Die Reihenfolge ist nicht auf die obenerwähnten beschränkt, solange eine Kathodenstrahlröhre die Standards hinsichtlich Weißqualität, Farbdifferenz und dergleichen erfüllt. Wenn jedoch die Ungleichmäßigkeit bei der Aufbringung oder Farbmischung berücksichtigt wird, wird bevorzugt eine der obenerwähnten Reihenfolgen verwendet.
Der durch das obenerwähnte Verfahren erhaltene Leuchtstoffschirm wies hinsichtlich der blauen Leuchtstoffe im Mittelteil eine Punktgröße von 144 μm und am peripheren Teil von 146 μm auf. Bezüglich der roten Leuchtstoffe wies der Leuchtstoffschirm im Mittelteil eine Punktgröße von 143 μm und am peripheren Teil von 146 μm auf. An den Rückseiten der grünen Leuchtstoffe hafteten etwa eins bis zwei blaue und rote Leuchtstoffteilchen pro Länge von 200 μm. Außerdem wurden die an den Rückseiten der blauen Leuchtstoffe haftenden roten Leuchtstoffe kaum beobachtet.
Danach wird durch die gleiche Vorgehensweise wie die, die zum Aufbringen und Trocknen der Leuchstoffaufschlämmung verwendet wurde, auf dem Leuchtstoffschirm ein Film aus einer Acrylemulsionslösung (B-74, hergestellt von ROHM AND HAAS COMPANY) ausgebildet. In diesem Fall ist der Plattenneigungswinkel der gleiche wie der im Fall der Leuchtstoffe, und für alle Prozesse mit Ausnahme des Abschleuderprozesses wird eine Platteneigendrehzahl von 10 UpM verwendet. Dann wird durch Auminiumverdampfung ein Aluminiumfilm ausgebildet. Schließlich werden die Lochmaske, ein Trichter, eine magnetische Abschirmung und dergleichen eingebaut und eine Elektronenkanone umschlossen, wodurch man nach der Evakuierung eine Kathodenstrahlröhre (einen fertiggestellten Kolben) erhält.
Die Charakteristiken, die Leistungsbewertung und dergleichen des Leuchtstoffschirms und der Kathodenstrahlröhre, die in dieser Ausführungsform erhalten wurden, werden später beschrieben.
Zweite Ausführungsform
Bei dieser Ausführungsform wird ein dritter Aufbringungsschritt zu einem Aufbringungsprozeß hinzugefügt, und ein Abschleuderprozeß umfaßt zwei Schritte: einen ersten Abschleuderschritt und eine zweiten Abschleuderschritt.
Bei einem ersten Aufbringungsschritt, der einen Plattenneigungswinkel θ von 5° und eine Plattendrehzahl von 8 UpM verwendet, und bei einem zweiten Aufbringungsschritt, der einen Plattenneigungswinkel θ von 28° und eine Plattendrehzahl von 6 UpM verwendet, werden Leuchtstoffteilchen über den ganzen effektiven Bereich einer Innenfläche einer Glasplatte verteilt und scheiden sich ausreichend ab. Durch Senken der Plattendrehzahl auf 5 UpM im dritten Aufbringungsschritt wird weiterhin bewirkt, daß eine Leuchtstoffaufschlämmung ausreichend zu einem peripheren Teil der Innenfläche der Glasplatte strömt.
Während des Abschleuderprozesses wird im ersten Abschleuderschritt mit einem Plattenneigungswinkel θ von 50° und einer Plattendrehzahl von 110 UpM überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung in Ecknäpfen zurückgewonnen. In diesem Fall werden auf der Glasplatte um so weniger Flecken hervorgerufen, um so schmaler der Plattenneigungswinkel θ ist. Jedoch kann keine gleichförmige Filmdicke des Leuchtstoffschirms aufrechterhalten werden. Deshalb beträgt der Plattenneigungswinkel θ bevorzugt etwa 40°–80° und ganz besonders bevorzugt ungefähr 50°. Die Plattendrehzahl beträgt bevorzugt 100–150 UpM.
Danach wird im zweiten Abschleuderschritt durch Ändern des Plattenneigungswinkels θ auf 110° und Vergrößern der Plattendrehzahl auf 180 UpM überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung abgeschleudert und die Fläche, auf die die Leuchtstoffaufschlämmung aufgebracht worden ist, wird geglättet. In diesem Fall beträgt der Plattenneigungswinkel θ bevorzugt 65°-115° und die Plattendrehzahl beträgt 150-250 UpM.
Der sich anschließende Trocknungsprozeß und der weitere Prozeß sind die gleichen wie in der ersten Ausführungsform. So wird ein Leuchtstoffschirm ausgebildet.
Dritte Ausführungsform
Bei dieser Ausführungsform wird ein Aufbringungsprozeß durchgeführt, der die in den 6 und 7 gezeigten Abläufe verwendet. In den 6 und 7 wird gezeigt, wie bei Verstreichen der Zeit im Aufbringungsprozeß die Plattendrehzahl beziehungsweise der Plattenneigungswinkel θ geändert werden.
Bei einem ersten Aufbringungsschritt werden ein Plattenneigungswinkel θ von 15° und eine Plattendrehzahl von 33 UpM verwendet. Um eine Leuchtstoffaufschlämmung 9 auf einer Innenfläche einer Glasplatte über den größtmöglichen Bereich zu verteilen und eine Ungleichmäßigkeit der Leuchtstoffaufschlämmung 9 radial zur Peripherie der Glasplatte zu verhindern, beträgt die Plattendrehzahl bevorzugt 30-40 UpM und die optimale Drehzahl ungefähr 33 UpM. Ein zu breiter Plattenneigungswinkel θ bewirkt aufgrund schneller Flüssigkeitsströmung, daß Schaum entsteht. Wenn im Gegensatz der Plattenneigungswinkel θ zu schmal ist, verteilt sich die Phosphoraufschlämmung 9 nicht ausreichend über die Innenfläche der Glasplatte. Der Plattenneigungswinkel θ beträgt deshalb bevorzugt etwa 10°–20° und der optimale Winkel θ beträgt ungefähr 15°.
Bei einem zweiten Aufbringungsschritt wird während der kontinuierlichen Änderung des Plattenneigungswinkels θ von 15° auf 30° die Plattendrehzahl auf 10 UpM verändert. weiterhin wird in einem dritten Aufbringungsschritt, während der Plattenneigungswinkel θ von 30° unverändert gehalten wird, die Plattendrehzahl auf 5 UpM gesenkt.
Ein nachfolgender Abschleuderprozeß verwendet einen Plattenneigungswinkel θ von 110° und eine Plattendrehzahl von 170 UpM.
Ein nachfolgender Trocknungsprozeß und der weitere Prozeß sind die gleichen wie in der ersten Ausführungsform. So wird ein Leuchtstoffschirm ausgebildet.
Vierte Ausführungsform
Bei dieser Ausführungsform wird ein Aufbringungsprozeß gemäß den in 6 und 7 gezeigten Abläufen wie in der dritten Ausführungsform ausgeführt, und ein Abschleuderprozeß wird in zwei Schritten wie in der zweiten Ausführungsform durchgeführt.
Ein erster Abschleuderschritt verwendet einen Plattenneigungswinkel θ von 50° und eine Plattendrehzahl von 110 UpM. Ein zweiter Abschleuderschritt verwendet einen Plattenneigungswinkel θ von 110° und eine Plattendrehzahl von 170 UpM.
Ein sich anschließender Trocknungsprozeß und der weitere Prozeß sind die gleichen wie in der ersten Ausführungsform. So wird ein Leuchtstoffschirm ausgebildet.
Auswertung des Leuchtstoffschirms
Bei der Glasplatte, auf der ein Leuchtstoffschirm in jeder oben beschriebenen Ausführungsform ausgebildet worden war, wurden das Erscheinungsbild des Leuchtstoffschirms (ein Aufbringungsmuster, ein Zustand, daß eine Leuchtstoffaufschlämmung um einen Zapfen herum kleben bleibt, ein Fleckenbildungszustand an einer Innenwand, Auslaufen von Flüssigkeit von den Ecknäpfen) ausgewertet. Dann wurde die Gewichtsverteilung (das Verhältnis aus dem Mittelteil und dem peripheren Teil) des Leuchtstoffschirms ausgewertet. Die Luminanz, die Luminanzschwankung, die Farbdifferenz und dergleichen wurden gemessen, indem veranlaßt wurde, daß die fertiggestellten Proben (fertiggestellten Kolben) experimentell Licht emittierten. Hinsichtlich der Ergebnisse der obenerwähnten Auswertung und Messung zeigt Tabelle 1 die Auswertungsergebnisse des Aufbringungsmusters, des Zustands, daß eine Leuchtstoffaufschlämmung um einen Zapfen herum kleben bleibt, des Fleckenbildungszustands an einer Innenwand, des Auslaufens von Flüssigkeit aus den Ecknäpfen und der Gewichtsverteilung (das Verhältnis des Mittelteils und des peripheren Teils) des Leuchtstoffschirms, und Tabelle 2 zeigt die Meßergebnisse der Luminanz der fertiggestellten Kolben.
Tabelle 1
Tabelle 2
Beim ersten bis dritten Vergleichsbeispiel wurde unter den folgenden Bedingungen ein Leuchtstoffschirm ausgebildet.
Beim ersten Vergleichsbeispiel wurde der Leuchtstoffschirm unter den gleichen Bedingungen wie bei der ersten Ausführungsform ausgebildet, mit Ausnahme der Drehzahl von 13 UpM im ersten und zweiten Aufbringungsschritt und dem konstanten Plattenneigungswinkel θ von 110° im Trocknungsprozeß. Bei diesem Vergleichsbeispiel wurde kaum eine Haftung von grünen Leuchtstoffen an Löchern anderer Farbe beobachtet. Jedoch wurde während des Trocknungsprozesses aus den Ecknäpfen Leuchtstoffaufschlämmung verspritzt, wodurch ein starkes Phänomen verursacht wurde, daß die Leuchtstoffaufschlämmung um einen Zapfen herum klebt, und intensive Wandflecken. Pro Länge von 200 μm wurden einige wenige blaue und rote Leuchtstoffteilchen gefunden, die an den Rückseiten von grünen Leuchtstoffen hafteten. Jedoch waren die an den Rückseiten der blauen Leuchtstoffe haftenden roten Leuchtstoffe auf dem gleichen Niveau wie in der ersten Ausführungsform.
Beim zweiten Vergleichsbeispiel wurde der Leuchtstoffschirm unter den gleichen Bedingungen wie in der ersten Ausführungsform ausgebildet, mit Ausnahme der Drehzahl von 13 UpM im ersten und zweiten Aufbringungsschritt und der konstanten Plattendrehzahl von 110 UpM im Trocknungsprozeß. Bei diesem Vergleichsbeispiel wurden auch an einer Belichtungsplattform bei der Ausbildung eines blauen Leuchtstoffschirms und eines roten Leuchtstoffschirms ein schwaches Kreuzphänomen und ein starkes Kreuzphänomen angetroffen. Pro Länge von 200 μm fand man etwa ein oder zwei blaue und rote Leuchtstoffteilchen, die an den Rückseiten der grünen Leuchtstoffteilchen hafteten. Jedoch waren die an den Rückseiten der blauen Leuchtstoffe haftenden roten Leuchtstoffe auf dem gleichen Niveau wie bei der ersten bis vierten Ausführungsform.
Beim dritten Vergleichsbeispiel wird der Leuchtstoffschirm unter den gleichen Bedingungen wie bei der ersten Ausführungsform ausgebildet, mit Ausnahme der Drehzahl von 13 UpM im ersten und zweiten Aufbringungsschritt und dem konstanten Plattenneigungswinkel θ von 25° im Abschleuderprozeß. Nach einem Trocknungsprozeß wies der Leuchtstoffschirm bei diesem Beispiel einen ungleichmäßigen Mittelteil auf einer Platte und eine schlechte Aufbringungsgewichtsverteilung auf. Pro Länge von 200 μm fand man etwa ein bis drei blaue und rote Leuchtstoffteilchen, die an den Rückseiten der grünen Leuchtstoffe hafteten. Jedoch waren die an den Rückseiten der blauen Leuchtstoffe haftenden roten Leuchtstoffe auf dem gleichen Niveau wie in der ersten bis vierten Ausführungsform.
Die Charakteristiken der in der ersten bis vierten Ausführungsform erhaltenen Leuchtstoffschirme werden im Vergleich zu den obenerwähnten Vergleichsbeispielen wie folgt erläutert.
In Tabelle 1 zeigt eine Spalte "Aufbringungsmuster" eine ungleichmäßige Ausbildung der auf der Glasplatte ausgebildeten Leuchtstoffschirmfläche nach den Aufbringungs- und Trocknungsprozessen. Eine Spalte "Um Zapfen klebende Leuchtstoffaufschlämmung" zeigt einen Klebegrad der Leuchtstoffaufschlämmung um einen Zapfen zur Montage einer Maske bei der Ausbildung des Schirms. Eine Spalte "Wandflecken" zeigt einen Fleckenbildungsgrad einer Innenwand durch die verspritzte Leuchtstoffaufschlämmung. Eine Spalte "Auslaufen von Flüssigkeit" zeigt einen Verspritzungsgrad der zurückgewonnenen Leuchtstoffaufschlämmung aus den Ecknäpfen nach außen. Jeder Zustand wird in drei Stufen ausgewertet, und zwar mit den Markierungen O, Δ und x, wobei O, Δ und x gut, mittel beziehungsweise schlecht angeben.
Eine Spalte "Leuchtstoffschirm-Gewichtsverteilung" zeigt das Gewichtsverhältnis eines Leuchtstoffschirms an dem peripheren Teil und dem Mittelteil einer Glasplatte. Im Grunde ist es wünschenswert, daß die Leuchtstoffschirm-Gewichtsverteilung über den ganzen Bereich des Leuchtstoffschirms hinweg 100 beträgt. Es müssen bezüglich des Mittelteils (100) am peripheren Teil mindestens etwa 85% erreicht werden. Deshalb kann die Leuchtstoffschirm-Gewichtsverteilung im Bereich von etwa 90-110% als ein besserer Zustand definiert werden.
In Tabelle 2 gibt W_Br eine praktische Weißluminanz (cd/m²) und W_B die Weißemissionseffizienz (cd/m²) an. Weiterhin ist auch ein Luminanzverhältnis W_cr (%) des peripheren Teils der Glasplatte bezüglich des Mittelteils von 100 als Luminanzschwankung angegeben. Um die Abnahme der Luminanz am peripheren Teil bezüglich des Mittelteils so wenig wie möglich einzuschränken, beträgt das Luminanzverhältnis des peripheren Teils bevorzugt 90-105%.
Wie oben beschrieben kann, wenn jede Ausführungsform und jedes Vergleichsbeispiel verglichen werden, wie aus den Auswertungs- und Meßergebnissen hervorgeht, mit der vorliegenden Erfindung ein gleichförmiger Leuchtstoffschirm mit einem ausgezeichneten Aufbringungsmuster ausgebildet werden. Außerdem kann man eine Kathodenstrahlröhre mit ausgezeichneter Weißqualität, einer hohen Luminanz und einer geringen Ungleichmäßigkeit bei der Luminanz erhalten.
Bei jeder oben beschriebenen Ausführungsform wurde eine 41 cm große Glasplatte mit einer Transmission von 52% verwendet. Die Glasplatte ist jedoch nicht darauf beschränkt. Wenn eine Glasplatte mit einer anderen Transmission oder Größe verwendet wird, kann man durch Einsatz der Verfahren der vorliegenden Erfindung den gleichen Effekt wie bei den vorliegenden Ausführungsformen erhalten, und zwar durch Einstellung der Art von Beschichtungsfilm auf der Fläche der Glasplatte, eines Einspritzvolumens der Leuchtstoffaufschlämmung aus der Aufbringungsdüse, der Plattendrehzahl bei jedem Prozeß und dergleichen.
Die Leuchtstoffe mit einer Teilchengröße von 8 μm wurden für die Leuchtstoffaufschlämmung in den vorliegenden Ausführungsformen verwendet. Wenn man sich die Emissionseffizienz ansieht, dann ist die Teilchengröße um so bevorzugter, je größer sie ist. Jedoch können auch Leuchtstoffe mit einer geringen Teilchengröße von 4 μm oder dergleichen verwendet werden.

Claims

Verfahren zum Ausbilden eines Leuchtstoffschirms auf einer Innenfläche einer Glasplatte einer Kathodenstrahlröhre, wobei das Verfahren folgendes umfaßt: – einen Aufbringungsprozeß, bei dem eine Leuchtstoffaufschlämmung (9) auf eine Innenfläche einer Glasplatte (1) gespritzt und die Glasplatte (1) bezüglich einer vertikalen Achse (2) geneigt und gedreht wird, um die Leuchtstoffaufschlämmung (9) über fast den ganzen Bereich der Innenfläche der Glasplatte (1) zu verteilen; – einen Abschleuderprozeß, bei dem durch Drehen der Glasplatte (1) mit einer Neigung überschüssige Leuchtstoffaufschlämmung abgeschleudert wird, und die Leuchtstoffaufschlämmung in in Ecken der Glasplatte (1) vorgesehenen Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsgliedern (4) zurückgewonnen wird; – einen Trocknungsprozeß, bei dem durch Drehen der Glasplatte (1) mit einer Neigung die auf die Innenfläche der Glasplatte aufgebrachte Leuchtstoffaufschlämmung (9) getrocknet wird, wobei der Neigungswinkel und die Drehzahl der Glasplatte (1) bei mindestens einem der Prozesse Aufbringungsprozeß, Abschleuderprozeß und Trocknungsprozeß in mindestens zwei Schritten geändert werden.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Aufbringungsprozeß einen ersten Aufbringungsschritt und nach dem ersten Aufbringungsschritt einen zweiten Aufbringungsschritt umfaßt, bei dem die Glasplatte (1) mit einem breiteren Neigungswinkel als dem in dem ersten Aufbringungsschritt und einer niedrigeren Drehzahl als der im ersten Aufbringungsschritt gedreht wird.
Verfahren nach Anspruch 2, wobei der Aufbringungsprozeß weiterhin nach dem zweiten Aufbringungsschritt einen dritten Aufbringungsschritt umfaßt und bei dem dritten Aufbringungsschritt die Glasplatte (1) mit einer niedrigeren Drehzahl als der im zweiten Aufbringungsschritt gedreht wird.
Verfahren nach Anspruch 3, wobei die Glasplatte (1) im ersten Aufbringungsschritt einen Neigungswinkel von 5°–20° aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Abschleuderprozeß einen ersten Abschleuderschritt und nach dem ersten Abschleuderschritt einen zweiten Abschleuderschritt umfaßt, bei dem die Glasplatte (1) mit einem breiteren Neigungswinkel als dem im ersten Abschleuderschritt und einer höherer. Drehzahl als der im Aufbringungsprozeß gedreht wird.
Verfahren nach Anspruch 5, wobei die Glasplatte (1) in dem ersten Abschleuderschritt einen Neigungswinkel von 40°–80° und eine Drehzahl von 100–150 Umdrehungen pro Minute und im zweiten Abschleuderschritt einen Neigungswinkel von 65°–115° und eine Drehzahl von 150-250 Umdrehungen pro Minute aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Trocknungsprozeß einen ersten Trocknungsschritt und nach dem ersten Trocknungsschritt einen zweiten Trocknungsschritt umfaßt, bei dem die Glasplatte (1) mit einer Drehzahl gedreht wird, die mindestens so groß ist wie die im Aufbringungsprozeß.
Verfahren nach Anspruch 7, wobei die Glasplatte (1) im ersten Trocknungsschritt einen Neigungswinkel von 85°-95° und eine Drehzahl von 30–70 Umdrehungen pro Minute und im zweiten Trocknungsschritt einen Neigungswinkel von 85°–95° und eine Drehzahl von 70-95 Umdrehungen pro Minute aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Aufbringungsprozeß folgendes umfaßt: – einen ersten Aufbringungsschritt, bei dem die Glasplatte mit einem vorbestimmten Neigungswinkel und mit einer vorbestimmten Drehzahl gedreht wird; – nach dem ersten Aufbringungsschritt einen zweiten Aufbringungsschritt, bei dem die Glasplatte (1) mit einem breiteren Neigungswinkel als dem im ersten Aufbringungsschritt und einer niedrigeren Drehzahl als der im ersten Aufbringungsschritt gedreht wird; und – nach dem zweiten Aufbringungsschritt einen dritten Aufbringungsschritt, bei dem die Glasplatte (1) mit einer niedrigeren Drehzahl als der im zweiten Aufbringungsschritt gedreht wird, – wobei der Abschleuderprozeß folgendes umfaßt: – einen ersten Abschleuderschritt, bei dem die Glasplatte (1) mit einem vorbestimmten Neigungswinkel und mit einer vorbestimmten Drehzahl gedreht wird; und – nach dem ersten Abschleuderschritt einen zweiten Abschleuderschritt, bei dem die Glasplatte (1) mit einem breiteren Neigungswinkel als dem im ersten Abschleuderschritt und einer höheren Drehzahl als der im ersten Aufbringungsschritt gedreht wird, und – der Trocknungsprozeß folgendes umfaßt: – einen ersten Trocknungsschritt, bei dem die Glasplatte (1) mit einem vorbestimmten Neigungswinkel und einer vorbestimmten Drehzahl gedreht wird; und – nach dem ersten Trocknungsschritt einen zweiten Trocknungsschritt, bei dem die Glasplatte (1) mit einer Drehzahl gedreht wird, die mindestens so hoch ist wie die im ersten Aufbringungsschritt.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei jedes Leuchtstoffaufschlämmungsrückgewinnungsglied (4) ein kastenförmiges Objekt mit einer Öffnung (31) und zur Innenseite des kastenförmigen Objekts nach oben gedrehten Teilen (51) an der Kante der Öffnung (31) ist.