DE3236387C2

DE3236387C2 -

Info

Publication number: DE3236387C2
Application number: DE3236387A
Authority: DE
Inventors: Takeo Fukaya Saitama Jp Itou; Shingo Himeji Hyogo Jp Watanabe
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1981-10-20
Filing date: 1982-10-01
Publication date: 1987-09-17
Also published as: DE3236387A1; KR840002154A; JPS5868834A

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Leuchtstoffschirms nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.

Die streifen- oder punktförmig rot-, grün- und blau- emittierenden Leuchtstoffe, die den Leuchtstoffschirm einer Farbkathodenstrahlröhre bilden, werden üblicherweise erzeugt, indem man aus einer Mischung aus dem Leuchtstoff und einem Photoresistmaterial, z. B. einer Mischung aus Ammoniumbichromat und Polyvinylalkohol, eine Suspension zubereitet, diese auf die Innenseite einer Frontplatte aufträgt, die erhaltene lichtempfindliche Schicht mit Hilfe einer Schattenmaske mittels UV-Strahlen belichtet und die nicht-belichteten Bezirke entwickelt und entfernt. In der Regel wird das geschilderte "Suspensionsverfahren" einzeln für den blau-, grün- und rotemittierenden Leuchtstoff durchgeführt.

Nachteilig an dem Suspensionsverfahren ist jedoch, daß die UV-Strahlen an den bei der Belichtung noch vorhandenen Leuchtstoffteilchen gestreut werden. Dies führt dazu, daß die Breite des Leuchtstoffstreifens bzw. der Leuchtstofflinie erhöht wird und die Streifen- bzw. Linienkante nicht genügend scharf ist. Infolge unzureichender Belichtung sinkt der Ausstoß an dem gewünschten Produkt, und die Brillanz bzw. Helligkeit des Leuchtstoffschirms nimmt ab. Darüber hinaus können Leuchtstoffe hoher Brillanz bzw. Helligkeit, z. B. Calciumsulfid oder Lanthanoxysulfid, die bei Anwesenheit eines Photoresistmaterials zur Gelierung neigen, nicht verwendet werden.

Neben den geschilderten Suspensionsverfahren gibt es auch noch sogenannte "Trockenverfahren", z. B. elektrophotographische Verfahren. Hierbei wird ein Gemisch aus einem Photoresistmaterial und einem Klebstoff auf die Innenseite der Frontplatte aufgetragen. Danach werden auf das Gemisch aus Photoresistmaterial und Klebstoff Leuchtstoffteilchen aufgesprüht, um sie an den belichteten Stellen zum Haften zu bringen. Andererseits können auf die Innenseite der Frontplatte ein Photoresistmaterial und ein elektrisch leitendes Material aufgetragen werden. Danach wird das Ganze elektrisch aufgeladen und belichtet, wobei ein latentes elektrostatisches Bild entsteht. Auf diesem bleiben dann die Leuchtstoffteilchen durch elektrostatische Anziehung haften. Bei den geschilderten Trockenverfahren treten die Nachteile des Suspensionsverfahrens nicht auf. Anders als bei dem Suspensionsverfahren, bei welchem die einzelnen Leuchtstoffteilchen ohne Koagulation dispergiert werden, können die in Pulverform applizierten Leuchtstoffteilchen lokal koagulieren. Folglich entstehen, wie aus Fig. 1 hervorgeht, Leuchtstoffschichten 10 ungleichmäßigen Musters mit einer Menge Löcher. Darüber hinaus wirkt die Anziehungskraft lediglich an der Grenzfläche zwischen einer vorher belichteten Photoresistschicht 11 und Leuchtstoffteilchen 10 a. Mit 12 ist in Fig. 1 die Frontplatte selbst bezeichnet. Im Prinzip ist es fast unmöglich, einen Leuchtstoffschirm einer Stärke (durchschnittliche Teilchengröße der Leuchtstoffteilchen in µm × 1,3), die üblicherweise eine maximale Helligkeit oder Brillanz gewährleistet, herzustellen. Die Brillanz bzw. Helligkeitsabnahme läßt sich aus den geschilderten Gründen nicht vermeiden.

Da schließlich lediglich eine schwache Haftung erreicht wird, können die Leuchtstoffteilchen infolge von Zugkräften beim Auftragen eines organischen Films auf die an der Unterlage "haftenden" Leuchtstoffteilchen von der Leuchtstoffschicht abfallen. Fehlerhafte Leuchtstoffschichten bilden jedoch ein erhebliches Problem.

Im einzelnen ist aus der DE-OS 29 42 999 ein Trockenverfahren zur Herstellung eines Leuchtstoffschirmes bekannt. Bei diesem Verfahren wird eine auf eine Unterlage befindliche lichtempfindliche Schicht selektiv belichtet, um die belichteten Stellen viskos zu machen, worauf auf den viskosen Stellen ein pulverförmiger Leuchtstoff abgelagert und zum Haften gebracht wird. Der auf den nicht- viskosen Stellen befindliche Leuchtstoff wird später mit Luft weggeblasen. Auch bei diesem Verfahren wirkt die Anziehungs- bzw. Bindekraft lediglich an der Grenzfläche zwischen dem Bildmuster auf der zunächst lichtempfindlichen Schicht und dem pulverförmigen Leuchtstoff, so daß zwischen dem abgelagerten Leuchtstoffpulver und dem Bild oder Muster auf der zunächst lichtempfindlichen Schicht zahlreiche Löcher entstehen. Dadurch wird aber die Oberfläche der Leuchtstoffschicht uneben und die Brillanz vermindert.

Aus der DE-OS 29 04 879 ist es bekannt, auf der Oberfläche von Leuchtstoffteilchen ein Pigment abzulagern, indem eine Pigmentsuspension einer Leuchtstoffsuspension einverleibt wird.

Aus der US-PS 28 40 470 ist ein Verfahren zum Herstellen eines Dreifarben-Leuchtstoffschirmes bekannt, bei dem zunächst eine Schirmoberfläche mit einem ersten unter Einwirkung von Licht härtbaren und bei Wärme verdampfenden ersten Film aus einem lichtempfindlichen, organischen Kolloid belegt wird. Ausgewählte Bereiche dieses Films werden sodann über eine Maske belichtet, um die ausgewählten Bereiche zu härten. Die nicht-belichteten Bereiche des Films werden abgetragen, so daß Vertiefungen an Stellen entsprechend diesen nicht-belichteten Bereichen entstehen. Diese Vertiefungen werden sodann aber mit einem ersten Leuchtstoff gefüllt, und der erste Leuchtstoff wird an der Schirmoberfläche zum Anhaften gebracht. Die belichteten und unter Einwirkung von Licht gehärteten Bereiche des ersten Filmes werden sodann abgetragen. Es folgt sodann ein Beschichten der Schirmoberfläche mit einem zweiten, unter Einwirkung von Licht härtbaren und bei Wärme verdampfenden Film eines lichtempfindlichen, organischen Kolloids. Zuvor nicht belichtete, bestimmte Bereiche des zweiten Films werden Licht über eine Maske ausgesetzt, um diese bestimmten Bereiche zu härten. Unbelichtete Bereiche werden abgetragen, um Vertiefungen an Stellen entsprechend diesen unbelichteten Bereichen zurückzulassen. Diese Vertiefungen werden mit einem zweiten Leuchtstoff gefüllt, und der zweite Leuchtstoff wird zum Anhaften an der Schirmoberfläche gebracht. Die belichteten und unter Lichteinwirkung gehärteten Bereiche des zweiten Filmes werden abgetragen. Der Schirm wird sodann mit einem dritten, unter Lichteinwirkung härtbaren und bei Wärme verdampfenden Film eines lichtempfindlichen, organischen Kolloids belegt. Zuvor nicht belichtete, bestimmte Bereiche dieses dritten Filmes werden über eine Maske belichtet, um die bestimmten Bereiche zu härten. Die nicht-belichteten Bereiche werden abgetragen, um Vertiefungen an Stellen entsprechend den nicht-belichteten Bereichen zurückzulassen. Diese Vertiefungen werden mit einem dritten Leuchtstoff gefüllt, der zum Anhaften an der Schirmoberfläche gebracht wird. Schließlich erfolgt eine Wärmebehandlung, um die verbleibenden Teile der unter Lichteinwirkung gehärteten Filme zu verdampfen.

Aus der DE-OS 28 22 836 ist ein mit Hilfe eines photographischen Verfahrens hergestellter Kathodenstrahlleuchtschirm bekannt, bei dem ein Film aus einem wasserlöslichen photopolymeren Material einem Lichtbild ausgesetzt wird, bis die Löslichkeit der bestrahlten Bereiche des Filmes selektiv reduziert ist. Sodann wird der belichtete Film zur Entfernung nur der Bereiche größerer Löslichkeit mit einem wäßrigen Medium überströmt, so daß eine Schablone auf der Oberfläche entsteht. Diese Schablone und deren nichtbedeckte Oberfläche werden mit einem Schirmstrukturmaterial überzogen. Zwischen der Ausbildung der Schablone auf der Oberfläche und dem Überziehen der Schablone mit einem schirmbildenden Material werden die Schablone und die sie tragende Oberfläche mit einer Borationen enthaltenden wäßrigen Lösung bespült.

Schließlich beschreibt die DE-OS 28 03 040 ein Verfahren zur Herstellung eines Leuchtschirmes, bei dem ein pigmentbeschichteter Leuchtstoff mit einem wasserlöslichen Photoresistmaterial vermischt wird und die gebildete Aufschlämmung zur Ausbildung des Leuchtschirms auf die Innenfläche einer Kathodenröhre aufgetragen wird. Der Leuchtstoff und das Pigment werden unter Verwendung mindestens eines Acrylpolymeren miteinander verbunden, und durch Zugabe eines wasserlöslichen Photoresistmaterials zu der so gebildeten Suspension wird eine Aufschlämmung hergestellt.

Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Leuchtstoffschirmes mit guter Reproduzierbarkeit und hervorragendem Haftvermögen auf der Innenseite einer Frontplatte einer Kathodenstrahlröhre zu schaffen.

Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 erfindungsgemäß durch die in dessen kennzeichnenden Teil enthaltenen Merkmale gelöst.

Das Resistmuster erfüllt bei dem vorliegenden Verfahren zwei Funktionen:

Es ermöglicht einerseits eine genaue Strukturierung des Leuchtstoffmusters und bewirkt andererseits ein hervorragendes Anhaften des Leuchtstoffmusters über das Resistmuster an der Frontplatte.

Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung ergibt sich aus dem Patentanspruch 2.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnungen näher erläutert. Im einzelnen zeigen:

Fig. 1 einen Teilquerschnitt durch einen nach einem bekannten Verfahren auf der Innenseite einer Frontplatte hergestellten Leuchtstoffschirm;

Fig. 2A bis 2D Teilquerschnitte zur Erläuterung der Stufen der Herstellung eines Leuchtstoffschirms auf der Innenfläche einer Frontplatte gemäß dem Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen und Fig. 3 eine graphische Darstellung zur Erläuterung der relativen Helligkeit oder Brillanz als Funktion der Stärke des auf der Innenseite einer Frontplatte gebildeten Leuchtstoffschirms.

Gemäß Fig. 2A wird zur Ausbildung eines Photoresistfilms 2 auf eine gesäuberte Frontplatte 1 ein Photoresistmaterial appliziert. Danach wird der Photoresistfilm 2 unter Verwendung einer Schattenmaske 3 selektiv belichtet und derart entwickelt, daß die nicht- belichteten Teile bzw. Nicht-Bildbezirke des Photoresistfilms 2 entfernt werden. Gemäß Fig. 2B entsteht hierbei ein erstes Farbresiststreifenmuster 4. Danach wird auf die gesamte Oberfläche der Frontplatte 1 einschließlich des ersten Farbresiststreifenmusters 4 ein Leuchtstoffteilchen und ein Photoresistmaterial oder ein Harz enthaltende Suspension 5 appliziert und getrocknet (vgl. Fig. 2C). Nun wird die Suspension selektiv mit Wasser weggewaschen, wobei lediglich auf dem ersten Farbresiststreifenmuster 4 ein Leuchtstoffstreifenmuster 6 zurückbleibt.

Da bei Durchführung des Verfahrens die auftreffenden Lichtstrahlen nicht durch die Leuchtstoffteilchen gestreut werden, läßt sich die Breite des Leuchtstoffstreifens derart steuern, daß man die verschiedensten Muster bzw. Abbildungen erzeugen kann. Wenn beispielsweise das Verhältnis (Leuchtstoffstreifenbreite zu Schattenmaskenschlitzbreite) × 100 als prozentuales Reduktionsverhältnis definiert wird, kann man im Rahmen des üblichen Suspensionsverfahrens niemals ein Reduktionsverhältnis von unter 105% erreichen. Mit dem Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen erreicht man jedoch ohne Schwierigkeiten ein Reduktionsverhältnis von 70%. Darüber hinaus wird auch die Kante des Leuchtstoffstreifens scharf. So läßt sich beispielsweise die übliche Unebenheit von etwa 20 µm auf weniger als 10 µm senken. Wenn man im Rahmen des bekannten Suspensionsverfahrens eine ausreichend dicke Leuchtstoffschicht herstellen will, werden die UV-Strahlen durch die Leuchtstoffteilchen abgeschirmt, so daß keine ausreichende Lichtmenge auf die Frontplatte auftrifft. Folglich erreicht man auch keine ausreichende Haftung, so daß einige Leuchtstoffteilchen während der Entwicklung von der Frontplatte abfallen können. Da bei Durchführung des Verfahrens mit den beanspruchten Merkmalen die Durchlässigkeit des Photoresistfilms hoch ist, läßt sich eine Entfernung des Leuchtstoffstreifenmusters erfolgreich verhindern.

Im Rahmen des Verfahrens mit den beanspruchten Merkmalen werden die Leuchtstoffteilchen mit Hilfe eines Dispergiermittels in akzeptabler Weise dispergiert und auf die Innenfläche bzw. -seite der Frontplatte appliziert. Da die Leuchtstoffteilchen Teilchengrößen von einigen µm bis 20 µm aufweisen, werden sie sehr leicht koaguliert. Ohne Mitverwendung eines Dispergiermittels ist es nahezu unmöglich, einen gleichmäßigen Film auszubilden. Das Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen unterscheidet sich von dem bekannten Trockenverfahren, bei dem ein Pulver auf die Innenfläche bzw. -seite der Frontplatte appliziert wird, ganz erheblich. Es werden nämlich die Leuchtstoffteilchen in Suspensionsform auf die Frontplatte appliziert, so daß zur Bildung auch kompliziert gestalteter, gleichmäßiger und glatter Leuchtstoffmuster hervorragender Helligkeit bzw. Brillanz auch die verschiedensten starken Dispergiermittel mitverwendet werden können (vgl. Fig. 2D).

Da bei Durchführung des Verfahrens mit den beanspruchten Merkmalen die Leuchtstoffteilchen mit einem viskosen Polymerisat oder Photoresistmaterial bedeckt sind und auf die das Resistmuster enthaltende Frontplatte appliziert werden, erhält man einen ausreichend dicken Film. Folglich erhält man auf höchst bequeme Weise eine gleichmäßige Leuchtstoffschicht hervorragender Helligkeit bzw. Brillanz mit gut darin dispergierten Leuchtstoffteilchen.

Man kann darüber hinaus auch noch Leuchtstoffe, wie Calciumsulfid, die bei dem bekannten Suspensionsverfahren infolge ihrer Gelierneigung und Verschlechterung der Lichtempfindlichkeitseigenschaften nicht verwendet werden können, zum Einsatz bringen. Da das Leuchtstoffmuster von dem Resistmuster abhängt, kann eine Verschlechterung der Lichtempfindlichkeitseigenschaften infolge Gelierung der Leuchtstoffteilchen die Leuchtstoffschicht nicht beeinträchtigen. Anders als bei dem Trockenverfahren bilden sich beim Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen in dem Leuchtstoffilm auch keine Löcher.

Verwendbare Photoresistmaterialien sind Ammoniumbichromat/Polyvinylalkohol, Diazoniumsalz/ Polyvinylalkohol-, Azid/Polyvinylpyrrolidon- und/oder Azid/- Polyacrylamid-Photoresistmaterialien. Im Hinblick auf eine gute Haftung der Leuchtstoffteilchen werden vorzugsweise Photoresistmaterialien auf Diazoniumbasis verwendet. Wenn ein hohes Reduktionsverhältnis gewünscht wird, gelangt vorzugsweise Photoresistmaterial auf Azidbasis zum Einsatz. Bei der Zubereitung einer Leuchtstoffsuspension können die verschiedensten Photosensibilisatoren mitverwendet werden. Da das Resistmuster bereits erstellt ist, spielt der Photosensibilisator lediglich eine Hilfsrolle zur Verbesserung der Haftung. Folglich brauchen auch keine Vernetzungsmittel, z. B. Ammoniumbichromat, Diazoniumverbindungen und Azide mitverwendet zu werden, d. h. der Erfolg stellt sich bereits lediglich bei Verwendung eines Harzes, wie Polyvinylalkohol oder Polyvinylpyrrolidon, ein.

Es können dem Photoresistmaterial zur Bildung des Resistmusters Pigmente einverleibt werden. Zur Verbesserung des Kontrasts der Bildschirminformation und des Bildschirmhintergrunds bei Außenlichteinfluß sollte dem Leuchtstoffstreifenmuster ein Pigment einverleibt werden, dessen Farbe der Farbe des vom Leuchtstoff emittierten Lichts entsprechend oder ähnlich ist, so daß das Leuchtstoffstreifenmuster ohne besondere Beeinträchtigung der Brillanz oder Helligkeit das Außenlicht absorbiert. Hierbei sollte, anstatt das Pigment den Leuchtstoffteilchen zuzumischen, vorzugsweise zwischen der Frontplatte und dem Leuchtstoffilm eine Pigmentschicht eingefügt werden. Hierbei kommt es praktisch zu keinem Verlust der Elektronenstrahlabsorption und zu einer Verbesserung der wirksamen Absorption von äußerem Licht. Gemäß üblicher Techniken müssen zur Ausbildung der Pigmentschicht das Auftragen, die Belichtung und die Entwicklung dreimal für Rot, Grün und Blau wiederholt werden. Folglich muß im Rahmen des üblichen Suspensionsverfahrens zur Ausbildung einer Leuchtstoffschicht dreimal für Rot, Grün und Blau beschichtet, belichtet und entwickelt werden, was die Gestehungskosten stark erhöht. Die Bildung einer Pigmentschicht zwischen der Frontplatte und dem Leuchtstoffilm wurde aus den genannten Gründen bislang noch nicht in Erwägung gezogen.

Da jedoch bei dem Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen anstelle der Ausbildung der Pigmentschicht ein pigmenthaltiges Resistmuster erzeugt werden kann, braucht die Belichtung nicht wiederholt zu werden. Hierbei erhält man ohne zeitraubendes Verfahren ein sehr helles bzw. hochbrillantes Leuchtstoffmuster hervorragenden Kontrasts.

Die folgenden Beispiele sollen das Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen näher veranschaulichen.

Beispiel 1

Ein Diazoniumphotoresistmaterial der folgenden Zusammensetzung:

Diazonium0,2 % Polyvinylalkohol3,2 % oberflächenaktives Mittel
bzw. Netzmittel0,01%

wird durch Rotationsbeschichtung auf die Frontplatte appliziert. Nach dem Trocknen der Photoresistschicht wird diese mit Hilfe einer Schattenmaske belichtet. Das Entwickeln erfolgt durch Wegwaschen der nicht- belichteten Stellen, wobei ein Resiststreifenmuster erhalten wird.

Auf die Frontplatte einschließlich des Resiststreifensmusters wird nun durch Rotationsbeschichten eine Suspension mit blauemittierendem Leuchtstoff (ZnS:Ag, Cl) der folgenden Zusammensetzung:

ZnS:Ag, Cl35 Polyvinylalkohol 3 Diazonium 0,2 oberflächenaktives Mittel
bzw. Netzmittel 0,01 Dispergiermittel 0,02 WasserRest

aufgetragen. Nach dem Trocknen des blauemittierenden Leuchtstoffs wird das Ganze durch Waschen entwickelt, wobei ein blauemittierendes Leuchtstoffstreifenmuster erhalten wird. In entsprechender Weise werden zur Bildung rot- und grünemittierender Leuchtstoffstreifenmuster ein rotemittierender Leuchtstoff (Y₂O₂S:Eu) und ein grünemittierender Leuchtstoff (ZnS:Cu, Au, Al) aufgetragen.

Danach wird die Breite des so gebildeten Leuchtstoffstreifens mit der Breite eines nach dem üblichen Suspensionsverfahren erhaltenen Streifens verglichen. Das Reduktionsverhältnis der Breite des nach dem üblichen Suspensionsverfahren erzeugten Streifens beträgt bis zu etwa 105%, während das Reduktionsverhältnis des in obiger Weise hergestellten Streifens nur bis zu etwa 70% reicht. Die Kante des mit dem Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen erzeugten Leuchtstoffstreifens ist im Vergleich zur Kante des nach dem bekannten Suspensionsverfahren erhaltenen Leuchtstoffstreifens wesentlich schärfer.

Beispiel 2

Entsprechend Beispiel 1 werden Leuchtstoffmuster hergestellt, wobei jedoch als grünemittierender Leuchtstoff CaS:Ce verwendet wird. Der erhaltene Leuchtstoffschirm wird mit einem nach dem üblichen Trockenverfahren erhaltenen Leuchtstoffschirm verglichen. Die Fig. 3 zeigt nun in graphischer Darstellung die Beziehung zwischen relativer Helligkeit bzw. Brillanz und der Filmstärke.

In Fig. 3 ist die Kennlinie des mit den Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen hergestellten Leuchtstoffschirms ausgezogen dargestellt, die Kennlinie des nach dem bekannten Trockenverfahren hergestellten Leuchtstoffschirms ist gestrichelt dargestellt. Der Helligkeits- bzw. Brillanzunterschied der nach dem Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen bzw. nach dem bekannten Trockenverfahren erhaltenen Filmteile derselben Stärke beruht vermutlich auf dem Vorhandensein der Löcher. Die Markierung "x" zeigt die maximale Stärke des auf der Unterlage haftenden Films. Aus Fig. 3 geht hervor, daß die mit dem Verfahren mit den beanspruchten Merkmalen erreichbare Helligkeit bzw. Brillanz 15% höher ist als die im Rahmen des bekannten Trockenverfahrens erreichbare Helligkeit bzw. Brillanz. Nach dem üblichen Suspensionsverfahren läßt sich der Leuchtstoff infolge Gelierung nicht auf die Oberfläche der Frontplatte applizieren.

Beispiel 3

Entsprechend Beispiel 1 werden Leuchtstoffmuster hergestellt, wobei jedoch anstelle des Diazonium/ Polyvinylalkohol-Photoresistmaterials ein Ammoniumbichromat/ Polyvinylalkohol-Photoresistmaterial bzw. ein Diazonium/Polyvinylalkohol-Photoresistmaterial + ein Azid/Polyvinylalkohol-Photoresistmaterial verwendet wird.

Abgesehen davon, daß die Haftung des Leuchtstoffmusters etwas weniger fest ist als in Beispiel 1, werden entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 1 erhalten.

Beispiel 4

Entsprechend Beispiel 1 werden Leuchtstoffmuster hergestellt, wobei jedoch in der Leuchtstoffmaske anstelle des Diazonium/Polyvinylalkohol-Photoresistmaterials Polyvinylalkohol, modifizierter Polyvinylalkohol oder Polyacrylamid verwendet wird.

Beispiel 5

Entsprechend Beispiel 1 werden Leuchtstoffmuster hergestellt, wobei jedoch dem Photoresistmaterial zur Bildung des blauemittierenden Leuchtstoffmusters 1% Kobalt(II)-aluminat als blaues Pigment, dem Photoresistmaterial zur Bildung des grünemittierenden Leuchtstoffmusters 0,5% Kobaltgrün als grünes Pigment und dem Photoresistmaterial zur Bildung des rotemittierenden Leuchtstoffmusters 0,1% rotes Eisenoxid als rotes Pigment einverleibt werden. Im Vergleich zu dem bekannten Verfahren, bei dem dem Leuchtstoffmuster ein Pigment einverleibt wird, ist das Reflexionsvermögen der fertigen Farbkathodenstrahlröhre für äußeres Licht um 30% verbessert.

Claims

1. Verfahren zur Herstellung eines Leuchtstoffschirms, bei dem

- auf die Innenseite einer Frontplatte (1) eine Photoresistschicht (2) aufgetragen wird,
- zur Ausbildung eines latenten Bildes in der Photoresistschicht (2) unter Verwendung einer Schattenmaske (3) eine selektive Belichtung durchgeführt wird,
- das latente Bild zur Ausbildung eines Resistmusters (4) entwickelt wird, und
2- auf die Innenseite der das Resistmuster (4) tragenden Frontplatte (1) eine Leuchtstoffsuspension aufgetragen wird,

dadurch gekennzeichnet, daß

- die Leuchtstoffsuspension ganzflächig aufgetragen und dann zur Erzeugung einer Leuchtstoffschicht getrocknet wird, und
- durch Entfernen der Leuchtstoffschicht mit Ausnahme des auf dem Resistmuster (4) befindlichen Leuchtstoffanteils ein Leuchtstoffmuster (6) ausgebildet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Resistmuster (4) mit einem Pigment versehen wird, dessen Farbe der Farbe des vom Leuchtstoffmuster (6) emittierten Lichts entspricht.