DE69410560T2 - Verfahren zur Herstellung eines Trägers für Flachdruckplatten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Trägers für FlachdruckplattenInfo
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Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine Flachdruckplatte, wobei insbesondere eine Aluminiumplatte umfaßt ist, deren Oberfläche aufgeraut ist und die sich als Offsetdruckplatte verwenden läßt.
- Grundsätzlich finden Aluminiumplatten weite Verwendung als Träger für Flachdruckplatten. Die Oberfläche der Aluminiumplatten ist normalerweise aufgeraut, um bei der Flachdruckplatte, die unter Verwendung derselben hergestellt worden ist, eine verbesserte Haftung der darauf ausgebildeten fotosensitiven Schicht und eine verbesserte wasserspeicherfähigkeit des bildfreien Bereiches (der Bereich, der das beim Drucken verwendete Benetzungswasser aufnimmt und ölige Druckfarbe abstößt und der durch einen Bereich getragen wird, in dem die Oberfläche des Trägers freiliegt) zu erzielen.
- Das Aufrauen wird Körnen (graining) genannt, und hier gibt es mechanische Verfahren, wie beispielsweise das Kugelkörnen (ball graining), das Drahtkörnen (wire graining) sowie das Schleierkörnen (blush graining), sowie mechanische und elektromechanische Verfahren.
- Bis heute sind Aluminiumplatten mit einem kombinierten Verfahren aus einem mechanischen Kämen und einem elektromechanischen Körnen behandelt worden, um eine aufgeraute Oberfläche zu schaffen, die sich als Träger für Flachdruckplatten eignet, wie es beispielsweise in den japanischen Patenten Kokai Nummern 54- 63902, 63-104 890, 3-132 395, usw. offenbart ist. Bei der Druckplatte, die als Träger für eine Flachdruckplatte gemäß dem oben beschriebenen herkömmlichen Aufrauhverfahren hergestellt worden ist, können jedoch Abstreichverminderung (die Fähigkeit, keine Druckfarbe in dem bildfreien Bereich zu binden) und Einflüllverminderung (die Fähigkeit des bildfreien Bereiches, Wasser zu speichern) nicht nebeneinander bestehen, so daß eines der Erfordernisse vernachlässigt wird, wobei üblicherweise die Einfüllverminderung unzureichend ist.
- Weiterhin ist auch die Druckbeständigkeit (die Fähigkeit, ein Ablösen einer fotosensitiven Schicht von dem Träger beim Drucken zu verhindern) in gleicher Weise unzureichend.
- US-A-4,721,552 lehrt ein Verfahren zur Herstellung von lithografischen Druckplatten. Gemäß diesem vorbekannten Stand der Technik wird ein zweites elektrochemisches Aufrauen in 0,5-10 %-tiger, vorzugsweise 1-2 %-tiger Salpetersäure durchgeführt. Als elektrischer Strom wird Wechselstrom verwendet. Es ist weiterhin aus der GB-A-2 118 575 bekannt, Wechselstrom in einer Säurekonzentration von 0,1-4 Gew.-% für den zweiten Aufrauschritt zu verwenden, um einen Träger für lithografische Druckplatten herzustellen. Ein Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte ist aus der EP-A-268 058 bekannt.
- Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines Trägers für Flachdruckplatten bereitzustellen, das die obigen Probleme löst und mit dem Träger mit herausragendem vermindertem Abstreichvermögen und vermindertem Einfüllvermögen sowie mit hervorragender Druckbeständigkeit hergestellt werden können.
- Die Erfinder haben zur Lösung der Aufgabe Versuche unternommen und herausgefunden, daß eine aufgeraute Oberfläche, die zuerst durch ein elektrochemisches Verfahren oder dergleichen aufgeraut wird, dem ein Aufrauhen von Grübchen der aufgerauten Oberfläche folgt, um feine Grübchen von ungefähr 0,05-0,5 um Durchmesser zu schaffen, wirksam zur Verminderung des Abstreichsvermögens und des Einfüllvermögens ist und haben ein Verfahren ermittelt, mit dem sich kleine Grübchen von ungefähr 0,05-0,5 um leicht herstellen lassen.
- Die vorliegende Erfindung wurde aufgrund der obigen Erkenntnisse gemacht, wobei der Träger für eine Flachdruckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung aus einer Aluminiumplatte hergestellt wird und dadurch gekennzeichnet ist, daß sie Basisgrübchen mit einem Durchmesser von ungefähr 1-30 um und feine Grübchen mit einem Durchmesser von 0,05-0,5 um, die auf den Basisgrübchen ausgebildet sind, aufweist. Das erfindungsgemäße Verfahren, mit dem derartige Träger hergestellt werden können, umfaßt das Aufrauhen einer Oberfläche einer Aluminiumplatte auf elektrochemischem Wege, das Ätzen der Oberfläche um 0,01 bis 20 g/m² Alkali und das Aufrauhen der Oberfläche auf elektrochemischem Weg in einer elektrolytischen Lösung.
- Die elektrolytische Lösung enthält 15 Gew.-% oder mehr Salpetersäure und das zweite Aufrauhen wird durchgeführt, indem eine Gleichstromspannung an der Aluminiumplatte angelegt wird, die als Anode genutzt wird.
- Alternativ kann die elektrolytische Lösung Salzsäure und/oder ein Chlorwasserstoffsalz (hydrochloric salt) enthalten, und das zweite Aufrauhen wird durch Aufbringen einer Gleichstromspannung zwischen der Aluminiumplatte und einer Gegenelektrode durchgeführt.
- Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung, die eine Vorrichtung zur Anwendung des Verfahrens zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Flachdruckplatte verdeutlicht.
- Fig. 2-5 sind elektronenmikroskopische Abbildungen der Oberfläche der Aluminiumplatten, die mit dem Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine erfindungsgemäße Flachdruckplatte hergestellt worden sind.
- 1 elektrolytisches Bad
- 2 Kathode
- 5 elektrolytische Lösung
- 6 Trommelwalze
- 8 Leitungswalze
- 9 Aluminiumplatte
- 10 Wechselstromquelle
- Auf einem Träger für eine erfindungsgemäße Flachdruckplatte werden Basisgrübchen mit einem mittlerem Durchmesser von 1-30 um, vorzugsweise 3-15 um ausgebildet. Auf den Basisgrübchen werden feine Grübchen ausgebildet, die einen mittleren Durchmesser von 0,05-0,5 um, vorzugsweise von 0,1-0,3 um aufweisen. Sofern der Durchmesser der feinen Grübchen weniger als 0,05 um beträgt, wird die durch die feinen Grübchen erzielte Wirkung unzureichend. Sofern der Durchmesser 0,5 um übersteigt, ergibt sich lediglich eine geringe Verbesserung des Einfüllverhaltens und eine geringe Druckbeständigkeit.
- Feine Grübchen können entweder mittels Elektrolysieren der Aluminiumplatte, die zur Anode gemacht worden ist mit Gleichstrom in einer elektrolytischen Lösung mit einer Konzentration von 15 Gew.-% Salpetersäure oder mehr, oder mittels elektrochemischem Aufrauhen durch Aufbringen eines Wechselstromes zwischen der Aluminiumplatte und einer Gegenelektrode in einer elektrolytischen Lösung, deren wesentliche Komponente Chlorwasserstoffsalz ist, ausgebildet werden. Im Falle der Elektrolyse mit Gleichstrom führt eine Konzentration an Salpetersäure mit weniger als 15 Gew.-% zu einer unzureichenden Ausbildung von feinen Grübchen, wobei die bevorzugte Konzentration von Salpetersäure in einem Bereich von 30 Gew.-% bis 50 Gew.-% liegt.
- Die oben genannte elektrolytische Salpetersäurelösung ist eine wässrige Lösung aus Salpetersäure und/oder wasserlöslichen Nitratsalz(en), das (die) Nitrat-Ion ausbildet(n). Optionale Additive sind Amine oder dergleichen, wie sie in japanischen Patenten Kokai Nr. 47-38 301 offenbart sind, Schwefelsäure, wie sie in dem japanischen Patent Kokai Nr. 49-57 902 offenbart ist, Borsäure, wie sie in dem japanischen Patent Kokai Nr. 51- 41 653 offenbart ist, Phosphorsäure, wie sie in DE-22 50 275 offenbart ist, und dergleichen.
- Eine geeignete Temperatur der elektrolytischen Lösung ist 30- 80ºC und vorzugsweise 40-60ºC.
- Die Gleichstromspannung, die zur Gleichstromelektrolyse verwendet wird, umfaßt nicht nur kontinuierlichen Gleichstrom, sondern auch kommerziellen Wechselstrom, der durch Diode, Transistor, Thyristor, GTO oder dergleichen gleichgerichtet ist oder Rechteckimpulse von Gleichstrom und ist eine elektrische Spannung, bei der die Polarität unverändert bleibt, was der allgemeinen Begriffsbestimmung von Gleichstrom entspricht.
- Eine bevorzugte Stromdichte beträgt 3-100 A/dm², wobei 5-50 A/dm² mehr zu bevorzugen ist. Eine bevorzugte Menge an Elektrizität beträgt 5-100 C/dm² und mehr bevorzugt 10-60 C/dm².
- Sofern die Aluminiumplatte elektrochemisch in einer wässrigen Lösung, die Chlorwasserstoffsalz und/oder wasserlösliche Chlorwassersalz(e), die Chlorwasserstoff-Ionen als wesentliche Komponente ausbilden, aufgeraut wird, wird die Aluminiumplatte in die wässrige Lösung, die Chlorwasserstoffsäure bzw. Salzsäure und/oder Hydrochlond(e) enthält, eingetaucht, und eine Wechselspannung wird zwischen der Aluminiumplatte und einer Gegenelektrode angelegt. Die Konzentration der Salzsäurekomponente kann in einem Bereich von 1 g/l bis hin zum gesättigten Zustand liegen und vorzugsweise in einem Bereich von 5-100 g/l. Vorzugsweise sind die Salzsäurekomponenten Aluminiumchlorid, Salzsäure, Natriumchlorid, Ammoniumchlorid und Magnesiumchlorid, die Ohlorwasserstoffsäure-Ionen enthalten, wobei eine oder mehrere Kombinationen von Salzsäurekomponenten verwendet wird. Darüber hinaus ist es zu bevorzugen, ein Aluminiumsalz mit einer Menge von 20-150 g/l zu der oben genannten elektrolytischen Salzsäurelösung hinzuzugeben. Eine bevorzugte Temperatur der elektrolytischen Lösung, die Salzsäure und/oder Hydrochloride enthält, liegt in einem Bereich von 30-55ºC.
- Als Wellenform für den Wechselstrom, der beim elektrochemischen Aufrauhen in wässriger Lösung, die Salzsäure enthält, verwendet wird, gibt es sinusförmige Wellen, wie sie in dem japanischen Patent Kokoku Nr. 48-28 123 offenbart sind, phasenkontrollierte Sinuswellen mittels eines Thyristors, wie sie in dem japanischen Patent Kokai Nr. 55-25 381 offenbart sind, spezielle Wellenformen, wie sie in dem japanischen Patent Kokai Nr. 52-58 602 offenbart sind, usw., wobei im Hinblick auf die Ausrüstung rechtwinklige Wellen von Wechselstrorn mit einem Einschaltverhältnis (duty ratio) von 1:1 zu bevorzugen sind. Anstelle eines Wechselstromes kann auch Gleichstrom, wie er im japanischen Patent Kokai Nr. 51-42 605, 1-141094 offenbart ist, verwendet werden.
- Bezüglich des elektrochemischen Aufrauhens in wässriger Lösung, die Salzsäure und/oder Hydrochloride enthält, unter Verwendung einer Wechseltromspannung weisen bevorzugte Bedingungen eine Stromdichte von 10-200 A/dm², eine Elektrizitätsmenge von 1-1000 C/dm² und mehr, bevorzugt 10-800 C/dm² sowie eine Frequenz von 50 Hz oder mehr, und mehr bevorzugt von 60-500 Hz auf.
- Die Aluminiumplatte, die für die vorliegende Erfindung eingesetzt werden kann, umfaßt reine Aluminiumplatten und Platten aus Alumiumlegierungen. Verschiedene Aluminiumlegierungen lassen sich verwenden, wie beispielsweise Legierungen aus Aluminium und einem Metall von Silizium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Ohrom, Blei, Zink, Bismut, Titan, Tantal, Niob, Eisen, Nickel und deren Kombinationen.
- Vor dem elektrochemischen Aufrauhen beim ersten Schritt kann die Aluminiumplatte durch mechanisches Einwirken, chemisches Einwirken oder Kombinationen der vorstehend genannten Behandlungen aufgeraut werden.
- Mechanisches Aufrauhen kann gemäß einem vorbekannten Verfahren, wie beispielsweise Schlammbürsten (slurry brushing) unter Verwendung einer Nylonbürste, Trockenbürsten unter Verwendung einer Drahtbürste, Sandstrahlen, Kugelmahlen, Einprägen durch Pressen unter Verwendung einer Druckrolle und dergleichen, durchgeführt werden.
- Als Verfahren zum Ausbilden von Einbuchtungen auf der zum Pressen eingesetzten Druckrolle stehen Sandstrahlen, grobes Sandstrahlen (grit blasting), Stahlstrahlen, chemisches Ätzen, Metallauflösung mittels Bestrahlung durch einen Laser, wie beispielsweise einen Maxirnumlaser (maxima laser), das Ätzen von Mustern unter Verwendung eines lichtbeständigen Materials und dergleichen zur Verfügung.
- Das chemische Aufrauhen kann über vorbekannte Verfahren durchgeführt werden, wie beispielsweise chemisches Ätzen mit Salzsäure, alkalisches Ätzen und dergleichen.
- Das elektrochemische Aufrauhen beim ersten Schritt kann über ein konventionelles Verfahren erfolgen, wie beispielsweise ein Verfahren zum Durchleiten einer wässrigen Lösung, bei der die wesentliche Komponente Salzsäure und/oder Hydrochlorid oder Salpetersäure und/oder Nitrat ist.
- Die in der wässrigen Lösung, die Salzsäure und/oder Hydrochlorid enthält, elektrochemisch aufgeraute Aluminiumplatte wird mit Schmierentferner (removal of srnut) und/oder Lichtätzen in wässriger Alkalilösung mit dem Ziel behandelt, die Schmier- bzw. Schleicherkomponenten (smut components), die sich auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet haben, zu entfernen. Beispiele für die Alkalien sind Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumphosphat, Natriumaluminat, Natriumsilikat, Natriumkarbonat und dergleichen.
- Zwei oder mehr der vorgenannten Alkalien können miteinander kombiniert werden. Bezüglich des Ätzgrades ist zu bevorzugen, 0,01-20 g/qm², vorzugsweise 0,01-2 g/qm² an Aluminium zu ätzen. Um ein Ätzen bis zu einem derartigen Ätzgrad durchführen zu können, sollte in geeigneter Weise eine Alkalienkonzentration von 0,05-40 %, eine Flüssigkeitstemperatur in einem Bereich von 40-100ºC und eine Behandlungsdauer von 5-300 Sekunden gewählt werden.
- Auf der Oberfläche der Aluminiumplatte bilden sich nach dem Lichtätzen unlösbare Teile, d.h. Schmier bzw. Schleier. Der Schleier kann durch Waschen mit Phosphorsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure, Ohromsäure oder einer Mischung der vorstehend genannten entfernt werden.
- Nachdem die Aluminiumplatte elektrochemisch in wässriger Lösung, deren wesentliche Komponente Salpetersäure und/oder Nitrat ist, aufgeraut worden ist, wird die Aluminiumplatte in die wässrige Lösung, die Salpetersäure und/oder Nitrate enthält, eingetaucht, Gleichstromspannung oder Wechselstromspannung wird zwischen der Aluminiumplatte und einer Gegenelektrode angelegt. Eine geeignete Konzentration für die Salpetersäurekomponente liegt in einem Bereich von 1 g/l bis zur Sättigung und vorzugsweise in einem Bereich von 5-100 g/l. Vorzugsweise umfassen die Salpetersäurekomponenten Aluminiumnitrat, Salpetersäure, Natriumnitrat, Ammoniumnitrat und dergleichen und diese können als reines Material oder in Kombination miteinander verwendet werden. Außerdem können andere Komponenten, die Nitrat-lonen enthalten, gleichfalls kombiniert werden. Es ist zu bevorzugen, ein Aluminiumsalz zu der elektrolytischen Lösung mit einer Menge von 20-150 g/l hinzuzugeben. Eine bevorzugte Temperatur der elektrolytischen Lösung, die Salpetersäure und/oder Nitrate enthält, liegt in einem Bereich von 30-55ºC. Bezüglich der Wellenform des Wechselstromes kann auf die Ausführungen zur Behandlung mit Salzsäure und/oder Hydrochloriden verwiesen werden.
- Für die Aufraubedingungen der Aluminiumplatte in der wässrigen Lösung, die Salpetersäure enthält, kann eine Stromdichte von 100-200 A/dm², eine Elektrizitätsmenge von 10-600 C/dm2, bevorzugter Weise von 100-300 C/dm², in bevorzugter Weise verwendet werden. Eine bevorzugte Frequenz für die Spannung bzw. das elektrische Potential an der Aluminiumplatte ist 160 Hz oder weniger und bevorzugter Weise 60-0,1 Hz.
- Die Aluminiumplatte, die wie vorstehend beschrieben behandelt worden ist, kann in einer elektrolytischen Lösung, die Schwefelsäure oder Phosphorsäure enthält, in vorbekannter Weise eloxiert werden, um die hydrophilen Eigenschaften, das Wasserhaltevermögen und die Druckbeständigkeit zu verbessern. Nach dem Eloxieren kann außerdem ein Versiegeln der Poren durchgeführt werden. Außerdem kann eine Behandlung durch Eintauchen in eine wässrige Lösung, die Natriumsilikat enthält, zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften durchgeführt werden. Alkahätzen wird im Anschluß an das Aufrauhen durchgeführt, um die voranstehend genannten Basisgrübchen zu erzeugen. Die Herstellung des Trägers für eine erfindungsgemäße Flachdruckplatte kann unter Verwendung eines elektrolytischen Bades durchgeführt werden, das radiale Zellen oder flache Zellen oder vertikale Zellen oder dergleichen aufweist, wobei das Zuführen direkt (direct feeding) oder indirekt (indirect feeding) durchgeführt werden kann.
- Die Vorrichtung, die sich zur Herstellung des erfindungsgemäßen Trägers für eine Flachdruckplatte eignet, ist in Fig. 1 dargestellt. Das elektrolytische Bad 1 ist in radialer Weise angeordnet, weist einen halbkreisförmigen Boden bzw. Sumpf auf und ist mit einer halbkreisförmigen Kathode 2 ausgestattet. Das elektrolytische Bad 1 weist eine Einlaßöffnung 3 für elektrolytische Lösung an einem Ende des Bades und eine Auslaßöffnung 4 für elektrolytische Lösung an dem anderen Ende auf. Eine elektrolytische Lösung 5 wird von der Einlaßöffnung 3 eingespeist und die elektrolytische Lösung wird nach ihrer Benutzung durch den Auslaß 4 abgeleitet. Eine Trommelwalze 6 ist drehbar oberhalb der Kathode 2 angeordent und in die elektrolytische Lösung 5 eingetaucht.
- Eine Antriebswalze 7 und eine Leitungswalze 8 sind oberhalb der Trommelwalze 6 angeordnet, um eine Zuführstrecke für die Aluminiumplatte 9 zu bilden. Die Leitungswalze 8 und die Kathode 2 sind über eine Gleichstromquelle 10 miteinander verbunden. Bei dem Träger für eine Flachdruckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung werden die feinen Grübchen auf den Basisgrübchen ausgebildet, um das Einfüllverhalten und die Druckbeständigkeit zu verbessern, ohne das Abstreichverhalten zu erhöhen.
- Eine Oberfläche einer JIS 1050 Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,3 mm wurde durch Schleifen der Oberfläche unter Verwendung einer Suspension aus Bimsstein und einer Nr. 8 Nylonbürste aufgeraut.
- Danach wurde die Platte chemisch geätzt, indem sie in eine 10%tige Natriumhydroxid-wässrige Lösung bei 5000 über die Dauer von 30 Sekunden eingetaucht wurde und dann wurde Schleier (der vornehmlich aus Aluminiumhydroxid bestand) von der Platte durch Eintauchen in eine gemischte Lösung aus 3 % Chromsäure und 3,5 % Phosphorsäure bei 8000 über die Dauer von 30 Sekunden entfernt.
- Danach wurde die Platte in eine 1%-tige Salpetersäure in wässriger Lösung, die 0,5 % Aluminium-Ionen als elektrolytische Lösung enthielt, eingetaucht und elektrochemisch unter Verwendung einer Rechteckimpulswelle aus Wechselstrom mit einer Frequenz von 200 Hz und einer Strorndichte von 60 A/dm² aufgeraut, so daß die Menge der Elektrizität der Aluminiumplatte 400 C/dm2 an der Anode betrug, wobei nachfolgend ein Waschen mit Wasser durchgeführt wurde.
- Die Aluminiumplatte wurde chemisch in einer 5%-tigen Natriumhydroxid-wässrigen Lösung geätzt, bis die aufgelöste Menge der Aluminiumplatte 0,5 g/qm² betrug, und dann wurde der Schleier durch Eintauchen in eine gemischte Lösung aus 3 % Chromsäure und 3,5 % Phosphorsäure bei 80ºC über die Dauer von 30 Sekunden entfernt.
- Unter Verwendung einer 34%-tigen Salpetersäure in wässriger Lösung wurde die Aluminiumplatte zur Anode gemacht, wobei eine Elektolyse bei einer Stromdichte von 5 A/dm², einer Elektrizitätsmenge von 15 C/dm2 über die Dauer von 3 Sekunden durchgeführt wurde, um die feinen Grübchen auszubilden. Die Schleierentfernung wurde durch Eintauchen in eine gemischte Lösung aus 3 % Chromsäure und 3,5 % Phosphorsäure bei 8000 über die Dauer von 30 Sekunden und Eloxieren in 15%-tiger Schwefelsäure in wässriger Lösung unter Verwendung von Gleichstrom bei 22 Volt mit einem Abstand zwischen den Elektroden von 150 mm über 60 Sekunden durchgeführt.
- Eine JIS 1050 Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,3 mm wurde in 1%-tige Salpetersäure in wässriger Lösung, die 0,5 % Aluminiumionen enthielt, als elektrolytische Lösung eingetaucht und elektrochemisch unter Verwendung einer rechteckigen Welle von Wechselstrom mit einer Frequenz von 200 Hz bei einer Stromdichte von 60 A/dm² aufgeraut, so daß die Menge an Elektrizität auf der Aluminiumplatte 400 C/dm2 an der Anode betrug, wobei ein Waschen mit Wasser folgte.
- Die Aluminiumplatte wurde chemisch in 5%-tiger Natriumhydroxidwässriger Lösung geätzt, bis die aufgelöste Menge der Aluminiumplatte 0,5 g/m² betrug und dann wurde der Schleier durch Eintauchen in eine gemischte Lösung aus 3 % Chromsäure und 3,5 % Phosphorsäure bei einer Temperatur von 80ºC über die Dauer von 30 Sekunden entfernt.
- Danach wurde das Aufrauen über eine Wechselstromelektrolyse in einer elektrolytischen Lösung, die 12,5 g/l an Salzsäure enthielt mit einer Flüssigkeitstemperatur von 5000 bei 120 Hz bei einer Stromdichte von 10 A/dm² und einer Elektrizitätsmenge von 15 C/dm² durchgeführt, um feine Grübchen zu bilden.
- Die Schleierentfernung wurde durch Eintauchen in eine gemischte Lösung aus 3 % Ohromsäure und 5 % Phosphorsäure bei 80ºC über die Dauer von 30 Sekunden und Eloxieren in 15%-tiger Schwefelsäure in wässriger Lösung unter Verwendung von Gleichstrom bei 22 Volt bei einem Abstand zwischen den Elektronen von 150 mm über die Dauer von 60 Sekunden entfernt.
- Eine Oberfläche einer JIS 1050 Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,3 mm wurde in der gleichen Weise wie gemäß Beispiel 1 aufgeraut, jedoch mit dem Unterschied, daß auf die Elektrolyse zur Ausbildung der feinen Grübchen und die nachfolgende Behandlung zur Entfernung des Schleiers verzichtet wurde.
- Elektronenmikroskopische Fotografien der Aluminiumplatte, die gemäß Beispiel 1 erzielt worden war, sind in Fig. 2 (X 10.000) und Fig. 3 (X 30.000) gezeigt. Die elektronenmikroskopischen Fotografien der Aluminiumplatte, die gemäß Beispiel 2 erzielt wurde, sind in Fig. 4 (X 10.000) und Fig. 5 (X 50.000) gezeigt.
- Durch die elektronenmikroskopischen Fotografien konnte bestätigt werden, daß feine Grübchen von ungefähr 3 um gleichförmig ausgebildet waren.
- Ein O-Diazo oxidisches fotosensitives Material wurde als fotosensitive Schicht mit einer Trockendicke von 2,5 g/m² auf die oben beschriebenen Aluminiumplatten aufgetragen und dann getrocknet, um Flachdruckplatten herzustellen. Die Flachdruckplatten wurden Licht ausgesetzt und dann entwickelt. Jede Druckplatte wurde dann an eine Druckmaschine vom Typ Heidelberg KOR angebracht und dann wurde gedruckt, um die Druckbeständigkeit, die Abstreichfähigkeit und das Einfüllverhalten zu bewerten, wobei die Beurteilung durch menschliche Beobachtung erfolgte.
- Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt: Tabelle 1
- O = herausragend oder sehr stark vermindert
- Δ = gewöhnlich
- x = keine praktische Verwertbarkeit
- Durch die obigen Ergebnisse wurde bestätigt, daß, unter Verwendung des erfindungsgemäßen Trägers, eine Druckplatte hergestellt werden kann, deren Druckbeständigkeit und deren Einfüllverhalten verbessert ist, ohhe das daß Abstreichverhalten ansteigt
Claims (11)
1.
Verfahren zum Herstellen eines Trägers für eine
Flachdruckplatte, dessen Oberfläche Basisgrübchen, die einen
mittleren Durchmesser von 1-30 um haben, und feine Grübchen,
die einen mittleren Durchmesser von 0,05 bis 0,5 um haben, die
auf den Basisgrübchen ausgebildet sind, aufweist, wobei bei dem
Verfahren eine Oberfläche einer Aluminiumplatte elektrochemisch
aufgeraut wird, die Oberfläche um 0,01 bis 20 g/m² mit Alkali
geätzt wird und dann die Oberfläche elektrochemisch in einer
elektrolytischen Lösung, die 15 Gew.-% oder mehr Salpetersäure
enthält, aufgeraut wird und das zweite Aufrauen durchgeführt
wird, indem eine Gleichstromspannung an der Aluminiumplatte als
Anode angelegt wird.
2. Verfahren zum Herstellen eines Trägers für eine
Flachdruckplatte, dessen Oberfläche Basisgrübchen, die einen
mittleren Durchmesser von 1-30 um haben, und feine Grübchen,
die einen mittleren Durchmesser von 0,05 bis 0,5 um haben, die
auf den Basisgrübchen ausgebildet sind, aufweist, wobei bei dem
Verfahren eine Oberfläche einer Aluminiumplatte elektrochemisch
aufgeraut wird, die Oberfläche um 0,01 bis 20 g/m² mit Alkali
geätzt wird und dann die Oberfläche elektrochemisch in einer
elektrolytischen Lösung, die Salzsäure und/oder ein
Hydrochloridsalz enthält, aufgeraut wird und das zweite Auf en
durchgeführt wird, indem eine Wechselstromspannung zwischen der
Aluminiumplatte und einer Gegenelektrode angelegt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Konzentration der Salpetersäure zwischen 30 Gew.-% und 50
Gew.-%, vorzugsweise zwischen 30 und 40 Gew.-% liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Temperatur der elektrolytischen Lösung zwischen 40ºC und
60ºC liegt.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Elektrizitätsmenge zwischen 5 C/dm2 und 100 C/dm2 liegt.
6. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Konzentration der Salzsäure in der elektrolytischen Lösung
zwischen 5 g/l und 100 g/l liegt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die Temperatur der elektrolytischen Lösung zwischen 30ºC und
55ºC liegt.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die Frequenz der Wechselspannung zwischen 60 Hz und 500 Hz
liegt.
9. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß außerdem ein Ätzen der Oberfläche um 0,01 g/m² bis 2 g/m²
rnit alkalischer Lösung durchgeführt wird.
10. Träger für eine Flachdruckplatte, die eine Platte aus
Aluminium oder einer Legierung ist, deren Oberfläche mit
Basisgrübchen, die einen mittleren Durchmesser von 1-30 um
haben, und feinen Grübchen, die einen mittleren Durchmesser von
0,05-0,5 um haben und die auf den feinen Grübchen ausgebildet
sind, versehen ist.
11. Träger für eine Flachdruckplatte nach Anspruch 10, dadurch
gekennzeichnet, daß der mittlere Durchmesser der feinen
Grübchen zwischen 0,1 und 0,3 um liegt.
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US5551585A (en) * | 1995-04-10 | 1996-09-03 | Sun Chemical Corporation | Process for the surface treatment of lithographic printing plate precursors |
DE69821044T2 (de) * | 1997-04-25 | 2004-06-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für lithographische Druckplatten |
EP1046514B1 (de) * | 1999-04-22 | 2005-07-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für lithographische Druckplatten |
EP1231510A3 (de) * | 2000-12-23 | 2004-03-17 | Agfa-Gevaert | Eine strahlungsempfindliche Aufzeichnungsschicht umfassende Druckplatte auf einem gewalzten und geprägten Aluminiumsubstrat und Verfahren zu ihrer Herstellung |
EP1300257B1 (de) | 2001-10-05 | 2012-01-18 | FUJIFILM Corporation | Lithographisches Druckplattensubstrat und vorsensibilisierte Platte und Herstellungsverfahren für eine lithographische Druckplatte |
US20040169013A1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-02 | General Electric Company | Method for chemically removing aluminum-containing materials from a substrate |
US20080003411A1 (en) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | Joseph Hunter | Aluminum lithographic substrate and method of making |
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US20080305435A1 (en) * | 2007-06-05 | 2008-12-11 | Yasushi Miyamoto | Method of making lithographic printing plate substrate and imageable elements |
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---|---|---|---|---|
JPS5463902A (en) * | 1977-10-31 | 1979-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of making offset printing plate |
JPS5485802A (en) * | 1977-12-19 | 1979-07-07 | Nippon Keikinzoku Sougou Kenki | Preparation of aluminium roughened surface plate for offset printing block |
GB2047274B (en) * | 1979-03-29 | 1983-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Support for lithographic printing plates and process for their production |
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DE3635304A1 (de) * | 1986-10-17 | 1988-04-28 | Hoechst Ag | Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger |
US4721552A (en) * | 1987-04-27 | 1988-01-26 | Polychrome Corporation | Two-step method for electrolytically graining lithographic metal plates |
JPH0729507B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1995-04-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
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JP2707339B2 (ja) * | 1989-10-18 | 1998-01-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
US5186795A (en) * | 1991-07-22 | 1993-02-16 | Eastman Kodak Company | Two-stage process for electrolytic graining of aluminum |
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