DE60210836T2

DE60210836T2 - Vorsensibilisierte Druckplatte

Info

Publication number: DE60210836T2
Application number: DE60210836T
Authority: DE
Inventors: Hirokazu Yoshida-cho Haibara-gun Sawada; Akio Yoshida-cho Haibara-gun Uesugi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2001-02-09
Filing date: 2002-02-08
Publication date: 2007-04-26
Anticipated expiration: 2022-02-09
Also published as: JP2002307849A; ATE324270T1; EP1231075A3; US7037635B2; DE60210836D1; CN1241062C; US20020155377A1; EP1231075A2; CN1369746A; EP1231075B1

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG:
1. Gebiet der Erfindung:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein vorsensibilisierte Platte und insbesondere eine vorsensibilisierte Platte, die bezüglich der Wärmeerweichungsbeständigkeit und insbesondere der Ermüdungsfestigkeit nach einer Brennbehandlung herausragend ist, so dass die Bildung von Rissen wirksam vermieden werden kann. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine vorsensibilisierte Platte, die in der Lage ist, stark an eine Aufzeichnungsschicht anzuhaften und bezüglich der Drucklebensdauer herausragend ist.
2. Beschreibung des Stand der Technik:
Bisher ist eine Aluminiumplatte als Träger einer Lithografiedruckplatte verwendet worden. In diesem Fall wird im allgemeinen auf einer Oberfläche der Aluminiumplatte eine Aufrauhungsbehandlung durchgeführt, um sie mit Anhaftungseigenschaften an eine fotoempfindliche Schicht und einer wasserhaltenden Eigenschaft auf deren Nicht-Bildbereich zu versehen. Als Verfahren zur Oberflächenaufrauhungsbehandlung sind verschiedene Verfahren bekannt, wie ein mechanisches Aufrauhungsverfahren, wie Kugelkörnen, Bürstenkörnen; ein elektrochemisches Aufrauhungsverfahren, in dem die Oberfläche der Aluminiumplatte durch Verwendung eines Elektrolyten, der hauptsächlich aus Salzsäure, Salpetersäure usw. aufgebaut ist, elektrolytisch poliert wird, und ein chemisches Aufrauhungsverfahren, in dem die Oberfläche der Aluminiumplatte durch Verwendung einer Säurelösung oder einer Alkalilösung geätzt wird. Da jedoch eine aufgerauhte Oberfläche, die mittels des elektrochemischen Aufrauhungsverfahrens erhalten wird, bezüglich der Vertiefungen (Rauhigkeit) homogen ist und eine herausragende Druckleistungsfähigkeit aufweist, wenn die Aluminiumplatte zu einer Lithografiedruckplatte geformt wird, wird in den letzten Jahren die Aufrauhungsbehandlung hauptsächlich mittels des elektrochemischen Aufrauhungsverfahrens oder durch eine Kombination des elektrochemischen Aufrauhungsverfahrens und einer anderen Art von Aufrauhungsverfahren durchgeführt.
Als Materialien, die zur Verwendung in einer solchen Aufrauhungsbehandlung geeignet sind, werden regelmässig Materialien vom Typ JIS A1000, die durch ein JIS A1050-Material repräsentiert werden, eingesetzt. Der Grund hierfür ist, dass eine elektrochemische Aufrauhungsbehandlung (elektrolytische Aufrauhungsbehandlung) oder eine chemische Aufrauhungsbehandlung stabil durchgeführt werden kann, weil die Materialien vom Typ A1000 eine hohe Aluminiumreinheit aufweisen und daher vernachlässigbare Verunreinigungen enthalten. Zusätzlich sind die Materialien vom Typ A1000 wegen der guten mechanischen Festigkeit auch für die mechanische Aufrauhungsbehandlung geeignet einsetzbar.
Im Anschluss an die Aufrauhungsbehandlung wird die Aluminiumplatte im allgemeinen einer Anodisierungsbehandlung unterworfen, um ihre Oberflächenhärte zu verbessern und die Adhäsion zwischen der Aluminiumplatte und einer fotoempfindlichen Schicht zu verbessern. Anschliessend wird die fotoempfindliche Schicht auf der Aluminiumplatte gebildet, um hierdurch eine vorsensibilisierte Platte zu erhalten. Falls erforderlich, wird im allgemeinen auch eine Schnittstellenbehandlung oder eine Grundierung vor der Bildung der fotoempfindlichen Schicht durchgeführt. Die so erhaltene, vorsensibilisierte Platte wird dann einer Belichtung und der Entwicklung eines Bildes unterworfen, und zusätzlich wird sie, falls erforderlich, einer Gummierung unterworfen, um hierdurch eine Lithografiedruckplatte zu bilden, die dann zum Drucken mit dem Plattenzylinder einer Druckmaschine verbunden wird.
Wenn die Lithografiedruckplatte mit dem Plattenzylinder der Druckmaschine verbunden wird, werden die beiden Endbereiche der Lithografiedruckplatte gebogen, und diese gebogenen Endbereiche werden jeweils mit zwei Klammern fixiert, d.h. ein sogenannter Haltebereich und ein Halteendbereich (holding tail portion) des Plattenzylinders der Druckmaschine auf solche Weise, dass eine Spannung auf die Lithografiedruckplatte ausgeübt wird, wodurch es ermöglicht wird, dass die Lithografiedruckplatte dicht an dem Plattenzylinder anhaftet. Im Fall des Offsetdrucks wird, wenn Tinte und Spüllösung der Lithografiedruckplatte zugeführt werden, die am Plattenzylinder fixiert ist, die Tinte am Bildbereich angehaftet, der Lipophilizität aufweist, während die Spüllösung am Nicht-Bildbereich anhaftet, der Hydrophilizität aufweist, wodurch es ermöglicht wird, dass die Tinte selektiv in Übereinstimmung mit dem Bild angeordnet wird. Die dem Bild entsprechende Tinte wird einmal auf einen Zwischenzylinder, der als Leerzylinder (blanket cylinder) bezeichnet wird, übertragen, und dann auf Papier usw. rückübertragen, um dadurch einen gedruckten Gegenstand zu erhalten. In diesem Fall können die zwei gebogenen Bereiche, die an beiden Enden der Lithografiedruckplatte gebildet werden, von dem Plattenzylinder aufgrund einer Reaktionskraft auf das Biegen der Lithografiedruckplatte abgehoben werden. Dementsprechend besteht ein Problem, falls der Plattenzylinder wiederholt gegen den Leerzylinder unter solchen Bedingungen gepresst wird, dass der zuvor erwähnte abgehobene Bereich wiederholt gebogen wird, was die Bildung von Ermüdungsbrüchen der Lithografiedruckplatte begünstigt.
Inzwischen wird die Lithografiedruckplatte im allgemeinen einer Wärmebehandlung, die als Brennbehandlung bezeichnet wird (Nachbackbehandlung), nach der Belichtung und der Entwicklung unterzogen. Solch eine Brennbehandlung wird im allgemeinen bei einer Temperatur von 200°C oder mehr, insbesondere bei einer Temperatur, die von 240 bis 270°C reicht, durchgeführt, obwohl sich die konkrete Temperatur zweckabhängig unterscheiden kann. Die fotoempfindliche Schicht des Bildbereichs wird weiter durch die Brennbehandlung gehärtet, was es ermöglicht, die Drucklebensdauer zu erhöhen und somit die Anzahl von Bögen zu erhöhen, was der Tatsache zu verdanken ist, dass der Abrieb der fotoempfindlichen Schicht während des Druckens unterdrückt wird, da die fotoempfindliche Schicht des Bildbereichs gehärtet ist.
Jedoch tritt in einigen Fällen das Problem auf, dass durch die Brennbehandlung Rekristallisierung und Wiederherstellung (restoration) in der Aluminiumplatte auftreten, was die mechanische Festigkeit der Aluminiumplatte verringert.
Es gibt eine Anzahl von Vorschlägen in bezug auf die Verringerung der mechanischen Festigkeit nach der Brennbehandlung. Zum Beispiel schlagen JP-B-04-73394 und JP-B-07-126820 vor, die 0,2 %-Dehngrenze oder dergleichen nach der Wärmebehandlung zu definieren. Weiterhin schlägt JP-A-07-39906 vor, einen einem Kreis entsprechenden Kristallkorndurchmesser im Querschnitt einer Platte zu definieren. Darüber hinaus schlägt JP-A-07-305133 vor, die Menge der Feststofflösung von Fe zu definieren.
Es gibt eine Anzahl von Vorschlägen für Gegenmassnahmen in bezug auf die Bestandteile einer Legierung. Zum Beispiel wird ein Verfahren, in dem Mn zugegeben wird, in JP-A-05-501585, US-B-5 009 722, JP-B-04-19290 und US-B-5 114 825 vorgeschlagen. Weiterhin wird ein Verfahren, in dem Mg zugegeben wird, in JP-B-05-00462, JP-B-06-37116, JP-B-04-73392, JP-B-03-68939 und JP-B-03-11635 vorgeschlagen. Weiterhin wird ein Verfahren, in dem sowohl Mn als auch Mg zugegeben werden, in JP-B-05-76530 und JP-B-05-28197 vorgeschlagen. Ferner wird ein Verfahren, in dem Zr allein oder in Kombination mit Mn oder Mg zugegeben wird, in JP-B-1992-72720 vorgeschlagen.
Gemäss dem Verfahren, in dem die 0,2 %-Dehngrenze nach der Wärmebehandlung definiert wird, wie es von JP-B-04-73394 und JP-A-07-126820 vorgeschlagen wird, gemäss dem Verfahren, in dem der einem Kreis entsprechende Durchmesser eines Kristallkorns im Querschnitt einer Platte definiert wird, wie es von JP-A-07-39906 vorgeschlagen wird, oder gemäss dem Verfahren, in dem die Menge der Feststofflösung von Fe definiert wird, wie von JP-A-07-305133 vorgeschlagen, ist es sicherlich möglich, eine Verringerungsrate der Zugfestigkeit nach der Brennbehandlung zu minimieren, und diese Verfahren sind bis zu einem gewissen Grad wirksam. Jedoch werden diese Verfahren von dem Problem begleitet, dass als Ergebnis der Wiederholung des Druckens einer grossen Anzahl von Bögen ein Ermüdungsbruch der Lithografiedruckplatte verursacht werden kann.
Obwohl die Verfahren der Zugabe von Mn oder Mg bei der Vermeidung des Bruchs der Lithografiedruckplatte während des Druckens wirksam sind, werden sie jedoch andererseits von den Problemen begleitet, dass die Verfahren bezüglich der Effizienz und der Stabilität der Aufrauhungsbehandlung im Vergleich zu Materialien vom Typ JIS A1000, die bezüglich der Anwendbarkeit auf eine Aufrauhungsbehandlung herausragend sind, unterlegen sind, und auch einen Kostenanstieg der Ausgangsmaterialien begünstigen, da die Verfahren vorbestimmte Spurenelemente als Ausgangsmaterialien benötigen.
JP-A-2000-037964 offenbart einen elektrochemisch aufgerauhten Aluminium-Lithografie-Druckplattenvorläufer, der eine Aluminiumreinheit von 99,3 % oder mehr aufweist und 0,2 bis 0,4 Gew.% Fe, 0,03 bis 0,15 Gew.% Si, 0,006 bis 0,03 Gew.% Cu und 0,02 bis 0,03 Gew.% Ti enthält, worin Ti/Cu 1 bis 5 erfüllt, wobei die Länge der kristallinen Partikel in Richtung der Plattenbreite vertikal zur Walzrichtung, die in einem Bereich von bis zu 5 μm Tiefe in Richtung der Dicke der Substratoberfläche lokalisiert sind, 30 bis 150 μm beträgt, und die Länge in der Richtung, die mit der Walzrichtung übereinstimmt, 100 bis 3.000 μm beträgt.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG:
Die vorliegende Erfindung ist angesichts solcher Umstände gemacht worden, und es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine vorsensibilisierte Platte zur Verfügung zu stellen, die eine herausragende Effizienz und Stabilität der Aufrauhungsbehandlung zeigt, und die in der Lage ist, die Bildung eines Ermüdungsbruchs der Lithografiedruckplatte während des Druckens zu vermeiden, sogar wenn eine Brennbehandlung auf der Lithografiedruckplatte durchgeführt worden ist. Es ist eine andere Aufgabe der Erfindung, eine vorsensibilisierte Platte zur Verfügung zu stellen, die bezüglich der Adhäsionskraft zwischen einem Träger für eine Lithografiedruckplatte und einer Aufzeichnungsschicht sehr stark ist, und die auch überaus herausragend bezüglich der Drucklebensdauer ist, so dass das Ablösen oder teilweise Fehlen eines Bildbereichs im wesentlichen vermieden werden kann.
Als Ergebnis intensiver Untersuchungen seitens der gegenwärtigen Erfinder wurde gefunden, dass die obigen Aufgaben durch Einsetzen einer Aluminiumplatte mit einer Aluminiumreinheit von 99 Gew.% oder mehr als Ausgangsmaterial gelöst werden können.
Vorzugsweise beträgt die 0,2 %-Dehngrenze in der erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platte nach der Wärmebehandlung bei 300°C für 7 Minuten 65 % oder mehr als diejenige vor der Wärmebehandlung.
Die vorliegende Erfindung stellt eine vorsensibilisierte Platte zur Verfügung, die eine Aluminiumplatte mit einer Aluminiumreinheit von nicht weniger als 99 Gew.% und eine fotoempfindliche Schicht, die auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet ist, beinhaltet. In der vorsensibilisierten Platte weisen Kristallkörner, die sich innerhalb eines Bereichs befinden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, eine mittlere Breite von nicht mehr als 80 µm und eine maximale Breite von nicht mehr als 150 µm in einer Richtung senkrecht zur Walzrichtung der Aluminiumplatte auf, und sie weisen eine mittlere Länge von nicht mehr als 400 µm und eine maximale Länge von nicht mehr als 500 µm in Walzrichtung der Aluminiumplatte auf. Insbesondere stellt die vorliegende Erfindung in einem bevorzugten Aspekt der Erfindung eine vorsensibilisierte Platte zur Verfügung, die eine Aluminiumplatte, die eine Aluminiumreinheit von nicht weniger als 99 % aufweist, und eine fotoempfindliche Schicht, die auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet ist, beinhaltet, worin die Kristallkörner, die sich innerhalb eines Bereichs befinden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, eine mittlere Breite von nicht mehr als 80 µm und eine maximale Breite von nicht mehr als 150 µm in einer Richtung senkrecht zur Walzrichtung der Aluminiumplatte aufweisen, und die eine mittlere Länge von nicht mehr als 400 µm und eine maximale Länge von nicht mehr als 500 µm in Walzrichtung der Aluminiumplatte aufweisen.
Gemäss einem bevorzugten Aspekt der vorliegenden Erfindung enthält die Aluminiumplatte 0,15 bis 0,5 Gew.% Fe; 0,03 bis 0,15 Gew.% Si und 0,003 bis 0,050 Gew.% Ti; und sie enthält weiterhin 0,001 bis 0,05 Gew.% Cu und/oder 0,001 bis 0,1 Gew.% Mg.
Die erfindungsgemässe vorsensibilisierte Platte wird vorzugsweise mittels Durchführen einer Aufrauhungsbehandlung und einer Anodisierungsbehandlung der Oberfläche der Aluminiumplatte vor der Bildung der fotoempfindlichen Schicht erhalten.
Vorzugsweise wird die erfindungsgemässe vorsensibilisierte Platte durch Erzeugung konkaver Vertiefungen auf der Oberfläche der Aluminiumplatte, die einen mittleren Öffnungsdurchmesser von nichtmehr als 0,6 µm und ein mittleres Tiefenverhältnis der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser (Vertiefungstiefe/Vertiefungsdurchmesser), das von 0,15 bis 1,0 reicht, aufweisen, vor der Bildung der fotoempfindlichen Schicht erhalten. In diesem Fall sollte der mittlere Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefungen stärker bevorzugt nicht mehr als 0,3 µm und nicht weniger als 0,02 µm betragen.
Der Mittelwert des Verhältnisses Vertiefungstiefe/Öffnungsdurchmesser sollte stärker bevorzugt nicht weniger als 0,2 und nicht mehr als 0,5 betragen.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN:
1 ist ein Diagramm, das ein Beispiel einer trapezoidalen Wellenform einer Wechselstrom-Stromquelle zeigt, die vorzugsweise bei der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung eingesetzt wird, wie später beschrieben; und
2 ist eine schematische Ansicht, die ein Beispiel der elektrolytischen Vorrichtung zeigt, die bei der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung eingesetzt wird, wie später beschrieben.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG:
Als nächstes wird die vorliegende Erfindung genau erklärt.
Es besteht keine besondere Beschränkung in bezug auf eine in einer erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platte einzusetzenden Aluminiumplatte, so lange ihre Aluminiumreinheit 99 Gew.% oder mehr beträgt, und sie kann Fe, Si, Ti, Cu, Mg usw. zusätzlich zu Al enthalten. Unter diesen sollte die Aluminiumplatte vorzugsweise 0,15 bis 0,5 Gew.%. Fe, 0,03 bis 0,15 Gew.% Si und 0,003 bis 0,050 Gew.% enthalten; und weiterhin sollte sie 0,001 bis 0,05 Gew.% Cu und/oder 0,001 bis 0,1 Gew.% Mg enthalten.
Fe übt einen Einfluss auf die Festigkeit der Lithografiedruckplatte und die Geeignetheit der Lithografiedruckplatte zum Verbinden auf einen Plattenzylinder aus. Der Fe-Gehalt beträgt vorzugsweise nicht mehr als 0,5 Gew.%, stärker bevorzugt nicht mehr als 0,4 Gew.%. Weiterhin ist Fe als unvermeidbare Verunreinigung in einem Aluminium-Grundmetall als Ausgangsmaterial enthalten, so dass, falls der Fe-Gehalt weniger als 0,15 Gew.% beträgt, ein sehr teures hochreines Grundmetall verwendet werden muss, was unrealistisch ist. Diesbezüglich beträgt der Fe-Gehalt vorzugsweise nicht weniger als 0,15 Gew.%, stärker bevorzugt nicht weniger als 0,2 Gew.%.
Da Si als unvermeidbare Verunreinigung in einem Al-Grundmetall als Ausgangsmaterial enthalten ist, wird eine kleine Menge an Si oft absichtlich zu dem Ausgangsmaterial zugegeben, um die Ungleichmässigkeit der Si-Gehalte in Abhängigkeit von den Ausgangsmaterialien zu vermeiden. In diesem Fall würde, falls der Si-Gehalt 0,15 Gew.% überschreitet, das Auftreten des Problems verursacht werden, dass der Nicht-Bildbereich eher dazu neigt, angefleckt zu werden. Diesbezüglich sollte der Si-Gehalt vorzugsweise nicht mehr als 0,15 Gew.%, stärker bevorzugt nicht mehr als 0,13 Gew.%, betragen. Mittlerweile würde, in Abhängigkeit von den Ausgangsmaterialien, der Si-Gehalt bereits nicht weniger als 0,03 Gew.% betragen, so dass ein Si-Gehalt von weniger als 0,03 Gew.% unrealistisch wäre. Diesbezüglich sollte der Si-Gehalt vorzugsweise nicht weniger als 0,03 Gew.%, stärker bevorzugt nicht weniger als 0,05 Gew.%, betragen.
Es wird Ti zugegeben, um die Kristallstruktur der Aluminiumplatte beim Giessen der Aluminiumplatte wie zuvor zu verfeinern. Falls der Ti-Gehalt weniger als 0,003 Gew.% beträgt, würde die Wirkung der Verfeinerung der Kristallstruktur der Aluminiumplatte unzureichend werden. Diesbezüglich sollte der Ti-Gehalt nicht weniger als 0,003 Gew.%, stärker bevorzugt nicht weniger als 0,005 Gew.%, betragen. Andererseits wäre es, wenn der Ti-Gehalt mehr als 0,050 Gew.% beträgt, unmöglich, eine weitere Verbesserung der Wirkung des Verfeinerns der Kristallstruktur der Aluminiumplatte zu erwarten, und es würde im Gegenteil das Auftreten der Bildung von überschüssigen Ti-Verbindungen, wie TiB₂, als Verunreinigung verursacht werden, was zu Fehlern in der Aluminiumplatte führt. Diesbezüglich sollte der Ti-Gehalt nicht mehr als 0,050 Gew.%, stärker bevorzugt nicht mehr als 0,04 Gew.%, betragen. Ti wird in die Aluminiumplatte als Al-Ti-Legierung oder als Al-B-Ti-Legierung zugegeben.
Cu ist ein sehr wichtiges Element bei der Kontrolle der elektrolytischen Aufrauhungsbehandlung der Aluminiumplatte, und gleichzeitig ist es zur Verbesserung der Festigkeit der Lithografiedruckplatte wirksam. Diesbezüglich sollte der Cu-Gehalt vorzugsweise nicht weniger als 0,001 Gew.% betragen. Andererseits würden sich, wenn der Cu-Gehalt 0,05 Gew.% überschreitet, die Kosten des Ausgangsmaterials erhöhen, und darüber hinaus ist es wahrscheinlich, dass ein negativer Einfluss auf die elektrolytische Aufrauhungsbehandlung der Aluminiumplatte ausgeübt wird. Deshalb sollte der Cu-Gehalt vorzugsweise nicht mehr als 0,05 Gew.% betragen.
Mg ist ein wichtiges Element beim Kontrollieren der elektrolytischen Aufrauhungsbehandlung der Aluminiumplatte, und gleichzeitig ist es zur Verbesserung der Festigkeit der Lithografiedruckplatte wirksam. Diesbezüglich sollte der Mg-Gehalt vorzugsweise nicht weniger als 0,001 Gew.% betragen. Andererseits würden sich, wenn der Mg-Gehalt 0,1 Gew.% überschreitet, die Kosten des Ausgangsmaterials erhöhen. Daher sollte der Mg-Gehalt vorzugsweise nicht mehr als 0,1 Gew.% betragen.
Der Rest der Aluminiumplatte besteht aus Al und anderen unvermeidbaren Verunreinigungen. Beispiele dieser unvermeidbaren Verunreinigungen beinhalten Ga, V und Pb.
Eine als erfindungsgemässe vorsensibilisierte Platte einzusetzende Aluminiumplatte kann z.B. durch das folgende Verfahren hergestellt werden. Als erstes wird geschmolzenes Aluminium, das die gewünschten Elemente enthält, zubereitet. Das geschmolzene Aluminium wird dann einer Reinigungsbehandlung unterworfen, um unnötiges Gas, wie Wasserstoff, oder feste Verunreinigungen, die in dem geschmolzenen Aluminium enthalten waren, zu entfernen. Als Reinigungsverfahren zum Entfernen des unnötigen Gases wird z.B. eine Fluxbehandlung oder eine Entgasungsbehandlung unter Verwendung von Argongas, Chlorgas oder dergleichen durchgeführt. Als Reinigungsbehandlung zum Entfernen von festen Verunreinigungen wird z.B. eine Filtrierbehandlung unter Verwendung eines sogenannten Filters aus einem festen Medium (rigid media filter), wie ein Filter aus einer Keramikröhre, ein keramischer Schaumfilter, ein Filter, der Aluminiumspäne und Aluminiumkugeln als Filtermedium einsetzt, oder ein Glasfaserfilter (glass cloth filter) verwendet. Ferner kann eine Reinigungsbehandlung eingesetzt werden, in der die Entgasungsbehandlung und die Filtrierbehandlung kombiniert werden.
Dann wird das geschmolzene Aluminium entweder durch ein Gussverfahren, das eine stationäre Form verwendet, repräsentiert durch ein diskontinuierliches Gussverfahren (DC casting method), oder durch ein Gussverfahren, das eine bewegliche Form verwendet, repräsentiert durch ein kontinuierliches Gussverfahren, gegossen. Im Falle des diskontinuierlichen Gussverfahrens wird, da ein Gussbarren mit einer Dicke von 300 bis 800 mm hergestellt wird, eine Oberflächenschicht von 1 bis 30 mm Dicke, vorzugsweise 1 bis 10 mm Dicke, durch Skalpieren (scalping) gemäss einem herkömmlichen Verfahren abgetrennt. Danach wird, falls gewünscht, eine Ausgleichsbehandlung (soaking treatment) für den Gussbarren durchgeführt. Wenn eine Ausgleichsbehandlung durchgeführt wird, sollte die Wärmebehandlung hiervon bei einer Temperatur von 450 bis 620°C für 1 bis 48 Stunden durchgeführt werden, um keine vergrösserten intermetallischen Verbindungen zu bilden. Wenn die Zeitspanne der Wärmebehandlung weniger als 1 Stunde beträgt, kann die Wirkung der Ausgleichsbehandlung unzureichend werden.
Weiterhin wird der Gussbarren einem Heisswalzen und auch einem Kaltwalzen unterworfen, um eine gewalzte Aluminiumplatte zu bilden. Die Starttemperatur des Heisswalzens sollte vorzugsweise im Bereich von 350 bis 500°C liegen. Eine Zwischenversiegelungsbehandlung kann vor oder nach dem Kaltwalzen oder während des Kaltwalzens durchgeführt werden. Die Zwischenversiegelungsbehandlung kann unter den Erwärmungsbedingungen durchgeführt werden: Temperatur 280 bis 600°C für 2 bis 20 Stunden, vorzugsweise 350 bis 500°C für 2 bis 10 Stunden, wenn ein Versiegelungsofen vom Chargentyp verwendet wird, oder unter den Erwärmungsbedingungen: Temperatur 400 bis 600°C für nicht mehr als 6 Minuten, vorzugsweise 450 bis 550°C für nicht mehr als 2 Minuten, wenn ein kontinuierlicher Versiegelungsofen verwendet wird. Es ist auch möglich, die Kristallstruktur der Aluminiumplatte durch Erwärmen der Aluminiumplatte bei einer Erwärmungsgeschwindigkeit von 10°C/s oder mehr durch Verwendung des kontinuierlichen Versiegelungsofens fein zu gestalten.
In der erfindungsgemäss verwendeten Aluminiumplatte weisen die Kristallkörner, die sich innerhalb eines Bereichs befinden, der von der Oberfläche bis zu einer Tiefe von 50 µm der Aluminiumplatte reicht, eine mittlere Breite von nicht mehr als 80 µm (stärker bevorzugt nicht mehr als 50 µm) und eine maximale Breite von nicht mehr als 150 µm (nicht mehr als 120 µm) in einer Richtung senkrecht zur Walzrichtung der Aluminiumplatte auf (die Breite in dieser Richtung wird nachstehend einfach als "Breite" bezeichnet), und sie weisen eine mittlere Länge von nicht als 400 µm (vorzugsweise nicht mehr als 350 µm) und eine maximale Länge von nicht mehr als 500 µm (vorzugsweise nicht mehr als 450 µm) in der Walzrichtung der Aluminiumplatte auf (die Länge in dieser Richtung wird nachfolgend einfach als "Länge" bezeichnet). Die Kristallkörner können, wie oben beschrieben, durch ein Verfahren eingestellt werden, in dem eine Versiegelung mittels eines kontinuierlichen Versiegelungsofens nach dem Heisswalzen durchgeführt wird, oder durch ein Verfahren, in dem die Versiegelung mittels des kontinuierlichen Versiegelungsofens nach nochmaligem Durchführen des Kaltwalzens im Anschluss an das Heisswalzen durchgeführt wird.
Wenn die Grösse der Kristallkörner, die sich in dem Bereich befinden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer vorbestimmten Tiefe hiervon reicht, auf nicht mehr als einen bestimmten Wert eingerichtet wird, kann die Anzahl der Kristallkörner pro Einheitsfläche erhöht werden. Da die metallische Struktur der Aluminiumplatte sich aus Kristallkörnern und deren Korngrenzen aufbaut, bedeutet die Tatsache, dass eine bei weitem grössere Anzahl von Kristallkörnern vorhanden ist, dass eine viel grössere Anzahl von Kristallgrenzen zusammen mit einer viel grösseren Anzahl von Kristallkörnern vorhanden ist. Daher würde, wenn eine sehr grosse Anzahl von Kristallkörnern und Korngrenzen vorhanden ist, das Fortschreiten von kleinen Rissen, das durch wiederholtes Biegen verursacht wird, unterdrückt werden, wodurch es ermöglicht wird, den Ermüdungsbruch der Lithografiedruckplatte zu unterdrücken, was bisher ein Problem gewesen ist. Insbesondere spielen die Kristallkörner, die sich in dem Bereich befinden, der von der Plattenoberfläche bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, eine Schlüsselrolle, da es wahrscheinlicher ist, dass sich kleine Risse in der Nähe der Plattenoberfläche bilden.
Als Verfahren zur Bestätigung der Merkmale der Kristallkörner kann ein herkömmliches Makroätzverfahren eingesetzt werden. Da jedoch zumindest eine Oberfläche der erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platte aufgerauht oder mit einer fotoempfindlichen Schicht beschichtet ist, und die andere Oberfläche, die nicht mit der fotoempfindlichen Schicht beschichtet ist, ebenfalls mit einer Schutzschicht zur Unterdrückung des Auswaschens von Al während der Entwicklung beschichtet werden kann, so dass es oft schwierig sein würde, die Merkmale der Kristallkörner mittels eines simplen Makroätzens zu bestätigen. Daher wäre es geeigneter, wenn die Oberfläche der Aluminiumplatte einer Verspiegelungs-Endbehandlung (mirror-finishing) durch mechanisches Polieren oder elektrochemisches Polieren unterworfen wird, und die resultierende Platte anschliessend mittels einer vorbestimmten Ätzlösung geätzt wird, um so die Beobachtung der Kristallkörner vor der wirklichen Beobachtung der Merkmale der Kristallkörner zu erleichtern.
Hinsichtlich des mechanischen Polierverfahrens gibt es ein Verfahren, in dem Schleifpapier verwendet wird, und ein Verfahren, in dem eine Schleifmaschine (puff) und ein Schleifmittel verwendet wird. Ein elektrochemisches Polierverfahren ist ein elektrolytisches Gleichstrom-Polierverfahren, das in Schwefelsäure oder Phosphorsäure durchgeführt wird.
Als Ätzlösung zur Erleichterung der Beobachtung der Kristallkörner kann eine wässrige Lösung von Fluorwasserstoffsäure oder eine gemischte wässrige Lösung, die eine Vielzahl von Säuren enthält, eingesetzt werden.
Die Beobachtung der Kristallkörner kann durch das Aufnehmen von Fotografien von Proben, die poliert und geätzt worden sind, mittels eines optischen Mikroskops unter Verwendung eines Polarisationsfilters durchgeführt werden. Auf Grundlage der Fotografien können die Breiten und Längen der Kristallkörner gemessen werden, um die Mittelwerte und die Maximalwerte der Breiten und der Längen zu bestimmen.
Um die Kristallkörner auf eine geeignete Länge zu verlängern, kann es bevorzugt sein, ein Kaltwalzen nach der Versiegelung durchzuführen. Als Ergebnis kann die Zugstärke der Platte erhöht werden, und gleichzeitig wird es möglich, das Fortschreiten von Rissen in Breitenrichtung der Platte zu unterdrücken, da jede der Kristallgrenzen in Walzrichtung verlängert ist. Jedoch würde sich die Anzahl der Kristallkörner pro Einheitsfläche unvorteilhaft verringern, wenn die Platte mehr als notwendig verlängert wird.
Die Aluminiumplatte, die so endbehandelt ist, dass sie eine vorbestimmte Dicke aufweist, z.B. 0,1 bis 0,5 mm mittels Kaltwalzen, kann weiter in ihrer Flachheit mittels einer Nivelliervorrichtung (level controlling apparatus), wie einer Nivellierungswalze oder einem Spannungsnivellierer, verbessert werden. Zusätzlich wird die Aluminiumplatte gewöhnlich durch eine Schlitzlinie (slitter line) hindurchgeführt, um sie zu einer Aluminiumplatte mit einer vorbestimmten Breite zu verarbeiten.
Auf der Oberfläche der so erhaltenen Aluminiumplatte wird eine fotoempfindliche Schicht gebildet, um dadurch die vorsensibilisierte Platte fertigzustellen. Jedoch wird vorzugsweise die Oberfläche der Aluminiumplatte einer Aufrauhungsbehandlung und einer Anodisierungsbehandlung vor der Bildung der fotoempfindlichen Schicht unterworfen, um hierdurch die vorsensibilisierte Platte fertigzustellen.
Die Aufrauhungsbehandlung kann mittels einer mechanischen Aufrauhungsbehandlung, einer elektrolytischen Aufrauhungsbehandlung, einer chemischen Aufrauhungsbehandlung usw. durchgeführt werden. Diese Behandlungen können allein oder in Kombinationen hiervon verwendet werden.
Es ist bei der vorsensibilisierten Platte besonders bevorzugt, dass konkave Vertiefungen mit einem mittleren Öffnungsdurchmesser von nicht mehr als 0,6 µm und einem mittleren Verhältnis der Tiefe der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser (Vertiefungstiefe/Vertiefungsdurchmesser), das von 0,15 bis 1,0 reicht, auf der Oberfläche der Aluminiumplatte vor der Bildung der fotoempfindlichen Schicht gebildet werden.
Die mechanische Aufrauhungsbehandlung, die elektrolytische Aufrauhungsbehandlung, die chemische Aufrauhungsbehandlung oder dergleichen der Aluminiumplatte kann auf die gleiche Weise und unter den gleichen Bedingungen durchgeführt werden, wie sie allgemein eingesetzt werden. Andererseits wird die Bildung der konkaven Vertiefungen mit den zuvor erwähnten Merkmalen vorzugsweise durch ein Verfahren durchgeführt, in dem eine Aluminiumlegierungsplatte zuerst einer elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung in einer wässrigen Salpetersäurelösung und dann einer elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung in einer wässrigen Salzsäurelösung unterzogen wird.
Die Aluminiumlegierungsplatte wird einer Aufrauhungsbehandlung, einschliesslich einer elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung, unterzogen. Die elektrochemische Aufrauhungsbehandlung kann in Kombination mit einer mechanischen Aufrauhungsbehandlung oder einer chemischen Ätzbehandlung durchgeführt werden. Die chemische Ätzbehandlung sollte vorzugsweise vor oder nach der mechanischen Aufrauhungsbehandlung und der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung durchgeführt werden.
Weiterhin kann jede der Aufrauhungsbehandlung und der chemischen Ätzbehandlung zweimal oder öfter wiederholt werden. In bezug auf die Reihenfolge, in der die Aufrauhungsbehandlung und die chemische Ätzbehandlung durchgeführt werden, besteht keine besondere Beschränkung.
Gemäss einem besonders bevorzugten Herstellungsverfahren für eine vorsensibilisierte Platte wird die Aluminiumplatte dem Herstellungsverfahren in der folgenden Reihenfolge unterzogen.

(1) mechanischer Aufrauhungsschritt;
(2) Schritt zur Ätzbehandlung in einer wässrigen Alkalilösung (erste Alkaliätzbehandlung);
(3) Schritt der Behandlung zur Belagsentfernung (smut) in einer sauren wässrigen Lösung (erste Behandlung zur Belagsentfernung);
(4) Schritt zur elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung in einer wässrigen Lösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht (erste elektrochemische Aufrauhungsbehandlung);
(5) Schritt zur Ätzbehandlung in einer wässrigen Alkalilösung (zweite Alkaliätzbehandlung);
(6) Schritt der Behandlung zur Belagsentfernung in einer sauren wässrigen Lösung (zweite Behandlung zur Belagsentfernung);
(7) Schritt zur elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung in einer wässrigen Lösung, die im wesentlichen aus Salzsäure besteht (zweite elektrochemische Aufrauhungsbehandlung);
(8) Schritt zur Ätzbehandlung in einer wässrigen Alkalilösung (dritte Alkaliätzbehandlung); und
(9) Schritt der Behandlung zur Belagsentfernung in einer sauren wässrigen Lösung (dritte Behandlung zur Belagsentfernung).

Es sollte beachtet werden, dass vorzugsweise zwischen jedem der zuvor erwähnten Prozesse (Behandlungen) (1) bis (9) Waschen mit Wasser durchgeführt wird. Jedoch kann auf das Waschen mit Wasser verzichtet werden, wenn zwei aufeinanderfolgende Prozesse (Behandlungen) eine Lösung der gleichen Zusammensetzung einsetzen.
Obwohl, wie oben erwähnt, die Aufrauhungsbehandlungen (mechanische Aufrauhungsbehandlungen und elektrolytische Aufrauhungsbehandlungen) und die chemischen Ätzbehandlungen auf die gleiche Weise und unter den gleichen Bedingungen, wie sie allgemein eingesetzt werden, durchgeführt werden können, sollte die Bildung der erfindungsgemässen konkaven Vertiefungen vorzugsweise durch ein Verfahren und unter den Bedingungen, wie sie nachstehend erklärt werden, durchgeführt werden.
Die mechanische Aufrauhungsbehandlung kann vorteilhaft unter Verwendung einer rotierenden Nylonbürstenwalze mit einem Bürstenhaardurchmesser, der von 0,2 bis 1,61 mm reicht, und einer auf die Oberfläche der Aluminiumplatte zugeführten Aufschlämmung durchgeführt werden. Obwohl öffentlich bekannte Schleifmittel eingesetzt werden können, ist es für das in diesem Fall einzusetzende Schleifmittel stärker bevorzugt, Silicasand, Quarz, Aluminiumhydroxid oder eine Kombination hiervon zu verwenden. Die Details der Schleifmittel sind in JP-A-06-135175 und JP-8-50-40047 aufgeführt. Die spezifische Dichte der Aufschlämmung sollte vorzugsweise im Bereich von 1,05 bis 1,3 liegen. Die mechanische Aufrauhungsbehandlung kann durch irgendein gewünschtes Verfahren durchgeführt werden, wie ein Aufschlämmungssprühverfahren, ein Verfahren, in dem eine Drahtbürste verwendet wird, oder ein Verfahren, in dem aufgerauhte Oberflächenmerkmale einer Walze auf die Oberfläche der Aluminiumplatte übertragen werden. Andere mechanische Aufrauhungsverfahren werden in JP-A-62-074898, JP-A-63-162351, JP-A-63-104889 und dergleichen angeführt.
Die Konzentration der wässrigen alkalischen Lösung, die in der chemischen Ätzbehandlung eingesetzt wird, beträgt vorzugsweise 1 bis 30 Gew.%, und die wässrige alkalische Lösung kann 0 bis 10 Gew.% Aluminium oder Legierungsbestandteile, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, enthalten. Als alkalische wässrige Lösung ist eine wässrige Lösung, die sich im wesentlichen aus Natriumhydroxid zusammensetzt, zur Verwendung bevorzugt. Die Ätzbehandlung kann vorzugsweise bei einer Flüssigkeitstemperatur, die von Raumtemperatur bis 95°C reicht, für 1 bis 120 Sekunden durchgeführt werden. Nach Vollendung der Ätzbehandlung werden vorzugsweise das Ausdrücken von Lösung mittels Andruckwalzen und Wasserwaschen mit einem Spray durchgeführt, so dass verhindert wird, dass die Behandlungslösung in den nächsten Prozess mitgeführt wird.
Die aufgelöste Menge der Aluminiumplatte in der ersten Alkaliätzbehandlung sollte vorzugsweise 0,5 bis 30 g/m², stärker bevorzugt 1,0 bis 20 g/m², am stärksten bevorzugt 3,0 bis 15 g/m², betragen.
Die aufgelöste Menge der Aluminiumplatte in der zweiten Alkaliätzbehandlung sollte vorzugsweise 0,001 bis 30 g/m², stärker bevorzugt 0,1 bis 4 g/m², am stärksten bevorzugt 0,2 bis 1,5 g/m² betragen.
Die aufgelöste Menge der Aluminiumplatte in der dritten Alkaliätzbehandlung sollte vorzugsweise 0,001 bis 30 g/m², stärker bevorzugt 0,01 bis 0,8 g/m², am stärksten bevorzugt 0,02 bis 0,3 g/m² betragen.
Da im allgemeinen ein Belag auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet wird, wenn eine Behandlung zur Belagsentfernung in einem chemischen Ätzen in einer wässrigen Alkalilösung durchgeführt wird, sollte die Behandlung zur Belagsentfernung vorzugsweise unter Verwendung von Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Chromsäure, Salzsäure oder einer gemischten Säure, die zwei oder mehr dieser Säuren enthält, durchgeführt werden. Die Konzentration der sauren wässrigen Lösung, die bei der Behandlung zur Belagsentfernung eingesetzt wird, beträgt vorzugsweise 0,5 bis 60 Gew.%, und die wässrige saure Lösung kann 0 bis 5 Gew.% Aluminium oder Legierungsbestandteile, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, enthalten. Die Behandlung zur Belagsentfernung kann vorzugsweise bei einer Flüssigkeitstemperatur, die von Raumtemperatur bis 95°C reicht, für 1 bis 120 Sekunden durchgeführt werden. Nach Vollendung der Behandlung zur Belagsentfernung wird das Ausquetschen der Lösung mittels Andruckwalzen oder das Waschen mit Wasser mittels Sprühen bevorzugt durchgeführt, um zu vermeiden, dass die Behandlungslösung in den nächsten Prozess mitgeführt wird.
Als nächstes wird eine Beschreibung der wässrigen Lösung gegeben, die bei der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung bei der Herstellung des zuvor erwähnten Trägers eingesetzt wird. Die wässrige Lösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht, kann eine sein, die in herkömmlichen elektrochemischen Aufrauhungsverfahren unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom eingesetzt wird. Insbesondere ist es möglich, eine 1 bis 100 g/l wässrige Salpetersäurelösung einzusetzen, die zumindest eine Art von Salzsäureverbindung oder zumindest eine Art von Salpetersäureverbindung in einer Konzentration, die von 1 g/l bis zur Sättigung hiervon reicht, enthält, worin die Salpetersäureverbindung unter denjenigen ausgewählt wird, die ein Nitration enthalten, wie Aluminiumnitrat, Natriumnitrat, Ammoniumnitrat, und die Salzsäureverbindung wird unter denjenigen ausgewählt, die ein Ion der Salzsäure enthalten, wie Aluminiumchlorid, Natriumchlorid, Ammoniumchlorid. Die wässrige Lösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht, kann Metalle, wie Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium, Silica, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, in aufgelöstem Zustand enthalten. Es ist besonders bevorzugt, eine 0,5 bis 2 Gew.%-ige wässrige Lösung von Salpetersäure zu verwenden, die mit Aluminiumchlorid oder Aluminiumnitrat in einer solchen Menge zugegeben wird, dass die Konzentration der Aluminiumionen innerhalb des Bereichs von 3 bis 50 g/l liegt. Die Temperatur der wässrigen Lösung sollte vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 10 bis 90°C, stärker bevorzugt innerhalb des Bereichs von 40 bis 80°C, liegen.
Die wässrige Lösung, die im wesentlichen aus Salzsäure besteht, kann diejenige sein, die in herkömmlichen elektrochemischen Aufrauhungsbehandlungen unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom eingesetzt wird, Insbesondere ist es möglich, eine 1 bis 100 g/l wässrige Salzsäurelösung einzusetzen, die zumindest eine Art von Salzsäureverbindung oder zumindest eine Art von Salpetersäureverbindung in einer Konzentration enthält, die von 1 g/l bis zur Sättigung hiervon reicht, worin die Salpetersäureverbindung unter denjenigen ausgewählt wird, die ein Nitration enthalten, wie Aluminiumnitrat, Natriumnitrat, Ammoniumnitrat, und die Salzsäureverbindung wird unter denjenigen ausgewählt, die ein Ion der Salzsäure enthalten, wie Aluminiumchlorid, Natriumchlorid, Ammoniumchlorid. Die wässrige Lösung, die im wesentlichen aus Salzsäure besteht, kann Metalle, wie Eisen, Kupfer, Mangan, Nickel, Titan, Magnesium, Silica, die in der Aluminiumlegierung enthalten sein können, in aufgelöstem Zustand enthalten. Es ist besonders bevorzugt, eine 0,5 bis 2 Gew.%-ige wässrige Salzsäurelösung zu verwenden, die mit Aluminiumchlorid oder Aluminiumnitrat in solch einer Menge zugegeben wird, dass die Konzentration der Aluminiumionen innerhalb des Bereichs von 3 bis 50 g/l liegt. Die Temperatur der wässrigen Lösung sollte vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 10 bis 60°C, stärker bevorzugt innerhalb des Bereichs von 20 bis 50°C, liegen. Es kann Hypochlorsäure zu der wässrigen Salzsäurelösung zugegeben werden.
Die wässrige Lösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht, die in der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Wechstrom eingesetzt wird, kann unter denjenigen ausgewählt werden, die in der herkömmlichen elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom eingesetzt werden. Vorteilhaft wird sie unter der zuvor erwähnten wässrigen Lösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht, und der zuvor erwähnten wässrigen Lösung, die im wesentlichen aus Salzsäure besteht, ausgewählt. Die Wellenform einer Wechselstrom-Stromquelle, die in der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung eingesetzt wird, kann eine Sinuswelle, eine Rechteckwelle, eine trapezoidale Welle, eine Dreieckwelle usw. sein. Unter diesen sind die Rechteckwelle und die trapezoidale Welle bevorzugt, und die trapezoidale Welle ist am stärksten bevorzugt. Die Frequenz der Wechselstrom-Stromquelle sollte vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 250 Hz liegen. 1 zeigt ein Diagramm einer trapezoidalen Welle als Beispiel einer Wellenform der Wechselstrom-Stromquelle, die vorzugsweise in der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung der vorliegenden Erfindung eingesetzt wird. In 1 ist (ta) die Anodenreaktionszeit; (tc) ist die Kathodenreaktionszeit; (tp) ist die Zeit, in der sich die Spannung von Null bis zu einem Peak erhöht; (Ia) ist der Peakstrom an der Anodenzyklusseite und (Ic) ist der Peakstrom an der Kathodenzyklusseite. In dieser trapezoidalen Wellenform ist die Zeit (tp), in der sich der Strom von Null bis zu einem Peak erhöht, vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 1 bis 10 ms. Falls die Zeit (tp) weniger als 1 ms beträgt, würde aufgrund des Impedanzeinflusses eines Stromquellenschaltkreises eine grosse Spannung der Stromquelle als anhebendes Moment der Spannungswellenform benötigt werden, was zu erhöhten Kosten für die Installation der Stromquelle führt. Wenn (tp) grösser als 10 ms ist, wäre es andererseits wahrscheinlicher, dass die Aufrauhungsbehandlung von den Spurbestandteilen in dem Elektrolyten beeinflusst wird, was es schwierig macht, eine gleichmässige Aufrauhung durchzuführen. Die Bedingungen in jedem Zyklus eines Wechselstroms, der bei der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung eingesetzt wird, sollte vorzugsweise so sein, dass ein Verhältnis der Kathodenreaktionszeit zur Anodenreaktionszeit (ta) (tc/ta) innerhalb des Bereichs von 1 bis 20 ist; das Verhältnis der Strommenge (Qc), wenn die Aluminiumplatte die Kathode ist, zur Strommenge (Qa), wenn die Aluminiumplatte die Anode ist (Qc/Qa) ist innerhalb des Bereichs von 0,3 bis 20; und die Anodenreaktionszeit (ta) ist innerhalb des Bereichs von 5 bis 1.000 ms. Stärker bevorzugt sollte das Verhältnis (tc)/(ta) innerhalb des Bereichs von 2,5 bis 15 liegen. In ähnlicher Weise sollte das Verhältnis (Qc)/(Qa) stärker bevorzugt innerhalb des Bereichs von 2,5 bis 15 liegen. Die Stromdichte des Peakstroms der trapezoidalen Welle auf der Anodenzyklusseite (Ia) sowie der Kathodenzyklusseite (Ic) sollten vorzugsweise beide innerhalb des Bereichs von 10 bis 200 A/dm² liegen. Das Verhältnis (Ic)/(Ia) sollte vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 0,3 bis 20 liegen. Die Gesamtstrommenge, die für die Anodenreaktion der Aluminiumplatte zu dem Zeitpunkt benötigt wird, zu dem die elektrochemische Aufrauhungsbehandlung vollendet worden ist, sollte vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 25 bis 1.000 C/dm² liegen. Ein Elektrolytbad, das erfindungsgemäss bei der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Wechselstrom eingesetzt wird, kann unter bekannten Bädern ausgewählt werden, die bei der Oberflächenbehandlung eingesetzt werden, wie ein vertikales Bad, ein flaches Bad und ein kreisförmiges Bad. Unter diesen ist das kreisförmige Elektrolytbad, das in JP-B-05-195300 angeführt ist, besonders bevorzugt. Der im Elektrolytbad zirkulierende Elektrolyt kann zu der Vorschubrichtung des Aluminiumnetzes parallel oder im Gegenfluss sein. Es können eine oder mehrere Wechselstromquellen mit einem einzelnen Elektrolytbad verbunden sein. Es können zwei oder mehr Elektrolytbäder eingesetzt werden. Die in 2 gezeigte Vorrichtung kann für die elektrochemische Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Wechselstrom eingesetzt werden. In bezug auf 2 bezeichnet das Bezugszeichen (50) ein Hauptelektrolytbad, (51) eine Wechselstrom-Stromquelle, (52) eine kreisförmige Trommelwalze, (53a) und (53b) die Hauptelektroden, (54) eine Einlassöffnung für den Elektrolyten, (55) einen Elektrolyten, (56) einen Schlitz, (58) eine Hilfsanode, (60) ein Hilfsanodenbad und (W) eine Aluminiumplatte. Wenn zwei oder mehr Elektrolytbäder eingesetzt werden, können die Bedingungen für die Elektrolyse die gleichen sein oder sich voneinander unterscheiden. Die Aluminiumplatte (W) wird um die kreisförmige Trommelwalze (52) gewickelt, die so angeordnet ist, dass sie in das Hauptelektrolytbad (50) eingetaucht, und sie wird einer Elektrolytbehandlung während ihres Transfers durch die Hauptelektroden (53a) und (53b) unterzogen, die mit der Wechselstrom-Stromquelle (51) verbunden sind. Der Elektrolyt (55) wird aus der Elektrolyt-Einlassöffnung (54) über den Schlitz (56) zu einem Elektrolytweg (57) zugeführt, der zwischen der kreisförmigen Trommelwalze (52) und den Hauptelektroden (53a) und (53b) zwischengelagert ist. Die so im Hauptelektrolytbad (50) behandelte Aluminiumplatte (W) wird dann einer Elektrolytbehandlung in einem Hilfsanodenbad (60) unterzogen. Innerhalb des Hilfsanodenbades (60) ist die Hilfsanode (58) so angeordnet, dass sie der Aluminiumplatte (W) gegenüberliegt, und der Elektrolyt (55) wird so zugeführt, dass er durch einen Raum zwischen der Hilfsanode (58) und der Aluminiumplatte (W) fliesst.
Die elektrochemische Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Gleichstrom ist ein Verfahren, in dem ein Gleichstrom zwischen die Aluminiumplatte und die Elektroden, die der Aluminiumplatte gegenüberliegen, angelegt wird, um hierdurch die Aluminiumplatte elektrochemisch aufzurauhen. Der Elektrolyt kann unter denjenigen ausgewählt werden, die in der bekannten elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Gleichstrom oder Wechselstrom eingesetzt werden. Vorteilhafterweise kann er unter der zuvor erwähnten wässrigen Lösung, die im wesentlichen aus Salpetersäure besteht, und der zuvor erwähnten wässrigen Lösung, die im wesentlichen aus Salzsäure besteht, ausgewählt werden. Die Temperatur des Elektrolyten sollte vorzugsweise innerhalb des Bereichs von 10 bis 80°C liegen. Als Vorrichtung, die in der elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung von Gleichstrom eingesetzt wird, wären die bekannten, die Gleichstrom verwenden, auch in der vorliegenden Erfindung nützlich. Jedoch kann vorzugsweise eine Vorrichtung eingesetzt werden, in der ein oder mehrere Paare einer Anode und einer Kathode alternierend angeordnet sind, wie es in JP-A-01-141094 angeführt ist. Beispiele der bekannten Vorrichtung, die in diesem Fall nützlich sind, sind in den japanischen Patentanmeldungen Nrn. 05-68204, 06-205657, 06-21050, JP-A-61-19115 und JP-B-57-44760 angeführt. Ein Gleichstrom kann zwischen eine Leitungswalze, die in Kontakt mit der Aluminiumplatte steht, und einer Kathode, die der Leitungswalze gegenüberliegt, angelegt werden, um hierdurch eine elektrochemische Aufrauhungsbehandlung unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode durchzuführen. Nach Vollendung der Elektrolytbehandlung wird das Ausquetschen von Lösung mittels Andruckwalzen oder das Wasserwaschen mittels Sprühen vorzugsweise durchgeführt, um so zu vermeiden, dass die Behandlungslösung in den nächsten Prozess mitgeführt wird. Der Gleichstrom, der für die elektrochemische Aufrauhungsbehandlung eingesetzt wird, sollte vorzugsweise ein Gleichstrom sein, der eine Wellenrate (ripple rate) von 20 % oder weniger aufweist. Vorzugsweise sollte die Stromdichte des Gleichstroms innerhalb des Bereichs von 10 bis 200 A/dm² liegen, und wenn die Aluminiumplatte die Anode ist, sollte die Strommenge innerhalb des Bereichs von 25 bis 1.000 C/dm² liegen. Die in diesem Fall eingesetzte Anode kann unter bekannten sauerstoffbildenden Anoden ausgewählt werden, wie Elektroden, die durch Ummanteln (cladding) oder Plattieren von Ferrit, Indiumoxid oder Platin auf einem Ventilmetall (valve metal), wie Titan, Niob und Zirkonium, gebildet werden. Die in diesem Fall eingesetzte Kathode kann unter Elektroden ausgewählt werden, die aus Kohlenstoff, Platin, Titan, Niob, Zirkonium und Edelstahl gebildet werden, und einer Elektrode, die als Kathode für eine Brennstoffzelle eingesetzt wird.
Als Ergebnis der zuvor erwähnten Aufrauhungsbehandlung wird die Oberfläche der Aluminiumlegierungsplatte mit konkaven Vertiefungen versehen, die jeweils ein spezifisches Merkmal aufweisen, d.h. einen mittleren Öffnungsdurchmesser von nicht mehr als 0,6 µm an dessen Öffnung und ein mittleres Tiefenverhältnis der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser, das von 0,15 bis 1,0 reicht (Vertiefungstiefe/Vertiefungsdurchmesser). Stärker bevorzugt sollte der mittlere Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefungen nicht mehr als 0,3 µm, jedoch nicht weniger als 0,02 µm betragen. Weiterhin sollte das mittlere Tiefenverhältnis der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser stärker bevorzugt nicht weniger als 0,2, jedoch nicht mehr als 0,5 betragen.
Der mittlere Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefungen auf der Oberfläche des Aluminiumträgers und das mittlere Tiefenverhältnis der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser kann wie folgt bestimmt werden. Als Aluminiumträger kann ein Aluminiumträger eingesetzt werden, der noch nicht mit einer Bildaufnahmeschicht versehen ist, oder es kann ein Aluminiumträger eingesetzt werden, der durch Entfernen der Bildaufnahmeschicht von einer vorsensibilisierten Platte erhalten wird.
(1) Mittlerer Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefungen:
Als Verfahren zum Messen des mittleren Öffnungsdurchmessers der konkaven Vertiefungen bestehen die folgenden zwei Verfahren (1) und (2). Die Ergebnisse, die von dem Erfinder gemäss beiden dieser Verfahren gemessen wurden, waren im wesentlichen identisch.

1. Die Fotografien der Oberfläche des Aluminiumträgers werden bei einer Vergrösserung von 50.000 von dessen Oberseite mittels eines Rasterelektronenmikroskops vom Feldemissionstyp (FE-SEM, z.B. S-900; Hitachi Manufacturing Co., Ltd.) genommen. Dann wird eine gerade Linie von 10 cm Länge (entsprechend 2 µm) auf der SEM-Fotografie oder auf einer Kopie hiervon gezogen, und der Öffnungsdurchmesser [= (längerer Durchmesser/kürzerer Durchmesser)/2] der konkaven Vertiefungen, durch die die Linie führt, wird gemessen. Die Messung des Öffnungsdurchmessers wird fortgesetzt bis die Anzahl der konkaven Vertiefungen, deren Öffnungsdurchmesser gemessen wurde, zumindest 20 wird, dem die Berechnung des mittleren Öffnungsdurchmessers folgt.
2. Die Fotografie der Oberfläche des Aluminiumträgers wird mit einer Vergrösserung von 50.000 von dessen Oberseite mittels eines FE-SEM genommen. Die so erhaltene SEM-Fotografie wird als Bilddaten in einen Computer mittels eines Scanners übertragen. Danach wird der mittlere Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefungen mittels einer Bildbearbeitungssoftware, die auf dem Markt erhältlich ist, bestimmt.

(2) Mittleres Verhältnis der Tiefe der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser:
Als Verfahren zum Messen des mittleren Verhältnisses der Tiefe der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser gibt es die folgenden vier Verfahren 1. bis 4. Die Ergebnisse, die von dem Erfinder gemäss all diesen Verfahren gemessen wurde, waren im wesentlichen identisch.

1. Der Aluminiumträger wird in einem Winkel von 90° oder mehr auf solche Weise gebogen, dass die aufgerauhte Oberfläche des Aluminiumträgers nach aussen zeigt, und wird dann auf einem Probenbett mit einer leitenden Paste fixiert. Dann werden mittels FE-SEM die Fotografien des gerissenen Teils der anodisierten Schicht an dem gebogenen Teil des Aluminiumträgers mit einer Vergrösserung von 50.000 aufgenommen. Auf Grundlage der so aufgenommenen Fotografien werden die Öffnungsdurchmesser und die Tiefen von zumindest zehn konkaven Vertiefungen gemessen, und dann wird die Tiefe der konkaven Vertiefungen zu ihrem Öffnungsdurchmesser berechnet. Es sollte beachtet werden, dass als Verfahren zum Messen des Öffnungsdurchmessers der konkaven Vertiefung das zuvor erwähnte Verfahren 1. von (1) verwendet werden kann. Weiterhin wird als Tiefe der konkaven Vertiefung die Tiefe ausgewählt, die am tiefsten ist.
2. Der Aluminiumträger wird mit einem Harz eingeschlossen, und der resultierende Körper wird mittels einer automatischen Poliermaschine poliert, um einen Querschnitt herzustellen. Danach werden die zuvor erwähnten Messungen auf die gleiche Weise wie oben unter Punkt 1. mittels FE-SEM durchgeführt.
3. Mittels eines Microtoms wird der Aluminiumträger geschnitten, um einen Querschnitt zu bilden. Danach werden die zuvor erwähnten Messungen auf die gleiche Weise wie oben unter Punkt 1. mittels FE-SEM durchgeführt.
4. Der Querschnitt des Aluminiumträgers wird durch Kombination des Verfahrens des obigen Punkts 2. und des Verfahrens des obigen Punkts 3. vorbereitet. Danach werden die zuvor erwähnten Messungen auf die gleiche Weise wie oben unter Punkt 1. beschrieben mittels FE-SEM durchgeführt.

Wenn die kleinen konkaven Vertiefungen auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet werden, erhöht sich die Oberfläche der Aluminiumplatte, was die Adhäsionskraft der Aluminiumplatte zu einer Aufnahmeschicht (Bildbereich) erhöht. Als Ergebnis kann, wenn die Aluminiumplatte zu einer vorsensibilisierten Platte gebildet wird, das Ablösen des Bildbereichs oder ein teilweises Fehlen des Bildbereichs vermieden werden, was somit eine überaus herausragende Drucklebensdauer zur Verfügung stellt.
Um die Abriebbeständigkeit der Oberfläche der Aluminiumplatte zu erhöhen, ist es bevorzugt, die Anodisierungsbehandlung im Anschluss an die Aufrauhungsbehandlung durchzuführen. Der in der Anodisierungsbehandlung verwendete Elektrolyt kann von irgendeiner Art sein, so lange der Elektrolyt fähig ist, einen porösen Oxidfilm zu bilden. Zum Beispiel können Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder eine Mischung hiervon im allgemeinen als Elektrolyt eingesetzt werden. Die Konzentration des Elektrolyten kann in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten geeignet bestimmt werden. Da die Bedingungen für die Anodisierungsbehandlung in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten verändert werden, ist es schwierig, die Bedingungen für die Anodisierungsbehandlung zu definieren. Im allgemeinen können die Bedingungen für die Aodisierungsbehandlung jedoch wie folgt sein: die Konzentration des Elektrolyten beträgt 1 bis 80 Gew.%, die Temperatur des Elektrolyten beträgt 5 bis 70°C, die Stromdichte beträgt 1 bis 60 A/dm², die Spannung beträgt 1 bis 100 V und die Elektrolysezeit beträgt 10 bis 300 Sekunden.
Nach Vollendung der Aufrauhungsbehandlung und der Anodisierungsbehandlung, wie oben beschrieben, wird die Aluminiumplatte mit einem fotoempfindlichen Material beschichtet und dann getrocknet, um eine fotoempfindliche Schicht zu bilden, wodurch eine vorsensibilisierte Platte vollendet wird. Für die fotoempfindlichen Materialien besteht keine besondere Beschränkung, und daher können fotoempfindliche Materialien, die im allgemeinen bei fotoempfindlichen Lithografiedruckplatte eingesetzt werden, verwendet werden.
Zum Beispiel kann eine positive fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Novolakharz und Naphthochinondiazid zusammensetzt, oder eine negative fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Harz auf Diazobasis oder einem Fotopolymerharz zusammensetzt, in der vorsensibilisierten Platte eingesetzt werden. Die durch die Bildung einer solchen fotoempfindlichen Schicht erhaltene vorsensibilisierte Platte wird einer Bildbelichtung mittels eines Lithographiefilms (lith film) unterzogen, entwickelt und dann gummiert, um hierdurch eine Lithografiedruckplatte fertigzustellen, die zum Verbinden mit einer Druckmaschine bereit ist.
Weiterhin kann, wenn ein Ausgangsmaterial, das gegenüber einem Laserstrahl empfindlich ist, für eine fotoempfindliche Schicht eingesetzt wird, ein Bild mittels eines Lasers direkt belichtet werden. Beispiele solch einer fotoempfindlichen Schicht beinhalten eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Infrarotabsorber, einer Verbindung, die beim Erwärmen eine Säure bildet, und einer Verbindung, die durch eine Säure vernetzt wird, zusammensetzt; eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Infrarotabsorber, einer Verbindung, die beim Erwärmen eine Säure bildet, und einer Verbindung, die einen vernetzten Bereich, der durch eine Säure zersetzt wird, zusammensetzt; eine fotoempfindliche Schicht, die zwei Schichten einer Schicht beinhaltet, die sich aus einer Verbindung, die durch Bestrahlung eines Laserstrahls ein Radikal bildet, einem alkalilöslichen Bindemittel und einem multifunktionellen Polymer oder Vorpolymer und einer sauerstoffabschirmenden Schicht zusammensetzt; eine fotoempfindliche Schicht, die zwei Schichten einer Zentralschicht zur physikalischen Entwicklung (physical development center layer) und eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht enthält; eine fotoempfindliche Schicht, die drei Schichten einer polymerisierenden Schicht, die sich aus einem multifunktionellen Monomer und einem multifunktionellen Bindemittel zusammensetzen, eine Schicht, die sich aus Silberhalogenid und einem Reduktionsmittel zusammensetzt, und eine sauerstoffabschirmende Schicht enthält; eine fotoempfindliche Schicht, die zwei Schichten einer Schicht, die sich aus Novolakharz und Naphthachinondiazid zusammensetzt, und eine Schicht, die sich aus Silberhalogenid zusammensetzt, enthält; eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem organischen fotoleitenden Körper zusammensetzt; eine fotoempfindliche Schicht, die eine Laserstrahl-absorbierende Schicht, die durch Bestrahlung mit einem Laserstrahl eliminiert wird, eine lipophile und/oder eine hydrophile Schicht enthält; eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einer Verbindung, die durch Absorption von Energie eine Säure bildet, einer hochmolekularen Verbindung, die eine funktionelle Gruppe an ihrer Seitenkette aufweist, die eine Sulfonsäure oder Carbonsäure mit einer Säure bildet, und einer Verbindung, die Energie an das säurebildende Mittel durch die Absorption von sichtbarem Licht abgibt, zusammensetzt. Andere Beispiele der fotoempfindlichen Schicht beinhalten eine Bildaufnahmeschicht (fotoempfindliche Schicht), die in der japanischen Patentanmeldung Nr. 2001-276265 angeführt wird.
Die erfindungsgemässe vorsensibilisierte Platte, die wie oben beschrieben erhalten wird, weist die Merkmale auf, dass die Festigkeit gegenüber einem Ermüdungsbruch nach ihrer Wärmebehandlung bei 300°C für 7 Minuten nicht weniger als 75 %, stärker bevorzugt nicht weniger als 80 % von derjenigen vor der Wärmebehandlung beträgt. Solange die vorsensibilisierte Platte durch die zuvor erwähnten numerischen Bereiche beschränkt wird, wäre es möglich, die Bildung von Ermüdungsbrüchen während des Druckens zu vermeiden, sogar wenn die vorsensibilisierte Platte einer Brennbehandlung unterzogen wurde.
Die Brennbehandlung wird gewöhnlich bei einer Temperatur von 200°C oder mehr, insbesondere bei einer Temperatur, die von 240 bis 270°C reicht, durchgeführt. Jedoch hat der Erfinder die Ermüdungsbruchfestigkeit nach der Brennbehandlung für 7 Minuten bei 300°C, was höher als der zuvor erwähnte konventionelle Temperaturbereich ist, und die Ermüdungsbruchfestigkeit vor der zuvor erwärmten Wärmebehandlung untersucht. Als Ergebnis wurde gefunden, dass, so lange die Ermüdungsbruchfestigkeit nach der Wärmebehandlung bei mehr als einem bestimmten Anteil derjenigen vor der Wärmebehandlung beibehalten wird, die Bildung von Ermüdungsbrüchen während des Druckens vermieden werden kann, sogar wenn eine Brennbehandlung durchgeführt worden ist, um hierdurch die vorliegende Erfindung zu vollenden.
Als Verfahren zur Beibehaltung der zuvor erwähnten Beziehung zwischen der Ermüdungsbruchfestigkeit nach der Wärmebehandlung bei 300°C für 7 Minuten und der Ermüdungsbruchfestigkeit vor der zuvor erwähnten Wärmebehandlung, ist es möglich, ein Verfahren anzuwenden, in dem eine Aluminiumplatte eingesetzt wird, in der die Kristallkörner, die sich innerhalb eines Bereichs befinden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, eine mittlere Breite von nicht mehr als 80 µm und eine maximale Breite von nicht mehr als 150 µm in der Richtung senkrecht zur Walzrichtung der Aluminiumplatte aufweisen und eine mittlere Länge von nicht mehr als 400 µm und eine maximale Länge von nicht mehr als 500 µm in Walzrichtung der Aluminiumplatte aufweisen.
Die Ermüdungsbruchfestigkeit, auf die hierin Bezug genommen wird, wird wie folgt gemessen.
Als erstes wird ein Halbtonpunkt-Bildbereich über die Gesamtheit der vorsensibilisierten Platte auf solche Weise gedruckt, dass die Fläche des Bildbereichs 50 % der Gesamtfläche beträgt. Die Belichtung des Bildbereichs kann entweder durch ein Verfahren, in dem eine Belichtung durchgeführt wird, während ein Lithografiefilm (lith film) in engen Kontakt mit der vorsensibilisierten Platte gebracht wird, oder durch ein Verfahren, in dem mit einem Laserstrahl abgetastet wird, um so einen vorbestimmten Halbtonpunkt zu bilden, wenn ein fotoempfindliches Material vom direkten Laserstrahl-Drafttyp (laser beam direct drafting type photosensitive material) eingesetzt wird, durchgeführt werden. Anschliessend wird die vorsensibilisierte Platte einer Entwicklungsbehandlung unterzogen, um hierdurch eine Lithografiedruckplatte zu erhalten, die einen Halbtonpunkt-Bildbereich, der 50 % der Gesamtfläche belegt, und einen Nicht-Bildbereich aufweist. Die Entwicklungsbehandlung kann durch ein Verfahren durchgeführt werden, in dem der Nicht-Bildbereich mittels eines Entwicklers entfernt wird, oder durch ein Verfahren, in dem eine geringe Erwärmung bei einer Temperatur, die von 50 bis 150°C reicht, durchgeführt wird. Es sollte beachtet werden, dass der Grund für das Vorsehen solch eines Bildbereichs ist, die Erwärmung über die gesamte Oberfläche gleichmässig durchzuführen.
Als nächstes wird die so erhaltene Lithografiedruckplatte geschnitten, so dass sie eine Grösse zur Verwendung in dem Ermüdungsbruchtest besitzt, insbesondere 20 mm Breite in der Richtung senkrecht zur Walzrichtung der Platte und 100 mm Länge in Walzrichtung der Platte. Eine Vielzahl von Proben, die von der gleichen Lithografiedruckplatte erhalten wurden, wird dann in eine Gruppe von Proben zur Bestimmung der Ermüdungsbruchfestigkeit nach dem Erwärmen und eine andere Gruppe von Proben zur Bestimmung der Ermüdungsbruchfestigkeit vor dem Erwärmen aufgeteilt.
Danach wird die Gruppe der Proben zur Bestimmung der Ermüdungsbruchfestigkeit nach dem Erwärmen einem Erwärmen bei 300°C für 7 Minuten unterzogen. Das Erwärmen wird unter Verwendung einer Vorrichtung durchgeführt, die in der Lage ist, gleichmässig über die gesamte Oberfläche zu erwärmen. Beispiele solcher Erwärmungsvorrichtungen beinhalten eine Erwärmungsvorrichtung von Strahlungstyp. Konkrete Beispiele solcher Erwärmungsvorrichtungen vom Strahlungstyp beinhalten den PLANO PS Burning Processor 1300 (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
Dann wird eine geringe Spannung auf jede der Proben, die erwärmt worden war, ausgeübt, und auch auf die Probe, die nicht erwärmt worden war, auf eine solche Weise, dass die Spannung pro Einheitsquerschnitt etwa 1,0 kg/mm² wird, und unter der Bedingung, worin ein Ende der Probe fixiert ist, wird eine Vibration auf die Probe auf solche Weise ausgeübt, dass die Amplitude am anderen Ende der Probe zu etwa 5 mm wird, und es wird die Anzahl der Vibrationen gezählt, bis die Probe bricht. Auf diese Weise wird die Ermüdungsbruchfestigkeit nach dem Erwärmen bei 300°C für 7 Minuten und die Ermüdungsbruchfestigkeit vor dem Erwärmen bestimmt.
In der erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platte sollte die 0,2 %-Dehngrenze nach der Wärmebehandlung der vorsensibilisierten Platte bei 300°C für 7 Minuten vorzugsweise 65 % oder mehr von derjenigen vor der Wärmebehandlung betragen. Solange die 0,2 %-Dehngrenze innerhalb des zuvor erwähnten Bereichs liegt, ist die Festigkeit gegenüber Verbiegen der vorsensibilisierten Platte nach der Wärmebehandlung geeignet, wodurch es ermöglicht wird, das Biegen der vorsensibilisierten Platte zur Verbindung derselben an den Plattenzylinder ohne Verursachung irgendwelcher Probleme durchzuführen. Andererseits würde es, wenn die 0,2 %-Dehngrenze ausserhalb des oben erwähnten Bereichs liegt, schwierig werden, das Biegen gleichmässig in Richtung der Breite nach der Wärmebehandlung durchzuführen, wodurch es unmöglich wird, die vorsensibilisierte Platte gleichmässig mit dem Plattenzylinder zu verbinden, und führt daher zur Bildung von Rissen während des Druckens.
Erfindungsgemäss bezeichnet der Ausdruck "0,2 %-Dehngrenze" eine Belastung, unter der eine permanente Verlängerung in einem Zugfestigkeitstest zu 0,2 % wird. Diese 0,2 %-Dehngrenze wird in Übereinstimmung mit einer Vorschrift von JIS Z2241-1993 bestimmt. Es sollte beachtet werden, dass das Erwärmen auf die gleiche weise wie unter Bezug auf die zuvor erwähnte Ermüdungsbruchfestigkeit durchgeführt werden kann.
BEISPIELE
Die vorliegende Erfindung wird ferner unter Bezugnahme auf die folgenden verschiedenen Beispiele genau erklärt, die nicht dazu dienen, die Erfindung zu beschränken.
BEISPIELE 1 BIS 3 UND VERGLEICHSBEISPIELE 1 BIS 4
(1-1) Herstellung der vorsensibilisierten Platte:
Die Aluminiumlegierungen (1) bis (3), die jeweils die in Tabelle 1 gezeigte Zusammensetzung besitzen, wurden entsprechend einem diskontinuierlichen Giessen unterzogen, um einen Gussbarren zu erhalten, und nachdem dessen Oberfläche geschnitten worden war, wurde der resultierende Gussbarren sukzessive einer Ausgleichsbehandlung, einem Heisswalzen, einer Zwischenversiegelung und einem Kaltwalzen unterzogen, um eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,29 mm zu erhalten. In diesem Fall wurden die Bedingungen für die Zwischenversiegelung und das Heisswalzen variiert, so dass vorsensibilisierte Platten erhalten wurden, in denen die Grösse eines Aluminiumkristallkorns von jedem anderen variierte. Die Aluminiumlegierungen (1) und (2) wurden aus Materialien vom JIS A1000-Typ mit einer Aluminiumreinheit von 99 Gew.% oder mehr gebildet, die in der vorliegenden Erfindung eingesetzt wurden, während die Aluminiumlegierung (3) von Materialien vom JIS A3000-Typ mit einer Aluminiumreinheit von weniger als 99 Gew.% gebildet wurden.
Jede der so erhaltenen Aluminiumplatten wurde einer Bürstenkörnungsbehandlung unterzogen, während eine Bimssteinsuspension (pamistone suspension) auf dessen Oberfläche zugeführt wird, um hierdurch die mechanische Aufrauhungsbehandlung durchzuführen. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte einer chemischen Ätzbehandlung unter Verwendung einer wässrigen Natriumhydroxidlösung unterzogen, der ein Waschen mit Wasser und eine Behandlung zur Belagsentfernung unter Verwendung von Salpetersäure folgte. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte einer Wechselstromelektrolyse in einer wässrigen Salpetersäurelösung unterzogen, um hierdurch die elektrochemische Aufrauhungsbehandlung der Aluminiumplatte durchzuführen. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte zu einem geringen Grad der Ätzbehandlung mit einer wässrigen verdünnten Natriumhydroxidlösung unterzogen, der ein Waschen mit Wasser und eine Behandlung zur Belagsentfernung mit einer wässrigen Schwefelsäurelösung folgte. Weiterhin wurde nach dem Waschen mit Wasser die Aluminiumplatte einer Gleichstromelektrolyse in einer wässrigen Schwefelsäurelösung unterzogen, um eine anodisierte Schicht zu bilden und so einen Träger für eine Lithografiedruckplatte zu erhalten.
Weiterhin wurde eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Infrarotabsorber, einer Verbindung, die beim Erwärmen eine Säure bildet, und einer Verbindung, die einen vernetzten Teil aufweist, der durch eine Säure zersetzt wird, zusammensetzt, auf der Trägeroberfläche gebildet, um so eine vorsensibilisierte Platte zu erhalten.
(1-2) Messung der Ermüdungsbruchfestigkeit:
Jede der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten wurde einer Entwicklungsbehandlung unterzogen, in der ein Halbtonpunkt-Bildbereich über die gesamte vorsensibilisierte Platte mittels einer Laserschreibvorrichtung (Trend Setter, Cleo Co., Ltd.) auf solche Weise belichtet wird, dass die Fläche des Bildbereichs zu 50 % der Gesamtfläche wird. 10 Proben (Breite 20 mm, Länge: 100 mm) wurden aus jeder der so erhaltenen Lithografiedruckplatten herausgeschnitten. 5 der 10 Proben wurden bezüglich ihrer Ermüdungsbruchfestigkeit, ohne dass sie einer Wärmebehandlung unterworfen wurden, vermessen, und die verbleibenden 5 Proben wurden bei 300°C für 7 Minuten in einer Erwärmungsvorrichtung vom Strahlungstyp (PLANO PS Burning Processor 1300; Fuji Photo Film Co., Ltd.) erwärmt, und anschliessend wurde die Messung der Ermüdungsbruchfestigkeit durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
(1-3) Bewertung der Stabilität der Aufrauhungsbehandlung:
Nachdem die fotoempfindliche Schicht entfernt worden war, wurde die aufgerauhte Oberfläche einer jeden der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten mittels eines Rasterelektronenmikroskops (T-20; Nippon Denshi Co., Ltd.) beobachtet, und dann wurde die Stabilität der Aufrauhungsbehandlung aus den Aufrauhungsmerkmalen, insbesondere den Aufrauhungsmerkmalen, die durch die elektrolytische Aufrauhungsbehandlung gebildet wurden, bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
(1-4) Bewertung der Rosten für die Ausgangsmaterialien:
Die Kosten für die Ausgangsmaterialien der Aluminiumlegierungen (1) bis (3), die für jede der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten eingesetzt wurden (die Gesamtkosten für das Al-Grundmetall und die Kosten für die Mutterlegierung für die zuzugebenden Spurenbestandteile), wurden bestimmt und bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt. Es sollte beachtet werden, dass die Kosten für die Ausgangsmaterialien durch einen Relativwert angegeben wurden, worin die Kosten für die Aluminiumlegierung (2) auf 100 gesetzt wurden.
(1-5) Drucktests:
Jede der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten wurde dem Belichtungsprozess und dem Entwicklungsprozess und dann der Brennbehandlung bei etwa 250°C unterzogen, um eine Lithografiedruckplatte zu erhalten. Es wurden 100 Proben einer jeden der vorsensibilisierten Platten hergestellt und für Drucktests eingesetzt. Die Anzahl der gedruckten Bögen wurde auf 1.000.000 gesetzt, und der Anteil der Proben, bei denen an dem gebogenen Teil während des Druckens Risse gebildet wurden (die Bruchrate während des Druckens) wurde bestimmt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
(1-6) Messung der 0,2 %-Dehngrenze:
Der Zugtest wurde für jede der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten durchgeführt, um die 0,2 %-Dehngrenze zu bestimmen. Die 0,2 %-Dehngrenze wurde in Übereinstimmung mit den in JIS Z2241-1993 angeführten Bestimmungen ermittelt. Es sollte beachtet werden, das das Erwärmen durch das gleiche Verfahren wie im Fall der Messung der Ermüdungsbruchfestigkeit durchgeführt wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
(1-7) Messung der Grösse von Kristallkörnern:
Nachdem die fotoempfindliche Schicht vollständig von jeder der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten entfernt worden war, wurde deren Oberfläche mittels eines #800 wasserfesten Schleifpapiers abgeschliffen, so dass sie eine Oberflächenrauhigkeit (Ra) [arithmetische Mittelrauhigkeit, wie in JIS 80601-1994 definiert (Abschneidewert (cut-off value): 0,8 mm; Bewertungslänge: 4 mm)] von etwa 0,2 aufwiesen, dem ein Polierscheibenpolieren von etwa 1 bis 1,5 µm mittels einer Aluminiumoxidsuspension (Partikeldurchmesser: 0,05 µm) folgte, und dem weiterhin eine Ätzbehandlung von etwa 0,5 bis 1,0 µm mittels einer 10 %-igen wässrigen Lösung von Flussäure folgte. Auf diese Weise wurde es ermöglicht, die Kristallkorngrenze zu beobachten, und die Kristallstruktur wurde mittels eines polarisierenden Mikroskops fotografiert. Dann wurden die Breiten und Längen von 20 Kristallkörnern, die sich in einem Bereich befanden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, gemessen, um hierdurch den Mittelwert und den Maximalwert zu bestimmen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.
Bei den erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platten (Beispiele 1 bis 3) betrug die Ermüdungsbruchfestigkeit nach dem Erwärmen bei 300°C für 7 Minuten 75 % oder mehr von derjenigen vor dem Erwärmen. Während die 0,2 %- Dehngrenze hiervon nach dem Erwärmen bei 300°C für 7 Minuten 65 % oder mehr von derjenigen vor dem Erwärmen betrug. Weiterhin wurde gefunden, dass Kristallkörner, di^e sich innerhalb eines Bereichs befinden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, eine mittlere Breite von nicht mehr als 80 µm und eine maximale Breite von nicht mehr als 150 µm in der Richtung senkrecht zur Walzrichtung der Aluminiumplatte aufwiesen, und es wurde auch gefunden, dass sie eine mittlere Länge von nicht mehr als 400 µm und eine maximale Länge von nicht mehr als 500 µm in Walzrichtung der Aluminiumplatte aufwiesen. Weiterhin wurde gefunden, dass die erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platten frei von Ermüdungsbrüchen während des Druckens waren, wenn sie zu Lithografiedruckplatten geformt wurden.
Dagegen wurde in den Fällen, in denen die Verringerungsrate der Ermüdungsbruchfestigkeit aufgrund des Erwärmens hoch war (Vergleichsbeispiele 1 bis 3), die Bildung von Ermüdungsbrüchen während des Druckens beobachtet. Unter diesen zeigten Vergleichsbeispiele 1 und 3 eher kleine Verringerungsraten der 0,2 %-Dehngrenze, die durch das Erwärmen verursacht wurde, und die Breiten und Längen der Kristallkörner hiervon waren eher gross. Dagegen wurde bei Vergleichsbeispiel 2 eine eher grosse Verringerungsrate der 0,2 %-Dehngrenze gefunden, die durch das Erwärmen verursacht wurde, und die Breiten und Längen der Kristallkörner hiervon waren ebenfalls gross.
Wenn die Aluminiumplatte aus JIS A3000-Material mit einer Aluminiumreinheit von weniger als 99 Gew.% eingesetzt wurde (Vergleichsbeispiel 4), war die Stabilität der Aufrauhungsbehandlung schlecht und die Kosten für die Ausgangsmaterialien waren hoch.
In den obigen Beispielen wurde eine Aufrauhungsbehandlung in Kombination mit der mechanischen Aufrauhungsbehandlung und der elektrolytischen Aufrauhungsbehandlung durchgeführt, und eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Infrarotabsorber, einer Verbindung, die beim Erwärmen eine Säure bildet, und einer Verbindung, die einen vernetzten Teil aufweist, der durch eine Säure zersetzt wird, zusammensetzt, eingesetzt. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht durch die obigen Beispiele beschränkt, und der Grundgedanke der vorliegenden Erfindung ist es, eine vorsensibilisierte Platte zur Verfügung zu stellen, die herausragend bezüglich ihrer Thermoerweichungsbeständigkeit und der Ermüdungsbruchfestigkeit nach der Brennbehandlung ist und die keine Risse während des Druckens aufweist, so dass die vorliegende Erfindung natürlich auf alle vorsensibilisierten Platten anwendbar ist, die dafür entworfen sind, einer Brennbehandlung unterzogen zu werden.
BEISPIELE 4 BIS 7
(2-1) Herstellung der vorsensibilisierten Platte:
Die Aluminiumlegierungsplatte (2) mit der in Tabelle 1 gezeigten Zusammensetzung wurde auf die gleiche Weise wie im Fall der Beispiele 1 bis 3 behandelt, um hierdurch eine Aluminiumplatte zu erhalten. Die so erhaltene Aluminiumplatte wurde den folgenden Aufrauhungsbehandlungen unterzogen, um Träger für Lithografiedruckplatten zu erhalten.
Insbesondere wurde die Aufrauhungsbehandlung (3) in Beispiel 4 durchgeführt; die Aufrauhungsbehandlung (1) wurde in Beispiel 5 durchgeführt; die aufrauhungsbehandlung (2) wurde in Beispiel 6 durchgeführt; und die Aufrauhungsbehandlung (3) wurde in Beispiel 7 durchgeführt. Weiterhin wurde eine fotoempfindliche Schicht, die sich aus einem Infrarotabsorber, einer Verbindung, die beim Erwärmen eine Säure bildet, und einer Verbindung, die einen vernetzten Teil aufweist, der durch eine Säure zersetzt wird, zusammensetzt, eingesetzt, um hierdurch vorsensibilisierte Platten zu erhalten.
Aufrauhungsbehandlung (1):
Nach Vollendung jeder Aufrauhungsbehandlung wurde mit Wasser gewaschen. Das Ausquetschen der Lösung mittels Andruckwalzen wurde nach der Aufrauhungsbehandlung sowie nach dem Waschen mit Wasser durchgeführt.
(a) Mechanische Aufrauhungsbehandlung:
Bimsstein wurde pulverisiert und klassifiziert, so dass die Partikel hierin einen mittleren Partikeldurchmesser von 40 µm aufweisen, um hierdurch ein Schleifmittel zu erhalten, das in Wasser suspendiert wurde, um eine Suspension (spezifisches Gewicht: 1,12) als abrasive Aufschlämmungslösung zu erhalten. Während die abrasive Aufschlämmungslösung mittels eines Sprührohrs der Oberfläche der Aluminiumplatte zugeführt wurde, wurde die mechanische Aufrauhungsbehandlung durch rotierende walzenförmige Nylonbürsten durchgeführt. Die Mohs-Härte des Schleifmittels betrug 5. Das Schleifmittel setzte sich aus 73 Gew.% SiO₂, 14 Gew.% Al₂O₃, 1,2 Gew.% Fe₂O₃, 1,34 Gew.% CaO, 0,3 Gew.% MgO, 2,6 Gew.% K₂O und 2,7 Gew.% Na₂O zusammen.
Das Material der Nylonbürste war 6/10 Nylon, und die Borste war eine Nr. 3-Bürste mit einer Länge von 50 mm. Die Nylonbürste wurde durch Bohren von Löchern in eine Edelstahlröhre mit einem Durchmesser von 300 mm und dichtes Implantieren der Borsten hierauf gebildet. Es wurden drei drehbare (ratable) Bürsten eingesetzt. Der Abstand zwischen zwei tragenden Walzen (200 mm Durchmesser), die an einem unteren Teil der Bürste angeordnet waren, betrug 300 mm. Die Bürstenwalze wurde mittels einer Belastung des Antriebsmotors zum Rotieren der Bürste auf Grundlage einer Belastung, bevor die Bürstenwalze auf die Aluminiumplatte gepresst wird, kontrolliert, und sie wurde so auf die Aluminiumplatte gepresst, um eine mittlere Oberflächenrauhigkeit (Ra) von 0,45 bis 0,55 µm auf der Oberfläche der Aluminiumplatte nach der Aufrauhungsbehandlung zu bilden. Die Drehrichtung der Bürste war die gleiche wie die Bewegungsrichtung der Aluminiumplatte. Die Drehgeschwindigkeit der Bürste betrug 250 U/min.
(b) Ätzbehandlung in einer wässrigen alkalischen Lösung:
Eine wässrige Lösung, die 27 Gew.% Natriumhydroxid und 6,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, wurde auf die Aluminiumplatte durch ein Sprührohr bei 70°C gesprüht, um hierdurch die Ätzbehandlung der Aluminiumplatte durchzuführen. Die aufgelöste Menge an Aluminium von der aufgerauhten Oberfläche der Aluminiumplatte in der anschliessenden elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung betrug 10 g/m2.
(c) Behandlung zur Belagsentfernung in einer wässrigen sauren Lösung:
Dann wurde eine Behandlung zur Belagsentfernung in einer wässrigen Salpetersäurelösung durchgeführt. Als wässrige Salpetersäurelösung wurde eine Abfallösung von Salpetersäure, die in der anschliessenden elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung verwendet wurde, eingesetzt. Die Temperatur der Lösung betrug 35°C. Die Lösung zur Belagsentfernung wurde gesprüht, um eine Behandlung zur Belagsentfernung von 4 Sekunden durchzuführen.
(d) Elektrochemische Aufrauhungsbehandlung in einer wässrigen Salpetersäurelösung:
Zu einer wässrigen Lösung, die Salpetersäure enthielt, wurde Aluminiumnitrat in einer Konzentration von 9,5 g/l zugegeben und auf 50°C erwärmt, um die Konzentration der Aluminiumionen auf 5 g/l einzustellen, um hierdurch einen Elektrolyten zur Verwendung zu erhalten.
Dann wurde mittels einer Stromquelle, die einen Wechselstrom erzeugt, eine elektrochemische Aufrauhungsbehandlung durchgeführt. Die Frequenz des Wechselstroms betrug 60 Hz und die Zeit (tp) zum Anstieg des Stroms von Null bis zum Peak, betrug 0,8 ms. Die relative Einschaltdauer (duty) (ta/T) des Wechselstroms betrug 0,5.
Die Stromdichte am Peak des Wechselstroms an der Anodenreaktion der Aluminiumplatte betrug 60 A/dm², und das Verhältnis der Gesamtelektrizitätsmenge in der Anodenreaktion der Aluminiumplatte zur Gesamtelektrizitätsmenge in der Kathodenreaktion der Aluminiumplatte betrug 0,95. Die Gesamtelektrizitätsmenge, die auf die Aluminiumplatte angewendet wurde, betrug 200 C/dm² an der Anodenreaktion der Aluminiumplatte.
(e) Ätzbehandlung in wässriger alkalischer Lösung:
Eine wässrige Lösung, die 27 Gew.% Natriumhydroxid und 6,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, wurde durch ein Sprührohr bei einer Temperatur von 70°C auf die Aluminiumplatte gesprüht, um hierdurch die Ätzbehandlung der Aluminiumplatte durchzuführen. Die von der aufgerauhten Oberfläche der Aluminiumplatte aufgelöste Menge an Aluminium in der anschliessenden elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung betrug 3,5 g/m².
(f) Behandlung zur Belagsentfernung in wässriger saurer Lösung:
Dann wurde eine Behandlung zur Belagsentfernung in eine wässrigen Schwefelsäurelösung durchgeführt. Die eingesetzte wässrige Schwefelsäurelösung wies eine Schwefelsäurekonzentration von 300 g/l an Schwefelsäure und eine Konzentration von 5 g/l an Aluminiumionen auf. Die Temperatur der Lösung betrug 60°. Die Lösung zur Belagsentfernung wurde hierauf gesprüht, um eine 3-sekündige Behandlung zur Belagsentfernung durchzuführen.
(g) Elektrochemische Aufrauhungsbehandlung in eine wässrigen Salzsäurelösung:
Zu einer wässrigen Salzsäurelösung mit einer Konzentration von 7,5 g/l wurde bei 35°C Aluminiumchlorid zugegeben, um so die Konzentration der Aluminiumionen auf 4,5 g/l einzustellen, um hierdurch einen Elektrolyten zur Verwendung zu erhalten.
Dann wurde durch Verwendung einer Stromquelle, die einen Wechselstrom einer trapezoidalen Wellenform erzeugt, eine elektrochemische Aufrauhungsbehandlung durchgeführt. Die Frequenz des Wechselstroms betrug 50 Hz und die Zeit (tp), in der sich der Strom von Null bis zum Peak erhöht, betrug 0,8 ms. Die relative Einschaltdauer (ta/t) der Wechselspannung betrug 0,5.
Die Stromdichte am Peak des Wechselstroms in der Anodenreaktion der Aluminiumplatte betrug 50 A/dm², und das Verhältnis der Gesamtelektrizitätsmenge in der Anodenreaktion der Aluminiumplatte zur Gesamtelektrizitätsmenge in der Kathodenreaktion der Aluminiumplatte betrug 0,95. Die Gesamtelektrizitätsmenge, die auf die Aluminiumplatte angewendet wurde, betrug 50 C/dm² in der Anodenreaktion der Aluminiumplatte.
(g) Ätzbehandlung in wässriger alkalischer Lösung:
Eine wässrige Lösung, die 27 Gew.% Natriumhydroxid und 6,5 Gew.% Aluminiumionen enthielt, wurde auf die Aluminiumplatte durch ein Sprührohr bei einer Temperatur von 45°C gesprüht, um hierdurch die Ätzbehandlung durchzuführen. Die von der elektrochemisch aufgerauhten Oberfläche der Aluminiumplatte aufgelöste Menge an Aluminium betrug 0,3 g/m².
(i) Behandlung zur Belagsentfernung in wässriger saurer Lösung:;
Dann wurde eine Abfallösung (5 g/l Aluminiumionen, aufgelöst in 170 g/l wässriger Schwefelsäurelösung), die beim Schritt der Anodisierungsbehandlung gebildet worden war, verwendet. Die Temperatur der Lösung betrug 35°C. Die Behandlung zur Belagsentfernung wurde bei einer Temperatur von 35°C für 4 Sekunden durchgeführt.
(j) Anodisierungsbehandlung in wässriger Schwefelsäurelösung:
Eine Gleichstromelektrolyse wurde in einer Lösung, die Schwefelsäure in einer Konzentration von 170 g/l und Aluminiumionen in einer Konzentration von 5 g/l enthielt, und unter der Bedingung von 20 A/dm² als mittlere Stromdichte, durchgeführt. In diesem Fall wurde die Anodisierungsbehandlung so durchgeführt, um eine anodisierte Schicht von 2,7 g/m² zu bilden. Die Temperatur der Lösung betrug 40°C, die Spannung betrug 5 bis 30 V und die Behandlungszeit betrug 10 Sekunden.
Aufrauhungsbehandlung (2):
Eine Aufrauhungsbehandlung wurde auf die gleiche Weise wie in der zuvor erwähnten Oberflächenbehandlung (1) durchgeführt, ausser dass die Menge des von der Aluminiumplatte in der Ätzbehandlung der wässrigen alkalischen Lösung des vorstehenden Punkts (h) aufgelösten Aluminiums 0,1 g/m² betrug.
Aufrauhungsbehandlung (3):
Eine Aufrauhungsbehandlung wurde auf die gleiche Weise wie in der zuvor erwähnten Oberflächenbehandlung (1) durchgeführt, ausser dass die Menge des von der Aluminiumplatte in der Ätzbehandlung der wässrigen alkalischen Lösung des vorstehenden Punkts (h) aufgelösten Aluminiums 0,8 g/m2 betrug.
(2-2) Merkmale der konkaven Vertiefung auf der Oberfläche des Aluminiumträgers:
Nachdem die fotoempfindliche Schicht von jeder der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten entfernt worden war, wurde deren aufgerauhte Oberfläche in bezug auf den mittleren Öffnungsdurchmesser der Vertiefungen auf der Oberfläche der Aluminiumplatte und in bezug auf das Verhältnis der Tiefe der Vertiefungen zu dem mittleren Öffnungsdurchmesser der Vertiefungen wie folgt vermessen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
(1) Mittlerer Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefung:
Es wurde eine Fotografie der Aluminiumoberfläche mit einer Vergrösserung von 50.000 von der Oberseite des Aluminiumträgers mittels FE-SEM (S-900; Hitachi Manufacturing Co., Ltd.) aufgenommen. Dann wurde eine gerade Linie von 10 cm Länge (entsprechend 2 µm) auf der SEM-Fotografie oder einer Kopie hiervon gezogen, und der Öffnungsdurchmesser [= (längerer Durchmesser + kürzerer Durchmesser/2] der konkaven Vertiefung, durch die die gerade Linie läuft, wurde gemessen. Die Messung des Öffnungsdurchmessers wurde fortgesetzt, bis die Anzahl der konkaven Vertiefungen, deren Öffnungsdurchmesser gemessen worden war, 20 wurde, welchem die Berechnung des mittleren Öffnungsdurchmessers folgte.
(2) Mittleres Verhältnis der Tiefe der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser:
Der Aluminiumträger wurde in einem Winkel von 90° oder mehr auf solche Weise gebogen, das die aufgerauhte Oberfläche des Aluminiumträgers nach aussen zeigte, und wurde dann auf einem Probenbett mit einer leitenden Paste fixiert. Dann wurden mittels FE-SEM die Fotografien des gerissenen Teils der anodisierten Schicht am gebogenen Teil des Aluminiumträgers mit einer Vergrösserung von 50.000 aufgenommen. Auf Grundlage der so aufgenommenen Fotografien wurden die Öffnungsdurchmesser und die Tiefen der 10 konkaven Vertiefungen gemessen, und dann wurde das mittlere Verhältnis der Tiefe der konkaven Vertiefung zu ihrem Öffnungsdurchmesser berechnet. Es sollte beachtet werden, dass als Verfahren zur Messung des Öffnungsdurchmessers der konkaven Vertiefung das zuvor erwähnte Verfahren von (1) verwendet wurde. Weiterhin wurde als Tiefe der konkaven Vertiefung die Tiefe, die am tiefsten war, ausgewählt.
(2-3) Drucktests:
Jede der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten wurde dem Belichtungsprozess und dem Entwicklungsprozess unterworfen, um eine Lithografiedruckplatte zu erhalten, und dann der Brennbehandlung bei einer Temperatur von etwa 250°C unterzogen. Es wurden 100 Proben von jeder der vorsensibilisierten Platten zubereitet und für Drucktests eingesetzt. Die Anzahl der gedruckten Bögen wurde auf 1.000.000 gesetzt, und der Anteil der Proben, die gerissene Teile aufwiesen, die an dem gebogenen Bereich während des Druckens gebildet wurden (die Bruchrate während des Druckens) wurde bestimmt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
(2-4) Anzahl der Bögen, die ein fehlerhaftes Bild aufweisen:
Jede der so erhaltenen vorsensibilisierten Platten wurde dem Belichtungsprozess und Entwicklungsprozess unterworfen, um eine Lithografiedruckplatte zu erhalten, und dann der Brennbehandlung bei 250°C unterzogen. Danach wurde die Lithografiedruckplatte für einen Drucktest verwendet. Die Anzahl der Bögen, die ein fehlerhaftes Bild während des Druckens aufwiesen, wurde bewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.
In den erfindungsgemässen vorsensibilisierten Platten (Beispiele 4 bis 7) ist, weil kleine konkave Vertiefungen, die jeweils in einen vorbestimmten Bereich in bezug auf den mittleren Öffnungsdurchmesser der Vertiefungen sowie das mittlere Verhältnis von Vertiefungstiefe/Vertiefungsdurchmesser fallen, auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet werden, die Oberfläche der Aluminiumplatte erhöht, wodurch die Adhäsionskraft der Aluminiumplatte an eine Aufnahmeschicht (Bildbereich) verbessert wird. Als Ergebnis kann die Ablösung des Bildbereichs oder ein teilweises Fehlen des Bildbereichs vermieden werden, wenn die Aluminiumplatte zu einer vorsensibilisierten Platte geformt wird, was eine überaus herausragende Drucklebensdauer anzeigt. Die erfindungsgemässe vorsensibilisierte Platte wies keine Ermüdungsbrüche während des Druckens auf, wenn sie zu einer Lithografiedruckplatte geformt wurde.
Da die erfindungsgemässe vorsensibilisierte Platte eine Aluminiumplatte einsetzt, die eine Aluminiumreinheit von 99 Gew.% oder mehr aufweist, die durch Materialien vom JIS A1000-Typ repräsentiert werden, ist es möglich, die Effizienz und die Stabilität der Aufrauhungsbehandlung zu verbessern. Da die Ermüdungsbruchfestigkeit nach der Wärmebehandlung bei 300°C für 7 Minuten 75 % oder mehr von derjenigen vor der Wärmebehandlung beträgt, ist es zusätzlich möglich, die Bildung von Rissen während des Druckens zu vermeiden, sogar wenn die Brennbehandlung, die gewöhnlich bei einer Temperatur von 200°C oder mehr, insbesondere bei einer Temperatur, die von 240 bis 270°C reicht, durchgeführt wird, auf der vorsensibilisierten Platte durchgeführt worden ist.
Weiterhin kann die Oberfläche der Aluminiumplatte erhöht werden, da die Oberfläche der Aluminiumplatte mit spezifischen kleinen Vertiefungen versehen ist, wodurch die Adhäsionskraft der Aluminiumplatte an eine Aufnahmeschicht (Bildbereich) verbessert wird. Als Ergebnis kann das Ablösen des Bildbereichs oder ein teilweises Fehlen des Bildbereichs vermieden werden, wenn die Aluminiumplatte zu einer vorsensibilisierten Platte geformt wird, womit eine überaus herausragende Drucklebensdauer zur Verfügung gestellt wird.

Claims

Eine vorsensibilisierte Platte, umfassend: eine Aluminiumplatte mit einer Aluminiumreinheit von nicht weniger als 99 Gew.% und eine auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildete Aufzeichnungsschicht, worin Kristallkörner, die sich innerhalb eines Bereichs befinden, der von der Oberfläche der Aluminiumplatte bis zu einer Tiefe von 50 µm reicht, eine mittlere Breite von nicht mehr als 80 µm und eine maximale Breite von nicht mehr als 150 µm in einer Richtung senkrecht zu einer Walzrichtung der Aluminiumplatte aufweisen, und die eine mittlere Länge von nicht mehr als 400 µm und eine maximale Länge von nicht mehr als 500 µm in einer Walzrichtung der Aluminiumplatte aufweisen.
Vorsensibilisierte Platte gemäß Anspruch 1, worin die Aluminiumplatte 0,15 bis 0,5 Gew.% Fe, 0,03 bis 0,15 Gew.% Si und 0,003 bis 0,050 Gew.% Ti enthält; und weiterhin 0,001 bis 0,05 Gew.% Cu und/oder 0,001 bis 0,1 Gew.% Mg enthält.
Vorsensibilisierte Platte gemäß Anspruch 1 oder 2, worin die Aluminiumplatte auf ihrer Oberfläche gebildete konkave Vertiefungen enthält, die einen mittleren Öffnungsdurchmesser von nicht mehr als 0,6 µm aufweisen, und bei denen das mittlere Verhältnis einer Tiefe der konkaven Vertiefung zu einem Öffnungsdurchmesser der konkaven Vertiefung (Vertiefungstiefe/Vertiefungsdurchmesser) von 0,15 bis 1,0 reicht.
Vorsensibilisierte Platte gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, worin eine 0,2 % Dehngrenze, gemessen gemäß JIS Z2241-1993, nach einer Wärmebehandlung bei 300°C für 7 Minuten nicht weniger als 65 % der 0,2 % Dehngrenze vor der Wärmebehandlung ist.