DE60038723T2 - Optischer nahfeldkopf und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents

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Takashi Chiba-shi NIWA
Susumu Chiba-shi Ichihara
Yasuyuki Chiba-shi MITSUOKA
Manabu Chiba-shi OUMI
Nobuyuki Chiba-shi KASAMA
Kenji Chiba-shi KATO
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Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen optischen Nahfeldkopf, der imstande ist, Informationen hoher Dichte unter Verwendung von Nahfeldlicht wiederzugeben und aufzuzeichnen.
  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • In den letzten Jahren wurde eine rasche Entwicklung in beiden Aspekten, Hardware und Software, im Bereich von Informationsgeräten erreicht, und die Informationsmenge, die bewältigt wird, steigt somit beständig drastisch an. In Bezug auf das Informationsspeichergerät als eines der Informationsgeräte (insbesondere HDD) erfolgt derzeit eine rascher Wechsel zur Aufzeichnung hoher Dichte, so dass die Aufzeichnungskapazität pro Einheitsfläche in einem Aufzeichnungsmedium mit einer jährlichen Rate von 60 Prozent steigt. Daher ist eine weitere Miniaturisierung in der Größe einer Aufzeichnungseinheit (Bit) erwünscht, die auf einem Aufzeichnungsmedium aufgezeichnet und von diesem wiedergegeben wird.
  • Zum Aufzeichnen oder Wiedergeben in einer winzigen Region ist ein Gerät zum Beobachten der winzigen Region in einer Größenordnung von Nanometern auf der Oberfläche der Probe oder eine Anwendung des Rastersondenmikroskops, das durch ein Rastertunnelmikroskop ("Scanning Tunnel Microscope" – STM) oder ein Atomkraftmikroskop ("Atomic Force Microscope" – AFM) repräsentiert wird, zum Gegenstand öffentlichen Interesses geworden. Ein SPM führt die Sonde mit einer geschärften Spitze über die Oberfläche der Probe, während eine Wechselwirkung, wie der Tunnelstrom, der zwischen der Sonde und der Oberfläche der Probe erzeugt wird, oder die Kraft zwischen den Atomen beobachtet wird, so dass ein Bild einer bestimmten Auflösung abhängig von der Spitzenkonfiguration der Sonde erhalten wird.
  • Zur Ausführung einer Aufzeichnung hoher Dichte auf einem Aufzeichnungsmedium hat das Verfahren zum Aufzeichnen und Wiedergeben unter Verwendung von Licht im Vergleich zu Magnetismus den Vorteil, dass eine Aufzeichnung hoher Dichte entlang einer Abtastrichtung (radialen Richtung des Aufzeichnungsmediums) möglich ist. Somit wird die Anwendung des optischen Nahfeldmikroskops, das mit Licht betrachtet, insbesondere unter SPM als viel versprechend angesehen.
  • Das optische Nahfeldmikroskop nutzt eine Wechselwirkung, die zwischen dem Nahfeldlicht, das an der Oberfläche einer Überprüfungsprobe erzeugt wird, und der Sonde als Beobachtungssubjekt, so dass die winzige Region der Probenoberfläche betrachtet werden kann. Das Prinzip des Prüfverfahrens ist in der Folge ausführlich beschrieben.
  • Das Nahfeldlicht wird durch Ausstrahlen von Fortpflanzungslicht auf die Oberfläche der Überprüfungsprobe erzeugt. Da das Nahfeldlicht nur in einer sehr benachbarten Fläche an der Oberfläche der Überprüfungsprobe erzeugt wird, wird die geschärfte Spitze der Sonde nahe zu der Oberfläche der Überprüfungsprobe innerhalb eines Abstandes gleich oder kleiner μm gebracht, so dass das Nahfeldlicht, das von der Spitze der Sonde erzeugt wird, gestreut wird. Das gestreute Licht wird durch eine kleine Apertur der Spitze der Sonde geführt und durch einen herkömmlichen Detektionsprozess eines durchgelassenen Lichts verarbeitet. Somit wird die Einschränkung der Betrachtungsauflösung des herkömmlichen optischen Mikroskops durchbrochen, und somit wird die Beobachtung einer winzigen Region mit Hilfe von Licht möglich. Ferner wird ein Licht großer Intensität in die Sonde zu der Überprüfungsprobe eingeführt, um ein Nahfeldlicht hoher Energiedichte in der winzigen Apertur der Sonde zu erzeugen. Mit Hilfe dieses Nahfeldlichts wird auch eine örtliche Modifizierung der Konstruktion oder der Eigenschaften der Probenoberfläche möglich. Wie zuvor beschrieben, wird eine Ausführung einer optischen Speicheraufzeich nung mit hoher Dichte mit Hilfe der Anwendung des optischen Nahfeldmikroskops als möglich angesehen.
  • In der Architektur des optischen Speicheraufzeichnungsgeräts unter Verwendung eines solchen Nahfeldlichts ist die Sonde das wichtigste Schlüsselteil, da sie eine winzige Apertur aufweist, die als optischer Aufzeichnungs- und Wiedergabekopf dient. Als ein Beispiel für eine Sonde mit einer winzigen Apertur, wie zum Beispiel in USP 5,294,790 beschrieben, wird eine auslegerartige Fotosonde vorgeschlagen, die eine Apertur umfasst, die durch ein Siliziumsubstrat geht, unter Anwendung einer Halbleiterherstellungstechnologie der Fotolithografie oder dergleichen, sowie einen Isolierfilm, der an einer Seite der Oberfläche des Siliziumsubstrats gebildet ist, und eine kegelförmige Lichtwellenleiterschicht, die auf dem Isolierfilm an der Seite gebildet ist, die der Apertur gegenüber liegt. In dieser auslegerartigen Fotosonde ist eine optische Faser in die Apertur eingesetzt, so dass das Licht durch das winzige Aperturteil durchgehen kann, das durch Beschichten einer Lichtwellenleiterschicht mit einem Metallfilm, außer an dem Spitzenabschnitt, gebildet wird. Folglich ist es einfach, das Aperturteil herzustellen.
  • Ferner wird eine Anwendung der planen Sonde ohne geschärfte Spitze, wie die oben genannte Sonde, vorgeschlagen (T. Yatsui et al., "Readout capability of a planar apertured probe for optical near-field memory", NFO-5, 115, Shirahama, 10. Dez. 1998). Die plane Sonde ist jene, die mit einer Apertur in umgekehrter Pyramidenstruktur auf einem Siliziumsubstrat mit Hilfe eines anisotropen Ätzens bereitgestellt ist, wobei insbesondere der Scheitelpunkt der Apertur mit einem Durchmesser von mehreren nm perforiert ist, um ein Aperturteil zu bilden. Mehrere solcher planen Sonden können gleichzeitig als Gruppe auf demselben Substrat durch eine Halbleiterherstellungstechnologie hergestellt werden, das heißt, die Herstellung einer Gruppe ebener Sonden ist leicht, und insbesondere hat die plane Sonde den Vorteil, dass als geeigneter optischer Kopf zum Aufzeichnen und Wiedergeben der optischen Speicher, der Nahfeldlicht verwendet, genutzt wird. Als optischer Kopf, der diese plane Sonde verwendet, wird ein Kopf mit einer planen Sonde vorgeschlagen, die an dem schwebenden Kopf bereitgestellt ist, der in einem Festplattenlaufwerk verwendet wird (Nikkei Electronics, Ausgabe vom 10. März 1997). Der schwebende Kopf ist herkömmlich konstruiert, so dass er durch aerodynamisches Design schwebt, wobei ein Abstand von 50 bis 100 nm über dem Aufzeichnungsmedium gehalten wird. Durch die Verwendung dieses schwebenden Kopfs, wobei der Kopf und das Aufzeichnungsmedium in einer extremen Nähe (einem extremen Positionsverhältnis) gehalten werden und eine winzige Apertur in dem schwebenden Kopf an der Seite des Aufzeichnungsmediums gebildet wird, wird es möglich, Nahfeldlicht zu erzeugen. Daher wird eine Aufzeichnung und Wiedergabe hoher Dichte durch Licht als möglich erachtet.
  • Bei der Ausführung des optischen Informationsaufzeichnungsgerätes unter Verwendung von Nahfeldlicht ist der Nutzwert des Geräts an sich höher, wenn die Vorrichtung selbst klein und schmal ist. Zur Herstellung einer kleinen und schmalen Vorrichtung wird es als angemessen angesehen, eine Struktur zu verwenden, in der das Licht, das sich parallel zu dem Aufzeichnungsmedium fortpflanzt, mit Hilfe optischer Komponenten in eine Richtung senkrecht zu dem Medium und der Apertur gelenkt wird. Mit dieser Struktur jedoch wird der Kopf aufgrund der Kombination der optischen Komponenten selbst groß und schwer und dies führt zu dem Problem, dass die Positionierungsgenauigkeit und die Reaktionseigenschaften beeinträchtigt sind.
  • Zusätzlich, wenn Licht mit Hilfe eines Lichtwellenleiterpfades, wie einer optischen Faser, in die Apertur geleitet wird, wird die Intensität des Nahfeldlichts, das von der Apertur ausgestrahlt wird, gering, was zu den Problemen führt, dass die Aufzeichnungs- und Wiedergaberate verringert ist und dass die Zuverlässigkeit der Informationen, die aufgezeichnet und wiedergegeben werden, verschlechtert ist. Da in Bezug auf dieses Problem das Licht, das von der Lichtausstrahlungskante des Lichtwellenleiterpfades ausgestrahlt wird, sich unter Ausbreitung fortpflanzt, wird somit der Punktdurchmesser des Lichts entsprechend dem Abstand von der Ausstrahlungskante groß. Dann nimmt die Intensität des Lichts, das auf die Apertur gestrahlt wird, ab und somit wird die Intensität des Nahfeldlichts zum Aufzeichnen und Wiedergeben verringert. Da das Verhältnis der Lichtintensität von den Informationen abhängig ist (S/N), entsteht folglich ein Problem, dass die Aufzeichnungs- und Wiedergaberate oder die Zuverlässigkeit der Informationen verschlechtert ist.
  • EP0549236 beschreibt ein optisches System, das die Prinzipien der optischen Stethoskopie nutzt, um eine Auflösungsenergie im Subwellenbereich bereitzustellen. Die Vorrichtung enthält ein oder mehrere optische Elemente, die auf einem Schieber montiert sind, der sich in physischem gleitenden Kontakt mit dem Aufzeichnungsmedium befindet.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • Daher umfasst der erste optische Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung einen Schieber, der von einem Last ausübenden Hängearm getragen wird, um eine Schwebekraft mit Hilfe einer relativen Bewegung zu einem Aufzeichnungsmedium zu erlangen, so dass ein Abstand zwischen ihm und dem Aufzeichnungsmedium entsprechend einem Gleichgewicht zwischen der Last und der Schwebekraft entsteht, eine winzige Struktur, die auf der Aufzeichnungsmediumsseite des Schiebers gebildet ist, ein Lichtfortpflanzungsmedium, das auf dem Schieber an einer Seite, die dem Aufzeichnungsmedium gegenüber liegt und im Wesentlichen parallel zu dem Hänge arm angeordnet ist, einen Spiegel zum Lenken des Lichts, das von dem Lichtfortpflanzungsmedium ausgestrahlt wird, der im Wesentlichen über der winzigen Struktur angeordnet ist, und eine Struktur zur Verkürzung des Pfades zur Verkürzung des Pfades zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der winzigen Struktur. Es wird eine Konstruktion verwendet, in der die Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades eine Rille ist, die in der Nähe der winzigen Struktur gebildet ist, und das Lichtfortpflanzungsmedium in der Rille angeordnet ist,
  • Daher kann gemäß dem ersten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung durch Anordnen des Spiegels in der Nähe der winzigen Struktur mit Hilfe der Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades und auch durch Einstellen der Position der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums nahe der winzigen Struktur der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der winzigen Struktur verkürzt werden und auch der Punktdurchmesser des Lichts von dem Lichtfortpflanzungsmedium kann verringert werden, so dass die Intensität des Nahfeldlichts, das durch die winzige Struktur erzeugt wird, verstärkt wird. Daher kann ein optischer Nahfeldkopf, der zur Aufzeichnung und Wiedergabe mit hoher Dichte imstande ist, erhalten werden.
  • Daher kann gemäß dem optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der winzigen Struktur verkürzt werden, so dass ein optischer Nahfeldkopf, der imstande ist, ein Nahfeldlicht großer Intensität zu erzeugen, erhalten werden kann. Da es leicht ist, das Lichtfortpflanzungsmedium durch die Bildung eines Lichtfortpflanzungsmediums in der Rille zu befestigen, kann ein optischer Nahfeldkopf erhalten werden, der imstande ist, ein Nahfeldlicht stabiler Intensität zu erzeugen.
  • Ferner wird in dem zweiten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion verwendet, in der die winzige Struktur eine winzige Apertur ist.
  • Daher wird gemäß dem zweiten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Aufzeichnung und Wiedergabe hoher Dichte möglich, da der Punktdurchmesser des Nahfeldlichts auf dem Aufzeichnungsmedium auf annähernd dieselbe Größe wie die winzige Apertur verringert ist.
  • Ferner ist in dem dritten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung ein Spiegel auf und einstückig mit einem Substrat angeordnet ist, das über dem Schieber angeordnet ist.
  • Daher kann gemäß dem dritten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung ein stabiles optisches System konstruiert werden und die Intensität des Nahfeldlichts, das durch die winzige Struktur erzeugt wird, wird stabilisiert.
  • Ferner wird in dem vierten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion verwendet, in der der Spiegel in dem Lichtfortpflanzungsmedium gebildet ist.
  • Daher wird gemäß dem vierten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung, da der Spiegel und das Lichtfortpflanzungsmedium, die jeweils eine Komponente des optischen Nahfeldkopfs sind, einstückig gebildet werden können, die Einstellung der optischen Achse des Spiegels und des Lichtfortpflanzungsmediums unnötig, und somit wird die Einstellung der optischen Achse leicht. Da zusätzlich die Anzahl der Komponenten verringert ist, wird der Einheitspreis des Kopfes billig, so dass ein billiger optischer Nahfeldkopf bereitgestellt werden kann.
  • Ferner wird in dem fünften optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion verwendet, in der der Spiegel in einer konkaven Form gestaltet ist, um einen optischen Nahfeldkopf bereitzustellen, der das Licht, das von dem Lichtfortpflanzungsmedium ausgestrahlt wird, konzentriert.
  • Zusätzlich hat in dem sechsten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung der Kopf eine Linsenfunktion zum Konzentrieren des Lichts an der Spitze des Lichtfortpflanzungsmediums.
  • Daher ist es gemäß dem fünften und sechsten optischen Nahfeldkopf möglich, die Energiedichte des Lichts in der winzigen Struktur zu erhöhen, so dass die Intensität des Nahfeldlichts, das durch die winzige Struktur erzeugt wird, erhöht werden kann.
  • Ferner ist in dem siebenten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung ein optischer Nahfeldkopf dadurch gekennzeichnet, dass ein Spiegelausrichtungsmechanismus auf dem Schieber und/oder dem Substrat, auf dem der Spiegel gebildet ist, ausgebildet ist, um den Spiegel und die winzige Struktur in Position zu bringen.
  • Daher wird gemäß dem siebenten optischen Nahfeldkopf die optische Einstellung zur Maximierung der Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, leicht.
  • Ferner hat der achte optische Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion, in der eine Rille oder ein Fortsatz zum Befestigen optischer Komponenten zum Werfen von Licht auf das Lichtfortpflanzungsmedium auf dem Spiegelsubstrat ausgebildet ist.
  • Daher wird gemäß dem achten optischen Nahfeldkopf Licht effektiv auf das Lichtfortpflanzungsmedium geworfen, so dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, groß wird.
  • Ferner hat der neunte optische Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion, in der das Lichtfortpflanzungsmedium auf dem Schieber befestigt oder gebildet ist.
  • Daher wird gemäß dem neunten optischen Nahfeldkopf die Position des Lichtfortpflanzungsmediums durch die Befestigung oder Bildung des Lichtfortpflanzungsmediums auf dem Schieber stabilisiert, so dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, stabilisiert werden kann.
  • Ferner wird in dem zehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion verwendet, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Lichtfortpflanzungsmedium auf dem Substrat an derselben Seite befestigt oder gebildet ist, an der der Spiegel gebildet ist.
  • Daher wird gemäß dem zehnten optischen Nahfeldkopf die Position des Lichtfortpflanzungsmediums stabilisiert, selbst wenn ein Schieber mit einer geringen Dicke verwendet wird. Zusätzlich ermöglicht die Verwendung eines Schiebers mit geringer Dicke die Verkürzung des Abstandes zwischen dem Lichtfortpflanzungsmedium und der winzigen Struktur, so dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, erhöht werden kann.
  • Ferner hat der elfte optische Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion, in der das Lichtfortpflanzungsmedium derart gestaltet ist, dass das Lichteinfallsteil an dem Substrat befestigt ist und das Lichtausstrahlungsteil an dem Schieber befestigt ist.
  • Daher kann gemäß dem elften optischen Nahfeldkopf die Positionierung der Rille oder des Fortsatzes zur Befestigung der Lichteinfallskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der Komponenten für Licht, das auf das Lichtfortpflanzungsmedium fällt, präzise ausgeführt werden, und die Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums kann nahe der winzigen Struktur angeordnet werden, so dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, auf ein größeres Ausmaß erhöht werden kann.
  • Ferner hat der zwölfte optische Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion, in der das Lichtfortpflanzungsmedium eine optische Faser mit einer Spitze ist, die durch Schleifen parallel zu der optischen Achse maschinell zu einer schmalen Form bearbeitet ist.
  • Gemäß der Konstruktion ermöglicht eine optische Faser, deren Spitze geschärft ist, die Anordnung der Lichtausstrahlungskante der optischen Faser nahe dem Spiegel, so dass der Punktdurchmesser des Lichts, das von der Lichtausstrahlungskante der optischen Faser in die winzige Struktur ausgestrahlt wird, verringert werden kann. Daher wird die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, erhöht.
  • Ferner hat der dreizehnte optische Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung eine Konstruktion, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Lichtfortpflanzungsmedium ein Dünnfilmwellenleiter ist.
  • Durch die Verwendung eines Dünnfilmwellenleiters, der dünner und leichter als eine optische Faser ist, als Lichtfortpflanzungsmedium, wird folglich die Masse des optischen Nahfeldkopfs verringert. Daher wird es leicht, die Positionierungsgenauigkeit oder die Positionierungsgeschwindigkeit des optischen Nahfeldkopfs zu verbessern. Zusätzlich wird durch die Verwendung des Dünnfilmwellenleiters als Licht fortpflanzungsmedium leicht, den optischen Nahfeldkopf in einer dünnen Form zu gestalten, und das Gerät kann in einer kompakteren Größe konstruiert werden.
  • Zusätzlich ist das erste Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs, umfassend ein Verfahren zum Bilden eines Spiegels, ein Verfahren zum Bilden eines Schiebers und einen Montageprozess für den Spiegel und den Schieber. Das Verfahren zum Bilden des Spiegels ist ein Prozess, der einen Prozess zum Bilden eines Fortsatzes auf einem Substrat, einen Prozess zum Bilden der Reflexionsbeschichtung auf dem Fortsatz und einen Prozess zum Bilden der Konfiguration enthält. Das Verfahren zum Bilden des Schiebers ist ein Prozess, der einen Prozess zum Bilden der winzigen Struktur, einen Prozess zum Bilden der Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades, einen Prozess zum Bilden der Reflexionsbeschichtung und einen Prozess zum Bilden der Konfiguration enthält. Schließlich ist der Prozess zur Montage des Spiegels und des Schiebers in dem ersten Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs enthalten.
  • Daher kann gemäß dem ersten Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs der optische Nahfeldkopf gemäß der Erfindung leicht hergestellt werden. Zusätzlich verwendet das Verfahren zum Bilden des Spiegels und des Schiebers die Fotolithografie oder eine Mikrobearbeitungstechnologie, wobei Spiegel und Schieber mit gleichförmigen Leistungen in großen Mengen hergestellt werden können.
  • Ferner ist das zweite Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren, das einen Prozess zum Befestigen oder Bilden des Lichtfortpflanzungsmediums in dem Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs enthält.
  • Daher ist das Lichtfortpflanzungsmedium an dem Substrat befestigt, auf dem der Schieber oder der Spiegel gebildet ist, so dass die Intensität des Lichts, das auf die winzige Apertur ausgestrahlt wird, stabilisiert wird, was dazu führt, dass die Intensität des Lichts, das von der Apertur ausgestrahlt wird, stabilisiert wird.
  • Ferner ist das dritte Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass ein Prozess zum Bilden eines Dünnfilmwellenleiters in dem Prozess zum Bilden des Spiegels oder Schiebers enthalten ist.
  • Daher kann das Lichtfortpflanzungsmedium mit Hilfe eines Fotolithografieprozesses hergestellt werden, so dass das Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs für eine Massenproduktion leicht wird.
  • Ferner ist das vierte Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass der Prozess zum Bilden einer Rille oder eines Fortsatzes zum Befestigen der optischen Komponenten in dem Verfahren zum Bilden des Spiegels enthalten ist.
  • Daher kann der Spiegel zum Erleichtern seiner Montage positioniert werden, und es kann der optische Nahfeldkopf bereitgestellt werden, der zum Erzeugen eines Nahfeldlichts großer Intensität mit Stabilität imstande ist.
  • Ferner ist das fünfte Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass das Verfahren einen Prozess zum Schleifen der Spitze der optischen Faser parallel zu der optischen Achse der optischen Faser enthält, um die Spitze der optischen Faser zu schärfen.
  • Daher ist es leicht, die Spitze der optischen Faser nahe dem Spiegel anzuordnen, so dass ein optischer Nahfeldkopf bereitgestellt wird, der ein Nahfeldlicht großer Intensität erzeugt.
  • Ferner ist das sechste Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass das Verfahren einen Prozess zum diagonalen maschinellen Bearbeiten der Spitze der optischen Faser zum Bilden einer Reflexionsbeschichtung auf der diagonal maschinell bearbeiteten Oberfläche enthält.
  • Daher können der Spiegel und das Lichtfortpflanzungsmedium einstückig gebildet werden und deren Herstellungsprozess kann vereinfacht werden, während die Anzahl der Komponenten verringert werden kann, so dass ein billiger optischer Nahfeldkopf mit gleichförmiger Leistung und weniger fehlerhaften Komponenten bereitgestellt werden kann.
  • Ferner ist das siebente Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass das Verfahren einen Prozess zum maschinellen Bearbeiten der Spitze der optischen Faser in eine Linsenform enthält, um das von der optischen Faser auf die winzige Struktur ausgestrahlte Licht zu konzentrieren.
  • Daher wird der Punktdurchmesser des Lichts, das von der optischen Faser auf die winzige Struktur ausgestrahlt wird, verringert, so dass ein optischer Nahfeldkopf, der Nahfeldlicht großer Intensität von der winzigen Struktur erzeugt, bereitgestellt werden kann.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 2 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Schieberteil und ein Spiegelteil des optischen Nahfeldkopfs gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 3 ist eine Zeichnung, die ein Verfahren zur Herstellung des Spiegelteils des optischen Nahfeldkopfs gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 4 ist eine Zeichnung, die ein Verfahren zur Herstellung des Schieberteils des optischen Nahfeldkopfs gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 5 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 6 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 7 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 8 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 9 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 10 ist eine Konstruktionsansicht, die einen Nahfeldkopf gemäß der siebenten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 11 ist eine Zeichnung, die einen Teil eines Verfahrens zur Herstellung des Spiegelteils des optischen Nahfeldkopfs gemäß der fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 12 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Schieberteil des optischen Nahfeldkopfs gemäß der achten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 13 ist eine Konstruktionsansicht, die ein Schieberteil des optischen Nahfeldkopfs gemäß der achten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 14 ist eine Konstruktionsansicht, die ein Schieberteil des optischen Nahfeldkopfs gemäß der neunten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 15 ist eine Konstruktionsansicht einer Vorrichtung, die die optische Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung zeigt, die den optischen Nahfeldkopf verwendet.
  • 16 ist eine Konstruktionsansicht, die einen optischen Nahfeldkopf gemäß der zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 17 ist eine perspektivische Ansicht, die ein Schieberteil und ein Spiegelteil des optischen Nahfeldkopfs gemäß der zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 18 ist eine Konstruktionsansicht, die ein Verfahren zur Herstellung des Spiegelteils und des Lichtwellenleiters des optischen Nahfeldkopfs gemäß der zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 19 ist eine Konstruktionsansicht, die einen optischen Nahfeldkopf gemäß der zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 20 ist eine Konstruktionsansicht, die einen optischen Nahfeldkopf gemäß der elften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • BESTE AUSFÜHRUNGSFORM DER ERFINDUNG
  • Der optische Nahfeldkopf und das Verfahren zu dessen Herstellung gemäß der vorliegenden Erfindung werden in der Folge ausführlich unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen erklärt.
  • Erste Ausführungsform
  • 1 ist eine Konstruktionsansicht, die einen optischen Nahfeldkopf 1000 gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 1a ist eine Schnittzeichnung des optischen Nahfeldkopfs 1000 und 1b ist eine Querschnittsansicht des optischen Nahfeldkopfs 1000 entlang der Linie A-A' in 1a. Der optische Nahfeldkopf 1000 umfasst ein Schieberteil 1001, ein Spiegelteil 1002 und eine optische Faser 1803, deren Spitze teilweise parallel zu der optischen Achse geschliffen ist. 2a und 2b sind perspektivische Ansichten, die jeweils das Schieberteil 1001 und das Spiegelteil 1002 zeigen, wobei die Reflexionsbeschichtung entfernt ist.
  • In dem Schieberteil 1001 ist ein Loch 1005 in umgekehrter Kegelform gebildet und in dessen Oberseite ist eine winzige Apertur 1006 als winzige Struktur gebildet. Die Reflexionsbeschichtung 1004 ist auf der Oberfläche des Lochs 1005 gebildet, um das Licht, das in das Loch 1005 fällt, effektiv auf die winzige Struktur 1006 zu konzentrieren. Zusätzlich ist das Schieberteil 1001 mit einer V-förmigen Rille 1007 mit einer Breite W1 bereitgestellt, und eine Ebene ist in dem Bodenteil der V-förmigen Rille gebildet.
  • Andererseits ist das Spiegelteil 1002 mit einem U-förmigen Fortsatz 1008 mit einer Breite W2 gebildet. Der Fortsatz 1008 ist mit einer Reflexionsbeschichtung 1009 bereitgestellt, die als Spiegel 1010 dient. Durch Einsetzen des U-förmigen Fortsatzes des Spiegelteils 1002 in die V-förmige Rille 1007 des Schieberteils 1001 werden das Schieberteil 1001 und das Spiegelteil 1002 verbunden, um eine Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades zu bilden. Mit Hilfe der Einstellung der Breite W1 der V-förmigen Rille 1007 des Schieberteils 1001 und der Breite W2 des U-förmigen Fortsatzes 1008 des Spiegelteils 1002 und durch Verbinden der Fläche, die durch einen Pfeil a in der V-förmigen Rille des Schieberteils 1001 dargestellt ist, und der Fläche, die durch einen Pfeil b in dem U-förmigen Fortsatz des Spiegelteils 1002 dargestellt ist, kann die Position des Spiegels 1010 leicht bestimmt werden. Daher werden die Breite W1, W2 und die Dimensionen des Fortsatzes 1008 so definiert, dass das Nahfeldlicht, das von der winzigen Apertur 1006 ausgestrahlt wird, maximiert wird. Die optische Faser 1803 ist so konstruiert, dass ihre Spitze parallel zu der optischen Achse bis in die Nähe des Kerns 1011 der optischen Faser 1803 geschliffen ist.
  • Die optische Faser 1803 ist in den Raum eingesetzt, der durch die V-förmige Rille 1007 des Schieberteils 1001 und die Innenfläche des U-förmigen Fortsatzes 1008 des Spiegelteils 1002 definiert ist. Die optische Faser 1803 ist in der V-förmigen Rille 1007 des Schieberteils 1001 befestigt. Das Licht, das sich durch die optische Faser 1803 fortpflanzt und von der Spitze der optischen Faser 1803 ausgestrahlt wird, wird in seiner Fortpflanzungsrichtung durch den Spiegel 1010 zu der winzigen Apertur 1006 abgelenkt. Die optische Faser 1803 mit einer geschliffenen Spitze kann die Lichtausstrahlungskante der optischen Faser 1803 näher bei dem Spiegel 1010 anordnen als die optische Faser ohne geschliffene Spitze. Zusätzlich kann der Abstand zwischen der optischen Faser 1803 und der winzigen Apertur 1006 auch verringert werden, da die V-förmige Rille 1007 in der Nähe der winzigen Apertur 1006 gebildet ist.
  • In Bezug auf das Schieberteil 1001 beträgt die Dicke T1 200 bis 500 μm, die Länge L1 1 bis 5 mm und die Breite W3 1 bis 5 mm. Zusätzlich beträgt bei der V-förmigen Rille 1007 die Breite W1 150 bis 500 μm, die Länge L2 500 bis 4000 μm und die Tiefe D1 100 bis 400 μm. Die Größe der winzigen Apertur 1006 ist 50 bis 300 nm. Die Dicke der Reflexionsbeschichtung 1004 beträgt 100 bis 300 nm.
  • In Bezug auf das Spiegelteil 1002 beträgt die Dicke T2 200 bis 1000 μm, die Länge L2 1 bis 5 mm und die Breite W4 1 bis 5 mm. In Bezug auf den Fortsatz 1008 beträgt die Breite W2 100 bis 450 μm, die Länge L3 500 bis 4000 μm und die Höhe H1 100 bis 400 μm. Zusätzlich beträgt die Dicke der Reflexionsbeschichtung 1009 50 bis 300 nm.
  • Der Durchmesser D2 der optischen Faser 1803 beträgt 125 μm. Die Absenkungstiefe D2 der Spitze der optischen Faser ist 50 bis 60 μm und die Länge L4 des vertieften Teils ist 500 bis 5000 μm.
  • Das Material des Schieberteils 1001 und des Spiegelteils 1002 ist ein Dielektrikum, wie Silizium oder Quarz, oder ein Metall, wie rostfreier Stahl oder Kupfer. Das Material der Reflexionsbeschichtung 1004 und 1009 ist ein Metall mit hohem Reflexionsfaktor, wie Aluminium oder Gold, oder eine dielektrische Mehrfachschicht.
  • Wie zuvor beschrieben, kann gemäß dem optischen Nahfeldkopf 1000 gemäß der ersten Ausführungsform, da die Spitze der optischen Faser 1803 geschliffen ist und somit die Spitze der optischen Faser 1803 nahe bei dem Spiegel 1010 angeordnet werden kann, der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante der optischen Faser 1803 und der winzigen Apertur 1006 verkürzt werden, und der Punktdurchmesser des Lichts, das an der winzigen Apertur 1006 ausgestrahlt wird, kann verringert werden. Daher kann die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur 1006 ausgestrahlt wird, erhöht werden. Da der optische Kopf 1000 in einer Ebene konstruiert ist, wird zusätzlich dessen Miniaturisierung leicht. Daher kann die Masse des optischen Kopfes 1000 verringert werden, so dass seine Positionierungsgenauigkeit erhöht und gleichzeitig die Resonanzfrequenz des Kopfpositionierungsmechanismus einschließlich des optischen Kopfes angehoben werden kann, so dass die Positionierungsgeschwindigkeit verbessert ist. Zusätzlich wird mit Hilfe der Bestimmung der Dimensionen der V-förmigen Rille 1007 und des U-förmigen Fortsatzes in derartiger Weise, dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur 1006 ausgestrahlt wird, maximiert ist, die Positionierung des Spiegels 1010 vereinfacht und die Einstellung der optischen Achse wird leicht.
  • Es folgt eine Beschreibung der Methode zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs 1000 unter Bezugnahme auf 3 und 4. 3 ist eine Zeichnung, die das Verfahren zur Herstellung des Spiegelteils 1002 zeigt.
  • Ein Substrat 100, wie Silizium, Quarz oder rostfreier Stahl, ist in 3a dargestellt. Eine Maske 101, wie ein Oxidfilm oder Nitridfilm, wird auf dem Substrat 100 gebildet. Übrigens wird die obere Seite des Substrats in der Zeichnung in der Folge als Vorderseite bezeichnet und die untere Seite wird als Rückseite bezeichnet.
  • 3b zeigt einen Musterbildungsprozess an der Vorderseite des Substrats 100, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Maske 101 bereits mit einem Muster versehen ist. Die Maske 101 auf dem Substrat 100 wird mit Hilfe eines Fotolithografieprozesses mit einem U-förmigen Muster versehen.
  • 3c zeigt einen Prozess zum Bilden des U-förmigen Fortsatzes, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass der U-förmige Fortsatz bereits gebildet ist. Wenn das Substrat 100 aus Silizium ist, wird der U-förmige Fortsatz durch Ätzend des Substrats durch anisotropes Ätzen mit Kaliumhydroxid (KOH) oder Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH) gebildet.
  • 3d zeigt einen Prozess zum Aufbauen der Reflexionsbeschichtung 102, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Reflexionsbeschichtung 102 bereits aufgebaut ist. Nach der Bildung des U-förmigen Fortsatzes wird die Maske 101 durch Ätzen entfernt. Danach wird die Reflexionsbeschichtung 102 auf dem Substrat 100 durch Sputtern oder eine Vakuumabscheidung oder dergleichen gebildet.
  • 3e zeigt den Prozess zum Bilden der Konfiguration des Spiegelteils 1002, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass das Spiegelteil 1002 bereits fertig gestellt ist. Sobald die Reflexionsbeschichtung 102 aufgebaut ist, wird das Spiegelteil 1002 mit Hilfe einer Methode, wie Zerteilen oder Zerschneiden, bearbeitet, so dass es eine gewünschte äußere Dimension hat.
  • 4 zeigt eine Zeichnung, die ein Verfahren zur Herstellung des Schieberteils 1001 darstellt.
  • 4a zeigt ein Substrat 103, wie Silizium, Quarz oder rostfreien Stahl. Eine Maske 104, wie ein Oxidfilm oder Nitridfilm, ist auf dem Substrat 103 gebildet.
  • 4b zeigt einen Prozess zur Musterbildung auf der Maske 104 auf dem Substrat 103 zur Bildung einer winzigen Apertur darin, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Musterbildung an der Maske 104 bereits durchgeführt ist. Die Musterbildung an der Maske 104 auf dem Substrat 103 wird durch einen Fotolithografieprozess ausgeführt.
  • 4c zeigt einen Prozess zum Bilden einer winzigen Apertur, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die winzige Apertur bereits gebildet ist. Wenn das Substrat 103 aus Silizium besteht, wird die winzige Apertur durch Kaliumhydroxid (KOH) oder Tetramethylammoniumhydroxid (TMAH) gebildet.
  • 4d zeigt einen Prozess zum Bilden einer Maske 105 zur Bildung einer V-förmigen Rille, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Musterbildung an der Maske 105 bereits durchgeführt ist. Nach der Bildung der winzigen Apertur wird die Maske 104 auf dem Substrat 103 entfernt, und die Maske 105 wird durch eine Gasphasensynthesemethode oder Rotationsbeschichtung oder dergleichen aufgebaut. Das Material der Maske 105 ist ein Oxidfilm oder Nitrildfilm. Dann wird die Maske 105 einer Musterbildung mit einer Maskengeometrie durch einen Fotolithografieprozess unterzogen, so dass die V-förmige Rille gebildet wird.
  • 4e zeigt einen Prozess zum Bilden einer V-förmigen Rille, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die V-förmige Rille bereits gebildet ist. Wenn das Substrat 103 aus Silizium ist, wird die V-förmige Rille durch anisotropes Ätzen durch KOH oder TMAH gebildet.
  • 4f zeigt einen Prozess zum Aufbauen einer Reflexionsbeschichtung, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Reflexionsbeschichtung 106 bereits aufgebaut ist. Nach der Bildung der V-förmigen Rille werden die Maske 105 und die Maske 104 an der Rückseite des Substrats 103 durch Nassät zen oder Trockenätzen entfernt. Danach wird ein Metall, das einen hohen Reflexionsfaktor und Schattierungsfaktor aufweist, wie Aluminium oder Gold, durch Sputtern oder ein Vakuumabscheidungsverfahren auf das Substrat 104 aufgebracht. Dann wird unter Nutzung des gleichzeitigen Aufbaus der Reflexionsbeschichtung 106 auf dem Umfang der winzigen Apertur die Größe der Reflexionsbeschichtung 106 angepasst.
  • 4g zeigt einen Konfigurationsprozess der Kontur eines Schieberteils 1001, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass das Schieberteil bereits fertig gestellt ist. Sobald die Reflexionsbeschichtung 106 aufgebaut ist, wird das Schieberteil 1001 zu einer gewünschten äußeren Dimension mit Hilfe einer Methode, wie Zerteilen oder Zerschneiden, bearbeitet.
  • Eine optische Faser 1803, die eine geschliffene Spitze aufweist, wird an dem Schieberteil 1001, das durch den zuvor beschriebenen Prozess hergestellt wurde, mit Hilfe einer Klebstoff- oder Festphasenbindung usw. befestigt und dann wird der Fortsatz des Spiegelteils 1002 in die V-förmige Rille in dem Schieberteil 1001 eingesetzt, um dort mit Hilfe einer Klebstoff- oder Festphasenbindung usw. befestigt zu werden, wodurch der optisch Nahfeldkopf 1000 vollendet ist.
  • Gemäß dem zuvor beschriebenen Verfahren kann der optische Nahfeldkopf 1000, der in der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dargestellt ist, leicht und in großen Mengen hergestellt werden. Da der Spiegel 1010 leicht durch Einsetzen des U-förmigen Fortsatzes des Spiegelteils 1002 in die V-förmige Rille 1007 des Schieberteils 1001 positioniert wird, ist zusätzlich die Montage einfach und es kann ein optischer Nahfeldkopf 1000 bereitgestellt werden, der stabil ein Nahfeldlicht großer Intensität erzeugen kann.
  • 15 ist eine Zeichnung, die eine kurze Installationsarchitektur einer optischen Aufzeichnungs- und Wiedergabevorrichtung zeigt.
  • Unter Bezugnahme auf den oben genannten optischen Nahfeldkopf 1000, der auf einem Aufzeichnungsmedium 504 angeordnet ist, wird das Aufzeichnungs- und Wiedergabeverfahren der Informationen mit Hilfe von Nahfeldlicht, das von der winzigen Apertur ausgestrahlt wird, erklärt.
  • Der optische Nahfeldkopf 1000 schwebt durch die Wechselwirkung zwischen dem Luftstrom auf dem Aufzeichnungsmedium 504, das durch einen Antriebsmotor für das Aufzeichnungsmedium 505 gedreht wird, und dem Schieberteil 1001 in der Position mit 10 bis 100 nm Abstand über dem Aufzeichnungsmedium 504. Daher ist die Position der winzigen Apertur 1006, die in dem Schieber 1001 gebildet ist, auch in ihrer Position von dem Aufzeichnungsmedium 504 10 bis 100 nm beabstandet. Das Licht, das von dem Halbleiterlaser 502 ausgestrahlt wird, wird durch die Linse 503 kondensiert und in den optischen Nahfeldkopf 1000 gelenkt. Das Licht, das in den optischen Nahfeldkopf 1000 gelenkt wird, wird als Nahfeldlicht von der winzigen Apertur 1006 auf das Aufzeichnungsmedium 504 ausgestrahlt. Das Aufzeichnungsmedium 504 ist zum Beispiel ein Phasenänderungsaufzeichnungsmedium, das durch Wärmeanwendung in einen amorphen Zustand oder kristallinen Zustand gebracht wird, und durch das eine Aufzeichnung oder Wiedergabe unter Nutzung des Unterschieds im Reflexionsfaktor oder Durchlässigkeitsfaktor erfolgen kann. In diesem Fall werden die Informationen zum Beispiel mit Hilfe des Ausstrahlens eines Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur erzeugt wird, auf das Aufzeichnungsmedium aufgezeichnet, so dass die Region, die mit Nahfeldlicht bestrahlt wird, aus dem kristallinen Zustand in den amorphen Zustand geändert wird. Da der Abstand zwischen der winzigen Apertur 1006 und dem Aufzeichnungsmedium 504 10 bis 100 nm beträgt, ist die Größe des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur 1006 auf das Aufzeichnungsmedium gestrahlt wird, im Wesentlichen dieselbe wie die winzige Apertur, die zum Beispiel einen Durchmesser von 100 nm hat. Daher kann gemäß dem optischen Kopf 1000, der in 1 dargestellt ist, eine Aufzeichnung mit hoher Dichte leicht ausgeführt werden.
  • Andererseits zum Beispiel erfolgt eine Wiedergabe von Informationen wie in der Folge erklärt. Zunächst leitet die Steuerschaltung 506 des optischen Kopfs 1000 ein Signal zu der Servoantriebsschaltung 508, um die winzige Apertur in die gewünschte Informationsaufzeichnungsposition zu bewegen. Der Servomotor 509, der das Signal von der Servoantriebsschaltung 508 empfangen hat, bewegt den optischen Kopf 1000 als Ganzes durch die Hängevorrichtung 501, um die winzige Apertur 1006 in die Informationsaufzeichnungsposition zu bewegen. Dann wird Nahfeldlicht von der winzigen Apertur auf das Aufzeichnungs-Pit gestrahlt, während das Fortpflanzungslicht, das durch das Aufzeichnungsmedium 504 zu dem Fotodetektor 507 des Kondensorlinsensystem 510 gegangen ist, konzentriert wird, wodurch das Informationssignal bereitgestellt wird. Das bereitgestellte Informationssignal wird zu der Steuerschaltung 506 gesendet, wo die Verschiebung zwischen der winzigen Apertur und dem Aufzeichnungs-Pit erfasst wird, zum Beispiel durch einen Vergleich der Signalstärke. Wenn eine Verschiebung zwischen der Position der winzigen Apertur 1006 und des Aufzeichnungs-Pits stattgefunden hat, wird ein Signal zum Modifizieren der Verschiebung von der Steuerschaltung 506 zu der Servoschaltung 508 geleitet, und die Servoschaltung 508 treibt den Servomotor 509 an. Andererseits wird das Fortpflanzungslicht, das durch das Aufzeichnungsmedium 103 gegangen ist, auf dem Fotodetektor als ein Signal konzentriert, das zum Beispiel eine Differenz des Durchlässigkeitsfaktors zwischen dem amorphen Zustand und dem Kristallzustand des Aufzeichnungsmediums enthält. Diese Information über die Differenz des Durchlässigkeitsfaktors wird als Informationssignal erfasst. Das erhaltene Informationssignal wird durch eine Signalverarbeitungsschaltung, die in den Zeichnungen nicht dargestellt ist, in ein Wiedergabesignal umgewandelt.
  • Wie zuvor beschrieben, schwebt gemäß der ersten Ausführungsform der optische Kopf 1000, der durch die Aufhängevorrichtung 501 geschoben wird, weiterhin in der Nähe des Aufzeichnungsmediums 504 mit Hilfe des optimal konstruierten Schiebers 1001, der die winzige Apertur 1006 enthält, und das Nahfeldlicht mit kleinem Punktdurchmesser kann von der winzigen Apertur 1006 auf das Aufzeichnungsmedium gestrahlt werden, so dass ein optischer Kopf 1000, der zur Aufzeichnung und Wiedergabe mit hoher Dichte imstande ist, bereitgestellt werden kann.
  • Zusätzlich hat der optische Kopf 1000 der vorliegenden Erfindung, in dem ein Spiegel auf einem dünnen Substrat durch Bilden eines Fortsatzes an der Stelle, wo danach eine dünne Reflexionsbeschichtung aufgebaut wird, bereitgestellt wird, ein geringes Gewicht. Daher kann der optische Kopf 1000 schnell und präzise bewegt werden, so dass ein optischer Kopf, der für eine Abtastung mit hoher Abtastfähigkeit imstande ist, bereitgestellt werden kann.
  • Zusätzlich versteht sich von selbst, dass die Informationen, die auf dem Aufzeichnungsmedium aufgezeichnet sind, von dem reflektierten Licht mit Hilfe der Bildung eines Fotodetektors auf der Oberfläche des Schiebers des optischen Kopfes 1000 oder mit Hilfe der Anordnung eines Fotodetektors auf dem Aufzeichnungsmedium extrahiert werden können. Ferner kann im Falle der Erfassung der aufgezeichneten Informationen durch Verwendung eines von dem Aufzeichnungsmedium reflektierten Lichts, durch die Anordnung eines optischen Kopfes und eines Fotodetektors an beiden Seiten des Aufzeichnungsmediums, die Aufzeichnungsdichte pro Aufzeichnungsmedium erhöht werden.
  • Der optische Kopf, der in der folgenden Ausführungsform dargestellt ist, kann ohne Ausnahme in der Konstruktion verwendet werden, die in 15 dargestellt ist.
  • Zweite Ausführungsform
  • 5 ist eine Konstruktionsansicht, die den optischen Nahfeldkopf 2000 gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Konstruktion des optischen Nahfeldkopfs 2000 ist annähernd dieselbe wie jene der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der Unterschied liegt in der Geometrie des Spiegels 2002. Der Spiegel 2002 besteht aus einem konkaven Spiegel. Das Licht, das von der optischen Faser 2803 durch den Spiegel 2002 ausgestrahlt wird, wird in seiner Fortpflanzungsrichtung zu der winzigen Apertur 2006 abgelenkt und gleichzeitig auf der winzigen Apertur 2006 konzentriert. Daher hat gemäß dem optischen Nahfeldkopf 2000 das Nahfeldlicht, das von der winzigen Apertur 2006 ausgestrahlt wird, eine größere Intensität als jenes des optischen Nahfeldkopfes, der in der ersten Ausführungsform dargestellt ist.
  • Dritte Ausführungsform
  • 6 ist eine Konstruktionsansicht, die den optischen Nahfeldkopf 3000 gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Konstruktion des optischen Nahfeldkopfs 3000 ist annähernd dieselbe wie jene der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der Unterschied liegt darin, dass die Spitze der optischen Faser 3803 der vorliegenden Erfindung zu einer sphärischen Form bearbeitet ist.
  • Daher pflanzt sich das Licht, das von der Spitze der optischen Faser ausgestrahlt wird, fort, während es sich auf der winzigen Apertur 3006 konzentriert. Daher hat gemäß dem optischen Nahfeldkopf 3000 das Nahfeldlicht, das von der winzigen Apertur 3006 erzeugt wird, eine größere Intensität als jenes des optischen Nahfeldkopfes, der in der ersten Ausführungsform dargestellt ist.
  • Vierte Ausführungsform
  • 7 ist eine Konstruktionsansicht, die den optischen Nahfeldkopf 4000 gemäß der vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Konstruktion des optischen Nahfeldkopfs 4000 ist annähernd dieselbe wie jene des optischen Nahfeldkopfs 1000 der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der Unterschied liegt darin, dass die optische Faser 4803 an dem Spiegelteil 4002 befestigt ist.
  • Die Dicke T1 des Schieberteils 4001 beträgt 10 bis 50 μm. Wenn in der oben genannten ersten Ausführungsform die Dicke T1 des Schieberteils 1001 zum Beispiel ziemlich klein ist, besteht das Problem, dass das Schieberteil 1001 durch die Spannung, die in der Periode des Bindungs- oder Verbindungsprozesses der optischen Faser 1803 an das oder mit dem Schieberteil 1001 erzeugt wird, verformt werden könnte. Durch Verwendung der Struktur des optischen Nahfeldkopfes 4000 gemäß der vorliegenden Ausführungsform jedoch, kann, selbst wenn das Schieberteil 4001 dünn gestaltet wird, das Licht in der winzigen Apertur 4006 stabil ohne Verformung gestrahlt werden. Zusätzlich wird, wenn das Schieberteil 4001 dünn gestaltet wird, die räumliche Fortpflanzungsstrecke des Lichts, das von der optischen Faser erzeugt wird, verkürzt, so dass der optische Nahfeldkopf 4000 der vorliegenden Ausführungsform eine größere Intensität als der optische Nahfeldkopf 4001 hat, der in der vierten Ausführungsform dargestellt ist. Zusätzlich versteht sich von selbst, dass durch eine Kombination der ersten Ausführungsform mit der zweiten oder dritten Ausführungsform die Intensität des Nahfeldlichts auf ein größeres Ausmaß erhöht wird.
  • Fünfte Ausführungsform
  • 9 ist eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 5000 gemäß der fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der optische Nahfeldkopf 5000 besteht aus einem Schieberteil 5001 und einem Spiegelteil 5002. In dem Schieberteil 5001 ist ein Loch 5005 in umkehrter Kegelform gebildet, dessen Oberseite eine winzige Apertur 5006 ist. Eine Reflexionsbeschichtung 5004 zum effektiven Kondensieren des Lichts, das in das Loch 5005 in der winzigen Apertur 5006 fällt, ist auf der Oberfläche des Lochs 5005 gebildet. Zusätzlich ist eine V-förmige Rille 5007 in dem Schieberteil 5001 gebildet und im Boden der V-förmigen Rille ist eine Ebene gebildet, auf der ein Wellenleiter 5903 bereitgestellt ist. Das Spiegelteil 5002 hat eine U-förmige Rille 5008, wie das Spiegelteil 1002 der ersten Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung, eine V-förmige Rille 5060 zum Befestigender optischen Faser, die das Licht in den Wellenleiter 5903 wirft, und eine Rille 5050 für ein leichteres Anordnen der optischen Faser nahe dem Wellenleiter 5903. Übrigens können optische Komponenten, wie ein Halbleiterlaser oder ein Prisma, als alternative Mittel verwendet werden, um das Licht in den Wellenleiter 5903 zu werfen. In diesem Fall hat die V-förmige Rille 5007 eine geeignete Konstruktion zur Befestigung jeder optischen Komponente.
  • Die Dimensionen des Schieberteils 5001 und die äußeren Dimensionen des Spiegelteils 5002 sind ungefähr dieselben wie jene des Schieberteils 1001 und des Spiegelteils 1002 der ersten Ausführungsform. Der Wellenleiter 5903 ist 500 bis 4000 μm lang, 4 bis 10 μm dick und 10 bis 200 μm breit. Das Material jeder Komponente des optischen Nahfeldkopfs 5000 ist annähernd dasselbe wie jenes des optischen Nahfeldkopfs 1000 der ersten Ausführungsform. Das Material des Wellenleiters 5903 ist ein Dielektrikum, wie Siliziumdioxid oder Polyimid. Der Wellenleiter 5903 kann entweder eine zweischichtige Konstruktion sein, die aus einer Überzugsschicht und einer Kernschicht besteht, oder eine dreischichtige Konstruktion, in der die Kernschicht zwischen der Überzugsschicht liegt, oder eine Konstruktion, in der alle Umfänge der Kernschicht mit einer Überzugsschicht bedeckt sind. Die V-förmige Rille 5060 ist 5 bis 50 mm lang.
  • Gemäß dem oben erwähnten optischen Nahfeldkopf 5000, wird der optische Pfad des Lichts, das von einem Wellenleiter ausgestrahlt wird, verkürzt, da das Licht sich zu dem Spiegel 5010 mit Hilfe eines Wellenleiters 5903 fortpflanzt, der in der Nähe der winzigen Apertur gebildet ist. Daher wir die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur 5006 erzeugt wird, erhöht. Da der optische Nahfeldkopf 5000 ein Kopf ist, der eine integrierte Zusammensetzung der winzigen optischen Komponenten aufweist, wie Prisma, Linse oder Halbleiterlaser, wird zusätzlich die gesamte Konstruktion der Vorrichtung kompakt. Mit Hilfe der Kombination der vorliegenden Ausführungsform mit der zweiten Ausführungsform versteht sich von selbst, dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur 5006 erzeugt wird, auf ein größeres Ausmaß erhöht ist.
  • Das Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs 5000 ist in der Folge beschrieben. Das Verfahren zur Herstellung des Schieberteils 5001 ist annähernd dasselbe wie jenes für das Schieberteil 1001 des optischen Nahfeldkopfs 1000 der ersten Ausführungsform. Der Unterschied liegt darin, dass ein Prozess zum Bilden eines Wellenleiters 5903 auf dem Schieberteil 5001 nach dem Prozess, der in 4f dargestellt ist, verbleibt. Das Verfahren zur Herstellung des Wellenleiters 5903 ist wie folgt. Zunächst wird mit Hilfe einer Gasphasensynthesemethode oder einer Rotationsbeschichtung ein Siliziumdioxid oder ein Polyimid aufgebaut. Dann wird eine Maske zur Musterbildung an dem Wellenleiter 5903 gebildet und dann wird das Muster des Wellen leiters 5903 mit Hilfe von Trockenätzen, wie reaktivem Ionenätzen oder Plasmaätzen, gebildet.
  • Danach ist das Verfahren zur Herstellung des Spiegelteils 5002 annähernd dasselbe wie jenes des Spiegelteils 1002 der ersten Ausführungsform. Der Unterschied liegt darin, dass ein Prozess zum Bilden der V-förmigen Rille, der in 11 dargestellt ist, nach dem Prozess, der in 3c dargestellt ist, ausgeführt wird.
  • 11a zeigt einen Prozess zum Bilden der V-förmigen Rille 5060, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die V-förmige Rille bereits gebildet ist. Nach dem Prozess, der in 3c dargestellt ist, wird die Maske 101 zum Bilden des U-förmigen Fortsatzes entfernt. Dann wird das Material für die Maske 160 zum Bilden der V-förmigen Rille 5060 auf dem Substrat 100 durch eine Methode, wie CVD, Rotationsbeschichtung oder Sputtern, aufgebaut. Das Material für die Maske 160 ist zum Beispiel Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphes Silizium, Titan, Chrom usw. Sobald das Material für die Maske 160 aufgebaut ist, wird die Maske 160 mit Hilfe einer Fotolithografie gebildet. Die V-förmige Rille wird durch einen Prozess, wie Nassätzen durch KOH oder TMAH, aktives Ionenätzen oder dergleichen gebildet.
  • 11b zeigt den Prozess zum Bilden einer Vertiefung 5050, um die Anordnung der Faser oder der optischen Komponenten nahe dem Wellenleiter zu erleichtern, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Vertiefung 5050 bereits gebildet ist. Sobald die V-förmige Rille gebildet ist, wird die Maske 160 entfernt, und das Material für die Maske 161 zur Bildung einer Vertiefung wird auf das Substrat 100 durch Sputtern, Vakuumabscheidung oder Rotationsbeschichtung aufgebracht. Das Material für die Maske 161 ist zum Beispiel ein Metall, wie Aluminium, Titan, oder ein Dielektrikum, wie Siliziumdioxid oder ein Fotoresist. Sobald das Material für die Maske 161 aufgebaut ist, wird die Maske 161 durch Fotolithografie gebildet. Dann wird die Vertiefung mit Hilfe von Trockenätzen, wie reaktivem Ionenätzen oder Plasmaätzen, oder Nassätzen unter Verwendung einer flüssigen Mischung aus Fluorwasserstoffsäure und Salpetersäure, gebildet.
  • 11c zeigt einen Prozess zum Bilden der Reflexionsbeschichtung 102, so dass sie ein U-förmiger Fortsatz ist, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass die Reflexionsbeschichtung 102 bereits aufgetragen ist. Nach der Bildung der Vertiefung wird die Maske 161 entfernt und das Material für die Reflexionsbeschichtung 102 wird auf dem Substrat 100 mit Hilfe einer Methode, wie Sputtern, Vakuumabscheidung oder Plattieren, aufgebaut. Das Material für die Reflexionsbeschichtung 102 ist zum Beispiel Aluminium oder Chrom mit darauf aufgebrachtem Gold, oder Titan. Sobald das Material für die Reflexionsbeschichtung 102 aufgebaut ist, wird die Reflexionsbeschichtung 102 einer Musterbildung durch Fotolithografie unterzogen. Die Musterbildung der Reflexionsbeschichtung 102 kann jedoch unterlassen werden, wenn die Größe der V-förmigen Rille unter Berücksichtigung der Dicke der Reflexionsbeschichtung 102 festgelegt wurde.
  • 11d zeigt einen Konfigurationsprozess des Spiegelteils 5002, wobei ein Zustand dargestellt ist, dass das Spiegelteil 5002 bereits ausgeschnitten ist. Nachdem die Musterbildung der Reflexionsbeschichtung 102 durchgeführt wurde, wird die Kontur des Spiegelteils 5002 durch Zerteilen oder Zerschneiden oder anisotropes Ätzen durch KOH oder TMAH gebildet.
  • Sechste Ausführungsform
  • 8 ist eine Konstruktionsansicht eines optischen Nahfeldkopfs 6000 gemäß der sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der optische Nahfeldkopf 6000 besteht aus einem Schieberteil 6001 und einem Spiegelteil 6002. Das Schieberteil 6001 hat dieselbe Konstruktion wie das Schieberteil 2001 der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Das Spiegelteil 6002 hat in seinem U-förmigen Fortsatz wie das Spiegelteil 2002 der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung einen Wellenleiter 6003, eine V-förmige Rille 6060 zum Befestigen der optischen Faser, um das Licht in den Wellenleiter 6003 zu werfen, und eine Rille 6050 um das Anordnen der optischen Faser nahe dem Wellenleiter 6003 zu erleichtern. Übrigens können die optischen Komponenten, wie ein Halbleiterlaser oder ein Prisma, als Mittel verwendet werden, um Licht in den Wellenleiter 6003 zu werfen. In diesem Fall hat die V-förmige Rille 6060 eine geeignete Konstruktion zur Befestigung jeder optischen Komponente.
  • Dimensionen des Schieberteils 6001 sind annähernd dieselben wie des Schieberteils 2001 der zweiten Ausführungsform. Die Konfiguration des Spiegelteils 6002 hat eine Länge von 1 bis 5 mm, eine Breite von 1 bis 60 mm und eine Dicke von 200 bis 500 mm. Der Wellenleiter 6003 hat eine Länge von 500 μm bis 50 mm, eine Dicke von 4 bis 10 μm, und eine Breite von 10 bis 200 μm. Das Material jeder Komponente des optischen Nahfeldkopfs 6000 ist annähernd dasselbe wie jenes des optischen Nahfeldkopfs 1000 der ersten Ausführungsform. Das Material des Wellenleiters 6003 ist ein Dielektrikum, wie Siliziumdioxid oder Polyimid. Der Wellenleiter 6003 kann entweder eine zweischichtige Konstruktion sein, die aus einer Überzugsschicht und einer Kernschicht besteht, oder eine dreischichtige Konstruktion, in der die Kernschicht zwischen der Überzugsschicht liegt, oder eine Konstruktion, in der alle Umfänge der Kernschicht mit einer Überzugsschicht bedeckt sind. Die V-förmige Rille 6060 ist 5 bis 50 mm lang.
  • Gemäß dem oben erwähnten optischen Nahfeldkopf 6000, wird, da der Wellenleiter 6003 und das Mittel zum Lenken des Lichts in den Wellenleiter 6003 integral auf dem Spiegel teil 6002 gebildet sind, die Ausrichtung der optischen Komponenten leichter als bei dem optischen Nahfeldkopf 5000, der in der fünften Ausführungsform dargestellt ist, und jedes Element weist eine geringere Verschiebung auf. Daher kann der optische Kopf der vorliegenden Ausführungsform ein Nahfeldlicht mit stabilerer Intensität erzeugen als durch die fünfte Ausführungsform erzeugt wird. Da die schweren optischen Komponenten, wie der optische Kopf oder Halbleiterlaser, durch Vergrößern der Länge des Wellenleiters 6003 an einer Position fern der winzigen Apertur angeordnet werden können, können zusätzlich die Positionierungsgenauigkeit und die Positionierungsgeschwindigkeit verbessert werden.
  • Ferner können mit Hilfe der Konstruktion des Spiegelteils 6002 als Hängearm der Kopf und der Hängearm einstückig gebildet werden, so dass die Herstellungskosten verringert werden, wodurch die Bereitstellung eines billigen Aufzeichnungs- und Wiedergabekopfs und einer billigen Aufhängevorrichtung möglich ist.
  • Das Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs 6000 ist annähernd dasselbe wie jenes der optischen Nahfeldkopfs gemäß der fünften Ausführungsform. Der Unterschied liegt darin, dass ein Prozess zum Bilden des Wellenleiters 6003 vor dem Prozess durchgeführt wird, der in 11a dargestellt ist. Das Verfahren zur Herstellung des Wellenleiters 6003 ist wie folgt. Zunächst wird ein Siliziumdioxid oder Polyimid mit Hilfe einer Gasphasensynthesemethode oder Rotationsbeschichtung aufgebaut. Anschließend wird die Maske zur Musterbildung des Wellenleiters 6003 gebildet und dann wird das Muster des Wellenleiters 6003 durch Trockenätzen, wie reaktives Ionenätzen oder Plasmaätzen, gebildet.
  • Siebente Ausführungsform
  • 10 ist eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 7000 gemäß der siebenten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die Konstruktion des optischen Nahfeldkopfs 7000 ist annähernd dieselbe wie jene des optischen Nahfeldkopfs, der in der sechsten Ausführungsform dargestellt ist. Der Unterschied besteht darin, dass die Lichteinfallskante an dem Spiegelteil 7002 befestigt ist, während die Lichtausstrahlungskante an dem Schieberteil 7001 befestigt ist, und dass ein Loch 7070 zum Schieben des Wellenleiters 7903 an dem Spiegelteil 7002 gebildet ist.
  • Jede Größe des optischen Nahfeldkopfs 7000 ist annähernd dieselbe wie in der sechsten Ausführungsform. Die Größe D70 des Lochs 7070 beträgt 1 bis 4 mm. Der Wellenleiter 7903 kann eine zweischichtige Konstruktion sein, die aus einer Überzugsschicht und einer Kernschicht besteht, oder eine dreischichtige Konstruktion, in der die Kernschicht zwischen der Überzugsschicht liegt, oder eine Konstruktion, in der alle Umfänge der Kernschicht mit einer Überzugsschicht bedeckt sind.
  • Da gemäß dem oben erwähnten optischen Nahfeldkopf 7000 die Lichtausstrahlungskante des Wellenleiters 7903 an dem Schieberteil 7001 befestigt ist, wird der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante des Wellenleiters 7903 und der winzigen Apertur 7006 kürzer als jener des optischen Nahfeldkopfs, der in der sechsten Ausführungsform dargestellt ist. Daher kann der optische Nahfeldkopf 7000 gemäß der vorliegenden Ausführungsform ein Nahfeldlicht mit größerer Intensität erzeugen als jenes, das von dem optischen Nahfeldkopf der sechsten Ausführungsform erzeugt wird.
  • Das Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs 7000 ist annähernd dasselbe wie jenes des optischen Nahfeldkopfs 6000, der in der sechsten Ausführungsform dargestellt ist. Der Unterschied liegt darin, dass ein Prozess zum Bilden eines Lochs 7070 zum Schieben des Wellenleiters nach dem Prozess zum Bilden des Wellenleiters 7903 durchgeführt wird. Das Loch 7070 wird wie in der Folge erklärt, gebildet. Zunächst wird eine Maske zum Bereitstellen eines Lochs 7070 auf dem Substrat 100 an einer Seite gegenüber der Seite, die mit dem U-förmigen Fortsatz bereitgestellt ist, nach dem Prozess, der in 11c dargestellt ist, gebildet. Danach wird das Loch 7070 durch anisotropes Ätzen, wie TMAH oder KOH gebildet.
  • Achte Ausführungsform
  • 13 ist eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 8000 gemäß der achten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Zusätzlich ist 12 eine perspektivische Ansicht des Schieberteils 8001 des optischen Nahfeldkopfs 8000. Die Konstruktion des optischen Nahfeldkopfs 8000 ist annähernd dieselbe wie jene der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der Unterschied besteht darin, dass sie einen Spiegelausrichtungsrand 8080 aufweist. Da die Position des Spiegelteils entlang der Richtung der V-förmigen Rille, die in dem Schieberteil 8001 gebildet ist, mit Hilfe des Spiegelausrichtungsrandes 8080 fein eingestellt werden kann, wird ein optischer Nahfeldkopf bereitgestellt, der imstande ist, Nahfeldlicht größerer Intensität zu erzeugen.
  • Neunte Ausführungsform
  • 14 ist eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 9000 gemäß der neunten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der optische Nahfeldkopf 9000 besteht aus einem Schieberteil 9001 und einer optischen Faser 9803, die mit einem Spiegel ausgestattet ist, und einem Spiegel 9090. Das Schieberteil 9001 ist annähernd dasselbe, wie das Spiegelteil 9001 der ersten Ausführungsform. Die Konstruktion der optischen Faser 9803, die mit dem Spiegel ausgestattet ist, ist annähernd dieselbe wie jene der optischen Faser 1003, die in der ersten Ausführungsform dargestellt ist. Der Unterschied liegt darin, dass die Spitze der optischen Faser geschliffen ist und der Spiegel 9090 an der Bodenfläche gebildet ist. Gemäß dem optischen Nahfeldkopf 9000 der oben genannten Struktur wird die Montage nicht nur wegen der in der ersten Ausführungsform beschriebenen Effekte leichter, sondern auch weil die Anzahl der Komponenten geringer ist als jene der ersten Ausführungsform.
  • Zehnte Ausführungsform
  • 16 ist eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 10000 gemäß der zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 16b ist eine Schnittzeichnung des optischen Nahfeldkopfs 10000 und 16b ist eine Schnittzeichnung des optischen Nahfeldkopfs 10000 an einer Position, die durch eine Linie A-A' in 16a dargestellt ist. Der optischen Nahfeldkopf 10000 umfasst ein Schieberteil 10001, ein Spiegelteil 100002 und einen Lichtwellenleiter 10903. In dem Schieberteil 10001 ist ein Loch 10005 in umgekehrter Kegelform gebildet, dessen Oberseite eine winzige Apertur 10006 ist. Eine Reflexionsbeschichtung 10004 ist auf der Oberfläche des Lochs 10005 gebildet. Andererseits ist das Spiegelteil 10002 mit einer Abwärtsstufe gebildet, deren Neigung ein Spiegel 10010 ist. Der Lichtwellenleiter 10903 weist die Form eines rechteckigen Stabes auf und ein Kern 10011 zum Fortpflanzen von Licht ist an der Seite des Schieberteils 10001 in Maldistribution angeordnet.
  • Das Licht 1, das in den Lichtwellenleiter 10903 geworfen wird, pflanzt sich durch den Lichtwellenleiter 10903 fort und wird von der Endfläche der Seite des Spiegels 10010 ausgestrahlt. Das ausgestrahlte Licht wird von dem Spiegel 10010 zurück reflektiert und tritt in das Loch 10005 und wird durch die Reflexionsbeschichtung 10004 effektiv in die winzige Apertur 10006 kondensiert. Da der Kern 10011 des Lichtwellenleiters 10903 an der Seite des Schiebers in Maldistribution angeordnet ist, kann daher die Länge des optischen Pfades von der Ausstrahlungskante des Lichtwellenleiters 10903 zu der winzigen Apertur 10006 verkürzt werden.
  • In Bezug auf das Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs der vorliegenden Erfindung werden der Spiegel 10010 und die Lichtausstrahlungskante des Lichtwellenleiters 10903 durch Schleifen mit der kegelförmigen Klinge 600, wie in 18 dargestellt, gebildet, nachdem der Lichtwellenleiter 10903 an der unteren Seite (Abwärtsstufenseite) des Spiegelteils 10002 hergestellt wurde. Dann wird er mit dem Schieberteil 10001 verbunden oder an diesen gebunden. Übrigens kann es auch möglich sein, den Lichtwellenleiter 10903 mit dem Spiegelteil 10002 zu verbinden oder an diesen zu binden, um einen ähnlichen Schleifvorgang auszuführen, nachdem der Lichtwellenleiter 10903 separat hergestellt wurde.
  • Ferner hat der optische Nahfeldkopf 10000 gemäß der vorliegenden Ausführungsform die folgenden Vorteile im Vergleich zu der Konstruktion mit einer geschliffenen optischen Faser, wie der optische Nahfeldkopf 1000 der oben genannten ersten Ausführungsform. Da in jedem optischen Nahfeldkopf der vorliegenden Erfindung die winzige Apertur nahe" dem Aufzeichnungsmedium angeordnet werden muss, muss die Seite des Aufzeichnungsmediums des Strukturelements (wie zum Beispiel des Schieberteils) mit einer winzigen Apertur näher bei dem Aufzeichnungsmedium angeordnet werden als die Aufzeichnungsmediumsseite des anzuschließenden Lichtfort – pflanzungsmediums. Wenn daher der Kopf durch Schleifen des optischen Kopfs, wie des oben genannten optischen Nahfeldkopfs 1000, bereitgestellt wird, hat das Schieberteil eine Struktur mit größerer Dicke als der Überzug an der Aufzeichnungsmediumsseite des Lichtfortpflanzungsmediums. Wie in 17 dargestellt ist, stört bei dem Schieberteil mit einer schmalen Struktur das Teil 2 (das Lichtfortpflanzungsmedium und das Aufzeichnungsmedium 10504), das durch die punktierte Linie dargestellt ist, physisch. Der Abstand zwischen dem Aufzeichnungsmedium und der winzigen Apertur und ebenso der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der winzigen Apertur müssen jedoch so klein wie möglich gestaltet werden, um ein Nahfeldlicht mit einer größeren Intensität bereitzustellen. Wenn daher der optische Nahfeldkopf 10000 einen Kern aufweist, der mit einer Maldistribution an dem Schieberteil, nämlich an der Aufzeichnungsmediumsseite, angeordnet ist, kann die Dicke des Überzugs und auch die Dicke des Schieberteils klein gestaltet werden. Daher können die winzige Apertur und das Aufzeichnungsmedium nahe beieinander angeordnet werden, und gleichzeitig wird eine Konstruktion bereitgestellt, in der die Länge des optischen Pfades zwischen der Lichtausstrahlungskante des Wellenleiters und der winzigen Apertur in einem größeren Ausmaß verkürzt werden kann.
  • In Bezug auf das Material des Schieberteils 10001 ist ein Dielektrikum, wie Silizium oder Quarz, oder ein Metall, wie rostfreier Stahl oder Kupfer, insbesondere ein Material mit hohem Reflexionsvermögen mit Schleifvermögen wünschenswert. Das Material der Reflexionsbeschichtung 10004 ist ein Metall mit hohem Reflexionsvermögen, wie Aluminium oder Gold, oder ein dielektrischer mehrschichtiger Film. In Bezug auf das Material des Lichtwellenleiters 10903 ist eine Bildung mit polymeren Materialien möglich, die durch Siliziumoxid (Glas) oder UH-härtendes Harz repräsentiert sind. Folglich können in Bezug auf den Lichtwellenleiter 10903 die optimalen Materialien entsprechend den Fortpflanzungseigenschaften und der Intensität des Lichts oder dem Verfahren zur Herstellung des optischen Kopfs gewählt werden.
  • Zusätzlich ist 19 eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 10000, der von einem Hängearm getragen wird. Hier dient der Lichtwellenleiter 10903 auch als ein Teil des Hängearms zum Halten des Schieberteils 10001 und des Spiegelteils 10002 (nicht dargestellt). Übrigens kann der gesamte Hängearm aus einem Lichtwellenleiter bestehen.
  • Da wie zuvor beschrieben, gemäß dem optischen Nahfeldkopf 1000 der zehnten Ausführungsform der Kern des Lichtwellenleiters 10903 in Maldistribution angeordnet ist, wird der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtwellenleiters 10903 und der winzigen Apertur 10006 verkürzt, so dass der Punktdurchmesser des Ausstrahlungslichts an der winzigen Apertur 10006 verringert ist. Daher kann die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur 10006 ausgestrahlt wird, erhöht werden. Da ferner die Konstruktion derart ist, dass der Lichtwellenleiter 10903 und das Aufzeichnungsmedium einander physisch nicht stören, kann die Länge des optischen Pfades zwischen der Lichtausstrahlungskante und der winzigen Apertur auf ein größeres Ausmaß verkürzt werden. Zusätzlich kann durch Hinzufügen einer Funktion einer Aufhängevorrichtung zu dem Lichtwellenleiter 10903 der optische Nahfeldkopf leichter hergestellt werden.
  • Elfte Ausführungsform
  • 20 ist eine Konstruktionsansicht des optischen Nahfeldkopfs 11000 gemäß der elften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der optische Nahfeldkopf 11000 umfasst ein Spiegelteil 11002, einen Lichtwellenleiter mit einem Kern 11903, der in Maldistribution angeordnet ist, und einen Schattierungsfilm 11012, der auf der Oberfläche des Lichtwellenleiters 10903 aufgebracht ist. Eine winzige Apertur 11006 ist auf dem Schattierungsfilm 11012 bereitgestellt. Das Licht 1, das in den Lichtwellenleiter mit dem Kern 11903 in Maldistribution geworfen wird, pflanzt sich entlang der Krümmung des Kernteils 11011 in dem Lichtwellenleiter mit einem Kern in Maldistribution 11903 fort. Da das Licht 1 direkt in die winzige Apertur 11006 eingeleitet wird, kann ein Nahfeldlicht mit einer großen Intensität erzeugt werden. Übrigens wird durch Verringern des Krümmungsradis des Kernteils 11011 auch eine Konstruktion möglich, in der das sich gerade bewegende Licht, das von dem Kernteil 11011 abgelenkt wird, durch den Spiegel 11010 zurück reflektiert wird, der an dem Spiegelteil 11002 gebildet ist, um in die winzige Apertur 11006 geworfen zu werden.
  • Zusätzlich ist für das Licht, das in den optischen Nahfeldkopf 11000 der Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung einfällt, ein Lichtwellenleiter oder eine optische Faser 700 mit einem Kern in Maldistribution effektiv. Dieser Lichtwellenleiter oder die optische Faser 700 hat einen Kern 701 in Maldistribution auf der Aufzeichnungsmediumsseite. Dies ist wegen des Grundes, der in der zuvor beschriebenen zehnten Ausführungsform erwähnt ist, nämlich, dass die physische Störung zwischen dem Aufzeichnungsmedium und dem Lichtwellenleiter oder der optischen Faser 700 vermieden werden kann, und dass die Länge des optischen Pfades zu der winzigen Apertur aufgrund der Maldistribution des Kernteils des Lichtwellenleiters mit dem Kern in Maldistribution 11903 auf der Aufzeichnungsmediumsseite verkürzt werden kann.
  • In Bezug auf das Herstellungsverfahren wird derselbe Prozess wie in der oben genannten ersten Ausführungsform, die in 3 dargestellt ist, ausgeführt. Ein Lichtwellenleiter 11903 wird durch Schichten von drei oder mehr Schichten aus Siliziumoxid oder dergleichen in der Rille bereitgestellt. Die obere Seite (die Aufzeichnungsmediumsseite, nämlich die Seite, die mit der winzigen Apertur zu bilden ist) des Lichtwellenleiters wird zu einer flachen Ebene geschliffen, auf die ein Schattierungsfilm 11012 geschich tet ist, und mindestens die winzige Apertur 11006 wird durch FIB usw. gebildet. Übrigens unterscheidet sich die Position zur Bildung der winzigen Apertur 10006 abhängig davon, ob sich das Licht entlang dem Kernteil 11011 des Lichtwellenleiters bewegt oder sich gerade abgelenkt vom Kern bewegt.
  • Gemäß dieser Struktur ist die winzige Apertur 11006 direkt auf der Oberfläche des Lichtwellenleiters 11903 bereitgestellt, so dass der Abstand zwischen dem einfallenden Licht und der winzigen Apertur 11006 weiter verkürzt werden kann. Daher wird es möglich, das Nahfeldlicht großer Intensität stabil zu erzeugen.
  • INDUSTRIELLE ANWENDBARKEIT
  • Wie zuvor beschrieben, ist bei dem ersten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung die Spiegelposition in der Nähe der winzigen Struktur angeordnet und auch die Position der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums ist mit Hilfe der Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades näher bei der winzigen Struktur angeordnet, so dass die Länge zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der winzigen Struktur verkürzt werden kann, und der Punktdurchmesser des Lichts, das von dem Lichtfortpflanzungsmedium an der Position der winzigen Struktur ausgestrahlt wird, verringert werden kann, was dazu führt, dass die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur ausgestrahlt wird, groß wird. Daher kann ein optischer Nahfeldkopf, der zur Aufzeichnung und Wiedergabe hoher Dichte imstande ist, bereitgestellt werden.
  • Ferner wird gemäß dem zweiten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten optischen Nahfeldkopfs eine Aufzeichnung und Wiedergabe hoher Dichte möglich, da der Punktdurchmesser des Nahfeldlichts auf dem Wiedergabemedium auf annähernd dieselbe Größe wie die winzige Apertur verringert werden kann.
  • Ferner kann gemäß dem dritten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten und zweiten optischen Nahfeldkopfs ein optischer Nahfeldkopf zum Erzeugen eines Nahfeldlichts mit stabiler Intensität bereitgestellt werden, da das oben genannte Lichtfortpflanzungsmedium leicht durch die Bereitstellung des Lichtfortpflanzungsmediums in der Rille befestigt werden kann.
  • Ferner kann gemäß dem vierten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten bis dritten optischen Nahfeldkopfs ein stabiles optisches System zusammengefügt werden und die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, stabilisiert werden.
  • Ferner wird gemäß dem fünften optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten bis dritten optischen Nahfeldkopfs die Einstellung der optischen Achse vereinfacht, da der Spiegel und das Lichtfortpflanzungsmedium, die beide Komponenten des optischen Kopfs sind, einstückig bereitgestellt werden können, so dass die Einstellung der optischen Achse unnötig wird. Ferner kann ein billiger optischer Nahfeldkopf bereitgestellt werden, da die Anzahl der Komponenten verringert ist, so dass die Einheitskosten des Kopfs gesenkt sind.
  • Ferner wird gemäß dem sechsten oder siebenten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten bis fünften optischen Nahfeldkopfs die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur ausgestrahlt wird, erhöht, da die Energiedichte des Nahfeldkopfs an der winzigen Struktur erhöht werden kann.
  • Ferner wird gemäß dem achten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des vierten, des sechsten und siebenten optischen Nahfeldkopfs die optimale Einstellung zur Maximierung der Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur ausgestrahlt wird, leicht.
  • Ferner wird gemäß dem neunten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, erhöht, da, zusätzlich zu den vierten und sechsten bis achten Effekten des optischen Nahfeldkopfs, das Licht effektiv auf das Lichtfortpflanzungsmedium geworfen wird.
  • Ferner kann gemäß dem zehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten bis neunten optischen Nahfeldkopfs die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur ausgestrahlt wird, stabilisiert werden, da die Position des Lichtfortpflanzungsmediums mit Hilfe der Befestigung oder Bildung des Lichtfortpflanzungsmediums auf dem Schieber eingestellt werden kann.
  • Ferner kann gemäß dem elften optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des vierten bis neunten optischen Nahfeldkopfs die Position des Lichtfortpflanzungsmediums stabilisiert werden, selbst wenn ein Schieber geringer Dicke verwendet wird. Ferner wird die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, erhöht, da der Abstand zwischen dem Lichtfortpflanzungsmedium und der winzigen Struktur mit Hilfe des Schiebers geringer Dicke verkürzt werden kann.
  • Ferner kann gemäß dem zwölften optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des sechsten bis neunten optischen Nahfeldkopfs die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur ausge strahlt wird, erhöht werden, da die Positionierungsgenauigkeit der Lichteinfallskante des Lichtfortpflanzungsmediums und der Rille oder des Fortsatzes zur Befestigung der optischen Komponenten, um das Licht in das Lichtfortpflanzungsmedium zu werfen, zufrieden stellend ist, und die Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums nahe der winzigen Struktur angeordnet werden kann.
  • Ferner kann gemäß dem dreizehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten bis zwölften optischen Nahfeldkopfs der Punktdurchmesser des Lichts, das von der Lichtausstrahlungskante der optischen Faser in der winzigen Struktur ausgestrahlt wird, verringert werden, da die Lichtausstrahlungskante der optischen Faser näher bei dem Spiegel angeordnet werden kann. Daher kann die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Struktur erzeugt wird, erhöht werden.
  • Ferner kann gemäß dem vierzehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung zusätzlich zu den Effekten des ersten bis zwölften optischen Nahfeldkopfs die Masse des optischen Nahfeldkopfs durch Verwendung eines Dünnfilmwellenleiters, der dünner und leichter als die optische Faser ist, als Lichtfortpflanzungsmedium verringert werden. Daher ist es leicht, die Positionierungsgenauigkeit und die Positionierungsgeschwindigkeit des optischen Nahfeldkopfs zu verbessern. Zusätzlich wird durch die Verwendung des Dünnfilmwellenleiters als Lichtfortpflanzungsmedium die Dicke des optischen Nahfeldkopf leicht verringert und die Konstruktion der Vorrichtung wird in einem höheren Maß kompakt gestaltet.
  • Ferner wird es gemäß dem ersten bis siebenten Verfahren zur Herstellung des optischen Nahfeldkopfs gemäß der vorliegenden Erfindung möglich, den optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung leicht und in großen Mengen herzustellen.
  • Ferner kann gemäß dem fünfzehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung die Lichtausstrahlungskante an der optimalen Position für den optischen Zustand gestaltet werden, der sich entsprechend der Struktur des Schiebers ändert, da die Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums an jeder Position des Schiebers eingerichtet werden kann. Daher kann die Intensität des Lichts, das in die winzige Apertur geworfen wird, in einem höheren Ausmaß erhöht werden.
  • Ferner wird es gemäß einem sechzehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung möglich, die Intensität des erzeugten Nahfeldlichts zu erhöhen, da der Abstand zwischen der Lichtausstrahlungskante und der winzigen Apertur mit Hilfe einer Maldistribution des Kernteils zum Fortpflanzen des Lichts in dem Lichtfortpflanzungsmedium auf der Aufzeichnungsmediumsseite verkürzt wird. Ferner kann eine physische Störung zwischen dem Lichtfortpflanzungsmedium und dem Aufzeichnungsmedium aufgrund der Struktur des Kopfs selbst vermieden werden, da auch der Abstand zwischen dem Kernteil des Lichtfortpflanzungsmediums und dem Aufzeichnungsmedium verkürzt ist.
  • Ferner wird es gemäß dem siebzehnten und dem achtzehnten optischen Nahfeldkopf gemäß der vorliegenden Erfindung möglich, die Intensität des Nahfeldlichts, das von der winzigen Apertur ausgestrahlt wird, zu erhöhen und zu stabilisieren, da das Vermeiden der Verbindung mit dem Lichtfortpflanzungsmedium und die stabile Bereitstellung des Lichtfortpflanzungsmediums möglich wird.
  • Da die Anzahl der Komponenten verringert ist, wird es ferner möglich, den Arbeitsaufwand beim Montageprozess zu senken und die Genauigkeit bei der Montage zu verbessern, wodurch eine stabile Produktion in großen Mengen möglich wird.

Claims (21)

  1. Optischer Nahfeldkopf (1000), umfassend: einen Schieber (1001), der von einem Last ausübenden Hängearm getragen wird, um eine Schwebekraft mit Hilfe einer relativen Bewegung zu einem Aufzeichnungsmedium zu erlangen, so dass ein Abstand zwischen ihm und dem Aufzeichnungsmedium entsprechend einem Gleichgewicht zwischen der Last und der Schwebekraft entsteht; eine winzige Struktur (1006), die auf der Aufzeichnungsmediumsseite des Schiebers (1001) gebildet ist; ein Lichtfortpflanzungsmedium (1803), das an einer Seite, die der Aufzeichnungsmediumsseite des Schiebers gegenüber liegt, annähernd parallel zu dem Hängearm angeordnet ist; einen Spiegel (1010), der annähernd über der winzigen Struktur (1006) angeordnet ist, um das Licht, das von dem Lichtfortpflanzungsmedium (1803) ausgestrahlt wird, zu der winzigen Struktur (1006) zu leiten; und eine Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades zur Verkürzung der Länge des optischen Pfades zwischen der Lichtausstrahlungskante des Lichtfortpflanzungsmediums (1803) und der winzigen Struktur (1006), dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades eine Rille (1007) ist, die in der Nähe der winzigen Struktur gebildet ist, und das Lichtfortpflanzungsmedium (1803) in der Rille angeordnet ist.
  2. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach Anspruch 1, wobei die winzige Struktur (1006) eine Apertur ist.
  3. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei der Spiegel (1010) auf und einstückig mit einem Substrat angeordnet ist, das über dem Schieber (1001) angeordnet ist.
  4. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei der Spiegel (1010) auf dem Lichtfortpflanzungsmedium (1803) gebildet ist.
  5. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der Spiegel (1010) in einer konkaven Form gestaltet ist, die das Licht, das von dem Lichtfortpflanzungsmedium (1803) ausgestrahlt wird, kondensiert.
  6. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei das Lichtfortpflanzungsmedium (1803) eine Linsenfunktion zum Kondensieren von Licht an der Spitze des Lichtfortpflanzungsmediums (1803) aufweist.
  7. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 3, 5 oder 6, wobei ein Spiegelausrichtungsmechanismus auf dem Schieber (1001) und/oder dem Substrat, auf dem der Spiegel (1010) gebildet ist, ausgebildet ist, und der Spiegelausrichtungsmechanismus den Spiegel (1010) und die winzige Struktur (1006) in Position bringt.
  8. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 3 oder 5 bis 7, wobei eine Rille oder ein Fortsatz zum Befestigen optischer Komponenten zum Werfen von Licht in das Lichtfortpflanzungsmedium in dem Substrat ausgebildet ist.
  9. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Lichtfortpflanzungsmedium (1803) auf dem Schieber (1010) befestigt oder gebildet ist.
  10. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 3 bis 8, wobei das Lichtfortpflanzungsmedium (1803) an derselben Seite befestigt oder gebildet ist, an der der Spiegel (1010) gebildet ist.
  11. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 3 oder 5 bis 8, wobei die Lichteinfallskante des Lichtfortpflanzungsmediums (1803) an dem Substrat befestigt ist und seine Lichtausstrahlungskante an dem Schieber (1001) befestigt ist.
  12. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei das Lichtfortpflanzungsmedium (1803) eine optische Faser ist, die durch Schleifen ihrer Spitze parallel zu der optischen Achse maschinell zu einer schmalen Form bearbeitet ist.
  13. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei das Lichtfortpflanzungsmedium (1803) ein Lichtwellenleiter ist.
  14. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000), umfassend ein Verfahren zum Bilden eines Spiegels (1010), ein Verfahren zum Bilden eines Schiebers (1001) und einen Montageprozess für den Spiegel (1010) und den Schieber (1001), wobei: das Verfahren zum Bilden eines Spiegels (1010) einen Prozess zum Bilden eines Fortsatzes auf einem Substrat, einen Prozess zum Bilden eines Reflexionsfilms auf dem Fortsatz und einen Prozess zum Bilden einer Konfiguration dafür enthält, und das Verfahren zum Bilden eines Schiebers (1001) einen Prozess zum Bilden einer winzigen Struktur (1006), einen Prozess zum Bilden einer Struktur zur Verkürzung des optischen Pfades, einen Prozess zum Bilden einer Reflexionsbeschichtung und einen Prozess zum Bilden einer Konfiguration dafür enthält.
  15. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000) nach Anspruch 14, wobei das Verfahren einen Prozess zum Befestigen der optischen Faser an dem Schieber (1001) oder dem Substrat, auf dem der Spiegel (1010) gebildet ist, enthält.
  16. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000) nach Anspruch 14, wobei das Verfahren zum Bilden eines Spiegels (1010) oder das Verfahren zum Bilden eines Schiebers (1001) einen Prozess zum Bilden eines Dünnfilmwellenleiters enthält.
  17. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000) nach einem der Ansprüche 14 bis 16, wobei das Verfahren zum Bilden eines Spiegels (1010) einen Prozess zum Bilden einer Rille oder eines Fortsatzes zum Befestigen optischer Komponenten enthält.
  18. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000) nach Anspruch 15 oder 16, wobei das Verfahren einen Prozess zum Schleifen der Spitze der optischen Faser (1803) parallel zu der optischen Achse der optischen Faser (1803) enthält, um die Spitze der optischen Faser zu schärfen.
  19. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000) nach Anspruch 15 oder 16, wobei das Verfahren einen Prozess zum diagonalen Formen der Spitze der optischen Faser (1803) und einen Prozess zum Bilden ei ner Reflexionsbeschichtung auf der diagonal geformten Oberfläche enthält.
  20. Verfahren zur Herstellung eines optischen Nahfeldkopfs (1000) nach einem der Ansprüche 15 bis 16 oder 18 bis 19, wobei das Verfahren einen Prozess zum maschinellen Bearbeiten der optischen Faser (1803) in eine Linsenform enthält, um das von der optischen Faser auf die winzige Struktur (1006) ausgestrahlte Licht zu kondensieren.
  21. Optischer Nahfeldkopf (1000) nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei das Substrat, das mit dem Spiegel (1010) zusammengesetzt oder montiert ist, dadurch gekennzeichnet ist, dass der Spiegel (1010) einen Teil des Schiebers (1001) bildet und dass das Substrat mindestens einen Teil des Hängearms bildet.
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