JP4020233B2 - 近視野光ヘッドとその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、近視野光を利用して高密度な情報の再生及び記録を行う光メモリヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報機器の分野ではハードウェア及びソフトウェア両面で急速な発展を遂げ、それに伴い、取り扱う情報量も急激に増加し続けている。情報機器の一構成装置である情報記憶装置（特にハードディスク・ドライブ）においては、現在、記録媒体における単位面積当たりの記録容量が年率６０％増加するという急速な高記録密度化が進んでいる。そのため、記録媒体上に記録及び再生される一記録単位（ビット）のサイズの更なる微小化が望まれている。
【０００３】
微小な領域に記録及び再生するにあたり、試料表面においてナノメートルオーダの微小な領域を観察するための装置、走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）や原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）に代表される走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）の応用が注目されている。ＳＰＭは、先端が先鋭化されたプローブを試料表面に走査させ、プローブと試料表面との間に生じるトンネル電流や原子間力などの相互作用を観察対象として、プローブ先端形状に依存した分解能の像を得ることができる。
【０００４】
記録媒体の高記録密度化に際して、磁気に比して光で記録及び再生を行う方式は、トラック方向（記録媒体の半径方向）の高記録密度化が可能という利点がある。このことから、ＳＰＭの中でも光により観察を行う近視野光学顕微鏡の応用が有望視されている。
近視野光学顕微鏡は、試料表面に生成される近視野光とプローブとの間に生じる相互作用を観察対象とし、試料表面の微小な領域の観察が可能である。その観察方法の詳細な原理について次に述べる。
【０００５】
観察試料の表面に伝搬光を照射して近視野光を生成する。近視野光は観察試料表面上の非常に近接した領域にしか生成されないため、プローブの先鋭化された先端を観察試料表面にμｍ以下に近接させ、プローブ先端で生成された近視野光を散乱させる。散乱光はプローブ先端の微小開口を経由し、従来の伝搬光検出処理を行う。これにより、従来の光学顕微鏡による観察分解能の限界を打破し、光による微小な領域の観察が可能となる。さらに、プローブ内に強度の大きな光を観察試料に向けて導入し、プローブの微小開口にエネルギー密度の高い近視野光を生成する。この近視野光によって試料表面の構造または物性の局所的な変更も可能である。上記のように近視野光学顕微鏡の応用により、高密度な光メモリ記録の実現が可能であると考えられている。
【０００６】
このような近視野光を利用した光メモリ記録装置の構成の中でも、微小開口を有するプローブは記録及び再生を行う光ヘッドとなるため、最も重要なキー・パーツである。微小開口を有するプローブについては、例えば米国特許第５，２９４，７９０号に開示されているように、フォトリソグラフィ等の半導体製造技術によってシリコン基板にこれを貫通する開口部を形成し、シリコン基板の一方の面には絶縁膜を形成して、開口部の反対側の絶縁膜上に円錐形状の光導波層を形成したカンチレバー型光プローブが提案されている。このカンチレバー型光プローブにおいては、開口部に光ファイバーを挿入し、光導波層の先端部以外を金属膜でコーティングすることで形成された微小開口に光を透過させることができる。このため開口部の作製を簡易に行う事が可能になる。
【０００７】
更に、上述したプローブのように先鋭化された先端をもたない平面プローブの使用が提案されている（Ｔ． Ｙａｔｓｕｉ ｅｔ ａｌ．， ”Ｒｅａｄｏｕｔ ｃａｐａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ ａ ｐｌａｎａｒ ａｐｅｒｔｕｒｅｄ ｐｒｏｂｅ ｆｏｒ ｏｐｔｉｃａｌ ｎｅａｒ−ｆｉｅｌｄ ｍｅｍｏｒｙ”，ＮＦＯ−５， Ｉ１５， Ｓｈｉｒａｈａｍａ， Ｄｅｃ． １０， １９９８）。平面プローブは、シリコン基板に異方性エッチングによって逆ピラミッド構造の開口を形成したものであり、特にその頂点が数十ナノメートルの径を有して貫通され、開口部を形成している。そのような平面プローブは、半導体製造技術を用いて同一基板上に複数を一括作製できること、すなわちアレイ化が容易であり、特に近視野光を利用した光メモリの再生及び記録に適した光ヘッドとして使用できる利点がある。この平面プローブを用いた光ヘッドとして、従来ハードディスクで用いられているフライングヘッドに平面プローブを有したものが提案されている（日経エレクトロニクス、１９９７年３月１０日号）。フライングヘッドは従来、記録媒体との隙間が約５０から１００ｎｍを保ち、浮上するように空力設計されている。このフライングヘッドを利用することで、記録媒体とヘッドとが非常に近接した間隔（位置関係）を維持しつつ、フライングヘッドの記録媒体側に微小開口を形成して、近視野光を発生させることが可能である。このため、光による高密度の記録及び再生が可能となると考えられる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
近視野光を利用した光情報記憶装置を実現するにあたり、装置自体は小型および薄型である方が装置自体の利用価値が高くなる。装置を小型および薄型化するためには、記録媒体に対し平行に伝搬した光を、光学部品等を用いて記録媒体及び開口に対して垂直に曲げる構成が適していると考えられる。しかし、この構成の場合、光学部品を組み合わせるためヘッド自体が大きくかつ重くなり、位置決め精度や応答性が低下するという問題が発生する。
【０００９】
また、光ファイバー等の光導波路を用いて開口に光を入射した場合、開口から出射される近視野光の強度が小さくなり、記録及び再生の速度が低下、さらには記録および再生した情報の信頼性が低下するという問題が発生する。これは、光導波路の光出射端から出射される光が広がりつつ伝搬するため、出射端からの距離が大きいほど光のスポット径は大口径となる。そして、開口に照射される光強度が小さくなり、記録及び再生を行う近視野光の強度が小さくなる。その結果、情報による光強度比（Ｓ／Ｎ）が小さくなることから、記録及び再生速度や情報の信頼性が低下するという問題が発生する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明に係る第１の近視野光ヘッドは、負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されるとともに記録媒体との相対運動により浮上力を得、負荷加重と浮上力との均衡により記録媒体との間に隙間を作るスライダーと、スライダーの記録媒体側に形成された微小構造と、スライダーの記録媒体側と反対の面上に配置され、かつ、サスペンションアームと略平行に配置された光伝搬体と、微小構造の略上方に配置された、光伝搬体から出射される光を微小構造に導くためのミラーと、光伝搬体の光の出射端と微小構造との光路長を短くするための光路短距離化構造とからなる構成とする。
【００１１】
したがって、本発明に係る第１の近視野光ヘッドは、光路短距離化構造によって、ミラーの位置を微小開構造近傍に位置させ、かつ、光伝搬体の光の出射端の位置をも微小構造に近づけることによって、光伝搬体の光の出射端から微小構造までの距離を短くすることができ、光伝搬体からの出射光のスポット径を小さくすることができるため、微小構造によって発生される近視野光の強度が大きくなる。したがって、高密度な記録再生が可能な近視野光ヘッドを得ることができる。
【００１２】
また、本発明に係る第２の近視野光ヘッドは、微小構造を、微小開口である構成とする。
したがって、本発明に係る第２の近視野光ヘッドは、近視野光の記録媒体上でのスポット径が微小開口と同程度の大きさに絞られるため、高密度な記録再生が可能となる。
【００１３】
また、本発明に係る第３の近視野光ヘッドは、光路短距離化構造が、微小構造の近傍に形成された溝であり、溝の内部に光伝搬体が配置される構成とする。
したがって、本発明にかかる第３の近視野光ヘッドは、微小構造と光伝搬体の光の出射端との距離を短くできるため、強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッドとなる。さらに、溝に光伝搬体を形成することによって、光伝搬体を固定することが容易であるため、安定した強度の近視野光を発生する近視野光ヘッドとなる。
【００１４】
また、本発明に係る第４の近視野光ヘッドは、ミラーがスライダーの上方に配置された基板上に、基板と一体に配置されている構成とする。
したがって、本発明に係る第４の近視野光ヘッドは、安定した光学系を組むことができ、微小構造から発生する近視野光の強度が安定する。
また、本発明に係る第５の近視野光ヘッドは、ミラーが光伝搬体に形成されている構成とする。
【００１５】
したがって、本発明に係る第５の近視野光ヘッドは、近視野光ヘッドの構成要素であるミラーと光伝搬体を一体に形成できるため、ミラーと光伝搬体の光軸調整が不要となり、光軸調整が簡便になる。また、構成要素が少なくなるため、ヘッドの単価が安くなり、安価な近視野光ヘッドを提供することができる。
また、本発明に係る第６の近視野光ヘッドは、前記ミラーが凹形状となっており、光伝搬体から出射した光を集光する近視野光ヘッドとする。また、本発明に係る第７の近視野光ヘッドは、光伝搬体の先端に光を集光するレンズ機能を有する構成とする。
【００１６】
したがって、本発明に係る第６および第７の近視野光ヘッドは、微小構造における光のエネルギー密度を大きくすることが可能なため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
また、本発明に係る第８の近視野光ヘッドは、スライダー上および／またはミラーを形成した基板上に、ミラー合わせ機構が形成されており、ミラーと微小構造の位置決めを行うことを特徴とする近視野光ヘッドとする。
【００１７】
したがって、本発明に係る第８の近視野光ヘッドは、微小構造から発生する近視野光の強度を最大にするための光学調整が簡単である。
また、本発明に係る第９の近視野光ヘッドは、光伝搬体に、光を入射するための光学部品を固定するための溝や突起がミラー基板に形成されている構成とする。
【００１８】
したがって、本発明に係る第９の近視野光ヘッドは、光伝搬体に効率よく光を入射することができるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
また、本発明に係る第１０の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、前記スライダーに固定または形成された構成とする。
【００１９】
したがって、本発明に係る第１０の近視野光ヘッドは、スライダーに光伝搬体を固定または形成することで、光伝搬体の位置を安定させることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を安定させることができる。
また、本発明に係る第１１の近視野光ヘッドは、光伝搬体が基板上に、ミラーが形成された面と同じ側に固定または形成されたことを特徴とする構成とする。
【００２０】
したがって、本発明に係る第１１の近視野光ヘッドは、厚さが薄いスライダー部を用いても、光伝搬体の位置を安定させることができる。また、厚さが薄い前記スライダー部を用いることによって、光伝搬体から微小構造までの距離を短くすることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
【００２１】
また、本発明に係る第１２の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、光入射部分は基板に固定され、光出射部分がスライダーに固定されている構成とする。
したがって、本発明に係る第１２の近視野光ヘッドは、光伝搬体の光の入射端と光伝搬体に光を入射するための光学部品を固定する溝や突起との位置決め精度が良く、かつ、光伝搬体の光の出射端を微小構造に近づけることが可能であるため、微小構造から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
【００２２】
また、本発明に係る第１３の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、先端部分が光軸に対して平行に研磨され、細くなるよう加工された光ファイバーである構成とする。
これにより、先端が細く加工された光ファイバーによって、光ファイバーの光の出射端をミラーにより近づけることができるため、微小構造における光ファイバーの出射端からの光のスポット径を小さくすることができる。したがって、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
【００２３】
また、本発明に係る第１４の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、薄膜導波路であることを特徴とする構成とする。
したがって、光ファイバーよりも薄くかつ軽量な薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの質量が小さくなる。そのため、近視野光ヘッドの位置決め精度や位置決め速度を向上させることが容易である。また、薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの薄型化が容易であり、装置構成がより小型になる。
【００２４】
また、本発明に係る第１の近視野光ヘッドの製造方法は、ミラー形成方法と、スライダー形成方法と、ミラーとスライダーを組み立てる工程を含む工程であり、ミラー形成方法が、基板に突起を形成する工程と、突起に反射膜を形成する工程と、外形を形成する工程を含む工程であり、スライダー形成方法が、微小構造を形成する工程と、光路短距離化構造を形成する工程と、反射膜を形成する工程と、外形を形成する工程とを含む工程であり、ミラーとスライダーを組み立てる工程を含む製造方法とする。
【００２５】
したがって、本発明の近視野光ヘッドの製造方法によれば、本発明に係る近視野光ヘッドを容易に作製できる。また、フォトリソグラフィーやマイクロマシニング技術を用いたミラー形成方法およびスライダー形成方法であるため、均一な性能のミラーおよびスライダーを大量に生産することができる。
また、本発明に係る第２の近視野光ヘッドの製造方法は、近視野光ヘッドの製造方法において、光伝搬体を固定または形成する工程を含む製造方法とする。
【００２６】
したがって、光伝搬体がスライダーまたはミラーが形成された基板に固定されるため、微小構造へ出射する光の強度が安定し、結果として、微小構造から発生する近視野光の強度が安定する。
また、本発明に係る第３の近視野光ヘッドの製造方法は、ミラー形成方法またはスライダー形成方法に、薄膜導波路を形成する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００２７】
したがって、フォトリソグラフィー工程によって、光伝搬体を形成できるため、大量生産が容易な近視野光ヘッド製造方法となる。
また、本発明に係る第４の近視野光ヘッドの製造方法は、ミラー形成方法に、光学部品を固定する溝または突起を形成する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００２８】
したがって、容易にミラ−の位置を決められるため、組立が簡単であり、かつ安定して強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッドを提供できる。
また、本発明に係る第５の近視野光ヘッドの製造方法は、光ファイバーの先端部分を光ファイバーの光軸に対して平行に研磨し、光ファイバーの先端を細く加工する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００２９】
したがって、光ファイバーの先端をミラーに近づけることが容易となるため、近視野光の強度が大きな近視野光ヘッドを提供できる。
また、本発明に係る第６の近視野光ヘッドの製造方法は、光ファイバーの先端を斜めに加工し、斜めに加工した面に反射膜を形成する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００３０】
したがって、ミラーと光伝搬体を一体に形成することができ、製造工程を簡略化することが可能であり、部品数を少なくすることが可能であるため、安価で、性能が均一で、不良数の少ない近視野光ヘッドを提供できる。
また、本発明に係る第７の近視野光ヘッドの製造方法は、光ファイバーからの出射光を微小構造に集光するように光ファイバーの先端をレンズ状に加工する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００３１】
したがって、微小構造における光ファイバーからの出射光のスポット径が小さくなるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きな近視野光ヘッドを提供することができる。
また、本発明に係る第１５の近視野光ヘッドは、光伝搬体と、光伝搬体から出射される光を反射するミラーと、ミラーが反射した光の進行方向に配置された微小構造と、光伝搬体および微小構造、ミラーが一体となり、負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、負荷加重と浮上力との均衡により記録媒体と微小構造との間に隙間を作るスライダーの一部を構成することを特徴とする。
【００３２】
したがって、光伝搬体から出射する光の状態により、光伝搬体をスライダの厚さ方向において任意の位置に配置できるため、微小構造に入射する光および出射する光の強度を大きくすることが可能となる。
また、本発明に係る第１６の近視野光ヘッドは、光伝搬体において、光を伝搬するコア部が記録媒体寄りに配置されることを特徴とする。
【００３３】
したがって、光伝搬体の光出射端（光伝搬体端面のコア部の位置）と記録媒体との距離を更に短くでき、記録媒体に照射される光の強度を大きくすることが可能となる。
また、本発明に係る第１７の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、スライダーの一部を構成すると同時にサスペンションアームの少なくとも一部を構成することを特徴とする。
【００３４】
したがって、スライダを構成する光伝搬体と光伝搬体に光を入射する他の光伝搬体との接続による光強度の損失がなくなるため、光伝達効率が上昇すると共にスライダを構成する光伝搬体から出射する光の強度が大きくなる。そのため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることが可能となる。
また、本発明に係る第１８の近視野光ヘッドは、ミラーが構成されたもしくは搭載された基板において、ミラーがスライダーの一部を構成すると同時に、基板がサスペンションアームの少なくとも一部を構成することを特徴とする。
【００３５】
したがって、ミラーが構成されたもしくは搭載された基板は光伝搬体を形成できる面積が大きいため、光伝搬体の構成に対する制限が小さい。そのため、伝達する光の強度を安定かつ高効率で伝達でき、ひいては微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることが可能となる。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の近視野光ヘッドとその製造方法について、添付の図面を参照して詳細に説明する。
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る近視野光ヘッド１０００の構成図である。図１（ａ）は、近視野光ヘッド１０００の断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＡ−Ａ'で示す位置での近視野光ヘッド１０００の断面図である。近視野光ヘッド１０００は、スライダー部１００１とミラー部１００２及び先端部分の一部が光軸に対して平行に研磨された光ファイバー１８０３からなる。図２（ａ）及び図２（ｂ）は、それぞれ、反射膜を取り除いた状態のミラー部１００２とスライダー部１００１の斜視図である。
【００３７】
スライダー部１００１は逆錘状の穴１００５が形成されており、その穴１００５の頂部が微小構造である微小開口１００６となっている。穴１００５の表面には、穴１００５に入射された光を微小開口１００６に効率よく集光するために反射膜１００４が形成される。また、スライダー部１００１には、幅Ｗ１のＶ溝１００７が形成されており、Ｖ溝の底部には平面が形成されている。
【００３８】
一方、ミラー部１００２は、幅Ｗ２のＵ字型の突起１００８が形成されている。突起１００８は、反射膜１００９が形成され、ミラー１０１０として機能する。スライダー部１００１のＶ溝１００７にミラー部１００２のＵ字型の突起を挿入することで、スライダー部１００１とミラー部１００２は一体となり、光路短距離化構造を構成している。スライダー部１００１のＶ溝１００７の幅Ｗ１とミラー部１００２のＵ字型の突起１００８の幅Ｗ２を調整し、スライダー部１００１のＶ溝中矢印ａで示す面と、ミラー部１００２のＵ字型の突起の矢印ｂで示す面とをつきあわすことで、ミラー１０１０の位置を簡単に決定できる。したがって、微小開口１００６から出射する近視野光の強度が最大になるよう幅Ｗ１、Ｗ２及び突起１００８の寸法が規定される。光ファイバー１８０３は、先端が光軸と平行に光ファイバー１８０３のコア１０１１付近まで研磨されている。
【００３９】
光ファイバー１８０３は、スライダー部１００１のＶ溝１００７とミラー部１００２のＵ字型の突起１００８の内側とで構成される空間内に挿入される。光ファイバー１８０３は、スライダー部１００１のＶ溝１００７に固定される。光ファイバー１８０３を伝搬し、光ファイバー１８０３の先端から出射した光は、ミラー１０１０によって、伝搬方向を微小開口１００６に向かうよう変更される。先端が研磨されていない光ファイバーに比べて、研磨された光ファイバー１８０３は、光の出射端をミラー１０１０に近づけることが可能である。また、Ｖ溝１００７が、微小開口１００６の近傍に形成されていることによっても、光ファイバー１８０３から微小開口１００６までの距離を短くできる。
【００４０】
スライダー部１００１の厚さＴ１は２００〜５００μｍであり、長さＬ１は１〜５ｍｍ、幅Ｗ３は１〜５ｍｍである。また、Ｖ溝７の幅Ｗ１は１５０〜５００μｍ、長さＬ２は５００〜４０００μｍ、深さＤ１は１００〜４００μｍである。微小開口１００６の大きさは、５０〜３００ｎｍである。反射膜１００４の厚さは、１００〜３００ｎｍである。
【００４１】
ミラー部１００２の厚さＴ２は２００〜１０００μｍであり、長さＬ２は１〜５ｍｍ、幅Ｗ４は１〜５ｍｍである。突起１００８の幅Ｗ２は１００〜４５０μｍであり、長さＬ３は５００〜４０００μｍであり、高さＨ１は１００〜４００μｍである。また、反射膜１００９の厚さは５０〜３００ｎｍである。
光ファイバー１８０３の直径Ｄ２は１２５μｍである。光ファイバー先端のくぼみ深さＤ３は５０〜６０μｍであり、くぼんだ部分の長さＬ４は５００〜５０００μｍである。
【００４２】
スライダー部１００１及びミラー部１００２の材料は、シリコンや石英などの誘電体やステンレスや銅などの金属である。反射膜１００４及び反射膜１００９の材料は、アルミニウムや金などの反射率の高い金属や、誘電多層膜である。
上述したように、本実施の形態１による近視野光ヘッド１０００によれば、光ファイバー１８０３の先端が研磨されているため、光ファイバー１８０３の先端がミラー１０１０に近接させることが可能なため、光ファイバー１８０３の光の出射端から、微小開口１００６までの距離が短くなり、微小開口１００６における出射光のスポット径が小さくなる。したがって、微小開口１００６から出射する近視野光の強度を大きくすることができる。また、光ヘッド１０００は平面内に構成されるため、小型化が容易である。したがって、光ヘッド１０００の質量が小さくなるため位置決め精度が向上すると同時に、光ヘッドを含むヘッド位置決め機構の共振周波数が高くなり、位置決め速度が向上する。また、微小開口１００６から出射される近視野光の強度が最大になるようにＶ溝１００７，Ｕ字型の突起の寸法を決定することで、ミラー１０１０の位置決めが簡単にでき、光軸の調整が簡単である。
【００４３】
次に、図３及び図４を用いて近視野光ヘッド１０００の製造方法を説明する。
図３は、ミラー部１００２の製造方法を示した図である。
図３（ａ）は、シリコンや石英、ステンレスなどの基板１００を表している。基板１００には、酸化膜や窒化膜などのマスク１０１が形成される。なお、以下では、図面の基板の上側をおもて面、下側を裏面とする。
【００４４】
図３（ｂ）は、基板１００のおもて面のマスク１０１をパターニングする工程を示しており、マスク１０１がパターニングされた状態を示している。基板１００上のマスク１０１は、フォトリソグラフィー工程によってＵ字型にパターニングされる。
図３（ｃ）は、Ｕ字型の突起を形成する工程を示しており、Ｕ字型の突起が形成された状態を示している。基板１００がシリコンの場合、水酸化カリウム（ＫＯＨ）やテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）による異方性エッチングで、エッチングすることによって、Ｕ字型の突起を形成する。
【００４５】
図３（ｄ）は、反射膜１０２を堆積する工程を示しており、反射膜１０２が堆積された状態を示している。Ｕ字型の突起を形成した後、マスク１０１をエッチングによって除去する。その後、スパッタや真空蒸着などによって、基板１００上に反射膜１０２を堆積する。
図３（ｅ）は、ミラー部１００２の外形を形成する工程を示しており、ミラー部１００２が完成した状態を示している。反射膜１０２を堆積した後、ダイシングやスクライビング等の方法によって、ミラー部２が所望の外形寸法になるよう加工される。
【００４６】
図４は、スライダー部１００１の製造方法を示した図である。
図４（ａ）は、シリコンや石英、ステンレスなどの基板１０３を表している。基板１０３には、酸化膜や窒化膜などのマスク１０４が形成される。
図４（ｂ）は、微小開口を形成するための基板１０３上のマスク１０４をパターニングする工程を示しており、マスク１０４がパターニングされた状態を示している。基板１０３上のマスク１０４は、フォトリソグラフィー工程によってパターニングされる。
【００４７】
図４（ｃ）は、微小開口を形成する工程を示しており、微小開口が形成された状態を示している。基板１０３がシリコンの場合、水酸化カリウム（ＫＯＨ）やテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）による異方性エッチングで、エッチングすることによって、微小開口を形成する。
図４（ｄ）は、Ｖ溝を形成するためのマスク１０５を形成する工程を示しており、マスク１０５がパターングされた状態を示している。微小開口を形成した後、基板１０３上のマスク１０４を除去し、マスク１０５を気相合成法やスピンコートなどで堆積する。マスク１０５の材料は、酸化膜や窒化膜である。次に、フォトリソグラフィー工程によって、マスク１０５をＶ溝を形成するためのマスク形状にパターニングする。
【００４８】
図４（ｅ）は、Ｖ溝を形成する工程を示しており、Ｖ溝が形成された状態を示している。Ｖ溝は、基板１０３がシリコンの場合、ＫＯＨやＴＭＡＨによる異方性エッチングによって形成する。
図４（ｆ）は、反射膜を堆積する工程を示しており、反射膜１０６を堆積した状態を示している。Ｖ溝を形成した後、マスク１０５及び基板１０３の裏面のマスク１０４をウエットエッチングやドライエッチングで除去する。次に、基板１０４上にアルミニウムや金など反射率と遮光率の高い金属をスパッタや真空蒸着法をもちいて堆積する。このとき同時に微小開口の周りにも反射膜１０６が堆積されることを利用して、微小開口１００６の大きさを制御する。
【００４９】
図４（ｇ）は、スライダー部１００１の外形を形成する工程を示しており、スライダー部が完成した状態を示している。反射膜１０６を堆積した後、ダイシングやスクライビングなどの方法によって、スライダー部１００１が所望の外形寸法になるよう加工される。
上述した方法によって作成されたスライダー部１００１に先端を研磨した光ファイバー１８０３を接着剤や固相接合などによって固定し、スライダー部１００１に形成されたＶ溝内にミラー部１００２の突起を挿入し、接着剤や固相接合などによって固定することで近視野光ヘッド１０００が完成する。
【００５０】
上述した方法によれば、本発明の実施の形態１に示す近視野光ヘッド１０００が容易にかつ、大量に作製できる。また、スライダー部１００１のＶ溝１００７にミラー部１００２のＵ字型の突起を挿入することで容易にミラー１０１０の位置を決められるため、組み立てが簡単であり、かつ安定して強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッド１０００を提供できる。
【００５１】
図１５は、光記録再生装置の簡単な装置構成を示した図である。
以上に説明した近視野光ヘッド１０００を記録媒体５０４上に配置し、微小開口から出射される近視野光によって情報記録及び再生を行う方法を説明する。
近視野光ヘッド１０００は、記録媒体用駆動モータ５０５によって回転している記録媒体５０４上で発生する気流とスライダー部１００１との相互作用によって、記録媒体から１０〜１００ｎｍ離れた位置で浮いている。したがって、スライダー部１００１に形成された微小開口１００６の位置も、記録媒体５０４から１０〜１００ｎｍ離れた位置にある。半導体レーザ５０２から出射された光は、レンズ５０３によって集光され近視野光ヘッド１０００に導入される。近視野光ヘッド１０００に導入された光は、微小開口１００６から近視野光となって記録媒体５０４に向けて照射される。記録媒体５０４は、たとえば、熱を加えることによってアモルファス状態あるいは結晶状態になり、その反射率や透過率の違いを利用して記録再生を行う相変化記録媒体である。この場合、たとえば、情報記録は、微小開口から発生した近視野光を記録媒体に照射することによって、記録媒体上の近視野光が照射された領域を結晶状態からアモルファス状態に変化させることによって行われる。微小開口１００６と記録媒体５０４の距離が、１０〜１００ｎｍであるので、微小開口１００６から記録媒体に照射される近視野光の大きさは微小開口と同等の大きさとなり、たとえば１００ｎｍの径を有している。したがって、図１に示す光ヘッド１０００は、容易に高密度記録が可能である。
【００５２】
一方、情報再生は、たとえば、以下に説明するように行う。まず、光ヘッド１０００の制御回路５０６は、所望の情報記録位置上に微小開口が移動するように、サーボ駆動回路５０８に信号を送る。サーボ駆動回路５０８から信号を受けたサーボモータ５０９は、サスペンション５０１を介して光ヘッド１０００全体を移動させ、微小開口１００６を情報記録位置に移動させる。次に、微小開口から近視野光を記録ピット上に照射し、記録媒体５０４を透過した伝搬光を集光レンズ系５１０で受光素子５０７上に集め、情報信号を得る。得られた情報信号は、制御回路５０６に送られ、たとえば、信号強度を比較して微小開口と記録ピットとの位置ずれを検知する。微小開口１００６と記録ピットの位置がずれている場合、位置ずれを修正するように制御回路５０６からサーボ回路５０８に信号が送られ、サーボ回路５０８がサーボモータ５０９を駆動する。また、記録媒体１０３を透過した伝搬光は、たとえば、記録媒体のアモルファス状態と結晶状態の透過率の違いを含んで受光素子上に集光される。この透過率の違いの情報が、情報信号として検知される。得られた情報信号は、図には記述していない信号処理回路を経て再生信号に変換される。
【００５３】
以上説明したように、実施の形態１によれば、サスペンション５０１によって押さえつけられた光ヘッド１０００が、微小開口１００６を含む最適設計されたスライダー部１００１によって、記録媒体５０４の近傍で浮いており、微小開口１００６からスポット径の小さな近視野光を記録媒体に照射することができるため、高密度記録再生が可能な光ヘッド１０００を提供できる。
【００５４】
また、薄い基板上に突起を形成し、薄い反射膜を堆積させることでミラーを形成した本発明の光ヘッド１０００は軽量である。したがって、光ヘッド１０００を高速高精度に移動させることができるため、追従性の高いトラッキングが可能な光ヘッド１０００を提供できる。
また、光ヘッド１０００のスライダー面に受光素子を形成したり、受光素子を記録媒体の上に置くことによって、記録媒体上の記録情報を反射光から得ることができるのは、言うまでもない。また、記録媒体からの反射光を用いて記録情報を得る場合、記録媒体の両面に光ヘッドや受光素子を配置することによって、記録媒体１枚あたりの記録密度を向上させることができる。
【００５５】
以降の実施の形態で示す近視野光ヘッドは、いずれも図１５に示すような構成において使用することができる。
（実施の形態２）
図５は、本発明の実施の形態２に係る近視野光ヘッド２０００の構成図である。近視野光ヘッド２０００の構成は、本発明の実施の形態１とほぼ同じである。異なる点は、ミラー２００２の形状である。ミラー２００２は、凹面鏡となっている。ミラー２００２によって光ファイバー２８０３から出射した光は、伝搬方向が微小開口２００６に向かうよう変えられ同時に微小開口２００６に集光するようになる。したがって、近視野光ヘッド２０００は、実施の形態１に示した近視野光ヘッドよりも、微小開口２００６から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
（実施の形態３）
図６は、本発明の実施の形態３に係る近視野光ヘッド３０００の構成図である。近視野光ヘッド３０００の構成は、本発明の実施の形態１とほぼ同じである。本発明の光ファイバー３８０３の先端が球状に加工されているのが異なる点である。
【００５６】
このことによって、光ファイバー先端から出射する光は、微小開口３００６に向けて集光するよう伝搬していく。したがって、近視野光ヘッド３０００は、実施の形態１に示した近視野光ヘッドよりも、微小開口３００６から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
（実施の形態４）
図７は、本発明の実施の形態４に係る近視野光ヘッド４０００の構成図である。近視野光ヘッド４０００の構成は、本発明の実施の形態１の近視野光ヘッド１０００とほぼ同じである。異なる点は、光ファイバー４８０３がミラー部４００２に固定されている点である。
【００５７】
スライダー部４００１の厚さＴ１は、１０〜５０μｍである。前述した実施の形態１において、例えばスライダー部１００１の厚さＴ１が非常に薄い場合、光ファイバー１８０３をスライダー部１００１に接着または接合する際、応力の発生によりスライダー部１００１が変形してしまう問題点があった。しかし、本実施の形態の近視野光ヘッド４０００の構成にすることによって、薄いスライダー部４００１であっても、変形させることなく安定して光を微小開口４００６に照射することができる。また、スライダー部４００１を薄くすることによって、光ファイバーから出射した光が空間中を伝搬する距離が短くなるため、本実施の形態の近視野光ヘッド４０００は、実施の形態４００１に示した近視野光ヘッドよりも、微小開口４００６から発生する近視野光の強度は大きくなる。また、本実施の形態と実施の形態２〜３を組み合わせることによって、近視野光の強度がいっそう大きくなることは言うまでもない。
（実施の形態５）
図９は、本発明の実施の形態５に係る近視野光ヘッド５０００の構成図である。近視野光ヘッド５０００は、スライダー部５００１とミラー部５００２から構成される。スライダー部５００１は、逆錘状の穴５００５が形成されており、その穴５００５の頂部が微小開口５００６となっている。穴５００５の表面には、穴５００５に入射された光を微小開口５００６に効率よく集光するために反射膜５００４が形成される。また、スライダー部５００１には、Ｖ溝５００７が形成されており、Ｖ溝の底部には平面が形成されており、この平面上に導波路５９０３が形成されている。ミラー部５００２は、本発明の実施の形態１のミラー部２と同様なＵ字型の突起５００８と、導波路５９０３に光を入射するための光ファイバーを固定するＶ溝５０６０と、光ファイバーを導波路５９０３に近づけやす
くするための溝５０５０を有している。なお、導波路５９０３に光を入射する手段として半導体レーザやプリズム等の光学部品を用いることもできる。この場合、Ｖ溝は、それぞれの光学部品を固定するのに適した構造を持つ。
【００５８】
スライダー部５００１の各寸法とミラー部５００２の外形寸法は、それぞれ実施の形態１のスライダー部１とミラー部２とほぼ同じである。導波路５９０３の長さは５００〜４０００μｍであり、厚さは４〜１０μｍ、幅は１０〜２００μｍである。近視野光ヘッド５０００の各構成要素の材料は、実施の形態１の近視野光ヘッド１０００とほぼ同じである。導波路５９０３の材料は、二酸化ケイ素やポリイミドなどの誘電体である。導波路５９０３は、クラッド層とコア層の２層構造でも良いし、コア層が２つのクラッド層に挟まれた３層構造でも良いし、コア層の周りがすべてクラッド層となっている構造でも良い。Ｖ溝５０６０の長さは、５〜５０ｍｍである。
【００５９】
上述した近視野光ヘッド５０００は、微小開口の近くに形成された光導波路５９０３によって、ミラー５０１０まで光を伝搬するため、光導波路からの出射光の光路が短くなる。したがって、微小開口５００６から発生する近視野光の強度が大きくなる。また、近視野光ヘッド５０００は、プリズムやレンズなどの微小光学部品や半導体レーザーなどを一体とした近視野光ヘッドとなるため、装置全体の構成がコンパクトになる。本実施の形態に実施の形態２を組み合わせることによって、微小開口５００６から発生する近視野光の強度が、より大きくなることは言うまでもない。
【００６０】
近視野光ヘッド５０００の製造方法を以下に示す。スライダー部５００１の製造方法は、実施の形態１の近視野光ヘッド１０００のスライダー部１００１の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、図４（ｆ）で示す工程の後に、導波路５９０３をスライダー部５００１上に形成する工程がある点である。導波路５９０３の形成方法は、以下の通りである。まず、気相合成法やスピンコートによって、二酸化ケイ素やポリイミドなどを堆積する。次に、導波路５９０３をパターニングするためのマスクを形成し、リアクティブイオンエッチングやプラズマエッチングなどのドライエッチングによって、導波路５９０３のパターンを形成する。
【００６１】
次に、ミラー部５００２の製造方法は、実施の形態１のミラー部１００２の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、図３（ｃ）で示す工程の後に、図１１で示すＶ溝を形成する工程がある点である。
図１１（ａ）はＶ溝５０６０を形成する工程を示しており、Ｖ溝が形成された状態を示している。図３（ｃ）で示す工程の後、Ｕ字型の突起を形成するためのマスク１０１を除去する。次に、ＣＶＤやスピンコートやスパッタなどの方法で、Ｖ溝５０６０を形成するためのマスク１６０となる材料を基板１００上に堆積する。マスク１６０となる材料は、例えば、二酸化ケイ素や、窒化シリコンやアモルファスシリコンやチタンやクロムなどである。マスク１６０となる材料を堆積した後、フォトリソグラフィーによって、マスク１６０を形成する。その後、ＫＯＨやＴＭＡＨなどによるウエットエッチングやリアクティブイオンエッチング等の方法によってＶ溝を形成する。
【００６２】
図１１（ｂ）は、ファイバーや光学部品を導波路に近づけやすくするためのくぼみ５０５０を形成する工程を示しており、くぼみ５０５０が形成された状態を示している。Ｖ溝を形成した後、マスク１６０を除去し、くぼみを形成するためのマスク１６１となる材料を基板１００上に、スパッタや真空蒸着やスピンコートなどで形成する。マスク１６１となる材料は、例えば、アルミニウムやチタンなどの金属や、二酸化ケイ素やフォトレジストなどの誘電体である。マスク１６１となる材料を堆積した後、フォトリソグラフィを用いてマスク１６１を形成する。次に、リアクティブイオンエッチングやプラズマエッチングなどのドライエッチングやフッ酸と硝酸の混合液によるウエットエッチング等によって、くぼみを形成する。
【００６３】
図１１（ｃ）は、Ｕ字型の突起にミラーとなる反射膜１０２を形成する工程を示しており、反射膜１０２が形成された状態を示している。くぼみを形成した後、マスク１６１を除去し、スパッタや真空蒸着やメッキなどの方法によって、反射膜１０２となる材料を基板１００上に堆積する。反射膜１０２となる材料は、例えば、アルミニウムやクロム上に金を堆積したものやチタンである。反射膜１０２となる材料を堆積した後、フォトリソグラフィーによって反射膜１０２をパターニングする。ただし、反射膜１０２の厚さを考慮してＶ溝の大きさを決めた場合は、反射膜１０２のパターニングは省略しても良い。
【００６４】
図１１（ｄ）は、ミラー部５００２の外形を形成する工程を示しており、ミラー部５００２が切り出された状態を示している。反射膜１０２をパターニングした後、ダイシングやスクライブまたはＫＯＨやＴＭＡＨによる異方性エッチングによって、ミラー部５００２の外形を形成する。
（実施の形態６）
図８は、本発明の実施の形態６に係る近視野光ヘッド６０００の構成図である。近視野光ヘッド６０００は、スライダー部６００１とミラー部６００２から構成される。スライダー部６００１は、本発明の実施の形態２のスライダー部２００１と同じ構成である。ミラー部６００２は、本発明の実施の形態２のミラー部２００２と同様なＵ字型の突起の内部に、導波路６００３と、導波路６００３に光を入射するための光ファイバーを固定するＶ溝６０６０と、光ファイバーを導波路６００３に近づけやすくするための溝６０５０を有している。なお、導波路６００３に光を入射する手段として半導体レーザやプリズム等の光学部品を用いることもできる。この場合、Ｖ溝６０６０は、それぞれの光学部品を固定するのに適した構造を持つ。
【００６５】
スライダー部６００１の寸法は、実施の形態２のスライダー部２００１とほぼ同じである。ミラー部６００２の外形の幅は１〜５ｍｍであり、長さは１〜６０ｍｍであり、厚さは２００〜５００ｍｍである。導波路６００３の長さは５００μｍ〜５０ｍｍであり、厚さは４〜１０μｍ、幅は１０〜２００μｍである。近視野光ヘッド６０００の各構成要素の材料は、実施の形態１の近視野光ヘッド１０００とほぼ同じである。導波路６００３の材料は、二酸化ケイ素やポリイミドなどの誘電体である。導波路６００３は、クラッド層とコア層の二層構造でも良いし、コア層が二つのクラッド層に挟まれた三層構造でも良いし、コア層の周りがすべてクラッド層となっている構造でも良い。Ｖ溝６４の長さは、５〜５０ｍｍである。
【００６６】
上述した近視野光ヘッド６０００は、ミラー６０１０、導波路６００３及び導波路６００３に光を導入する手段がミラー部６００２上に一体となって形成されるため、実施の形態５で示した近視野光ヘッド５０００よりも光学部品のアライメントが容易であり、かつ、各要素の位置ずれが少ない。したがって、本実施の形態の光ヘッド６０００は、実施の形態５よりも安定した強度の近視野光を発生させることができる。また、導波路６００３の長さを大きくすることによって、光ファイバーや半導体レーザといった重たい光学部品を微小開口から遠い位置に配置できるため、光ヘッドの位置決め精度や位置決め速度を向上させることができる。さらに、ミラー部６００２をサスペンションアームとすることで、ヘッドとサスペンションアームを一体に形成できるため、組み立てコストが小さくなり、安価な記録用ヘッド及びサスペンションを提供できる。
【００６７】
近視野光ヘッド６０００の製造方法は、実施の形態５の近視野光ヘッド５０００の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、図１１（ａ）で示す工程の前に、導波路６００３を形成する工程がある点である。導波路６００３の形成方法は、以下の通りである。まず、気相合成法やスピンコートによって、二酸化ケイ素やポリイミドなどを堆積する。次に、導波路６００３をパターニングするためのマスクを形成し、リアクティブイオンエッチングやプラズマエッチングなどのドライエッチングによって、導波路６００３のパターンを形成する。
（実施の形態７）
図１０は、本発明の実施の形態７に係る近視野光ヘッド７０００の構成図である。近視野光ヘッド７０００は、実施の形態６に示す近視野光ヘッドとほぼ同じ構成である。異なる点は、導波路７９０３が、光の入射端側はミラー部７００２に固定され、光の出射端側がスライダー部７００１に固定されている点と、導波路７９０３を押すための穴７０７０がミラー部７００２に形成されている点である。
【００６８】
近視野光ヘッド７０００の各寸法は、実施の形態６とほぼ同じである。穴７０７０の大きさＤ７０は、１〜４ｍｍである。導波路７９０３は、クラッド層とコア層の二層構造でも良いし、コア層が二つのクラッド層に挟まれた三層構造でも良いし、コア層の周りがすべてクラッド層となっている構造でも良い。
上述した近視野光ヘッド７０００は、導波路７９０３の光の出射端がスライダー部７００１に固定されるため、導波路７９０３の光の出射端から微小開口７００６までの距離を実施の形態６に示す近視野光ヘッドよりも短くなる。したがって、本実施の形態の近視野光ヘッド７０００は、実施の形態６に示す近視野光ヘッドよりも、大きな強度をもつ近視野光を発生させることができる。
【００６９】
近視野光ヘッド７０００の製造方法は、実施の形態６の近視野光ヘッド６０００の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、導波路７９０３を形成した後に、導波路を押すための穴７０７０を形成する工程がある点である。穴７０７０は、以下に説明するように形成する。まず、図１１（ｃ）で示す工程の後に、基板１００のＵ字型の突起を形成した側と反対側に穴７０７０を形成するためのマスクを形成する。その後、ＴＭＡＨやＫＯＨによる異方性エッチングによって、穴７０７０が形成される。
（実施の形態８）
図１３は、本発明の実施の形態８に係る近視野光ヘッド８０００の構成図である。また、図１２は、近視野光ヘッド８０００のスライダー部８００１の斜視図である。近視野光ヘッド８０００の構成は、本発明の実施の形態１とほぼ同じである。異なる点は、ミラー位置合わせしろ８０８０がある点である。ミラー位置あわせしろ８０８０によって、ミラーの位置をスライダー部８００１に形成したＶ溝の方向に対して微調整することができるため、強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッドを得ることができる。
（実施の形態９）
図１４は、本発明の実施の形態９に係る近視野光ヘッド９０００の構成図である。近視野光ヘッド９０００は、スライダー部９００１とミラー付光ファイバー９８０３とミラー９０９０からなる。スライダー部９００１は、実施の形態１のスライダー部９００１とほぼ同じである。ミラー付光ファイバー９８０３は、実施の形態１に示す光ファイバー１００３とほぼ同様な構成である。異なる点は、光ファイバー９００３の先端が研磨され、その研磨された面にミラー９０９０が形成されている点である。上記の構成の近視野光ヘッド９０００によれば、実施の形態１で述べた効果の他に、構成要素が実施の形態１よりも少ないため、組み立てが容易になる。
（実施の形態１０）
図１６は、本発明の実施の形態１０に係る近視野光ヘッド１００００の構成図である。図１６（ａ）は、近視野光ヘッド１００００の断面図であり、図１６（ｂ）は、図１６（ａ）中のＡ−Ａ'で示す位置での近視野光ヘッド１００００の断面図である。近視野光ヘッド１００００は、スライダー部１０００１とミラー部１０００２及び光導波路１０９０３から構成されている。スライダー部１０００１は逆錘状の穴１０００５が形成され、穴１０００５の頂部が微小開口１０００６となっている。穴１０００５表面には反射膜１０００４が形成される。一方、ミラー部１０００２は、ミラー１００１０を斜面とした段差が形成されている。光導波路１０９０３は、四角柱の形状で、光を伝搬するコア１００１１がスライダー部１０００１側に偏在している。
【００７０】
光導波路１０９０３に入射された光１は光導波路１０９０３内を伝搬し、ミラー１００１０側の端面から出射される。出射した光は、ミラー１００１０により反射され、穴１０００５に入射し、反射膜１０００４により微小開口１０００６に効率よく集光される。したがって、光導波路１０９０３のコア１００１１がスライダー側に偏在するため、光導波路１０９０３の出射端から微小開口１０００６までの光路長を短くできる。
【００７１】
本実施の形態の近視野光ヘッドの作製方法については、光導波路１０９０３がミラー部１０００２下面（段差側の面）に形成された後、図１８に示すように円錐状のブレード６００で研磨を行うことで、ミラー１００１０と光導波路１０９０３の光出射端が形成できる。そして、スライダー部１０００１と接合もしくは接着を行う。なお、光導波路１０９０３単独で作製したのち、ミラー部１０００２と接合もしくは接着を行い、同様に研磨することも可能である。
【００７２】
さらに、本実施の形態の近視野光ヘッド１００００は、前述実施の形態１の近視野光ヘッド１０００のように光ファイバを研磨した構成に比較して、次のような利点がある。本発明のいずれの近視野光ヘッドにおいても、微小開口は記録媒体と近接させる必要があるため、微小開口を有する構造体（スライダー部など）の記録媒体側の面は、接続される光伝搬体の記録媒体側の面より記録媒体に近くなければならない。従って、前述の近視野光ヘッド１０００のように光ファイバを研磨して構成する場合、スライダー部は光伝搬体の記録媒体側クラッドより厚い構造となる。図１７に示すように、スライダー部が薄い構造の場合、破線で示す部分２（光伝搬体と記録媒体１０５０４）が物理的に干渉する。しかし、より強度の大きな近視野光を得るためには、記録媒体と微小開口との距離および光伝搬体の出射端から微小開口までの距離をできる限り小さくする必要がある。そこで、本実施の形態の近視野光ヘッド１００００はコアがスライダー部側すなわち記録媒体側に偏在しているため、クラッドの厚さを薄く、そしてスライダー部の厚さを薄くできる。そのため、微小開口と記録媒体とを近接させることが可能であると同時に、光導波路の出射端から微小開口までの光路長を更に短距離化できる構造となっている。
【００７３】
スライダー部１０００１の材料は、シリコンや石英などの誘電体やステンレスや銅などの金属、特に光反射率が高く研磨しやすい材料が望ましい。反射膜１０００４の材料は、アルミニウムや金などの反射率の高い金属や、誘電多層膜である。光導波路１０９０３の材料は、酸化シリコン（ガラス）やＵＶ硬化樹脂に代表される高分子材料で形成が可能である。このため、光導波路１０９０３については光の伝搬特性及び強度、光ヘッド作製方法により最適な材料を選定する事が可能である。
【００７４】
また、図１９は近視野光ヘッド１００００をサスペンションアームで保持した構成図である。ここでは、光導波路１０９０３は、スライダー部１０００１とミラー部１０００２（図示省略）を保持するサスペンションアームの一部としても機能している。なお、サスペンションアーム全てを光導波路で構成することも可能である。
【００７５】
上述したように、本実施の形態１０による近視野光ヘッド１００００によれば、光導波路１０９０３のコアが偏在するため、光導波路１０９０３の光の出射端から、微小開口１０００６までの距離が短くなり、微小開口１０００６における出射光のスポット径が小さくなる。したがって、微小開口１０００６から出射する近視野光の強度を大きくすることができる。さらに、光導波路１０９０３と記録媒体との物理的干渉が発生しない構造であるため、出射端から微小開口までの光路長が更に短くできる。また、光導波路１０９０３にサスペンションの機能を付加することで、近視野光ヘッドをより簡易に作製することが可能である。
（実施の形態１１）
図２０は、本発明の実施の形態１１に係る近視野光ヘッド１１０００の構成図である。近視野光ヘッド１１０００はミラー部１１００２及びコア偏在光導波路１１９０３、光導波路１１９０３面上に成膜された遮光膜１１０１２から構成されている。遮光膜１１０１２上には微小開口１１００６が設けられている。コア偏在光導波路１１９０３に入射した光１はコア偏在光導波路１１９０３内のコア部１１０１１の湾曲に沿って伝搬する。光１は微小開口１１００６まで直接導かれるため、強度の大きな近視野光の発生が可能である。なお、コア部１１０１１の湾曲の曲率半径を小さくし、コア部１１０１１から逸れて直進した光がミラー部１１００２に形成されたミラー１１０１０で反射され、微小開口１１００６に入射する構成も可能である。
【００７６】
また、本発明の実施の形態の近視野光ヘッド１１０００に光を入射させるには、コアが偏在した光導波路もしくは光ファイバー７００が有効である。この光導波路もしくは光ファイバー７００は、記録媒体側にコア７０１が偏っている。これは、前述実施の形態１０で示した理由、すなわち記録媒体と光導波路もしくは光ファイバー７００との物理的干渉が回避でき、かつ、コア偏在光導波路１１９０３のコアが記録媒体側に偏在することで微小開口までの光路長の短距離化ができるためである。
【００７７】
製造方法については、前述実施の形態１の図３と同じ工程をたどる。その後、溝内に酸化シリコンなどを３層以上成膜する事で、光導波路１１９０３を作製する。光導波路の上面（記録媒体側すなわち微小開口を形成しようとする側の面）を平坦に研磨し、その上に遮光膜１１０１２を成膜、最後にＦＩＢなどで微小開口１１００６を形成する。なお、微小開口の形成位置は、前述した光導波路のコア部１１０１１に沿って光が進む場合、逸れて直進する場合で異なる。
【００７８】
この構造は光導波路１１９０３面上に直接微小開口１１００６を設けられるため、入射光を直接微小開口１１００６との距離を更に短くすることが可能となる。そのため、近視野光を強度が大きくかつ安定して発生させることが可能である。
【００７９】
【発明の効果】
以上説明したように本発明に係る第１の近視野光ヘッドによれば、光路短距離化構造によって、ミラーの位置を微小構造近傍に位置させ、かつ、光伝搬体の光の出射端の位置をも微小構造に近づけることによって、光伝搬体の光の出射端から微小構造までの距離を短くすることができ、微小構造の位置における光伝搬体からの出射光のスポット径を小さくすることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。したがって、高密度な記録再生が可能な近視野光ヘッドを得ることができる。
【００８０】
また、本発明に係る第２の近視野光ヘッドによれば、第１の近視野光ヘッドの効果に加え、近視野光の記録媒体上でのスポット径が微小開口と同程度の大きさに絞られるため、高密度な記録再生が可能となる。
また、本発明に係る第３の近視野光ヘッドによれば、第１の近視野光ヘッドおよび第２の近視野光ヘッドの効果に加え、前記溝に前記光伝搬体を形成することによって、前記光伝搬体を固定することが容易であるため、安定した強度の近視野光を発生する近視野光ヘッドとなる。
【００８１】
また、本発明に係る第４の近視野光ヘッドによれば、第１から第３の近視野光ヘッドの効果に加え、安定した光学系をくむことができ、微小構造から発生する近視野光の強度が安定する。
また、本発明に係る第５の近視野光ヘッドによれば、第１から第３の近視野光ヘッドの効果に加え、近視野光ヘッドの構成要素であるミラーと光伝搬体を一体に形成できるため、ミラーと光伝搬体の光軸調整が不要となり、光軸調整が簡便になる。また、構成要素が少なくなるため、ヘッドの単価が安くなり、安価な近視野光ヘッドを提供することができる。
【００８２】
また、本発明に係る第６または第７の近視野光ヘッドによれば、第１から第５の近視野光ヘッドの効果に加え、微小構造における光のエネルギー密度を大きくすることが可能なため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
また、本発明に係る第８の近視野光ヘッドによれば、第４および第６から第７の近視野光ヘッドの効果に加え、微小構造から発生する近視野光の強度を最大にするための光学調整が簡単である。
【００８３】
また、本発明に係る第９の近視野光ヘッドによれば、第４および第６から第８の近視野光ヘッドの効果に加え、光伝搬体に効率よく光を入射することができるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
また、本発明に係る第１０の近視野光ヘッドによれば、第１から第９の近視野光ヘッドの効果に加え、前記スライダーに光伝搬体を固定または形成することで、光伝搬体の位置を安定させることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を安定させることができる。
【００８４】
また、本発明に係る第１１の近視野光ヘッドによれば、第４から第９の近視野光ヘッドの効果に加え、厚さが薄い前記スライダーを用いても、光伝搬体の位置を安定させることができる。また、厚さが薄い前記スライダーを用いることによって、光伝搬体から微小構造までの距離を短くすることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
【００８５】
また、本発明に係る第１２の近視野光ヘッドによれば、第および第６から第９の近視野光ヘッドの効果に加え、光伝搬体の光の入射端と光伝搬体に光を入射するための光学部品を固定する溝や突起との位置決め精度が良く、かつ、光伝搬体の光の出射端を微小構造に近づけることが可能であるため、微小構造から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
【００８６】
また、本発明に係る第１３の近視野光ヘッドによれば、第１から第１２の近視野光ヘッドの効果に加え、光ファイバーの光の出射端をミラーにより近づけることができるため、微小構造における光ファイバーの出射端からの光のスポット径を小さくすることができる。したがって、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
【００８７】
また、本発明に係る第１４の近視野光ヘッドによれば、第１から第１２の近視野光ヘッドの効果に加え、光ファイバーよりも薄くかつ軽量な薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの質量が小さくなる。そのため、近視野光ヘッドの位置決め精度や位置決め速度を向上させることが容易である。また、薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの薄型化が容易であり、装置構成がより小型になる。
【００８８】
また、本発明に係る第１から第７の近視野光ヘッドの製造方法によれば、本発明の近視野光ヘッドを容易にかつ大量に製造することが可能である。
また、本発明に係る第１５の近視野光ヘッドによれば、光伝搬体の出射端をスライダの任意の位置に設定できるため、スライダの構造によって変化する光学的条件に最適な位置に出射端を形成することができる。そのため、微小開口に入射する光の強度をより大きくすることが可能である。
【００８９】
また、本発明に係る第１６の近視野光ヘッドによれば、光伝搬体において光を伝搬するコア部を記録媒体側に偏在させることで、出射端と微小開口との距離を短くでき、発生する近視野光の強度の増大が可能となる。さらに、光伝搬体のコア部と記録媒体の距離も小さくなることから、ヘッドの構造自体において光伝搬体と記録媒体との物理的な干渉を回避できる。
【００９０】
また、本発明に係る第１７および第１８の近視野光ヘッドによれば、光伝搬体との接続の回避、安定した光伝搬体の形成が可能となり、微小開口で発生する近視野光の強度の増加および安定が可能となる。
さらに、構成要素の数が少なくなることから、組立工程における作業量の減少、組立精度の向上がはかれ、大量かつ安定的に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図２】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドのスライダー部及びミラー部を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドのミラー部の製造方法を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドのスライダー部の製造方法を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態２にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図６】本発明の実施の形態３にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図７】本発明の実施の形態４にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図８】本発明の実施の形態６にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図９】本発明の実施の形態５にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１０】本発明の実施の形態７にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１１】本発明の実施の形態５にかかわる近視野光ヘッドのミラー部の製造方法の一部を示す図である。
【図１２】 本発明の実施の形態８にかかわる近視野光ヘッドのスライダ−部を示す斜視図である。
【図１３】本発明の実施の形態８にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１４】本発明の実施の形態９にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１５】近視野光ヘッドを用いた光記録再生装置を示す装置構成図である。
【図１６】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１７】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドのスライダー部及びミラー部を示す斜視図である。
【図１８】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドのミラー部及び光導波路の製造方法を示す図である。
【図１９】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図２０】本発明の実施の形態１１にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【符号の説明】
１ 光
２ 光伝搬体と記録媒体との物理的干渉領域
１０００，２０００，３０００，４０００，５０００，６０００，７０００，８０００，９０００，１００００，１１０００ 近視野光ヘッド
１００１，２００１，３００１，４００１，５００１，６００１，７００１，８００１，９００１，１０００１ スライダー部
１００２，２００２，３００２，４００２，５００２，６００２，７００２，８００２，９００２，１０００２，１１００２ ミラー部
１８０３，２８０３，３８０３，４８０３，８８０３，９８０３，１０８０３ 光ファイバー
５９０３，６９０３，７９０３，１０９０３，１１９０３ 光導波路
１００４，２００４，３００４，４００４，５００４，６００４，７００４，８００４，９００４ 反射膜
１００５，２００５，３００５，４００５，５００５，６００５，７００５，８００５，９００５，１０００５ 穴
１００６，２００６，３００６，４００６，５００６，６００６，７００６，８００６，９００６，１０００６，１１００６ 微小開口
１００７，２００７，３００７，４００７，５００７，６００７，７００７，８００７，９００７，１０００７ Ｖ溝
１００８，２００８，３００８，４００８，５００８，６００８，７００８，８００８，９００８ 突起
１００１８ 段差
１００２８ 斜面
１００９，２００９，３００９，４００９，５００９，６００９，７００９，８００９，９００９，１０００９ 反射膜
１０１０，２０１０，３０１０，４０１０，５０１０，６０１０，７０１０，８０１０，９０１０，１００１０，１１０１０ ミラー
１０１１，２０１１，３０１１，４０１１，５０１１，６０１１，７０１１，８０１１，９０１１，１００１１，１１０１１ コア
１１０１２ 遮光膜
５０５０，６０５０ 溝
５０６０，６０６０ Ｖ溝
７０７０ 穴
８０８０ ミラー位置合わせしろ
１００ 基板
１０１ マスク
１０２ 反射膜
１０３ 基板
１０４ マスク
１０５ マスク
１０６ 反射膜
１６０ マスク
１６１ マスク
５０１ サスペンション
５０２ 半導体レーザ
５０３ レンズ
５０４ 記録媒体
５０５ 記録媒体用駆動モータ
５０６ 制御回路
５０７ 受光素子
５０８ サーボ駆動回路
５０９ サーボモータ
５１０ 集光レンズ系
６００ ブレード
７００ 光導波路もしくは光ファイバー
７０１ コア
２００００ 光記録再生装置
【発明の属する技術分野】
本発明は、近視野光を利用して高密度な情報の再生及び記録を行う光メモリヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報機器の分野ではハードウェア及びソフトウェア両面で急速な発展を遂げ、それに伴い、取り扱う情報量も急激に増加し続けている。情報機器の一構成装置である情報記憶装置（特にハードディスク・ドライブ）においては、現在、記録媒体における単位面積当たりの記録容量が年率６０％増加するという急速な高記録密度化が進んでいる。そのため、記録媒体上に記録及び再生される一記録単位（ビット）のサイズの更なる微小化が望まれている。
【０００３】
微小な領域に記録及び再生するにあたり、試料表面においてナノメートルオーダの微小な領域を観察するための装置、走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）や原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）に代表される走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）の応用が注目されている。ＳＰＭは、先端が先鋭化されたプローブを試料表面に走査させ、プローブと試料表面との間に生じるトンネル電流や原子間力などの相互作用を観察対象として、プローブ先端形状に依存した分解能の像を得ることができる。
【０００４】
記録媒体の高記録密度化に際して、磁気に比して光で記録及び再生を行う方式は、トラック方向（記録媒体の半径方向）の高記録密度化が可能という利点がある。このことから、ＳＰＭの中でも光により観察を行う近視野光学顕微鏡の応用が有望視されている。
近視野光学顕微鏡は、試料表面に生成される近視野光とプローブとの間に生じる相互作用を観察対象とし、試料表面の微小な領域の観察が可能である。その観察方法の詳細な原理について次に述べる。
【０００５】
観察試料の表面に伝搬光を照射して近視野光を生成する。近視野光は観察試料表面上の非常に近接した領域にしか生成されないため、プローブの先鋭化された先端を観察試料表面にμｍ以下に近接させ、プローブ先端で生成された近視野光を散乱させる。散乱光はプローブ先端の微小開口を経由し、従来の伝搬光検出処理を行う。これにより、従来の光学顕微鏡による観察分解能の限界を打破し、光による微小な領域の観察が可能となる。さらに、プローブ内に強度の大きな光を観察試料に向けて導入し、プローブの微小開口にエネルギー密度の高い近視野光を生成する。この近視野光によって試料表面の構造または物性の局所的な変更も可能である。上記のように近視野光学顕微鏡の応用により、高密度な光メモリ記録の実現が可能であると考えられている。
【０００６】
このような近視野光を利用した光メモリ記録装置の構成の中でも、微小開口を有するプローブは記録及び再生を行う光ヘッドとなるため、最も重要なキー・パーツである。微小開口を有するプローブについては、例えば米国特許第５，２９４，７９０号に開示されているように、フォトリソグラフィ等の半導体製造技術によってシリコン基板にこれを貫通する開口部を形成し、シリコン基板の一方の面には絶縁膜を形成して、開口部の反対側の絶縁膜上に円錐形状の光導波層を形成したカンチレバー型光プローブが提案されている。このカンチレバー型光プローブにおいては、開口部に光ファイバーを挿入し、光導波層の先端部以外を金属膜でコーティングすることで形成された微小開口に光を透過させることができる。このため開口部の作製を簡易に行う事が可能になる。
【０００７】
更に、上述したプローブのように先鋭化された先端をもたない平面プローブの使用が提案されている（Ｔ． Ｙａｔｓｕｉ ｅｔ ａｌ．， ”Ｒｅａｄｏｕｔ ｃａｐａｂｉｌｉｔｙ ｏｆ ａ ｐｌａｎａｒ ａｐｅｒｔｕｒｅｄ ｐｒｏｂｅ ｆｏｒ ｏｐｔｉｃａｌ ｎｅａｒ−ｆｉｅｌｄ ｍｅｍｏｒｙ”，ＮＦＯ−５， Ｉ１５， Ｓｈｉｒａｈａｍａ， Ｄｅｃ． １０， １９９８）。平面プローブは、シリコン基板に異方性エッチングによって逆ピラミッド構造の開口を形成したものであり、特にその頂点が数十ナノメートルの径を有して貫通され、開口部を形成している。そのような平面プローブは、半導体製造技術を用いて同一基板上に複数を一括作製できること、すなわちアレイ化が容易であり、特に近視野光を利用した光メモリの再生及び記録に適した光ヘッドとして使用できる利点がある。この平面プローブを用いた光ヘッドとして、従来ハードディスクで用いられているフライングヘッドに平面プローブを有したものが提案されている（日経エレクトロニクス、１９９７年３月１０日号）。フライングヘッドは従来、記録媒体との隙間が約５０から１００ｎｍを保ち、浮上するように空力設計されている。このフライングヘッドを利用することで、記録媒体とヘッドとが非常に近接した間隔（位置関係）を維持しつつ、フライングヘッドの記録媒体側に微小開口を形成して、近視野光を発生させることが可能である。このため、光による高密度の記録及び再生が可能となると考えられる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
近視野光を利用した光情報記憶装置を実現するにあたり、装置自体は小型および薄型である方が装置自体の利用価値が高くなる。装置を小型および薄型化するためには、記録媒体に対し平行に伝搬した光を、光学部品等を用いて記録媒体及び開口に対して垂直に曲げる構成が適していると考えられる。しかし、この構成の場合、光学部品を組み合わせるためヘッド自体が大きくかつ重くなり、位置決め精度や応答性が低下するという問題が発生する。
【０００９】
また、光ファイバー等の光導波路を用いて開口に光を入射した場合、開口から出射される近視野光の強度が小さくなり、記録及び再生の速度が低下、さらには記録および再生した情報の信頼性が低下するという問題が発生する。これは、光導波路の光出射端から出射される光が広がりつつ伝搬するため、出射端からの距離が大きいほど光のスポット径は大口径となる。そして、開口に照射される光強度が小さくなり、記録及び再生を行う近視野光の強度が小さくなる。その結果、情報による光強度比（Ｓ／Ｎ）が小さくなることから、記録及び再生速度や情報の信頼性が低下するという問題が発生する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明に係る第１の近視野光ヘッドは、負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されるとともに記録媒体との相対運動により浮上力を得、負荷加重と浮上力との均衡により記録媒体との間に隙間を作るスライダーと、スライダーの記録媒体側に形成された微小構造と、スライダーの記録媒体側と反対の面上に配置され、かつ、サスペンションアームと略平行に配置された光伝搬体と、微小構造の略上方に配置された、光伝搬体から出射される光を微小構造に導くためのミラーと、光伝搬体の光の出射端と微小構造との光路長を短くするための光路短距離化構造とからなる構成とする。
【００１１】
したがって、本発明に係る第１の近視野光ヘッドは、光路短距離化構造によって、ミラーの位置を微小開構造近傍に位置させ、かつ、光伝搬体の光の出射端の位置をも微小構造に近づけることによって、光伝搬体の光の出射端から微小構造までの距離を短くすることができ、光伝搬体からの出射光のスポット径を小さくすることができるため、微小構造によって発生される近視野光の強度が大きくなる。したがって、高密度な記録再生が可能な近視野光ヘッドを得ることができる。
【００１２】
また、本発明に係る第２の近視野光ヘッドは、微小構造を、微小開口である構成とする。
したがって、本発明に係る第２の近視野光ヘッドは、近視野光の記録媒体上でのスポット径が微小開口と同程度の大きさに絞られるため、高密度な記録再生が可能となる。
【００１３】
また、本発明に係る第３の近視野光ヘッドは、光路短距離化構造が、微小構造の近傍に形成された溝であり、溝の内部に光伝搬体が配置される構成とする。
したがって、本発明にかかる第３の近視野光ヘッドは、微小構造と光伝搬体の光の出射端との距離を短くできるため、強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッドとなる。さらに、溝に光伝搬体を形成することによって、光伝搬体を固定することが容易であるため、安定した強度の近視野光を発生する近視野光ヘッドとなる。
【００１４】
また、本発明に係る第４の近視野光ヘッドは、ミラーがスライダーの上方に配置された基板上に、基板と一体に配置されている構成とする。
したがって、本発明に係る第４の近視野光ヘッドは、安定した光学系を組むことができ、微小構造から発生する近視野光の強度が安定する。
また、本発明に係る第５の近視野光ヘッドは、ミラーが光伝搬体に形成されている構成とする。
【００１５】
したがって、本発明に係る第５の近視野光ヘッドは、近視野光ヘッドの構成要素であるミラーと光伝搬体を一体に形成できるため、ミラーと光伝搬体の光軸調整が不要となり、光軸調整が簡便になる。また、構成要素が少なくなるため、ヘッドの単価が安くなり、安価な近視野光ヘッドを提供することができる。
また、本発明に係る第６の近視野光ヘッドは、前記ミラーが凹形状となっており、光伝搬体から出射した光を集光する近視野光ヘッドとする。また、本発明に係る第７の近視野光ヘッドは、光伝搬体の先端に光を集光するレンズ機能を有する構成とする。
【００１６】
したがって、本発明に係る第６および第７の近視野光ヘッドは、微小構造における光のエネルギー密度を大きくすることが可能なため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
また、本発明に係る第８の近視野光ヘッドは、スライダー上および／またはミラーを形成した基板上に、ミラー合わせ機構が形成されており、ミラーと微小構造の位置決めを行うことを特徴とする近視野光ヘッドとする。
【００１７】
したがって、本発明に係る第８の近視野光ヘッドは、微小構造から発生する近視野光の強度を最大にするための光学調整が簡単である。
また、本発明に係る第９の近視野光ヘッドは、光伝搬体に、光を入射するための光学部品を固定するための溝や突起がミラー基板に形成されている構成とする。
【００１８】
したがって、本発明に係る第９の近視野光ヘッドは、光伝搬体に効率よく光を入射することができるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
また、本発明に係る第１０の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、前記スライダーに固定または形成された構成とする。
【００１９】
したがって、本発明に係る第１０の近視野光ヘッドは、スライダーに光伝搬体を固定または形成することで、光伝搬体の位置を安定させることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を安定させることができる。
また、本発明に係る第１１の近視野光ヘッドは、光伝搬体が基板上に、ミラーが形成された面と同じ側に固定または形成されたことを特徴とする構成とする。
【００２０】
したがって、本発明に係る第１１の近視野光ヘッドは、厚さが薄いスライダー部を用いても、光伝搬体の位置を安定させることができる。また、厚さが薄い前記スライダー部を用いることによって、光伝搬体から微小構造までの距離を短くすることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
【００２１】
また、本発明に係る第１２の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、光入射部分は基板に固定され、光出射部分がスライダーに固定されている構成とする。
したがって、本発明に係る第１２の近視野光ヘッドは、光伝搬体の光の入射端と光伝搬体に光を入射するための光学部品を固定する溝や突起との位置決め精度が良く、かつ、光伝搬体の光の出射端を微小構造に近づけることが可能であるため、微小構造から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
【００２２】
また、本発明に係る第１３の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、先端部分が光軸に対して平行に研磨され、細くなるよう加工された光ファイバーである構成とする。
これにより、先端が細く加工された光ファイバーによって、光ファイバーの光の出射端をミラーにより近づけることができるため、微小構造における光ファイバーの出射端からの光のスポット径を小さくすることができる。したがって、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
【００２３】
また、本発明に係る第１４の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、薄膜導波路であることを特徴とする構成とする。
したがって、光ファイバーよりも薄くかつ軽量な薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの質量が小さくなる。そのため、近視野光ヘッドの位置決め精度や位置決め速度を向上させることが容易である。また、薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの薄型化が容易であり、装置構成がより小型になる。
【００２４】
また、本発明に係る第１の近視野光ヘッドの製造方法は、ミラー形成方法と、スライダー形成方法と、ミラーとスライダーを組み立てる工程を含む工程であり、ミラー形成方法が、基板に突起を形成する工程と、突起に反射膜を形成する工程と、外形を形成する工程を含む工程であり、スライダー形成方法が、微小構造を形成する工程と、光路短距離化構造を形成する工程と、反射膜を形成する工程と、外形を形成する工程とを含む工程であり、ミラーとスライダーを組み立てる工程を含む製造方法とする。
【００２５】
したがって、本発明の近視野光ヘッドの製造方法によれば、本発明に係る近視野光ヘッドを容易に作製できる。また、フォトリソグラフィーやマイクロマシニング技術を用いたミラー形成方法およびスライダー形成方法であるため、均一な性能のミラーおよびスライダーを大量に生産することができる。
また、本発明に係る第２の近視野光ヘッドの製造方法は、近視野光ヘッドの製造方法において、光伝搬体を固定または形成する工程を含む製造方法とする。
【００２６】
したがって、光伝搬体がスライダーまたはミラーが形成された基板に固定されるため、微小構造へ出射する光の強度が安定し、結果として、微小構造から発生する近視野光の強度が安定する。
また、本発明に係る第３の近視野光ヘッドの製造方法は、ミラー形成方法またはスライダー形成方法に、薄膜導波路を形成する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００２７】
したがって、フォトリソグラフィー工程によって、光伝搬体を形成できるため、大量生産が容易な近視野光ヘッド製造方法となる。
また、本発明に係る第４の近視野光ヘッドの製造方法は、ミラー形成方法に、光学部品を固定する溝または突起を形成する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００２８】
したがって、容易にミラ−の位置を決められるため、組立が簡単であり、かつ安定して強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッドを提供できる。
また、本発明に係る第５の近視野光ヘッドの製造方法は、光ファイバーの先端部分を光ファイバーの光軸に対して平行に研磨し、光ファイバーの先端を細く加工する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００２９】
したがって、光ファイバーの先端をミラーに近づけることが容易となるため、近視野光の強度が大きな近視野光ヘッドを提供できる。
また、本発明に係る第６の近視野光ヘッドの製造方法は、光ファイバーの先端を斜めに加工し、斜めに加工した面に反射膜を形成する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００３０】
したがって、ミラーと光伝搬体を一体に形成することができ、製造工程を簡略化することが可能であり、部品数を少なくすることが可能であるため、安価で、性能が均一で、不良数の少ない近視野光ヘッドを提供できる。
また、本発明に係る第７の近視野光ヘッドの製造方法は、光ファイバーからの出射光を微小構造に集光するように光ファイバーの先端をレンズ状に加工する工程を含むことを特徴とする製造方法とする。
【００３１】
したがって、微小構造における光ファイバーからの出射光のスポット径が小さくなるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きな近視野光ヘッドを提供することができる。
また、本発明に係る第１５の近視野光ヘッドは、光伝搬体と、光伝搬体から出射される光を反射するミラーと、ミラーが反射した光の進行方向に配置された微小構造と、光伝搬体および微小構造、ミラーが一体となり、負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、負荷加重と浮上力との均衡により記録媒体と微小構造との間に隙間を作るスライダーの一部を構成することを特徴とする。
【００３２】
したがって、光伝搬体から出射する光の状態により、光伝搬体をスライダの厚さ方向において任意の位置に配置できるため、微小構造に入射する光および出射する光の強度を大きくすることが可能となる。
また、本発明に係る第１６の近視野光ヘッドは、光伝搬体において、光を伝搬するコア部が記録媒体寄りに配置されることを特徴とする。
【００３３】
したがって、光伝搬体の光出射端（光伝搬体端面のコア部の位置）と記録媒体との距離を更に短くでき、記録媒体に照射される光の強度を大きくすることが可能となる。
また、本発明に係る第１７の近視野光ヘッドは、光伝搬体が、スライダーの一部を構成すると同時にサスペンションアームの少なくとも一部を構成することを特徴とする。
【００３４】
したがって、スライダを構成する光伝搬体と光伝搬体に光を入射する他の光伝搬体との接続による光強度の損失がなくなるため、光伝達効率が上昇すると共にスライダを構成する光伝搬体から出射する光の強度が大きくなる。そのため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることが可能となる。
また、本発明に係る第１８の近視野光ヘッドは、ミラーが構成されたもしくは搭載された基板において、ミラーがスライダーの一部を構成すると同時に、基板がサスペンションアームの少なくとも一部を構成することを特徴とする。
【００３５】
したがって、ミラーが構成されたもしくは搭載された基板は光伝搬体を形成できる面積が大きいため、光伝搬体の構成に対する制限が小さい。そのため、伝達する光の強度を安定かつ高効率で伝達でき、ひいては微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることが可能となる。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の近視野光ヘッドとその製造方法について、添付の図面を参照して詳細に説明する。
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る近視野光ヘッド１０００の構成図である。図１（ａ）は、近視野光ヘッド１０００の断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＡ−Ａ'で示す位置での近視野光ヘッド１０００の断面図である。近視野光ヘッド１０００は、スライダー部１００１とミラー部１００２及び先端部分の一部が光軸に対して平行に研磨された光ファイバー１８０３からなる。図２（ａ）及び図２（ｂ）は、それぞれ、反射膜を取り除いた状態のミラー部１００２とスライダー部１００１の斜視図である。
【００３７】
スライダー部１００１は逆錘状の穴１００５が形成されており、その穴１００５の頂部が微小構造である微小開口１００６となっている。穴１００５の表面には、穴１００５に入射された光を微小開口１００６に効率よく集光するために反射膜１００４が形成される。また、スライダー部１００１には、幅Ｗ１のＶ溝１００７が形成されており、Ｖ溝の底部には平面が形成されている。
【００３８】
一方、ミラー部１００２は、幅Ｗ２のＵ字型の突起１００８が形成されている。突起１００８は、反射膜１００９が形成され、ミラー１０１０として機能する。スライダー部１００１のＶ溝１００７にミラー部１００２のＵ字型の突起を挿入することで、スライダー部１００１とミラー部１００２は一体となり、光路短距離化構造を構成している。スライダー部１００１のＶ溝１００７の幅Ｗ１とミラー部１００２のＵ字型の突起１００８の幅Ｗ２を調整し、スライダー部１００１のＶ溝中矢印ａで示す面と、ミラー部１００２のＵ字型の突起の矢印ｂで示す面とをつきあわすことで、ミラー１０１０の位置を簡単に決定できる。したがって、微小開口１００６から出射する近視野光の強度が最大になるよう幅Ｗ１、Ｗ２及び突起１００８の寸法が規定される。光ファイバー１８０３は、先端が光軸と平行に光ファイバー１８０３のコア１０１１付近まで研磨されている。
【００３９】
光ファイバー１８０３は、スライダー部１００１のＶ溝１００７とミラー部１００２のＵ字型の突起１００８の内側とで構成される空間内に挿入される。光ファイバー１８０３は、スライダー部１００１のＶ溝１００７に固定される。光ファイバー１８０３を伝搬し、光ファイバー１８０３の先端から出射した光は、ミラー１０１０によって、伝搬方向を微小開口１００６に向かうよう変更される。先端が研磨されていない光ファイバーに比べて、研磨された光ファイバー１８０３は、光の出射端をミラー１０１０に近づけることが可能である。また、Ｖ溝１００７が、微小開口１００６の近傍に形成されていることによっても、光ファイバー１８０３から微小開口１００６までの距離を短くできる。
【００４０】
スライダー部１００１の厚さＴ１は２００〜５００μｍであり、長さＬ１は１〜５ｍｍ、幅Ｗ３は１〜５ｍｍである。また、Ｖ溝７の幅Ｗ１は１５０〜５００μｍ、長さＬ２は５００〜４０００μｍ、深さＤ１は１００〜４００μｍである。微小開口１００６の大きさは、５０〜３００ｎｍである。反射膜１００４の厚さは、１００〜３００ｎｍである。
【００４１】
ミラー部１００２の厚さＴ２は２００〜１０００μｍであり、長さＬ２は１〜５ｍｍ、幅Ｗ４は１〜５ｍｍである。突起１００８の幅Ｗ２は１００〜４５０μｍであり、長さＬ３は５００〜４０００μｍであり、高さＨ１は１００〜４００μｍである。また、反射膜１００９の厚さは５０〜３００ｎｍである。
光ファイバー１８０３の直径Ｄ２は１２５μｍである。光ファイバー先端のくぼみ深さＤ３は５０〜６０μｍであり、くぼんだ部分の長さＬ４は５００〜５０００μｍである。
【００４２】
スライダー部１００１及びミラー部１００２の材料は、シリコンや石英などの誘電体やステンレスや銅などの金属である。反射膜１００４及び反射膜１００９の材料は、アルミニウムや金などの反射率の高い金属や、誘電多層膜である。
上述したように、本実施の形態１による近視野光ヘッド１０００によれば、光ファイバー１８０３の先端が研磨されているため、光ファイバー１８０３の先端がミラー１０１０に近接させることが可能なため、光ファイバー１８０３の光の出射端から、微小開口１００６までの距離が短くなり、微小開口１００６における出射光のスポット径が小さくなる。したがって、微小開口１００６から出射する近視野光の強度を大きくすることができる。また、光ヘッド１０００は平面内に構成されるため、小型化が容易である。したがって、光ヘッド１０００の質量が小さくなるため位置決め精度が向上すると同時に、光ヘッドを含むヘッド位置決め機構の共振周波数が高くなり、位置決め速度が向上する。また、微小開口１００６から出射される近視野光の強度が最大になるようにＶ溝１００７，Ｕ字型の突起の寸法を決定することで、ミラー１０１０の位置決めが簡単にでき、光軸の調整が簡単である。
【００４３】
次に、図３及び図４を用いて近視野光ヘッド１０００の製造方法を説明する。
図３は、ミラー部１００２の製造方法を示した図である。
図３（ａ）は、シリコンや石英、ステンレスなどの基板１００を表している。基板１００には、酸化膜や窒化膜などのマスク１０１が形成される。なお、以下では、図面の基板の上側をおもて面、下側を裏面とする。
【００４４】
図３（ｂ）は、基板１００のおもて面のマスク１０１をパターニングする工程を示しており、マスク１０１がパターニングされた状態を示している。基板１００上のマスク１０１は、フォトリソグラフィー工程によってＵ字型にパターニングされる。
図３（ｃ）は、Ｕ字型の突起を形成する工程を示しており、Ｕ字型の突起が形成された状態を示している。基板１００がシリコンの場合、水酸化カリウム（ＫＯＨ）やテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）による異方性エッチングで、エッチングすることによって、Ｕ字型の突起を形成する。
【００４５】
図３（ｄ）は、反射膜１０２を堆積する工程を示しており、反射膜１０２が堆積された状態を示している。Ｕ字型の突起を形成した後、マスク１０１をエッチングによって除去する。その後、スパッタや真空蒸着などによって、基板１００上に反射膜１０２を堆積する。
図３（ｅ）は、ミラー部１００２の外形を形成する工程を示しており、ミラー部１００２が完成した状態を示している。反射膜１０２を堆積した後、ダイシングやスクライビング等の方法によって、ミラー部２が所望の外形寸法になるよう加工される。
【００４６】
図４は、スライダー部１００１の製造方法を示した図である。
図４（ａ）は、シリコンや石英、ステンレスなどの基板１０３を表している。基板１０３には、酸化膜や窒化膜などのマスク１０４が形成される。
図４（ｂ）は、微小開口を形成するための基板１０３上のマスク１０４をパターニングする工程を示しており、マスク１０４がパターニングされた状態を示している。基板１０３上のマスク１０４は、フォトリソグラフィー工程によってパターニングされる。
【００４７】
図４（ｃ）は、微小開口を形成する工程を示しており、微小開口が形成された状態を示している。基板１０３がシリコンの場合、水酸化カリウム（ＫＯＨ）やテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）による異方性エッチングで、エッチングすることによって、微小開口を形成する。
図４（ｄ）は、Ｖ溝を形成するためのマスク１０５を形成する工程を示しており、マスク１０５がパターングされた状態を示している。微小開口を形成した後、基板１０３上のマスク１０４を除去し、マスク１０５を気相合成法やスピンコートなどで堆積する。マスク１０５の材料は、酸化膜や窒化膜である。次に、フォトリソグラフィー工程によって、マスク１０５をＶ溝を形成するためのマスク形状にパターニングする。
【００４８】
図４（ｅ）は、Ｖ溝を形成する工程を示しており、Ｖ溝が形成された状態を示している。Ｖ溝は、基板１０３がシリコンの場合、ＫＯＨやＴＭＡＨによる異方性エッチングによって形成する。
図４（ｆ）は、反射膜を堆積する工程を示しており、反射膜１０６を堆積した状態を示している。Ｖ溝を形成した後、マスク１０５及び基板１０３の裏面のマスク１０４をウエットエッチングやドライエッチングで除去する。次に、基板１０４上にアルミニウムや金など反射率と遮光率の高い金属をスパッタや真空蒸着法をもちいて堆積する。このとき同時に微小開口の周りにも反射膜１０６が堆積されることを利用して、微小開口１００６の大きさを制御する。
【００４９】
図４（ｇ）は、スライダー部１００１の外形を形成する工程を示しており、スライダー部が完成した状態を示している。反射膜１０６を堆積した後、ダイシングやスクライビングなどの方法によって、スライダー部１００１が所望の外形寸法になるよう加工される。
上述した方法によって作成されたスライダー部１００１に先端を研磨した光ファイバー１８０３を接着剤や固相接合などによって固定し、スライダー部１００１に形成されたＶ溝内にミラー部１００２の突起を挿入し、接着剤や固相接合などによって固定することで近視野光ヘッド１０００が完成する。
【００５０】
上述した方法によれば、本発明の実施の形態１に示す近視野光ヘッド１０００が容易にかつ、大量に作製できる。また、スライダー部１００１のＶ溝１００７にミラー部１００２のＵ字型の突起を挿入することで容易にミラー１０１０の位置を決められるため、組み立てが簡単であり、かつ安定して強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッド１０００を提供できる。
【００５１】
図１５は、光記録再生装置の簡単な装置構成を示した図である。
以上に説明した近視野光ヘッド１０００を記録媒体５０４上に配置し、微小開口から出射される近視野光によって情報記録及び再生を行う方法を説明する。
近視野光ヘッド１０００は、記録媒体用駆動モータ５０５によって回転している記録媒体５０４上で発生する気流とスライダー部１００１との相互作用によって、記録媒体から１０〜１００ｎｍ離れた位置で浮いている。したがって、スライダー部１００１に形成された微小開口１００６の位置も、記録媒体５０４から１０〜１００ｎｍ離れた位置にある。半導体レーザ５０２から出射された光は、レンズ５０３によって集光され近視野光ヘッド１０００に導入される。近視野光ヘッド１０００に導入された光は、微小開口１００６から近視野光となって記録媒体５０４に向けて照射される。記録媒体５０４は、たとえば、熱を加えることによってアモルファス状態あるいは結晶状態になり、その反射率や透過率の違いを利用して記録再生を行う相変化記録媒体である。この場合、たとえば、情報記録は、微小開口から発生した近視野光を記録媒体に照射することによって、記録媒体上の近視野光が照射された領域を結晶状態からアモルファス状態に変化させることによって行われる。微小開口１００６と記録媒体５０４の距離が、１０〜１００ｎｍであるので、微小開口１００６から記録媒体に照射される近視野光の大きさは微小開口と同等の大きさとなり、たとえば１００ｎｍの径を有している。したがって、図１に示す光ヘッド１０００は、容易に高密度記録が可能である。
【００５２】
一方、情報再生は、たとえば、以下に説明するように行う。まず、光ヘッド１０００の制御回路５０６は、所望の情報記録位置上に微小開口が移動するように、サーボ駆動回路５０８に信号を送る。サーボ駆動回路５０８から信号を受けたサーボモータ５０９は、サスペンション５０１を介して光ヘッド１０００全体を移動させ、微小開口１００６を情報記録位置に移動させる。次に、微小開口から近視野光を記録ピット上に照射し、記録媒体５０４を透過した伝搬光を集光レンズ系５１０で受光素子５０７上に集め、情報信号を得る。得られた情報信号は、制御回路５０６に送られ、たとえば、信号強度を比較して微小開口と記録ピットとの位置ずれを検知する。微小開口１００６と記録ピットの位置がずれている場合、位置ずれを修正するように制御回路５０６からサーボ回路５０８に信号が送られ、サーボ回路５０８がサーボモータ５０９を駆動する。また、記録媒体１０３を透過した伝搬光は、たとえば、記録媒体のアモルファス状態と結晶状態の透過率の違いを含んで受光素子上に集光される。この透過率の違いの情報が、情報信号として検知される。得られた情報信号は、図には記述していない信号処理回路を経て再生信号に変換される。
【００５３】
以上説明したように、実施の形態１によれば、サスペンション５０１によって押さえつけられた光ヘッド１０００が、微小開口１００６を含む最適設計されたスライダー部１００１によって、記録媒体５０４の近傍で浮いており、微小開口１００６からスポット径の小さな近視野光を記録媒体に照射することができるため、高密度記録再生が可能な光ヘッド１０００を提供できる。
【００５４】
また、薄い基板上に突起を形成し、薄い反射膜を堆積させることでミラーを形成した本発明の光ヘッド１０００は軽量である。したがって、光ヘッド１０００を高速高精度に移動させることができるため、追従性の高いトラッキングが可能な光ヘッド１０００を提供できる。
また、光ヘッド１０００のスライダー面に受光素子を形成したり、受光素子を記録媒体の上に置くことによって、記録媒体上の記録情報を反射光から得ることができるのは、言うまでもない。また、記録媒体からの反射光を用いて記録情報を得る場合、記録媒体の両面に光ヘッドや受光素子を配置することによって、記録媒体１枚あたりの記録密度を向上させることができる。
【００５５】
以降の実施の形態で示す近視野光ヘッドは、いずれも図１５に示すような構成において使用することができる。
（実施の形態２）
図５は、本発明の実施の形態２に係る近視野光ヘッド２０００の構成図である。近視野光ヘッド２０００の構成は、本発明の実施の形態１とほぼ同じである。異なる点は、ミラー２００２の形状である。ミラー２００２は、凹面鏡となっている。ミラー２００２によって光ファイバー２８０３から出射した光は、伝搬方向が微小開口２００６に向かうよう変えられ同時に微小開口２００６に集光するようになる。したがって、近視野光ヘッド２０００は、実施の形態１に示した近視野光ヘッドよりも、微小開口２００６から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
（実施の形態３）
図６は、本発明の実施の形態３に係る近視野光ヘッド３０００の構成図である。近視野光ヘッド３０００の構成は、本発明の実施の形態１とほぼ同じである。本発明の光ファイバー３８０３の先端が球状に加工されているのが異なる点である。
【００５６】
このことによって、光ファイバー先端から出射する光は、微小開口３００６に向けて集光するよう伝搬していく。したがって、近視野光ヘッド３０００は、実施の形態１に示した近視野光ヘッドよりも、微小開口３００６から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
（実施の形態４）
図７は、本発明の実施の形態４に係る近視野光ヘッド４０００の構成図である。近視野光ヘッド４０００の構成は、本発明の実施の形態１の近視野光ヘッド１０００とほぼ同じである。異なる点は、光ファイバー４８０３がミラー部４００２に固定されている点である。
【００５７】
スライダー部４００１の厚さＴ１は、１０〜５０μｍである。前述した実施の形態１において、例えばスライダー部１００１の厚さＴ１が非常に薄い場合、光ファイバー１８０３をスライダー部１００１に接着または接合する際、応力の発生によりスライダー部１００１が変形してしまう問題点があった。しかし、本実施の形態の近視野光ヘッド４０００の構成にすることによって、薄いスライダー部４００１であっても、変形させることなく安定して光を微小開口４００６に照射することができる。また、スライダー部４００１を薄くすることによって、光ファイバーから出射した光が空間中を伝搬する距離が短くなるため、本実施の形態の近視野光ヘッド４０００は、実施の形態４００１に示した近視野光ヘッドよりも、微小開口４００６から発生する近視野光の強度は大きくなる。また、本実施の形態と実施の形態２〜３を組み合わせることによって、近視野光の強度がいっそう大きくなることは言うまでもない。
（実施の形態５）
図９は、本発明の実施の形態５に係る近視野光ヘッド５０００の構成図である。近視野光ヘッド５０００は、スライダー部５００１とミラー部５００２から構成される。スライダー部５００１は、逆錘状の穴５００５が形成されており、その穴５００５の頂部が微小開口５００６となっている。穴５００５の表面には、穴５００５に入射された光を微小開口５００６に効率よく集光するために反射膜５００４が形成される。また、スライダー部５００１には、Ｖ溝５００７が形成されており、Ｖ溝の底部には平面が形成されており、この平面上に導波路５９０３が形成されている。ミラー部５００２は、本発明の実施の形態１のミラー部２と同様なＵ字型の突起５００８と、導波路５９０３に光を入射するための光ファイバーを固定するＶ溝５０６０と、光ファイバーを導波路５９０３に近づけやす
くするための溝５０５０を有している。なお、導波路５９０３に光を入射する手段として半導体レーザやプリズム等の光学部品を用いることもできる。この場合、Ｖ溝は、それぞれの光学部品を固定するのに適した構造を持つ。
【００５８】
スライダー部５００１の各寸法とミラー部５００２の外形寸法は、それぞれ実施の形態１のスライダー部１とミラー部２とほぼ同じである。導波路５９０３の長さは５００〜４０００μｍであり、厚さは４〜１０μｍ、幅は１０〜２００μｍである。近視野光ヘッド５０００の各構成要素の材料は、実施の形態１の近視野光ヘッド１０００とほぼ同じである。導波路５９０３の材料は、二酸化ケイ素やポリイミドなどの誘電体である。導波路５９０３は、クラッド層とコア層の２層構造でも良いし、コア層が２つのクラッド層に挟まれた３層構造でも良いし、コア層の周りがすべてクラッド層となっている構造でも良い。Ｖ溝５０６０の長さは、５〜５０ｍｍである。
【００５９】
上述した近視野光ヘッド５０００は、微小開口の近くに形成された光導波路５９０３によって、ミラー５０１０まで光を伝搬するため、光導波路からの出射光の光路が短くなる。したがって、微小開口５００６から発生する近視野光の強度が大きくなる。また、近視野光ヘッド５０００は、プリズムやレンズなどの微小光学部品や半導体レーザーなどを一体とした近視野光ヘッドとなるため、装置全体の構成がコンパクトになる。本実施の形態に実施の形態２を組み合わせることによって、微小開口５００６から発生する近視野光の強度が、より大きくなることは言うまでもない。
【００６０】
近視野光ヘッド５０００の製造方法を以下に示す。スライダー部５００１の製造方法は、実施の形態１の近視野光ヘッド１０００のスライダー部１００１の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、図４（ｆ）で示す工程の後に、導波路５９０３をスライダー部５００１上に形成する工程がある点である。導波路５９０３の形成方法は、以下の通りである。まず、気相合成法やスピンコートによって、二酸化ケイ素やポリイミドなどを堆積する。次に、導波路５９０３をパターニングするためのマスクを形成し、リアクティブイオンエッチングやプラズマエッチングなどのドライエッチングによって、導波路５９０３のパターンを形成する。
【００６１】
次に、ミラー部５００２の製造方法は、実施の形態１のミラー部１００２の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、図３（ｃ）で示す工程の後に、図１１で示すＶ溝を形成する工程がある点である。
図１１（ａ）はＶ溝５０６０を形成する工程を示しており、Ｖ溝が形成された状態を示している。図３（ｃ）で示す工程の後、Ｕ字型の突起を形成するためのマスク１０１を除去する。次に、ＣＶＤやスピンコートやスパッタなどの方法で、Ｖ溝５０６０を形成するためのマスク１６０となる材料を基板１００上に堆積する。マスク１６０となる材料は、例えば、二酸化ケイ素や、窒化シリコンやアモルファスシリコンやチタンやクロムなどである。マスク１６０となる材料を堆積した後、フォトリソグラフィーによって、マスク１６０を形成する。その後、ＫＯＨやＴＭＡＨなどによるウエットエッチングやリアクティブイオンエッチング等の方法によってＶ溝を形成する。
【００６２】
図１１（ｂ）は、ファイバーや光学部品を導波路に近づけやすくするためのくぼみ５０５０を形成する工程を示しており、くぼみ５０５０が形成された状態を示している。Ｖ溝を形成した後、マスク１６０を除去し、くぼみを形成するためのマスク１６１となる材料を基板１００上に、スパッタや真空蒸着やスピンコートなどで形成する。マスク１６１となる材料は、例えば、アルミニウムやチタンなどの金属や、二酸化ケイ素やフォトレジストなどの誘電体である。マスク１６１となる材料を堆積した後、フォトリソグラフィを用いてマスク１６１を形成する。次に、リアクティブイオンエッチングやプラズマエッチングなどのドライエッチングやフッ酸と硝酸の混合液によるウエットエッチング等によって、くぼみを形成する。
【００６３】
図１１（ｃ）は、Ｕ字型の突起にミラーとなる反射膜１０２を形成する工程を示しており、反射膜１０２が形成された状態を示している。くぼみを形成した後、マスク１６１を除去し、スパッタや真空蒸着やメッキなどの方法によって、反射膜１０２となる材料を基板１００上に堆積する。反射膜１０２となる材料は、例えば、アルミニウムやクロム上に金を堆積したものやチタンである。反射膜１０２となる材料を堆積した後、フォトリソグラフィーによって反射膜１０２をパターニングする。ただし、反射膜１０２の厚さを考慮してＶ溝の大きさを決めた場合は、反射膜１０２のパターニングは省略しても良い。
【００６４】
図１１（ｄ）は、ミラー部５００２の外形を形成する工程を示しており、ミラー部５００２が切り出された状態を示している。反射膜１０２をパターニングした後、ダイシングやスクライブまたはＫＯＨやＴＭＡＨによる異方性エッチングによって、ミラー部５００２の外形を形成する。
（実施の形態６）
図８は、本発明の実施の形態６に係る近視野光ヘッド６０００の構成図である。近視野光ヘッド６０００は、スライダー部６００１とミラー部６００２から構成される。スライダー部６００１は、本発明の実施の形態２のスライダー部２００１と同じ構成である。ミラー部６００２は、本発明の実施の形態２のミラー部２００２と同様なＵ字型の突起の内部に、導波路６００３と、導波路６００３に光を入射するための光ファイバーを固定するＶ溝６０６０と、光ファイバーを導波路６００３に近づけやすくするための溝６０５０を有している。なお、導波路６００３に光を入射する手段として半導体レーザやプリズム等の光学部品を用いることもできる。この場合、Ｖ溝６０６０は、それぞれの光学部品を固定するのに適した構造を持つ。
【００６５】
スライダー部６００１の寸法は、実施の形態２のスライダー部２００１とほぼ同じである。ミラー部６００２の外形の幅は１〜５ｍｍであり、長さは１〜６０ｍｍであり、厚さは２００〜５００ｍｍである。導波路６００３の長さは５００μｍ〜５０ｍｍであり、厚さは４〜１０μｍ、幅は１０〜２００μｍである。近視野光ヘッド６０００の各構成要素の材料は、実施の形態１の近視野光ヘッド１０００とほぼ同じである。導波路６００３の材料は、二酸化ケイ素やポリイミドなどの誘電体である。導波路６００３は、クラッド層とコア層の二層構造でも良いし、コア層が二つのクラッド層に挟まれた三層構造でも良いし、コア層の周りがすべてクラッド層となっている構造でも良い。Ｖ溝６４の長さは、５〜５０ｍｍである。
【００６６】
上述した近視野光ヘッド６０００は、ミラー６０１０、導波路６００３及び導波路６００３に光を導入する手段がミラー部６００２上に一体となって形成されるため、実施の形態５で示した近視野光ヘッド５０００よりも光学部品のアライメントが容易であり、かつ、各要素の位置ずれが少ない。したがって、本実施の形態の光ヘッド６０００は、実施の形態５よりも安定した強度の近視野光を発生させることができる。また、導波路６００３の長さを大きくすることによって、光ファイバーや半導体レーザといった重たい光学部品を微小開口から遠い位置に配置できるため、光ヘッドの位置決め精度や位置決め速度を向上させることができる。さらに、ミラー部６００２をサスペンションアームとすることで、ヘッドとサスペンションアームを一体に形成できるため、組み立てコストが小さくなり、安価な記録用ヘッド及びサスペンションを提供できる。
【００６７】
近視野光ヘッド６０００の製造方法は、実施の形態５の近視野光ヘッド５０００の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、図１１（ａ）で示す工程の前に、導波路６００３を形成する工程がある点である。導波路６００３の形成方法は、以下の通りである。まず、気相合成法やスピンコートによって、二酸化ケイ素やポリイミドなどを堆積する。次に、導波路６００３をパターニングするためのマスクを形成し、リアクティブイオンエッチングやプラズマエッチングなどのドライエッチングによって、導波路６００３のパターンを形成する。
（実施の形態７）
図１０は、本発明の実施の形態７に係る近視野光ヘッド７０００の構成図である。近視野光ヘッド７０００は、実施の形態６に示す近視野光ヘッドとほぼ同じ構成である。異なる点は、導波路７９０３が、光の入射端側はミラー部７００２に固定され、光の出射端側がスライダー部７００１に固定されている点と、導波路７９０３を押すための穴７０７０がミラー部７００２に形成されている点である。
【００６８】
近視野光ヘッド７０００の各寸法は、実施の形態６とほぼ同じである。穴７０７０の大きさＤ７０は、１〜４ｍｍである。導波路７９０３は、クラッド層とコア層の二層構造でも良いし、コア層が二つのクラッド層に挟まれた三層構造でも良いし、コア層の周りがすべてクラッド層となっている構造でも良い。
上述した近視野光ヘッド７０００は、導波路７９０３の光の出射端がスライダー部７００１に固定されるため、導波路７９０３の光の出射端から微小開口７００６までの距離を実施の形態６に示す近視野光ヘッドよりも短くなる。したがって、本実施の形態の近視野光ヘッド７０００は、実施の形態６に示す近視野光ヘッドよりも、大きな強度をもつ近視野光を発生させることができる。
【００６９】
近視野光ヘッド７０００の製造方法は、実施の形態６の近視野光ヘッド６０００の製造方法とほぼ同じである。異なる点は、導波路７９０３を形成した後に、導波路を押すための穴７０７０を形成する工程がある点である。穴７０７０は、以下に説明するように形成する。まず、図１１（ｃ）で示す工程の後に、基板１００のＵ字型の突起を形成した側と反対側に穴７０７０を形成するためのマスクを形成する。その後、ＴＭＡＨやＫＯＨによる異方性エッチングによって、穴７０７０が形成される。
（実施の形態８）
図１３は、本発明の実施の形態８に係る近視野光ヘッド８０００の構成図である。また、図１２は、近視野光ヘッド８０００のスライダー部８００１の斜視図である。近視野光ヘッド８０００の構成は、本発明の実施の形態１とほぼ同じである。異なる点は、ミラー位置合わせしろ８０８０がある点である。ミラー位置あわせしろ８０８０によって、ミラーの位置をスライダー部８００１に形成したＶ溝の方向に対して微調整することができるため、強度の大きな近視野光を発生する近視野光ヘッドを得ることができる。
（実施の形態９）
図１４は、本発明の実施の形態９に係る近視野光ヘッド９０００の構成図である。近視野光ヘッド９０００は、スライダー部９００１とミラー付光ファイバー９８０３とミラー９０９０からなる。スライダー部９００１は、実施の形態１のスライダー部９００１とほぼ同じである。ミラー付光ファイバー９８０３は、実施の形態１に示す光ファイバー１００３とほぼ同様な構成である。異なる点は、光ファイバー９００３の先端が研磨され、その研磨された面にミラー９０９０が形成されている点である。上記の構成の近視野光ヘッド９０００によれば、実施の形態１で述べた効果の他に、構成要素が実施の形態１よりも少ないため、組み立てが容易になる。
（実施の形態１０）
図１６は、本発明の実施の形態１０に係る近視野光ヘッド１００００の構成図である。図１６（ａ）は、近視野光ヘッド１００００の断面図であり、図１６（ｂ）は、図１６（ａ）中のＡ−Ａ'で示す位置での近視野光ヘッド１００００の断面図である。近視野光ヘッド１００００は、スライダー部１０００１とミラー部１０００２及び光導波路１０９０３から構成されている。スライダー部１０００１は逆錘状の穴１０００５が形成され、穴１０００５の頂部が微小開口１０００６となっている。穴１０００５表面には反射膜１０００４が形成される。一方、ミラー部１０００２は、ミラー１００１０を斜面とした段差が形成されている。光導波路１０９０３は、四角柱の形状で、光を伝搬するコア１００１１がスライダー部１０００１側に偏在している。
【００７０】
光導波路１０９０３に入射された光１は光導波路１０９０３内を伝搬し、ミラー１００１０側の端面から出射される。出射した光は、ミラー１００１０により反射され、穴１０００５に入射し、反射膜１０００４により微小開口１０００６に効率よく集光される。したがって、光導波路１０９０３のコア１００１１がスライダー側に偏在するため、光導波路１０９０３の出射端から微小開口１０００６までの光路長を短くできる。
【００７１】
本実施の形態の近視野光ヘッドの作製方法については、光導波路１０９０３がミラー部１０００２下面（段差側の面）に形成された後、図１８に示すように円錐状のブレード６００で研磨を行うことで、ミラー１００１０と光導波路１０９０３の光出射端が形成できる。そして、スライダー部１０００１と接合もしくは接着を行う。なお、光導波路１０９０３単独で作製したのち、ミラー部１０００２と接合もしくは接着を行い、同様に研磨することも可能である。
【００７２】
さらに、本実施の形態の近視野光ヘッド１００００は、前述実施の形態１の近視野光ヘッド１０００のように光ファイバを研磨した構成に比較して、次のような利点がある。本発明のいずれの近視野光ヘッドにおいても、微小開口は記録媒体と近接させる必要があるため、微小開口を有する構造体（スライダー部など）の記録媒体側の面は、接続される光伝搬体の記録媒体側の面より記録媒体に近くなければならない。従って、前述の近視野光ヘッド１０００のように光ファイバを研磨して構成する場合、スライダー部は光伝搬体の記録媒体側クラッドより厚い構造となる。図１７に示すように、スライダー部が薄い構造の場合、破線で示す部分２（光伝搬体と記録媒体１０５０４）が物理的に干渉する。しかし、より強度の大きな近視野光を得るためには、記録媒体と微小開口との距離および光伝搬体の出射端から微小開口までの距離をできる限り小さくする必要がある。そこで、本実施の形態の近視野光ヘッド１００００はコアがスライダー部側すなわち記録媒体側に偏在しているため、クラッドの厚さを薄く、そしてスライダー部の厚さを薄くできる。そのため、微小開口と記録媒体とを近接させることが可能であると同時に、光導波路の出射端から微小開口までの光路長を更に短距離化できる構造となっている。
【００７３】
スライダー部１０００１の材料は、シリコンや石英などの誘電体やステンレスや銅などの金属、特に光反射率が高く研磨しやすい材料が望ましい。反射膜１０００４の材料は、アルミニウムや金などの反射率の高い金属や、誘電多層膜である。光導波路１０９０３の材料は、酸化シリコン（ガラス）やＵＶ硬化樹脂に代表される高分子材料で形成が可能である。このため、光導波路１０９０３については光の伝搬特性及び強度、光ヘッド作製方法により最適な材料を選定する事が可能である。
【００７４】
また、図１９は近視野光ヘッド１００００をサスペンションアームで保持した構成図である。ここでは、光導波路１０９０３は、スライダー部１０００１とミラー部１０００２（図示省略）を保持するサスペンションアームの一部としても機能している。なお、サスペンションアーム全てを光導波路で構成することも可能である。
【００７５】
上述したように、本実施の形態１０による近視野光ヘッド１００００によれば、光導波路１０９０３のコアが偏在するため、光導波路１０９０３の光の出射端から、微小開口１０００６までの距離が短くなり、微小開口１０００６における出射光のスポット径が小さくなる。したがって、微小開口１０００６から出射する近視野光の強度を大きくすることができる。さらに、光導波路１０９０３と記録媒体との物理的干渉が発生しない構造であるため、出射端から微小開口までの光路長が更に短くできる。また、光導波路１０９０３にサスペンションの機能を付加することで、近視野光ヘッドをより簡易に作製することが可能である。
（実施の形態１１）
図２０は、本発明の実施の形態１１に係る近視野光ヘッド１１０００の構成図である。近視野光ヘッド１１０００はミラー部１１００２及びコア偏在光導波路１１９０３、光導波路１１９０３面上に成膜された遮光膜１１０１２から構成されている。遮光膜１１０１２上には微小開口１１００６が設けられている。コア偏在光導波路１１９０３に入射した光１はコア偏在光導波路１１９０３内のコア部１１０１１の湾曲に沿って伝搬する。光１は微小開口１１００６まで直接導かれるため、強度の大きな近視野光の発生が可能である。なお、コア部１１０１１の湾曲の曲率半径を小さくし、コア部１１０１１から逸れて直進した光がミラー部１１００２に形成されたミラー１１０１０で反射され、微小開口１１００６に入射する構成も可能である。
【００７６】
また、本発明の実施の形態の近視野光ヘッド１１０００に光を入射させるには、コアが偏在した光導波路もしくは光ファイバー７００が有効である。この光導波路もしくは光ファイバー７００は、記録媒体側にコア７０１が偏っている。これは、前述実施の形態１０で示した理由、すなわち記録媒体と光導波路もしくは光ファイバー７００との物理的干渉が回避でき、かつ、コア偏在光導波路１１９０３のコアが記録媒体側に偏在することで微小開口までの光路長の短距離化ができるためである。
【００７７】
製造方法については、前述実施の形態１の図３と同じ工程をたどる。その後、溝内に酸化シリコンなどを３層以上成膜する事で、光導波路１１９０３を作製する。光導波路の上面（記録媒体側すなわち微小開口を形成しようとする側の面）を平坦に研磨し、その上に遮光膜１１０１２を成膜、最後にＦＩＢなどで微小開口１１００６を形成する。なお、微小開口の形成位置は、前述した光導波路のコア部１１０１１に沿って光が進む場合、逸れて直進する場合で異なる。
【００７８】
この構造は光導波路１１９０３面上に直接微小開口１１００６を設けられるため、入射光を直接微小開口１１００６との距離を更に短くすることが可能となる。そのため、近視野光を強度が大きくかつ安定して発生させることが可能である。
【００７９】
【発明の効果】
以上説明したように本発明に係る第１の近視野光ヘッドによれば、光路短距離化構造によって、ミラーの位置を微小構造近傍に位置させ、かつ、光伝搬体の光の出射端の位置をも微小構造に近づけることによって、光伝搬体の光の出射端から微小構造までの距離を短くすることができ、微小構造の位置における光伝搬体からの出射光のスポット径を小さくすることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。したがって、高密度な記録再生が可能な近視野光ヘッドを得ることができる。
【００８０】
また、本発明に係る第２の近視野光ヘッドによれば、第１の近視野光ヘッドの効果に加え、近視野光の記録媒体上でのスポット径が微小開口と同程度の大きさに絞られるため、高密度な記録再生が可能となる。
また、本発明に係る第３の近視野光ヘッドによれば、第１の近視野光ヘッドおよび第２の近視野光ヘッドの効果に加え、前記溝に前記光伝搬体を形成することによって、前記光伝搬体を固定することが容易であるため、安定した強度の近視野光を発生する近視野光ヘッドとなる。
【００８１】
また、本発明に係る第４の近視野光ヘッドによれば、第１から第３の近視野光ヘッドの効果に加え、安定した光学系をくむことができ、微小構造から発生する近視野光の強度が安定する。
また、本発明に係る第５の近視野光ヘッドによれば、第１から第３の近視野光ヘッドの効果に加え、近視野光ヘッドの構成要素であるミラーと光伝搬体を一体に形成できるため、ミラーと光伝搬体の光軸調整が不要となり、光軸調整が簡便になる。また、構成要素が少なくなるため、ヘッドの単価が安くなり、安価な近視野光ヘッドを提供することができる。
【００８２】
また、本発明に係る第６または第７の近視野光ヘッドによれば、第１から第５の近視野光ヘッドの効果に加え、微小構造における光のエネルギー密度を大きくすることが可能なため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
また、本発明に係る第８の近視野光ヘッドによれば、第４および第６から第７の近視野光ヘッドの効果に加え、微小構造から発生する近視野光の強度を最大にするための光学調整が簡単である。
【００８３】
また、本発明に係る第９の近視野光ヘッドによれば、第４および第６から第８の近視野光ヘッドの効果に加え、光伝搬体に効率よく光を入射することができるため、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
また、本発明に係る第１０の近視野光ヘッドによれば、第１から第９の近視野光ヘッドの効果に加え、前記スライダーに光伝搬体を固定または形成することで、光伝搬体の位置を安定させることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を安定させることができる。
【００８４】
また、本発明に係る第１１の近視野光ヘッドによれば、第４から第９の近視野光ヘッドの効果に加え、厚さが薄い前記スライダーを用いても、光伝搬体の位置を安定させることができる。また、厚さが薄い前記スライダーを用いることによって、光伝搬体から微小構造までの距離を短くすることができるため、微小構造から発生する近視野光の強度を大きくすることができる。
【００８５】
また、本発明に係る第１２の近視野光ヘッドによれば、第および第６から第９の近視野光ヘッドの効果に加え、光伝搬体の光の入射端と光伝搬体に光を入射するための光学部品を固定する溝や突起との位置決め精度が良く、かつ、光伝搬体の光の出射端を微小構造に近づけることが可能であるため、微小構造から発生する近視野光の強度がさらに大きくなる。
【００８６】
また、本発明に係る第１３の近視野光ヘッドによれば、第１から第１２の近視野光ヘッドの効果に加え、光ファイバーの光の出射端をミラーにより近づけることができるため、微小構造における光ファイバーの出射端からの光のスポット径を小さくすることができる。したがって、微小構造から発生する近視野光の強度が大きくなる。
【００８７】
また、本発明に係る第１４の近視野光ヘッドによれば、第１から第１２の近視野光ヘッドの効果に加え、光ファイバーよりも薄くかつ軽量な薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの質量が小さくなる。そのため、近視野光ヘッドの位置決め精度や位置決め速度を向上させることが容易である。また、薄膜導波路を光伝搬体として用いることによって、近視野光ヘッドの薄型化が容易であり、装置構成がより小型になる。
【００８８】
また、本発明に係る第１から第７の近視野光ヘッドの製造方法によれば、本発明の近視野光ヘッドを容易にかつ大量に製造することが可能である。
また、本発明に係る第１５の近視野光ヘッドによれば、光伝搬体の出射端をスライダの任意の位置に設定できるため、スライダの構造によって変化する光学的条件に最適な位置に出射端を形成することができる。そのため、微小開口に入射する光の強度をより大きくすることが可能である。
【００８９】
また、本発明に係る第１６の近視野光ヘッドによれば、光伝搬体において光を伝搬するコア部を記録媒体側に偏在させることで、出射端と微小開口との距離を短くでき、発生する近視野光の強度の増大が可能となる。さらに、光伝搬体のコア部と記録媒体の距離も小さくなることから、ヘッドの構造自体において光伝搬体と記録媒体との物理的な干渉を回避できる。
【００９０】
また、本発明に係る第１７および第１８の近視野光ヘッドによれば、光伝搬体との接続の回避、安定した光伝搬体の形成が可能となり、微小開口で発生する近視野光の強度の増加および安定が可能となる。
さらに、構成要素の数が少なくなることから、組立工程における作業量の減少、組立精度の向上がはかれ、大量かつ安定的に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図２】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドのスライダー部及びミラー部を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドのミラー部の製造方法を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態１にかかわる近視野光ヘッドのスライダー部の製造方法を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態２にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図６】本発明の実施の形態３にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図７】本発明の実施の形態４にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図８】本発明の実施の形態６にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図９】本発明の実施の形態５にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１０】本発明の実施の形態７にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１１】本発明の実施の形態５にかかわる近視野光ヘッドのミラー部の製造方法の一部を示す図である。
【図１２】 本発明の実施の形態８にかかわる近視野光ヘッドのスライダ−部を示す斜視図である。
【図１３】本発明の実施の形態８にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１４】本発明の実施の形態９にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１５】近視野光ヘッドを用いた光記録再生装置を示す装置構成図である。
【図１６】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図１７】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドのスライダー部及びミラー部を示す斜視図である。
【図１８】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドのミラー部及び光導波路の製造方法を示す図である。
【図１９】本発明の実施の形態１０にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【図２０】本発明の実施の形態１１にかかわる近視野光ヘッドを示す構成図である。
【符号の説明】
１ 光
２ 光伝搬体と記録媒体との物理的干渉領域
１０００，２０００，３０００，４０００，５０００，６０００，７０００，８０００，９０００，１００００，１１０００ 近視野光ヘッド
１００１，２００１，３００１，４００１，５００１，６００１，７００１，８００１，９００１，１０００１ スライダー部
１００２，２００２，３００２，４００２，５００２，６００２，７００２，８００２，９００２，１０００２，１１００２ ミラー部
１８０３，２８０３，３８０３，４８０３，８８０３，９８０３，１０８０３ 光ファイバー
５９０３，６９０３，７９０３，１０９０３，１１９０３ 光導波路
１００４，２００４，３００４，４００４，５００４，６００４，７００４，８００４，９００４ 反射膜
１００５，２００５，３００５，４００５，５００５，６００５，７００５，８００５，９００５，１０００５ 穴
１００６，２００６，３００６，４００６，５００６，６００６，７００６，８００６，９００６，１０００６，１１００６ 微小開口
１００７，２００７，３００７，４００７，５００７，６００７，７００７，８００７，９００７，１０００７ Ｖ溝
１００８，２００８，３００８，４００８，５００８，６００８，７００８，８００８，９００８ 突起
１００１８ 段差
１００２８ 斜面
１００９，２００９，３００９，４００９，５００９，６００９，７００９，８００９，９００９，１０００９ 反射膜
１０１０，２０１０，３０１０，４０１０，５０１０，６０１０，７０１０，８０１０，９０１０，１００１０，１１０１０ ミラー
１０１１，２０１１，３０１１，４０１１，５０１１，６０１１，７０１１，８０１１，９０１１，１００１１，１１０１１ コア
１１０１２ 遮光膜
５０５０，６０５０ 溝
５０６０，６０６０ Ｖ溝
７０７０ 穴
８０８０ ミラー位置合わせしろ
１００ 基板
１０１ マスク
１０２ 反射膜
１０３ 基板
１０４ マスク
１０５ マスク
１０６ 反射膜
１６０ マスク
１６１ マスク
５０１ サスペンション
５０２ 半導体レーザ
５０３ レンズ
５０４ 記録媒体
５０５ 記録媒体用駆動モータ
５０６ 制御回路
５０７ 受光素子
５０８ サーボ駆動回路
５０９ サーボモータ
５１０ 集光レンズ系
６００ ブレード
７００ 光導波路もしくは光ファイバー
７０１ コア
２００００ 光記録再生装置
Claims (21)
- 負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、前記負荷加重と前記浮上力との均衡により記録媒体との間に隙間を作るスライダーと、
前記スライダーの前記記録媒体側に形成された微小構造と、
前記スライダーの前記記録媒体側と反対の面上に配置され、かつ、前記サスペンションアームと略平行に配置された光伝搬体と、
前記微小構造の略上方に配置された、前記光伝搬体から出射される光を微小構造に導くためのミラーとを備え
前記スライダーは、前記光伝搬体が配置される溝を備え、
前記溝は、前記微小構造の一端部から前記スライダーの端に向かって形成されていることを特徴とした近視野光ヘッド。 - 前記微小構造が、微小開口であることを特徴とする請求項１記載の近視野光ヘッド。
- 前記ミラーが前記スライダーの上方に配置された基板上に、前記基板と一体に配置されていること特徴とする請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 前記ミラーが前記光伝搬体に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 前記ミラーが凹形状となっており、前記光伝搬体から出射した光を集光することを特徴とする請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体の先端に光を集光するレンズ機能を有することを特徴とする請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体に光を入射するための光学部品を固定するための溝や突起が、前記基板に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体が、前記スライダーに固定または形成されたことを特徴とする請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体が前記基板上に、前記ミラーが形成された面と同じ側に固定または形成されたことを特徴とする請求項３に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体が、光入射部分は前記基板に固定され、光出射部分が前記スライダー上に固定されていることを特徴とする請求項３に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体が、先端部分が光軸に対して平行に研磨され、細くなるよう加工された光ファイバーである請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 前記光伝搬体が、薄膜導波路であることを特徴とする請求項１に記載の近視野光ヘッド。
- 負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、前記負荷加重と前記浮上力との均衡により記録媒体との間に隙間を作るスライダーと、前記スライダーの前記記録媒体側に形成された微小構造と、前記スライダーの前記記録媒体側と反対の面上に配置され、かつ、前記サスペンションアームと略平行に配置された光伝搬体とを形成するスライダー形成工程と、
前記微小構造の略上方に配置された基板において、前記光伝搬体から出射される光を微小構造に導くためのミラーを形成するミラー形成工程を含む近視野光ヘッドの製造方法において、
前記スライダー形成工程は、前記微小構造の一端部から前記スライダーの端に向かって形成される溝であり、且つ前記光伝搬体が配置される前記溝を形成する工程を含むことを特徴とする近視野光ヘッドの製造方法。 - 前記光伝搬体を構成する光ファイバーを前記基板に固定する工程を含むことを特徴とする請求項１３に記載の近視野光ヘッドの製造方法。
- 前記光伝搬体を構成する薄膜導波路を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１３に記載の近視野光ヘッドの製造方法。
- 光学部品の位置決めに用いられる溝または突起を前記基板に形成する工程を含むことを特徴とする請求項１３に記載の近視野光ヘッドの製造方法。
- 前記光ファイバーの先端部分を前記光ファイバーの光軸に対して平行に研磨し、前記光ファイバーの先端を細く加工する工程を含むことを特徴とする請求項１４に記載の近視野光ヘッドの製造方法。
- 前記光ファイバーの先端を斜めに加工し、斜めに加工した面に反射膜を前記ミラーとして形成する工程を含むことを特徴とする請求項１４に記載の近視野光ヘッドの製造方法。
- 前記光ファイバーからの出射光を前記微小構造に集光するように前記光ファイバーの先端をレンズ状に加工する工程を含むことを特徴とする請求項１４に記載の近視野光ヘッドの製造方法。
- 光を伝搬するコア部を有する光伝搬体と、
前記光伝搬体から出射される光を反射するミラーと、
前記ミラーが反射した光の進行方向に配置された微小構造と、
前記光伝搬体および前記微小構造、前記ミラーが一体となり、負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、前記負荷加重と前記浮上力との均衡により記録媒体と前記微小構造との間に隙間を作るスライダーとを有し、
前記コア部は、前記スライダーが前記記録媒体と向い合う対向面と、前記スライダーの前記対向面とは逆側の逆側面とのうち、前記対向面寄りに配置されており、
前記光伝搬体は、前記スライダーの一部を構成すると同時に前記サスペンションアームの少なくとも一部を構成することを特徴とする近視野光ヘッド。 - 光を伝搬するコア部を有する光伝搬体と、
前記光伝搬体から出射される光を反射するミラーと、
前記ミラーが反射した光の進行方向に配置された微小構造と、
前記光伝搬体および前記微小構造、前記ミラーが一体となり、負荷加重を与えるサスペンションアームにより支持されると共に記録媒体との相対運動により浮上力を得、前記負荷加重と前記浮上力との均衡により記録媒体と前記微小構造との間に隙間を作るスライダーとを有し、
前記コア部は、前記スライダーが前記記録媒体と向い合う対向面と、前記スライダーの前記対向面とは逆側の逆側面とのうち、前記対向面寄りに配置されており、
前記ミラーが構成されたもしくは搭載された基板において、前記ミラーが前記スライダーの一部を構成すると同時に、前記基板が前記サスペンションアームの少なくとも一部を構成することを特徴とする近視野光ヘッド。
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| US7032427B2 (en) * | 2000-06-09 | 2006-04-25 | Seiko Instruments Inc. | Method for forming optical aperture, near-field optical head, method for fabricating near-field optical head, and information recording/reading apparatus |
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| JP3817498B2 (ja) * | 2002-06-14 | 2006-09-06 | キヤノン株式会社 | 近接場光用の探針を有するプローブの製造方法 |
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| CN1942222B (zh) * | 2004-03-05 | 2011-08-31 | 麦克罗斯塔克公司 | 用于形成微阀的选择性接合 |
| JP3765314B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2006-04-12 | セイコーエプソン株式会社 | マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器 |
| JP2005346836A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Sony Corp | 光ピックアップおよび光学部品 |
| KR101170287B1 (ko) * | 2004-06-21 | 2012-07-31 | 카프레스 에이/에스 | 프로브의 정렬을 제공하기 위한 장치 및 방법과, 테스트 샘플의 특정 위치 상의 전기적 특성을 테스트하기 위한 테스트 장치 |
| JP4515244B2 (ja) * | 2004-12-20 | 2010-07-28 | セイコーインスツル株式会社 | 近視野光ヘッド |
| US7596072B2 (en) * | 2004-12-22 | 2009-09-29 | Seagate Technology Llc | Optical recording using a waveguide structure and a phase change medium |
| US8339905B2 (en) * | 2005-04-13 | 2012-12-25 | Seagate Technology Llc | Alignment features for heat assisted magnetic recording transducers |
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| WO2007105392A1 (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Konica Minolta Opto, Inc. | 記録ヘッド及び記録装置 |
| JP4745100B2 (ja) | 2006-03-28 | 2011-08-10 | 東芝ストレージデバイス株式会社 | 磁気ディスク装置 |
| US7778503B2 (en) * | 2006-03-31 | 2010-08-17 | Nokia Corporation | Electronic device having optical data connection of movable housing parts |
| JP4093286B2 (ja) * | 2006-08-23 | 2008-06-04 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子、光学素子の製造方法及び光ヘッド |
| WO2008023552A1 (fr) * | 2006-08-23 | 2008-02-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | Élément optique et tête optique |
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| WO2009054229A1 (ja) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学素子の製造方法 |
| US7986592B2 (en) * | 2008-03-10 | 2011-07-26 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Components and assembly procedure for thermal assisted recording |
| US8662468B2 (en) * | 2008-08-09 | 2014-03-04 | Dunan Microstaq, Inc. | Microvalve device |
| US8113482B2 (en) | 2008-08-12 | 2012-02-14 | DunAn Microstaq | Microvalve device with improved fluid routing |
| WO2010065804A2 (en) | 2008-12-06 | 2010-06-10 | Microstaq, Inc. | Fluid flow control assembly |
| US8092704B2 (en) | 2008-12-30 | 2012-01-10 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System, method and apparatus for fabricating a c-aperture or E-antenna plasmonic near field source for thermal assisted recording applications |
| US8169881B2 (en) | 2008-12-31 | 2012-05-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Thermally assisted recording head having recessed waveguide with near field transducer and methods of making same |
| WO2010117874A2 (en) | 2009-04-05 | 2010-10-14 | Microstaq, Inc. | Method and structure for optimizing heat exchanger performance |
| WO2011022267A2 (en) | 2009-08-17 | 2011-02-24 | Microstaq, Inc. | Micromachined device and control method |
| US8956884B2 (en) | 2010-01-28 | 2015-02-17 | Dunan Microstaq, Inc. | Process for reconditioning semiconductor surface to facilitate bonding |
| WO2011094300A2 (en) | 2010-01-28 | 2011-08-04 | Microstaq, Inc. | Process and structure for high temperature selective fusion bonding |
| US8996141B1 (en) | 2010-08-26 | 2015-03-31 | Dunan Microstaq, Inc. | Adaptive predictive functional controller |
| US8925793B2 (en) | 2012-01-05 | 2015-01-06 | Dunan Microstaq, Inc. | Method for making a solder joint |
| US9140613B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-09-22 | Zhejiang Dunan Hetian Metal Co., Ltd. | Superheat sensor |
| US20140367816A1 (en) * | 2013-06-12 | 2014-12-18 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte.Ltd. | Photodetector device having light-collecting optical microstructure |
| US9188375B2 (en) | 2013-12-04 | 2015-11-17 | Zhejiang Dunan Hetian Metal Co., Ltd. | Control element and check valve assembly |
| US10067159B2 (en) * | 2014-02-19 | 2018-09-04 | Bruker Nano, Inc. | Field-mapping and focal-spot tracking for S-SNOM |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05234117A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-09-10 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 光ヘッド装置及び光ディスク記憶システム |
| US5351229A (en) * | 1991-12-24 | 1994-09-27 | International Business Machines Corporation | Tribo-attractive contact slider for an optical read/write system |
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| JPH08110418A (ja) * | 1994-10-11 | 1996-04-30 | Hitachi Ltd | 光ファイバー固定構造及び方法、並びに、かかる光ファイバー固定構造を備えたモジュール基板の製造方法 |
| KR100230242B1 (ko) * | 1994-12-26 | 1999-11-15 | 윤종용 | 고밀도 광기록방법 및 그 장치 |
| JP3014035B2 (ja) * | 1995-12-06 | 2000-02-28 | 日本電気株式会社 | 光結合装置用基板、光結合装置およびそれらの製造方法 |
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| JPH10293134A (ja) * | 1997-02-19 | 1998-11-04 | Canon Inc | 光検出または照射用のプローブ、及び該プローブを備えた近視野光学顕微鏡・記録再生装置・露光装置、並びに該プローブの製造方法 |
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| JP2000113485A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-21 | Minolta Co Ltd | 光ヘッド並びにそれを用いた光情報記録装置及び光情報再生装置 |
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