JP4745100B2 - 磁気ディスク装置 - Google Patents

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Description

この発明は、光が照射された記録媒体面に対して電流による磁場を発生させて磁気記録を行う磁気ディスク装置に関する。
近年、高密度磁気記録が可能な技術として熱アシスト磁気記録方式が注目されている。この熱アシスト磁気記録方式は、熱揺らぎに強い高保持力を有する磁気記録媒体に対して磁気記録を行う技術である。具体的には、熱アシスト磁気記録方式は、磁気記録媒体の表面に光を集光して局面的に磁気記録媒体の温度を上げ、温度が上がった部位に磁場を照射して磁気記憶を行う。なお、このような熱アシスト磁気記録方式では、光を照射すると、記録媒体の温度が上昇するが、熱揺らぎを防止するためには、このときにすぐに磁場を照射することが望ましい。
例えば、特許文献１では、熱アシスト磁気記録方式の技術として、電流を狭窄する狭窄部を有する金属板に電気を流し、磁場を発生させて磁気記録を行う磁場発生素子と、その狭窄部に下からレーザ光を照射して、金属の上側に生じる熱発生部とから形成される情報記録ヘッドが開示されている。
特開２００４−３０３２９９号公報
しかしながら、上記の従来技術では、金属狭窄体の特に狭くするところの作製が微細で難しいことや、再生するために、再生磁気ヘッドを用いるためには、別途再生ヘッドをきわめて高精度に取り付けるという問題があり、簡略に製造（例えば、ウェーハプロセスによる製造）することができないという問題点があった。
そこで、この発明は、上述した従来技術の課題を解決するためになされたものであり、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するため、請求項１に係る発明は、光が照射された記録媒体面に対して電流による磁場を発生させて磁気記録を行う磁気ディスク装置であって、前記光が透過する光学膜と前記電流が流される金属膜とが積層されて形成されたヘッド部と、前記光学膜を透過して前記記録媒体面に対して光が照射されるように当該光を照射する光照射部と、前記金属膜に対して電流を出力する電流出力部と、を備えることを特徴とする。
また、請求項２に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、前記光が透過する前記光学膜が、前記記録媒体面の鉛直方向に対して斜め方向に光を集めるように出射位置の上流側から下流側において非対称構造で形成されるとともに、当該出射位置の下流側に近接して前記金属膜が形成され、前記電流出力部は、前記光の出射位置の下流側に形成された金属膜に対してのみ電流を出力することを特徴とする。
また、請求項３に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、前記光が透過する前記光学膜および金属膜が、前記記録媒体面の鉛直方向に対して平行な方向に光を集めるように出射位置の上流側から下流側において対称構造で形成され、前記電流出力部は、前記光が透過して出射する出射位置に近接して形成された金属膜に対してのみ電流を出力することを特徴とする。
また、請求項４に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、複数の金属膜が前記光の出射位置の上流側または下流側における前記記録媒体面の幅方向の一部あるいは複数箇所に位置する形で前記光学膜に形成され、前記電流出力部は、複数の金属膜に対して電流を出力することを特徴とする。
また、請求項５に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、複数の金属膜が前記光の出射位置の上流側または下流側における前記記録媒体面の幅方向の一部あるいは複数箇所に位置する形で前記光学膜に形成され、前記電流出力部は、複数の金属膜に対して電流を出力することを特徴とする。
また、請求項６に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、前記金属膜が、前記光が透過して出射する前記光学膜近傍では前記記録媒体面の鉛直方向への高さが低く、前記光学膜から前記記録媒体面の幅方向に離れるに従って高さが高くなるように形成されることを特徴とする。
また、請求項７に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、スライダ側面に対して、再生ヘッド、前記光学膜の順に形成されており、当該光学膜において光が透過する光路の層より、前記金属膜は、スライダ側面より遠くなるように形成されることを特徴とする。
また、請求項８に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッドは、前記金属膜の端面が、前記記録媒体に対向するヘッド素子面に露出せず、端面が素子面に露出している前記光学膜よりも前記記録媒体面からより遠い位置に積層されて形成されることを特徴とする。
また、請求項９に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、前記光学膜の光の入射口、出射口以外の周囲をアルミで被覆されるように形成されることを特徴とする。
また、請求項１０に係る発明は、上記の発明において、前記ヘッド部は、前記光学膜を形成するパターンと同じ形状のマスクで、前記金属膜をエッチングすることで形成されることを特徴とする。
請求項１の発明によれば、光が透過する光学膜と電流が流される金属膜とが積層されて形成されたヘッド部と、光学膜を透過して記録媒体面に対して光が照射されるようにその光を照射する光照射部と、金属膜に対して電流を出力するので、ウェーハプロセスにより製造することができる結果、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することが可能である。
また、請求項２の発明によれば、光を照射する位置と磁場を照射する位置とを近づけて熱揺らぎを防止することが可能である。
また、請求項３の発明によれば、下流側のみに電流を流して消費電力を抑制することが可能である。
また、請求項４の発明によれば、消費電力を抑制することが可能である。
また、請求項５の発明によれば、電流の制御を簡易にすることが可能である。
また、請求項６の発明によれば、金属膜の幅が狭い箇所は、磁場を強くすることができ、また金属膜の幅が広い箇所は、電流を通しやすくすることが可能である。
また、請求項７の発明によれば、ヘッド部は、スライダ側面に対して、再生ヘッド、光学膜の順に形成されており、その光学膜において光が透過する光路の層より、金属膜は、スライダ側面より遠くなるように形成されるので、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することが可能である。
また、請求項８の発明によれば、金属膜が熱により悪影響を受けることを防止することが可能である。
また、請求項９の発明によれば、パターニングを簡易にすることが可能である。
また、請求項１０の発明によれば、光と磁気の記録用ヘッドを同時に作製することが可能である。
以下に添付図面を参照して、この発明に係る磁気ディスク装置の実施例を詳細に説明する。
以下の実施例では、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要および特徴、磁気ディスク装置におけるヘッド部の構成および磁気ディスク装置におけるヘッド部の製造処理の流れを順に説明し、最後に実施例１による効果を説明する。
［実施例１に係る磁気ディスク装置の概要および特徴］
まず最初に、図１〜図３を用いて、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要および特徴を説明する。図１は、実施例１に係る磁気ディスク装置の全体の概観を示す図であり、図２は、実施例１に係る磁気ディスク装置の概要および特徴を説明するための図であり、図３は、磁気ディスク装置における光の伝搬を説明するための図である。
実施例１の磁気ディスク装置１０では、光が照射された記録媒体面に対して電流による磁場を発生させて磁気記録を行うことを概要とする。そして、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することが可能である点に主たる特徴がある。
まず、実施例１の磁気ディスク装置１０の全体の概観を説明する。図１に示すように、磁気ディスク装置１０は、スライダ１１およびスイングアーム１２を備え、スライダ１１をつけたスイングアーム１２が回転し、記録、再生をしている。なお、このスイングアーム１２は、軽量、小型であり、高速シーク、記録が可能な利点を持っている。
次に、実施例１の磁気ディスク装置１の主たる特徴について具体的に説明すると、実施例１に係る磁気ディスク装置１０が備えるスライダ１１の先端部におけるヘッド部２０は、図２に示すように、光が透過する光ヘッド２１、電流が流される金属膜２２および再生ヘッド２３が積層されて形成されている。つまり、ウェーハプロセスにより簡略に製造することができる。
具体的には、磁気ディスク装置１０は、スライダ１１の側面に対して、再生ヘッド２３、光ヘッド２１の順に形成されており、光学ヘッド２１において光が透過する光路の層より、金属膜２２は、スライダ１１の側面より遠くなるように形成される。
そして、この光ヘッド２１は、一層以上の光学膜で形成されており、図３に示すように、光レーザ発生部３０から照射したレーザ光を、反射鏡３１とグレーティングカプラ３１ａを介して受け付けた光を光導波路３１ｂの中を伝播させて、最終的に光ヘッド部に達し、集光するために誘電体膜を層状にすることで高効率に光を閉じ込め伝播する。また、金属膜２２は、光ヘッド２１の近傍にあり、複数の金属膜で形成され、光が照射された記録媒体面に対して電流を流して磁場を発生させ、磁気記録を行う。
このように、実施例１に係る磁気ディスク装置１０のヘッド部２０は、ウェーハプロセスにより製造することができる結果、上記した主たる特徴のごとく、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することが可能である。
［ヘッド部の構成］
次に、図４〜７を用いて、図２に示した磁気ディスク装置１０のヘッド部２０の構成を説明する。図４は、非対称構造のヘッド部を説明するための図であり、図５は、伝搬体を横から見た図であり、図６は、光学ヘッドの層構造を表す屈折率分布グラフであり、図７は、金属膜を説明するための図である。
このヘッド部２０は、光学ヘッド２１および金属膜２２を備え、光が透過して出射する出射位置に対して非対称に光ヘッド２１が形成されるとともに、その出射位置の下流側に近接して金属膜２２が形成されている。なお、上述した再生ヘッド２３は、既成のもの（ＭＲ素子）を用いており、これをスライダ用基板に成膜し、後述する光学素子を成膜、そして最後に金属膜を成膜してヘッド部２０を製造する。
かかる光学ヘッド２１は、図４に示すように、光導波路に接続されて光が導入されＺｎＳからなるコア１３０と、コア１３０に光を閉じ込めＭｅＦ２からなるクラッド１４０と、コア１３０に導入された光を伝搬させ集光して先端から照射する多層の誘電体材料で形成された先細り形状の伝搬体１１０と、伝搬体１１０を覆って伝搬体内に光を閉じ込めるＡｌからなる被覆体１２０とを有している。本実施例では、この被覆体１２０を、電流を流す金属膜にも用いる。
この光学ヘッド２１の先端は、伝搬体１１０による集光によって電磁場強度が最も増大する位置に設けられている。また、伝搬体１１０とコア１３０とは、光学的に接続している。コア１３０の屈折率と伝搬体１１０の屈性率とは異なっており、コア１３０側に突き出した底縁によってコア１３０からの光が中心側に屈折して伝搬体１１０に入射することによって伝搬体１１０内での集光効率が向上している。なお、図２では、伝搬体１１０と、コアの接続面は直線であり、この直線面でも使用できることはもちろんであるが、この例では、コア１３０側に突き出した底縁の形状で説明する。
このうち、伝搬体１１０は、図５に示すように、誘電体からなる層構造で構成されている。この層構造は、光が集まる第一構造部１５０と、伝搬光をその第一構造部１５０へと光を偏らせる第二構造部１６０とを備え、多層の膜によって構成されている。かかる第一構造部１５０は、数１０ｎｍという波長よりはるかに小さいビームサイズの光を高効率に得るために微細な光を出射する。また、第二構造部は、その第一構造部１５０に光を集める。光は多層膜の全体（つまり、第一構造部１５０と第二構造部１６０）に照射されるが、第二構造部１６０は、その光を第一構造部１５０に集める機能があり、第一構造部１５０では、光が集められて、光が照射できる。
被覆体１２０は、伝搬体１１０内部に伝搬光を反射させることで光を集光させると同時に先端以外からの伝搬光染み出しを防止している。この被覆体１２０の材料として金属が採用されることによって伝搬体１１０の先細り部分の側面における光の入射角が小さくても十分な反射が得られるので、先細りの頂点が大きくても十分な集光能力が得られることとなる。そのように頂角が大きいと、伝搬体１１０内部での光の伝搬距離が短くて内部損失が小さく、伝搬体１１０の伝搬効率が高い。金属の一例としてＡｌ（ｎ＝０．４９、ｋ＝４．８６）が用いられる。
ここで、図６を用いて、光ヘッド２１の層構造を表す屈折率分布について説明する。光ヘッド２１の第一構造部１５０は、厚さが３０ｎｍのＳｉＯ2（ｎ＝１．４８）からなる第一層と、厚さが２０ｎｍのＺｎＳ（ｎ＝２．４３７）からなって、第一層を挟んだ一対の第二層と、厚さが２０ｎｍのＳｉ（ｎ＝４．３８０，ｋ＝２．０２）とからなる。それら第一層および第二層を更に挟んだ一対の第三層とで構成された第一構造部が示されている。ここでＳｉは、比誘電率が高く不透明な誘電体材料であり、ＳｉＯ２は、透明な誘電体材料であり、ＺｎＳは、ＳｉＯ２よりも屈折率が大きい透明な誘電体材料である。
また、第二構造部は、厚さが１００ｎｍのＳｉＯ2からなる低屈折率層と、３０ｎｍのＳｉからなる高屈折率層と、厚さが１４０ｎｍのＳｉＯ2からなる低屈折率層と、厚さが４２ｎｍのＳｉからなる高屈折率層とで構成されている。第二構造部は、このように、屈折率が１．０以上異なる低屈折率層と高屈折率層との組が繰り返した構造を有し、各組において低屈折率層と高屈折率層との層厚比は一定であり、各組における総層厚は互いに相違している。このような第二構造部１６０における層構造によって、伝搬光は第一構造部１５０の方へと偏って行って最終的には第一構造部１５０に集光されることとなる。
また、第一構造部がある側の端の金属板を光照射がされた後の下流側に置くことで、この金属板に電流を流し、ビオサバールの法則により媒体上に磁場が発生し、この磁場と上述した光による熱との記録が可能になる。
この金属膜は、被覆体１２０であり、アルミニウムである。ここに電流を流すことで、周囲に磁場が発生する。ここで、金属膜に電流を流しても、光学特性には何の影響もない。この電流としては、たとえば１００ｍＡを流せば、この金属膜（厚み１００ｎｍ,高さ１μｍ）より、１５ｎｍ離れた媒体面では、ビオサバールの法則により７５００ｅという強い磁場が生じる。この強い磁場および、同じ位置での２ｍＷもの強度を持つ７０〜８０ｎｍの微細な光スポットサイズを持つ光が、媒体において光の吸収で発生する微細な熱分布を用いることで、光磁気記録として知られているキュリー点記録が可能となり、微細な磁気記録が可能となる。また、同じ基板に作られている再生ヘッド（ＭＲヘッド、ＴＭＲヘッドなど）により、信号の読み取りも可能になる。ここで、端の金属膜を利用する場合には、これをマスクとして、多層膜を図４に示すような所定のパターンにするために、ドライエッチングできる利点も持っている。
ここで、図４の説明に戻ると、金属膜２２は、光出射する位置近傍では幅が狭く、そこ以外では、幅が広い構造である。これは、幅を狭くすることで磁場の強度が強く出来るからであり、光が出射する場所で特に磁場を強くするためである。光ヘッド２１の近傍にあり、複数の金属膜で形成され、電流が流され磁場を発生する。具体的には、金属膜２２は、図７（ヘッド部を媒体側から見た図）に示すように、スライダ化した場合の記録媒体に光が照射された後の下流にくるべき側に電気が流され、発生する磁場を記録用磁場として利用する。なお、伝搬体の内部には、金属膜が複数ある場合もあるが、このうち、光が照射する下流側の最も近い金属膜、あるいは、これを含む複数の金属に電流を流して発生する磁場を用いてもよい。
［ヘッド部の製造処理］
次に、図８を用いて、実施例１に係る磁気ディスク装置１０におけるヘッド部２０の製造処理を説明する。図８は、磁気ディスク装置１０におけるヘッド部２０の製造処理を説明するための図である。ヘッド部２０は、光ヘッド２１を形成するパターンと同じ形状で、金属膜２２をエッチングマスクすることで形成されるので、光と磁気の記録用ヘッドを同時に作製する。
ここで、光学ヘッド２１の製造処理の一例について図８を用いて説明する。なお、図８では、成膜する基板すなわち磁気ディスク用スライダは、紙面の手前側にあり、成膜は紙面の奥方向に順番に成膜していくこととしている、すなわち、基板側から見ているような図になっている。ここで、基板は図示しない。まず最初に、基板表面全体の伝搬体１１０と同じ層構造を成膜し、最後に、光の漏れを防止し、光を閉じ込めるアルミの層を成膜する。次に、リソグラフィ露光工程により、伝搬体１１０のパターンを形成するために、さらにアルミの上面にレジストを塗布し、電子ビームなどでパターンを作成して、まず、レジスト真下のアルミの層をドライエッチングする。このエッチングされた所望の伝搬体の形状を有するアルミをマスクとして、多層に成膜した伝搬体１１０を、所望の形状にドライエッチングすることで、伝搬体１１０が最終的に形成できる（図８の（１）参照）。そして、リフトオフ法などを用いて伝搬体１１０に接続するコア１３０以外をレジスト等で隠し、コアを成膜する（図８の（１）参照）。次に、伝搬体１１０の先細り部分の、特に側面などからの光の漏れを防止するための、アルミを被膜するために、被膜するアルミ以外の部分を、同様にリフトオフの要領で、レジストで隠して、アルミを成膜し、被覆ができて被覆体１２０を形成する（図８の（２）参照）。そして、伝搬体１１０は除いて、コア１３０を被覆するように、同様なリフトオフ法で、クラッド１４０を成膜する（図８の（３）参照）。こうして、伝搬体１１０の、基板から見て一番外側は、伝搬体形状を有するアルミになる。次に、このアルミ部に電流を流すための、同様にアルミでできた電極部を追加で作成するために、最後に、伝搬体形状を有するアルミの上に、アルミを部分的に成膜することで、アルミ同士は電気的につながっており、図４のヘッドが作成できる（図８の（３）参照）。なお、ここで、電極部として追加するアルミは、伝搬体形状のアルミで磁場を発生させるので、電極部の成膜の位置の誤差の許容度は高いという利点を持っている。最後に、ラッピングによって伝搬体１１０の先端面を高精度に研磨加工し、照射口を作成する（図８の（４）参照）。
[実施例１の効果]
上述してきたように、実施例１によれば、光が透過する光ヘッド２１と電流が流される金属膜２２とが積層されて形成されたヘッド部２０と、光ヘッド２１を透過して記録媒体面に対して光が照射されるようにその光を照射する光レーザ発生部３０と、金属膜に対して電流を流して磁場を発生する部とを備えるので、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、光が透過して出射する出射位置に対して非対称に光ヘッド２１が形成されるとともに、その出射位置の下流側に近接して金属膜２２が形成され、電流出力部は、光の出射位置の下流側に近接して形成された金属膜２２に対して電流を出力するので、光を照射する位置と磁場を照射する位置とを近づけて記録できるので、光と磁場の照射時間の差による熱揺らぎを防止することが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、複数の金属膜２２が光ヘッド２１とともに積層されて形成され、電流出力部は、光が透過して出射する出射位置に近接して形成された金属膜に対してのみ電流が流れるので、消費電力を抑制することが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、光が透過して出射する出射位置の近傍では、記録媒体に垂直方向で薄膜であってその出射位置から離れるに従って厚膜となる金属膜２２が、光ヘッド２１とともに積層されて形成されるので、金属膜２２の幅が狭い箇所は、磁場を強くすることができ、また金属膜２２の幅が広い箇所は、電流を通しやすくすることが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、スライダ側面に対して、再生ヘッド２３、光ヘッド２１の順に形成されており、その光ヘッド２１において光が透過する光路の層より、金属膜２２は、スライダ側面より遠くなるように形成されるので、簡素な構造であり簡略な製造法で熱アシスト磁気記録ヘッドを作成することが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、光ヘッド２１および金属膜２２の他に、再生ヘッド２３が配置されて形成されるので、磁気記録とともに再生することが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、光ヘッド２１がアルミで形成されるので、光ヘッドと磁気記録用のパターニングを簡易にすることが可能である。
また、実施例１によれば、ヘッド部２０は、光学膜を形成するパターンと同じ形状で、金属膜をエッチングマスクすることで形成されるので、光と磁気の記録用ヘッドを同時に作製することが可能である。
さて、これまで本発明の実施例について説明したが、本発明は上述した実施例以外にも、種々の異なる形態にて実施されてよいものである。そこで、以下では実施例２として本発明に含まれる他の実施例を説明する。
（１）ヨーク
また、本発明では、図９に示すように、より強い磁場を発生させるためにコイル７１を巻いたヨーク８１を用いるようにしてもよい。ヘッド部は、磁場を発生されるヨーク部分と光を導く光導波路部分とが近接場光を発生させる部分でのみ接するように光学膜および金属膜を形成する。この場合、ヨーク材料は、硬磁性の高いＮｉＦｅ、ＦｅＣｏなどのＮｉ系、Ｃｏ系、Ｆｅ系の材料を使用することができる。
ここで、図１０を用いて、ヨーク７１を用いた場合のヘッド部の製造方法を説明する。まず、硬磁性の高いＮｉＦｅ、ＦｅＣｏなど材料でヨークの一部をパターニングで形成する（図１０の（１）参照）。次に、多層膜からなる光学薄膜を順次形成し（図１０の（２）参照）、この上に、もう一つのヨーク部形成し、パターニングする（図１０の（３）参照）。そして、最後にヨークにコイルを形成する（図１０の（３）参照）。このとき、ヨークパターンを多層膜光学膜のパターンと同じにすることで、磁気記憶と光記録の位置がずれないという利点が生じる。なお、コイルは、熱磁気記録では大きな磁気記録のような強い磁界は必要ないので、数巻きでよい。また、ヨークの材料はＣｕ，Ａｕ，Ａｌなどでもよい。なお、このコイルの作成は、磁気ディスクで製造されているコイルの作成法と同様の手法で作成できる。
このように、ヘッド部は、磁場を発生されるヨーク部分と光を導く光導波路部分とが近接場光を発生させる部分でのみ接するように光学膜および金属膜を形成するので、より強い磁場を発生することが可能であり、また、光導波路部分の光量損失を防止することが可能である。
（２）対称構造
また、上記の実施例１では、光が透過して出射する出射位置に対して非対称に光ヘッド
が形成される場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、光が透過して出射する出射位置に対して対称に光ヘッドおよび金属膜が形成されようにしてもよい。
具体的には、図１１に示すように、ヘッド部は、光が透過して出射する出射位置に対して対称に光学膜および金属膜が形成され、電流出力部は、光の出射位置の下流側に形成された金属膜に対してのみ電流を出力する。例えば、光ヘッドは、微細な光を出射する第一構造部１１１と、その第一構造部１１１に光を集めるために両側に第二構造部１１２を置いた構造からなり、第二構造部に光を通さない多層膜からなる周期数が少数の波長以下の周期の回折格子を配置して中央部に光が集光するようにする。
このように、ヘッド部は、光が透過して出射する出射位置に対して対称に光学膜および金属膜が形成され、電流出力部は、光の出射位置の下流側に形成された金属膜に対してのみ電流を出力すればよいので、下流側のみに電流を流して消費電力を抑制することが可能である。
（３）電流
また、上記の実施例１では、記録媒体への光照射後の下流に来るべき側の金属膜のみに電流を流す場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、複数の金属膜に電流を流してもよい。また、図１２は、光導波路を、基板側にはクラッドをつけて、反対側はクラッドなしという非対称光導波路を用いた場合の金属膜の様子である。非対称光導波路を用いた場合は、作成工程がより簡素化できる利点がある。
このように、電流出力部は、複数の金属膜に対して電流を出力するので、電流の制御を簡易にすることが可能である。
（４）レーザ光
本発明では、磁気記録装置における光レーザ発生部は、記録媒体面の温度に応じて、光のパワーを制御してもよい。つまり、温度が高い場合にはレーザパワーを低下するように制御して、消費電力を抑制するようにする。
ここで、上記のような制御をするため磁気記録装置における回路について説明する。図１３は、磁気記録装置における回路の構成を示すブロック図である。磁気記録装置は、光を照射するＬＤ光照射部１３１がＬＤ変調回路１３１ａおよび温度検知素子１３１ｂを備える。温度検知素子１３１ｂが温度が高いことを検知した場合には、ＬＤ変調回路１３１ａは、レーザパワーを低下させ、温度補正付きレーザパワー調整を行う。
なお、記録、再生ヘッド部は、図１３に示すように、再生ヘッド１３２ａ、金属膜１３２ｂ、データ変調回路１３２ｃ、磁気用電流変調回路１３２ｄおよび記録データ１３２ｅを備え、再生ヘッドから読み取った情報をデータ復調回路１３２ｃに転送し、記録データ１３２ｅを磁気用電流変調回路１３２ｄ受け取り、そお記録データに基づいて、金属膜１３２ｄに電流を流す。
このように、光レーザ発生部は、記録媒体面の温度に応じて、光のパワーを制御するので、消費電力を抑制することが可能である。
（５）光照射
本発明では、磁気記録装置はオンオフ変調によって光を照射するよう制御するようにしてもよい。具体的には、磁気記録装置は、熱を加えるためのレーザ光源は少なくとも１００ＭＨｚ以上のＯｎ／Ｏｆｆの変調を行う。
このように、オンオフ変調によって光を照射するので、消費電力を抑制することが可能である。
（６）金属膜の位置
本発明では、図１４に示すように、金属膜を記録媒体側より遠ざけるようにしてもよい。具体的には、金属膜の底面は、形成された光学薄膜の出射面より、媒体に対して、より遠い位置に形成する。
このように、ヘッドは、光学膜の底面よりも金属膜の底面が記録媒体面に対してより遠い位置に積層されて形成されるので、金属膜が熱により悪影響を受けることを防止することが可能である。
（７）金属膜の形状
また、上記の実施例１では、金属膜と光ヘッドが密接している場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、図１５に示すように、金属膜と光学ヘッドが多少分離するようにしてもよいし、また、金属膜で全面を覆わないようにしてもよい。
（付記１）光が照射された記録媒体面に対して電流による磁場を発生させて磁気記録を行う磁気ディスク装置であって、
前記光が透過する光学膜と前記電流が流される金属膜とが積層されて形成されたヘッド部と、
前記光学膜を透過して前記記録媒体面に対して光が照射されるように当該光を照射する光照射部と、
前記金属膜に対して電流を出力する電流出力部と、
を備えることを特徴とする磁気ディスク装置。
（付記２）前記ヘッド部は、前記光が透過して出射する出射位置に対して非対称に前記光学膜が形成されるとともに、当該出射位置の下流側に近接して前記金属膜が形成され、
前記電流出力部は、前記光の出射位置の下流側に近接して形成された金属膜に対して電流を出力することを特徴とする付記１に記載の磁気ディスク装置。
（付記３）前記ヘッド部は、前記光が透過して出射する出射位置に対して対称に前記光学膜および金属膜が形成され、
前記電流出力部は、前記光の出射位置の下流側に形成された金属膜に対してのみ電流を出力することを特徴とする付記１に記載の磁気ディスク装置。
（付記４）前記ヘッド部は、複数の金属膜が前記光学膜とともに積層されて形成され、
前記電流出力部は、前記光が透過して出射する出射位置に近接して形成された金属膜に対してのみ電流を出力することを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記５）前記ヘッド部は、複数の金属膜が前記光学膜とともに積層されて形成され、
前記電流出力部は、複数の金属膜に対して電流を出力することを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記６）前記ヘッド部は、前記光が透過して出射する出射位置の近傍では薄膜であって当該出射位置から離れるに従って厚膜となる金属膜が、前記光学膜とともに積層されて形成されることを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記７）前記ヘッド部は、スライダ側面に対して、再生ヘッド、前記光学膜の順に形成されており、当該光学膜において光が透過する光路の層より、前記金属膜は、スライダ側面より遠くなるように形成されることを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記８）前記ヘッド部は、前記光学膜および前記金属膜の他に、再生ヘッドが配置されて形成されることを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記９）前記ヘッドは、前記光学膜の底面よりも前記金属膜の底面が前記記録媒体面に対してより遠い位置に積層されて形成されることを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記１０）前記ヘッド部は、前記光学膜がアルミで形成されることを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記１１）前記ヘッド部は、前記光学膜を形成するパターンと同じ形状で、前記金属膜をエッチングマスクすることで形成されることを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記１２）前記ヘッド部は、磁場を発生されるヨーク部分と光を導く光導波路部分とが近接場光を発生させる部分でのみ接するように前記光学膜および金属膜を形成することを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記１３）前記光照射部は、前記記録媒体面の温度に応じて、前記光のパワーを制御することを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
（付記１４）前記光照射部は、オンオフ変調によって前記光を照射することを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
以上のように、本発明に係る磁気ディスク装置は、光が照射された記録媒体面に対して電流による磁場を発生させて磁気記録を行う場合に有用であり、特に、熱アシスト磁気記録方式に適する。
実施例１に係る磁気ディスク装置の全体の概観を示す図である。 実施例１に係る磁気ディスク装置の概要および特徴を説明するための図である。 磁気ディスク装置における光の伝搬を説明するための図である。 非対称構造のヘッド部を説明するための図である。 伝搬体を横から見た図である。 光学ヘッドの層構造を表す屈折率分布グラフである。 金属膜を説明するための図である。 磁気ディスク装置１０におけるヘッド部２０の製造処理を説明するための図である。 ヨークを用いたヘッド部を説明するための図である。 磁気ディスク装置１０におけるヘッド部２０の製造処理を説明するための図である。 対称構造のヘッド部を説明するための図である。 金属膜に流す電流を説明するための図である。 回路構成を説明するための図である。 金属膜の位置を説明するための図である。 金属膜の形状の例を説明するための図である。
符号の説明
１０ 磁気ディスク装置
１１ スライダ
１２ スイングアーム
２０ ヘッド部
２１ 光ヘッド
２２ 金属膜
２３ 再生ヘッド
３０ 光レーザ発生部
３１ 反射鏡
１１０ 伝搬体
１２０ 被覆体
１３０ コア
１４０ クラッド
１５０ 第一構造部
１６０ 第二構造部

Claims (10)

  1. 光が照射された記録媒体面に対して電流による磁場を発生させて磁気記録を行う磁気ディスク装置であって、
    前記光が透過する光学膜と前記電流が流される金属膜とが積層されて形成されたヘッド部と、
    前記光学膜を透過して前記記録媒体面に対して光が照射されるように当該光を照射する光照射部と、
    前記金属膜に対して電流を出力する電流出力部と、
    を備えることを特徴とする磁気ディスク装置。
  2. 前記ヘッド部は、前記光が透過する前記光学膜が、前記記録媒体面の鉛直方向に対して斜め方向に光を集めるように出射位置の上流側から下流側において非対称構造で形成されるとともに、当該出射位置の下流側に近接して前記金属膜が形成され、
    前記電流出力部は、前記光の出射位置の下流側に近接して形成された金属膜に対して電流を出力することを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置。
  3. 前記ヘッド部は、前記光が透過する前記光学膜および金属膜が、前記記録媒体面の鉛直方向に対して平行な方向に光を集めるように出射位置の上流側から下流側において対称構造で形成され、
    前記電流出力部は、前記光の出射位置の下流側に形成された金属膜に対してのみ電流を出力することを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置。
  4. 前記ヘッド部は、複数の金属膜が前記光の出射位置の上流側または下流側における前記記録媒体面の幅方向の一部あるいは複数箇所に位置する形で前記光学膜に形成され、
    前記電流出力部は、前記光が透過して出射する出射位置に近接して形成された金属膜に対してのみ電流を出力することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
  5. 前記ヘッド部は、複数の金属膜が前記光の出射位置の上流側または下流側における前記記録媒体面の幅方向の一部あるいは複数箇所に位置する形で前記光学膜に形成され、
    前記電流出力部は、複数の金属膜に対して電流を出力することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
  6. 前記ヘッド部は、前記金属膜が、前記光が透過して出射する前記光学膜近傍では前記記録媒体面の鉛直方向への高さが低く、前記光学膜から前記記録媒体面の幅方向に離れるに従って高さが高くなるように形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
  7. 前記ヘッド部は、スライダ側面に対して、再生ヘッド、前記光学膜の順に形成されており、当該光学膜において光が透過する光路の層より、前記金属膜は、スライダ側面より遠くなるように形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
  8. 前記ヘッドは、前記金属膜の端面が、前記記録媒体に対向するヘッド素子面に露出せず、端面が素子面に露出している前記光学膜よりも前記記録媒体面からより遠い位置に積層されて形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
  9. 前記ヘッド部は、前記光学膜の光の入射口、出射口以外の周囲をアルミで被覆されるように形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
  10. 前記ヘッド部は、前記光学膜を形成するパターンと同じ形状のマスクで、前記金属膜をエッチングすることで形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の磁気ディスク装置。
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