DE4323010C2 - Spannungserzeugungsschaltung zum Erzeugen einer Spannung mit vorbestimmter Polarität an einem Ausgangsknoten, wobei Schwellenspannungsverluste vermieden werden - Google Patents
Spannungserzeugungsschaltung zum Erzeugen einer Spannung mit vorbestimmter Polarität an einem Ausgangsknoten, wobei Schwellenspannungsverluste vermieden werdenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Spannungserzeugungsschaltung
zum Erzeugen einer Spannung mit vorbestimmter Polarität
an einem Ausgangsknoten nach dem Oberbegriff des Anspruches 1.
In letzter Zeit ist die Versorgungsspannung
von Halbleitereinrichtungen entsprechend der
Forderung nach einer hohen Integration und verminderter
Leistungsaufnahme von Halbleitereinrichtungen gesenkt worden. Die
Zuführung einer geringeren Versorgungsspannung an eine
Halbleitereinrichtung ermöglicht dünnere Isolierfilme für MOS-
Transistoren, MOS-Kondensatoren und ähnliche Elemente. Das führt zu
einer Verbesserung von deren Integration und Leistungsaufnahme.
Die Zuführung einer geringeren Versorgungsspannung an eine
Halbleitereinrichtung bringt aber Probleme bei mehreren
Spannungserzeugungsschaltungen, die in der
Halbleitereinrichtung gebildet sind. Eine
Halbleitereinrichtung im allgemeinen weist eine Erzeugungsschaltung für
eine sog. Substrat-Bias-Spannung auf, um das Halbleitersubstrat mit einer Spannung
vorbestimmter Polarität vorzuspannen. Weil die Erzeugungsschaltung
der Substrat-Bias-Spannung aus einer Ladungspumpschaltung besteht,
kann ein Abfall des relativ niedrigen Bias-Spannungspegels nicht ignoriert werden, wenn
die Versorgungsspannung vermindert wird.
In ähnlicher Weise kann ein Abfall höherer Spannungspegel nicht
ignoriert werden, wenn die Versorgungsspannung vermindert wird, weil
auch die Erzeugungsschaltung für höhere Spannungen,
die in der Halbleitereinrichtung
gebildet ist, aus einer Ladungspumpschaltung besteht.
Obwohl die vorliegende Erfindung allgemein eine
Spannungserzeugungsschaltung betrifft, die in einer Halbleitereinrichtung
gebildet ist, wird im folgenden ein Fall beschrieben,
bei dem sie bei einem dynamischen
Direktzugriffsspeicher (im weiteren als DRAM bezeichnet) angewandt
ist.
Fig. 8 zeigt das Blockdiagramm eines DRAM, auf das die vorliegende
Erfindung angewandt werden kann. Wie in Fig. 8 dargestellt ist,
weist das DRAM 100 ein Speicherzellenfeld 85 mit einer Mehrzahl von
Speicherzellen, einen Adreßpuffer 81, der extern angelegte
Adreßsignale A0 bis An empfängt, einen Zeilendekoder 82 und einen
Spaltendekoder 83 zum jeweiligen Auswählen einer Zeile und einer
Spalte des Speicherzellenfeldes 85 in Abhängigkeit vom empfangenen
Adreßsignal, und einen Leseverstärker 84 zum Verstärken eines
Datensignals, das aus der Speicherzelle ausgelesen wird, auf.
Eingabedaten Di werden über einen Dateneingabepuffer 86 angelegt.
Ausgabedaten Do werden über einen Datenausgabepuffer 87 ausgegeben.
Das DRAM 100 weist einen Taktsignalgenerator 88 auf, der ein
Taktsignal zum Steuern verschiedener im DRAM gebildeter Schaltungen
erzeugt.
Das DRAM 100 weist ferner eine Substratvorspannung-
Erzeugungsschaltung (als "VBB-Erzeugungsschaltung" in der Figur
dargestellt) 89 zum Erzeugen der oben genannten
Substratvorspannung VBB auf. Die Substratvorspannung-
Erzeugungsschaltung 89 empfängt ein Taktsignal, das von einem nicht
gezeigten Ringoszillator erzeugt wird, und nachdem die
Versorgungsspannung Vcc zugeführt wird, wird sie kontinuierlich vom
angelegten Taktsignal aufrechterhalten.
Eine Erzeugungsschaltung für eine
höhere Spannung 93 wird von einem extern angelegten
Zeilenadreß-Abtastsignal /RAS getrieben. Genauer gesagt empfängt ein
RAS-Eingabepuffer 92 das extern angelegte Signal /RAS, um das
empfangene Signal an den Taktsignalgenerator 88 und die
Hochspannungserzeugungsschaltung 93 anzulegen. Die Schaltung 93 wird
vom angelegten Signal getrieben und erzeugt eine hochgesetzte
Spannung Vpp.
Das DRAM 100 weist ferner eine Spannungserzeugungsschaltung 96
auf, die eine hochgesetzte Spannung Vpp über den Zeilendekoder 82
einer (nicht gezeigten) Wortleitung zuführt. Diese
Spannungserzeugungsschaltung 96 empfängt ferner ein Taktsignal
vom nicht dargestellten Ringoszillator, um die hochgesetzte
Spannung Vpp zu erzeugen. Die hochgesetzte Spannung Vpp wird über
den Zeilendekoder 82 einer ausgewählten Wortleitung zugeführt.
Jeder der Substratvorspannung-Erzeugungsschaltungen 89
sowie die Hochspannungserzeugungsschaltungen 93 und 96, die in Fig. 8
dargestellt sind, weist eine Ladungspumpschaltung auf und erzeugt
eine gewünschte Spannung in Abhängigkeit von einem angelegten
Taktsignal. Die Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung weist z. B.
die folgende Schaltungsstruktur auf.
Fig. 6 zeigt ein schematisches Schaltbild einer bekannten Substratvorspannung-
Erzeugungsschaltung. Wie in Fig. 6 dargestellt ist, weist eine
Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung 24 Inverter 1 und 2, PMOS-
Kondensatoren 3 und 4 sowie PMOS-Transistoren 5, 6 und 7 auf. Die
Inverter 1 und 2 reagieren auf ein Taktsignal Φ0, um komplementäre
Taktsignale Φ1 und Φ2 zu liefern. Es wird angenommen, daß jeder der
PMOS-Transistoren 5, 6 und 7 eine Schwellenspannung Vthp aufweist.
Fig. 7 zeigt ein Signaldiagramm des Betriebs der
Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung 24, die in Fig. 6
dargestellt ist. Unter Bezugnahme auf die Fig. 6 und 7 wird der
Betrieb der Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung 24 beschrieben.
Zum Zeitpunkt t1 steigt das Ausgangssignal Φ1 des Inverters 1 von
einem Massepotential (im weiteren als GND-Pegel bezeichnet) auf
einen Versorgungsspannungspegel (im weiteren als Vcc-Pegel
bezeichnet) an. Hier entspricht der GND-Pegel einer Spannung von 0
Volt. Obwohl die Gate-Spannung 6g des Transistors 6 dazu neigt,
aufgrund der Kopplung des Kondensators 4 auf den Vcc-Pegel
anzusteigen, erreicht sie nur den Spannungspegel Vthp, weil der
Transistor 5 leitend wird. Zur gleichen Zeit t1 fällt das
Ausgangssignal Φ2 des Inverters 2 vom Vcc-Pegel auf den GND-Pegel,
wodurch die Gate- und Drain-Spannungen des Transistors 7 aufgrund
der Kopplung des Kondensators 3 gesenkt werden. Das macht den
Transistor 7 leitend. Das Durchschalten des Transistors 7 bewirkt,
daß Substratladungen über den Transistor 7 abgezogen werden, und
die abgezogenen Ladungen werden vom Kondensator 3 gespeichert. Der
Transistor 6 wird in Abhängigkeit von der angelegten Gate-Spannung
Vthp gesperrt.
Zum Zeitpunkt t2 fällt das Ausgangssignal Φ1 des Inverters 1 vom
Vcc- auf den GND-Pegel. Die Gate-Spannung 6g des Transistors 6
erreicht aufgrund der Kopplung des Kondensators 4 Vthp-Vcc, und der
Transistor 6 schaltet durch. Die abgezogenen Ladungen, d. h. die vom
Kondensator 3 gespeicherten Ladungen, werden über den Transistor 6 zur
Masse abgeführt. Gleichzeitig wird der Transistor 7 durch den
Anstieg der Gate- und Drain-Spannungen gesperrt. Das verhindert, daß
diese Ladungen zurückfließen.
Wie oben beschrieben worden ist, werden durch das wiederholt
ansteigende und abfallende zugeführte Taktsignal Φ0 Ladungen vom
Substrat extrahiert, und schließlich erreicht das Substratpotential
VBB den Pegel -Vcc+Vthp, wie in Fig. 7 dargestellt ist.
Weil die in Fig. 6 gezeigte Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung
24 den Transistor 7 verwendet, dessen Gate und Drain miteinander
verbunden sind, kann das Substratpotential VBB prinzipiell nicht
unter -Vcc+Vthp gesenkt werden. Wie bereits beschrieben worden ist,
ist der Spannungsverlust Vthp durch den Transistor 7, d. h. der
Anstieg des Substratpotentials VBB um Vthp, in Hinblick auf die
Entwicklung einer Senkung des Pegels der Versorgungsspannung Vcc, die
an die Halbleitereinrichtung angelegt wird, nicht günstig. Weil der
Pegel der Versorgungsspannung VBB gleich -Vcc+Vthp ist, steigt der
Ausgangsspannungspegel proportional zum Abfallen des Pegels der
Versorgungsspannung Vcc an. Mit anderen Worten kann der Verlust der
Versorgungsspannung Vthp im Ausgangsspannungspegel nicht
vernachlässigt werden, wenn der Versorgungsspannungspegel sinkt.
Aus der DE 37 05 147 C2 ist eine Spannungserzeugungsschaltung nach
dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 bekannt.
Aus der DE 38 14 667 A1 ist eine Spannungsstabilisierung bei einem
Substratvorspannungserzeuger bekannt.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Spannungserzeugungsschaltung
zu schaffen, die einen stabilen Ausgangspegel liefert und
keinen Schwellenspannungsverlust in der
Ausgangsspannung durch einen Feldeffekttransistor aufweist.
Die Aufgabe wird gelöst durch die in Anspruch 1
gekennzeichnete Spannungserzeugungsschaltung.
Weil die Gate-Elektrode des ersten dabei verwendeten Feldeffekttransistors mit der
zweiten Elektrode des zweiten Kondensators verbunden ist, wird im
Betrieb eine Spannung höher als die Source-Spannung des ersten
Feldeffekttransistors an die Gate-Elektrode des ersten
Feldeffekttransistors angelegt, wodurch die gewünschte Spannung
ohne einen Schwellenspannungsverlust im ersten Feldeffekttransistor
erzeugt werden kann.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren. Von
den Figuren zeigt:
Fig. 1 das Schaltbild einer Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung nach einer ersten Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 2 das Schaltbild einer Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung nach einer zweiten Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 3 ein Signaldiagramm des Betriebs der Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung, die in Fig. 1 dargestellt ist;
Fig. 4 ein Signaldiagramm des Betriebs der Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung, die in Fig. 2 dargestellt ist;
Fig. 5 das schematische Schaltbild einer Erzeugungsschaltung
für eine hochgesetzte Spannung nach einer dritten Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 6 das schematische Schaltbild einer bekannten Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung;
Fig. 7 ein Signaldiagramm des Betriebs der Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung, die in Fig. 6 dargestellt ist; und
Fig. 8 das Blockschaltbild eines DRAM, auf das die vorliegende
Erfindung angewandt werden kann.
Wie in Fig. 1 dargestellt ist, weist eine Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung 21 Inverter 1 und 2, PMOS-Kondensatoren 3 und 4,
PMOS-Transistoren 5 und 6 sowie einen NMOS-Transistor 8 auf. Der
Inverter 1 empfängt das Signal Φ0. Das Taktsignal Φ0 kann
von einem Ringoszillator 20 geliefert werden, der
auf dem Halbleitersubstrat gebildet ist. Die kaskadierten Inverter 1
und 2 erzeugen komplementäre Taktsignale Φ1 und Φ2. Eine Elektrode
des Kondensators 3 ist mit dem Ausgang des Inverters 2 verbunden.
Eine Elektrode des Kondensators 4 ist mit dem Ausgang des Inverters
1 verbunden.
Die Gate-Elektrode des Transistors 5 liegt auf Masse, und der
Transistor 5 ist zwischen die zweite Elektrode des Kondensators 4
und Massepotential geschaltet. Die Gate-Elektrode des
Transistors 6 ist mit der zweiten Elektrode des Kondensators 4
verbunden, und der Transistor 6 ist zwischen die zweite Elektrode
des Kondensators 3 und Massepotential geschaltet. Die Source-
Elektrode des Transistors 8 ist mit der zweiten Elektrode des
Kondensators 3, und seine Gate-Elektrode ist mit der zweiten
Elektrode des Kondensators 4 verbunden. Eine Substratvorspannung VBB
wird an der Drain-Elektrode des Transistors 8 erzeugt.
Fig. 3 zeigt ein Signaldiagramm des Betriebs der
Substratvorspannungs-Erzeugungsschaltung 21, die in Fig. 1
dargestellt ist. Unter Bezugnahme auf die Fig. 1 und 3 wird der
Betrieb der Substratvorspannungs-Erzeugungsschaltung 21 beschrieben.
Zum Zeitpunkt t1 steigt das Ausgangssignal Φ1 des Inverters 1 vom
Massepegel (im weiteren als "GND-Pegel" bezeichnet) auf den
Versorgungsspannungspegel (im weiteren als "Vcc-Pegel" bezeichnet)
an. Obwohl die Gate-Spannungen 6g und 8g der Transistoren 6 und 8
dazu neigen, aufgrund der Kopplung des Kondensators 4 auf den Vcc-
Pegel anzusteigen, werden sie tatsächlich gleich Vthp, weil der
Transistor 5 leitend wird. Zur gleichen Zeit t1 fällt das
Ausgangssignal Φ2 des Inverters 2 vom Vcc- auf den GND-Pegel ab,
und damit fällt die Source-Spannung 8s des Transistors 8 durch die
Kopplung des Kondensators 3 auf den Pegel -Vcc. Daher wird die
Differenz 8g-8s zwischen der Gate-Spannung 8g und der Source-
Spannung 8s des Transistors 8 gleich Vthp-(-Vcc), wodurch der
Transistor 8 leitend wird, und es werden Ladungen vom Substrat
abgezogen. Weil der Transistor in Abhängigkeit von der Gate-
Spannung Vthp gesperrt wird, werden die abgezogenen Ladungen im
Kondensator 3 gespeichert.
Zum Zeitpunkt t2 fällt das Ausgangssignal Φ1 des Inverters 1 vom
Vcc- auf den GND-Pegel. Die Gate-Spannungen 6g, 8g der Transistoren
6 und 8 werden durch die Kopplung mit dem Kondensator 4 gleich Vthp-Vcc,
und der Transistor 6 schaltet durch. Die abgezogenen Ladungen,
d. h. die im Kondensator 3 gespeicherten Ladungen, werden über den
Transistor 6 nach Masse abgeführt. Weil der Transistor 8 zu diesem
Zeitpunkt gesperrt wird, können die im Kondensator 3 gespeicherten
Ladungen nicht über den Transistor 8 zum Substrat zurückgeführt
werden.
Wie oben beschrieben worden ist, werden durch die Wiederholung von
Anstieg und Abfall des Eingabetaktsignals Φ0 die Ladungen vom
Substrat abgezogen, das Substratpotential VBB wird reduziert und
schließlich kann das Substratpotential VBB den Pegel -Vcc erreichen.
Wenn die Ladungen vom Transistor 8 abgezogen werden, ist die Gate-
Spannung 8g des Transistors 8 ausreichend höher als die Drain-
Spannung (d. h. das Substratpotential), so daß der Abfall um die
Schwellenspannung Vthp, der in der Schaltung 24 von Fig. 24 erzeugt
wird, verhindert werden kann. Das Substratpotential VBB kann
effektiv den Pegel -Vcc erreichen.
Die Transistoren 6 und 8 sind so gebildet, daß sie die Beziehung
Vthp (Schwellenspannung der Transistoren 5, 6) < Vthn
(Schwellenspannung des Transistors 8) selbst dann erfüllen, wenn die
Drain-Spannung (d. h. in diesem Fall das Substratpotential) des Transistors 8 den
niedrigsten Pegel -Vcc erreicht. Dadurch wird ein unerwünschtes
Leitendwerden des Transistors 8 vermieden.
Bei der in Fig. 1 gezeigten Schaltung sind in der Praxis eine
parasitäre Kapazität 31 zwischen der Gate- und Source-Elektrode des
Transistors 8 und eine parasitäre Kapazität 32 zwischen der Source-
und Gate-Elektrode des Transistors 6 vorhanden. Durch das
Wiederholen von Anstieg und Abfall des Eingabetaktsignals Φ0 kann
die Gate-Spannung des Transistors 6 aufgrund des Vorhandenseins
dieser Kapazitätskomponenten 31 und 32 übermäßig abfallen. Wenn die
Gate-Spannung des Transistors 6 übermäßig abfällt, kann der
Transistor 6 nicht vollständig gesperrt werden, und damit können
Ladungen von der Masse zurückfließen. Genauer gesagt tritt ein
Rückfluß von Ladungen über den Transistor 6 auf, und es kann kein
effektiver Pumpbetrieb ausgeführt werden. Eine in Fig. 2
dargestellte verbesserte Schaltung ist zur Lösung dieses Problems geeignet.
Fig. 2 zeigt das schematische Schaltbild einer verbesserten Substratvorspannungs-
Erzeugungsschaltung nach einer zweiten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung. Wie in Fig. 2 dargestellt ist, weist die
Substratvorspannungs-Erzeugungsschaltung 22 zusätzlich zu der in Fig. 1
gezeigten Schaltung 21 PMOS-Transistoren 9, 10 und 11 auf, die
zwischen der zweiten Elektrode des Kondensators 4 und dem
Massepotential in Reihe geschaltet sind. Die Gate-Elektrode eines
jeden der Transistoren 9, 10 und 11 ist mit einer entsprechenden
Drain-Elektrode verbunden. Diese Transistoren dienen als
Klemmschaltung zum Begrenzen der Gate-Spannung des Transistors 6,
damit diese den Pegel 3Vthp übersteigt. Diese Klemmschaltung
ermöglicht es, die Gate-Spannung des Transistors 6 unabhängig von
Auswirkungen der Kapazitätskomponenten 31 und 32 in einem Bereich
über -3Vthp zu halten (siehe Fig. 4). Das verhindert den Rückfluß
von Ladungen über den Transistor 6. Folglich kann ein noch effektiver
Pumpbetrieb ausgeführt werden.
Obwohl im Beispiel der Fig. 2 die drei PMOS-Transistoren 9, 10 und
11 als Klemmschaltung gebildet sind, wird die Anzahl n der PMOS-
Transistoren allgemein so bestimmt, daß sie die folgende Ungleichung
hinsichtlich der Bedingung, daß der Transistor 6 gesperrt wird,
erfüllt:
Vthp < (Vthp * n) + Vcc * α (1)
Hier bezeichnet α die Spannungsübertragungsrate des Kondensators 4.
In den Fig. 1 und 2 sind Beispiele gezeigt, bei denen die
vorliegende Erfindung auf eine Substratvorspannung-
Erzeugungsschaltung angewandt ist. Die Substratvorspannung-
Erzeugungsschaltungen 21 und 22 können eine Ausgangsspannung
erzeugen, die schließlich den Pegel -Vcc erreicht. Durch Anwenden
der vorliegenden Erfindung auf eine Erzeugungsschaltung für eine
hochgesetzte Spannung kann die in Fig. 5 dargestellte Spannungs-
Erzeugungsschaltung 23 erhalten werden.
Fig. 5 zeigt das schematische Schaltbild einer
Erzeugungsschaltung, die eine dritte Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung darstellt. Wie in Fig. 5 gezeigt ist, weist
die Erzeugungsschaltung 23 für eine hochgesetzte Spannung die Inverter 1 und 2,
NMOS-Kondensatoren 12 und 13, NMOS-Transistoren 14, 15, 17, 18 und
19 sowie einen PMOS-Transistor 16 auf. Die eine Klemmschaltung
bildenden Transistoren 17, 18 und 19 sind entsprechend der in Fig. 2
dargestellten Schaltung 22 zur Vermeidung nachteiliger Effekte der parasitären
Kapazitätskomponenten der Transistoren 15 und 16 gebildet. Wenn die
Kapazitätskomponenten in den Transistoren 15 und 16 zu
vernachlässigen sind, können die Transistoren 17, 18 und 19
weggelassen werden.
Die in Fig. 5 gezeigte Spannungs-Erzeugungsschaltung
für eine heraufgesetzte Spannung 23 arbeitet
im Prinzip ähnlich wie die in Fig. 1 dargestellte
Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung 21. Die Hochspannungs-
Erzeugungsschaltung 23 liefert eine hochgesetzte Spannung
Vpp an der Drain des Transistors 16.
Die Substratvorspannung-Erzeugungsschaltung 21 oder 22 gemäß Fig. 1
bzw. Fig. 2 kann als VBB-Erzeugungsschaltung 89, 93 oder 95 im DRAM
100 verwendet werden, das in Fig. 8 gezeigt ist. Die in Fig. 5
dargestellte Spannungs-Erzeugungsschaltung 23 kann als
Schaltung 96 im DRAM 100 verwendet werden,
das in Fig. 8 gezeigt ist. In den Schaltungen 21 und 22, die in den
Fig. 1 und 2 dargestellt sind, tritt in der Ausgangsspannung VBB
kein Abfall um die Schwellenspannung Vthn des Transistors 8 auf,
weil der Gate-Elektrode des Transistors 8 in der Ausgangsstufe eine
Spannung zugeführt werden kann, die ausreichend höher als die
Source-Spannung ist. Als Ergebnis wird eine Substratvorspannung VBB
mit dem Pegel -Vcc erzeugt.
In gleicher Weise tritt bei der in Fig. 5 gezeigten Hochspannungs-
Erzeugungsschaltung 23 in der Ausgangsspannung Vpp kein Abfall um
die Schwellenspannung Vthp des Transistors 16 in der letzten Stufe
auf, wodurch eine hochgesetzte Spannung Vpp mit einem gewünschten
Pegel erzielt werden kann.
Claims (11)
1. Spannungserzeugungsschaltung zum Erzeugen einer Spannung mit
vorbestimmter Polarität an einem Ausgangsknoten mit
einer Vorrichtung (1, 2) zum Erzeugen erster und zweiter kom plementärer Taktsignale,
einer ersten Kondensatorvorrichtung (3, 13), deren erste Elektrode zum Empfangen des ersten Taktsignals geschaltet ist,
einem ersten Feldeffekttransistor (8, 16), dessen Source-Elektrode mit der zweiten Elektrode der ersten Kondensatorvorrichtung und dessen Drain-Elektrode mit dem Ausgangsknoten verbunden ist,
einer zweiten Kondensatorvorrichtung (4, 12), deren erste Elektrode zum Empfangen des zweiten Taktsignals geschaltet ist, und
einem zweiten Feldeffekttransistor (6, 15), dessen Gate-Elektrode mit der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung verbunden ist, und der zwischen die Source-Elektrode des ersten Feldeffekttransistors und ein Versorgungspotential ge schaltet ist, wobei der erste und zweite Feldeffekttransistor verschiedene Leitfähigkeitstypen aufweisen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gate-Elektrode des ersten Feld effekttransistors (8, 16) mit der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung (4, 12) verbunden ist.
einer Vorrichtung (1, 2) zum Erzeugen erster und zweiter kom plementärer Taktsignale,
einer ersten Kondensatorvorrichtung (3, 13), deren erste Elektrode zum Empfangen des ersten Taktsignals geschaltet ist,
einem ersten Feldeffekttransistor (8, 16), dessen Source-Elektrode mit der zweiten Elektrode der ersten Kondensatorvorrichtung und dessen Drain-Elektrode mit dem Ausgangsknoten verbunden ist,
einer zweiten Kondensatorvorrichtung (4, 12), deren erste Elektrode zum Empfangen des zweiten Taktsignals geschaltet ist, und
einem zweiten Feldeffekttransistor (6, 15), dessen Gate-Elektrode mit der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung verbunden ist, und der zwischen die Source-Elektrode des ersten Feldeffekttransistors und ein Versorgungspotential ge schaltet ist, wobei der erste und zweite Feldeffekttransistor verschiedene Leitfähigkeitstypen aufweisen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gate-Elektrode des ersten Feld effekttransistors (8, 16) mit der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung (4, 12) verbunden ist.
2. Spannungserzeugungsschaltung nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch eine Potentialbegrenzungsvorrichtung,
die zwischen die zweite Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung
und das Versorgungspotential geschaltet ist, zum
Begrenzen des Potentials der zweiten Elektrode der zweiten
Kondensatorvorrichtung auf einen vorbestimmten Bereich.
3. Spannungserzeugungsschaltung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Potentialbegrenzungsvorrichtung
eine obere Begrenzungsvorrichtung zum Begrenzen des Potentials
der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung
auf ein Potential unter einem vorbestimmten oberen Grenzwert
aufweist.
4. Spannungserzeugungsschaltung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Potentialbegrenzungsvorrichtung ferner eine
untere Begrenzungsvorrichtung zum Begrenzen des
Potentials der zweiten Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung
auf ein Potential über einem vorbestimmten unteren Grenzwert
aufweist.
5. Spannungserzeugungsschaltung nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die untere Begrenzungsvorrichtung eine
Diodenklemmschaltung aufweist, die zwischen die zweite
Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung und das
Versorgungspotential geschaltet ist.
6. Spannungserzeugungsschaltung nach einem der Ansprüche 3 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die obere Begrenzungsvorrichtung einen
dritten Feldeffekttransistor (5) aufweist, dessen Gate-Elektrode mit
dem Versorgungspotential verbunden ist, und der zwischen die zweite
Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung und das
Versorgungspotential geschaltet ist, wobei der dritte
Feldeffekttransistor denselben Leitfähigkeitstyp wie der zweite
Feldeffekttransistor aufweist.
7. Spannungserzeugungsschaltung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Diodenklemmschaltung einen vierten
Feldeffekttransistor (9, 10, 11) aufweist, dessen Gate- und Source-
Elektrode miteinander verbunden sind, und der zwischen die zweite
Elektrode der zweiten Kondensatorvorrichtung und das
Versorgungspotential geschaltet ist.
8. Spannungserzeugungsschaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß
die vorbestimmte Polarität negativ ist,
der erste Feldeffekttransistor einen ersten NMOS-Transistor (8) umfaßt, und
der zweite Feldeffekttransistor einen ersten PMOS-Transistor (6) umfaßt.
die vorbestimmte Polarität negativ ist,
der erste Feldeffekttransistor einen ersten NMOS-Transistor (8) umfaßt, und
der zweite Feldeffekttransistor einen ersten PMOS-Transistor (6) umfaßt.
9. Spannungserzeugungsschaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die vorbestimmte Polarität positiv ist,
der erste Feldeffekttransistor einen zweiten PMOS-Transistor (16) umfaßt, und
der zweite Feldeffekttransistor einen zweiten NMOS-Transistor (15) umfaßt.
der erste Feldeffekttransistor einen zweiten PMOS-Transistor (16) umfaßt, und
der zweite Feldeffekttransistor einen zweiten NMOS-Transistor (15) umfaßt.
10. Verwendung einer Spannungserzeugungsschaltung nach
einem der Ansprüche 1 bis 8 für die Erzeugung einer
negativen Substratvorspannung an einem Ausgangsknoten.
11. Verwendung einer Spannungserzeugungsschaltung nach
Anspruch 9 zur Erzeugung einer gegenüber der
Eingangsspannung heraufgesetzten Spannung.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4199479A JP2632112B2 (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 電圧発生回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4323010A1 DE4323010A1 (de) | 1994-02-03 |
DE4323010C2 true DE4323010C2 (de) | 1996-11-28 |
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ID=16408493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE4323010A Expired - Lifetime DE4323010C2 (de) | 1992-07-27 | 1993-07-09 | Spannungserzeugungsschaltung zum Erzeugen einer Spannung mit vorbestimmter Polarität an einem Ausgangsknoten, wobei Schwellenspannungsverluste vermieden werden |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5357416A (de) |
JP (1) | JP2632112B2 (de) |
KR (1) | KR970006605B1 (de) |
DE (1) | DE4323010C2 (de) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3085562B2 (ja) * | 1992-10-12 | 2000-09-11 | 三菱電機株式会社 | 基準電圧発生回路および内部降圧回路 |
JPH06195971A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | 基板電位発生回路 |
JP2919731B2 (ja) * | 1993-12-28 | 1999-07-19 | 三洋電機株式会社 | 負電圧発生回路 |
US5493486A (en) * | 1995-03-17 | 1996-02-20 | Motorola, Inc. | High efficiency compact low power voltage doubler circuit |
KR0142963B1 (ko) * | 1995-05-17 | 1998-08-17 | 김광호 | 외부제어신호에 적응 동작하는 승압회로를 갖는 반도체 메모리 장치 |
US5701071A (en) * | 1995-08-21 | 1997-12-23 | Fujitsu Limited | Systems for controlling power consumption in integrated circuits |
JPH0973784A (ja) * | 1995-09-07 | 1997-03-18 | Nec Corp | 半導体装置及びその制御回路 |
JP2830807B2 (ja) * | 1995-11-29 | 1998-12-02 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ装置 |
US6188265B1 (en) * | 1997-12-12 | 2001-02-13 | Scenix Semiconduction, Inc. | High-voltage NMOS switch |
KR100759164B1 (ko) | 1998-05-20 | 2007-09-14 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 단열 용기 |
JP2000112547A (ja) * | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | 基板電圧発生回路および半導体集積回路装置 |
US6456152B1 (en) | 1999-05-17 | 2002-09-24 | Hitachi, Ltd. | Charge pump with improved reliability |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4229667A (en) * | 1978-08-23 | 1980-10-21 | Rockwell International Corporation | Voltage boosting substrate bias generator |
US4346310A (en) * | 1980-05-09 | 1982-08-24 | Motorola, Inc. | Voltage booster circuit |
DE3335423A1 (de) * | 1983-09-29 | 1985-04-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Schaltung zur spannungsvervielfachung |
JPS62196861A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Mitsubishi Electric Corp | 内部電位発生回路 |
KR890005159B1 (ko) * | 1987-04-30 | 1989-12-14 | 삼성전자 주식회사 | 백 바이어스 전압 발생기 |
US4803612A (en) * | 1988-06-08 | 1989-02-07 | National Semiconductor Corporation | Clock ripple reduction in a linear low dropout C/DMOS regulator |
JPH02126308A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-15 | Nec Corp | 基板電位生成回路 |
-
1992
- 1992-07-27 JP JP4199479A patent/JP2632112B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-06-04 US US08/071,498 patent/US5357416A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-09 DE DE4323010A patent/DE4323010C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-09 KR KR1019930012939A patent/KR970006605B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0644776A (ja) | 1994-02-18 |
US5357416A (en) | 1994-10-18 |
KR970006605B1 (ko) | 1997-04-29 |
KR940003011A (ko) | 1994-02-19 |
JP2632112B2 (ja) | 1997-07-23 |
DE4323010A1 (de) | 1994-02-03 |
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DE3740314C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R071 | Expiry of right | ||
R071 | Expiry of right |