DE4243941C2 - Siliciumcarbid-Sintererzeugnis und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Siliciumcarbid-Sintererzeugnis und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Siliciumcarbid-Sintererzeugnis und
ein Verfahren zu seiner Herstellung. Das erfindungsgemäße Siliciumcarbid-
Sintererzeugnis ist für ein Regal innerhalb eines
Schnellbrennofens geeignet.
Siliciumcarbid-keramischer Werkstoff zeigt ausgezeichnete Hitzebeständigkeit
und Feuerbeständigkeit und hat verschiedene industrielle
Anwendungen. Siliciumcarbid-keramischer Werkstoff
wird beispielsweise als Werkstoff für ein Regal zum Halten keramischer
Werkstoffe in einen Ofen
und für ein Mittel- bzw. Zentralrohr in einem Ofen zum Brennen
von Halbleitern verwendet.
Ein bekanntes Verfahren zur Herstellung eines Siliciumcarbid-
keramischen Werkstoffes weist folgende Schritte auf: Zusetzen
von Kohlenstoffpulver und eines Bindemittels zu α-Silicium-Pulver;
Formpressen der Mischung
und Brennen des Preß- bzw. Formteils
unter einer Siliciumatmosphäre. Ein auf diese Weise erhaltener
Siliciumcarbid-keramischer Werkstoff enthält Körner
von α-Siliciumcarbid, die aus der Ausgangsverbindung resultieren,
und Körner von β-Siliciumcarbid, die um die Körner der α-
Form herum dispergiert sind. Das β-Siliciumcarbid wird durch
die Reaktion von Kohlenstoff und Silicium gebildet. Während der
Reaktion erzeugte Poren werden durch Silicium gefüllt.
Fig. 2 ist eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme eines
auf diese Weise erhaltenen Siliciumcarbid-Sintererzeugnisses.
Die Aufnahme hat dieselbe Vergrößerung wie die Aufnahme von
Fig. 1. Der weiße Teil in Fig. 2 zeigt Körner von α-Siliciumcarbid.
Ein alternatives bekanntes Verfahren zur Herstellung eines
Siliciumcarbid-keramischen Werkstoffs weist folgende Schritte
auf: Zusetzen eines Bindemittels und von Glasbildnern zu α-Siliciumcarbid-
Pulver; Formpressen der Mischung;
und Brennen des
Formteils unter einer oxidierenden Atmosphäre.
Diese Verfahren liefern dicke keramische Werkstoffe, und solche
dicken keramischen Werkstoffe sind für bestimmte Anwendungen
nicht geeignet. Ein dicker keramischer Werkstoff neigt dazu,
eine große Wärmekapazität zu haben, so daß beim Erhitzen die in
dem keramischen Werkstoff hervorgerufene Wärmeverteilung seine
Temperaturwechselbeständigkeit vermindert. Außerdem ist es
wahrscheinlich, daß ein dicker keramischer Werkstoff innen Poren
aufweist, wodurch seine Oxidationsbeständigkeit herabgesetzt
wird.
Ein bekannter Siliciumcarbid-keramischer Werkstoff enthält kein
besonderes Antioxidationsmittel. Solche ein keramischer Werkstoff
hat eine beschränkte Oxidationsbeständigkeit.
Ein Weg zur Herstellung eines dünnen Siliciumcarbid-keramischen
Werkstoffs besteht darin, das α-Siliciumcarbid-Pulver feiner zu
machen. Dieser Weg führt jedoch zu einer Steigerung der Herstellungskosten
des keramischen Werkstoffs. Wenn das Pulver
nicht feiner gemacht wird, hat ein dünnes Formteil
keine ausreichende mechanische Festigkeit, so daß es während
des Brennens seine Gestalt nicht beibehalten kann.
In der DE-C 31 16 786 ist ein homogener Siliciumcarbid-
Formkörper und ein Verfahren zu dessen Herstellung beschrieben,
wobei 80-92 Gew.-% vorwiegend Beta-(hexagonales)
Siliciumcarbid, 3-10 Gew.-% freier Kohlenstoff und 5-15 Gew.-%
Harz mit einem Verkokungsrückstand von 30-70 Gew.-% eingesetzt
werden. Bei einem derartigen Verfahren, bei dem als
Ausgangsprodukt auch α-SiC eingesetzt wird, enthält jedoch der
erhaltene Formkörper üblicherweise neben β-SiC nicht umgesetztes
α-SiC.
In dem "Journal of Nuclear Materials", 59, 1976, S. 42-48
wird der Bildungsprozeß von β-SiC während des Reaktionssinterns
untersucht. Es wird hierbei ausgeführt, daß ein reaktionsgesinterter
Formkörper, der aus einem Grünling aus
α-SiC und Graphitpulver erhalten worden ist, Aggregate aus α-
SiC-Körnern und eine β-SiC-Matrix hat.
In der EP-A 0 142 229 wird die Verwendung von Graphitbahnen
zur Herstellung von Kohlenstoff-Formkörpern vorgeschlagen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein dünnes Siliciumcarbid-
Sintererzeugnis, das ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit
und Oxidationsbeständigkeit zeigt, und ein Verfahren
zu seiner Herstellung bereitzustellen.
Gemäß der ersten Ausgestaltung der Erfindung wird ein Siliciumcarbid-
Sintererzeugnis bereitgestellt,
wie es in Anspruch 1 definiert ist.
Vorzugsweise beträgt die Menge des Siliciumcarbids etwa 50
bis 99,5 Masseteile, beträgt die Menge des Siliciums etwa 50
bis 0,5 Masseteile und beträgt die Menge des elementaren
Kohlenstoffs in dem Erzeugnis bis zu etwa 1 Masseteil.
Das Erzeugnis kann eine Dicke von etwa 0,3 bis 10 mm haben.
Die Menge des elementaren Kohlenstoffs in dem Erzeugnis kann
bis zu etwa 0,5 Masseteile betragen.
Weiter wird erfindungsgemäß ein Verfahren zur Herstellung des
Siliciumcarbid-Sintererzeugnisses zur Verfügung gestellt, das
die in Patentanspruch 5 definierten Maßnahmen umfaßt.
Als elementarer Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-Formteil kann
Graphit verwendet werden.
Vorzugsweise wird Kohlenstoff mit einem Lc(002)-Wert, der
nachstehend erläutert wird, von bis zu 80,0 nm verwendet, und
es kann Kohlenstoff mit einem Lc(002)-Wert bis zu 50,0 nm
verwendet werden.
Weitere Einzelheiten werden nachstehend durch die Beispiele,
die durch die beigefügten Zeichnungen veranschaulicht werden,
erläutert.
Fig. 1 ist eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme des
erfindungsgemäßen Siliciumcarbid-Sintererzeugnisses.
Fig. 2 ist eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme eines
bekannten Siliciumcarbid-Sintererzeugnisses, das dieselbe
Vergrößerung wie die Aufnahme von Fig. 1 hat.
Die bevorzugte Ausführungsform wird nachstehend näher beschrieben.
Ein Siliciumcarbid-Sintererzeugnis, das mehr als 50 Masseteile
Siliciumcarbid enthält, hat eine bessere mechanische
Festigkeit oder Temperaturwechselbeständigkeit.
Das erfindungsgemäße Sintererzeugnis kann mindestens 0,5 Masseteile
Silicium enthalten, damit die Poren in dem Kohlenstoff-
Formteil ausgefüllt und die Oberflächen des resultierenden
Sintererzeugnisses bedeckt werden. Das Sintererzeugnis
wird aus einem porenhaltigen Kohlenstoff-Formteil
gebildet, und geschmolzenes Silicium dringt in die Poren
ein und reagiert mit Kohlenstoff in dem Formteil unter
Bildung von Silicumcarbid.
Das erfindungsgemäße Siliciumcarbid-Sintererzeugnis enthält Siliciumcarbid
und Silicium.
Es ist besonders bevorzugt,
daß das Sintererzeugnis bis zu etwa 0,2 Masseteile elementaren
Kohlenstoff enthält.
Elementarer Kohlenstoff in dem erfindungsgemäßen Sintererzeugnis
kann in dem Fall, daß das Erzeugnis während seiner Anwendung
in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre, beispielsweise in
Luft, hohen Temperaturen ausgesetzt wird, mit Sauerstoff unter
Bildung von Kohlendioxid reagieren, so daß dort, wo der elementare
Kohlenstoff, der reagiert hat, vorhanden war, Poren zurückbleiben.
Die Zunahme von Poren in dem Erzeugnis ist nicht
erwünscht, wie später offenbart wird. Außerdem können in dem
Erzeugnis durch die Gasbildung Risse hervorgerufen werden. Es
ist somit um so besser, je weniger elementarer Kohlenstoff in
dem Erzeugnis vorhanden ist.
Die Menge des elementaren
Kohlenstoffs in dem Erzeugnis, der nicht reagiert hat, hängt
von dem Lc(002)-Wert im Kohlenstoff-Formteil ab,
der die durchschnittliche Länge einer Domäne in der Richtung senkrecht zu der
C(002)-Oberfläche von elementarem Kohlenstoff wie z. B. Graphit
in dem Kohlenstoff-Formteil zeigt.
Das erfindungsgemäße Sintererzeugnis hat einen Porositätsgrad
bis zu 10 Volumen-%. Es ist vorzuziehen, daß das
Sintererzeugnis einen Porositätsgrad bis zu 5 Volumen-% hat. Es
ist mehr vorzuziehen, daß der Porositätsgrad des Sintererzeugnisses
bis zu 1 Volumen-% beträgt.
Wenn das erfindungsgemäße Sintererzeugnis in einer sauerstoffhaltigen
Atmosphäre, beispielsweise in Luft, Temperaturen von
mehr als 900°C ausgesetzt wird, neigt Siliciumcarbid, das an
den Oberflächen der Poren vorhanden ist, zur Reaktion mit
Sauerstoff, wobei an den Oberflächen Siliciumdioxid erhalten
wird. Diese Reaktions ist nicht erwünscht, weil die Reaktion
wegen einer Volumenzunahme in dem Sintererzeugnis innere Spannungen
und Risse verursachen kann. Es ist somit um so besser,
je niedriger der Porositätsgrad in dem Sintererzeugnis ist. Infolgedessen
hat ein Sintererzeugnis, dessen Porositätsgrad größer
als 10% ist, bei hohen Temperaturen in einer oxidierenden
Atmosphäre keine zufriedenstellende Oxidationsbeständigkeit.
Das erfindungsgemäße Erzeugnis kann eine Dicke von etwa 0,3 bis
10 mm haben. Beträgt die Dicke weniger als 0,3
mm, kann keine ausreichende mechanische Festigkeit erhalten werden. Andererseits
beträgt die Dicke mehr als 10 mm,
können innerhalb eines erhaltenen Erzeugnisses Poren vorhanden sein, was zu einer
schlechten Oxidationsbeständigkeit führt.
Das erfindungsgemäße Erzeugnis wird aus einem Kohlenstoff-Preß-
bzw. -Formteil gebildet. Ein Kohlenstoff-Formteil
kann eine ebene bzw. planare Struktur haben, und aus einem Kohlenstoff-
Formteil kann eine solche Struktur gebildet
werden. Das Formteil hat feine Poren, so daß
geschmolzenes Silicium in das Formteil eindringen
kann.
Ein Kohlenstoff-Formteil kann z. B. eine Graphitfolie,
Graphitplatte oder Graphitbahn,
eine Kohlenstoff-Folie, Kohlenstoffplatte
oder Kohlenstoffbahn,
ein Kohlenstoff-Filz oder ein Kohlenstoff-Faser-Gewebe
bzw. -Stoff sein.
Ein Kohlenstoff-Formteil enthält mindestens
etwa 99 Masse-% elementaren Kohlenstoff. Ein Kohlenstoff-
Formteil, das mindestens etwa 99,99 Masse-%
elementaren Kohlenstoff enthält, ist bevorzugt. Ein Kohlenstoff-
Formteil, das weniger als etwa 99% elementaren
Kohlenstoff enthält, liefert ein Sintererzeugnis,
das eine ungenügende Siliciumcarbidmenge enthält,
so daß Eigenschaften des Erzeugnisses wie z. B. die Temperaturwechselbeständigkeit
nicht zufriedenstellend sind.
Ein Kohlenstoff-Formteil hat vorzugsweise einen
niedrigen Aschegehalt, und insbesondere ist ein Aschegehalt bis
zu 0,5 Masse-% in dem Formteil vorteilhaft.
Ein Kohlenstoff-Formteil hat vorzugsweise eine
Dichte von mehr als 0,3 g/cm³,
insbesondere von mehr als 0,9 g/cm³,
beispielsweise haben Graphitbahnen unter der Handelsbezeichnung
Sigraflex® und Permafoil® Dichten von etwa 1 g/cm³. Zur Herstellung
des erfindungsgemäßen Sintererzeugnisses kann ein Kohlenstoff-
Formteil verwendet werden, dessen Dichte
bis zu etwa 2 g/cm³ beträgt.
Der Lc(002)-Wert, der die durchschnittliche Länge einer Domäne in der Richtung
senkrecht zu der C(002)-Oberfläche von elementarem Kohlenstoff
wie z. B. Graphit in Molekül-Mikrostrukturen in dem Kohlenstoff-
Formteil zeigt, ist kleiner als oder gleich 100,0
nm. Der Lc(002)-Wert beträgt vorzugsweise bis zu 80,0 nm, und
der Lc(002)-Wert beträgt insbesondere bis zu 50,0 nm.
Die Domäne ist eine Anordnung von Kristallgittern. Der Lc(002)-
Wert des Graphit-Kohlenstoffs zeigt die durchschnittliche Länge einer Domäne in
der Richtung senkrecht zu Schichten, die aus elementarem Kohlenstoff
in einer Wabenstruktur bestehen, d. h. entlang der c-
Achse von molekularen Graphitschichten.
Der Lc-(002)-Wert von elementarem Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-
Formteil wird durch ein Verfahren erhalten,
bei dem die Kohlenstoff-002-Beugung und die Silicium-111-Beugung,
die als innerer Standard angewendet wird, registriert
und diese Beugungsmaxima bzw. -reflexe analysiert werden. Ein
ausführliches Verfahren ist in den Beispielen angegeben.
Wenn der Lc(002)-Wert von elementarem Kohlenstoff in einem Kohlenstoff-
Formteil größer als 100,0 nm ist, reagiert
Kohlenstoff an den Oberflächen des Formteils mit
geschmolzenem Silicium unter Bildung von Siliciumcarbid; im Gegensatz
dazu wird Kohlenstoff im Inneren desselben
Formteils wenig mit geschmolzenem Silicium umgesetzt.
Somit reagieren bei der Verwendung eines Kohlenstoff-
Formteils mit einem Lc(002)-Wert von mehr als 100,0 nm in einigen
Fällen etwa 60 bis 80% des Kohlenstoffs in dem Kohlenstoff-
Formteil mit geschmolzenem Silicium, während
der Rest des Kohlenstoffs in dem Formteil unumgesetzt
bleibt. In anderen Fällen wurden in dem resultierenden
Sintererzeugnis etwa 5 bis 10% des Kohlenstoffs in dem Kohlenstoff-
Formteil beobachtet.
Wenn der Lc(002)-Wert von elementarem Kohlenstoff in einem planaren
Kohlenstoff-Formteil größer als 100,0 nm ist,
dehnt sich das Formteil während seiner Reaktion mit
geschmolzenem Silicium in Richtung seiner Dicke in beträchtlichem
Maße, beispielsweise um mehr als 50%, aus. Diese Ausdehnung
ist nicht erwünscht, weil somit die Genauigkeit des Sintererzeugnisses
beeinträchtigt wird. Das Formteil
dehnt sich jedoch in Richtungen senkrecht zur Dickenrichtung nicht stark aus.
Wenn der Lc(002)-Wert von elementarem Kohlenstoff in einem Kohlenstoff-
Preß- bzw. -Formteil von 100,0 nm auf 80,0 nm bis 50,0
nm abnimmt, vermindert sich die Ausdehnung in Richtung der Dicke
des Preß- bzw. Formteils während der Reaktion auf beispielsweise
10 bis 20%. Es wird angenommen, daß die Ausdehnung mit
der Porenbildung in dem Sintererzeugnis zusammenhängt.
Als Kohlenstoff-Formteil wird vorzugsweise eine Graphitbahn
verwendet.
Eine Graphitbahn enthält vorzugsweise mindestens etwa 99
Masse-% Graphit, kann aber auch Kohlenstoff-Fasern
enthalten.
Eine Graphitbahn hat vorzugsweise eine Schichtstruktur, bei der
dünne Graphitstücke miteinander laminiert sind. Zur Herstellung
des erfindungsgemäßen Sintererzeugnisses kann eine Graphitbahn
verwendet werden, die im Handel, beispielsweise unter der Handelsbezeichnung
Sigraflex® von Sigri GmbH in Deutschland oder
unter der Handelsbezeichnung Permafoil® von Toyo Tanso Co.,
Ltd. in Osaka, Japan erhältlich ist.
Als Kohlenstoff-Formteil ist auch eine Kohlenstoffbahn
vorzuziehen. Der Ausdruck "Kohlenstoffbahn" bezieht sich
auf eine geformte Schichtstruktur, die Kohlenstoff-Fasern enthält
oder im wesentlichen aus Kohlenstoff-Fasern besteht. Kohlenstoff-
Fasern können zu Strängen geflochten und Stränge mit
Durchmessern von weniger als 0,5 mm zur Bildung einer Kohlenstoffbahn
miteinander verflochten werden. Alternativ können
Kohlenstoff-Fasern durch Bindemittel miteinander verbunden werden.
Das Siliciumcarbid in dem erfindungsgemäßen Sintererzeugnis besteht
im wesentlichen aus seiner β-Form. Siliciumcarbid
in der α-Form anstelle der β-Form in dem Erzeugnis
verschlechtert die Temperaturwechselbeständigkeit des Erzeugnisses.
Das erfindungsgemäße Sintererzeugnis enthält
0,01 bis 3 Masse-%, auf die Summe des Siliciumcarbids und des
Siliciums in dem Erzeugnis bezogen, mindestens eines Elements,
das aus Fe, Ca und Al ausgewählt ist. Diese Elemente in dem Erzeugnis
verbesssern seine Oxidationsbeständigkeit. Diese Elemente
können beispielsweise in das Erzeugnis eingebracht werden,
indem das Sintererzeugnis in eine geeignete Aufschlämmung, die
diese Elemente enthält, eingetaucht und das Erzeugnis wieder
gebrannt wird.
Ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Siliciumcarbid-
Sintererzeugnisses ist nachstehend offenbart.
Zum Halten von Siliciumpulver und eines Kohlenstoff-
Formteils wird ein Kohlenstofftiegel angewendet. Der Tiegel
ist dicht, damit geschmolzenes Silicium nicht
durch Kapillarwirkung in den Tiegel eindringt. Die Oberflächen
des Tiegels sind vorzugsweise mit Bornitrid beschichtet.
Ein planares Kohlenstoff-Formteil wird in einem
Tiegel, der sich in einem Ofen befindet, senkrecht gehalten, so
daß ein unterer Teil des Formteils beim Brennen in
geschmolzenes Silicium eintaucht.
Das Kohlenstoff-Formteil und das Siliciumpulver
werden bei einer Temperatur von etwa 1450 bis 2500°C in einer
inerten Atmosphäre unter einem verminderten Druck erhitzt. Zu
Beispielen für die inerte Atmosphäre gehören Argon, Helium,
Stickstoff und eine Mischung dieser Gase. Eine Argonatmosphäre
ist einer Heliumatmosphäre vorzuziehen, und eine Heliumatmosphäre
ist einer Stickstoffatmosphäre vorzuziehen, weil geschmolzenes
Silicium in dieser Reihenfolge langsamer in das
Kohlenstoff-Formteil eindringt.
Während des Brennschrittes dringt das geschmolzene Silicium durch
Poren in der Graphitbahn mittels Kapillarwirkung in die Bahn
ein, so daß es mit elementarem Kohlenstoff in dem
Formteil reagiert, wodurch ein Siliciumcarbid-Sintererzeugnis
erhalten wird. Auf diese Weise gebildetes Siliciumcarbid besteht
im wesentlichen aus der β-Form.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines Siliciumcarbid-
Sintererzeugnisses liefert ein Siliciumcarbid-Sintererzeugnis,
das durch einen niedrigen Porositätsgrad, eine geringe
Menge restlichen elementaren Kohlenstoffs, eine ausgezeichnete
Temperaturwechselbeständigkeit und eine ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit
gekennzeichnet ist. Das Sintererzeugnis hat
außerdem eine geringe Wärmekapazität. Ferner
behält das erfindungsgemäße Sintererzeugnis seine mechanische
Festigkeit bei Raumtemperatur bis zu Temperaturen, die höher
als 1000°C sind, im wesentlichen bei.
Das erfindungsgemäße Sintererzeugnis kann somit verschiedene
Arten von (Bau)Teilen verwendet werden, die mechanische Festigkeit
bei hohen Temperaturen und Temperaturwechselbeständigkeit
erfordern, beispielsweise für ein Regal in einem Schnellbrennofen,
für Einrichtungen, die in einem Brennofen
angewendet werden, wie z. B. einen Keramikhahn außerhalb des
Oberteils und einen Keramikbehälter für hitzebeständige Teile
in einer/m Verbrennungseinrichtung bzw. -motor, für hitzebeständige
Teile in einer Gasturbine, wie z. B. eine Turbinenschaufel,
für eine Heizeinrichtung, für einen Fuß bzw. eine Lagerung eines
Radiators bzw. Kühlers, für ein Radiator- bzw. Kühlerrohr
usw. Das erfindungsgemäße Sintererzeugnis eignet sich besonders
zur Anwendung für ein Regal zum Halten von Fliesen, Kacheln
bzw. (Dach)-Ziegeln, die in einem Rollenherdofen zu brennen
sind. Da das erfindungsgemäße Sintererzeugnis eine dünne Platte
mit einer niedrigen Dichte sein kann, wird das Erzeugnis vorteilhafterweise
für ein Regal in einem Ofen zum Brennen keramischer
Werkstoffe verwendet.
Eine Graphitbahn unter der Handelsbezeichnung Permafoil® wurde
verwendet. Die Bahn enthält etwa 99,7
Masse-% Graphit und hat einen Aschegehalt von etwa 01, Masse-%.
Die Bahn hat eine Dichte von 1,0 g/cm³ und hat eine Größe von
200 mm×200 mm×2 mm.
Die Bahn wurde senkrecht in einem Tiegel gehalten, der Siliciumpulver
mit einem mittleren Durchmesser von etwa 1 mm enthielt.
Das Siliciumpulver hatte eine Reinheit von 99,8%.
Der Tiegel mit der Graphitbahn und dem Siliciumpulver wurde in
einen Ofen eingebracht, und sie wurden in einer Argonatmosphäre
unter einem Druck von 5,1 kPa (0,05 atm) auf 1700°C erhitzt
und 3 h lang bei dieser Temperatur stehengelassen, wobei ein
Sintererzeugnis erhalten wurde.
Das auf diese Weise erhaltene Sintererzeugnis enthält etwa 80
Masse-% β-Siliciumcarbid und etwa 20 Masse-% Silicium.
Die Mengen von Calcium, Eisen, Aluminium und Kohlenstoff wurden
durch Röntgenfluoreszenzanalyse gemessen. Auf die Summe des
Siliciumcarbids und des Siliciums als 100% bezogen enthält das
Erzeugnis etwa 0,1 Masse-% Calcium, etwa 0,05 Masse-% Eisen und
etwa 0,05 Masse-% Aluminium.
Der Gehalt an Kohlenstoff lag unterhalb
der Nachweisgrenze. Diese Elemente lagen in dem verwendeten
Si-Pulver als Verunreinigungen vor. Dabei hing die Menge der
enthaltenen Verunreinigungen von der Art des verwendeten Pulvers ab.
Eine quadratische Aluminiumplatte mit den Abmessungen 100mm×
100 mm×10 mm wurde auf ein quadratisches Siliciumcarbid-Sintererzeugnis
mit den Abmessungen 200 mm×200 mm, dessen Dicke
verschieden war, aufgelegt. Dann wurden die Aluminiumplatte und
das Sintererzeugnis in einem Ofen auf eine Temperatur erhitzt,
die in Tabellen 1 und 2 angegeben ist, und dann wurden sie aus
dem Ofen herausgenommen und bei Raumtemperatur stehengelassen.
Dieser Zyklus wurde wiederholt, wobei die Zahl der Zyklen in
Tabellen 1 und 2 angegeben ist. Nach den Zyklen oder nach jedem
Zyklus wurde das Vorhandensein von Rissen in dem Sintererzeugnis
visuell geprüft. In Tabellen 1 und 2 bezeichnet ΔT diese
Prüfung der Temperaturwechselbeständigkeit.
Das Vorhandensein von α-Siliciumcarbid und β-Siliciumcarbid in
einem Sintererzeugnis wurde durch Röntgendiffraktometrie geprüft.
Als Röntgenstrahlenquelle wurde die Kα-Strahlung von Cu
angewendet. An die Röntgenröhre wurde eine Spannung von 40 kV
bei 30 mA angelegt, und eine Probe wurde mit einer Rate von einem
Grad pro Minute abgetastet, was einer längeren Abtastdauer als der
üblicherweise verwendeten entspricht. Üblicherweise wird eine
Abtastrate von zwei oder drei Grad pro Minute aus Gründen
der Zeitersparnis verwendet. Hier wird die längere Abtastdauer
gewählt, um effizient genauere Daten zu sammeln.
Für die Röntgendiffraktometrie wurde ein RINT 1000, hergestellt
von Rigaku Denki Ltd. verwendet.
Diese Ergebnisse und Bedingungen sind in Tabelle 1 gezeigt.
Die Art, die Dicke und die Dichte einer Graphitbahn wurden in
der in Tabelle 1 gezeigten Weise gewählt, und die Brenntemperatur,
die Atmosphäre und der Druck wurden bei jedem der Beispiele
2 bis 12 und der Vergleichsbeispiele 1 bis 3 in Tabelle 1
gewählt. Die anderen Bedingungen waren dieselben wie in Beispiel 1.
In Beispiel 5 wurden fünf Bahnen Permafoil® aufeinandergeschichtet
und durch organischen Klebstoff verbunden, um ein
Formteil mit einer Dicke von 5 mm zu bilden.
Die Zusammensetzung von jedem der Sintererzeugnisse ist in Tabelle 1
gezeigt.
Prüfungen der Temperaturwechselbeständigkeit zeigten, daß die
Sintererzeugnisse der Beispiele 2 bis 12 der Erfindung keine
Risse bildeten. Als die Formteile im Gegensatz dazu
in den Vergleichsbeispielen 1 bis 2 bei einem Druck von 101 kPa, d. h. unter Bedingungen außerhalb
der Erfindung gebrannt wurden, wurden keine Siliciumcarbid-Sintererzeugnisse
erhalten. Diese Bedingungen und die Ergebnisse
sind in Tabelle 1 aufgeführt.
Fig. 1 ist eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme des
Sintererzeugnisses von Beispiel 6. Ein dunkler Teil der Aufnahme
zeigt β-Siliciumcarbid, und ein weißter Teil zeigt Silicium.
Eine Graphitbahn unter der Handelsbezeichnung Sigraflex® wurde
verwendet. Die Bahn hatte eine Dichte von 1,0 oder
0,8 g/cm³ und eine Größe von 200 mm×200 mm×2 mm. Die Graphitbahn
wurde mit Siliciumpulver auf 1800°C erhitzt. Die Atmosphäre,
der Druck und die Menge des Siliciumpulvers wurden
gegenüber denen in Beispiel 1 durch absichtliche Zugabe der in Tabelle 2 angegebenen Mengen an Ca, Al und Fe verändert. Die anderen Bedingungen
waren dieselben wie in Beispiel 1.
In Beispiel 13 und Vergleichsbeispiel 7 wurde eine Graphitbahn
mit einer Heißpresse unter einem Druck von 2,94 N/cm² zusammengepreßt
und dann in Gegenwart von geschmolzenem Silicium wieder
gebrannt. Das resultierende Sintererzeugnis enthält eine geringe
Siliciummenge.
In Beispiel 13 wurde das Sintererzeugnis nach dem Brennen der
Graphitbahn mit einer Aufschlämmung von Calciumchlorid und Aluminiumlactat
behandelt, worauf ein weiteres Brennen bei 1400°C
folgte.
In den Beispielen 14 bis 18 wurden dem Siliciumpulver die in Tabelle 2 angegebenen
Mengen von Pulvern aus CaCO₃, Al₂O₃ und/oder Fe₂O₃ zugesetzt.
Die Zusammensetzung des Sintererzeugnisses von jedem Beispiel
ist in Tabelle 2 aufgeführt.
In den Vergleichsbeispielen 4 bis 7 wurde Siliciumpulver mit
einer Reinheit von mindestens 99,99 Masse-% ohne Calcium-, Aluminium-
oder Eisenquelle verwendet.
In Vergleichsbeispiel 6 blieb nach dem Brennen etwas Graphit
zurück.
Mit jedem Sintererzeugnis wurde eine Prüfung der Temperaturwechselbeständigkeit
durchgeführt, und Tabelle 2 zeigt die Zahl
der Zyklen zwischen einer bestimmten in der Tabelle 2 angegebenen
Temperatur und Raumtemperatur, nach denen das Erzeugnis
Risse zeigte. Die Oxidationsbeständigkeit des Erzeugnisses wurde
in der nachstehend beschriebenen Weise gemessen.
Ein Sintererzeugnis wurde 50 h lang bei 1100°C in einer Sauerstoffatmosphäre
stehengelassen, die bei 90°C mit Wasserdampf
gesättigt worden war. Nach dem Stehenlassen wurde die Zunahme
der Masse des Sintererzeugnisses gemessen, die in Tabelle 2
aufgeführt ist.
Die Vierpunkt-Biegefestigkeit von jedem der Sintererzeugnisse
der Beispiele 13 bis 18 und der Vergleichsbeispiele 5 bis 8
wurde bei Raumtemperatur und bei 1300°C gemessen. Das Verhältnis
der Biegefestigkeit bei Raumtemperatur zu der bei 1300°C
ist in Tabelle 2 gezeigt.
Die Kohlenstoff-002-Beugung bei einer Graphitprobe wurde mit
einem Röntgendiffraktometer (Rigaku Denki RINT 1000) mit einem
automatischen Registriergerät registriert. Als Graphitbahnen
wurden Nikafilm®, Sigraflex® und Permafoil® verwendet.
Ein Graphit
vom Phosphortyp unter der Handelsbezeichnung PTF wurde
ebenfalls verwendet. Ein Verfahren zum Registrieren des
Lc(002)-Wertes und seine Datenanalyse sind in S. Ootani, "Carbon
Fiber"; Kindai-Henshu-sha; Tokio 1986; S. 733-742, und in
M. Inagaki, "Carbon - X Manual"; Hg. Carbon Material Society;
Riaraizu-sha; Tokio 1987; S. 21-27, offenbart.
Eine Graphitbahn wurde gefeilt, um feines Graphitpulver zu erhalten.
Das Graphitpulver wurde durch ein Standardsieb mit einer
lichten Maschenweite von 74 µm (200 mesh) hindurchgehen gelassen.
Siliciumpulver (Elkem Co.) wurde durch ein
Standardsieb mit einer lichten Maschenweite von 44 µm (330
mesh) hindurchgehen gelassen. Dem gesiebten Graphitpulver wurden
als innerer Standard etwa 50 Masse-%, auf das Graphitpulver
bezogen, des gesiebten Siliciumpulvers zugesetzt. Die Mischung
wurde in einer Achatreibschale gründlich gemischt, um eine Probe
für die Röntgenbeugung zu erhalten. Die Probe wurde gleichmäßig
auf eine Probenplatte aufgebracht.
Als Röntgenstrahlenquelle wurde die Cu-Kα-Strahlung mit einer
Wellenlänge von 0,15418 nm (1,5418 Å) angewendet, und die Cu-Kβ-Strahlung
wurde mit einem Monochromator entfernt. An die Röntgenröhre
wurde eine Spannung von 35 kV bei einer Stromstärke von 20 mA
angelegt.
Die Divergenz-Schlitzblende wurde auf 1° eingestellt, eine
Streuungs-Schlitzblende wurde auf 0,15 mm eingestellt, und eine
Eintritts-Schlitzblende wurde auf 1° eingestellt. Es wurde das
Verfahren der schrittweisen Abtastung angewendet. Ein Schritt
in dem Goniometer wurde auf 0,01° eingestellt. Die Registrierung
der Beugungen dauerte bei jedem Schritt 1 s. Der Beugungswinkel
wurde in einem Bereich von 24° bis 30° eingestellt. Die
Kohlenstoff-002-Beugung und die Silicium-111-Beugung wurden registriert.
Der Beugungswinkel 2ϑ und die Halbwertsbreite jedes
Beugungsmaximums bzw. -reflexes sind in Tabellen 3, 4 und 5 angegeben.
Der Beugungswinkel 2ϑ eines Kohlenstoff-002-Reflexes wurde
durch den mittleren Beugungswinkel eines Silicium-111-Reflexes
von 28,465 geeicht. Die Gitterkonstante d von Si(111) beträgt
3,13552. Unter Berücksichtigung eines 0,02° betragenden Fehlers
des Beugungswinkels 2ϑ von C(002) beträgt der Fehler der Gitterkonstante
±0,0025.
Die beobachtete Halbwertsbreite B₀ eines Kohlenstoff-002-Beugungsreflexes
und die beobachtete Halbwertsbreite b₀ eines Silicium-
111-Beugungsreflexes lieferten den Wert Δ/B₀ bzw. Δ/b₀
(Tabellen 4 und 5). Der Δ-Wert des C(002)-Beugungsreflexes beträgt
0,067, und der Δ-Wert des Si(111)-Beugungsreflexes beträgt
0,073.
Der Δ/B₀-WErt und der Δ/b₀-Wert werden unter Anwendung der
Diagramme 2 und 3 auf Seite 739 in "Carbon Fiber" mit einem B/
B₀-Wert bzw. einem b/b₀-Wert korreliert. Der B/B₀-Wert und der
b/b₀-Wert liefern die wahre Halbwertsbreite β in Radiant. Einsetzen
von β in die Gleichung (1) liefert den Lc(002)-Wert, der
eine Länge einer Domäne in der Richtung der c-Achse zeigt. Die
Analyse ist in Tabelle 6 gezeigt.
Lc(002) = 9,1/β (1)
Claims (9)
1. Siliciumcarbid-Sintererzeugnisse, wobei das Sintererzeugnis
einen Porositätsgrad bis zu 10 Volumen-% hat, das
Siliciumcarbid im wesentlichen aus β-Siliciumcarbid besteht
und das Sintererzeugnis ferner 0,01 bis 3 Gew.-% mindestens
eines Elements enthält, das aus Fe, Ca und Al ausgewählt ist,
und durch ein Verfahren erhältlich ist, das den folgenden
Schritt aufweist:
Eindringenlassen von geschmolzenem Silicium in ein Kohlenstoff-Formteil mit zahlreichen Domänen, das im wesentlichen aus elemantarem Kohlenstoff besteht, wobei der Lc(002)-Wert, der die durchschnittliche Länge einer Domäne in der Richtung senkrecht zu der C(002)-Oberfläche von elementarem Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-Formteil zeigt, nicht größer als 100,0 nm ist, bei einer Temperatur von 1450 bis 2500°C in einer inerten Atmosphäre unter vermindertem Druck von 81×10³ Pa oder weniger, um so das Sintererzeugnis zu bilden.
Eindringenlassen von geschmolzenem Silicium in ein Kohlenstoff-Formteil mit zahlreichen Domänen, das im wesentlichen aus elemantarem Kohlenstoff besteht, wobei der Lc(002)-Wert, der die durchschnittliche Länge einer Domäne in der Richtung senkrecht zu der C(002)-Oberfläche von elementarem Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-Formteil zeigt, nicht größer als 100,0 nm ist, bei einer Temperatur von 1450 bis 2500°C in einer inerten Atmosphäre unter vermindertem Druck von 81×10³ Pa oder weniger, um so das Sintererzeugnis zu bilden.
2. Siliciumcarbid-Sintererzeugnisse nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Menge des Siliciumcarbids 50 bis 99,5 Masseteile beträgt,
die Menge des Siliciums 50 bis 0,5 Masseteile beträgt und
die Menge des elementaren Kohlenstoffs bis zu 1 Masseteil
beträgt.
3. Siliciumcarbid-Sintererzeugnisse nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Sintererzeugnis eine Dicke von 0,3 bis 10 mm hat.
4. Siliciumcarbid-Sintererzeugnisse nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Menge des elementaren Kohlenstoffs bis zu 0,5 Masseteile
beträgt.
5. Verfahren zur Herstellung eines Siliciumcarbid-
Sintererzeugnisses nach einem der Ansprüche 1 bis 4, das die
folgenden Schritte aufweist:
Bereitstellen eines Kohlenstoff-Formteils, das wenigstens 99 Masse-% elementaren Kohlenstoffs enthält und zahlreiche Domänen hat, die im wesentlichen aus diesem elementaren Kohlenstoff bestehen, wobei der Lc(002)-Wert, der die durchschnittliche Länge einer Domäne in der Richtung senkrecht zu der C(002)-Oberfläche von elementarem Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-Formteil zeigt, nicht größer als 100,0 nm ist; und
Eindringenlassen von geschmolzenem Silicium in das Kohlenstoff-Formteil bei einer Temperatur von 1450 bis 2500°C in einer inerten Atmosphäre unter vermindertem Druck von 81×10³ Pa oder weniger, um so das Sintererzeugnis zu bilden.
Bereitstellen eines Kohlenstoff-Formteils, das wenigstens 99 Masse-% elementaren Kohlenstoffs enthält und zahlreiche Domänen hat, die im wesentlichen aus diesem elementaren Kohlenstoff bestehen, wobei der Lc(002)-Wert, der die durchschnittliche Länge einer Domäne in der Richtung senkrecht zu der C(002)-Oberfläche von elementarem Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-Formteil zeigt, nicht größer als 100,0 nm ist; und
Eindringenlassen von geschmolzenem Silicium in das Kohlenstoff-Formteil bei einer Temperatur von 1450 bis 2500°C in einer inerten Atmosphäre unter vermindertem Druck von 81×10³ Pa oder weniger, um so das Sintererzeugnis zu bilden.
6. Verfahren zur Herstellung eines Siliciumcarbid-
Sintererzeugnisses nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
als elementarer Kohlenstoff in dem Kohlenstoff-Formteil
Graphit verwendet wird.
7. Verfahren zur Herstellung eines Siliciumcarbid-
Sintererzeugnisses nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß
als Kohlenstoff-Formteil eine Graphitbahn verwendet wird.
8. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
Kohlenstoff mit einem Lc(002)-Wert von nicht größer als 80,0
nm verwendet wird.
9. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
Kohlenstoff mit einem Lc(002)-Wert von nicht größer als 50,0
nm verwendet wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34592891 | 1991-12-27 | ||
JP4354033A JP2642573B2 (ja) | 1991-12-27 | 1992-12-15 | SiC質焼結体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4243941A1 DE4243941A1 (en) | 1993-07-29 |
DE4243941C2 true DE4243941C2 (de) | 1997-01-09 |
Family
ID=26578146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4243941A Expired - Lifetime DE4243941C2 (de) | 1991-12-27 | 1992-12-23 | Siliciumcarbid-Sintererzeugnis und Verfahren zu seiner Herstellung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5338576A (de) |
JP (1) | JP2642573B2 (de) |
DE (1) | DE4243941C2 (de) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1992
- 1992-12-15 JP JP4354033A patent/JP2642573B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-21 US US07/994,311 patent/US5338576A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-23 DE DE4243941A patent/DE4243941C2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05339059A (ja) | 1993-12-21 |
JP2642573B2 (ja) | 1997-08-20 |
DE4243941A1 (en) | 1993-07-29 |
US5338576A (en) | 1994-08-16 |
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R071 | Expiry of right | ||
R071 | Expiry of right |