DE4116554A1 - Transportverfahren und -system fuer reinraumbedingungen - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Transportverfahren für Reinraumbedingungen und ein System dafür, insbe­ sondere ein Transportverfahren, das es erlaubt, für die Verarbeitung und/oder den Zusammenbau eines Halbleiter­ erzeugnisses benötigte Komponenten oder Bauteile zu transportieren und dabei sauber oder frei von jeglicher Verschmutzung zu halten, sowie ein System dafür.

Derartige bekannte Transportverfahren werden im allge­ meinen in der in den Fig. 1 und 2 dargestellten Weise durchgeführt. Insbesondere ist ein geschlossener Raum 110 in einen Fabrikationsraum 112 und einen Reinraum 114 mittels einer Trennwand 116 aufgeteilt. Der Fabrika­ tionsraum 112 ist zur umgebenden Atmosphäre hin offen, und ist in dieser mit verschiedenen Apparaten 118 verse­ hen, die für die Herstellung von Halbleitern nach einem präzisions-Dünnfilm-Verfahren benötigt werden.

Der Reinraum 114 wird auf einem Luftreinheitsgrad im Bereich der Klassen 100 bis 10 gehalten. "Klasse 100" bedeutet hierbei einen Reinheitsgrad von 100 oder weni­ ger Partikeln mit einer Größe von 0,5 µm oder größer in einem Kubikfuß (28 dm³) Luft und "Klasse 10" bedeutet einen Reinheitsgrad von 10 oder weniger Partikeln mit einer Größe von 0,5 µm oder größer in einem Kubikfuß Luft. Von der Decke des Reinraumes 114 wird ein Luft­ strom durch ein Filter 120 in den Reinraum geblasen. Der Luftstrom wird dann durch einen gitterförmig konstruier­ ten Fußboden 122 nach außen ausgeblasen. In dem so aus­ geführten Reinraum 114 ist ein Reinraumbehälter 124 bewegbar angeordnet, der auf einem Reinheitsgrad der Klassen 10 bis 1 gehalten wird. "Klasse 1" bedeutet einen Reinheitsgrad von einem oder weniger Partikeln mit einer Größe von 0,5 µm oder größer pro Kubikfuß Luft. Die Apparate 118 sind jeweils mit einer Transportöffnung versehen, die zu der Seite der Trennwand hin offen ist, die dem Reinraum 114 zugekehrt ist. Die Umgebung 126 jeder Transportöffnung wird lokal auf einem Reinheits­ grad im Bereich der Klassen 10 bis 1 gehalten.

Das Befördern eines Transportgegenstandes 128, wie eines Halbleiterwafers o. dgl., zwischen dem Reinraumbehälter 124 und dem Apparat 118 wird gemäß Fig. 2 durch Einfüh­ ren des Transportgegenstandes 128 aus dem Reinraumbehäl­ ter 124 durch die Umgebung 126 des Randes der Transpor­ töffnung, die lokal auf einem Reinheitsgrad im Bereich zwischen den Klassen 10 und 1 gehalten ist, in eine Ladeschleusenkammer 130 des Apparates 118, die als Vor­ vakuumkammer dient, durch Schließen eines Verschlusses der Transportöffnung auf der Seite des Apparates zum Evakuieren der Vorvakuumkammer, und durch Transportieren des Transportgegenstandes 128 in die Vakuumkammer 132 des Apparates 118 durchgeführt.

Beim bekannten Transportverfahren gemäß der Fig. 1 und 2 muß der Reinraum 114 auf einem Reinheitsgrad im Bereich der Klassen 100 bis 10 gehalten werden und so ausgebildet sein, daß er einen großen Raum umgibt. Un­ glücklicherweise treten hohe Kosten auf, den großen Reinraum 114 auf dem hohen Reinheitsgrad zu halten. Ferner ist es bei den bekannten Transportverfahren nö­ tig, die Ladeschleusenkammer 130 zur Aufnahme des Transportgegenstandes auf seiten des Apparats 118 vorzu­ sehen, der mit einer Vakuumkammer 132 versehen ist, sowie die Ladeschleusenkammer 130 zu evakuieren. Dies verkompliziert den Aufbau des Apparates. Zusätzlich ist es im wesentlichen unmöglich den Reinheitsgrad auf einen Wert zu verbessern, der ausreicht, um die Zahl der Schwebeteilchen praktisch bei Null zu halten. Insbeson­ dere besteht die Möglichkeit, daß Partikel den Trans­ portgegenstand während des Beförderns zwischen dem Rein­ raumbehälter 124 und dem Apparat 118 verschmutzen.

Es wurde auch schon ein anderes konventionelles Trans­ portverfahren vorgeschlagen, das gemäß Fig. 3 ein Mehr­ kammersystem enthält. Das Mehrkammersystem ist so ausge­ bildet, daß eine einzige Ladeschleusekammer zum Durch­ schleusen eines Transportgegenstandes, wie beispielswei­ se eines Halbleiterwafers o. dgl. vorgesehen ist, die gemeinsam für eine Sputteranlage 134, eine CVD-Anlage 136, eine Ätzanlage 138 o. dgl. verwendet wird.

Leider hat ein Transportverfahren, das das Mehrkammersy­ stem gemäß Fig. 3 verwendet, folgende Nachteile: Es ist nicht möglich, die Anzahl der im System angeordneten Anlagen zu erhöhen, die Anlagen können nicht frei ange­ ordnet werden, und die Wartung ist problematisch.

Aus der japanischen Patentanmeldung der Anmelderin mit der Veröffentlichungsnummer 28 047/1988 ist ein Trans­ portverfahren für Reinraumbedingungen bekannt, das je­ doch nicht die Güte des Vakuums in einem Reinraum be­ rücksichtigt.

Die vorliegende Erfindung wurde angesichts der o.g. Nachteile des Standes der Technik gemacht unter Beach­ tung des Ergebnisses eines Experimentes der Erfinder, wonach bei den Halbleitertechnologien wie beispielsweise der Abscheidung aus der Dampfphase, dem Sputtern, der Ionenimplantation o. dgl. eine Verbesserung des Vakuums auf Drücke von 1 Torr oder weniger das Schweben von Par­ tikeln wirksam verhindert.

Dementsprechend ist es Aufgabe der vorliegenden Erfin­ dung, ein Transportverfahren für Reinraumbedingungen anzugeben, das den sicheren Transport eines Transportge­ genstandes, wie beispielsweise eines Halbleiterwafers o. dgl., zu verschiedenen Apparaten unter Sauberhaltung der Umgebung ermöglicht, von denen jeder mit einer Vaku­ umkammer versehen ist. Es ist eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Transportverfahren für Rein­ raumbedingungen anzugeben, das wirksam auf verschiedene Anwendungen ausgerichtet werden kann, wie beispielsweise die Bildung eines dünnen Films mit hoher Präzision.

Es ist ferner Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Transportverfahren für Reinraumbedingungen anzugeben, das effizient bei der Herstellung von hochpräzisen Bau­ teilen angewendet werden kann, um deren Ausbeute zu erhöhen.

Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Transportverfahren für Reinraumbedingungen anzuge­ ben, das eine ausreichende Flexibilität vorweisen kann, die es erlaubt, die Herstellung diversifizierter kleiner Mengen zu bewältigen.

Es ist noch eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfin­ dung ein Transportverfahren für Reinraumbedingungen anzugeben, das die Verwendung eines in seinem Aufbau vereinfachten Systems zur Durchführung des Verfahrens gestattet.

Es ist noch eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfin­ dung ein Transportsystem für Reinraumbedingungen anzuge­ ben, das wirksam auf verschiedene Anwendungen ausgerich­ tet werden kann, wie beispielsweise die Bildung eines dünnen Films mit hoher Präzision.

Es ist noch eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfin­ dung ein Transportsystem für Reinraumbedingungen anzuge­ ben, das effizient bei der Herstellung von hochpräzisen Bauteilen angewendet werden kann, um deren Ausbeute zu erhöhen.

Es ist noch eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfin­ dung ein Transportsystem für Reinraumbedingungen anzuge­ ben, das eine ausreichende Flexibilität vorweisen kann, die es erlaubt, die Herstellung diversifizierter kleiner Mengen zu bewältigen.

Entsprechend einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Transportverfahren für Reinraumbedingungen angegeben. Das Transportverfahren enthält den Schritt des Transports eines Transportgegenstandes, wie bei­ spielsweise eines Halbleiterwafers o. dgl., zwischen einem Vakuumbehälter, dessen Druck auf 1 Torr oder weni­ ger gehalten wird, und einer Vakuumkammer, wobei die Transportöffnungen des Vakuumbehälters und der Vakuum­ kammer luftdicht miteinander verbunden gehalten werden.

Gemäß einem anderen Aspekt der Erfindung wird ein Trans­ portsystem für Reinraumbedingungen angegeben. Das Trans­ portsystem enthält einen Vakuumbehälter, dessen Druck auf 1 Torr oder weniger gehalten wird, und eine Vakuum­ kammer. Der Vakuumbehälter und die Vakuumkammer sind mit Transportöffnungen versehen, durch welche der Vakuumbe­ hälter und die Vakuumkammer luftdicht miteinander ver­ bunden sind.

Bei der vorliegenden Erfindung, die wie oben beschrieben ausgeführt ist, wird der Transportgegenstand zwischen dem Vakuumbehälter, dessen Druck auf 1 Torr oder weniger gehalten wird, und der Vakuumkammer transportiert, und währenddessen die jeweiligen Transportöffnungen des Vakuumbehälters und der Vakuumkammer luftdicht miteinan­ der verbunden, so daß es nicht nötig ist, einen Reinraum zu unterhalten, in dem der einen guten Reinheitsgrad aufweisende Vakuumbehälter bewegt wird. Genauer gesagt wird lediglich ein Reinraum benötigt, der nur auf einem Reinheitsgrad der Klasse 10 000 gehalten wird. "Klasse 10 000" bedeutet einen Reinheitsgrad von 10 000 oder weni­ ger Partikeln einer Größe von 0,5 µm oder größer pro Kubikfuß Luft. Folglich kann der Reinraum einen einfa­ chen Aufbau haben. Insbesondere erlaubt die vorliegende Erfindung den oben beschriebenen gitterförmigen Fußbo­ den, der beim Stand der Technik benötigt wird, im Rein­ raum fortzulassen, wodurch der Aufbau des Reinraums sehr vereinfacht wird, so daß dessen Kosten verringert werden können. Ferner erlaubt die vorliegende Erfindung den Transportgegenstand zu transportieren, währenddem die Umgebung, in der der Transportgegenstand transportiert wird, sauber gehalten wird, und dadurch die Bildung dünner Filme mit hoher Präzision zu realisieren. Ferner beschränkt die vorliegende Erfindung nicht die Art und Weise, wie der Apparat zur Verarbeitung oder Behandlung des Transportgegenstandes angeordnet ist, und weist dadurch genügend Flexibilität auf, eine diversifizierte Kleinserienproduktion durchzuführen.

Der Zweck und die Aufgabe der vorliegenden Erfindung sowie die damit verbundenen Vorteile werden anhand der folgenden Beschreibung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen leichter verständlich. Es zeigt

Fig. 1 einen Grundriß eines konventionellen Transport­ verfahrens und -Systems für Reinraumbedingun­ gen;

Fig. 2 schematisch eine Seitenansicht des Transportsy­ stems gemäß Fig. 1;

Fig. 3 einen Grundriß eines konventionellen Mehrkam­ mersystems;

Fig. 4 schematisch einen Grundriß eines Ausführungs­ beispiels eines erfindungsgemäßen Transportver­ fahrens und -Systems für Reinraumbedingungen;

Fig. 5 schematisch eine Seitenansicht des Transportsy­ stems nach Fig. 4,

Fig. 6 eine Seitenansicht eines Vakuumbehälters und einer Vakuumkammer vor deren Verbindung;

Fig. 7 eine Seitenansicht eines Vakuumbehälters und einer Vakuumkammer, die miteinander verbunden sind;

Fig. 8 eine graphische Darstellung der Beziehung zwi­ schen der Anzahl von Schwebeteilchen, die in einer Kammer schweben, und dem Evakuierungsgrad der Kammer; und

Fig. 9 eine graphische Darstellung der Anzahl von Schwebeteilchen nach einem Lufteinbruch in eine vakuumdichte Kammer.

Bezugnehmend auf die Fig. 4 bis 9 wird nachfolgend ein erfindungsgemäßes Transportverfahren und -System für Reinraumbedingungen beschrieben, wobei gleiche Bezugs­ zeichen immer gleiche oder entsprechende Teile bezeich­ nen.

Wie in den Fig. 4 bis 7 dargestellt, ist ein ge­ schlossener Raum 10 durch eine Trennwand 16 in einen Fabrikationsraum 12, der zur Umgebungsatmosphäre hin offen oder mit dieser verbunden ist, und einen verein­ fachten Reinraum 14 aufgeteilt. Der Reinraum 14 kann auf einem etwas höheren Reinheitsgrad gehalten werden, als der Fabrikationsraum 12. Im Fabrikationsraum 12 sind verschiedene Apparate 18 zur Herstellung von Halbleitern nach der Präzisions-Dünnfilmtechnik o. dgl. angeordnet. Jeder der Apparate 18 ist mit einer Vakuumkammer 20 versehen.

Der Reinheitsgrad des einfachen Reinraumes 14 braucht lediglich auf einem Reinheitsgrad gemäß Klasse 10 000 gehalten werden. Daher ist es nicht notwendig den Rein­ raum 14 mit einem gitterförmigen Fußboden auszustatten, wie er beim Stand der Technik gemäß Fig. 2 benötigt wird. Folglich ist es lediglich erforderlich den Rein­ raum 14 mit einfachen staubdichten Mitteln auszustatten. Die Trennwand 14 ist auf der Seite, die dem vereinfach­ ten Reinraum 14 zugewandt ist, mit einer angeflanschten Transportöffnung 22 für den Apparat 18 versehen. Im vereinfachten Reinraum 14 ist ein Vakuumbehälter 24 beweglich angeordnet und auf einem Wagen 26 o. dgl. befe­ stigt. Auf diese Weise wird der vereinfachte Reinraum 14 als Transportraum zum Transport eines Transportgegen­ standes verwendet. Die Vakuumkammer 20 oder der Vakuum­ behälter 24 oder beide können bewegbar angeordnet sein. Der Vakuumbehälter 24 ist bis auf 1 Torr oder weniger evakuiert, um ihn dadurch reinzuhalten. Zu diesem Zweck kann der Vakuumbehälter 24 selbst mit einem Evakuie­ rungssystem versehen sein. Alternativ dazu kann ein Evakuierungsmittel getrennt so angeordnet sein, daß es mit dem Vakuumbehälter 24 verbunden ist, so daß der Vakuumbehälter bei Beginn seiner Verwendung bis auf 1 Torr oder weniger evakuiert wird. Ferner können sowohl die Vakuumkammer 20 als auch der Vakuumbehälter 24 bis auf 1 Torr oder weniger evakuiert gehalten werden.

Wie in den Fig. 6 und 7 dargestellt ist in der ange­ flanschten Transportöffnung 22 jedes mit einer Vakuum­ kammer 20 versehenen Apparates 18 ein Verschluß 28 luft­ dicht eingepaßt. Der Vakuumbehälter 24 ist mit einer Transportöffnung 30 versehen, in die ein Verschluß 32 luftdicht angepaßt ist. Um die Luftdichtheit zwischen dem Verschluß 28 und der Transportöffnung 22 sowie zwi­ schen dem Verschluß 32 und der Transportöffnung 30 sich­ erzustellen, sind die Verschlüsse 28 und 32 mit O-Ringen 34 bzw. 36 versehen. Ferner ist die Transportöffnung 22 auf Seiten des Apparates 18 mit einem O-Ring 38 auf ihrer Stoßfläche oder ihrem Flansch versehen. Ferner ist der Flansch der Transportöffnung 22 auf seiner Rückseite mit Verriegelungsmitteln 40 zur Verriegelung des Ver­ schlusses 28 bezüglich der Öffnung 22 versehen. Zusätz­ lich ist der Verschluß 28 auf einer seiner Stoßflächen mit einem O-Ring 42 und gleichermaßen der Verschluß 32 auf einer seiner Stoßflächen mit einem O-Ring 44 verse­ hen. Darüber hinaus sind in den Verschlüssen 28 und 32 Permanentmagnete 46 bzw. 48 eingebettet, durch die beide Verschlüsse erwünschtermaßen miteinander verbunden sind. Die Transportöffnungen 22 und 30, die mit den Verschlüs­ sen 28 bzw. 32 versehen sind, können jeweils als Doppel­ tor-Ventilstruktur ausgebildet sein.

Das Vakuum in dem Vakuumbehälter 24 wird auf einem Wert von 1 Torr oder weniger gehalten. Nun wird auf die Fig. 8 und 9 Bezug genommen. Fig. 8 zeigt die Anzahl der Schwebeteilchen mit einer Größe von 10 µm, 5 µm, 3 µm, 1 µm oder 0,5 µm, die in einer Experimentierkammer ge­ zählt wurden, die zur Umgebungsatmosphäre hin offen war, zum Zeitpunkt 0 geschlossen wurde und dann mittels eines Evakuierungssystems evakuiert wurde. Wie aus den in Fig. 8 dargestellten Resultaten erkennbar ist, ist in der Experimentierkammer das Schweben von Partikeln beob­ achtbar, wenn diese bis auf 20 Torr oder 5 oder einige Torr evakuiert ist, jedoch ist kein Schweben von Parti­ keln beobachtbar, wenn die Kammer auf 1 Torr oder weni­ ger evakuiert ist. Fig. 9 zeigt die Anzahl von Schwebe­ teilchen, die unmittelbar nach dem Einlaß einer kleinen Menge Luft mittels einer Undichtigkeit in die vakuum­ dichte Experimentierkammer gezählt wurde. Diese erste Undichtigkeit bewirkt einen rapiden Druckanstieg in der Kammer auf 8 Torr, dann nach einer zweiten Undichtigkeit auf 15 Torr und schließlich auf 20 Torr nach einer drit­ ten Undichtigkeit, wobei die Anzahl der Schwebeteilchen unmittelbar nach jeder Undichtigkeit gezählt wurde. Fig. 9 zeigt, daß ein Druckanstieg in der Kammer auf einige Torr oder mehr aufgrund des Eindringens von Luft in die Kammer durch eine Undichtigkeit das Schweben von Partikeln in der Kammer hervorruft.

Wie somit aus den Fig. 8 und 9 ersichtlich verhindert das Evakuieren der Kammer auf 1 Torr oder weniger das Schweben von Partikeln in der Kammer, wohingegen ein Druckanstieg in der Kammer auf mehr als 1 Torr, bei­ spielsweise mehrere bis 5 oder 8 Torr, das Schweben von Partikeln in der Kammer hervorruft.

Nun wird nachfolgend die Art und Weise des Transports eines Transportgegenstandes 50, wie beispielsweise eines Halbleiterwafers, beschrieben. Zuerst wird der Vakuumbe­ hälter 24 bis auf mindestens 1 Torr oder weniger evaku­ iert um das Schweben von Partikeln in der Kammer zu verhindern. Dann wird, wie in Fig. 6 dargestellt, das Transportobjekt 50 auf einer Unterlage 52 in dem Vakuum­ behälter 24 angeordnet. Dann werden, wie in Fig. 7 dargestellt, die Transportöffnung 22 der Vakuumkammer 20 auf Seiten des Apparates 18 und die Transportöffnung 30 auf Seiten des Vakuumbehälters 24 mit ihren Stoßflächen zusammengepreßt, so daß beide Transportöffnungen 22 und 30 luftdicht miteinander verbunden sind. Gleichzeitig bewirkt dies, daß die Verschlüsse 28 und 32 mit ihren Stoßflächen durch die Wirkung der Permanentmagnete 46 und 48 einander gegenüberliegen, so daß die O-Ringe 42 und 44 das Einschließen der Luft zwischen den Stoßflä­ chen der Verschlüsse 28 und 32 bewirken. Dann werden die Verriegelungsmittel 40 gelöst, um die miteinander verbun­ denen Verschlüsse 28 und 32, wie durch gestrichelte Linien in Fig. 7 dargestellt, zu entfernen, so daß dadurch die Transportöffnungen 22 und 30 miteinander verbunden werden. Nachfolgend wird der Transportgegen­ stand 50 von der Seite des Vakuumbehälters 24 zu einer vorbestimmten Stelle auf der Seite des Apparates 18 bewegt, beispielsweise auf einen Halter 54, der in der Vakuumkammer 20 auf Seiten des Apparates angeordnet ist. In im wesentlichen gleicher Weise kann der Transportge­ genstand 50 von der Seite des Apparates auf die Seite des Vakuumbehälters transportiert werden, wobei während­ dessen die Transportöffnungen 22 und 30, wie in Fig. 7 dargestellt, luftdicht miteinander verbunden gehalten werden.

Die Verschlüsse 28 und 32 können entfernt werden, wäh­ rend sie luftdicht zusammengehalten werden, so daß das Entfernen der Verschlüsse keinen Eintritt von Luft in das System hervorruft. Auch die Vakuumkammer 20 auf der Seite des Apparates 18 wird auf Hochvakuum von 1 Torr oder weniger gehalten; somit bewirkt die Verbindung zwischen der Vakuumkammer 20 auf der Seite des Apparates und des Vakuumbehälters 24 keine Erhöhung des Drucks im Vakuumbehälter 24 auf mehr als 1 Torr, so daß der Vaku­ umbehälter effektiv für den Transport des nächsten Transportgegenstandes ohne weitere Evakuierung genutzt werden kann.

Wie aus dem Vorstehenden ersichtlich, erlaubt die vor­ liegende Erfindung ein Transportobjekt wie beispielswei­ se einen Halbleiterwafer o. dgl. zu transportieren und währenddessen die Transportöffnung des Vakuumbehälters, der bei einem Druck von 1 Torr oder weniger gehalten wird, und die Transportöffnung der Vakuumkammer luft­ dicht miteinander verbunden zu lassen, so daß der Trans­ port des Gegenstandes durchgeführt werden kann während­ dessen die Umgebung rein oder frei von Schwebeteilchen gehalten bleibt. Somit kann die vorliegende Erfindung wirkungsvoll bei der hochpräzisen Bildung von dünnen Filmen o. dgl. angewendet werden und somit auch voll bei der Herstellung von superpräzisen Bauteilen angewendet werden, wie beispielsweise von in der Zukunft zu erwar­ tenden Halbleitertypen, und dabei gleichzeitig die Aus­ beute verbessern. Ferner erlaubt die vorliegende Erfin­ dung die Anzahl der Vakuumbehälter und Vakuumkammern nach Belieben zu verändern, so daß sie eine genügende Flexibilität aufweist, die es erlaubt eine diversifi­ zierte Kleinserienproduktion zu erreichen. Ferner kann bei der vorliegenden Erfindung der Reinheitsgrad der Kammer, in der der Vakuumbehälter bewegt wird, auf einem relativ geringen Level gehalten werden, so daß dadurch der Aufbau bedeutend vereinfacht ist. Darüber hinaus wird der Transportgegenstand direkt vom Vakuumbehälter in die Vakuumkammer transportiert, so daß die beim Stand der Technik benötigte Ladeschleusenkammer o. dgl. wegge­ lassen werden kann und dadurch der Aufbau weiter ver­ einfacht wird.

Claims (16)

1. Transportverfahren für Reinraumbedingungen mit den folgenden Schritten: Transportieren eines Transport­ gegenstandes zwischen einem Vakuumbehälter, der bei einem Druck von 1 Torr oder weniger gehalten ist, und einer Vakuumkammer, wobei währenddessen Transportöffnun­ gen des Vakuumbehälters und der Vakuumkammer luftdicht miteinander verbunden gehalten werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem mindestens ent­ weder der Vakuumbehälter oder die Vakuumkammer bewegbar ist.

3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem der Vakuumbehäl­ ter bewegbar angeordnet ist.

4. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Vakuumkammer auf einem Druck von 1 Torr oder weniger gehalten ist.

5. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Vakuumkammer in einem ersten zu einer umgebenden Atmosphäre offenen Raum angeordnet ist; und der Vakuumbehälter in einem zweiten vom ersten Raum isolierten Raum bewegbar ange­ ordnet ist; die Transportöffnung der Vakuumkammer auf der Seite des zweiten Raumes angeordnet ist; der zweite Raum eine geringere Anzahl von Schwebeteilchen aufweist als der erste Raum.

6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei die Vakuumkammer in einem Apparat zur Bearbeitung des Transportobjektes angeordnet ist.

7. Verfahren nach Anspruch 5, wobei der erste Raum ein Fabrikationsraum und der zweite Raum ein Transportraum ist; der erste Raum und der zweite Raum voneinander durch eine Trennwand getrennt sind; die Transportöffnung der Vakuumkammer auf der Seite der Trennwand angeordnet ist, die dem zweiten Raum gegenüberliegt.

8. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Transport­ öffnungen des Vakuumbehälters und der Vakuumkammer mit Verschlüssen zum Betrieb des Vakuumbehälters und der Vakuumkammer versehen sind; die Verschlüsse von dem Vakuumbehälter und der Vakuumkammer entfernbar sind, während diese luftdicht miteinander verbunden sind, so daß der Vakuumbehälter und die Vakuumkammer miteinander verbunden sind.

9. Transportsystem für Reinraumbedingungen mit einem Vakuumbehälter, der auf einem Druck von 1 Torr oder weniger gehalten wird, und einer Vakuumkammer, wobei der Vakuumbehälter und die Vakuumkammer jeweils mit einer Transportöffnung versehen sind, durch die der Vakuumbe­ hälter und die Vakuumkammer luftdicht miteinander ver­ bunden sind.

10. System nach Anspruch 9, bei dem zumindest entweder der Vakuumbehälter oder die Vakuumkammer bewegbar sind.

11. System nach Anspruch 10, bei dem der Vakuumbehälter bewegbar angeordnet ist.

12. System nach Anspruch 9, bei dem die Vakuumkammer auf einem Druck von 1 Torr oder weniger gehalten ist.

13. System nach Anspruch 9, bei dem die Vakuumkammer in einem ersten zu einer umgebenden Atmosphäre offenen Raum angeordnet ist; und der Vakuumbehälter bewegbar in einem zweiten vom ersten Raum isolierten Raum angeordnet ist; die Transportöffnung der Vakuumkammer auf der Seite des zweiten Raums angeordnet ist; der zweite Raum eine ge­ ringere Anzahl von Schwebeteilchen aufweist als der erste Raum.

14. System nach Anspruch 13, bei dem die Vakuumkammer in einem Apparat zur Bearbeitung des Transportgegenstan­ des angeordnet ist.

15. System nach Anspruch 13, bei dem der erste Raum ein Fabrikationsraum und der zweite Raum ein Transportraum ist; der erste Raum und der zweite Raum durch eine Trennwand voneinander getrennt sind; die Transportöff­ nung der Vakuumkammer auf der Seite der Trennwand ange­ ordnet ist, die dem zweiten Raum gegenüberliegt.

16. System nach Anspruch 9, bei dem die Transportöff­ nungen des Vakuumbehälters und der Vakuumkammer mit Verschlüssen zum Betrieb des Vakuumbehälters und der Vakuumkammer versehen sind; die Verschlüsse von dem Vakuumbehälter und der Vakuumkammer entfernbar sind, während diese luftdicht miteinander verbunden sind, so daß der Vakuumbehälter und die Vakuumkammer miteinander verbunden sind.