DE4002326C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vor
richtung gemäß Oberbegriff des Patentanspruches 1
bzw. 3. Insbesondere geht es dabei um die Bildung von Sacklochbohrungen
in einer mehrlagigen Leiterplatte
zur Herstellung elektrischer Verbindungen zwi
schen inneren Verdrahtungsmustern und Verdrahtungsmustern
auf der Oberfläche der Leiterplatte.
Die JP-OS 58-64 097 offenbart beispielsweise ein Verfahren
zur Bildung von Sacklochbohrungen in einer
Leiterplatte zwecks Vorsehens elektrischer Verbindun
gen zwischen inneren Verdrahtungsmustern und Verdrahtungs
mustern auf der Oberfläche der Leiterplatte.
Bei diesem Verfahren werden Führungslöcher durch Ätzen in
Teilen der äußeren Kupferfolienschicht erzeugt, wo die
Sacklochbohrungen zu bilden sind. Die Führungslöcher weisen
einen etwas kleineren Durchmesser auf als der zur Bildung der Sacklochbohrungen
verwendete CO₂-Laserstrahl.
Der CO2-Laserstrahl wird nämlich durch
diese Führungslöcher zur Einwirkung gebracht, um so Teile der
Kunstharzschichten rings um die geätzten Führungslöcher zu
beseitigen und dadurch die Sacklochbohrungen zu bilden.
Dieses Verfahren umfaßt Schritte des Ätzens, des
Laser-Bohrens, des Metallisierens und des Ätzens. So wird
zweimal ein Ätzen vorgenommen, wodurch die Effizienz
verringert wird.
Außerdem kann, da das Ätzen zur Ausbildung der Führungslö
cher und das Laser-Bohren zur Bildung der Sacklochbohrungen
in verschiedenen Schritten durchgeführt werden, die Positioniergenauigkeit
infolge einer Summierung der auftretenden Versätze während dieser
Schritte merklich beeinträchtigt
werden. Die Sacklochbohrungen neigen zu Abweichungen von
der Kreisform aufgrund einer Abweichung des Bohr-Laser
strahls von der Lage des durch Ätzen ausgebildeten Füh
rungslochs. Infolgedessen wird die Ankontaktierungsfläche
am Boden der Sacklochbohrung
verkleinert, so daß die Zuverlässigkeit der elektri
schen Verbindung zwischen dem äußeren Verdrahtungsmuster
und dem inneren Verdrahtungsmuster verringert wird.
Beispielsweise kann, wenn eine Sacklochbohrung mit einem
Öffnungsdurchmesser von 150 µm in der äußeren Schicht und
einem Bodendurchmesser von 100 bis 120 µm zu bilden ist,
der Bodendurchmesser der Sacklochbohrung auf 50 bis 70 µm
verringert werden, wenn die Abweichung des Laserstrahls
50 µm oder größer ist, so daß die Verläßlichkeit der elek
trischen Verbindung ernstlich beeinträchtigt wird.
Ähnliche Verfahren auf Basis eines Ätzschritts zur Bildung von Führungslöchern in
der äußeren Kupferfolie und eines Laserbohrschritts
zum Herstellen der Sacklochbohrungen sind aus
"Feinwerktechnik & Maßtechnik" 91 (1983) 2,
S. 56-58 und "IBM Technical Disclosure Bulletin",
Vol. 17, No. 8, S. 2258, Jan. 1975 bekannt.
Fig. 5 veranschaulicht schematisch die Verfahrensschritte
bei einem herkömmlichen Verfahren zum Herstellen von Sacklochbohrungen
in einer Leiterplatte.
Fig. 5(a) zeigt den Aufbau einer typischen bekannten
Leiterplatte. Die Leiterplatte
hat eine äußere Kupferfolienschicht 1, eine innere Kupfer
folienschicht 2, Faserstoffschichten 3, 3′, die aus Bün
deln von Glasfasern gebildet sind, und Kunstharzschichten
4, 4′, 4′′. Um ausreichend hohe Bindefestigkeiten zwischen
den äußeren und inneren Kupferfolienschichten 1, 2 und den
Kunstharzschichten 3, 3′, 4, 4′, 4′′ zu sichern, liegen
Bindekunstharzbereiche mit Dicken a und b im wesentlichen
an den Grenzen zwischen diesen Schichten vor. Man erkennt
außerdem ein Führungsloch 5, das durch Ätzen für eine
nachfolgende Bestrahlung mit einem Laserstrahl gebildet
ist.
Teile der Glasfaserschichten 3, 3′ und der Kunstharz
schichten 4, 4′, 4′′ im Bereich rings um das Führungsloch 5
werden durch die nachfolgende Einwirkung des Laserstrahls
entfernt. Die Materialabträge in den Glasfaserschich
ten bzw. den Kunstharzschichten sind jedoch aufgrund
verschiedener Faktoren, wie z.B. der Energieabsorp
tionskoeffizienten, der Energieabsorptionsgeschwindigkeit, des
Unterschieds in der Energiedichte zwischen der Brennpunkt
lage und der Lage außerhalb des Brennpunkts, des Unter
schieds in der Bestrahlungszeit usw. nicht gleich. Beispielsweise wird
hier angenommen, daß der Laserstrahl ein "Gauss-Strahl" ist
und auf die Oberfläche der inneren Schicht durch die zu
entfernende Kunstharzschicht mit einer beträchtlich großen
Dicke H fokussiert wird. In einem solchen Fall ergeben
sich, obwohl der Bodenteil der Sacklochbohrung
erreicht wird, Fehler, wie z.B. Karbonisierung des
Kunstharzes, Vorragen von Glasfasern in einer Nadelform
(Höhe von W1) usw. im Oberflächenbereich des Kunsthar
zes rings um die Eingangsöffnung der Sacklochbohrung, wie
in den Fig. 5(b) und 5(c) gezeigt ist. Im schlimmsten Fall
verbleibt ein Anteil von Glasfasern großer Abmessung
auf der Oberfläche der Bohrung, wie durch 6 gekennzeichnet
ist. Diese Fehler sind der Tatsache zuzuschreiben, daß
der Oberflächenbereich des Kunstharzes durch einen
Schmelz-Zwischenschritt statt durch Sublimation entfernt
wird, weil dieser Bereich für eine lange Zeit einem Strahl
niedrigerer Energiedichte als der Bodenbereich ausgesetzt
wird.
Wenn der Laserstrahl für eine lange Zeit einwirkt, trifft
man auf ein Problem in den in Fig. 5(a) und 5(b) gezeigten
Schritten, nämlich daß das Kunstharz, wie bei W2 angedeu
tet, unerwünscht aufgrund von Reflexion und Absorption des
Laserstrahls an der Oberfläche der inneren Kupferfolien
schicht zurückweicht, die für den Zweck einer Beschich
tungsabscheidung nadelförmig gemacht wurde. Eine zu lange
Bestrahlungszeit bringt das Problem mit sich, daß das Kunst
harz 4′′, das in der Mitte des Bodens des Lochs aufgrund
übermäßiger Strahlenergie verdampft wird, die innere Fo
lienschicht unerwünscht anhebt. Außerdem wird auch eine
Karbonisierung des Kunstharzes 4′′ verursacht.
Der karbonisierte Teil des Kunstharzes auf der Wand der
Bohrung kann durch eine geeignete chemische Behandlung ent
fernt werden. Eine solche chemische Behandlung verhindert
jedoch nicht, daß die Glasfasern vom Kunstharz in
größeren Beträgen vorragen; hierdurch wird es schwierig,
die Bohrungswand einer Beschichtungslösung auszusetzen
so daß die Zuverlässigkeit der durch die Be
schichtung gebildeten Verbindung
stark beeinträchtigt wird. Außerdem ist es unmöglich,
den karbonisierten Teil des Kunstharzes 4′′ zu entfernen.
Um diese Probleme zu überwinden, wurde vorgeschlagen, ein
besonderes Kunstharzmaterial anstelle der Glasfasern zu
verwenden, um das Laserbohren zu
ermöglichen. Derartige Leiterplatten
konnten sich jedoch
wegen der schlechterer physikalischer Eigenschaften
im Vergleich mit herkömmlichen Leiterplat
ten nicht durchsetzen.
Außerdem konnte das herkömmliche Verfahren nicht auf die
Bildung einer Sacklochbohrung in der inneren Kupferfo
lienschicht einer mehrlagigen Leiter
platte des in Fig. 2(b) gezeigten Typs angewandt werden,
da der Laserstrahl von der inneren Kupferfolienschicht re
flektiert wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs vorausgesetzten Art zu
entwickeln, die eine verläßliche Bildung genau bemessener
Sacklochbohrungen in einer Leiterplatte in weniger Prozeßschritten ermög
lichen und auch das Problem störender Glasfaserreste beseitigen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfah
ren mit den Kennzeichnenden Merkmalen des Patent
anspruchs 1 und eine Vorrichtung mit den kennzeichnenden
Merkmalen des Patentanspruches 3 gelöst.
Im einzelnen werden die dem Laserbearbeitungskopf und dem
Bohrkopf zugewandte Kupferfolien und die Kunstharz
schicht unter dieser Kupferfolien durch den Bohr
kopf bis zu einem Niveau gebohrt, das geringfügig über dem
Niveau der Oberfläche der inneren Kupferlage
liegt, so daß ein Führungsloch gebildet wird, und danach
wird der Laserbearbeitungskopf auf das Führungsloch ausge
richtet und bringt einen Laserstrahl zur Entfernung des
restlichen Teils der Kunstharzschicht zur Einwirkung, wo
durch eine Sacklochbohrung gebildet wird, die die Oberflä
che der inneren Kupferlage erreicht.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung des
erfindungsgemäßen Verfahrens ist im Patentanspruch
2 gekennzeichnet.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung veranschau
lichten Ausführungsbeispiele näher erläutert; darin zei
gen:
Fig. 1, 2
und 3 Darstellungen eines Verfahrens gemäß der Erfin
dung zum Behandeln einer Leiter
platte zur Bildung von Sacklochbohrungen;
Fig. 4 eine Perspektivdarstellung einer zur Durchführung
dieses Verfahrens geeigne
ten Vorrichtung;
Fig. 5 eine Darstellung der schon erläuterten Verfah
rensschritte bei einem herkömmlichen Verfahren
zum Herstellen von Sacklochbohrungen in einer
Leiterplatte
Fig. 4 zeigt ein Beispiel einer Vorrichtung, die sich zur
Verwendung bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Ver
fahrens eignet. Die Vorrichtung hat ein Gestell 101, einen
auf dem Gestell 101 montierten X-Tisch 102 zur Bewegung in
Richtung eines Pfeils X, einen auf dem X-Tisch 102
montierten Y-Tisch 103 zur Bewegung in der Richtung eines
Pfeils Y, und ein Portal 104, das am Gestell 101 in solcher
Weise befestigt ist, daß es über die X- und Y-Tische 102,
103 gespreizt ist. Die Vorrichtung weist auch einen Bohr
kopf 105 auf, der an einem vorbestimmten Teil des Portal
104 befestigt ist. Der Bohrkopf 105 hat eine Spindel, die
einen Bohrer 160 trägt und in
Richtung eines Pfeils Z bewegbar ist. Man erkennt außerdem
einen Motor 107 zum Antrieb der Spindel in Richtung
des Pfeils Z. Weiter weist die Vorrichtung einen Laser
bearbeitungskopf 108 auf, der am Portal 104 in einem vor
bestimmten Abstand vom Bohrkopf 105 befestigt ist. Ein
Laseroszillator 109 ist an einem vorbestimmten Teil des
Portals 104 befestigt. Eine zu bohrende
Leiterplatte 110 ist auf dem Y-Tisch 103 angeordnet.
Unter Verwendung dieser Vorrichtung wird ein
Verfahren in einer in Fig. 3 gezeigten Weise
durchgeführt.
Und zwar werden die X- und Y-Tische 102, 103 geeignet an
getrieben, um den mit Sacklochbohrungen zu versehenden Teil der
Leiterplatte 110 in eine Lage direkt unter dem von der
Spindel des Bohrkopfes 105 gehaltenen Bohrer 160 zu brin
gen.
Dann wird der Bohrer 160 abgesenkt, um die Kupferfolie
111 auf der Oberseite der Leiter
platte 110 zu durchbohren, damit, wie in Fig. 3(a) ge
zeigt, ein Führungsloch 5 gebildet wird. Anschließend wer
den die X- und Y-Tische 102, 103 bewegt, um das Führungs
loch 5 in eine Lage unmittelbar unter dem Laserbearbei
tungskopf 108 zu bringen. Dann wird der Laseroszillator
109 aktiviert, um zu ermöglichen, daß der Laserbearbei
tungskopf 108 einen Laserstrahl 7 abgibt, wie in Fig. 3(b)
gezeigt ist, wodurch das Kunstharzmaterial der Kunstharz
schicht 112 der Leiterplatte 110 entfernt
wird und eine Sacklochbohrung 115 in der Leiter
platte 110 gebildet wird.
Gemäß diesem Verfahren kann der Laserstrahl 7
bezüglich des Führungslochs 5 mit sehr hoher Genauigkeit,
z.B. etwa 10 µm oder weniger Fehlerabweichung, positio
niert werden, was ohne Schwierigkeit durch diese
Vorrichtung erreichbar ist.
Anschließend wird in der so gebildeten Sacklochbohrung 115 in
einer in Fig. 3(c) gezeigten Weise eine Beschichtung zur
Bildung einer Leiterschicht 116 durchgeführt, die die Kup
ferfolie 111 auf der Oberseite der Leiter
platte mit der Kupferlage 113 an deren Unterseite elek
trisch verbindet. Anschließend werden Verdrahtungsmuster
mittels Ätzens ausgebildet, wie in Fig. 3(d) gezeigt ist.
Es wird hier angenommen, daß die Sacklochbohrung 115 mit
Solldurchmessern von 150 µm am Einlaß, d.h. an der in der
äußeren Schicht 111 erscheinenden Öffnung, und von 100 bis
120 µm am Boden der Bohrung zu bilden ist. Da die Abweichung
des Laserstrahls 7 vom Führungsloch 5 so gering wie 10 µm
oder weniger ist, kann eine etwaige Verringerung des
Durchmessers der Sacklochbohrung 115 an deren Boden
auf 5% oder weniger verringert werden, so daß eine hohe
Zuverläßlichkeit der elektrischen
Verbindung gesichert wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren verwendet eine Vorrichtung
zum Sacklochbohren einer Leiterplatte, die so
wohl mit einem Bohrkopf als auch mit einem Laserbearbei
tungskopf ausgerüstet ist. Die Vorrichtung arbeitet, wie
in den Fig. 1(a)-1(c) und Fig. 2(a)-2(c) gezeigt ist,
zunächst mit dem Bohrer 160, um nicht nur die äußere Kup
ferfolie 1, sondern auch die Kunstharzschichten 4
oder 4 und 4′′ unter der äußeren Kupferfolie 1 bis
zu einem Niveau etwas über der Oberfläche der inneren Kup
ferlage 2 zu durchbohren und so die Glasfasern 3,
3′ und das Kunstharz 4 zu entfernen, während nur der Teil
des Kunstharzes 4′ einer Dicke h ungebohrt übrigbleibt und
somit ein Führungsloch 5 gebildet wird. Dann wird der Laser
strahl auf diesen ungebohrten Teil des Kunstharzes 4′ ge
richtet, der den Boden des Führungslochs bildet. Die Be
strahlung mit dem Laserstrahl wird in ziemlich kurzer Zeit
im Brennpunktzustand durchgeführt, welcher die höchste
Energiekonzentration liefert, wodurch im wesentlichen Feh
ler eliminiert werden, die bei bekannten Verfahren ange
troffen werden, wie z.B. nadelförmige Freilegung und Bil
dung einer Masse von Glasfasern an der Lochoberfläche nach
Bearbeitung mit dem Laserstrahl. Wenn der Laserstrahl ein
Gauss-Strahl ist, wird das Kunstharzmaterial am Rande des
Bohrungsbodens in einer abgerundeten Weise wie in Fig. 1(c) ge
zeigt ist, dank der Brechung und der
Reflexion des Strahls, die durch die inneren Kupfer
lage verursacht wird, entfernt, wodurch die Wand
der Bohrung einen gleichmäßigen Endzustand ohne Ausnehmungen
an ihrem Boden erhält. Dies erleichtert den Durchtritt
der Beschichtungslösung, so daß die Beschichtung befriedi
gend erfolgen kann. Außerdem können Probleme, wie z.B.
Verdampfung und Karbonisierung des Kunstharzes 4′′ sowie
unerwünschte Deformation der inneren Kupferlage, vorteil
haft überwunden werden, so daß eine hochgradig verläßliche
Sacklochbohrung durch den Laserstrahl erhalten wird.
Wie vorstehend beschrieben wurde, ist es gemäß der Erfin
dung möglich, die Bohrungsgenauigkeit zu verbessern
und dadurch die Verläßlichkeit der elektrischen Verbindung
merklich zu verbessern, was auf die Verwendung der beson
deren Vorrichtung zurückzuführen ist, die so
wohl mit einem Bohrkopf als auch mit einem Laserbearbei
tungskopf ausgerüstet ist. Weiter macht es die vorliegende
Erfindung möglich, die eine Laserbohrungstechnik nicht nur
auf herkömmliche Leiterplatten, sondern auch
auf vielschichtige Leiterplatten zur Her
stellung von Verbindungen zwischen einer Mehrzahl innerer
Verdrahtungslagen, anzuwenden. Zusätzlich bietet die Er
findung eine erhebliche Verbesserung des Produktionswir
kungsgrades wegen des Fortfalls des Ätzens zur Bildung der
Führungslöcher.
Claims (3)
1. Verfahren zum Herstellen von Sacklochbohrungen Leiter
platte auf Kunstharzbasis, wobei zuerst eine Kupferfolie
auf einer Seite an den Stellen der gewünschten
Verbindungsbohrungen entfernt wird und nachfolgend
das Kunstharzmaterial unter Festlegung der
Bohrtiefe durch eine jeweils mit der Kupferfolie zu
verbindende Kupferlage im Inneren der Leitungsplatte
oder auf deren anderen Seite mittels Laserstrahlen abgetragen
wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß durch mechanisches Bohren durch die Kupferfolie (1;
111) hindurch in die Kunstharzschicht (4; 112) hinein
ein Führungsloch (5) gebildet wird und im gleichen Prozeßschritt
das restliche, am Boden des Führungsloches
(5) verbleibende Kunstharzmaterial (4′; 4′′′) bis zu der
zu verbindenden Kupferlage (2; 113) durch die Laserstrahlen
entfernt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Führungsloch (5) durch Bohren mit einem Bohrkopf
(105) bis zu einem geringfügig über dem Niveau der
zu verbindenden Kupferlage (2; 113) liegenden Niveau in
der Kunstharzschicht (4) gebildet wird und der Restteil
(4′) der Kunstharzschicht durch die Laserstrahlen (7)
entfernt wird.
3. Vorrichtung zum Herstellen von Sacklochbohrungen in
Leiterplatten, gekennzeichnet durch
eine Tischeinheit (102, 103) zum Bewegen der Leiterplatte (110) in X- und Y-Richtung,
einen Bohrkopf (105) zum Bohren der Leiterplatte (110),
einen in Z-Richtung beweglichen Laserbearbeitungskopf (108) zur Bearbeitung der Leiterplatte (110) mittels eines Laserstrahls (7),
einen Laseroszillator (109) und
ein Portal (104) zur Halterung des Bohrkopfes (105), des Laserbearbeitungskopfes (108) und des Laseroszillators (109).
eine Tischeinheit (102, 103) zum Bewegen der Leiterplatte (110) in X- und Y-Richtung,
einen Bohrkopf (105) zum Bohren der Leiterplatte (110),
einen in Z-Richtung beweglichen Laserbearbeitungskopf (108) zur Bearbeitung der Leiterplatte (110) mittels eines Laserstrahls (7),
einen Laseroszillator (109) und
ein Portal (104) zur Halterung des Bohrkopfes (105), des Laserbearbeitungskopfes (108) und des Laseroszillators (109).
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