DE3922467A1 - Halbleiterspeichereinrichtung und verfahren zu ihrer herstellung - Google Patents
Halbleiterspeichereinrichtung und verfahren zu ihrer herstellungInfo
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Cited By (4)
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| DE4142469B4 (de) * | 1990-12-21 | 2004-07-01 | Micron Technology, Inc. | Verfahren zur Erzeugung und zur Entfernung von temporären Siliziumdioxid-Strukturen |
Also Published As
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