DE3422356A1 - Dekorierter artikel, verfahren zur herstellung und verwendung - Google Patents

Dekorierter artikel, verfahren zur herstellung und verwendung

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DE3422356A1
DE3422356A1 DE19843422356 DE3422356A DE3422356A1 DE 3422356 A1 DE3422356 A1 DE 3422356A1 DE 19843422356 DE19843422356 DE 19843422356 DE 3422356 A DE3422356 A DE 3422356A DE 3422356 A1 DE3422356 A1 DE 3422356A1
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Description

Dekorierter Artikel, Verfahren zur Herstellung und Verwendung
Die Erfindung betrifft einen dekorierten Artikel, ein Verfahren zur Herstellung von dekorierten Artikeln und die Verwendung von mit Siliciumverbindungen beschichteten Siliciumsubstraten als oder für dekorierte Artikel.
Bekanntlich erscheinen sehr dünne optisch transparente Schichten im reflektierten Licht infolge von Interferenzerscheinungen dem Auge als farbig, obwohl die Schichten aus praktisch farblosem Material bestehen. Beispiele hierfür sind die Farbeffekte von Seifenblasen oder von Perlmutter und ähnlichen anorganischen Materialien (Opal), die zur Herstellung von dekorierten Artikeln bekannt sind. Bekannt sind ferner die sogenannten Anlassfarben, die beim Erhitzen von Eisenlegierungen auftreten und auf der Bildung von Oxidschichten beruhen, deren Dicken von der jeweiligen "Anlasstemperatur" abhängig sind und die bei Betrachtung in reflektiertem Licht als farbig erscheinen ("Anlassfarben"), ohne es im eigentlichen Sinne zu sein, indem das Schichtmaterial in Masse an sich farblos ist.
Typisch ist beispielsweise die kornblumenblaue Farbe von Uhrfedern, d. h. die Interferenzfarbe einer dünnen Schicht aus Eisenoxid, die sich bei Anlaestemperaturen von 2950C auf dem metallischen Grundmaterial bildet und eine Dicke von unter Nanometer (nm) hat. Solche Anlasefarben haben aber im allgemeinen keinen dekorativen Zweck, sondern sind die inzidentel-Ie Folge von Temperaturbehandlungen zum Erzielen bestimmter Materialeigenschaften.
Für die Herstellung dekorierter Artikel wären die konventionellen Anlaasfarbschichten von Substraten aus Eisenlegierungen im Vergleich zu Üblichen Lack- bzw. Farbschichten wegen ihrer vergleichsweise hohen Korrosioneempfindlichkeit, der verhältnismässig geringen mechanischen Festigkeit (Kratzempfindlichkeit) und insbesondere wegen Problemen der Herstellung reproduzierbarer Farbeffekte kaum geeignet.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine für dekorierte Artikel geeignete, im reflektierten Licht farbig erscheinende Fläche oder Dekorschicht anzugeben, welche eine hohe chemische Beständigkeit besitzt, die Farbbildung mit guter Reproduzierbarkeit ermöglicht und bezüglich mechanischer Festigkeit, Temperatur- und Alterungsbeständigkeit den Üblichen, für Dekorationszwekke bekannten Dekorschichten organischer und anorganischer Art überlegen ist.
Ueberraschenderweise wurde erfindungsgemäss festgestellt, dass sich verschiedene, aus der Halbleitertechnik bekannte Methoden zur Bildung von bezüglich Zusammensetzung und Dicke gut definierten Schichten aus Siliciumverbindungen auf Siliciumsubstraten zur Herstellung von für Dekorzwecke brauchbaren,farbig erscheinenden Schichten eignen, welche die erfindungsgemässe Aufgabe erfüllen.
Als dekorierte Artikel werden im Sinne der Erfindung nicht nur typische Schmuckartikel, sondern auch Gebrauchsgegenstände aller Art verstanden, die mindestens eine farbig erscheinende Fläche besitzen, welche einfarbig oder mehrfarbig ausgebildet sein und bild-, schrift- oder musterartige Kontraste aufweisen kann.
Der erfindungsgemässe dekorierte Artikel besitzt mindestens eine, im reflektierten Licht (Tageslicht bzw. polychromatisches Kunstlicht) farbig erscheinende Fläche, auch Dekorschicht genannt, die eben, gekrümmt, gewölbt oder profiliert ausgebildet sein und ein gleichmässiges (uniformes) oder polyformes und gegebenenfalls bild- oder/und schriftartig oder/ und musterartig kontrastiertes Aussehen aufweisen kann.
Der erfindungsgemässe Artikel ist dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine, im reflektierten Licht farbig, z. B. gelb, rot, blau oder grau, erscheinende Fläche oder Dekorschicht von einer Siliciumunterschicht und einer z. B. reaktiv oder/und depositiv erzeugten, fest mit der Unterschicht verbundenen Oberschicht gebildet wird, die für optisches Licht durchlässig ist, aus einer unter Normalbedingungen festen, praktisch inerten und vorzugsweise von sich aus farblosen Siliciumverbindung, wie insbesondere Siliciumdioxid, besteht und eine zur Interferenzfarbenbildung ausreichende Dicke, typisch im Bereich von 50 bis 1000 nm, vorzugsweise von 90 bis 500 nm, hat.
Der dekorierte Artikel, z. B. das Ziffernblatt einer Uhr oder ein Schmuckstück, kann praktisch allein aus der Dekorschicht bestehen, d. h. einer selbsttragenden Siliciumunterschicht, deren Dekoration mindestens teilweise aus der Interferenzfarben zeigenden Oberschicht besteht, z. B. in Form einer gleichmassig oder musterartig bzw. ungleichmässig gefärbten Fläche, auf welcher ornamentale Muster bzw. die üblichen Markierungen, z. B. aus opakem Material, durch Bedrucken oder Bedampfen aufgetragen oder auf andere Weise erzeugt sein können, etwa durch Dickenunterschiede der Oberschicht.
Der dekorierte Artikel kann aber auch aus anderem Material als Silicium bestehen und an mindestens einer Aussenfläche eine aufgelötete, aufgeklebte oder auf andere Weise angebrachte Dekorschicht in Form der Siliciumunterschicht besitzen, die mit der Oberschicht aus Siliciumverbindung das gewünschte uniforme oder polyforme Dekor bildet.
Die Erfindung wird anhand der Figuren erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 die schematische Darstellung eines ersten Beispiels der Oberflächenstruktur eines erfindungsgemässen Artikels und
Fig. 2 die schematische Darstellung weiterer Beispiele der Oberflächenstruktur erfindungsgemässer Artikel.
Im einzelnen zeigt Fig. 1 in schematischer, abgebrochener und stark vergrösserter Schnittansicht einen dekorierten Artikel
10, dessen in reflektiertem Licht farbig erscheinende Fläche
11, auch Dekorschicht genannt, von einer Unter- oder Grundschicht 14 aus elementarem Silicium, z. B. einer selbsttragenden Siliciumplatte oder -scheibe aus technisch erhältlichem Silicium, gebildet wird. Eine besonders grosse Reinheit des Siliciums der Schicht 14 ist nicht erforderlich aber auch nicht nachteilig; allgemein ist das für die Halbleiterfertigung als Grundmaterial verwendete Silicium geeignet, das mono- oder polykristallin sein kann. Die Siliciumunterechicht 14 hat z. B. eine Dicke von 0,05 bis 5 mm oder mehr.
Wenn die Siliciumunterechicht 14 z. B. wie in Fig. 2 erläutert auf einem Träger aus anderem Material befestigt ist, muss die Siliciumschicht 14 nicht selbsttragend sein und kann dann auch entsprechend dünner ausgebildet werden.
Dabei ist gegebenenfalls zu beachten, dass bei der reaktiven Herstellung der Oberschicht 16, wie weiter unten erläutert, z. B. durch Oxidation (SiO2) bei erhöhter Temperatur, ein Teil der Grundschicht verbraucht wird, beispielsweise je 0,1 nm Si für 0,2 nm SiO2, und diesbezüglich eine gewisse Mindestdicke der Schicht 14 gewährleistet sein muss.
Mindestens die obere Fläche 140 der Unterschicht 14 ist vorzugsweise in üblicher Weise mechanisch oder auf andere Weise zum Erzielen einer matten oder polierten Oberflächengüte geglättet, um nach den in der Herstellung von Halbleiterelementen üblichen Methoden zum Aufbringen bzw. Bilden von Schichten mit normalerweise gut definierter Zusammensetzung und Dicke auf Siliciumsubstraten entsprechende Oberschichten zu ergeben. Die Oberflächenqualität (matt oder poliert) der Oberschicht 16 entspricht im allgemeinen derjenigen der Unterschicht 14.
Aus technischen und wirtschaftlichen Gründen werden für die Erfindung allgemein Oberschichten 16 aus Siliciumdioxid bevorzugt, doch sind grundsätzlich auch Oberschichten 16 aus anderen, für optisches Licht durchlässigen Siliciumverbindungen geeignet, d. h. solchen, die als Schichten mit den zur Interferenzfarbenbildung nötigen Dicken praktisch glasklar sind und eine höchstens geringe Eigenfärbung besitzen; vorzugsweise beträgt die LichtdurchläBBigkeit der Schicht im Durchlicht mehr als 90 %, d. h. die Schicht aus Siliciumverbindung sollte als isolierte Schicht vorzugsweise weniger als 10 % des durchgehenden Lichtes absorbieren. In einer auf der opaken Unterschicht 14 liegenden Oberschicht 16 kann aber durch Reflexionsverluste an der Grenzschicht auch erheblich mehr als 10 % des einfallenden Lichtes verloren gehen, ohne dass dies die Bildung von Interferenzfarbe in der Oberschicht 16 ausschaltet.
Die Oberschicht 16 besteht aus einer Siliciumverbindung, die fest und allgemein praktisch inert in dem Sinne ist, dass sie unter normalen Verwendungs- bzw. Herstellungsbedingungen thermisch und chemisch stabil ist, d. h. sich z. B. weder unter der Einwirkung von Wasser noch von Temperaturen bis 1000C signifikant verändert; Beispiele für derartige Siliciumverbindungen sind ausser den Oxiden die Nitride und Carbide von Silicium. Siliciumdioxid ist aus Gründen der Wirtschaftlichkeit besonders bevorzugt.
Bekanntlich können Schichten aus Siliciumverbindungen auf Siliciumsubstraten reaktiv gebildet werden, d. h. durch chemische Reaktion des Siliciumgrundmaterials in situ mit dem bzw. den nötigen Reaktionspartner(n), der bzw. die elementar oder als Verbindungen und vorzugsweise jeweils gasförmig vorliegt bzw. vorliegen; Schichten aus Siliciumverbindungen können aber auch depositiv gebildet werden, d. h. durch Ablagerungsmethoden, wie Aufdampfen, unter Verwendung von vorgebildeten Verbindungen.
Die Einzelheiten von geeigneten Verfahren sind in der Fachliteratur, z. B. Meissel und Glang, Handbook of Thin Film Technology, zu finden. Allgemein werden für die Zwecke der Erfindung reaktive Nethoden bevorzugt, die mit vertretbarem technischem Aufwand zur Bildung von transparenten Schichten aus Siliciumverbindung führen; ein bevorzugtes Beispiel ist die Umsetzung des Substrat-Siliciums mit Sauerstoff, wobei die Aktivierungsenergie thermisch, z. B. durch Erhitzen oder/ und elektrisch, beispielsweise durch Glimmentladung, zugeführt werden kann. Beispielsweise kann man das Siliciumsubstrat in Gegenwart von Sauerstoff bzw. sauerstoffhaltigem Gas, wie Luft, unter definierten Bedingungen von Druck, Feuchtigkeit und dergleichen auf Reaktionstemperaturen von über 5000C erhitzen.
Im allgemeinen sind Siliciumsubsträte mit Deck- bzw. Schutzschichten aus definierten Siliciumverbindungen, wie SiO-, geeigneter Dicke als Grundmaterial für die Halbleiterfertigung technisch erhältlich.
Die für die Interferenzfarbenbildung auereichenden Dicken der Oberschicht 16 liegen, wie oben erwähnt, meist im Bereich von 50 bis 1000 nm. Die für eine bestimmte Interferenzfarbe geeignete bzw. optimale Dicke der Schicht 16 kann von den speziellen optischen Eigenschaften, wie Brechungsindex, optische Dichte, Turbidität und dergleichen, beeinflusst werden, d.h. sowohl von der Art der Siliciumverbindung der Schicht 16 als auch der zur Schichtbildung angewendeten Methode.
Als orientierende Beispiele sind folgende Werte für den Farben/Dicken-Zusammenhang von transparenten SiO_-Schichten zu nennen:
Interferenz farbe Schichtdicke in nm
bräunlich-weiss 68,5
hellbraun 73,3
dunkelbraun 79,5
rotbraun 85,0
purpurrot 88,4
dunkelviolett 92,5
dunkelblau 95,9
hellblau 112,0
fahlgrün 176,0
hellgelb 193,0
goldgelb 206,0
orangefarben 241,0
rot 255,0
dunkelpurpurfarben 265,0
dunkelviolett 274,5
Interferenzfarbe Schichtdicke in nm
dunkelblau 277,9
hellblau 294.0
fahlgrün 358,0
hellgelb 375,0
goldgelb 388,0
orangefarben 423,0
rot 437,0
dunkelpurpurfarben 447,0
Die Interferenzfarben/Dicken-Beziehung hängt bekanntlich mit der Wellenlänge > des einfallenden Lichtes zusammen, wobei Interferenzen insbesondere bei >/4, "X/2, >/1 auftreten. Eine gewünschte Farbe kann daher mit unterschiedlichen Dicken der Schicht 16 erzielt werden. Interferenzgrenzbereiche für SiO liegen z. B. bei 91, 273, 455, 637, 819 und 1002 nm.
Es versteht sich, dass eine genaue Messung der Schichtdicke an sich nicht kritisch bzw. erforderlich ist und in der Praxis durch Farbvergleich ersetzt oder ergänzt werden kann. Ferner kann die Dicke der Oberschicht 16 entweder durch verlängerte bzw. intensivierte Bedingungen der reaktiven oder depositiven Schichtbildung vergrössert oder durch kontrollierte Schichtabtragmethoden, wie z. B. Aetzen, ganzflächig oder in vorbestimmten Teilbereichen vermindert und der Farbeffekt jeweils verändert werden.
Die Oberschicht 16 kann nach an sich bekannten Methoden, wie Bedrucken (z. B. Siebdruck), Aufdampfen (Vakuumbeschichtung), Aufkleben, Aufmalen usw., mit oder ohne Verwendung bekannter Masken, z. B. aus Fotolack, mit örtlich begrenzten Auflagen aus optisch undurchlässigem (opakem) Material, z. B. aus Druckfarbe, Metall, Emaille, usw., versehen werden, um bei-
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spielsweise auf einem Ziffernblatt von Messgeräten, Anzeigen, Uhren usw. entsprechende Bezugs- oder Leuchtpunkte, Beschriftungen, Zahlen usw. zu bilden.
Alternativ kann die Substratschicht 14 bereits vor Bildung der Oberschicht 16 z. B. durch Aufdampfen in vorbestimmten Bereichen (unter Verwendung entsprechender Masken bzw. temporärer Schutzschichten) mit metallischen Auflagen versehen und nachfolgend zur Bildung der Oberschicht 16 behandelt werden, in welcher die Auflagen als Einlagen 19 erscheinen; in diesem Fall muss die Oberschicht 16 unter Bedingungen gebildet werden, bei welchen das Material bzw. Metall der Einlage 19 keine nachteilige Veränderung erfährt.
Allgemein ist im Zusammenhang mit den Figuren 1 und 2 zu betonen, dass die jeweiligen Schichtdicken bzw. Schichtdickenverhältnisse keinesfalls der Wirklichkeit entsprechen.
In Fig. 2 ist ähnlich wie in Fig. 1 eine schematisch dargestellte, abgebrochene Schnittansicht der Oberfläche eines dekorierten Artikels 20 gezeigt; die Unterschicht 24 aus Silicium trägt in einem ersten Bereich 21 die Interferenzfarben-Oberschicht 26 aus Siliciumverbindung wie oben erläutert, vorzugsweise SiO2. Die Oberschicht 26 ist in einem zweiten Bereich 222 bzw. 223 dünner ausgebildet, was unter Umständen durch entsprechendes Abdecken bei der Bildung der Schicht 26 aber vorzugsweise durch nachträgliches Entfernen, z. B. nach den Üblichen chemischen Aetzmethoden bei entsprechender Abdeckung der nicht zu ätzenden Bereiche, erzielt werden kann. Das örtliche Abtragen bzw. Entfernen der Schicht 26 kann zu einer teilweisen Schichtabtragung (Bereich 222) oder einer vollständigen Schichtentfernung (Bereich 223) unter Freilegung und gegebenenfalls Anätzung des Siliciumgrundmaterials führen.
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Der zweite Teilbereich kann aber auch wie in 224 angedeutet von einer zweiten bzw. dicker aufgetragenen Interferenzfarbenschicht 27 gebildet werden. In jedem Fall, d. h. sowohl durch Verminderung bzw. Entfernung der Schicht 26, als auch durch deren örtliche Verstärkung bzw. Ueberlagerung kann ein optisch wahrnehmbarer Kontrast zwischen dem ersten Teilbereich 21 und dem zweiten Teilbereich bzw. den zweiten Teilbereichen 222, 223, 224 erzielt werden; wiederum kann eine Auflage 28 aus opakem Material direkt (wie in Fig. 1) oder indirekt (über dem verdickten Schichtbereich 224) auf der Schicht 26 liegen, um zusätzliche Kontraste mit dekorativem und/oder informativem Charakter zu ermöglichen.
Bei dekorierten Artikeln 20, deren Oberflächen normalerweise nicht aus Silicium bestehen, z. B. dekorierte Gebrauchsartikel, wie Feuerzeuge, kann wie bereits angedeutet die Siliciumunterschicht 24 auf einer Oberfläche 290 des nicht aus elementarem Silicium bestehenden Artikels 20, z. B. mit einer Lot- oder Klebschicht 291 oder nach anderen bekannten Methoden, wie Verschrauben oder Vernieten, befestigt sein.
Die Vorteile von erfindungsgemäss dekorierten Artikeln ergeben sich aus der guten Reproduzierbarkeit der Interferenzfarben der Schichten 16, 26, den vergleichsweise geringen Kosten der Werkstoffe und ihrer Verarbeitung, der hervorragenden mechanischen und chemischen Beständigkeit von Schichten aus festen Siliciumverbindungen, wie Siliciumdioxid mit einer typischen Mohs-Härte von 7, der Lichtbeständigkeit sowie der vergleichsweise sehr hohen thermischen Beständigkeit solcher Schichten, was sowohl die Verwendung unter vergleichsweise extremen Bedingungen ermöglicht, als auch die Verarbeitung, z. B. Auflöten auf den Träger 29, vereinfacht.
Beispielsweise kann die Unterseite 240 der Siliciumschicht 24, z. B. durch Badbeschichtung oder Aufdampfen, mit einer Schicht 291 aus Lotmetall versehen und zur Verbindung mit dem Träger 29 ohne besondere Schutzmaesnahmen auf Löttemperatur erhitzt werden.
Uebliche Weichlöttemperaturen haben keine nachteilige Wirkung auf die Farbenschicht 26, da zum Oxidieren von Silicium durch Erhitzen an der Luft höhere Temperaturen nötig wären; gewünschtenfalls kann zur thermischen Verbindung mit dem Träger 29 bei höheren Temperaturen (Hartlöten) unter Inertgas, wie Helium oder Argon, gearbeitet werden. In Gegenwart von Sauerstoff bzw. Luft wird Silicium normalerweise erst bei Temperaturen von über 7000C oxidiert; typische Temperaturen zur reaktiven Bildung von Schichten 16, 26 aus Siliciumoxiden durch Erhitzen von elementarem Silicium an der Luft liegen im Bereich von 700QC bis zum Schmelzpunkt von Silicium (14140C), vorzugsweise höchstens 138O0C und insbesondere zwischen 900 und 11000C bei einer typischen Erhitzungsdauer von 30 bis 60 min.
Ein bemerkenswerter Vorteil der Erfindung ist die im Vergleich zu konventionellen Methoden, wie Galvanisieren, geringe Umweltbelastung bei der Herstellung.
Als Beispiele für erfindungsgemässe dekorierte Gebrauchsgegenstände oder Schmuckartikel sind zu nennen ι Füllfedern, Kugelschreiber, Schreibstifte, Toiletten- bzw. Handspiegel, Puderdosen, Hülsen für Lippenstifte und andere kosmetische Artikel, Uhrengehäuse und -armbänder, Schmuckgegenstände, wie Broschen, Anhänger, Manschettenknöpfe, Kravattenhalter, Schmuckschatullen, Armreifen, Halsketten, Ohranhänger, Toilettengegenstände, wie Schminkstifthülsen, Parfumbehälter, Hand- oder Stielspiegel, Hand- oder Stielbürsten, Rasierapparate bzw.
-pinsel, Manikürgeräte und weitere Gebrauchsgegenstände, wie Feuerzeuge, Schlüsselanhänger bzw. -behälter, Schreibgeräte, Zigarettendosen, Kultgegenstände, Schreibzeuge, Vasen, Töpfe, Untersätze, Tischauflagen, Lampen, Kerzenhalter, Mosaike bzw. Moeaikteile, Möbel, Intarsien, Spieltische bzw. -bretter und zahlreiche andere Gegenstände, die eine mehr oder weniger ausgeprägte abnützungs- und alterungsbeständige Verzierung benötigen können.
Bezugszeichenliste:
10 dekorierter Artikel
11 Fläche (Dekorschicht)
14 Unterschicht aus Silicium
140 Oberfläche der Unterschicht
16 Oberschicht aus Siliciumverbindung
18 Auflage aus opakem Material
19 Einlage aus opakem Material
20 dekorierter Artikel
21 erster Oberflächenbereich der Oberschicht
222 zweiter Oberflächenbereich mit dünnerer Oberschicht
223 zweiter Oberflächenbereich mit fehlender Oberschicht
224 zweiter Oberflächenbereich mit verdickter Oberschicht 24 Unterschicht aus Silicium
240 Unterseite der Unterschicht
26 Oberschicht aus Siliciumverbindung
27 Verdickung der Oberschicht
28 Auflage aus opakem Material
29 Träger
290 Oberfläche des Trägers
291 Lötschicht

Claims (15)

Patentansprüche
1. Dekorierter Artikel mit mindestens einer, im reflektierten Licht farbig erscheinenden Fläche, dadurch gekennzeichnet, dass die farbig erscheinende Fläche (11) von einer Siliciumunterschicht (14) und einer fest mit der Unterschicht verbundenen Oberschicht (16) gebildet ist, die für optisches Licht durchlässig ist, aus einer unter Normalbedingungen festen, praktisch inerten Siliciumverbindung besteht und eine zur Interferenzfarbenerzeugung ausreichende Dicke hat.
2. Artikel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16) praktisch aus Siliciumdioxid besteht.
3. Artikel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16) bereichsweise und z. B. muster-, bild- oder schriftartig mit einer Auflage (18) oder Einlage (19) aus opakem Material versehen ist.
4. Artikel nach einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16, 26) in einem ersten Oberflächenbereich (21) eine erste und zur Bildung einer Interferenzfarbe ausreichende Dicke hat und in einem zweiten, z. B. muster-, bild- oder schriftartig angeordneten Oberflächenbereich (222, 223, 224) eine zweite Dicke hat, welche dem zweiten Oberflächenbereich optische Eigenschaften verleiht, di· von denen des ersten Oberflächenbereiches zur Erzeugung eines mit dem Auge wahrnehmbaren Kontrastes ausreichend unterschiedlich sind.
-U-
5. Artikel nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet/ dass die Schicht (16) aus der Siliciumverbindung aus einer im wesentlichen glasklaren/ an sich praktisch farblosen Masse besteht.
6. Artikel nach einem der Ansprüche 1-5f dadurch gekennzeichnet/ dass die Schicht (16/ 26) aus der Siliciumverbindung eine Dicke von 50 bis 1000 nm hat.
7. Artikel nach einem der Ansprüche 1-6/ dadurch gekennzeichnet, dass er im wesentlichen aus der Siliciumunterschicht (14/ 24) und der gegebenenfalls unterschiedlich dicken Oberschicht (16/ 26) sowie allfälligen Auflagen (18, 28) oder Einlagen (19) besteht.
8. Artikel nach einem der Ansprüche 1-6/ dadurch gekennzeichnet, dass die Siliciumunterschicht (14, 24) auf einem Träger (29) aus anderem Material als Silicium befestigt ist.
9. Verfahren zur Herstellung eines dekorierten Artikels, dadurch gekennzeichnet, dass man mindestens einen Oberflächenbereich des Artikels (10, 20) mit einer Siliciumschicht als Unterschicht (14, 24) und einer fest mit dieser verbundenen Oberschicht (16, 26) versieht/ die für optisches Licht durchlässig ist/ aus einer unter Normalbedingungen festen/ praktisch inerten Siliciumverbindung besteht und eine zur Interferenzfarbenerzeugung ausreichende Dicke hat.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet/ dass die Oberschicht (16/ 26) praktisch aus Siliciumdioxid besteht, das reaktiv durch Umsetzung der Unterschicht (14, 24) mit Sauerstoff gebildet ist.
- 4-5 -
11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass man die Oberschicht (16, 26) bereichsweise und z. B. muster-, bild- oder schriftartig mit einer Auflage (18, 28) oder Einlage (19) aus opakem Material, z. B. Metall, versieht.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9-11, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16, 26) berelchsweiee, z.B. muster-, bild- oder schriftartig, selektiv aufgetragen oder selektiv entfernt wird, um einen sichtbaren Kontrast zwischen einem ersten, Interferenzfarben zeigenden Oberflächenbereich (21) und einem zweiten, von Interferenzfarben freien oder/und andere Interferenzfarben aufweisenden Oberflächenbereich (222, 223, 224) zu erzeugen.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 9-12, dadurch gekennzeichnet, dass die aus Silicium bestehende Unterschicht (14) auch die Grundschicht des Artikels (10) ist oder auf einer aus anderem Material als Silicium bestehenden Fläche (29) des Artikels (20) befestigt wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 9-13, dadurch gekennzeichnet, dass die Unterschicht (14, 24) vor Bildung der Oberschicht (16, 26) bis zu einem matten oder polierten Aussehen geglättet wird, z. B. durch Schleifen oder/und Polieren, um nachfolgend eine entsprechende glatte Oberschicht mit poliertem oder mattiertem Aussehen reaktiv oder depositiv zu bilden.
15. Verwendung von Siliciumsubstraten, die eine Interferenzfarben erzeugende Beschichtung aus einer festen inerten Siliciumverbindung, insbesondere Siliciumdioxid, tragen, als dekorierte Artikel oder als Teile von dekorierten Artikeln.
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