CH654791A5 - Dekorierter artikel und verfahren zur herstellung eines solchen. - Google Patents

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CH654791A5 CH2774/84A CH277484A CH654791A5 CH 654791 A5 CH654791 A5 CH 654791A5 CH 2774/84 A CH2774/84 A CH 2774/84A CH 277484 A CH277484 A CH 277484A CH 654791 A5 CH654791 A5 CH 654791A5
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Description

Die Erfindung betrifft einen dekorierten Artikel sowie ein Verfahren zur Herstellung eines dekorierten Artikels.
Bekanntlich erscheinen sehr dünne, optisch transparente Schichten im reflektierten Licht infolge von Interferenzerscheinungen dem Auge als farbig, obwohl die Schichten aus praktisch farblosem Material bestehen. Beispiele hierfür sind die Farbeffekte von Seifenblasen oder von Perlmutter und ähnlichen anorganischen Materialien (Opal), die zur Herstellung von dekorierten Artikeln bekannt sind. Bekannt sind ferner die sogenannten Anlassfarben, die beim Erhitzen von Eisenliegierungen auftreten und auf der Bildung von Oxidschichten beruhen, deren Dicken von der jeweiligen Anlasstemperatur abhängig sind und die bei Betrachtung im reflektierten Licht als farbig erscheinen (Anlassfarben), ohne es im eigentlichen Sinne zu sein, indem das Schichtmaterial in Masse an sich farblos ist.
Typisch ist beispielsweise die kornblumenblaue Farbe von Uhrfedern, d.h. die Interferenzfarbe einer dünnen Schicht aus Eisenoxid, die sich bei Anlasstemperaturen von 295° C auf dem metallischen Grundmaterial bildet und eine Dicke von unter 100 nm hat. Solche Anlassfarben haben aber im allgemeinen keinen dekorativen Zweck, sondern sind die inzidentelle Folge von Temperaturbehandlungen zum Erzielen bestimmter Materialeigenschaften.
Für die Herstellung dekorierter Artikel wären die konventionellen Anlassfarbschichten von Substraten aus Eisenlegierungen im Vergleich zu üblichen Lack- bzw. Farbschichten wegen ihrer vergleichsweise hohen Korrosionsempfindlichkeit, der verhältnismässig geringen mechanischen Festigkeit (Kratzempfindlichkeit) und insbesondere wegen Problemen der Herstellung reproduzierbarer Farbeffekte kaum geeignet.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine für dekorierte Artikel geeignete, im reflektierten Licht farbig erscheinende Fläche oder Dekorschicht anzugeben, welche eine hohe chemische Beständigkeit besitzt, die Farbbildung mit guter Reproduzierbarkeit ermöglicht und bezüglich mechanischer Festigkeit, Temperatur- und Alterungsbeständigkeit den üblichen, für Dekorationszwecke bekannten Dekorschichten organischer und anorganischer Art überlegen ist.
Überraschenderweise wurde nun festgestellt, dass sich verschiedene, aus der Halbleitertechnik bekannte Methoden zur Bildung von bezüglich Zusammensetzung und Dicke gut definierten Schichten aus Siliciumverbindungen auf Siliciumsubstraten zur Herstellung von für Dekorzwecke brauchbaren, farbig erscheinenden Schichten eignen, welche die erfindungsgemässe Aufgabe erfüllen.
Als dekorierte Artikel werden im Sinne der Erfindung nicht nur typische Schmuckartikel, sondern auch Gebrauchsgegenstände aller Art verstanden, die mindestens eine farbig erscheinende Fläche besitzen, welche ein- oder mehrfarbig ausgebildet sein und bild-,
schrift- oder musterartige Kontraste aufweisen kann.
Der erfindungsgemässe dekorierte Artikel besitzt mindestens eine im reflektierten Licht (Tageslicht bzw. polychromatisches Kunstlicht) farbig erscheinende Fläche, auch Dekorschicht genannt, die eben, gekrümmt, gewölbt oder profiliert ausgebildet sein und ein gleichmässiges (uniformes) oder polyformes und ggf. bild- oder/und schrift- oder/und musterartig kontrastiertes Aussehen aufweisen kann.
Der erfindungsgemässe Artikel ist dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine im reflektierten Licht farbig erscheinende Fläche von einer Siliciumunterschicht und einer fest mit der Unterschicht verbundenen Oberschicht gebildet wird, die für optisches Licht durchlässig ist, aus einer unter Normalbedingungen festen, praktisch inerten Siliciumverbindung besteht und eine zur Interferenzfarbenerzeugung ausreichende Dicke hat.
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Der dekorierte Artikel, z.B. ein Schmuckstück, kann praktisch allein aus der Dekorschicht bestehen, d.h. einer selbsttragenden Siliciumunterschicht, deren Dekoration mindestens teilsweise aus der Interferenzfarben zeigenden Oberschicht besteht,'z.B. in Form einer gleichmässig oder musterartig bzw. ungleichmässig gefärbten Fläche, auf welcher ornamentale Muster bzw. die üblichen Markierungen, z.B. aus opakem Material, durch Bedrucken oder Bedampfen aufgetragen oder auf andere Weise erzeugt sein können, etwa durch Dickenunterschiede der Oberschicht.
Der dekorierte Artikel kann aber auch aus anderem Material als Silicium bestehen und an mindestens einer Aussenfläche eine aufgelötete, aufgeklebte oder auf andere Weise angebrachte Dekorschicht in Form der Siliciumunterschicht besitzen, die mit der Oberschicht aus Siliciumverbindung das gewünschte uniforme oder polyforme Dekor bildet.
Die Erfindung wird anhand der Figuren erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 die schematische Darstellung eines ersten Beispiels der Oberflächenstruktur eines erfindungsgemässen Artikels, und
Fig. 2 die schematische Darstellung weiterer Beispiele der Oberflächenstruktur erfindungsgemässer Artikel.
Im einzelnen zeigt Fig. 1 in schematischer, abgebrochener und stark vergrösserter Schnittansicht einen dekorierten Artikel 10, dessen im reflektierten Licht farbig erscheinende Fläche 11, auch Dekorschicht genannt, von einer Unter- oder Grundschicht 14 aus elementarem Silicium, z.B. einer selbsttragenden Siliciumplatte oder -Scheibe aus technisch erhältichem Silicium, gebildet wird. Eine besonders grosse Reinheit des Siliciums der Schicht 14 ist nicht erforderlich, aber auch nicht nachteilig; allgemein ist das für die Halbleiterfertigung als Grundmaterial verwendete Silicium geeignet, das mono- oder polykristallin sein kann. Die Siliciumunterschicht 14 hat z.B. eine Dicke von 0,05 bis 5 mm oder mehr.
Wenn die Siliciumunterschicht 14, z.B. wie in Fig. 2 erläutert, auf einem Träger aus anderem Material befestigt ist, muss die Silicium-schicht 14 nicht selbsttragend sein und kann dann auch entsprechend dünner ausgebildet werden. Dabei ist gf. zu beachten, dass bei der reaktiven Herstellung der Oberschicht 16, wie weiter unten erläutert, z.B. durch Oxidation (Si02) bei erhöhter Temperatur, ein Teil der Grundschicht verbraucht wird, beispielsweise je 0,1 nm Si für 0,2 nm Si02, und diesbezüglich eine gewisse Mindestdicke der Schicht 14'gewährleistet sein muss.
Mindestens die obere Fläche 140 der Unterschicht 14 ist vorzugsweise in üblicher Weise mechanisch oder auf andere Weise zum Erzielen einer matten oder polierten Oberflächengüte geglättet, um nach den in der Herstellung von Halbleiterelementen üblichen Methoden zum Aufbringen bzw. Bilden von Schichten mit normalerweise gut definierter Zusammensetzung und Dicke auf Siliciumsub-straten entsprechende Oberschichten zu ergeben. Die Oberflächenqualität (matt oder poliert) der Oberschicht 16 entspricht im allgemeinen derjenigen der Unterschicht 14.
Aus technischen und wirtschaftlichen Gründen werden für die Erfindung allgemein Oberschichten 16 aus Siliciumdioxid bevorzugt, doch sind grundsätzlich auch Oberschichten 16 aus anderen, für optisches Licht durchlässigen Siliciumverbindungen geeignet, d.h. solchen die als Schichten mit den zur Interferenzfarbenbildung nötigen Dicken praktisch glasklar sind und eine höchstens geringe Eigenfärbung besitzen; vorzugsweise beträgt die Lichtdurchlässigkeit der Schicht im Durchlicht mehr als 90%, d.h. die Schicht aus Siliciumverbindung sollte als isolierte Schicht vorzugsweise weniger als 10% des durchgehenden Lichtes absorbieren. In einer auf der opaken Unterschicht 14 liegenden Oberschicht 16 kann aber durch Reflexionsverluste an der Grenzschicht auch erheblich mehr als 10% des einfallenden Lichtes verlorengehen, ohne dass dies die Bildung von Interferenzfarbe in der Oberschicht 16 ausschaltet.
Die Oberschicht 16 besteht aus einer Siliciumverbindung, die fest und allgemein praktisch inert in dem Sinne ist, dass sie unter normalen Verwendungs- bzw. Herstellungsbedingungen thermisch und chemisch stabil ist, d.h. sich z.B. weder unter der Einwirkung von Wasser noch von Temperaturen bis 100° C signifikant verändert;
Beispiele für derartige Siliciumverbindungen sind ausser den Oxiden die Nitride und Carbide von Silicium. Siliciumdioxid ist aus Gründen der Wirtschaftlichkeit besonders bevorzugt.
Bekanntlich können Schichten aus Siliciumverbindungen auf Si-5 liciumsubstraten reaktiv gebildet werden, d.h. durch chemische Reaktion des Siliciumgrundmaterials in situ mit dem bzw. den nötigen Reaktionspartner(n), der bzw. die elementar oder als Verbindungen und vorzugsweise jeweils gasförmig vorliegt bzw. vorliegen; Schichten aus Siliciumverbindungen können aber auch deposi-lo tiv gebildet werden, d.h. durch Ablagerungsmethoden, wie Aufdampfen, unter Verwendung von vorgebildeten Verbindungen.
Die Einzelheiten von geeigneten Verfahren sind in der Fachliteratur, z.B. Meissel und Glang, „Handbook of Thin Film Technology", zu finden. Allgemein werden für die Zwecke der Erfindung 15 reaktive Methoden bevorzugt, die mit vertretbarem technischem Aufwand zur Bildung von transparenten Schichten aus Siliciumverbindung führen; ein bevorzugtes Beispiel ist die Umsetzung des Substratsiliciums mit Sauerstoff, wobei die Aktivierungsenergie thermisch, z.B. durch Erhitzen oder/und elektrisch, beispielsweise durch 20 Glimmentladung, zugeführt werden kann. Beispielsweise kann man das Siliciumsubstrat in Gegenwart von Sauerstoff bzw. sauerstoffhaltigem Gas, wie Luft, unter definierten Bedingungen von Druck, Feuchtigkeit u. dgl. auf Reaktionstemperaturen von über 500° C erhitzen.
25 Im allgemeinen sind Siliciumsubstrate mit Deck- bzw. Schutzschichten aus definierten Siliciumverbindungen, wie Si02, geeigneter Dicke als Grundmaterial für die Halbleiterfertigung technisch erhältlich.
Die für die Interferenzfarbenbildung ausreichenden Dicken der 30 Oberschicht 16 liegen, wie oben erwähnt, meist im Bereich von 50 bis 1000 nm. Die für eine bestimmte Interferenzfarbe geeignete bzw. optimale Dicke der Schicht 16 kann von den speziellen optischen Eigenschaften, wie Brechungsindex, optische Dichte, Turbidität u. dgl., beeinflusst werden, d.h. sowohl von der Art der Siliciumverbin-35 dung der Schicht 16 als auch der zur Schichtbildung angewendeten Methode.
Als orientierende Beispiele sind folgende Werte für den Farben/ Dicken-Zusammenhang von transparenten Si02-Schichten zu nennen.
Interferenzfarbe
Schichtdicke (nm)
bräunlich-weiss
68,5
hellbraun
73,3
dunkelbraun
79,5
rotbraun
85,0
purpurrot
88,4
dunkelviolett
92,5
dunkelblau
95,9
hellblau
112,0
fahlgrün
176,0
hellgrelb
193,0
goldgelb
206,0
orangefarben
241,0
rot
255,0
dunkelpurpurfarben
265,0
dunkelviolett
274,5
dunkelblau
277,0
hellblau
294,0
fahlgrün
358,0
hellgelb
375,0
goldgelb
388,0
orangefarben
423,0
rot
437,0
dunkelpurpurfarben
447,0
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Die Interferenzfarben/Dicken-Beziehung hängt bekanntlich mit der Wellenlänge X des einfallenden Lichtes zusammen, wobei Interferenzen insbesondere bei X/4, Xj2, X/l auftreten. Eine gewünschte Farbe kann daher mit unterschiedlichen Dicken der Schicht 16 erzielt werden. Interferenzgrenzbereiche für Si02 liegen z.B. bei 91, 273, 455, 637, 819 und 1002 nm.
Es versteht sich, dass eine genaue Messung der Schichtdicke an sich nicht kritisch bzw. erforderlich ist und in der Praxis durch Farbvergleich ersetzt oder ergänzt werden kann. Ferner kann die Dicke der Oberschicht 16 entweder durch verlängerte bzw. intensivierte Bedingungen der reaktiven oder depositiven Schichtbildung vergrössert oder durch kontrollierte Schichtabtragmethoden, wie z.B. Ätzen, ganzflächig oder in vorbestimmten Teilbereichen vermindert und der Farbeffekt jeweils verändert werden.
Die Oberschicht 16 kann nach an sich bekannten Methoden, wie Bedrucken (z.B. Siebdruck), Aufdampfen (Vakuumbeschichtung), Aufkleben, Aufmalen usw., mit oder ohne Verwendung bekannter Masken, z.B. aus Fotolack, mit örtlich begrenzten Auflagen aus optisch undurchlässigem (opakem) Material, z.B. aus Druckfarbe, Metall, Emaille usw., versehen werden, um beispielsweise auf einem Ziffernblatt von Messgeräten, Anzeigen, Uhren usw. entspechende Bezugs- oder Leuchtpunkte, Beschriftungen, Zahlen usw. zu bilden.
Alternativ kann die Substratschicht 14 bereits vor Bildung der Oberschicht 16 z.B. durch Aufdampfen in vorbestimmten Bereichen (unter Verwendung entsprechender Masken bzw. temporärer Schutzschichten) mit metallischen Auflagen versehen und nachfolgend zur Bildung der Oberschicht 16 behandelt werden, in welcher die Auflagen als Einlagen 19 erscheinen; in diesem Fall muss die Oberschicht 16 unter Bedingungen gebildet werden, bei welchen das Material bzw. Metall der Einlage 19 keine nachteilige Veränderung erfährt.
Allgemein ist im Zusammenhang mit den Fig. 1 und 2 zu betonen, dass die jeweiligen Schichtdicken bzw. Schichtdickenver-hältnisse keinesfalls der Wirklichkeit entsprechen.
In Fig. 2 ist ähnlich wie in Fig. 1 eine schematisch dargestellte, abgebrochene Schnittansicht der Oberfläche eines dekorierten Artikels 20 gezeigt; die Unterschicht 24 aus Silicium trägt in einem ersten Bereich 21 die Interferenzfarbenoberschicht 26 aus Siliciumverbindung wie oben erläutert, vorzugsweise Si02. Die Oberschicht 26 ist in einem zweiten Bereich 222 bzw. 223 dünner ausgebildet, was unter Umständen durch entsprechendes Abdecken bei der Bildung der Schicht 26 aber vorzugsweise durch nachträgliches Entfernen, z.B. nach den üblichen chemischen Ätzmethoden bei entsprechender Abdeckung der nicht zu ätzenden Bereiche, erzielt werden kann. Das örtliche Abtragen bzw. Entfernen der Schicht 26 kann zu einer teilweisen Schichtabtragung (Bereich 222) oder einer vollständigen Schichtentfernung (Bereich 223) unter Freilegung und ggf. Anätzung des Siliciumgrundmaterials führen.
Der zweite Teilbereich kann aber auch, wie in 224 angedeutet, von einer zweiten bzw. dicker aufgetragenen Interferenzfarbenschicht 27 gebildet werden. In jedem Fall, d.h. sowohl durch Verminderung bzw. Entfernung der Schicht als auch durch deren örtliche Verstärkung bzw. Überlagerung, kann ein optisch wahrnehmbarer Kontrast zwischen dem ersten Teilbereich und dem zweiten Teilbereich bzw. den zweiten Teilbereichen 222, 223, 224 erzielt werden; wiederum kann eine Auflage 28 aus opakem Material direkt (wie in Fig. 1) oder indirekt (über dem verdickten Schichtbereich 224) auf der Schicht 26 liegen, um zusätzliche Kontraste mit dekorativem und/oder informativem Charakter zu ermöglichen.
Bei dekorierten Artikeln 20, deren Oberflächen normalerweise nicht aus Silicium bestehen, z.B. dekorierte Gebrauchsartikel, wie 5 Feuerzeuge, kann wie bereits angedeutet die Siliciumunterschicht 24 auf einer Oberfläche 290 des nicht aus elementarem Silicium bestehenden Artikels 20, z.B. mit einer Lot- oder Klebschicht 291 oder nach anderen bekannten Methoden, wie Verschrauben oder Vernieten, befestigt sein.
10 Die Vorteile von erfindungsgemäss dekorierten Artikeln ergeben sich aus der guten Reproduzierbarkeit der Interferenzfarben der Schichten 16, 26, den vergleichsweise geringen Kosten der Werkstoffe und ihrer Verarbeitung, der hervorragenden mechanischen und chemischen Beständigkeit von Schichten aus festen Siliciumver-15 bindungen, wie Siliciumdioxid mit einer typischen Mohs-Härte von 7, der Lichtbeständigkeit sowie der vergleichsweise sehr hohen thermischen Beständigkeit solcher Schichten, was sowohl die Verwendung unter vergleichsweise extremen Bedingungen ermöglicht als auch die Verarbeitung, z.B. Auflöten auf den Träger 29, verein-20 facht.
Beispielsweise kann die Unterseite 240 der Siliciumschicht 24, z.B. durch Badbeschichtung oder Aufdampfen, mit einer Schicht 291 aus Lotmetall versehen und zur Verbindung mit dem Träger 29 ohne 2S besondere Schutzmassnahmen auf Löttemperatur erhitzt werden.
Übliche Weichlöttemperaturen haben keine nachteilige Wirkung auf die Farbenschicht 26, da zum Oxidieren von Silicium durch Erhitzen an der Luft höhere Temperaturen nötig wären; gewünschten-falls kann zur thermischen Verbindung mit dem Träger 29 bei 30 höheren Temperaturen (Hartlöten) unter Inertgas, wie Helium oder Argon, gearbeitet werden. In Gegenwart von Sauerstoff bzw. Luft wird Silicium normalerweise erst bei Temperaturen von über 700° C oxidiert; typische Temperaturen zur reaktiven Bildung von Schichten 16, 26 aus Siliciumoxiden durch Erhitzen von elementarem Sili-35 cium an der Luft liegen im Bereich von 700° C bis zum Schmelzpunkt von Silicium (1414° C), vorzugsweise höchstens 1380 und insbesondere zwischen 900 und 1100e C bei einer typischen Erhitzungsdauer von 30 bis 60 min.
Ein bemerkenswerter Vorteil der Erfindung ist die im Vergleich 40 zu konventionellen Methoden, wie Galvanisieren, geringe Umweltbelastung bei der Herstellung.
Als Beispiele für erfindungsgemässe dekorierte Gebrauchsgegenstände oder Schmuckartikel sind zu nennen: Füllfedern, Kugelschreiber, Schreibstifte; Toiletten- bzw. Handspiegel, Puderdo-45 sen, Hülsen für Lippenstifte und andere kosmetische Artikel; Uhrenarmbänder; Schmuckgegenstände, wie Broschen, Anhänger, Manschettenknöpfe, Krawattenhalter, Schmuckschatullen, Armreifen, Halsketten, Ohranhänger; Toilettengegenstände, wie Schmink-stifthülsen, Parfumbehälter, Hand- oder Stielspiegel, Hand- oder so Stielbürsten, Rasierapparate bzw. -pinsel, Manikürgeräte; und weitere Gebrauchsgegenstände, wie Feuerzeuge, Schlüsselanhänger bzw. -behälter, Schreibgeräte, Zigarettendosen, Kultgegenstände, Schreibzeuge, Vasen, Töpfe, Untersätze, Tischauflagen, Lampen, Kerzenhalter, Mosaike bzw. Mosaikteile, Möbel, Intarsien, Spieltis-55 che bzw. -bretter und zahlreiche andere Gegenstände, die eine mehr oder weniger ausgeprägte abnützungs- und alterungsbeständige Verzierung benötigen können.
1 Blatt Zeichnungen

Claims (14)

  1. 654 791
    2
    PATENTANSPRÜCHE
    1. Dekorierter Artikel mit mindestens einer im reflektierten Licht farbig erscheinenden Fläche, dadurch gekennzeichnet, dass die farblig erscheinende Fläche (11) von einer Silicium Unterschicht (14) und einer fast mit der Unterschicht verbundenen Oberschicht (16) gebildet ist, die für optisches Licht durchlässig ist, aus einer unter Normalbedingungen festen, praktisch inerten Siliciumverbindung besteht und eine zur Interferenzfarbenerzeugung ausreichende Dicke hat.
  2. 2. Artikel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16) praktisch aus Siliciumdioxid besteht.
  3. 3. Artikel nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16) bereichsweise und z.B. muster,-bild- oder schriftartig mit einer Auflage (18) oder Einlage (19) aus opakem Material versehen ist.
  4. 4. Artikel nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16, 26) in einem ersten Oberflächenbereich (21) eine erste und zur Bildung einer Interferenzfarbe ausreichende Dicke hat und in einem zweiten, z.B. muster-, bild- oder schriftartig angeordneten Oberflächenbereich (222, 223, 224) eine zweite Dicke hat, welche dem zweiten Oberflächenbereich optische Eigenschaften verleiht, die von denen des ersten Oberflächenbereiches zur Erzeugung eines mit dem Auge wahrnehmbaren Kontrastes ausreichend unterschiedlich sind.
  5. 5. Artikel nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (16) aus der Siliciumverbindung aus einer im wesentlichen glasklaren, an sich praktisch farblosen Masse besteht.
  6. 6. Artikel nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (16, 26) aus der Siliciumverbindung eine Dicke von 50 bis 1000 nm hat.
  7. 7. Artikel nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzei-chent, dass er im wesentlichen aus der Siliciumunterschicht (14, 24) und der ggf. unterschiedlich dicken Oberschicht (16,26) sowie allfälligen Auflagen (18, 28) oder Einlagen (19) besteht.
  8. 8. Artikel nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Siliciumunterschicht (14, 24) auf einem Träger (29) aus anderem Material als Silicium befestigt ist.
  9. 9. Verfahren zur Herstellung eines dekorierten Artikels, dadurch gekennzeichnet, dass man mindestens einen Oberflächenbereich des Artikels (10, 20) mit einer Siliciumschicht als Unterschicht (14, 24) und einer fest mit dieser verbundenen Oberschicht (16, 26) versieht, die für optisches Licht durchlässig ist, aus einer unter Normalbedingungen festen, praktisch inerten Siliciumverbindung besteht und eine zur Interferenzfarbenerzeugung ausreichende Dicke hat.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch g, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16, 26) praktisch aus Siliciumdioxid besteht, das reaktiv durch Umsetzung der Unterschicht (14, 24) mit Sauerstoff gebildet ist.
  11. 11. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass man die Oberschicht (16, 26) bereichsweise und z.B. muster-, bild- oder schriftartig mit einer Auflage (18, 28) oder Einlage (19) aus opakem Material, z.B. Metall, versieht.
  12. 12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberschicht (16, 26) bereichsweise, z.B. muster-, bild- oder schriftartig, selektiv augetragen oder selektiv entfernt wird, um einen sichtbaren Kontrast zwischen einem ersten, Interferenzfarben zeigenden Oberflächenbereich (21) und einem zweiten, von Interferenzfarben freien oder/und andere Interferenzfarben aufweisenden Oberflächenbereich (222, 223, 224) zu erzeugen.
  13. 13. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die aus Silicium bestehende Unterschicht (14) auch die Grundschicht des Artikels (10) ist oder auf einer aus anderem Material als Silicium bestehenden Fläche (29) des Artikels (20) befestigt wird.
  14. 14. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Unterschicht (14, 24) vor Bildung der Oberschicht (16, 26) bis zu einem" matten oder polierten Aussehen geglättet wird, z.B. durch Schleifen oder/und Polieren, um nachfolgend eine entsprechende glatte Oberschicht mit poliertem oder mattiertem Aussehen reaktiv oder depositiv zu bilden.
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