DE3231845A1

DE3231845A1 - Verfahren zur herstellung von durch elektronenstrahlen haertbaren gipsplatten

Info

Publication number: DE3231845A1
Application number: DE19823231845
Authority: DE
Inventors: Osamu Hiratsuka Kanagawa Isozaki; Kenji Chigasaki Kanagawa Sugimoto
Original assignee: Taisei Corp; Kansai Paint Co Ltd
Current assignee: Taisei Corp; Kansai Paint Co Ltd
Priority date: 1981-08-26
Filing date: 1982-08-26
Publication date: 1983-03-17
Also published as: FR2513175B1; JPS5836992A; FR2513175A1; GB2105640B; US4514471A; GB2105640A; JPS6129910B2; CA1215021A; DE3231845C2

Description

Beschreibung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatte oder insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatte, insbesondere von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsfliesen bzw. Gipskacheln, das darin besteht, eine hydratisierte Gipsaufschlämmung, die einen Zusatz, faserförmiges Material, feine Aggregate usw., enthält, oder frei davon ist, entschäumt, verfestigt bzw. härtet und trocknet, unter Bildung eines Gipssubstrats, und eine durch Elektronenstrahlen härtbare Zusammensetzung auf die Oberfläche des Gipssubstrats aufschichtet, unter Bildung eines Überzugsfilms und den Überzugsfilm zur Härtung mit beschleunigten Elektronenstrahlen bestrahlt.

Gipsplatten sind seit langem bekannt, insbesondere wurden Gipsfliesen zur Innendekoration in Portugal verwendet und sind in der Form Fresco-Anstrichen ähnlich, wobei es sich um die Art von Anstrichen auf einer Kalk-Putzoberfläche mit in Wasser vermahlenen Farben oder einem Kalkwassergemisch handelt und auf die Mörtelwandung aufgetragen wird.

Es wurden verschiedene Versuche unternommen, Gipsfliesen unter Verwendung von Gips herzustellen und es wurden verschiedene geformte Gipsprodukte bereitgestellt, wie solche, die erhalten wurden durch Gießen einer hydratisierten Gipsaufschlämmung in eine Decke oder Wandung und Einführen eines rostfreien Stahlnetzes in ein Kernmaterial bei der Härtung, zur verstärkten Formung; es wurden auch solche bereitgestellt, die erhalten wurden durch Übertragen einen Tiefdrucks auf eine mit Glasfasern verstärkte Gipsaufschlämmung, durch ein Über-

tragungsverfahren, Trocknen der Aufschlämmung, Überziehen zur Penetration mit einer durch Ultraviolettstrahlung härtbaren Überzugszusammensetzung und durch Bestrahlen mit Ultraviolettlicht zur Härtung; eine mit Glasfasern verstärkte Gipsplatte (GRG), hergestellt aus Glasfasern und Gipsaufschlämmung; eine geschäumte Gipsplatte, hergestellt durch Einarbeiten eines Cellulosematerials und von Glasfasern in eine geschäumte Gipszusammensetzung; und dgl. Wie vorstehend beschrieben, werden die Anwendung und der Verbrauch von geformten Gipsprodukten auf dem Gebiet der Architektur allmählich größer.

Als ein Beispiel für die Überzugsmethode für ein poröses Substrat, wie eine belüftete Zementplatte zur Bildung eines Überzugs auf der belüfteten Zementplatte, auf die ein wasserfester Überzug schwierig aufgetragen werden kann, unter Bildung eines völlig wasserfesten Überzugsfilms darauf, wird in der JA-OS Nr. 17431/1974 ein Verfahren beschrieben zur überzugsbildung auf einer belüfteten Zementplatte bzw. einer Schaumzementplatte, das darin besteht, eine härtbare Überzugszusammensetzung auf eine innere Oberfläche einer Form aufzubringen, in die eine Fläche der Zementplatte leicht eingesetzt wird, worauf ein resultierender überzug halb gehärtet wird und die Oberfläche der Zementplatte auf den zu härtenden überzug gepreßt wird und die Überzugszusammensetzung auf die Zementplatte übertragen wird. Zwar beschreibt die genannte JA-OS, daß die härtbare überzugszusammensetzung vorzugsweise eine solche ist, die durch Wärme härtbar ist und eine solche sein kann, die durch Ultraviolettlicht oder beschleunigte Elektronenstrahlen gehärtet werden kann, jedoch wird beschrieben, daß die härtbare Überzugszusammensetzung des letzteren Härtungstyps praktisch schwierig durch die Anwesenheit der Form aufzutragen ist und darüberhinaus beziehen sich in der genannten JA-OS keine Beispiele auf das Übertragungsdruckverfahren, wie vorstehend erwähnt, unter Verwendung von Ultraviolettstrahlung oder Elektronenstrahlung. Die Lehre der JA-OS Nr. 17431/1974 liegt darin, daß der halbgehärtete Film, der auf der inneren Ober-

fläche der Form ausgebildet wurde, auf die Zementplatte übertragen wird, statt eine Überzugszusammensetzung direkt auf eine Schaumzementplatte aufzubringen, und die dortige Lehre gibt keine Empfehlungen zur Herstellung von Gipsfliesen durch Anwendung eines Gipssubstrats, das aus einer hydratisierten Gipsaufschlämmung mit einem speziellen Wasser-Gips-Verhältnis hergestellt wurde, auf eine durch Elektronenstrahlen härtbare Überzugsmethode gemäß der vorliegenden Erfindung.

Die JA-OS Nr. 63725/1974 beschreibt ein Verfahren zum Abdichten einer Oberfläche eines porösen Materials, wie Kunststoff, FRP, Schaumkörpern, Asbestfasermaterial oder Faserplatten, das darin besteht, auf die Oberfläche eine dünne Filmschicht eines Oberflächenbehandlungsmittels aufzutragen, das aus einer durch Ultraviolettstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung besteht, wobei sowohl mit Ultraviolettlicht bestrahlt und die dünne Filmschicht erwärmt wird, mit der Absicht, die Oberfläche des Porenmaterials rasch und wirksam abzudichten. Die Lehre der genannten JA-OS richtet sich auf ein Verfahren zur Abdichtung eines porösen Materials, wie vorstehend erwähnt, und unterscheidet sich wesentlich von der vorliegenden Erfindung, die auf ein Verfahren zur Herstellung einer gefärbten Fliese aus einem Gipssubstrat gerichtet ist, das aus einer hydratisierten Gipsaufschlämmung mit einem speziellen Wasser-Gips-Verhältnis gebildet wurde. Darüberhinaus unterscheidet sich das Verfahren der genannten JA-OS stark von dem der vorliegenden Erfindung,durch die kombinierte Anwendung von Ultraviolettlicht und Wärme, die in den 'bekannten Verfahren notwendig ist.

Die JA-OS Nr. 128927/1974 beschreibt ein Verfahren zur Verbesserung der Wasserbeständigkeit eines gehärteten Gipshydrat-materials, das darin besteht, eine spezielle durch Ultraviolettstrahlen härtbare Harzzusammensetzung auf die Oberfläche des zu härtenden Gipsmaterials aufzutragen. Ein Ziel der genannten JA-OS ist. das Modifizieren einer Gipsplatte, die derart

leicht Wasser absorbieren kann, daß ihre mechanische Festigkeit leicht verschlechtert wird, durch Überzugsbildung mit einem durch Ultraviolettstrahlen härtbaren Harz, wohingegen erfindungsgemäß ein Verfahren zur Herstellung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatte zur Anwendung in der Architektur, insbesondere zur Herstellung einer vorgefertigten Gipsfliese, bereitgestellt wird. Die Anwendung eines durch Ultraviolettstrahlen härtbaren Harzes auf das Gipssubstrat weist den Nachteil auf, daß die Viskosität des Harzes bei Beschichtungsauftrag größer wird im Vergleich mit dem Fall des Auftrags eines durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzes. Das Härtungsverfahren durch Ultraviolettstrahlung weist zahlreiche Nachteile im Vergleich mit dem Elektronenstrahlen-Härtungsverfahren auf, da das erstgenannte Verfahren ungeeignet zur Anwendung im Freien ist, aufgrund der geringen Oberflächenhärte des gehärteten Films und der schlechten Wetterbeständigkeit, und da die härtbare Filmdicke gering ist und die Härtungsleistungsfähigkeit inhibiert wird, wenn ein opakes färbendes Mittel, wie Pigment, eingearbeitet wird, aufgrund der geringeren Penetration der Bestrahlungsenergie beim erstgenannten Verfahren. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung wurden durch umfangreiche Untersuchungen die Nachteile des Ultraviolett-Bestrahlungshärtungsverfahrens überwunden, wobei gefunden wurde, daß das Härtungsverfahren durch Ultraviolettstrahlung ungeeignet ist zur Herstellung der vorgefertigten Gipsfliesen. Dies hat zu einem neuen Verfahren zur Herstellung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatte unter Anwendung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung geführt.

Da durch Elektronenstrahlen härtbare Gipsplatten vorwiegend als Rückseitensubstrate verwendet wurden, mußten einige Probleme bei der Herstellung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatte gelöst werden. Ein Beispiel für die zu lösenden ernsten Probleme liegt darin, daß ein Klebeband aus

Cellophan oder auf Gewebebasis kaum anhaftet oder an der Oberfläche des gehärteten Gipsmaterials überhaupt nicht haftet, wenn das Material Feuchtigkeit enthält. Selbst wenn es scheinbar an der Oberfläche haftet, kann nur Gipspulver an der Klebeseite des Bandes nach dem Abziehen des Bandes haften, da mikroskopisch gesehen, die Oberfläche des gehärteten Gipsmaterials eine derartige Struktur aufweist, daß die Gipskristalle kontinuierlich darauf in einem pulverförmigen Zustand oder Ausblühungs-Zustand angeordnet sind.

Wenn daher eine durch Ultraviolettstrahlen härtbare Harzzusammensetzung zum Eindringen aufgeschichtet wird, wird das gehärtete Gipsmaterial vorerwärmt oder wird das Harz erwärmt, so daß die Permeabilität des Harzes erhöht wird. In einem derartigen Fall können gute Klebeeigenschaften erwartet werden, wenn die Beziehung zwischen der Viskosität und der Tiefe des Eindringens des Harzes oder der Überzugszusammensetzung gesteuert wird. Jedoch besteht ein Nach darin, daß das Harz oder die Überzugszusammensetzung teilweise ungehärtet bleibt, da die zur Härtung erforderliche Ultraviolettstrahlungsenergie die tiefsten Teile des eingedrungenen Harzes nicht ausreichend erreicht. Um den vorstehenden Nachteil zu überwinden, wird eine kombinierte Anwendung eines durch Ultraviolettstrahlen härtbaren Harzes und eines durch Wärme härtbaren Harzes oder die Anwendung eines Mehrschicht-Auftrags, beispielsweise eines Primerüberzugs, gefolgt von einem Decküberzug . benötigt. Es muß auch das Problem gelöst werden, daß eine Überzugszusammensetzung zur Bildung eines durchsichtigen Filmes nach dem Auftrag eines gefärbten Primerüberzugs aufgetragen werden muß, da die Härtungsstufe stark inhibiert wird, wenn ein undurchsichtiges Farbpigment in die durch Ultraviolettstrahlung härtbare Harzzusammensetzung eingearbeitet wird.

Die JA-OS Nr. 113816/1974 beschreibt ein Oberflächen-Finish-Verfahren, das darin besteht, zur Penetration ein spezielles

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Manomer-Polymer-Gemisch, das durch ionisierte Strahlung, wie beschleunigte Elektronenstrahlen, härtbar ist, auf eine CaI-ciumsilicatplatte aufzutragen und durch Bestrahlen mit Elektronenstrahlen zu härten. Das vorstehende Verfahren hat mit der vorliegenden Erfindung nur die Anwendung der Elektronenstrahlen-Härtungsstufe gemeinsam. Es ist jedoch ein Ziel der JA-OS Nr. 113816/1974, Probleme zu lösen, die sich speziell auf Calciumsilicatplatten beziehen, nämlich den Auftrag eines Dichtungsmittels für die Calciumsilicatplatten zur Steuerung der äußerst hohen Feuchtigkeitsabsorptionscharakteristika und der Überzugspermeabilität der Calciumsilicatplatten, die zu verringerten Hafteigenschaften des durch Strahlung gehärteten Überzugs führen, sowie die Schwierigkeiten bei der Präfinishbehandlung, während es ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist, eine Oberflächen-fertiggestellte-Gipsfliese bereitzustellen, mit physikalischen Eigenschaften, die solchen üblicher gebrannter Fliesen entsprechen, was völlig unterschiedlich ist von dem Ziel der JA-OS Nr. 113816/197 4. Darüberhinaus empfiehlt die JA-OS Nr. 113816/1974 nicht was das Ziel der vorliegenden Erfindung betrifft. Die vorliegende Erfindung ist technisch unterschiedlich von der vorstehenden JA-OS, da sie sich auf ein Gipssubstrat richtet, das ein spezielles Wasser-Gips-Verhältnis aufweist, oder auf ein geformtes Substrat, das gebildet wurde durch Zusatz von Zusatzstoffen und faserförmigen Materialien, was sich von den Calciumsilicatplatten unterscheidet, auf die sich die vorstehend genannte JA-OS richtet. Darüberhinaus empfiehlt die JA-OS Nr. 113816/1974 nichts hinsichtlich der Einzelheiten des erfindungsgemäßen Verfahrens. Es ist daher nicht möglich, die praktisch brauchbaren, durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten, insbesondere die durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsfliesen zu erzielen durch Anwendung der Stufen des Verfahrens zur Herstellung der durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten, insbesondere Gipsfliesen, anstelle der in der genannten JA-OS beschriebenen Finishingmethode.

Die JA-OS Nr. 43410/1973 beschreibt ein Verfahren zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit eines Zementblocks, bei dem ein flüssiges potentielles Medium in den Block gesättigt wird, worauf der gesättigte Block durch Wärme oder durch Bestrahlen mit ionisierender Strahlung gehärtet wird. Öas Verfahren der genannten JA-OS unterscheidet sich grundlegend von dem erfindungsgemäßen Verfahren, da die Definition des Mediums in der vorstehenden JA-OS unbestimmt ist und die chemische Zusammensetzung des Mediums nicht klar ist und da das Medium in den Zementblock mit einem Sättigungsgrad von 3 bis 25 Gew.-% gesättigt wird. Somit unterscheidet sieh die Lehre der JA-OS Nr. 43410/1973 grundlegend von dem Ziel der vorliegenden Erfindung, sowie von dem Lösungsweg zur Erreichung dieses Ziels und von der Wirkung der vorliegenden Erfindung.

Die JA-OS Nr. 35058/1974 beschreibt ein Dichtungsverfahren das darin besteht, die Poren von porösen steifen Gegenständen, wie Gußkörpern und gesinterten Metallteilen, mit einem polymerisierbaren anaeroben Dichtungsmittel zu imprägnieren, beispielsweise einem Dichtungsmittel, das hauptsächlich aus einem Acrylatester besteht, worauf eine Härtungsbehandlung angewendet wird. Die vorstehend genannte JA-OS besagt jedoch nichts über das Verfahren zur Herstellung von Gipsfliesen gemäß der vorliegenden Erfindung.

Die Gipsfliesen, auf die die vorliegende Erfindung anwendbar ist, weisen Vorteile auf, obwohl sie bei der Verfestigung bzw. Härtung ausgedehnt werden, ihre Dimensionsgenauigkeit im trockenen Zustand stark verbessert wird, wenn die exotherme Reaktion vollständig ist und freies Wasser daraus verdampft wurde; 2. wenn sie weiß sind, sie für arähitektonische Entwürfe besonders geeignet sind und ihre Farbe unter Bestrahlung variieren, sowie aufgrund des ausgezeichneten dreidimensionalen Aussehens in der Silhouette; 3. die übliche calcinierte Fliese einen derartigen Nachteil aufweist, daß deren Kanten beim Erwärmen geschmolzen werden, unter Bildung von matten Stellen

während der unglasierten Calcinierungsstufe bei 78O°C, sowie während der Glasierungs-Calcinierstufe bei 123O°C, wohingegen die Gipsfliese scharfe Grate bzw. Kanten beibehalten kann;

4. da sie ausgezeichnete akustische Charakteristika, wie Schallisolierung und -diffusionseigenschaft -aufweist; und da sie 5. nicht entflammbar ist. Andererseits weist die vorstehend genannte Gipsplatte Nachteile auf, da 1. deren Oberflächenhärte so gering ist, daß sie leicht zerkratzt und verunreinigt werden kann; 2. deren Stoßfestigkeit so gering ist, daß scharfe Kanten leicht gebrochen werden; 3. ihre Wasserbeständigkeit gering ist und eine geringe Widerständigkeit gegen Regenwasser und fließendes Wasser besteht; 4. nur ein Gips-Hemihydrat vom Typ o(^m±-t hoher Qualität primär verwendet wird und kostengünstige Gipsnebenprodukte, wi.e sie bei der Entschwefelung von Abgas bzw. Rauchgas, beim Naßverfahren der Phosphorsäureherstellung oder bei der Herstellung von Fluorverbindungen erhalten werden, nicht verwendbar sind, da eine Verfärbung durch Verunreinigungen zu einer Marmorierung führt;

5. sie nicht durch Nägel und Schrauben befestigt werden kann; und 6. sie eine geringe Kriechfestigkeit aufweist.

Ein Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten, insbesondere von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsfliesen, das geeignet ist zur Herstellung von Gipsplatten, insbesondere von Gipsfliesen mit verbesserten physikalischen Eigenschaften im Vergleich mit den üblichen Gipsfliesen, und die derartige physikalische Eigenschaften aufweisen, daß sie mit üblichen gebrannten Fliesen konkurrieren können, unter Verwendung des vorstehend genannten als Nebenprodukt erhaltenen Gips-Hemihydrats vom Typ "¹C , ohne daß die vorstehend genannten Nachteile auftreten.

Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten, insbesondere von Gipsfliesen, das geeignet

ist zur Bereitstellung eines verbesserten metallischen Decküberzugs und gefärbten Überzugs- bzw. Finishs, insbesondere eines Oberflächendecküberzugs bzw. -finishs, der ausgezeichnete Dekorations- und Adhäsionseigenschaft aufweist, durch einen Überzug durch Anwendung einer Elektronenstrahlenhärtung mit einer ausreichend hohen Energie zur Härtung des überzugsfilms durch seine ganze Dicke hindurch, wobei bei diesem Verfahren der Zusatz von organischen Zusätzen, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Melaminharzpulver, von verschiedenen Emulsionen und dgl. zu der hydratisierten Gipsaufschlämmung die Oberfläche des gehärteten Gipses an der Pulverbildung und den Migrationseffekt unter Bildung einer gekrümmten Oberfläche hindert, unter Bildung eines Gipssubstrats, das geeignet ist zur Aufbringung eines einzigen Decküberzugs. Dabei sollen auch anorganische Füllstoffe verwendet werden können, wie Siliciumdioxidsand, CaCOo-Sand, feine Aggregate, und dgl., die in die hydratisierte Gipsaufschlämmung eingearbeitet werden, und es soll sich ein Verankerungseffekt durch das Eindringen der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung in feine Öffnungen zwischen dem Gips und dem Zusatz in verstärkter Weise ergeben, so daß die Klebeeigenschaften des einstufigen Finishs bzw. Decküberzugs fest und stabil gemacht werden können. Bei diesem Verfahren soll eine durch Elektronenstrahlen härtbare Überzugszusammensetzung, die leicht penetrierbar ist und eine geringe Viskosität aufweist, auf die Oberfläche des zu härtenden Gipssubstrats aufgetragen werden können und beschleunigte Elektronenstrahlen derart aufgestrahlt werden können, daß das Harz, das für die Oberflächenverarbeitung und die Verstärkung erforderlich ist, in den Gips eindringt und wie eine Wurzel verankert wird.

Durch die Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten bereitgestellt, das darin besteht, eine Aufschlämmung, die durch Zusatz von Wasser zu einem Gips-Hemihydrat vom Typ o£ in einer

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Menge von 28 bis 60 Gew.-Teilen Wasser pro 100 Gew.-Teile Gips (im folgenden kann zur Vereinfachung auf ein Wasser-Gips-Verhältnis von 28 bis 60 hingewiesen werden), vorzugsweise von 35 bis 45 Gew.-Teilen Wasser pro 100 Gew.-Teile Gips, gebildet wurde, in eine vorher ausgebildete flache plattenförmig Form oder eine Form mit einem geprägten Muster, auf eine Dicke von 0,4 bis 6 mm, vorzugsweise etwa 3 mm direkt gegossen wird oder gegossen wird nach dem Zusatz von mindestens einem Bestandteil, ausgewählt aus einem organischen Zusatz, einem anorganischen Zusatz und einem organischen oder anorganischen faserförmigen Material, unter Bildung einer ersten Aufschlämmungsschicht, die erste Aufschlämmungsschicht durch Vibrieren zur Verfestigung bzw. Härtung entschäumt und getrocknet wird, unter Bildung eines ersten Gipssubstrats, oder zusätzlich auf die erste Gipsaufschlämmung eine Aufschlämmung mit einer Formulierung, die identisch iöt mit der vorstehenden Aufschlämmung oder davon unterschiedlich ist, auf eine Dicke von 3 bis 20 mm, vorzugsweise 5 bis 15 mm, gegossen wird, unter Bildung einer zweiten Aufschlämmungsschicht, und Entschäumen der zweiten Aufschlämmungsschicht unter Vibrieren zur Verfestigung bzw. Härtung und Trocknen zur Bildung eines zweiten Gipssubstrats, eine durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung auf das erste oder zweite Gipssubstrat aufgetragen wird und mit Elektronenstrahlung zur Härtung bestrahlt wird.

Im folgenden werden die Figuren kurz erläutert.

^Die Fig. 1 stellt eine graphische Darstellung dar, die die Beziehung zwischen der Viskosität V (Poise bzw. dPa.s bei 25°C) eines durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzes oder der Harzzusammensetzung und den Gew.-Teilen Wasser (W) pro 100 Gew.-Teile Gips bei der Formung von Fliesen als ein Beispiel des Finishingplans der Gipsfliese gemäß der Erfindung zeigt.

Die Fig. 2 ist ein Querschnitt, der ein Beispiel für das Muster zeigt, dem eine hydratisierte Gipsaufschlämmung erfindungsgemäß durch Formen unterzogen wird, wobei 1 ein Muster und 2 eine Ausscherung bzw. Verstärkung (kick) zeigt.

Im folgenden wird die Erfindung genauer beschrieben.

Das Wasser-Gips-Verhältnis beim erfindungsgemäßen Verfahren liegt im allgemeinen im Bereich von 28 bis 60, insbesondere von 35 bis 45. Wenn das Wasser-Gips-Verhältnis über 60 liegt, penetriert eine durch Elektronenstrahlen härtende Harzzusammensetzung so gut in das Gipssubstrat auf ein derartiges Ausmaß, daß kein Überzug an der Oberfläche des Substrats verbleibt und daß insbesondere, wenn das Verhältnis in der Gegend von 65 liegt, ein Adhäsionstest dazu führt, daß die gehärtete Uberzugszusammensetzung, die in das Gipssubstrat eingedrungen ist, eine Bindekraft ergibt, die größer ist als die des längs dem Gipssubstrat abzuziehenden Gipssubstrat selbst und daß, obwohl die Überzugszusammensetzung eine wirksame Dichtung ergibt, deren Funktion als ein Oberflächenüberzug ungünstig verschlechtert wird. Wenn das Wasser-Gips-Verhältnis weniger als 28 beträgt, so wird der Expansionskoeffizient der Gipsaufschlämmung größer, derart, daß es schwierig ist, das Muster auszubilden und daß die Oberfläche des Gipssubstrats so dicht wird, daß die Permeationseigenschaften der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung verringert werden und die Adhäsionseigenschaften des gehärteten Überzugs auch verringert werden.

Im Falle der Gipsfliesen sollte, selbst wenn die hydratisierte Gipsaufschlämmung mit geschnittenen E-Glasfasersträngen verstärkt ist, das Wasser-Gips-Verhältnis im wesentlichen im Bereich von 28 bis 60 liegen, um die Biegefestigkeit, des Substrats auf einem vabestimmten Niveau zu halten. Der Grad der Wasserabsorption des geformten Gipssubstrats liegt im allge-

meinen im Bereich von 5 bis 12 Gew.-%, vorzugsweise von 6 bis 10 Gew.-%, und sein spezifisches Gewicht liegt vorzugsweise bei mindestens 1,7.

Die Dicke einer hydratisierten Gipsaufschlämmungsschicht, die durch ein erstes Gießen des Formmusters erhalten wird (im folgenden als erste Gipsaufschlämmung bezeichnet) liegt gewöhnlich im Bereich von 0,4 bis 6 mm, vorzugsweise bei etwa 3 mm. Wenn die Dicke unter 0,4 mm liegt, so wird es nachteilig schwierig, die Aufschlämmung gleichmäßig auf das Muster zu gießen oder die Gipsaufschlämmung gleichmäßig direkt auf das Muster zu spritzen bzw. zu sprühen. Wenn die Dicke größer als 6 mm ist, ergeben sich Nachteile dadurch, daß es schwierig ist, ein Produkt mit einer komplizierten Form herzustellen, da Luft eingeschlossen werden kann oder da es schwierig wird zu entschäumen.

Zwar kann das Ziel der Erfindung erreicht werden durch Bilden von allein der ersten Aufschlämmung, jedoch kann eine hydratisierte Aufschlämmung mit einer Formulierung die gleich ist mit oder unterschiedlich ist von der der ersten Aufschlämmungsschicht zusätzlich darauf gegossen werden, um eine zweite Aufschlämmungsschicht mit oder ohne Vibrieren zu ergeben. Die Dicke der zweiten Aufschlämmungsschicht liegt im allgemeinen im Bereich von 3 bis 20 mm, vorzugsweise von 5 bis 15 mm. Wenn die Dicke weniger als 3 mm ist, so ergibt die zweite Aufschlämmungsschicht in ungünstiger Weise einen geringen oder keinen Effekt beim zusätzlichen Gie'ßen der Aufschlämmung auf die erste Aufschlämmungsschicht. Wenn sie größer als 20 mm ist, so wird das Gewicht des geformten Materials selbst zu groß, um in günstiger Weise verwendet werden zu können, und es können sich Ausblutungen bilden. Das Gewicht der ersten oder zweiten Aufschlämmung pro Volumeneinheit beim Gießen liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 1800 bis etwa 2200 g/l. Ein erfindungsgemäß verwendetes Gips-Hemihydrat vom Typ ¹^C wird dargestellt durch eine chemische Formel CaSO₄.1/2 H₃O und um-

faßt, die hergestellt wurden aus natürlichem oder synthetischem Gips als Ausgangsmaterial, oder solche, die hergestellt wurden durch Reinigung von Nebenproduktgips bei der Herstellung von Phosphorsäure, Nebenproduktgips in Sodaanlagen, Nebenproduktgips bei der Herstellung von Fluorwasserstoffsäure und dgl. Beispiele für Handelsnamen vom Gips-Hemihydrat vom Typ o(_ , die so hergestellt wurden, sind Phosphor- bzw. Phosphorsäuregips, Abgas- bzw. Rauchgasgips, Salzkuchengips (Salt-cake-Gips), aktiver Ton-Gips (Active Clay-Gips), Chlorwasserstoff säuregips, Titangips, Ammoniumsulfatgips und dgl. Die Verwendung eines Gipses, der sich vom Hemihydrat-Gips vom Typc^C,unterscheidet, beispielsweise von einem Gips-Hemidrat vom Typ ß, weist Nachteile auf, da, obwohl ähnlich im Aussehen, das Gipssubstrat eine so geringe Biegefestigkeit aufweist, daß es zu Brüchen der Kanten, zu Rissen, ungleichmäßiger Harzpenetration in das Substrat usw. führt und daß die Kombination mit Aggregaten schwierig zu herstellen sind und die Verarbeitungsqualitäten schlecht sind. Jedoch werden derartige Nachteile von Gips-Hemihydrat vom Typ β beträchtlich verbessert durch Druck bei der Formung der Gipsaufschlämmung.

Das Formungsmuster, das zum Gießen und zur Formung der hydratisierten Gipsaufschlämmung gemäß der Erfindung verwendet wird, kann beispielsweise hergestellt sein aus Kunststoffen, Holz und Metall. Das Kunststoffmuster bzw. die Kunststoffform kann beispielsweise aus natürlichem oder synthetischem Kautschuk, wie Siliconkautschuk und ürethankautschuk, Polystyrol und dgl. bestehen. Das Holzmuster kann ein Muster sein, hergestellt durch Überziehen einer synthetischen Harzüberzugszusammensetzung darauf, eines Musters bzw. einer Form, hergestellt durch Auftrag eines Melamin-Sperrholzes darauf oder dgl. Das Metallmuster (oder eine Form) kann aus Aluminiumlegierung, Stahl, Messing, rostfreiem Stahl und dgl. sein. Diese Formungsmuster können vorzugsweise derart verwendet wer-

den, daß ihre Oberfläche vor dem Eingießen der Gipsaufschlämmung mit Wasser besprüht wird, oder daß sie in Wasser getaucht werden, herausgezogen werden und vor der Verwendung abgeschüttelt werden, derart, daß die Fließfähigkeit der Gipsaufschlämmung beim Gießen darauf verbessert wird und leicht entschäumt und geformt werden kann, was besonders vorteilhaft ist, wenn ein Muster komplizierter Form, wie mit vielen Prägungen verwendet wird. Nach dem beendeten Gießen kann das Muster durch Wasserstrahlwäsche gereinigt werden.

Die organischen Zusätze, die in die hydratisierte Gipsaufschlämmung gemäß der Erfindung eingearbeitet werden können, lassen sich beispielsweise auswählen aus:

a) Oberflächenhärte-Modifikatoren:

Synthetische Harzemulsion (Acrylcopolymerharzemulsion, Handelsprodukt der Japan Exlan Co., unter der Bezeichnung R-108, Handelsprodukt der Showa High Polymer Co. Ltd. unter den Handelsbezeichnungen AM-2381 und AM-2388, und Handelsprodukt der Chuo Rika Kogyo Corporation unter der Handelsbezeichnung FK-68 usw.), Melaminharzpulver, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon usw.;

b) Schäumungsmittel:

Anionisches, kationisches und nichtionisches oberflächenaktives Mittel;

c) Härtungspromotor oder Härtungsbeschleuniger: Organische Säuren und Salze davon, beispielsweise Metallsalze, wie Aluminiumstearat, die auch wirksam sind zur Verbesserung der Wasserbeständigkeit des Gipssubstrats, basische organische Verbindungen, Seife und dgl.,

d) Verfestigungsverzögerer oder Härtungsverzögerer: Polymere Verbindungen, wie Gelatine, gecracktes Keratin,

■ Kasein, ß -Globulin, Pepsin, Stärke, Tannin, Carboxymethylcellulose und Polyäthylenglykol; Zucker, Äthylendiamintetraacetat, Zitronensäure, Citrate; und hydrophobe inaktive Substanzen, wie höhere Fettsäuren, Paraffin, das wirksam ist, um die Wasserabweisung des Gipssubstrats zu verbessern und dgl.

Die organischen Zusätze werden allgemein in einer Menge von 0,1 bis 10 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile des Gipses in die hydratisierte Gipsaufschlämmung eingearbeitet. Insbesondere wird im Falle der synthetischen Harzemulsion, die wirksam ist zur Verbesserung der Oberflächenhärte des Gipssubstrats, die Zusatzemulsion vorzugsweise in einer derartigen Menge eingearbeitet, daß die Harzfeststoffe im Bereich von 3 bis 7 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile des Gips-Hemihydrats vom Typ <Xjvorliegen.

Beispiele für die anorganischen Zusätze umfassen solche, die wirksam sind zur Verbesserung, der Klebeeigenschaften zwischen dem Gipssubstrat und dem durch Elektronenstrahlen gehärteten Harz, insbesondere bei einem einmaligen Überzugsfinish bzw. Decküberzug, wie Flußsand, Seesand, Siliciumdioxidsand, CaI-ciumcarbonat, Marmorpulver, Gipserzgranulate (gypsum ore granules), wasserfreie Gipsgranulate, Siliciumdioxid enthaltende, feine, glasartige Aggregate, künstliche feine Aggregate mit geringem Gewicht und starrer Perlit und dgl. Der anorganische Zusatz weist eine Teilchengröße vorzugsweise von Nr. bis Nr. 6 auf und wird im allgemeinen in einer Menge von 20 bis 80 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile des Gipses in die hydratisierte Gipsaufschlämmung eingearbeitet. Von diesen anorganischen Granulaten weist der Siliciumdioxidsand vorzugsweise eine Teilchengröße von etwa Nr. 5 zur Verwendung auf und das Calciumcarbonat weist zur Verwendung vorzugsweise eine Teilchengröße von etwa Nr. 5 auf. Die Einarbeitung des vorstehenden granulären anorganischen Zusatzes in das Gipssubstrat ergibt den sogenannten Verwurzelungseffekt zur

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beträchtlichen Verbesserung der Haftungseigenschaften des durch Elektronenstrahlen gehärteten Harzes an dem Gipssubstrat in Kombination mit dem Füllstoff- und Haftungs- bzw. Klebeeffekt durch den Zusatz der synthetischen Harzemulsion. Zusätzliche Beispiele für den anorganischen Gips-Verfestigungs- bzw. Härtungspromotor umfassen fein verteilten dihydratisierten Gips, Mineralsäure und Salze davon, Wasserglas und dgl. Beispiele für den Härtungsverzögerer umfassen Borate, Alkalicarbonate und dgl. Die Einarbeitung der Gipserzgranulate in die hydratisierte Gipsaufschlämmung fördert wirksam das Absetzen und dient zur Verkürzung der Freisetzungs— bzw. Entnahmezeit nach dem Gießen.

Beispiele für das organische faserförmige Material, das in die. hydratisierte Gipsaufschlämmung gemäß der Erfindung eingeführt wird, umfassen Holzfasern, wie Holzwolle, Pulpe bzw. Papierbrei, Sisal, Fasern für Stuckarbeiten und Hanf, synthetische Fasern, wie Vinylon, eine modifizierte Polyvinylalkoholfaser, Nylon, eine Polyamidfaser, Polypropylen- und Polyesterfasern und dgl., und Beispiele für anorganische Faser, die in die hydratisierte Gipsaufschlämmung eingearbeitet werden, umfassen Metallfasern, wie aus rostfreiem Stahl und plattierte Stahlfasern, Glasfasern, wie A-Glas, Ε-Glas und alkalibeständige Glasfasern, Shirasufasern (vulkanische Aschefasern), Steinwollefasern, Asbestfasern, Kohlenstoff asern und dgl.

Die durch Elektronenstrahlen härtbare Zusammensetzung gemäß der Erfindung bedeutet eine filmbildende Harzzusammensetzung, die vernetzbar ist und polymerisierbar ist durch Bestrahlen mit beschleunigten Elektronenstrahlen und basiert auf einem Harz, das hergestellt wird durch Reaktion eines Basisharzes mit gesättigter Bindung, unter Bildung eines Gerüsts, und mit einer funktionellen Gruppe, wie in der Tabelle I als Beispiele angegeben, mit einem Viny!monomeren mit einer Gruppe, die

eine Additions- oder Kondensationsreaktion mit der funktionellen Gruppe eingehen kann, wie in Form von Beispielen in der Tabelle II angegeben, nach einer üblichen synthetischen Verfahrensweise, ohne daß durch Bestrahlen mit Elektronen-Strahlenenergie polymerisierbar und härtbar ist. Beispiele für das Basisharz umfassen mindestens eines, ausgewählt aus Acrylharz, Polyesterharz, Epoxyharz, Aminoharz, Melaminharz, Polyamidharz, Polyurethanharz und dgl. Von den Harzen ist das Acrylharz besonders bevorzugt für Zwecke im Freien und ist auch bevorzugt für die Anwendung im Haus. Beispiele für die funktionelle Gruppe in dem Vinylmonomeren, die mit den jeweiligen Gruppen umgesetzt wird, die in dem Basisharz angegeben sind, sind in der Tabelle I aufgeführt. Spezielle Beispiele für das Vinylmonomere mit den vorstehenden funktionellen Gruppen sind in der Tabelle II angegeben.

Falls gewünscht, kann ein reaktives Verdünnungsmittel und/oder vernetzbares Oligomeres zu dem Reaktionsprodukt zwischen dem Basisharz und dem Vinylmonomeren gefügt werden. Beispiele für das reaktive Verdünnungsmittel umfassen Styrol, Pv-Methylstyrol, Vinyltoluol, Acrylester, Methacrylester, Acrylnitril, Methacrylnitril, Acrylamid, Vinylacetat und dgl. Das vernetzbare Oligomere umfaßt beispielsweise jegliche Verbindungen mit einem Molekulargewicht von weniger als 1000 und mit einer polymerisierbaren Vinylgruppe von 2 bis 4 (oder mit 2 bis 4 polymerisierbaren Vinylgruppen). Spezielle Beispiele für diese Verbindungen umfassen Diallylphthalat, Äthylenglykoldi-(meth)-acrylat, Tetraäthylenglykol-di-(meth)-acrylat, Bis-(äthylenglykolphthalat)-di-(meth)-acrylat. Bis-(diäthylenglykolphthalat)-di-(meth)-acrylat, Polyäthylenglykoldi-(meth)-acrylat, Polypropylenglykol-di-(meth)-acrylat, Trimethylolpropantri-(meth)-acraylat, ein Additionsprodukt zwischen Trimethyloläthan oder Trimethylolpropan und einem Addukt von Tolylendiisocyanat mit (Meth)-acrylsäure-hydroxyalkylester in einem Molverhältnis von 1:1, Pentaerythrit-tetra-

(meth)-acrylat und dgl. Ungesättigte Oligomere, wie ein langkettiger Ester von (Meth)-acrylsäure, die eine lange Alkylkette, Polyestergruppe usw. als Seitenkette aufweisen, können ebenfalls verwendet werden.

Das durch Elektronenstrahl härtbare Harz ist ein polymerisierbares und härtbares Harz, hergestellt durch Additions- oder Kondensationsreaktion des vorstehenden Basisharzes und des Vinylmonomeren, derart, daß die Menge der äthylenisch ungesättigten Bindungen in dem Molekül des Reaktionsprodukts oder ein Unsättigungsgrad im Bereich von 0,3 bis 3,0 Mol, vorzugsweise 0,5 bis 2,0 Mol pro 1 kg des Moleküls liegt, und , falls gewünscht, kann das vorstehende reaktive Verdünnungsmittel und/oder das vernetzbare Oligomere in einer Menge von 1 bis 300 Gew.-Teilen, vorzugsweise 50 bis 150 Gew.-Tdlen zu 100 Gew.-Teilen des Reaktionsprodukts gefügt werden, um ein durch Elektronenstrahlen härtbares Harz zu bilden, mit ausgezeichneten Anwendungseigenschaften, Härtungscharakteristika und Filmleistungsfähigkeiten. Wenn das reaktive Verdünnungsmittel und das vernetzbare Oligomere gleichzeitig eingearbeitet werden, so können sie in jeglichen willkürlichen Anteilen eingearbeitet werden. Mindestens ein anorganisches Pigment, organisches Pigment und metallisches Pigment, die zweckmäßig auf dem Gebiet von Anstrichmitteln und der Überzugstechnologie verwendet werden, können in die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung mit der vorstehenden Formulierung eingearbeitet werden. Die so hergestellt, durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung wird so eingestellt, daß sie eine Viskosität aufweist, die für die Überzugsanwendung geeignet ist, im allgemeinen im Bereich von 0,5 bis 20 dPa.s (Poise) zur Überzugsbildung durch übliche Überzugsmethoden, wie Bürsten, Sprühen, beispielsweise Kaltluftsprühen, Heißsprühen, luftfreies Sprühen und elektrostatisches Sprühen, FIießbeschichtung, Walzenbeschichten, Verteilungsbeschichtung oder dgl. Diese Anwendungstechniken können wahlfrei ansatzweise oder in kontinuierlichen Überzugsvorrichtungen durchge-

führt werden. Das Überzugsgewicht pro Flächeneinheit ist nicht speziell begrenzt, liegt jedoch im allgemeinen im Be-

reich von 20 bis 300 g/m . Das Gipssubstrat als ein zu überziehendes Substrat liegt am bevorzugtesten in der Form einer Platte vor, kann jedoch eine dreidimensionale Struktur mit gewellten Oberflächen, unebenen Anteilen usw. sein.

Monomeres

- 25 -

Tabelle I

polymerisierbares Vinylmonomeres mit einer funktionellen Gruppe, die reaktionsfähig ist mit einer funktioneilen Gruppe in dem Basisharz zur Additions- oder Kondensationsreaktion

Funktionelle Gruppen in dem Basisharz	Funktionelle Gruppen	spezifische Beispiele von Vinylmonomeren
	Epoygruppe	(4) in Tabelle II
	Carboxylanhydridgruppe	(3) in Tabelle II
	Carboxylgruppe	(2) in Tabelle II
Hydroxylgruppe	Isocyanatgruppe	(7) in Tabelle II
	Methylolgruppe	(5) in Tabelle II
	AlkoxymethyIoIgruppe	(6) in Tabelle II
	Epoxygruppe	(4) in Tabelle II
	Hydroxylgruppe	(1) in Tabelle II
Carboxylgruppe	Is ocyanatgruppe	(7) in Tabelle II
	Aminogruppe	(9) in Tabelle II
	Aldehydgruppe	Acrolein, Croton- aldehyd
	Hydroxylgruppe	(1) in Tabelle II
	Me thy1οIgruppe	(5) in Tabelle II
Carboxylanhydrid	Epoxygruppe	(4) in Tabelle II
gruppe	Aminogruppe	(9) in Tabelle II

Epoxygruppe

Hydroxylgruppe

Carboxylgruppe

Carboxylanhydridgruppe

Methylolgruppe

Aminogruppe

Chlorgruppe

(1) in Tabelle II

(2) in Tabelle II

(3) in Tabelle II (5) in Tabelle II

(9) in Tabelle II

(10) in Tabelle II

Tabelle

(Fortsetzung)

Monomeres

Funktionelle
Gruppen in dem
Basisharz

polymerisierbares Vinylmonomeres mit einer funktioneilen Gruppe, die reaktionsfähig ist mit einer funktioneilen Gruppe in dem Basisharz zur Additions- oder Kondensationsreaktion

Funktionelle Gruppen spezifische Beispiele von Viny!monomeren

Methylolgruppe

Hydroxylgruppe Isocyanatgruppe Carboxylanhydridgruppe AlkoxymethyIolgruppe Epoxygruppe Aldehydgruppe

Chlorgruppe

(1) in Tabelle II

(7) in Tabelle II

(3) in Tabelle II (6) in Tabelle II

(4) in Tabelle II

Acrolein, Crotonaldehyd

(10) in Tabelle II

Alkoxymethylolgruppe

Hydroxylgruppe Methylolgruppe

(1) in Tabelle II (5) in Tabelle II

Isocyanatgruppe

Hydroxylgruppe MethyIolgruppe

(1) in Tabelle II (5) in Tabelle II

Amidogruppe

Chlorgruppe Aldehydgruppe

Amidogruppe

(10) in Tabelle II

Acrolein, Crotonaldehyd

(8) in Tabelle II

Aminogruppe

Epoxygruppe

Carboxylgruppe

Aldehydgruppe

Carboxylanhydridgruppe Chlorgruppe

(4) in Tabelle II

(2) in Tabelle II

Acrolein, Crotonaldehyd

(3) in Tabelle II (10) in Tabelle!!

Tabelle I (Fortsetzung)

Monomeres polymerisierbares Vinylmonomeres mit einer

funktionellen Gruppe, die reaktionsfähig
ist mit einer funktioneilen Gruppe in dem Basisharz zur Additions— oder Kondensationsreaktion

Funktionelle Funktionelle Gruppe spezifische Beispiele Gruppen in dem von Vinylmonomeren

Basisharz

Epoxygruppe (4) in Tabelle II

Methylolgruppe (5) in Tabelle II

Chlorgruppe Amidogruppe (8) in Tabelle II

Aminogruppe (9) in Tabelle II

Tabelle

I I

Funktionelle Gruppe Viny!monomere

(1) Hydroxy!gruppe Hydroxyäthylacrylat Hydroxyäthylmethacrylat Hydroxypropylacrylat Hydroxypropylmethacrylat Allylalkohol

(2) Carboxylgruppe Acrylsäure

Methacrylsäure Itaconsäure

(3) Carboxylanhydridgruppe

Maleinsäureanhydrid Itaconsäureanhydrid

(4) Epoxygruppe Glycidylacrylat Glycidylmethacrylat Arylglycidylather

(5) MethyIo!gruppe Methylolacrylamid

(6) Alkoxymethylolgruppe

Alkyl (Methyl, Äthyl, Isopropyl, Butyl und Amyl), verätherte Verbindungen von Methylolacrylamid

(7) Isocyanatgruppe Cyanacrylat

Addukt von die Hydroxylgruppe enthaltendem Vinylmonomeren mit einer Diisocyanatverbindung in einem Molverhältnis von 1:1/ wie ein Addukt von 1 Mol Hydroxyäthylmethacrylat mit 1 Mol Tolylendiisocyanat

Tabelle II (Fortsetzung)

Punktionelle Gruppe Vinylmonomere

(8) Amidogruppe Acrylamid

Methacrylamid

(9) Aminogruppe Aminoalkylmethacrylat

Aminoalkylacrylat

(10) Chlorgruppe Acrylsäurechlorid

Methacrylsäurechlorid

Vinylchlorid

Vinylidenchlorid

Chlorwasserstoffsäureaddukt mit der der Epoxygruppe von Glycidylacrylat und Glycidylmethacrylat

Wenn die vorstehend durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung auf die Oberfläche der Gipsplatten, wie der Gipsfliesen aufgetragen wird, die durch Härten und Trocknen nach der Formung hergestellt wurden, und die so überzogene Oberfläche mit beschleunigten Elektronenstrahlen bestrahlt wird, so kann der Elektronenstrahlbeschleuniger, der verwendet wird, vom Cockcroft-Typ, Cockcroft-Walton-Typ, isolierten Kerntransformatortyp, Dynamitrontyp, linearen Filamenttyp oder Hochfrequenztyp sein. Ein beschleunigter Elektronenstrahl, der von dem Elektronenstrahlbeschleuniger abgestrahlt wird und eine beschleunigten Energie von 50 bis 1000 KeV,vorzugsweise 100 bis 700 KeV aufweist, dient zur Bewirkung der Polymerisation und zur Härtung des Harzes. Der vorstehende Elektronenstrahlbeschleuniger kann entweder vom Scanning-Typ oder vom "Vorhangstrahl"-Typ bzw. "Curtain"-Strahltyp sein. Nach dem Überziehen der Harzzusammensetzung wird die überzogene Oberfläche vorzugsweise mit einem Kunststoffilm bedeckt, wie Poly-

äthylen, Polyäthylenterephthalat, Teflon, mit Siliconharz behandeltem Papier und dgl., um die Bestrahlung unter den Bedingungen einer Bestrahlungsdosis von 0,1 bis 30 MR, vorzugsweise 0,5 bis 10 MR und bei einer Bestrahlungsentfernung von 3 bis 50 cm in einer sauerstofffreien Atmosphäre durchzuführen. Luft in der Bestrahlungskammer kann durch ein Inertgas ersetzt werden, wie Stickstoff, Kohlendioxid, Helium, Verbrennungsgas und dgl. anstelle der Verwendung der vorstehenden Kunststofffilme. Die Bedeckung der mit dem Kunststoffilm überzogenen Oberfläche und der Ersatz durch das Inertgas können gleichzeitig durchgeführt werden. Materialien, die von der gehärteten Harzoberfläche nach beendeter Bestrahlung leicht abgezogen werden können, können für den vorstehenden Kunststofffilm ausgewählt werden.

Die Bestrahlung erfordert eine derartige Beschleunigungsspannung, daß es möglich ist, daß die Elektronenstrahlung durch die gesamte Dicke der überzogenen Harzzusammensetzung und des Plastikfilms dringt. Eine Richtlinie für die Beschleunigungsspannung liegt darin, daß die Beschleunigungsspannung 100 kV sein sollte, wenn die Gesamtdicke weniger als 100 um bzw. Mikron ist, 300 kV, wenn sie 100 bis 300 pm bzw. Mikron ist, bzw. 500 kV, wenn sie 300 bis 500 um bzw. Mikron ist.

Die Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform des Fertigstellungsplans für den Fall einer Gipsfliese als repräsentatives Beispiel für die erfindungsgemäßen Gipsplatten, als Substrat für die Überzugsbildung. Die Fig. 1 stellt eine graphische Darstellung dar, die die Beziehung zwischen der Auftragsviskosität des durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzes oder der Harzzusammensetzung und dem Wasser-Gips-Verhältnis beim Formen der Gipsplatte zeigt, wobei die Fläche, die durch Linien umschlossen ist, die praktisch verfügbaren Anwendungsbedingungen zeigt, und insbesondere zeigt der durch schräge Linien ausgefüllte Anteil bevorzugte Bedingungen.

Die Gießverfahren zur Formung der Gipsplatte, insbesondere der Gipsfliesen gemäß der Erfindung werden im folgenden erläutert. Im Falle der Herstellung von Gipsfliesen wird, wenn das Muster eine Prägung von tiefer als 1,5 mm aufweist, Luft beim Gießen der hydratisierten Gipsaufschlämmung mitgeführt, und dementsprechend bewirkt die anschließende Härtung und Trocknung eine Vergrößerung von feinen Nadellöchern, die in dem geformten Gips vorhanden sind, insbesondere an dessen Oberfläche, unter Bildung von kraterartigen Vertiefungen in dem Film aus dem durch Elektronenstrahlen härtbaren Harz bzw. der Harzzusammensetzung. Das Entschäumen der Aufschlämmung, die gegossen werden soll, in einem Mischer, unter Verwendung einer Vakuumpumpe führt zu keinen vergrößerten Nadellöchern wie vorstehend erwähnt. Werden jedoch die Gipsfliesen durch Anwendung eines kontinuierlichen Förderband-Produktionssystems hergestellt, so ist das ansatzweise Entschäumungsverfahren unter Anwendung der Vakuumpumpe vom Gesichtspunkt der Produktionsleistungsfähigkeit her nicht anwendbar.

Die hydratisierte Gipsaufschlämmung wird in einer derartigen Menge gegossen, daß die Dicke der in das Muster bzw. in die Form gegossenen Aufschlämmung im Bereich von 0,4 bis 6 mm, vorzugsweise von etwa 3 mm liegt, und es wird entschäumt, unter Anwendung einer Vibration von 5000 bis 15000 VPM während eines Zeitraums von 0,1 bis 60 s auf der Fördereinrichtung, mit einer ausgezeichneten Entschäumung in der Querschnittsrichtung der Aufschlämmung. Falls notwendig, ist es bevorzugt.

Menge der

die zuzusetzendevin die so gebildete Oberflächenschicht einzuarbeitenden Zusätze, wie ein Migrationsmittel, beispielsweise verschiedene Emulsionen, Melaminharzpulver und dgl., wasserreduzierende Mittel, die geeignet sind, den Wassergehalt für die Herstellung der Gipsaufschlämmung zu verringern, und beispielsweise ausgewählt werden aus anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Mitteln und faserförmige Materialien, zu steuern. Die Einarbeitung von faserförmigen Materialien, beispielsweise geschnittene strangförraige E-Glasfaser,

O O

in einer Menge von 0,3 bis 1,0 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile eitles Gips-Hemihydrats vom ^-Typ ist wirksam zur Bereitstellung der hydratisierten Gipsaufschlämmung mit thixotropen Eigenschaften, und dient zur Verbesserung der Bearbeitbarkeit beim Gießen. Die Einarbeitung der vorstehenden granulären anorganischen Zusätze, beispielsweise von Siliciumdioxidsand, in die hydratisierte Gipsaufschlämmung dient dazu, derartige Nachteile, wie die Klebrigkeit beim Gießen, zur Verbesserung der Arbeitsbedingungen beim Gießen zu überwinden, und dient auch dazu, die Nivellierung der Bodenseite bei der Formung zu erleichtern.

Das Wasser-Gips-Verhältnis der hydratisierten Gipsaufschlämmung der Oberflächenschicht (erste Aufschlämmungsschicht) wird erfindungsgemäß spezifiziert. Materialien, die für die Rückschicht bzw. Unterschicht (zweite Aufschlämmungsschicht) verwendbar sind, können jedoch Gips-Hemihydrat vom ß-Typ, eine Aufschlämmung, die geeignet ist für ein zusätzliches Gießen der Bodenseite, Platten und Faserfolien, sein.

Das so gehärtete und getrocknete Gipssubstrat kann in einer wässrige Oxalsäurelösung mit einer Konzentration von etwa 10 Gew.-% bei Raumtemperatur während eines Zeitraums von 30 min bis 2 h eingetaucht werden und wird zur Trocknung entnommen, wobei sich der Vorteil ergibt, daß die Oberflächentextur des Substrats in geeigneter Weise aufgrund eines Ätzeffekts der vorstehenden Säure modifiziert wird, um die Filmadhäsion der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung zu verbessern und ein Ausblühen der Oberfläche des Substrats zu verhindern. Durch die Erfindung ergibt sich der Vorteil, daß die Verwendung eines durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzes anstelle eines durch Ultraviolettstrahlung härtbaren Harzes im allgemeinen die Harzviskosität derart verringert, daß ein Erwärmen nicht notwendig it.

Erfindungsgemäß wird ein Gipssubstrat, das hergestellt wird durch Einarbeiten in eine hydratisierte Gipsaufschlämmung, die hergestellt wurde durch Anwendung eines Gips-Hemihydrats vom <5<_-Typ mit einem speziellen Wasser-Gips-Verhältnis oder eine Aufschlämmung, die gebildet wurde durch weiteres Einarbeiten verschiedener Zusätze, gefolgt vom Entschäumen, Formen, Härten und Trocknen mit der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung überzogen, gefolgt von einer Bestrahlung mit beschleunigten Elektronenstrahlen zur Härtung, wobei sich der Vorteil ergibt, daß der Film eine hohe Oberflächenhärt, ausgezeichnete Adhäsionseigenschaften und Wettereigenschaften aufweist und daß die hohe Bestrahlungsenergie, die zur Härtung verwendet wird, eine verstärkte Penetrationskraft in dem Überzugsfilm aufweist, derart, daß undurchsichtige Farbfinishings bzw. Deckfarben, wie gefärbte Metallüberzüge möglich werden, deren Härtung mit Ultraviolettbestrahlung unmöglich oder sehr schwierig ist.

Wie vorstehend beschrieben, ermöglicht die Durchführung der Erfindung die Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten mit ausgezeichneter Form und dekorativer Wirkung, hochverbesserter Dauerhaftigkeit, in Konkurrenz mit gebrannten Fliesen, deren dekorativer Effekt unter Anwendung calciniierter Fliesen nicht erzielbar ist.

Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung. Teile und Prozentangaben in den Formulierungen beziehen auf Gew.-Teile bzw. Gew.-%.

Beispiel 1

Eine Siliconharzlösung vom Zweier-Packungs-Typ zur Anwendung in dem Formungsmuster wird in eine Italienische Fliese von

150 χ 150 χ 9 mm mit einem geprägten Muster gegossen und 3 Tage unter Erzielung eines Siliconkautschukmusters stehengelassen. Eine Aufschlämmung von hydratisiertem Gips folgender Formulierung wird als eine erste Schicht auf das Muster gegossen, unter Erzielung einer Dicke von 3 mm und wird anschließend unter Anwendung eines Tafelvibrators 5 s entschäumt. Eine Aufschlämmung von hydratisiertem Gips mit der gleichen Formulierung wie die der ersten Schicht wird darauf als eine zweite Schicht auf eine Dicke von etwa 6 mm gegossen, und die Oberfläche der Aufschlämmungsschicht wird mit einer Kelle zur Fertigstellung geplättet.

Formulierung der Gipsaufschlämmung

Gips-Hemydrat vom Typ ⁰^ 100,0 Teile

Wasser 42,0 Teile

geschnittene E-Glasfaserstränge

(etwa 6 mm Länge) 0,3 Teile

Melaminharzpulver 3,0 Teile

10 % wässrige Natriumcitratlösung 0,1 Teile

Calciumcarbonat 20,0 Teile

insgesamt 165,4 Teile

Die resultierende Gipsaufschlämmung wird zur Verfestigung bzw. Härtung stehengelassen, entformt und in einem elektrischen Ofen bei 60 C während 12h getrocknet, unter Erzielung eines Gipssubstrats.

Ein Farbpigment, bestehend aus 4 Teilen gelbem Eisenoxid und 1 Teil rotem Eisenoxid wird in 100 Teilen der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung (Lösung) dispergiert, die folgende Präparatformulierung aufweist, unter Bildung einer orangefarbenen durch Elektronenstrahlen härtbaren Überzugszusammensetzung, gemäß der üblichen Dispersionsverfahrensweise. Die Uberzugszusammensetzung weist eine Viskosität von 5 dPa.s (Poise) bei 25°C auf.

Herstellung der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harz-Zusammensetzung (Lösung) :

Ein Copolymeres mit einem zahlenmittleren Molekulargewicht
von etwa 15.000, bestehend aus 400 Teilen Methylmethacrylat, 458 Teilen Äthylacrylat und 142 Teilen Glycidylmethacrylat, wird zur Veresterung mit 72 Teilen Acrylsäure umgesetzt, zur Erzielung eines ungesättigten Acrylsäureharzes mit einem Unsättigungsgrad von 0,93 Mol/kg Molekül. Das ungesättigte
Acrylharz wird mit 1072 Teilen 1,6-Hexandioldiacrylat und
128 Teilen Trimethylolpropan-triacrylat unter Bildung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzlösung vermischt.

Die vorstehende durch Elektronenstrahlen härtbare überzugszusammensetzung wird auf die Oberfläche des Gipssubstrats

durch ein luftfreies Sprühen auf ein Überzugsgewicht von etwa

ο
100 g/m (äquivalent einer Filmdicke von etwa 100 nm bzw.

Mikron) aufgetragen, die überzogene Oberfläche wird anschließend mit einer Polyäthylenterephthalat-Folie mit einer Dicke von 80 Am bzw. Mikron bedeckt, und es wird mit beschleunigten Elektronenstrahlen zur Härtung bestrahlt. Verwendet wird ein Elektronenstrahlenbeschleuniger vom Scanning-Typ, unter den Bedingungen einer Beschleunigungsspannung von 300 kV, einer Entfernung zwischen der Bestrahlungsquelle und der überzogenen Oberfläche von 10 cm und bei einer Bestrahlungsdosis von 5 MR.

Die so erhaltene fertiggestellte Gipsfliese weist eine Oberfläche mit einem schönen orangefarbenen hochglänzenden Decküberzug, einer Oberflächenhärte (Bleistifthärte) von 6H und einer ausgezeichneten Beständigkeit für die Anwendung im Freien auf. Die Anwendung mehrerer der Oberflächen-deckbehandelten Gipsfliesen auf die Oberfläche einer Gebäudewand ermöglicht die Bildung einer Farbmatrix, die klarer ist als die üblicher gebrannter bzw. calcinierter Kacheln.

Beispiel 2

Eine Vinylchloridharzpackung mit einer Dicke von 0,3 mm wird unter Erwärmen geformt, unter Bildung eines ,45 χ 600 χ 15 mm Plattenmusters b2w. einer Plattenform mit einem Aussehen einer handelsüblichen unebenen schokoladenartigen Platte. Eine hydratisierte Gipsaufschlämmung der folgenden Formulierung wird als eine erste Schicht in das so gebildete Muster auf eine Dicke von etwa 5 mm gegossen und anschließend unter Anwendung eines Tafelvibrators während 3 s entschäumt. Eine hydratisierte Gipsaufschlämmung für eine zweite Schicht wird darauf auf eine Dicke von etwa 10 mm gegossen, gefolgt von der Anwendung des Vibrators während 5 s. Auf diese Weise wird eine Bodenseite des Substrats mit der gewünschten Größengenauigkeit gebildet, und seine Bodenfläche wird mit einer kammartigen flachen Kelle für die Fertigstellung von Bodenseiten geglättet.

Formulierung der Gipsaufschlämmung

Gips-Hemihydrat vom Typ ⁰^- Wasser

Pulpenfaser bzw. Holzbreifaser

Acrylharzemulsion

Kansui Steinsand (Japanischer weißer Marmorsand) (Teilchengröße weniger als 1 mm)

insgesamt

für die erste Schicht

100 Teile 55 Teile

2 Teile

3 Teile

20 Teile

für die zweite Schicht

100 Teile 60 Teile

3 Teile 3 Teile

180 Teile

166 Teile

Die wie vorstehend gegossene Gipsaufschlämmung wird zur Härtung stehengelassen, entformt und in einem elektrischen Ofen bei 60 C während 12h getrocknet, unter Erzielung eines Gipssubstrats.

Eine gefärbte metallische Überzugszusammensetzung (Metallikblau) wird gemäß einer nachstehend gezeigten Formulierung hergestellt, die eine durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung (Lösung) mit der folgenden Präparatformulierung aufweist. Die Überzugszusammensetzung weist eine Viskosität von 3 dPa.s (Poise) bei 25°C auf.

Herstellung der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung (Lösung):

444 Teile Isophoron-diisocyanat werden mit 1000 Teilen PoIycaprolacton mit einem Molekulargewicht von etwa 1000 (Handelsprodukt der Daicel Chemical Industries, Ltd. mit der Handelsbezeichnung Placcel) mittels einer Additionsreaktion zur Urethanbindungsbildung umgesetzt, worauf 232 Teile 2-Hydroxyäthylacrylat damit umgesetzt werden, unter Erzielung eines ungesättigten Harzes mit einem Molekulargewicht von etwa 1700 und einem UnSättigungsgrad von 1,2 Mol/kg Molekül. 1000 Teile des ungesättigten Harzes werden mit 550 Teilen Neopentylglykol-dimethacrylat umgesetzt, unter Bildung einer durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung.

Formulierung der farbigen metallischen Überzugszusammensetzung

durch Elektronenstrahlen härtbare

Harzlösung, wie vorstehend erwähnt 100 Teile

Phthalocyaninblau 5 Teile

Aluminiumpaste (durchschnittliche

Teilchengröße etwa 25 um bzw. Mikron) 3 Teile

insgesamt 108 Teile

Die vorstehende farbige metallische Überzugszusammensetzung wird auf die Oberfläche des Gipssubstrats durch Luftsprühen

2 aufgetragen auf ein Überzugsgewicht von etwa 50 g/m (äquivalent

einer Filmdicke von etwa 50 um bzw. Mikron) und der überzogene Gegenstand wird anschließend mit beschleunigten Elektronenstrahlen in einer Verbrennungsgasatmosphäre zur Härtung bestrahlt. Der Elektronenstrahlenbeschleuniger ist vom Vorhangbzw. Curtain-Strahltyp und wird angewendet unter Bedingungen einer Beschleunigungsspannung von 100 kV, einer Entfernung zwischen der Bestrahlungsquelle und der überzogenen Oberfläche von 10 cm und einer Bestrahlungsdosis von 2 MR.

Die so erhaltene fertiggestellte Gipsfliese weist eine Oberfläche mit einem schönen blaumetallischen Überzug, einer Oberflächenhärte von 4H und einer ausgezeichneten Beständigkeit für die Anwendung im Freien auf und ergibt einen guten dekorativen Effekt, aufgrund des speziellen metallischen Aussehens, das mit üblichen calcinierten bzw. gebrannten Fliesen als Wandoberflächenstruktur nicht erzielbar ist.

Beispiel 3

Eine hydratisierte Gipsaufschlämmung der folgenden Zusammensetzung wird als erste Schicht mit einer Mörtelpistole in ein ürethankautschukmuster bzw. eine Urethankautschukform

2
von 30 cm mit einer konvexen Oberfläche im Zentrum, wie in der Fig. 2 gezeigt, auf eine Dicke von 2 mm gesprüht, worauf 5 s mit einem Tafelvibrator behandelt wird. Darüberhinaus wird eine hydratisierte Gipsaufschlämmung als zweite Schicht auf eine Dicke von etwa 12 mm gegossen.

Formulierung der Gipsaufschlämmung

für die für die

erste Schicht zweite Schicht

Gips-Hemihydrat vom Typ °<- 100 Teile · 100 Teile

Wasser 37 Teile 40 Teile

Siliciumdioxidsand Nr. 5 45 Teile 50 Teile

Melaminharzpulver 2 Teile 1 Teil

Shirasu (vulkanische Asche)

Kurzfaser (etwa 6 mm lang) 0,2 Teile 0,4 Teile

insgesamt 184,2 Teile 191,4 Teile

Die so erhaltene geformte Gipsaufschlämmung wird unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 gehärtet, unter Erzielung eines Gipssubstrats.

Ein farbiges Pigment, bestehend aus 10 Teilen Rutil-Titanoxid und 10 Teilen Phthalocyaninblau wird 'in 100 Teilen der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung (Lösung) mit der gleichen Formulierung wie im Beispiel 1, nach üblichen Dispergierverfahren dispergiert, unter Bildung einer blauen durch Elektronenstrahlen härtbaren Zusammensetzung mit einer Viskosität von 8 dPa.s (Poise) bei 25°C.

Farbglas-Granulate, die auf eine Teilchengröße von etwa 3 mm vermählen waren, werden in den zentralen vertieften Teil des vorstehenden Gipssubstrats eingebracht, die durch Elektronenstrahlen härtbare Zusammensetzung w-ird anschließend auf das Substrat mit einem Heiß-Vorhang (bzw. Curtain)-Strömungsbeschichter bei 40 C auf ein Überzugsgewicht von etwa 100 g/m (äquivalent einer Filmdicke von etwa 100 ,um bzw. Mikron) auf-

geschichtet, und das überzogene Substrat wird anschließend mit beschleunigten Elektronenstrahlen unter einer Atmosphäre von Verbrennungsgas zur Härtung bestrahlt. Es wird ein Elektronenstrahlbeschleuniger vom Scanning-Typ unter den Bedingungen einer Beschleunigungsspannung von 300 kV einer Entfernung zwischen der Bestrahlungsquelle und der überzogenen

Oberfläche von 10 cm und einer Bestrahlungsdosis von 5 MR verwendet.

Die so erhaltene fertiggestellte Gipsfliese weist ein spezielles dekoratives Muster sowie eine funkelnde Brillianz durch die Farbglasgranulate im zentralen Teil auf, und ist geeignet als dreidimensionales Formungsmaterial zur Verwendung in einer Wandoberflächenstruktur.

Beispiel 4

Die hydratisierte Gipsaufschlämmung mit der gleichen Formulierung wie im Beispiel 1 wird in das gleiche Siliconkautschukformungsmuster, wie im Beispiel 1, auf eine Dicke von 5 mm gegossen, und die so gegossene Aufschlämmung wird auf einem Tafelvibrator etwa 10 s entschäumt, und die Oberfläche der Aufschlämmungsschicht wird mittels einer Kelle zur Fertigstellung geglättet.

Die Gipsaufschlämmung wird zur Härtung stehengelassen, und anschließend entformt und in einem elektrischen Ofen bei 60 < während 12h unter Erzielung eines Gipssubstrats getrocknet.

Die gleiche orangefarbene durch Elcktronenstrahlen härtbare Zusammensetzung wie im Beispiel 1 wird auf die Oberfläche des vorstehenden Gipssubstrats durch Luftsprühen auf ein

Überzugsgewicht von etwa 100 g/m (äquivalent einer Filmdicke von etwa 100 um bzw. Mikron) aufgetragen, um einer Bg-Strahlung mit beschleunigten Elektronenstrahlen unter Atmosphäre von Verbrennungsgas zur Härtung unterzogen zu werden. Es wird ein Elektronenstrahlbeschlcuniger vom Scanning-Typ verwendet unter den Bedingungen einer Beschleunigungsspannung von 300 kV, einer Bestrahlungsentfernung von 10 cm und einer

Bestrahlungsdosis von 5 MR.

Die fertiggestellte Gipsfliese, die so erhalten wurde, weist eine Oberfläche mit hohem Glanz, einem schönen orangefarbenen Finish wie im Beispiel 1, einer Oberflächenhärte von 6H und einer ausgezeichneten Beständigkeit für die Anwendung im Freien auf.

In einer weiteren Ausführungsform wird ein Siliconkautschukformungsmuster hergestellt, unter Anwendung einer Italienischen Fliese, die kein geprägtes Muster aufweist, in gleicher Weise wie in Beispiel 1. Unter Verwendung des Musters wird ein Gipssubstrat mit einer flachen Oberfläche in gleicher Weise wie vorstehend hergestellt. Eine mit Nadeln versehene Walze, hergestellt durch Einführen von Metallnadeln in die Oberfläche einer Kautschukwalze in regelmäßiger oder zufallsweiser Anordnung wird über das vorstehende Gipssubstrat gerollt, um absichtlich feine Nadellöcher in der Oberfläche des Substrats auszubilden, und die vorstehende durch Elektronenstrahlen härtbare Zusammensetzung wird zur Fertigstellung aufgeschichtet, mit dem Ergebnis, daß eine spezielle, keramikartige Gipsfliese mit verteilten Nadellöchern an der überzogenen Oberfläche erhalten werden kann.

Leerseite

Claims

Dr. F. Zumstein sen. - Dr. E. Assmann - Dr. R. Koenigsberger Dipl.-Ing. F. Klingseisen - Dr. F. Zumstein jun.

PATENTANWÄLTE

ZUGELASSENE VERTRETER BEIM EUROPÄISCHEN PATENTAMT REPRESENTATIVES BEFORE THE EUROPEAN PATENT OFFICE

Case 2613

TAISEI CORPORATION, Tokio / Japan KANSAI PAINT CO., LTD., Amagasaki-shi /Japan

Verfahren zur Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten

Patentansprüche

Verfahren zur Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten, dadurch gekennzeichnet, daß man eine hydratisierte Aufschlämmung, gebildet durch Zusatz von Wasser zu einem Gips-Hemihydrat- vom Typ C^ in einer Menge von 28 bis 60 Gew.-Teilen Wasser pro 100 Gew.-Teile Gips, in eine vorher ausgebildete flache plattenförmige Form oder in eine Form mit einem geprägten Muster auf eine Dicke von 0,4 bis 6 mm gießt, unter Bildung einer ersten Aufschlämmungsschicht, daß man diese Aufschlämmungsschicht durch Vibrieren zur Verfestigung entschäumt und trocknet, unter Bildung eines ersten Gipssubstrats,

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und daß man auf die Oberfläche des Gipssubstrats eine durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung aufschichtet und zur Härtung mit beschleunigten Elektronenstrahlen bestrahlt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich nach der beendeten Entschäumung der ersten Auf schlänunungs schicht eine hydratisierte Gipsaufschlämmung, die eine mit der ersten Aufschlämmung identische oder davon verschiedene Formulierung aufweist, auf die erste Aufschlämmungsschicht auf eine Dicke von 3 bis 20 mm gießt, und eine zweite derart gebildete Aufschlämmungsschicht durch Vibrieren zur Verfestigung entschäumt und trocknet, unter Bildung eines zweiten Gipssubstrats.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem überziehen mit der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung die überzogene Oberfläche mit einem Kunststoffilm zur Bestrahlung mit beschleunigten Elektronenstrahlen bedeckt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung ein Reaktionsprodukt zwischen einem funktioneile Gruppen enthaltenden Basisharz und einem Vinylmonomeren mit einer Gruppe, die geeignet ist zur Additions- oder Kondensationsreaktion mit der funktioneilen Gruppe, enthält, wobei das Molekül dieses Reaktionsprodukts 0,3 bis 3,0 Mol/kg Molekül einer äthylenisch ungesättigten Bindung aufweist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung ein reaktives Verdünnungsmittel und/oder ein vernetzbares Oligomeres in einer Menge von 1 bis 300 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile des Reaktionsprodukts aufweist.
6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß das die funktionelle Gruppe enthaltende Basisharz in der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung mindestens eines ist, ausgewählt aus Acrylharz, Polyesterharz , Epoxyharz, Aminoharz, Polyamidharz' und Polyurethanharz.
7. Verfahren nach Anspruch 1, 2, 3, 4, 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung mindestens einen Bestandteil enthält, ausgewählt aus anorganischen Pigmenten, organischen Pigmenten und metallischen Pigmenten.
8. Verfahren zur Herstellung von durch Elektronenstrahlen härtbaren Gipsplatten, dadurch gekennzeichnet, daß man mindestens einen Bestandteil, ausgewählt aus einem organischen Zusatz, einem anorganischen Zusatz und einem organischen oder anorganischen faserförmigen Material, zu einer hydratisierten Aufschlämmung fügt, die gebildet wurde durch Zusatz von Wasser zu einem Gips-Hemihydrat von Typ oC in einer Menge von 28 bis 60 Gew.-Teilen Wasser pro 100 Gew.-Teile Gips, daß man die resultierende Aufschlämmung in eine vorher ausgebildete flache plattenförmige Form oder in eine Form mit einem geprägten Muster, auf eine Dicke von 0,4 bis 6 mm unter Bildung einer ersten Aufschlämmungsschicht gießt, daß man diese Aufschlämmungsschicht durch. Vibrieren zur Verfestigung entschäumt und trocknet, unter Bildung eines ersten Gipssubstrats, und daß man eine durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung auf die Oberfläche des Gipssubstrats aufschichtet und zur Härtung mit beschleunigten Elektronenstrahlen bestrahlt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man darüberhinaus nach der beendeten Entschäumung der ersten Auf schläitimungs schicht eine hydratisierte Gipsauf-

schlämmung mit einer mit der ersten Aufschlämmung identischen oder davon verschiedenen Formulierung auf die erste Aufschlämmungsschicht auf eine Dicke von 3 bis 20 mm gießt und eine zweite derart gebildete Aufschlämmungsschicht durch Vibrieren zur Verfestigung entschäumt und trocknet, unter Bildung eines zweiten Gipssubstrats.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Aufschichten der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung die überzogene Oberfläche mit einem Kunststoffilm bedeckt wird, zur Bestrahlung. mit beschleunigten Elektronenstrahlen.
11. Verfahren nach Anspruch 8, 9 öder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung ein Reaktionsprodukt zwischen einem funktionelle Gruppen enthaltenden Basisharz und einem Vinylmonomeren mit einer Gruppe, die zur Additions- oder Kondensationsreaktion mit der funktionellen Gruppe geeignet ist, enthält, wobei das Molekül des Reaktionsprodukts 0,3 bis 3,0 Mol/kg Molekül äthylenisch ungesättigter Bindungen aufweist.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusammensetzung ein reaktives Verdünnungsmittel und/oder ein vernetzbares Oligomeres in einer Menge von 1 bis 300 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teile des Reaktionsprodukts enthält.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß das die funktionellen Gruppen enthaltende Basisharz in der durch Elektronenstrahlen härtbaren Harzzusammensetzung mindestens eines ist, ausgewählt aus Acrylharz, Polyesterharz, Epoxyharz, Aminoharz, Polyamidharz und Polyurethanharz.
14. Verfahren nach Anspruch 8, 9, 10, 11, 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Elektronenstrahlen härtbare Harzzusanunensetzung mindestens einen Bestandteil enthält, ausgewählt aus anorganischen Pigmenten, organischen Pigmenten und metallischen Pigmenten.
15. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der organische Zusatz ein die Oberflächenhärte modifizierendes Mittel, ein Schäumungsmittel, einen Härtungsbeschleuniger und einen Härtungsverzögerer umfaßt.
16. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der anorganische Zusatz Flußsand, Seesand, Siliciumdioxidsand, Calciumcarbonat, Marmorpulver, Gipserzgranulate, wasserfreie Gipsgranulate, Siliciumdioxid-enthaltende feine, glasartige Aggregate und künstliche feine Aggregate mit leichtem Gewicht, umfaßt.
17. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische oder anorganische faserförmige Material Holzfasern, synthetische Fasern, Metallfasern, Glasfasern, Shirasu-Fasern (vulkanische Aschefasern), Steinwollefasern, Asbestfasern und Kohlenstoffasern umfaßt.