DE3137186A1 - Roentgenfluoreszenz-messeinrichtung - Google Patents

Roentgenfluoreszenz-messeinrichtung

Info

Publication number
DE3137186A1
DE3137186A1 DE19813137186 DE3137186A DE3137186A1 DE 3137186 A1 DE3137186 A1 DE 3137186A1 DE 19813137186 DE19813137186 DE 19813137186 DE 3137186 A DE3137186 A DE 3137186A DE 3137186 A1 DE3137186 A1 DE 3137186A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ray
measuring device
sample
ray fluorescence
fluorescence measuring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19813137186
Other languages
English (en)
Other versions
DE3137186C2 (de
Inventor
Koga Tokyo Toshiyuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Publication of DE3137186A1 publication Critical patent/DE3137186A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3137186C2 publication Critical patent/DE3137186C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/02Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/265Contactless testing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Description

D I P L. - P H Y S. F. E N D L I C H ' · ' β^κιΚιδ' 17.*"sat. 1981 E/m PATENTANWALT
MÖNCHEN 84 36 38
TELEGRAMMADRESSE: PATENDUCH MÖNCHEN
CABLEADDRESS: PATENDLICH MÜNCHEN
DIPL.-PHYS. F. ENDLICH. POSTFACH, D-8034 GERMERINQ
TELEX: 821730pated
Meine Akte: D-4905
Anmelderin: Kabushiki Kaisha Daini Seikosha, Tokyo, Japan
Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung
Die Erfindung betrifft eine Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung, insbesondere zur Bestimmung der Oberflächenbeschichtung einer Probe.
Bei einer bekannten Meßeinrichtung dieser Art (Fig. 1 und 2) wird ein Meßpunkt P auf einer Probe 1 durch von einer Röntgenröhre 2 erzeugte Röntgenstrahlung 3 bestrahlt, so daß ein Röntgenf luoreszenz-Strahlenbündel von dem Meßpunkt P zu einer Nachweiseinrichtung 5 emittiert wird, die zur Messung der emittierten Röntgenstrahlung dient. Der Meßpunkt wird durch Beobachtung der Probe 1 mit Hilfe einer ein Mikroskop und eine Projektor enthaltenden Beobachtungseinrichtung 6 bestimmt, die über der Probe angeordnet ist. Da jedoch die optische Achse 7 der Beobachtungseinrichtung 6 nicht mit dem Strahlengang 3 der von der Röntgenröhre 2 abgegebenen Röntgenstrahlung zusammenfällt, weil der Einfallswinkel der Röntgenstrahlung auf die Probe kleiner als 90 ist, ist der bestrahlte Meßpunkt auf der Probe nicht kreisförmig sondern elliptisch ausgebildet, wie in Fig. 2 dargestellt ist. Wenn beispielsweise die Schichtstärke einer Beschichtung in einem sehr kleinen Bereich einer sehr genau ausgebildeten Probe wie einer integrierten Schaltung gemessen wird, ergibt sich auch bei einem sehr dünn ausgebildeten Röntgenstrahlenbündel ein elliptischer Meßpunkt, so daß benachbarte Bereiche unnötigerweise be-
strahlt werden und die Schichtstärke deshalb nicht ausreichend genau gemessen werden kann. Wenn sich ferner die Probe 1 in vertikaler Richtung bewegt, wird auch der elliptische Meßpunkt verändert, wodurch die Meßgenauigkeit weiter herabgesetzt wird.
Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung, eine Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung der eingangs genannten Art unter möglichst weitgehender Vermeidung der genannten Nachteile und Schwierigkeiten derart zu verbessern, daß durch genauere Ausbildung und Beobachtung des Meßpunkts Meßergebnisse mit erhöhter Genauigkeit erzielbar sind. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch den Gegenstand des Patentanspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Anhand der Zeichnung soll die Erfindung beispielsweise näher erläutert werden. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer bekannten Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung;
Fig. 2 eine Draufsicht auf die Probe in Fig. 1;
Fig. 3 eine Seitenansicht eines Meßgeräts für eine Meßeinrichtung gemäß der Erfindung;
Fig. 4 eine Vorderansicht des Meßgeräts in Fig. 3;
Fig. 5 eine schematische Darstellung einer Meßeinrichtung gemäß der Erfindung; .-"·""
Fig. 6 ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel des Meßkopfs der Meßeinrichtung in Fig. 5;
Fig. 7 eine perspektivische Ansicht des Sperrglieds in Fig. 6;
Fig. 8 und 9 eine Vorderansicht bzw. Seitenansicht eines weiteren Ausführungsbeispiels einer Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung gemäß der Erfindung;
Fig. 10 eine teilweise im Schnitt dargestellte vergrößerte Teilansicht des Ausführungsbeispiels in Fig. 8 und 9;
Fig. 11 eine Schnittansicht entlang der Linie"A-A in Fig. 10;
Fig. 12 einen Grundriß zur Erläuterung eines Hauptbestandteils des Ausführungsbeispiels in Fig. 10;
Fig. 13 eine Schnitt ansieht entlang der Linie B-B in Fig. 10,-
Fig. 14 eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels einer Meßeinrichtung gemäß der Erfindung;
Fig. 15 eine perspektivische Darstellung der Nachweiseinrichtung
in Fig. 14; und
Fig. 16 eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels einer Meßeinrichtung gemäß der Erfindung.
Bei dem in Fig. 5 dargestellten Ausführungsbeispiel ist eine Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung mit einem Steuergerät 29 vorgesehen, von dem Ansichten in Fig.3 und 4 dargestellt sind. Die Meßeinrichtung enthält einen Meßkopf 31 mit einer Röntgenröhre 20 zur Erzeugung eines auf die Probe 2 4 gerichteten Röntgenstrahl lenbündels 25. Von der Probe 24 emittierte Röntgenfluoreszenzstrahlung 26 wird in einer Nachweiseinrichtung 27 in ein elektrisches Signal umgewandelt, das einem Impulshöhendiskriitiinator in dem Steuergerät 29 über einen Verstärker 28 zugeführt wird. Das zur Steuerung und Betätigung des Meßkopfs 31 dienende Steuergerät 29 enthält eine Hochspannungsquelle 32 zur Erzeugung der Hochspannung für die Röntgenröhre 20. Das Ausgangssignal des Impulshöhendiskriminators 30 wird über eine Impulszähler-Zeitsteuereinrichtung 32a einem Mikroprozessor 33 zugeführt, an dem eine digitale Anzeigeeinrichtung 34 angeschlossen ist.
Wie in Fig. 3 und 4 dargestellt ist, ist an dem Steuergerät 29 ein Tastenfeld 35 zur Eingabe von Daten vorgeeehen.
An dem als Verschluß dienenden Sperrglied 21, das unter der Röntgenröhre 20 angeordnet ist, ist ein Spiegel 36'auf dessen Unterseite angeordnet (Fig. 6). Das Sperrglied 21 ist in horizontaler Richtung verschiebbar angeordnet (Fig. 7, 11 und 12) und der Kollimator 22 ist einstückig mit dem Sperrglied 21 ausgebildet und an dessen Unterseite angeordnet, wie aus Fig. 7 und 11 ersichtlich ist. Das Sperrglied 21 wird durch Führungsschienen (Fig. 10) geführt, die auf der Unterseite eines Behälters 37 angeordnet sind. Eine Führungsplatte 39 des Sperrglieds 21 ist durch eine Drehspule 40 in horizontaler Richtung verschiebbar, deren Anordnung aus Fig. 11 ersichtlich ist. Die Verschiebung des Sperrglieds 21 ist durch eine einstellbare Anschlagschraube 41 begrenzt, deren Einstellung die Justierlage des Sperrglieds in der horizontalen Richtung bestimmt. Durch Verschieben des als Verschluß dienenden Sperrglieds 21 in den Strahlengang der Röntgenröhre 20 kann deshalb eine Bestrahlung der Probe 2 4 durch Röntgenstrahlung verhindert werden. Die Probe 24 wird deshalb nur
dann mit Röntgenstrahlung beaufschlagt, wenn das Sperrglied 21 durch die Spüle 40 derart verschoben wird, daß sich der Kollimator 22 im Strahlengang befindet. -
An einem Halter 42 (Fig. 10) an der Seitenwand des Behälters ist das als Beobachtungseinrichtung dienende Mikroskop 43 angeordnet. Wenn sich das Sperrglied 21 in der in Fig. 6 dargestellten Lage befindet, kann die Oberfläche der Probe 24 über den Spiegel 36 beobachtet werden. Der Halter 42 ist entlang Führungen 45 (Fig. 13) an einer Basisplatte 44 an der Seitenwand des Behälters 37 in Richtung des Pfeils A verschiebbar angeordnet. Die Verschiebungslage ist durch eine Justierschraube 46 derart einstellbar, daß die optische Achse des Mikroskops 43 mit dem Strahlengang der Röntgenröhre 20 zusammenfällt.
Die in dem Behälter 37 angeordnete Röntgenröhre ist mit einer Hochspannungsquelle 47 versehen. Der Behälter 37 ist mit isolierendem öl 48 gefüllt. Die obere Öffnung 49 des Behälters 37 ist durch eine Abdeckplatte 50 abgedeckt (Fig. 10 und 11).
Die Nachweiseinrichtung 27 ist auf der Unterseite des Behälters 37 angeordnet, an der auch eine Führung 52 für ein Filter 53 angeordnet ist, das über eine öffnung 51 der Nachweiseinrichtung 27 verschiebbar ist. Das Filter 53 besteht aus Kobalt, das für Fluoreszenzröntgenstrahlung entsprechend dem Spektrum von Nickel durchlässig aber für Fluoreszenzröntgenstrahlung von Kupfer undurchlässig ist. Durch diese in Fig. 14 schematisch dargestellte Meßeinrichtung kann deshalb die Schichtstärke einer Nickelschicht 2 4b auf einem Träger 24a aus Kupfer mit Hilfe der zu der Nachweiseinrichtung 27 gelangenden Fluoreszenzröntgenstrahlung gemessen werden.
Wie aus dem Ausführungsbeispiel in Fig. 8 - 10 ersichtlich ist, ragt bei diesem Ausführungsbeispiel das Mikroskop 43 von einem zentralen Bereich eines Gehäuses 54 vor. Ein Halter 23 für die Probe 24 ist auf einer Positionierungseinrichtung 55 angeordnet. Der interessierende Bereich der Probe 24 kann deshalb mit der durch das· Mikroskop verursachten Vergrößerung beobachtet werden. Es ist deshalb eine genaue Einjustierung in einem Bereich mit gleicher Schichtstärke möglich, in dem die Röntgenstrahlung in einem kreisförmigen Fleck auftritt, so daß wegen des zusammen-
fallenden Verlaufs der optischen Achse und des Strahlengangs der Röntgenstrahlung sehr genaue Messungen der Schichtstärke durchführbar sind. Mit dem Mikroskop kann beispielsweise die Einjustierung der Beobachtung auf einen Bereich mit etw 0,3 mm Durchmesser erfolgen.
Der Spiegel 36 kann aus einem Material bestehen, das Licht reflektiert und für Röntgenstrahlung durchlässig ist, beispielsweise auf einer SiO„-Platte mit einer aufgedampften Aluminiumschicht oder aus einer auf einer organischen Schicht aufgedampften Aluminiumschicht. Deshalb kann die Röntgenstrahlung, mit der die Probe 2 4 beaufschlagt ist, durch den Spiegel 36 hindurchtreten und die Probe 24 kann mit Hilfe des von dem Spiegel 36 reflektierten sichtbaren Lichts beobachtet werden.
Da bei einer Meßeinrichtung der beschriebenen Art der Strahlengang der Röntgenstrahlung der Röntgenröhre mit der optischen Achse der Beobachtjungseinrichtung zusammenfällt, kann der durch die Röntgenstrahlung beaufschlagte Meßpunkt auf der Probe beobachtet werden und der Meßpunkt kann von derselben Richtung wie die Achse des Strahlengangs der Röntgenröhre bestimmt werden. Es können deshalb keine Bereiche mit einem Durchmesser von etwa 0,3mm ausgemessen werden. Da der Meßpunkt, in dem die Probe durch die Röntgenstrahlung beaufschlagt wird, kreisförmig ist, kann durch Vermeidung einer fehlerhaften Bestrahlung eine erhöhte Meßgenauigkeit erzielt werden.

Claims (5)

DIPL-PHYS. F. ENDLICH ·:·'-·' germing "'%-,—ο ,„ο, , PATENTANWALT QEftMEfflNG 1?< gept> 1g8l E/m PHCWE^ MÖNCHEN 84 36 38 TELEGRAMMADRESSE: CABLEADDRESS: PATENDLICH MÖNCHEN D1PL.-PHYS. F. ENDLICH, POSTFACH, D-8034 GERMERING TELEX; 621730pated Meine Akte: D-4905 Anmelderin: Kabushiki Kaisha* Daini Seikosha, Tokyo, Japan Patentansprüche
1.*Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung zur Bestimmung der Schichtstärke einer Oberflächenbeschichtung einer Probe, bestehend aus einer Röntgenröhre und einer Nachweiseinrichtung für von der mit der Röntgenstrahlung beaufschlagten Probe emittierte Röntgenfluoreszenzstrahlung, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Röntgenröhre (20) und einem \ Kollimator (22) zur Begrenzung des von der Röntgenröhre (20) ausgehenden Röntgenstrahlenbündels ein in horizontaler Richtung verschiebbares Sperrglied Angeordnet ist, daß entlang dem Strahlengang der Röntgenstrahlung ein Spiegel (36) angeordnet ist, und daß eine Beobachtungseinrichtung (43) für den Meßpunkt auf der durch die Röntgenstrahlung beaufschlagten Probe (2 4) derart vorgesehen ist, daß die optische Achse der Beobachtungseinrichtung mit der Achse des Strahlengangs der Röntgenstrahlung zusammenfällt.
2. Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Beobachtungseinrichtung ein Mikroskop ' (43) ist.
3. Röntgenf luoreszenz-Meßeinrichtung nach Anspruch 1 oder. 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Sperrglied (21) einstückig mit dem Spiegel (36) ausgebildet ist.
r ν w 4» t.
4. Röntgenfluoreszenz—Meßeinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h . g e k e η η zeich net, daß der Spiegel (36) Licht reflektiert und für die Röntgenstrahlung durchlässig ist.
5. Röntgenfluoreszenz-Meßeinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Eintrittsöffnung der Nachweiseinrichtung (27) ein aus Kobalt bestehendes Filterglied (53) angeordnet ist.
DE19813137186 1980-09-22 1981-09-18 Roentgenfluoreszenz-messeinrichtung Granted DE3137186A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1980135058U JPS5758300U (de) 1980-09-22 1980-09-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3137186A1 true DE3137186A1 (de) 1982-05-06
DE3137186C2 DE3137186C2 (de) 1987-05-27

Family

ID=15142908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19813137186 Granted DE3137186A1 (de) 1980-09-22 1981-09-18 Roentgenfluoreszenz-messeinrichtung

Country Status (4)

Country Link
US (2) US4406015A (de)
JP (1) JPS5758300U (de)
DE (1) DE3137186A1 (de)
NL (1) NL184977C (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3303146A1 (de) * 1982-02-02 1983-08-18 Horiba Ltd., Kyoto Zielbestimmungsvorrichtung fuer roentgenstrahler
DE3319984A1 (de) * 1982-06-03 1983-12-08 Daini Seikosha Co. Ltd., Tokyo Automatische korrektureinrichtung fuer ein roentgenstrahl-fluoreszenz-analysegeraet
DE3239379A1 (de) * 1982-10-23 1984-04-26 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten
DE3334458A1 (de) * 1982-09-24 1984-06-07 Seiko Instruments and Electronics Ltd., Tokio/Tokyo Korrektureinrichtung fuer ein roentgenanalysegeraet
DE3314281A1 (de) * 1982-10-23 1984-10-25 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5758300U (de) * 1980-09-22 1982-04-06
SE455736B (sv) * 1984-03-15 1988-08-01 Sarastro Ab Forfaringssett och anordning for mikrofotometrering och efterfoljande bildsammanstellning
DE3522779A1 (de) * 1984-07-03 1986-01-09 Twin City International, Inc., Amherst, N.Y. Dickenmessinstrument mit stationaerem probenbeobachtungsspiegel
JPH0412128Y2 (de) * 1984-11-07 1992-03-25
DE3444270A1 (de) * 1984-12-05 1986-06-05 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten
US4646341A (en) * 1985-03-28 1987-02-24 Upa Technology, Inc. Calibration standard for X-ray fluorescence thickness
US4860329A (en) * 1986-02-24 1989-08-22 Upa Technology, Inc. X-ray fluorescence thickness measuring device
DE3710437A1 (de) * 1987-04-01 1988-10-20 Helmut Fischer Elektronik & Me Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten
US4962518A (en) * 1987-12-07 1990-10-09 Twin City International, Inc. Apparatus for measuring the thickness of a coating
DE4021388A1 (de) * 1990-07-05 1992-01-16 Twin City Int Inc Vorrichtung zum messen der staerke eines ueberzuges
US5212720A (en) * 1992-01-29 1993-05-18 Research Foundation-State University Of N.Y. Dual radiation targeting system
DE4203887C2 (de) * 1992-02-11 1998-07-23 Helmut Fischer Gmbh & Co Positioniervorrichtung für ein Meßgerät
US5309495A (en) * 1992-03-18 1994-05-03 Helmut Fischer Positioning device for an x-ray thickness measuring system
US5479252A (en) * 1993-06-17 1995-12-26 Ultrapointe Corporation Laser imaging system for inspection and analysis of sub-micron particles
US5923430A (en) 1993-06-17 1999-07-13 Ultrapointe Corporation Method for characterizing defects on semiconductor wafers
GB9417419D0 (en) 1994-08-30 1994-10-19 Mackenzie Innes Method of measuring film thickness and monitoring liquid flow using backscattered x-rays and gamma-rays
US6148114A (en) * 1996-11-27 2000-11-14 Ultrapointe Corporation Ring dilation and erosion techniques for digital image processing
DE19710420C2 (de) * 1997-03-13 2001-07-12 Helmut Fischer Gmbh & Co Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicken dünner Schichten mittels Röntgenfluoreszenz
US6437337B1 (en) 1997-07-31 2002-08-20 Edax, Inc. X-ray detector shape
US6787773B1 (en) 2000-06-07 2004-09-07 Kla-Tencor Corporation Film thickness measurement using electron-beam induced x-ray microanalysis
US6694169B2 (en) 2001-02-22 2004-02-17 Minrad Inc. Targeting system and method of targeting
US6801596B2 (en) 2001-10-01 2004-10-05 Kla-Tencor Technologies Corporation Methods and apparatus for void characterization
US6664541B2 (en) 2001-10-01 2003-12-16 Kla Tencor Technologies Corporation Methods and apparatus for defect localization
US6810105B2 (en) * 2002-01-25 2004-10-26 Kla-Tencor Technologies Corporation Methods and apparatus for dishing and erosion characterization
US20060245548A1 (en) * 2005-04-22 2006-11-02 Joseph Callerame X-ray backscatter inspection with coincident optical beam
CN102284513A (zh) * 2011-05-16 2011-12-21 清华大学 一种凸度仪用准直机构
DE102013102270A1 (de) * 2013-03-07 2014-09-11 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Optischer Spiegel, Röntgenfluoreszenzanalysegerät und Verfahren zur Röntgenfluoreszenzanalyse

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1976179A (en) * 1930-04-28 1934-10-09 Mannl Rudolf Adjusting device for x-ray tubes
DE1094987B (de) * 1957-08-14 1960-12-15 United States Steel Corp Vorrichtung zum Messen der Staerke eines UEberzuges auf einem Grundmaterial
DE2039646B2 (de) * 1970-08-10 1972-12-07 Fischer, Helmut, 7261 Gechingen Messvorrichtung zur schichtdickenmessung mit radionukliden
US4178513A (en) * 1978-01-17 1979-12-11 Nuclear Semiconductor Art object analyzer

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2455928A (en) * 1944-07-29 1948-12-14 Hawks Thomas Richard X-ray tube sighting device
CH249401A (de) * 1944-11-01 1947-06-30 Draeger Ges Mbh Verfahren zur zerstörungsfreien Bestimmung der Schichtdicke von Überzügen mit Hilfe von Röntgenstrahlen.
GB854762A (en) * 1956-10-11 1960-11-23 A E Dean & Company X Ray Appar Improvements relating to x-ray apparatus
NL231278A (de) * 1957-09-26
US2942113A (en) * 1958-03-18 1960-06-21 Industrial Nucleonics Corp Measuring system
US3918793A (en) * 1970-05-02 1975-11-11 Leitz Ernst Gmbh Fluorescence illuminator for incident light microscope
US3729632A (en) * 1970-12-21 1973-04-24 Industrial Nucleonics Corp Penetrating radiation gauge
CA1086870A (en) * 1976-05-18 1980-09-30 Western Electric Company, Incorporated X-ray-fluorescence measurement of thin film thicknesses
US4162528A (en) * 1976-05-18 1979-07-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated X-ray-fluorescence measurement of thin film thicknesses
JPS5385188A (en) * 1977-01-05 1978-07-27 Toshiba Corp Pulse x-ray apparatus
CA1104727A (en) * 1977-08-18 1981-07-07 Godfrey N. Hounsfield Rotation-only ct scanner with beam deflection
FI59489C (fi) * 1978-11-21 1981-08-10 Enso Gutzeit Oy Foerfarande foer maetning av belaeggningsmaengder
JPS5758300U (de) * 1980-09-22 1982-04-06

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1976179A (en) * 1930-04-28 1934-10-09 Mannl Rudolf Adjusting device for x-ray tubes
DE1094987B (de) * 1957-08-14 1960-12-15 United States Steel Corp Vorrichtung zum Messen der Staerke eines UEberzuges auf einem Grundmaterial
DE2039646B2 (de) * 1970-08-10 1972-12-07 Fischer, Helmut, 7261 Gechingen Messvorrichtung zur schichtdickenmessung mit radionukliden
US4178513A (en) * 1978-01-17 1979-12-11 Nuclear Semiconductor Art object analyzer

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3303146A1 (de) * 1982-02-02 1983-08-18 Horiba Ltd., Kyoto Zielbestimmungsvorrichtung fuer roentgenstrahler
DE3319984A1 (de) * 1982-06-03 1983-12-08 Daini Seikosha Co. Ltd., Tokyo Automatische korrektureinrichtung fuer ein roentgenstrahl-fluoreszenz-analysegeraet
DE3334458A1 (de) * 1982-09-24 1984-06-07 Seiko Instruments and Electronics Ltd., Tokio/Tokyo Korrektureinrichtung fuer ein roentgenanalysegeraet
DE3239379A1 (de) * 1982-10-23 1984-04-26 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten
DE3314281A1 (de) * 1982-10-23 1984-10-25 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten

Also Published As

Publication number Publication date
NL184977B (nl) 1989-07-17
JPS5758300U (de) 1982-04-06
NL184977C (nl) 1989-12-18
DE3137186C2 (de) 1987-05-27
US4406015A (en) 1983-09-20
US4534049A (en) 1985-08-06
NL8102926A (nl) 1982-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3137186A1 (de) Roentgenfluoreszenz-messeinrichtung
DE19710420C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicken dünner Schichten mittels Röntgenfluoreszenz
DE2333326B2 (de) Einrichtung zum Messen der Dicke eines auf einer Unterlage abgelagerten dünnen Films
DE19713200C1 (de) Meßgerät zur Bestimmung der statischen und/oder dynamischen Lichtstreuung
DE1447253A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen interferometrischen Messung von Dickeoder Brechungsindex eines laufenden Films
DE2611514B2 (de) Oberflächen-Abtastprüfvorrichtung
DE2712590A1 (de) Wellenlaengenunabhaengiger optischer- dichte-standard
DE1245174B (de) Vorrichtung zur Roentgenstrahlen-fluoreszenzanalyse eines Werkstoffes
DE2009284B2 (de) Fotomasken-Projektionseinrichtung
DE10125454A1 (de) Gerät zur Röntgenanalyse mit einem Mehrschichtspiegel und einem Ausgangskollimator
DE2721589A1 (de) Verfahren zum gleichzeitigen messen der dicke zweier metall-duennschichten
DE102015208181A1 (de) Anordnung und Verfahren für winkelaufgelöste Reflektometrie, insbesondere im extremen ultravioletten Spektralbereich
DE10259696B4 (de) Vorrichtung zum Messen der Dicke dünner Schichten
DE3235513A1 (de) Strahlungsabschirmanordnung fuer ueberzugsdicken-messvorrichtung
DE849017C (de) Vorrichtung zur photographischen Messung der spektralen Strahlen-absorption von Fluessigkeiten
DE2443791A1 (de) Vorrichtung zur bestimmung mindestens einer koordinate der lage eines punktes
CH332875A (de) Verfahren zur Einstellung eines Röntgen-Diffraktionsgoniometers und Visiereinrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
DE4430615C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur abbildenden Pulverdiffraktometrie
DE312805C (de)
JPS60127405A (ja) 螢光x線膜厚計
DE2250679A1 (de) Zerstoerungsfreies pruefverfahren
DE3402177A1 (de) Einrichtung zum kopieren einer maske auf ein halbleitersubstrat
DE421959C (de) Vorrrichtung zur Eichung von Therapie-Roentgenroehren nach Standard-Roehren
DE2039198C3 (de) Vorrichtung zur optischen Prüfung der Zahnteilung eines Zahnrades
DE1051631B (de) Fotografische Kamera mit gekuppeltem Belichtungsmesser

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: SEIKO INSTRUMENTS AND ELECTRONICS LTD., TOKIO, JP

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8330 Complete disclaimer