DE2250679A1 - Zerstoerungsfreies pruefverfahren - Google Patents

Zerstoerungsfreies pruefverfahren

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DE2250679A1 DE19722250679 DE2250679A DE2250679A1 DE 2250679 A1 DE2250679 A1 DE 2250679A1 DE 19722250679 DE19722250679 DE 19722250679 DE 2250679 A DE2250679 A DE 2250679A DE 2250679 A1 DE2250679 A1 DE 2250679A1
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    • G01B11/16Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge
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Description

Anmelder: Canon Kabushiki Kaäsha, No. 30-2, 3-chome, Shimomaruko, Ohta-ku, Tokyo, Japan
Zerstörungsfreies Prüfverfahren
Die Erfindung betrifft ein zerstörungsfreies Prüfverfahren zur Feststellung geringer Verformungen eines Werkstücks.
Es sind bereits zerstörungsfreie Prüfverfahren bekannt, bei denen eine durch eine Verformung bedingte Widerstandsänderung gemessen wird, oder bei denen auf dem zu prüfenden Werkstück äquidistante Gitterlinien mit 20-50 Linien pro mm ausgebildet werden, so daß mit Hilfe sichtbarer Beugungsbilder geringe Verformungen gemessen werden können{Moire-Verfahren).
Bei dem zuerst genannten Verfahren zur Messung von Verformungsspannungen wird der Meßwert eines zu prüfenden Teils als Durchschnittswert aller zu prüfenden Teile angezeigt. Deshalb ist. es erforderlich, eine große Anzahl von aneinander angrenzenden kleinen Prüfbereichen vorzusehen, wenn eine Verformung eines großen Bereichs geprüft werden soll, weshalb dann auch eine große Anzahl von Anzeigeeinrichtungen erforderlich sind. Selbst in einem derartigen Fall beträgt die maximale Grö-
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ße exnes prüfbaren Bereichs etwa 0,5 nun .
Mit dem Moire-Verfahreη kann dagegen der gesamte Meßbereich gleichförmig geprüft werden. Dafür sind jedoch Gitter mit engen Gitterabständen zum Nachweis geringer Verformungen erforderlich. Dadurch ergeben sich Schwierigkeiten bei der Herstellung und bei dem fotografischen Aufnahmeverfahren.
Zur Beseitigung der erwähnten Schwierigkeiten wurde bereits vorgeschlagen (P 21 50 110) , ein Verfahren zur Messung geringer Verformungen derart durchzuführen, daß eine periodische Struktur mit Beugungseigenschaften beleuchtet wird, und daß von den gebeugten Wellenfronten konjugierte Wellenfronten oder dergleichen zur Interferenz gebracht werden, so daß das Ausmaß der Verformung als Verschiebung der Periode der periodischen Struktur auftritt, oder die Verformung der periodischen Struktur durch die Interferenzstreifen gemessen werden kann. Bei diesem Verfahren wird als nachteilig angesehen, daß nur eine Messung einer periodischen Struktur mit Beugungseigenschaften erfolgen kann.
Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren anzugeben, mit dem eine Messung von Verformungen oder dergleichen einer periodischen Struktur erfolgen kann, die Beugungseigenschaften oder keine Beugungseigenschaften aufweist.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein periodisches Strukturbild einer periodischen Struktur durch eine fotografische Aufnahme oder dergleichen in ein Beugungsgitter umgewandelt wird, daß dieses Beugungsgitter mit einem Lichtbündel beleuchtet wird, daß von diesem Beugungsgitter gebrochene konjugierte Wellenfronten ausgewählt und zur Interferenz gebracht werden, und daß der Verformungsbetrag der Verschiebung der Grundperiode der periodischen Struktur oder die Verformung der periodischen Struktur mit dem Interferenzstreifen gemessen wird.
Bei einem Verfahren gemäß der Erfindung kann die Verformung (worunter auch die Abweichung von einer bestimmten Raum-
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form verstanden wird) des zu prüfenden·Werkstücks getrennt von der Ausbildung der Interferenzstreifen erfolgen und ferner wird dadurch erreicht, daß die Umgebungsbedingungen zum Zeitpunkt der Herstellung der Interferenzstreifen einen geringeren Einfluß haben.
Die Erfindung ist besonders vorteilhaft auf Werkstücke anwendbar, bei denen vorher eine Oberflächenbehandlung erfolgte. Wenn Interferenzstreifen auf der Oberfläche durch Beleuchtung von Mustern mit einer periodischen Struktur auf einer ungünstigen Oberfläche direkt mit kohärentem Licht hergestellt werden sollen, ist. der Beugungseffekt aufgrund der unebenen Oberfläehe stärker als die Beugung aufgrund des Musters der periodischen Struktur und die aufgrund des Musters mit der periodischen Struktur gebeugte Wellenfront ist vollständig in die aufgrund der Rauhigkeit gebeugte Wellenfront eingebettet. Wenn das Muster mit einer periodischen Struktur von einem Werkstück unter derartigen Bedingungen bei Beleuchtung des Werkstücks mit inkohärentem Licht fotografiert wird, wird eine von der Rauhigkeit der Oberfläche des Werkstücks abhängige Information nicht aufgezeichnet, weil diese Information in eine Phasemrerteilung umgewandelt wird und nur das Muster einer periodischen Struktur aufgezeichne t wird. Wenn deshalb eine derartig hergestellte Aufnahme mit kohärentem Licht beleuchtet wird, werden sichklar unterscheidende Interferenzstreifen erhalten.
Anhand der in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele soll die Erfindung näher erläutert werden. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung, die zur Herstellung einer Aufzeichnung dient;
- Fig. 2 eine Draufsicht auf eine mit der Einrichtung in Fig. 1 hergestellte Aufzeichnung;
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer Wiedergabeeinrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung;
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Fig. 4 ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel der Wiedergabeeinrichtung in Fig. 3;
Fig. 5 eine Seitenansicht eines Werkstücks und einer Kamera in einer einjustierten Lage;
Fig. 6 eine Draufsicht auf eine geschliffene Glasplatte, die in der Kamera in Fig. 5 angeordnet ist;
Fig. 7 ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel der Einrichtung in Fig. 5;
Fig. 8 ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Wiedergabeeinrichtung;
Fig. 9 und 10 eine schematische Ansicht einer geschliffenen Glasplatte, die in der Einrichtung in Fig. 8 vorgesehen ist; und
Fig. 11 und 12 eine Vorderansicht bzw. eine Seitenansicht einer Einrichtung zum Verdrehen der Aufzeichnung.
Fig. 1 zeigt ein Prüfgerät 1 für Druck- und Zugversuche, in dem ein zu prüfendes Werkstück 2 angeordnet ist. An dem Werkstück 2 ist ein Muster 6 mit einer periodischen Struktur angeordnet. Zur Aufzeichnung dient bei diesem Ausführungsbeispiel eine Kamera 3 mit einem Objektiv 4, in der ein Aufzeichnungsmedium in Form einer Fotoplatte 5 angeordnet ist. Ein Beispiel für eine periodische Struktur des Musters 6 ist in Fig. 2 dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel wirddas Gitter entsprechend der Verformung des Werkstücks ebenfalls verformt. Zur Durchführung einer Prüfung wird zunächst die Verformung des Werkstücks über das Objektiv 4 der Kamera auf der Fotoplatte aufgezeichnet. Die Fotoplatte wird so hart wie möglich entwickelt, um helle Beugungsspektren der höchsten Ordnung zu erhalten, wenn bei der Auswertung der Fotoplatte Beugungsbilder hergestellt werden.
Fig. 3 zeigt eine Wiedergabeeinrichtung für eine Fotoplatte mit einer derartigen Aufzeichnung. Diese Einrichtung enthält eine Lichtquelle für kohärentes Licht in Form eines Lasers 7. Ferner sind ein Vergrößerungssystem 8, ein als Strah1-
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teiler dienender halbdurchlässiger Spiegel 9, total reflektierende Spiegel IO und 11, ein halbdurchlässiger Spiegel 12, eine die Aufzeichnung tragende Fotoplatte 51, eine Linse 13, eine Abschirmblende 14 und eine Kamera für die Aufzeichnung eines Beugungsbilds entsprechend der durch die Linse 13 und die Blende 14 erfolgten Auswahl vorgesehen. In gewissen Fällen kann anstelle der Linse 13 in ein bestimmten Richtungen durchlässiges Filter Verwendung finden.
Von dem Laser 7 geht ein dünnes Lichtbündel aus, welches in ein kollimiertes Lichtbündel mit vergrößertem Querschnitt durch das Vergroßerungssystem 8 umgewandelt wird und auf den halbdurchlässigen Spiegel auffällt und dort in zwei Strahlengänge unterteilt wird. Das eine Lichtbündel A wird von dem Spiegel 10 und dem Spiegel 12 derart reflektiert, daß. es auf die Fotoplatte 51 unter einem Einfallwinkel θ auffällt, während das andere Lichtbündel B von dem Spiegel 11 reflektiert wird und dann den halbdurchlässigen Spiegel 11 durchsetzt und auf die Fotoplatte 5' unter einem Einfallwinkel -Θ auffällt. Der Einfallwinkel θ zeigt die Richtung des Beugungsspektrums der η-Ordnung des Lichts an, das senkrecht auf das aufgezeichnete Gitter auffällt, so daß der Winkel θ durch die folgende Beziehung gegeben ist:
θ =
wobei \ die Wellenlänge des vom Laser abgestrahlten Lichts ist, η die Ordnung des Beugungsspektrums und ρ der Gitterabstand.
Die beiden Lichtbündel A und B werden von dem Gitter der Fotoplatte 5' gebrochen und die Beugungsspektren der +n-und der -η-Ordnung treten senkrecht zu der Oberfläche der Fotoplatte aus. Um nur das Beugungsspektrum in Richtung der Flächennormalen auszuwählen, wird durch die Linse 13 ein punktförmiges Bild in der Brennebene erzeugt, und es erfolgt eine Überlagerung durch Ausblendung von zwei punktförmigen Bildern
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auf der Achse mit Hilfe der Blende 14. Die in dieser Weise hergestellten Interferenzstreifen erhöhen den Verformungsbetrag des Beugungsgitters auf der Fotoplatte um den Faktor 2n. Nach einer Aufzeichnung mit der Kamera 15 werden die Interferenz-Streifen mit einem üblichen Verfahren analysiert, oder bei gewissen Anwendungsfällen durch direkte Beobachtung ausgemessen. Bei diesem Verfahren kann die fotografische Empfindlichkeit umso mehr erhöht werden, je höher die Ordnung der überlagerten Beugungsspektren ist. Deshalb sind Gitter mit sehr kleinen Linienabständen oder Gitterkonstanten nicht erforderlich. Wenn ein Gitter bei dem bekannten Moire-Verfahren zur Überlagerung von Beugungsspektren der +5-Ordnung verwandt werden, kann im Vergleich zu diesem bekannten Verfahren eine um den Faktor 10 größere Empfindlichkeit erzielt werden.
Fig. 4 zeigt ein abgewandeltes Ausführungsbeispiel einer Wiedergabeeinrichtung, wobei der Strahlengang hinter dem als Strahlteiler dienenden halbdurchlässigen Spiegel 9 abgewandelt ist, so daß gewünschtenfalls auch eine Aufnahme mit dem Licht erfolgen kann, das von der Platte 5' reflektiert wird. Bei diesem Ausführungabexspiel wird das von dem Laser 7 ausgehende Lichtbündel nach dem Durchtritt durch das Vergrößerungssystem 8 von dem halbdurchlässigen Spiegel 9 in zwei Strahlengänge unterteilt, von denen einer auf die Fotoplatte 51 unter einem Winkel θ nach einer Reflexion an dem Spiegel 11 auffällt, während bei dem anderen Strahlengang das Licht auf die Fotoplatte 51 unter einem Winkel von -Θ nach einer Reflexion an den Spiegeln 10 und 10' auffällt. Das durch die Fotoplatte hindurchgetretene Licht wird in der Kamera 15 über die Linse 13 und die Blende 14 aufgezeichnet, die zur Auswahl einer geeigneten Ordnung dienen. Mit den von der Fotoplatte 51 reflektierten Beugungsspektren kann über einen total reflektierenden Spiegel 16 eine Aufzeichnung mit der Linse 13', der Blende 14' und der Kamera 15' erfolgen.
Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel wird die Fotoplatte 51 mit zwei Lichtbündeln beleuchtet, um konjugierte oder
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nahezu konjugierte Wellenfronten zu überlagern, so daß entsprechende Interferenzstreifen erhalten werden können. Bei einem derartigen Verfahren kann jedoch die Fotoplatte 51 auch nur mit einem Lichtbündel beleuchtet werden und zwei gebeugte Wellenfronten können überlagert werden. Wenn das zu prüfende Werkstück 2 verhältnismäßig groß ist, kann die Vergrößerung des Objektivs 4 geändert werden. Der umgekehrte Fall kann in entsprechender Weise Berücksichtigung finden.
Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel wird die Verformung in nur einer Richtung gemessen, obwohl es auch möglich ist, die Verformung in zwei Richtungen zu messen, indem das Aufzeichnungsmedium verdreht wird.
Im folgenden soll die Ausbildung eines Musters mit einer periodischen Struktur an dem Werkstück beschrieben werden, falls das zu prüfende Werkstück selbst ein Muster mit einer periodischen Struktur aufweist. Besonders in diesem Falle ist das Verfahren gemäß der Erfindung sehr vorteilhaft, weil Beugungsspektren höherer Ordnung bei der Wiedergabeeinrichtung ausgenutzt werden können, wenn der Kontrast der periodischen Struktur größer ist.
Im folgenden sollen vier Verfahren beschrieben werden, mit denen ein derartiges Mus ter mit hohem Kontrast hergestellt werden kann.
(1) Das Werkstück wird geschliffen und die bearbeitete Oberfläche wird geschwärzt oder mit, schwarzer Farbe überzogen. Dann wird eine Aluminiumschicht ausgedampft oder eine andere Schicht ausgebildet, die ein großes Reflexionsvermögen hat, um die geschwärzte Oberfläche abzudecken. Danach wird eine Schicht aus Fotowiderstandsmaterial aufgetragen, um auf fotografischem Wege ein Muster mit einer periodischen Struktur herstellen zu können.
Danach wird durch Ätzen ein Teil der geschwärzten Oberfläche freigelegt, um ein Muster mit hohem Kontrast herzustel-
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len, das schwarze Oberflächenteile und Oberflächenteile mit großem Reflexionsvermögen hat.
(2) Fotowiderstandsmaterial wird auf eine dünne Materialschicht einer Aluminiumfolie aufgetragen, welchesMaterial ein hohes Reflexionsvermögen hat, um mit Hilfe eines fotografischen Druckverfahrens ein geeignetes Muster herzustellen. Diese Schicht wird dann in einen Farbstoff eingetaucht und danach abgespült, um überschüssigen Farbstof f zu entfernen. Auf diesem Wege kann durch eine Färbung ein Muster mit einem hohen Kontrast hergestellt werden. Diese das Muster tragende Schicht wird mit Hilfe eines Klebstoffs an dem zu prüfenden Werkstück befestigt.
(3) Ein Muster wird auf einer Oberfläche einer transparenten Folie aus Kunststoff mit Hilfe eines fotografischen Druckverfahrens ausgebildet. Auf der anderen Seite wird eine Oberfläche mit hohem Reflexionsvermögen mit Aluminium oder dergleichen ausgebildet, damit ein Muster mit hohem KonaasL hergestellt werden kann. Dieser Film wird dann an dem zu prüfenden Objekt befestigt.
(4) Ein Muster mit einer periodischen Struktur aus winkeligen, kreisförmigen oder sonstigen periodischen Abschnitten wird auf einer Folie mit einem verhältnismäßig niedrigen Elastizitätsmodul ausgebildet. Diese Musterfolie wird dann an dem Werkstück angeklebt.
Wenn bei der Durchführung der Aufnahme das zu prüfende Werkstück von einer geeigneten Richtung beleuchtet wird, kann ein Muster mit hohem Kontrast zwischen den Elementen mit geringem bzw. hohem Reflexionsvermögen aufgenommen werden.
Wenn das Muster 6 des Werkstücks 2 fotografiert wird, wird die Oberfläche des Musters 6 senkrecht, zu der optischen Achse der Kamera 3 angeordnet, weil bei einer schrägen Anordnung Meßfehler bei der Auswertung auftreten können, un<. Ws-ii sonst (Iiα Aufnahme teilweise abgedunkelt wird-
3 0 9 8 1 fi / 0 3 (> 3
Im folgenden soll eine Einrichtung zur Prüfung und Korrektur der genauen rechtwinkeligen Anordnung der Oberfläche des.Werkstücks 2 zu der optischen Achse der Kamera 3 beschrieben werden,wDmiteine genaue Einjustierung zur Vermeidung der genannten Schwierigkeiten erfolgen kann.
Bei dem in Fig. 5 dargestellten Ausführungsbeispiel findet eine geschliffene Glasplatte 20 Verwendung, die ein Koordinatensystem trägt und mit einer Lampe 17 über einen halbdurchlässigen Spiegel 19 beleuchtet wird, der um 45 zu einer Linse 18 und der optischen Achse geneigt ist. Die geschliffene Glasplatte 20 hat eine Koordinatensystem-Markierung der in Fig. 6 dargestellten Art und ist in der Brennebene des Objektivs 4 angeordnet, weil im Strahlengang ein um 45 geneigter Schwenkspiegel 21 vorgesehen ist. Licht von den Koordinatenmark ie runge η wird von dem Schwenkspiegel 21 zu dem Werkstück 2 durch das Objektiv 4 gerichtet. Nach einer Reflexion an dem Werkstück 2 erfolgt eine Abbildung auf der geschliffenen Glasplatte. Wenn die optische Achse der Kamera nicht senkrecht zu der Oberfläche des Werkstücks angeordnet ist, ist eine Abbildung auf den Koordinatenmarkierungen gegenüber den Koordinatenmarkierungen versetzt. Dieses versetzte Bild kann durch ein Okular 22 beobachtet werden. Durch Verkippen der Kamera oder des Werkstücks kann erreicht werden, daß die Abbildung mit den Koordinatenmarkierungen zusammenfällt, so daß dann die optische Achse senkrecht zu der Oberfläche des Werkstücks ausgerichtet ist. Wenn eine Aufnahme des Werkstücks erfolgen soll, wird der Schwenkspiegel 21 in die Lage hochgeschwenkt, die in gestrichelten Linien dargestellt ist. Anstelle des Schwenkspegels 21 kann für die Durchführung von Aufzeichnungen auf der Fotoplatte 5 ein halbdurchlässiger Spiegel Verwendung finden, der eine solche Dicke hat, daß bei der Aufnahme keine Verzeichnungsfehler durch eine Aberration auftreten.
fig. 7 zeigt eine Einrichtung zur Prüfung/ des senkrechten Verlaufs der optischen Achse einer Kamera au der Oberfläche eines zu prüfenden Werkstücks, mit der eine Beobachtung
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von der Außenseite der Kamera ohne Benutzung des Objektivs der Kamera erfolgt. Die in Fig. 7 dargestellte Kamera enthält ein Objektiv 4 und eine Fotoplatte 5. Eine geschliffene Glasplatte 20, die in diesem Fall nicht unbedingt eine geschliffene Glasplatte sein muß, ist mit einem Koordinatensystem versehen und wird mit einer Lampe 17 über eine Linse 18 beleuchtet. Die Glasplatte 20 ist in der Brennebene einer Linse 23 angeordnet, und das beleuchtende Lichtbündel wird zu dem Werkstück 2 durch die Linse 23 gerichtet, um auf einer geschliffenen Glasplatte 25, die in der Brennebene einer Linse 24 angeordnet ist und ein Koordinatensystem trägt, nach der Reflexion von dem Werkstück 2 eine Abbildung herzustellen. Wenn die Abbildung auf der Glasplatte 20 mit dem Koordinatensystem mit dem Koordinatensystem der Platte 25 überlagst wird, verläuft die optische Achse der Kamera 3 senkrecht zu der Oberfläche des Werkstücks 2, so daß die genau senkrechte Anordnung der optischen Achse der Kamera zu der Oberfläche des Werkstücks durch das Okular 22 durch Beobachtung der Abweichung des Bilds von den Koordinaten festgestellt werden kann. Die rechtwinkelige Anordnung des Werkstücks relativ zu der optischen Achse der Kamera kann aufrechterhalten werden, indem eine Abbildung des einen Koordinatensystems mit dem anderen Koordinatensystem zur Deckung gebracht wird.
Ein Interferenzgerät zur Auswahl von Beugungsspektren aus Wellenfronten mit unterschiedlichen Ordnungen von einem aufzunehmenden Gitter soll in Verbindung mit Fig. 8 näher erläutert werden. Fig. 8 zeigt einfallende Lichtbündel 26 und und eine Fotoplatte 51 mit dem bereits aufgenommenen Gitter oder Muster. Die durch die Fotoplatte 5' erzeugten Wellenfronten werden von der Linse 13 gesammelt und Beugungsspektren einer gewünschten Ordnung werden von einer Lochblende 14 ausgeblendet, die an der Brennebene des Objektivs der Kamera 16 angeordnet ist. Zwischen der Linse 13 und der Lochblende 14 ist ein zu der optischen Achse vaschwenkbarer Spiegel 28 angeordnet. Eine geschliffene Glasplatte 29 ist in der Brennebene der
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Linse 13 über dem Spiegel 28 angeordnet. Die Glasplatte 29 trägt beispielsweise zwei zueinander senta:echte Linien 30 (Fig. 9). Auf der Oberfläche dieser Glasplatte 29'können Beugungsmuster 31 unterschiedlicher Ordnungen beobachtet werden. Der Schnittpunkt der beiden Linien wird entsprechend dem Zentrum der Lochblende 14 einjustiert. Nach der Überlagerung der Beugungsspektren gewünschter Ordnung auf dem Schnittpunkt durch geeignete Einjustierung der Lichtbündel 26 und 27 erfolgt eine Bewegung in die in der Figur in gestrichelten Linien dargestellte Lage. Deshalb treten nur Wellenfronten der gewünschten Ordnung durch das Zentrum der Lochblende 14. Anstelle des verschwenkbaren Spiegels 28 kann auch ein ortsfesterhalbdurchlässiger Spiegel Verwendung finden.
Die Interferenzbedingungen können geändert werden, indem die Fotoplatte 5' in ihrer Ebene gedreht wird. Dabei ist es erforderlich, den Drehwinkel der Fotoplatte zu messen oder eine vorherbestimmte Winkellage herbeizuführen. Wenn die Fotoplatte 5' um einen bestimmten Winkel gedreht wird, wird das Beugungsmuster 31 um einen äquivalenten Winkel im Vergleich zu der Fotoplatte 51 gedreht, wie in Fig. 10 dargestellt ist. Der Drehwinkel der Fotoplatte kann mit Hilfe einer Winkeleinteilung 32 bestimmt werden.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 11 und '12 soll ein derartiger Drehmechanismus für eine Fotoplatte beschrieben werden. Die Fotoplatte 51 ist an einer Drehscheibe 33 angeordnet, die in einem Rahmen 3 5 durch Betätigung eines Griffs 34 verdrehbar ist. Mit Hilfe eines Koordinatensystems 36 oder eiiier Winkel- ~«ala a\af der Drehplatte 33 kann der Drehwinkel der Fotoplatte b' bestimmt werden. Die Drehlage der Foirplatte 51 kann durch Vorwendung einer Arretiereinrichtung 38 arretiert werden.
Patentansprüche
309 B 1 fi /IKii; 3

Claims (4)

Patentansprüche
1. Zerstörungsfreies Prüfverfahren zur Feststellung geringer Verformungen oder Formabweichungen eines Werkstücks, d a d u r ch gekennzeichnet, daß eine periodische Struktur auf einem Aufzeichnungsmedium aufgezeichnet wird, um einen Aufzeichnungsträger mit einer periodischen Struktur mit Beugungseigenschaften herzustellen, daß der Aufzeichnungsträger beleuchtet wird, daß zwei ausgewählte Wellenfronten der von dem Aufzeichnungsträger gebeugten Wellenfronten zu einer Nachweiseinrichtung orientiert werden, und daß die Deformation der periodischen Struktur mit Hilfe von Interferenzstreifen gemessen wird, die auf der Oberfläche der Nachweiseinrichtung bei dieser Orientierung ausgebildet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1# dadurch gekennzeichnet, daß der Aufzeichnungsträger mit zwei Lichtbündeln beleuchtet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2,dadurch gekenn-
z e i ch η e t , daß die beiden Lichtbündel mit konjugierten Einfallwinkeln auf den Aufzeichnungsträger auffallen.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Beugungsspektren zueinander konjugiert sind oder in einer ähnlichen Beziehung zueinander stehen.
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DE19722250679 1971-10-16 1972-10-16 Meßverfahren zur zerstörungsfreien Feststellung geringer Verformungen oder Formabweichungen eines Werkstücks und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens Expired DE2250679C3 (de)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995031934A2 (de) * 1994-05-22 1995-11-30 Robert Massen Verfahren und anordnung zur dreidimensionalen digitalisierten erfassung der raumform von körpern oder körperteilen
US7447558B2 (en) 2004-09-18 2008-11-04 The Ohio Willow Wood Company Apparatus for determining a three dimensional shape of an object

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016104111A (ja) 2014-11-19 2016-06-09 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. 乾燥機
WO2022074879A1 (ja) * 2020-10-09 2022-04-14 株式会社島津製作所 材料試験機
CN113758437B (zh) * 2021-11-05 2022-03-18 北京创米智汇物联科技有限公司 一种非接触式变形监测系统和方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995031934A2 (de) * 1994-05-22 1995-11-30 Robert Massen Verfahren und anordnung zur dreidimensionalen digitalisierten erfassung der raumform von körpern oder körperteilen
WO1995031934A3 (de) * 1994-05-22 1995-12-28 Robert Massen Verfahren und anordnung zur dreidimensionalen digitalisierten erfassung der raumform von körpern oder körperteilen
US7447558B2 (en) 2004-09-18 2008-11-04 The Ohio Willow Wood Company Apparatus for determining a three dimensional shape of an object

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DE2250679B2 (de) 1978-08-24
JPS5617602B2 (de) 1981-04-23

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