DE3135342C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft einen lichtempfindlichen lithografischen
Druckplattenvorläufer (im folgenden wird ein
derartiger Vorläufer auch als vorsensibilisierte
Druckplatte, abgekürzt als "PS-Platte" bezeichnet),
enthaltend einen Aluminiumträger mit einem Aluminiumoxidfilm
auf seiner Oberfläche, auf dem nacheinander eine
nicht-silberhaltige lichtempfindliche Schicht und eine
Silberhalogenid enthaltende lichtempfindliche Schicht
ausgebildet sind, wobei mindestens eine der
lichtempfindlichen Schichten eine organische Mercaptoverbindung
enthält.
Vorsensibilisierte Druckplatten, bestehend aus einem
Aluminiumträger mit einem Aluminiumoxidfilm auf seiner
Oberfläche und einer Silberhalogenid enthaltenden
lichtempfindlichen Schicht, die auf dem Träger direkt oder
über nicht-silberhaltige lichtempfindliche Zwischenschicht
ausgebildet ist, sind bekannt und werden beispielsweise
in den GB-PSn 15 71 155, 15 67 844 und 21 17 603
beschrieben. Jedoch tritt bei derartigen vorsensibilisierten
Druckplatten häufig eine Fleckenbildung während des
Plattenherstellungsverfahrens auf, wahrscheinlich wegen der
direkten oder indirekten Wechselwirkung zwischen dem
metallischen Aluminium des Aluminiumträgers und den
Silberhalogenidkörnern. Es wurde auch gefunden, daß dieses
Phänomen besonders ernst ist im Falle der Herstellung von
Platten unter Verwendung einer vorsensibilisierten
Druckplatte, die unter den Bedingungen einer hohen
Feuchtigkeit während längerer Zeit gelagert wurde.
Die DE-OS 30 37 310 (Stand der Technik im Sinne von §3
(2) PatG) beschreibt einen lichtempfindlichen
lithografischen Druckplattenvorläufer mit einer
Silberhalogenidemulsionsschicht, die als Antischleiermittel
eine Mercaptoverbindung enthalten kann. Antischleiermittel
werden jedoch üblicherweise in einer Menge von nicht mehr
als etwa 0,5 mMol pro Mol Silberhalogenid verwendet.
Die DE-OS 23 31 903 beschreibt ein physikalisches
Entwicklungsverfahren für Silberhalogenidemulsionsschichten,
die als Initiator für die physikalische Entwicklung eine
katalytische Menge einer Schwefelverbindung enthalten.
Die DE-OS 28 18 354 beschreibt die Verwendung von
Mercaptoverbindungen als Entwicklungshilfsmittel in einer
lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht oder
einer darunter befindlichen Zwischenschicht.
Die GB-PS 13 73 415 beschreibt die Herstellung
lithografischer Druckplatten unter Verwendung einer
organische Mercaptoverbindungen enthaltenden
Behandlungslösung, die zu Zwecken der Verbesserung der
Druckfarbenannahme eines Silberbildes eingesetzt wird.
Die GB-OS 20 19 021 beschreibt den Zusatz einer
Mercaptoverbindung zu einer Silberhalogenidemulsion als
Stabilisator. Der Begriff "Stabilisator" dient in diesem
Zusammenhang lediglich als eine andere Bezeichnung für
"Antischleiermittel".
Die DE-OS 26 52 456 beschreibt lichtempfindliche
Druckplatten, wobei ganz allgemein erwähnt ist, daß die
hierbei verwendeten Silberhalogenidemulsionsschichten
verschiedene Zusätze, wie Antischleiermittel, enthalten
können.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen
lichtempfindlichen lithografischen Druckplattenvorläufer
zur Verfügung zu stellen, der eine ausgezeichnete
Lagerungsbeständigkeit aufweist, bei der Herstellung von
Druckplatten zu keiner Fleckenbildung führt und Druckplatten
ergibt, mit denen Drucke guter Qualität hergestellt werden
können.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einem
Druckplattenvorläufer der eingangs genannten Art gelöst, der
dadurch gekennzeichnet ist, daß das mittlere Gewicht des
Aluminiumoxidfilms mindestens 1 g/m² beträgt und daß die
organische Mercaptoverbindung in einer Gesamtmenge von
mindestens 1 mMol pro Mol Silberhalogenid enthalten ist.
Der hier verwendete Ausdruck "mittleres Gewicht" wird für
den Aluminiumoxidfilm verwendet, da der Aluminiumoxidfilm
genau genommen keine gleichmäßige Dicke aufweist.
Überraschenderweise hat sich gezeigt, daß bei einem
Druckplattenvorläufer, der erfindungsgemäß durch ein
bestimmtes mittleres Gewicht des Aluminiumoxidfilms sowie
durch eine bestimmte Menge einer organischen
Mercaptoverbindung gekennzeichnet ist, die Bildung von
Flecken besonders wirksam verhindert wird.
In einer vorsensibilisierten Druckplatte mit einer oder
mehreren anderen Schichten zusätzlich zu einer Silberhalogenid
enthaltenden lichtempfindlichen Schicht, wie
beispielsweise einer nicht-silberhaltigen lichtempfindlichen
Schicht oder einer Schutzschicht, kann die Fleckenbildung
durch Einarbeiten einer Mercaptoverbindung in
eine oder mehrere derartige Schichten verhindert werden.
Die erfindungsgemäß verwendete Mercaptoverbindung ist
eine organische Verbindung mit einer Mercaptogruppe und
umfaßt Mercaptoverbindungen, wie sie beispielsweise
beschrieben werden in C. E. K. Mees & T. H. James, The
Theory of the Photographic Process, 3. Auflage (1966),
und den US-PSn 26 97 040, 24 76 536, 17 58 576, 23 04 962,
28 43 491, 26 97 079 und 28 24 001. Unter diesen Verbindungen
sind Mercaptotetrazole, Mercaptotriazole und
Mercaptodiazole besonders bevorzugt.
Insbesondere werden vorzugsweise Mercaptoverbindungen der
folgenden Formeln (I) bis (IV)
verwendet
worin M ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetallatom
darstellt; A eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe
bedeutet; R ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe
oder eine substituierte Alkylgruppe bedeutet; Z eine Atomgruppe
darstellt, die einen aromatischen Ring vollendet,
der substituiert sein kann; Y ein zweiwertiges Heteroatom
bedeutet; und Q die Bedeutung von -SM, einer Aminogruppe,
einer Alkylaminogruppe, einer -SR-Gruppe oder einer -OR-Gruppe
hat.
Beispiele für das durch M in den vorstehenden Formeln
dargestellte Alkalimetallatom sind Natrium und Kalium.
Als durch A dargestellte Arylgruppe sind monocyclische
Arylgruppen (z. B. eine Phenylgruppe) bevorzugt, und Beispiele
für den Substituenten der Arylgruppe sind eine
Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen (z. B. eine
Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine
Isopropylgruppe, eine Butylgruppe, eine Amylgruppe),
eine Alkoxygruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen (z. B.
eine Methoxygruppe, eine Ethoxygruppe, eine Propoxygruppe),
ein Halogenatom (z. B. ein Chloratom, ein Bromatom),
und eine Alkancarboamidogruppe mit 2 bis 5 Kohlenstoffatomen
(z. B. eine Pentacarboamidogruppe). Auch
sind als durch R dargestellte Alkylgruppe Alkylgruppen mit
1 bis 8 Kohlenstoffatomen (z. B. eine Methylgruppe, eine
Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine
Butylgruppe, eine t-Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine
Hexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe) bevorzugt,
und Beispiele für den Substituenten für die Alkylgruppe
sind eine Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, ein
Halogenatom und eine Hydroxygruppe. Als durch Z dargestellter
aromatischer Ring sind ein Benzolring und ein Naphthalinring
bevorzugt, und Beispiele für den Substituenten für
den aromatischen Ring umfassen eine Alkylgruppe mit 1 bis
4 Kohlenstoffatomen (z. B. eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe,
eine Propylgruppe, eine Butylgruppe), eine
Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen (z. B. eine
Methoxygruppe, eine Ethoxygruppe), ein Halogenatom
(z. B. ein Chloratom, ein Bromatom), eine Carboxygruppe
und eine Sulfogruppe. Beispiele für das Heteroatom Y
umfassen -S-, und -O-,. Auch als Alkylaminogruppe, dargestellt
durch Q, ist eine Gruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen
bevorzugt, und R von -SR und -OR weist die gleiche
Bedeutung auf, wie für R in den vorstehenden Formeln (I)
bis (IV) beschrieben.
Unter den erfindungsgemäß verwendeten Mercaptoverbindungen
sind Verbindungen der Formeln (I) und (IV) besonders
bevorzugt.
Spezielle Beispiele für Mercaptoverbindungen, die erfindungsgemäß
geeignet sind, sind nachfolgend aufgeführt:
- (1) 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol
- (2) 1-(3-Pentacarboamidophenyl)-5-mercaptotetrazol
- (3) 3-Mercapto-4-phenyl-1,2,4-triazol
- (4) 3-Mercapto-5-methyl-4-phenyl-1,2,4-triazol
- (5) 3,4-Dimethyl-5-mercapto-1,2,4-triazol
- (6) 2-Mercapto-5-methylmercapto-1,3,4-thiadiazol
- (7) 2-Amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol
- (8) 2-Mercaptobenzothiazol
- (9) 2-Mercaptobenzimidazol
- (10) 2-Mercapto-5-methylbenzoylimidazol
- (11) 2-Mercapto-5-sulfobenzimidazol-natriumsalz.
Unter diesen Verbindungen sind die Verbindungen (1), (2),
(6) und (7) besonders bevorzugt.
Die Mercaptoverbindung wird in einem wasserlöslichen
organischen Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol oder 2-Methoxyethanol
oder einem organischen Lösungsmittel
wie Methylethylketon, gelöst und wird direkt zu
einer Überzugszusammensetzung zur Bildung einer Silberhalogenid
enthaltenden lichtempfindlichen Schicht oder
einer anderen Schicht, wie einer nicht-silberhaltigen
lichtempfindlichen Schicht, zugesetzt. Eine geeignete
Menge für die Mercaptoverbindung liegt im allgemeinen
bei 1 bis 50 mMol und besonders bevorzugt bei 1 bis 20 mMol
pro Mol Silberhalogenid.
Der erfindungsgemäß verwendete Aluminiumträger weist auf
seiner Oberfläche einen Aluminiumoxidfilm auf, der
vorzugsweise durch eine anodische Oxidationsbehandlung
ausgebildet wird.
Die vorstehende anodische Oxidationsbehandlung wird durch
Leiten eines elektrischen Stroms durch eine Aluminiumplatte
in einer wäßrigen Lösung oder einer nicht-wäßrigen
Lösung einer anorganischen Säure, wie Phosphorsäure, Chromsäure,
Schwefelsäure oder Borsäure; einer organischen
Säure, wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure; oder eines
Salzes einer Säure einzeln oder als Gemisch von zwei oder
mehreren Säuren oder Salzen durchgeführt und vorzugsweise
in einer wäßrigen Lösung von Phosphorsäure oder Schwefelsäure
oder einem Gemisch dieser Säuren.
Besonders bevorzugte Bedingungen für die anodische Oxidationsbehandlung
werden beispielsweise in der GB-PS 14 12 768
und in der US-PS 42 11 619 beschrieben. Auch kann eine Aluminiumplatte,
die in einem Chlorwasserstoffsäure-Elektrolyten
durch einen Wechselstrom elektrolysiert und anschließend
in einem Schwefelsäure-Elektrolyten wie in der GB-PS
12 08 224 anodisch oxidiert wurde, erfindungsgemäß bevorzugt
verwendet werden.
Aluminiumplatten, die erfindungsgemäß verwendet werden können,
umfassen eine Aluminiumplatte, die einer Körnungsbehandlung
oder einer Tauchbehandlung in einer wäßrigen
Lösung von Natriumsilikat, Kaliumfluorzirkonat oder einem
Phosphat unterzogen wurde; eine Aluminiumplatte, die
einer Tauchbehandlung in einer wäßrigen Lösung von Natriumsilikat
nach der Körnung, wie in der US-PS 27 14 066
beschrieben, unterzogen wurde; oder eine Aluminiumplatte,
die einer anodischen Oxidationsbehandlung und anschließend
einer Tauchbehandlung in einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats
unterzogen wurde, wie in der US-PS 31 81 461
beschrieben. Darüber hinaus ist es zur Verhinderung der
Schaumbildung während des Druckens bevorzugt, eine Unterschicht
aus einem Celluloseharz, das ein wasserlösliches
Salz eines Metalls, wie Zink, enthält, wie in der US-PS
38 60 426 beschrieben, auf der Aluminiumplatte, die nach
dem vorstehend beschriebenen Verfahren anodisch oxidiert
wurde, auszubilden.
Die Silberhalogenid enthaltende lichtempfindliche Schicht,
die auf einem derartigen Aluminiumträger über
eine nicht-silberhaltige lichtempfindliche Schicht ausgebildet
wurde, kann eine übliche Silberhalogenidemulsion
vom Negativ-Typ oder eine Silberhalogenidemulsion vom
Direktpositiv-Typ sein. Beispiele für das Silberhalogenid
umfassen Silberchlorid, Silberbromid,
Silberjodid und gemischte Silberhalogenide davon. Vorzugsweise
beträgt die mittlere Korngröße des Silberhalogenids
etwa 0,01 µm bis etwa 5 µm. Um den Silberhalogenidkörnern
eine geeignete Empfindlichkeit zu verleihen,
kann eine chemische Sensibilisierungstechnik, wie
eine Schwefelsensibilisierung, eine Reduktionssensibilisierung
oder die Sensibilisierung durch ein Salz eines
Edelmetalls, wie Ir, Rh oder Pt, oder eine spektrale
Sensibilisierung durch sensibilisierende Farbstoffe auf
die Silberhalogenidkörner angewendet werden. Die Silberhalogenidkörner
können Körner vom oberflächenlatenten
Bildtyp oder Körner vom inneren latenten Bildtyp sein.
Die Silberhalogenidemulsionen können mit Zusätzen versehen
werden, wie sie üblicherweise für Silberhalogenidemulsionen
verwendet werden.
Bevorzugte lichtempfindliche Silberhalogenidemulsionen,
die auf dem vorstehenden Aluminiumträger ausgebildet
werden, sind in den GB-PS 15 71 155 und 15 67 844
und in der US-PS 41 68 167 beschrieben, und Herstellungsverfahren
für Platten, für die vorsensibilisierten Druckplatten,
unter Verwendung derartiger Silberhalogenidemulsionen
sind dort ebenfalls genauer beschrieben.
Bevorzugte lichtempfindliche Silberhalogenidemulsionen,
die auf dem vorstehenden Aluminiumträger über eine nicht-silberhaltige
lichtempfindliche Schicht ausgebildet wurden,
werden auch in den JP-A-74 258/79,
90 053/79, 1 36 729/79, 1 26 970/79 und 1 48 368/79 beschrieben.
Die lichtempfindliche Silberhalogenidemulsion kann auf
den Aluminiumträger in einer Trockenbedeckung von etwa
1 bis 10 g/m² und vorzugsweise von 2 bis 6 g/m² aufgeschichtet
werden.
Zur Überzugsbildung der Silberhalogenidemulsion können
eine Tauchbeschichtung, Luftrakel- bzw. Schlitzdüsenauftragbeschichtung,
Vorhangbeschichtung,
Trichterbeschichtung und Strangpreß- bzw.
Extrusionsbeschichtung, wie in der US-PS 26 81 294 beschrieben,
angewandt werden.
Als nicht-silberhaltige lichtempfindliche
Schicht können
lichtempfindliche Schichten verwendet werden,
wie sie für übliche lichtempfindliche lithografische
Druckplattenvorläufer oder vorsensibilisierte Druckplatten
verwendet werden, und es können
oleophile Bilder in der lichtempfindlichen Schicht gebildet
werden. Der Ausdruck "oleophil"
bezeichnet eine Fähigkeit zum Abstoßen
einer wäßrigen Befeuchtungs- bzw. Dämpfungslösung
oder Wischlösung bei Aufnahmefähigkeit für ölige Druckfarbe.
Beispiele für derartige nicht-silberhaltige lichtempfindliche
Schichten umfassen (1) eine lichtempfindliche Schicht,
bestehend aus einem Diazoharz, (2) eine lichtempfindliche
Schicht, bestehend aus einem o-Chinondiazid, (3) eine
lichtempfindliche Schicht, bestehend aus einer lichtempfindlichen
Azidverbindung, (4) eine lichtempfindliche Schicht,
bestehend aus einem Polymeren mit einer Gruppe -CH=CH-CO-
in der Hauptkette oder einer Seitenkette des Polymeren
und (5) eine lichtempfindliche Schicht, bestehend aus
einer additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindung,
einem Fotopolymerisationsinitiator und einem Polymeren
als Bindemittel, wie in der GB-OS
20 30 309 beschrieben. Eine Zusammensetzung für die
nicht-silberhaltige lichtempfindliche Schicht wird in
einem organischen Lösungsmittel gelöst und auf den Aluminiumträger
in einer Trockenbedeckung von etwa 0,1 bis 5 g/m²
mittels einer bekannten Beschichtungsmethode aufgeschichtet.
Eine lithografische Druckplatte kann in folgender Weise
hergestellt werden unter Verwendung eines erfindungsgemäßen
lichtempfindlichen
Druckplattenvorläufers. Der lichtempfindliche,
Silberhalogenid enthaltende, lithografische
Druckplattenvorläufer wird zunächst in Bildform belichtet
unter Bildung eines latenten Bilds in der lichtempfindlichen
Schicht, die das Silberhalogenid enthält. Anschließend
wird die Silberhalogenidemulsionsschicht
entwickelt (erste Entwicklung) und direkt oder nach
dem Fixieren einer aktinischen Strahlung einschließlich
Ultraviolettstrahlen ausgesetzt. Anschließend wird die
Platte einer zweiten Entwicklung unterzogen, um selektiv
die Nicht-Bildanteile nur von der nicht-silberhaltigen
lichtempfindlichen Schicht abzulösen, wodurch eine hydrophile
Oberfläche des Trägers an den Nicht-Bildteilen freigesetzt
wird, unter Bildung einer Druckplatte. In diesem
Falle ist die Verarbeitungslösung, die für die zweite
Entwicklung verwendet wird, eine Lösung, die geeignet
ist, die Nicht-Bildanteile nur der nicht-silberhaltigen
lichtempfindlichen Schicht aufzulösen, und es wird vorzugsweise
ein Entwickler verwendet, der für die Entwicklung
üblicher vorsensibilisierter Druckplatten eingesetzt
wird. Beispielsweise ist im Falle einer vorsensibilisierten
Druckplatte, in der die nicht-silberhaltige lichtempfindliche
Schicht aus einer
o-Chinondiazidverbindung besteht, ein Entwickler, wie
in der US-PS 42 59 434 beschrieben, wie etwa eine wäßrige Lösung von
Natriumsilikat oder ein Entwickler, wie in der
US-PS 41 41 733 beschrieben, brauchbar.
Als ein weiteres Verfahren kann eine Stufe zum Abwaschen
der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht
auf der nicht-silberhaltigen lichtempfindlichen Schicht
gänzlich oder nur an den Nicht-Bildanteilen nach einer
Ultraviolettbelichtung angewendet werden. Anschließend
wird die Platte mit dem zweiten Entwickler behandelt, um
nur die nicht-belichteten Anteile selektiv abzulösen.
Die erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufer lösen das
Problem der Fleckenbildung. Wird eine lichtempfindliche
Silberhalogenidschicht direkt auf der Oberfläche eines
metallischen Aluminiums als Träger ausgebildet, so bilden
sich Schleier. Jedoch kann die Bildung eines Aluminiumoxidfilms
auf der Oberfläche der Aluminiumplatte, beispielsweise
durch eine anodische Oxidationsbehandlung,
die Schleierbildung beträchtlich verringern. Es wurde
gefunden, daß selbst für einen gekörnten Aluminiumträger
die Schleierbildung fast völlig verhindert werden kann, indem
der Aluminiumträger so gleichmäßig wie möglich
mit einem Aluminiumoxidfilm (über 1 g/m²) bedeckt wird. Wird
jedoch die vorsensibilisierte Druckplatte während längerer
Zeit gelagert, so entwickeln sich durch die Entwicklung
des Silberhalogenids Flecken. Die Bildung der Flecken kann
nicht verhindert werden unter Verwendung von Verbindungen,
wie sie gewöhnlich als Flecken verhindernde Mittel für
übliche Silberhalogenidemulsionen verwendet werden, z. B.
die Aldoximverbindungen, beschrieben in der US-PS 33 10 405.
Es wurde jedoch gefunden, daß durch Verwendung einer Mercaptoverbindung
gemäß der Erfindung die Fleckenbildung
verhindert werden kann. Eine Mercaptoverbindung bildet
eine Ausfällung eines schlecht löslichen Mercapto-Silbersalzes
mit einem Silberion und wird auch als Antischleiermittel
verwendet. Jedoch unter Verwendung von beispielsweise
5-Brombenzotriazol oder 6-Nitrobenzotriazol, die
ein schlecht lösliches Silbersalz mit einem Silberion
bilden und als Antischleiermittel verwendet werden, wie
im Falle der Mercaptoverbindung, kann die Bildung von
Flecken nicht verhindert werden. Mit anderen Worten, kann
unter Anwendung der Kombination der Verwendung der Mercaptoverbindung
und der Bildung eines Aluminiumoxidfilms
gemäß der Erfindung die Bildung von Flecken sehr wirksam
verhindert werden.
Die nachstehenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung
der Erfindung; Prozentangaben beziehen sich auf das Gewicht.
Eine mechanisch gekörnte Aluminiumplatte wurde 1 Minute
in eine wäßrige 2% Natriumhydroxidlösung, die bei 40°C
gehalten wurde, getaucht, um einen Teil der Oberfläche zu
korrodieren. Nach der Wäsche mit Wasser wurde die Aluminiumplatte
etwa 1 Minute in eine Lösung von Schwefelsäure
und Chromsäure getaucht, wodurch die reine Aluminiumoberfläche
freigesetzt wurde. Die Platte wurde anschließend in
eine 20% Schwefelsäurelösung, gehalten bei 30°C, getaucht,
und nach Anwendung einer anodischen Oxidationsbehandlung
während 2 Minuten unter Bedingungen einer Gleichstromspannung
von 1,5 Volt und einer Stromdichte von 3 A/cm² wurde
die Platte mit Wasser gewaschen und getrocknet. Anschließend
wurde eine lichtempfindliche Flüssigkeit der folgenden Zusammensetzung
kontinuierlich auf die Aluminiumplatte mit
einer Trockenbedeckung von 2 g/m² mittels eines Rakels vom
Extrusionstyp aufgeschichtet.
Naphthochinon-1,2-diazido(2)-sulfonsäureester von Aceton-Pyrogallolharz (hergestellt nach der Methode des Beispiels 1 der US-PS 36 35 709)|2,5 g | |
Kresol-Formaldehydharz | 5,0 g |
Methylethylketon | 75 g |
Cyclohexanon | 60 g |
Anschließend wurde jede der Silberhalogenidemulsionen
der folgenden Zusammensetzungen A bis E kontinuierlich
und gleichmäßig auf die Aluminiumplatte mit einer Trockenbedeckung
von 4,0 g/m² mittels einer Rakel vom Extrusionstyp
aufgeschichtet, und anschließend wurde 3 Minuten in
einem heißen Luftstrom von 80°C getrocknet zur Bildung
der Proben A bis E.
Zusammensetzung A | |
Emulsion hergestellt durch Auflösen von 25 g Phenol-Formaldehydharz und 25 g Dioctyladipat in einem Gemisch von 330 g Äthylacetat und 120 g Methylethylketon und Dispergieren der Lösung in einem Gemisch von 600 ml wäßriger 10% Gelatinelösung, 60 ml 10% Lösung von Natriumnonylbenzolsulfonat und 150 ml 10% methanolische Lösung von Türkischrotöl|1300 g | |
Gelatine-Silberchlorbromidemulsion (Silberchlorbromid von 70 Mol-% Cl⁻ und 30 Mol-% Br⁻, mittlere Korngröße von 0,28 µm, enthaltend 55 g Gelatine und 0,85 Mol Silberhalogenid pro Kilogramm der Emulsion) | 2000 g |
0,1% Methanollösung von 1,3-Diethyl-5-{2-[3-(3-sulfopropyl)-benzoxazol-2-iriden]-äthyliden}-thiohydantoin-natriumsalz | 100 ml |
0,5% wäßrige Lösung von 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetraazainden | 200 ml |
1% wäßrige Lösung von Glyoxal | 20 ml |
Die Zusammensetzungen B-E wurden hergestellt durch Zusatz
der nachfolgend angegebenen Verbindungen zu der vorstehenden
Zusammensetzung A, gefolgt von einem 30minütigen
Rühren.
Zusammensetzung B |
1% Methanollösung von 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol|70 ml |
Zusammensetzung C |
1% Methanollösung von 2-Mercapto-5-methylmercapto-1,3,4-thiadiazol|65 ml |
Zusammensetzung D |
1% Methanollösung von 5-Brombenzotriazol|78 ml |
Zusammensetzung E |
1% Methanollösung von 2-Diethylamino-4,6-dihydroxyamino-1,3,5-triazin|90 ml |
Jede der Proben A bis E, gebildet aus den Zusammensetzungen
A bis E, wurde 5 Tage unter den Bedingungen einer Temperatur
von 50°C und 80% relativer
Feuchte stehengelassen und anschließend wurden wie folgt
Druckplatten hergestellt.
Durch einen transparenten Negativfilm, erhalten durch Fotografieren
eines auf etwa ¹/₅ seiner Originalgröße verkleinerten
Buchstabenbildes, wurde die Probe 10 Sekunden
belichtet bei fünfmaliger Vergrößerung unter Verwendung
einer Vergrößerungsvorrichtung mit einer Lichtquelle von
300 Lux. Anschließend wurde die Probe der folgenden Verarbeitung
unterzogen unter Anwendung einer automatischen
Verarbeitungsvorrichtung. Die Probe wurde dabei durch
einen ersten Entwicklungsabschnitt, enthaltend den Entwickler
(I) mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung,
während 30 Sekunden bei 32°C geführt und anschließend
durch einen Fixierabschnitt, gefüllt mit der Fixierlösung
(I) mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung
während 10 Sekunden bei Raumtemperatur (etwa 20°C)
geführt. Anschließend wurde die Probe durch einen Ultraviolett-Belichtungsabschnitt
mit drei Quecksilber-Reflexionslampen
während 15 Sekunden geführt, mit einer
Bürste in einer Auswaschzone gerieben, wobei in Wasser
von 40 bis 45°C getaucht wurde, durch eine Quetschwalze
geführt, durch einen zweiten Entwicklungsabschnitt,
gefüllt mit dem Entwickler (II) mit der nachstehend
gezeigten Zusammensetzung während 30 Sekunden bei 30°C
geführt und anschließend mit einer wäßrigen Gummi-arabicum-Lösung
der Dichte 1,106 g/cm³ beschichtet unter Bildung einer lithografischen
Druckplatte.
Zusammensetzung des Entwicklers (I) | |
Wasser|700 ml | |
Metol (p-Methylaminophenolsulfat) | 3,0 g |
Natriumsulfit | 45,0 g |
Hydrochinon | 12,0 g |
Natriumcarbonat (Monohydrat) | 80,0 g |
Kaliumbromid | 2 g |
Wasser auf | 1 l |
Die flüssige Zusammensetzung des Entwicklers (I) wurde
mit Wasser verdünnt zur Verwendung (in einem Verhältnis
von Entwickler (I) zu Wasser=1 : 2 Vol.).
Entwickler (II) | |
Natriumsilikat (JIS Nr. 1)|100 g | |
Natriummetasilikat | 50 g |
reines Wasser | 1800 ml |
Fixierlösung (I) | |
Wasser|700 ml | |
Ammoniumthiosulfat | 224 g |
Natriumsulfit | 20 g |
Wasser auf | 1000 ml |
Unter Anwendung jeder der so erhaltenen Druckplatten wurde
ein Preßdruck durchgeführt.
Im Falle der Verwendung der lithografischen Druckplatten,
hergestellt aus den Proben B und C, erzielte man gute
Drucke mit 4 bis 5 Testdrucken, und es konnten etwa 110 000
Drucke erhalten werden.
Andererseits bildeten sich im Falle der lithografischen
Druckplatten, hergestellt aus den Proben A, D und E, Flecken
während der ersten Entwicklung in der Silberhalogenidemulsionsschicht,
die selbst auf dem letzten Druck in der
Nicht-Bildfläche verblieben, und daher konnten keine zufriedenstellenden
Drucke erzielt werden.
Aluminiumplatten wurden wie in Beispiel 1 behandelt und
einer anodischen Oxidationsbehandlung wie in Beispiel 1
während verschiedener Zeiten unterzogen, so daß das Gewicht
des gebildeten Oxidfilms 0 bis 3,0 g/m² betrug, um Träger
vorzusehen. Auf jedem der Träger wurde eine lichtempfindliche
Schicht wie in Beispiel 1 ausgebildet, die
Naphthochinon-1,2-diazido(2)-5-sulfonsäureester als
Hauptkomponente enthielt.
Anschließend wurde jede der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionen
mit der Zusammensetzung A wie in Beispiel 1
und den Zusammensetzungen F-I, die nachstehend gezeigt
werden, auf die vorstehend beschriebene lichtempfindliche
Schicht in einer Trockenbedeckung von 4,0 g/m² zur Bildung
der Proben A und F bis I aufgeschichtet.
Jede der Zusammensetzungen wurde hergestellt durch Zusatz
einer 1% Methanollösung von 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol
zur Zusammensetzung A in den nachstehend gezeigten Mengen.
Zusammensetzung | |
Menge | |
F | |
10 ml (0,33 mMol/Mol Silberhalogenid) | |
G | 30 ml (1 mMol/Mol Silberhalogenid) |
H | 70 ml (2,3 mMol/Mol Silberhalogenid) |
I | 150 ml (5 mMol/Mol Silberhalogenid) |
Nachdem jede so erhaltene Probe 5 Tage unter den Bedingungen
einer hohen Temperatur von 50°C und 80%
relativer Feuchte stehengelassen worden war, wurde jede
Probe in gleicher Weise wie in Beispiel 1 entwickelt,
ohne die bildweise Belichtung durchzuführen.
Die Anzahl der Flecken, die pro cm² der entwickelten Aluminiumplatten
ausgebildet waren, sind in der folgenden
Tabelle aufgeführt.
Eine Aluminiumplatte (2S) von 0,24 mm Dicke wurde 2 Minuten
in eine 5% wäßrige Lösung von tert.-Natriumphosphat
zur Entfettung eingetaucht. Die Platte wurde anschließend
mit Wasser gewaschen. Nach dem Körnen der Oberfläche
unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wäßrigen
Suspension von Glimmer (0,037 mm) wurde die
Platte mit Wasser gewaschen und in einer 10% wäßrigen
Natriumhydroxidlösung 20 Sekunden bei 50°C geätzt. Die
durchschnittliche Rauhheit betrug etwa 0,4 µm. Anschließend
wurde die Platte in eine wäßrige 30% Salpetersäurelösung
während 20 Sekunden bei Raumtemperatur getaucht.
Die Platte wurde einer anodischen Oxidationsbehandlung
während 5 Minuten in einer 15% Schwefelsäurelösung bei
einer Stromdichte von 2 A/dm² unterzogen unter Bildung
eines Oxidfilms von etwa 3 g/m². Anschließend wurde die
Platte in einer wäßrigen Lösung von 10% Phosphorsäure
während 23 Sekunden bei 58°C geätzt. Die geätzte Menge
betrug etwa 0,8 g/m².
Die Platte wurde in eine wäßrige Lösung von 2,4% Natriumsilikat
(JIS Nr. 3) während 60 Sekunden bei 70°C getaucht
und mit Wasser gewaschen und getrocknet. Anschließend wurde
eine Lösung der folgenden Zusammensetzung auf die Platte
in einer Bedeckung von etwa 20 mg/m² aufgeschichtet und
5 Minuten bei 120°C unter Bildung eines Trägers getrocknet.
7,5% wäßrige Lösung von kolloidalem Siliziumdioxid (mittlere Korngröße von 13,0 bis 14,0 nm bzw. 130 bis 140 Å, enthaltend 30% SiO₂)|500 ml | |
Carboxymethylcellulose (CMC) | 10 g |
Gelatine | 10 g |
Nickelacetat | 10 g |
10% wäßrige Lösung von Zitronensäure | 20 ml |
Wasser auf | 2 l |
Die vorsensibilisierte Druckplatte wurde durch Ausbildung
einer wie nachstehend beschriebenen lichtempfindlichen Schicht
auf dem Träger hergestellt.
Zu 1 kg einer Gelatine-Silberchlorbromid-Emulsion (enthaltend
30 g Silberchlorbromid von 30 Mol-% Silberchlorid
und 43 g Gelatine mit Orthosensibilisierung) wurden 10 g
4-Phenylcatechin bzw. 4-Phenylcatechol (Entwicklermittel),
10 g Trikresylphosphat, 10 g Vinylchlorid/Vinylacetat
(84/16 Mol-%) Copolymeres und 0,8 Natriumnonylbenzolsulfonat
(Dispergiermittel) gefügt, und das Gemisch wurde
in 30 g Äthylacetat dispergiert. Zu der emulgierten Dispersion
wurde eine Emulsion gefügt, die 20 g feine Polyäthylmethacrylatteilchen
(mittlere Teilchengröße von
0,2 µm) enthielt, erhalten durch eine Emulsionspolymerisation,
und das Gemisch wurde gleichmäßig
vermischt. Die so erhaltene Zusammensetzung wurde auf den
Träger in einer Trockenbedeckung von 3 g/m² unter Bildung
der Probe J aufgeschichtet.
Außerdem wurde eine zweite Zusammensetzung, wie vorstehend
beschrieben, mit 5,6 ml (etwa 2 mMol/Mol Silberchlorbromid)
einer 1% Methanollösung von 2-Mercapto-5-methylmercapto-1,3,4-thiadiazol
versetzt, und das Gemisch wurde auf einen
Träger in der gleichen Weise wie vorstehend beschrieben
zur Bildung der Probe K aufgeschichtet.
Jede der so erhaltenen Proben wurde 3 Tage bei 50°C und
80% relativer Feuchtigkeit gelagert und 3 Sekunden unter
Verwendung eines Originals eines Mikrofilms mit ¹/₅
Verkleinerungsverhältnis mittels einer fünfmaligen
Vergrößerungsprojektion belichtet. Anschließend wurde
die Probe 45 Sekunden bei 32°C unter Verwendung eines
Entwicklers der folgenden Zusammensetzung entwickelt
und während 30 Sekunden mit warmem Wasser von 40°C zur
Bildung eines Reliefbilds ausgewaschen.
Zusammensetzung des Entwicklers | |
wasserfreies Natriumcarbonat|112,5 g | |
Kaliumbromid | 1,5 g |
Natriumpolymetaphosphat | 1 g |
Wasser auf | 1000 ml |
pH-Wert 11,7 |
Anschließend wurde die Platte mit einer wäßrigen Gummi-arabicum-Lösung
der Dichte 1,106 g/cm³ behandelt unter Bildung einer
lithografischen Druckplatte. Unter Verwendung der so
erhaltenen Druckplatten wurde ein Preßdruck
durchgeführt.
Im Falle der Verwendung der aus der Probe J erhaltenen
Druckplatte bildeten sich Flecken auf jedem Druck in
den Nicht-Bildteilen, und es konnten keine zufriedenstellenden
Drucke erzielt werden. Andererseits erhielt man
im Falle der Verwendung der aus der Probe K hergestellten
Druckplatte gute Drucke vom Beginn des Druckens an, und
man erhielt 50 000 gute Drucke.
Die Probe L wurde in gleicher Weise wie für die Herstellung
der Probe A in Beispiel 1 beschrieben hergestellt,
wobei jedoch 0,12 g 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol zu der
Überzugszusammensetzung für die nicht-silberhaltige
lichtempfindliche Schicht gefügt wurden.
Es wurde eine lithografische Druckplatte in gleicher
Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung der Probe L
hergestellt, und es wurden Preßdrucke unter Verwendung
einer daraus hergestellten Druckplatte durchgeführt. In
diesem Falle erhielt man, wie im Falle der Drucke
aus der Probe B des Beispiels 1, gute Drucke.
Claims (8)
1. Lichtempfindlicher lithografischer Druckplattenvorläufer,
enthaltend einen Aluminiumträger mit einem Aluminiumoxidfilm
auf seiner Oberfläche, auf dem nacheinander
eine nicht-silberhaltige lichtempfindliche Schicht und
eine Silberhalogenid enthaltende lichtempfindliche Schicht
ausgebildet sind, wobei mindestens eine der lichtempfindlichen
Schichten eine organische Mercaptoverbindung enthält,
dadurch gekennzeichnet, daß das mittlere Gewicht
des Aluminiumoxidfilms mindestens 1 g/cm² beträgt und daß
die organische Mercaptoverbindung in einer Gesamtmenge von
mindestens 1 mMol pro Mol Silberhalogenid enthalten ist.
2. Lichtempfindlicher lithografischer Druckplattenvorläufer
nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
organische Mercaptoverbindung ausgewählt ist aus der Gruppe
von Mercaptotetrazolen, Mercaptotriazolen und Mercaptodiazolen.
3. Lichtempfindlicher lithografischer Druckplattenvorläufer
nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die organische Mercaptoverbindung dargestellt wird durch die
Formel (I), (II), (III) oder (IV):
worin M ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetallatom
darstellt; A eine Arylgruppe oder eine substituierte
Arylgruppe bedeutet; R ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe
oder eine substituierte Alkylgruppe bedeutet; Z eine
Atomgruppe darstellt, die einen aromatischen Ring, der
substituiert sein kann, vervollständigt; Y ein zweiwertiges
Heteroatom bedeutet; und Q -SM, eine Aminogruppe, eine
Alkylaminogruppe, eine -SR-Gruppe oder eine -OR-Gruppe
bedeutet.
4. Lichtempfindlicher lithografischer Druckplattenvorläufer
nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die organische
Mercaptoverbindung durch die Formel (I) dargestellt wird.
5. Lichtempfindlicher lithografischer
Druckplattenvorläufer nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die organische Mercaptoverbindung durch
die Formel (IV) dargestellt wird.
6. Lichtempfindlicher lithografischer Druckplattenvorläufer
nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die organische Mercaptoverbindung ausgewählt ist aus der
Gruppe von 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol,
1-(3-Pentacarboamidophenyl)-5-mercaptotetrazol,
2-Mercapto-5-methylmercapto-1,3,4-thiadiazol und 2-Amino-5-
mercapto-1,3,4-thiadiazol.
7. Lichtempfindlicher lithografischer
Druckplattenvorläufer nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die organische
Mercaptoverbindung in einer Menge von 1 bis 50 mMol pro Mol
Silberhalogenid enthalten ist.
8. Lichtempfindlicher lithografischer
Druckplattenvorläufer nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die organische
Mercaptoverbindung in einer Menge von 1 bis 20 mMol pro Mol
Silberhalogenid enthalten ist.
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