DE3032744A1 - Elektrisch isolierende unterlage mit hoher waermeleitfaehigkeit - Google Patents

Elektrisch isolierende unterlage mit hoher waermeleitfaehigkeit

Info

Publication number
DE3032744A1
DE3032744A1 DE19803032744 DE3032744A DE3032744A1 DE 3032744 A1 DE3032744 A1 DE 3032744A1 DE 19803032744 DE19803032744 DE 19803032744 DE 3032744 A DE3032744 A DE 3032744A DE 3032744 A1 DE3032744 A1 DE 3032744A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
particles
pad according
metal oxide
plate
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19803032744
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuru Hasegawa
Iwao Shiojiri Nagano Hiramatsu
Naoaki Machida Tokyo Ohishi
Toshiaki Sakaida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Publication of DE3032744A1 publication Critical patent/DE3032744A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3737Organic materials with or without a thermoconductive filler
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
    • H05K1/056Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate the metal substrate being covered by an organic insulating layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0209Inorganic, non-metallic particles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/256Heavy metal or aluminum or compound thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/256Heavy metal or aluminum or compound thereof
    • Y10T428/257Iron oxide or aluminum oxide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/269Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension including synthetic resin or polymer layer or component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31511Of epoxy ether
    • Y10T428/31529Next to metal
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/30Woven fabric [i.e., woven strand or strip material]
    • Y10T442/3382Including a free metal or alloy constituent
    • Y10T442/3415Preformed metallic film or foil or sheet [film or foil or sheet had structural integrity prior to association with the woven fabric]
    • Y10T442/3455Including particulate material other than fiber

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

SHOWA DENKO KABUSHIKI KAISHA
13-9, Shiba Daimon 1-chome,
Minato-ku, Tokyo, Japan
Elektrisch isolierende Unterlage mit hoher Wärmeleitfähigkeit
Die Erfindung betrifft eine elektrisch isolierende Unterlage mit hoher Wärmeleitfähigkeit, die im Bereich der Elektronik für die Herstellung von Schaltungstafeln oder Wärmeableitungstafeln benutzbar ist.
Mehrschichtmateriale aus Unterlagen und organischen Polymeren, wie Schichtstoffe aus Papierunterlage und einem Phenolharz oder Glasunterlage mit Epoxydharz oder keramische Materialien, wie Aluminiumoxidplatten, sind bisher als Unterlagen von gedruckten Schaltungen und Wärmesümpfen benutzt worden. Solches Unterlagematerial ist jedoch insofern mangelhaft, als es eine geringe Wärmeleitfähigkeit und eine ungenügende Wärmestrahlung hat und Elemente, die viel Wärme erzeugen, wie IC^ MSI^und LSI^ nicht in großer Dichte auf solchen Unterlagen angeordnet oder aufgepackt werden können. Daher sind Unterlagen entwickelt worden, die als Basis ein Metall besitzen, das in hohem Grade wärmewiderstandsfähig und wärmeleitend ist. Beispielsweise ist ein Schichtstoff entwickelt worden, der ein Metall und ein organisches Polymerisat aufweist, und eine metall-keramische Schichtplatte, die einen elektrisch isolierendem Aluminit-Film ausweist, der auf einer Aluminiumplatte gebildet ist. Diese Unterlagen sind aber ebenfalls
34 249 +)IS = Integrated circuit
LSI= Large scale integration
C/w. MSI= Medium scale integration
mangelhaft. Eei der erstgenannten Unterlage wächst der thermische Widerstand wegen des vorhandenen organischen Polymerisates, bei der zweiten Unterlage erhält der Aluininitfilm bei Erhöhung der Temperatur Risse, was zur Verschlechterung der elektrischen Isoliereigenschaften führt.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Unterlage zu schaffen, die einen niedrigen thermischen Widerstand und eine hohe elektrische Isolierfähigkeit hat.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß bei einer Unterlage aus einer thermisch gut leitenden Metallplatte und einem darauf gebildeten Film dieser Film aus einer Dispersion von Metalloxidteilchen besteht, deren Formfaktor 1 bis 1,4 ist und die eine Polyeder-Form mit glatten Flächen in einem organischen Oolymeren Klebstoff aufweist.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnungen erläutert.
Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch eine elektrisch isolierende Unterlagen gemäß der Erfindung,
Fig. 2 -(a) zeigt einen Querschnitt durch eine übliche elektrisch isolierende Unterlage,
Fig. 2 -(b) zeigt einen Querschnitt durch eine vergleichbare elektrisch isolierende Unterlage,
Fig. 3 zeigt einen Querschnitt durch eine Anordnung zum Messen der thermischen Leitfähigkeit der Unterlage.
Wie bereits oben erwähnt, haben Unterlagen aus Metall und einem organischen Polymerisat den Mangel, daß der thermische Widerstand groß ist. Wenn das organische Polymerisat elektrisch isolierendes anorganisches Füllmaterial von guter
130012/0806
Wärmeleitfähigkeit enthält, z.B. Aluminiumoxid oder Silikat, kann der thermische Widerstand verringert werden. Da jedoch üblicher anorganischer Füllstoff durch Trocken- oder Naß-Pulverisieren erzeugt wird, haben seine Partikel komplizierte Oberflächen mit Vorsprüngen und Höhlungen, so daß die Partikel die Unterlage in der Regel nur an einzelnen Punkten berühren. Das zeigt schematisch die Fig. 2 -(a), die eine Unterlage zeigt, die aus einer Aluminiumplatte 1 und einem organischen Polymerisatfilm 2 besteht, der Partikel 5 aus anorganischem Material, z.B. Aluminiumoxid oder Silikat enthält. Die Füllstoffpartikel 5 berühren die Aluminiumplatte 1 nur an Punkten 6. Daher wird, obwohl das Füllmaterial an sich eine gute thermische Leitfähigkeit hat, die Wärme nicht genügend zur Metallplatte geleitet.
Gemäß der Erfindung besteht der anorganische Füllstoff aus Partikeln, die einen bestimmten Formfaktor und eine Polyeder-Form haben, z.B. rechteckigen, fünfeckigen, sechseckigen oder achteckigen Querschnitt, wobei die Flächen glatt sind. Infolgedessen ergeben sich Flächenberührungen zwischen den Partikeln und der Grundplatte, wodurch die thermische Leitfähigkeit wesentlich erhöht wird.
Die in Fig. 1 dargestellte Unterlage gemäß der Erfindung zeigt eine Metallplatte 1, beispielsweise eine oberflächenoxidierte Aluminiumplatte, die eine Schicht 2 aus organischem Polymerisat trägt, die einen Füllstoff aus Metalloxidpartikeln 3 enthält, deren Formfaktor 1 bis 1,4 beträgt, und deren Flächen glatt sind. Eine der Flächen 4 der polyedrischen Partikel hat Flächenberührung mit der Aluminiumplatte 1.
Der vorgenannte "Formfaktor" wird in folgender Weise bestimmt. Partikel werden auf einer ebenen Fläche verteilt und an jedem Partikel wird die größte Länge und die dazu rechtwinklig liegende Breite gemessen entsprechend der mikroskopischen Vergrößerungsmethode gemäß JIS (Japanese Industrial Standard) R-6OO2. Darauf wird das Verhältnis dieser Werte errechnet. Die Anzahl der gemessenen Partikel ist in der Regel 200.
130012/0806
Die Messung der Länge und Breite erfolgt in einem Zustand, in dem die Teilchen lagefest auf der ebenen Platte liegen. Wenn dies Verhältnis kleiner als 1,4 ist, werden auch plattenförmige Teilchen berücksichtigt. Wenn das Verhältnis den Wert von 1,4 überschreitet, ergibt sich eine zu geringe Wärmeleitfähigkeit, so daß solche Teilchen für Unterlagen gemäß der Erfindung nicht benutzt werden. Fig. 2 -(b) zeigt, daß Partikel 7, die einen großen Formfaktor haben, einander teilweise überlappen, wobei die Überlappungsflächen in der Regel klein sind, so daß die Wärmeleitfähigkeit vermindert wird. Bei Verwendung von plattenförmigen Teilchen mit einem Formfaktor von weniger als 1,4 ergeben sich dagegen großflächige Kontakte zwischen den Partikeln und der Metallunterlage. Wenn solche Partikel einander teilweise überlappen, ist die Berührungsfläche zwischen ihnen groß, da die Fülleigenschaft der Partikel gut ist, und dadurch ergibt sich eine gute Wärmeleitfähigkeit.
Die Fig. 1 und 2 -(a) zeigen einen Zustand, in dem die Partikel in dem organischen Polymerisat 1 in einer Lage angeordnet sind. Natürlich können die Partikel zufallsverteilt und in mehreren Lagen in der Polymerisatschicht 2 liegen, entsprechend der Größe der Partikel. In solchem Fall sollten die Flächen der Partikel einander berühren. Bei glatten Seitenflächen der Partikel ergeben sich natürlich größere Berührungsflächen zwischen den Partikeln und somit eine Vergrößerung der Wärmeleitfähigkeit.
Die Größe der Partikel soll ein gewisses Maß nicht überschreiten. In der Regel ist es zweckmäßig, Partikel zu verwenden, die nicht größer als 200 Mikron ist, wobei vorzugsweise Partikel benutzt werden, deren Größe unter 100 Mikron liegt. Andererseits soll die Größe der Partikel nicht zu gering sein, weil sonst der gewünschte Effekt verringert wird.. Vorzugsweise sollen die Partikel eine Größe haben, die nicht kleiner ist als 2 Mikron.
130012/0806
Vorzugsweise werden Partikel aus einem Material verwendet, dessen thermische Leitfähigkeit hoch ist.
Als Material für die Partikel können insbesondere Metalloxide aus der Gruppe A1„O_, SiO„ und TiO2 verwendet werden. Korundum-Partikel (Al OJ sind besonders geeignet, weil polyedrische und plattenförmige Partikel leicht durch hydrothermische Synthese hergestellt werden können.
Als Platte 1 kann eine Platte aus Aluminium, Kupfer, Silber, Nickel, Titan oder Eisen benutzt werden. Aus Gründen des Preises und Gewichtes empfiehlt sich die Benutzung einer Platte aus Aluminium, oberflächenoxidiertes Aluminium oder Stahl. Solche Metallplatten haben vorzugsweise eine Dicke von 0,5 bis 3 mm.
Als organischen Copolymer-Klebstoff können z.B. Kunstharze wie Epoxyd und Phenolharze sowie Kunstgummi, z.B. Silikongummi verwendet werden.
Wenn die in dem organischen Polymerisat dispergierten Metalloxid-Partikel gering ist, ist die thermische Leitfähigkeit gering. Andererseits ist es schwierig, einen Film ausreichender Festigkeit aus dem organischen Polymerisat herzustellen, wenn die darin dispergierte Menge von Metalloxid-Partikeln groß ist. Daher ist es zweckmäßig, in dem Polymerisat 5 bis 55 %, vorzugsweise 10 bis 50 % Partikel, berechnet auf das Gesamtvolumen zu dispergieren. Ein Volumen von 2 bis 30 % des von den Partikeln eingenommenen Volumens von 5 bis 55 % kann eingenommen werden von üblichem feinen Keramikpulver, z.B. hexagonalem Bornitrid, Berylliumoxid oder Siliziumoxid, deren Größer geringer ist als die der Metalloxid-Partikel, wobei zu beachten ist, daß durch die Beimischung die Festigkeit des Films nicht zu sehr verringert wird. Solche feinen Partikel können sich zwischen die Metalloxidteilchen legen und die thermische Leitfähigkeit des Films erhöhen.
130012/0806
Die Dispersion der Metalloxidteilchen im organischen Polymerisat kann auf ein Glasfasermaterial, z.B. ein Glasfasergewebe aufgebracht werden. Ein solches Glasfasergewebe kann mit der Metallplatte derart verbunden werden, daß die Oberfläche, auf der die Dispersion aufgebracht ist, die Metallplatte berührt. Wenn die Dispersion auf dem Glasfasergewebe angebracht ist, ist die Dicke des Dispersionsfilms und daher der thermische Widerstand sowie die Durchschlagspannung des Gesamtfilms in vorteilhafter Weise gleichförmig. Die Dicke des Films kann entsprechend der beabsichtigten Benutzung der Unterlage verschieden sein; in der Regel wird sie zwischen 0,01 bis 0,2 mm, vorzugsweise zwischen 0,01 und 0,1 mm liegen.
Im folgenden wird ein Verfahren zur Herstellung des Films der Unterlage gemäß der Erfindung beschrieben. Aluminiumoxid, Siliziumoxid und Titanoxid, polyederförmige Partikel, die körnig oder plattenförmig sind, und einen Formfaktor von 1 bis 1,4 haben, können durch hydrothermale Synthese hergestellt werden. Beispielsweise können solche Aluminiumoxid-Partikel, bei denen die meisten Flächen glatt sind, hergestellt werden mit dem Verfahren, das in der offengelegten japanischen Patentanmeldung Nr. 15498/77 (US-Patent 4 193 768) beschrieben ist, und plattenförmige Aluminiumoxid-Partikel können hergestellt werden nach dem in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 7750/62 beschriebenen Verfahren.
Diese Partikel werden ausreichend gemischt und in dem vorgenannten organischen Polymerisat dispergiert und ein Härtemittel und gegebenenfalls andere Zusätze der Dispersion zugesetzt. Die Dispersion wird auf eine oder beide Seiten der Metallplatte durch Sprühen oder Drucken aufgebracht und dann getrocknet und gehärtet.
Wenn die erfindungsgemäße Unterlagen für eine gedruckte Schaltung benutzt werden soll, wird eine Kupferfolie oder
130012/0806
eine mit Kupfer überzogene Schicht auf die Oberfläche des Films aufgebracht und darauf die Schaltung gedruckt. Wenn die Erfindungsgemäße Unterlage für einen Wärmesumpf benutzt werden soll, wird seine eine Seite oder beide Seiten mit einem wärmabgebenden Fett bedeckt und die Unterlage wird zwischen einem Transistor und einem Wärmesumpf befestigt. Wenn bei der erfxndungsgemäßen Unterlage der Film einen Gummiklebstoff enthält, kann für manche Benutzungsarten auf die Anwendung eines solchen Fettes verzichtet werden.
Beispiel 1
Korundum-Partikel werden mittels hydrothermischer Synthese hergestellt bei Benutzung von Aluminiumhydroxid als Rohmaterial und Bayer-Aluminiumoxid als Keimkristalle. Diese Korundum-Partikel werden als die Metalloxid-Partikel verwendet. Die meisten dieser Partikel sind Polyederkörper mit glatten Oberflächen. Ein solches Verfahren ist beschrieben in der offengelegten japanischen Patentanmeldung Nr. 1549 8/77. Die Tabelle 1 zeigt Eigenschaften dieser Partikel.
25Og dieser Partikel werden sorgfältig gemischt mit 10Og Epoxydharz (Epikote 828 der Shell Chemicals Co). Die Partikel nehmen 38 % der Mischung ein. Ein Imidazole-Härter (hergestellt von Shikoku Kasei K.K.) wird der Mischung zugesetzt. Mit diesem Erzeugnis wird eine Seite einer Alumilit-behandelten Aluminiumplatte, die eine Dicke von 1 mm hat, beschichtet und zwar durch Aufsprühen und durch Aufstreichen. Die Dicke des so erzeugten Films war 0,06 mm.
Zum Vergleich wurde eine Unterlage in der gleichen Weise wie vorstehend beschrieben erzeugt, jeoch mit dem Unterschied, daß anstelle des Korundums ein elektrisch geschmolzenes Aluminiumoxid benutzt wird.
130012/080Θ
Die sich bei der Verwendung dieser beiden Unterlagen ergebenden Temperaturdifferenzen wurden bestimmt mittels der in Fig. 3 dargestellten Vorrichtung, um so die Unterlagen bezüglich ihrer thermischen Leitfähigkeit zu vergleichen. In Fig. 3 ist ein Transistor 10 des Typs T03 auf der Oberseite der hergestellten Unterlage 11 aufgebracht. Die Unterseite der Auflage 11 war verbunden mit einem aus Aluminium bestehenden Wärmesumpf 12. Um eine dichte Anlage zu erhalten, wurde ein wärmeabgebendes Silikonfett zwischen dem Transistor 10 und der Unterlage 11 vorgeshen. Der Temperaturgradient der vom Transistor erzeugten Temperatur wurde bestimmt und die thermische Leitfähigkeit wurde abgeschätzt auf der Grundlage der Temperaturunterschiede zwischen den Punkten A und B der Fig. 3. Die Tabelle 1 zeigt die Ergebnisse.
Tabelle 1
Art der
Partikel
Größe der
Partikel (,u)
Oberfläche
der Partikel
Erfindung
Korund durch
hydrothermische
Synthese
4-16
Polyeder mit glatten Seiten
Formfaktor 1,10
Temperaturdifferenz (0C) 2,5
1,30
1,6
Vergleich
pulverisiertes elektrogeschmolzenes Aluminiumoxid
4-17
unregelmäßige Seiten mit Vorsprüngen und Höhlungen
1,65
3,5
130012/0806
Beispiel 2
In 500 ecm eines Siliziumoxid-Sols mit einer Partikelgröße vo 15 m,u und einer Konzentration von 20% ist 3 g Siliziumoxid-Pulver, dessen Partikelgröße 3 η ist, zugesetzt; diese Mischung wird in einem Autoklaven auf 400°C unter einem Druck von 400 kg/cm erhitzt zur Herstellung von Hydrothermal-Synthese-Siliziumoxid. Eine Unterlage wurde in der gleichen Weise hergestellt, wie es im Beispiel 1 geschildert ist mit der Ausnahme, daß dies Siliziumoxid benutzt wurde anstatt des Korunds. Die thermische Leitfähigkeit wurde in gleicher Weise ermittelt wie beim Beispiel 1. Zum Vergleich wurde eine Unterlage in der gleichen Weise hergestellt, wie dies im Beispiel 1 beschrieben ist, jedoch mit der Ausnahme, daß pulverisiertes Siliziumoxid benutzt wurde anstelle des durch hydrothermale Synthese erzeugten Siliziums. Die Tabelle zeigt die Ergebnisse.
Tabelle 2
Erfindung Vergleich
Art der
Partikel
Silizium durch
hydrothermische
Synthese
pulverisiertes
Silizium
Größe der
Partikel (,u)
6-14 6-14
Oberfläche
der Partikel
glattes Polyeder unregelmäßige
Seiten mit Vor-
sprüngen und
Höhlungen
Formfaktor 1,15 1,35 1,5
Temperatur
differenz (0C)
3,0 3,2 2,9
130012/0806
Beispiel 3
Dieses Beispiel unterscheidet sich von dem Beispiel 1 dadurch, daß eine 1 mm dicke Eisenplatte als Metallplatte benutzt wurde. Die Tabelle 3 zeigt die Ergebnisse.
Tabelle 3
Erfindung Vergleich
Axt der
Partikel
Silizium durch
hydrothermisehe
Synthese
pulverisiertes
Silizium
Größe der
Partikel ( ,u)
5-60 6-14
Oberfläche
der Partikel
glattes Polyeder unregelmäßige
Seiten mit Vor
sprüngen und
Höhlungen
Formfaktor 1,10 1,30 1 ,65
lemperatur-
differenz (0C)
3,0 3,1 4,2
130012/0806

Claims (10)

  1. COHAUSZ & FLORACK 303 ! "44
    PATENTANWALTS BÜRO
    SCHUMANNSTR. 97 . D-4000 DÜSSELDORF
    Telefon: (0211) 683346 Telex.08586513 cop d
    PATENTANWÄLTE:
    Dipl-Ing. W. COHAUSZ - Dipl.-Ing. R. KNAUF · Dipl.-Ing. H. B. COHAUSZ · Dipl.-Ing. D. H. WERNER
    Ansprüche:
    ( 1 Λ Elektrisch isolierende Unterlage mit hoher Wärme- ^-^ leitfähigkeit, dadurch gekennz e i chnet, daß sie aus einer thermisch gut leitenden Metallplatte und einem darauf gebildeten Film besteht, und daß dieser Film aus einer Dispersion von Metalloxidteilchen besteht, deren Formfaktor 1 bis 1,4 ist und eine Polyeder-Form mit glatten Flächen in einem organisch polymeren Klebstoff aufweist.
  2. 2. Unterlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Metalloxid aus der die Verbindungen Al3O3, SiO3 und TiO3 umfassenden Gruppe stammt.
  3. 3. Unterlage nach Anspruch 2, d a d u>r c h gekennzeichnet, daß das Metalloxid ein durch hydrothermale Synthese erzeugtes Korund ist.
  4. 4. Unterlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, d a durch gekennzeichnet, daß die Partikel eine Größe von im wesentlichen 2 bis 200 Mikron haben.
    249
    C/w.
    130012/0808
    ORIGINAL INSPECTED
  5. 5. Unterlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, d a durch gekennzeichnet, daß das von den Metalloxid-Partikeln eingenommene Volumen des Films in der Größenordnung von 5 bis 55% liegt.
  6. 6. Unterlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß 2 bis 30% des von den Partikeln eingenommenen Volumens aus üblichem feinem keramischem Puder besteht, dessen Partikel kleiner sind als die Metalloxid-Partikel.
  7. 7. Unterlage nach einem der Ansprüche 1 bis 6, d a durch gekennzeichnet, daß die Dicke des Films in der Größenordnung von 0,01 bis 0,2 mm liegt.
  8. 8. Unterlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, d a durch gekennzeichnet, daß die gut wärmeleitende Metallplatte aus Aluminium, aluminiumoxidbeschichtetem Aluminium oder Eisen besteht.
  9. 9. Unterlage nach einem der Ansprüche 1 bis 8, d a durch gekennzeichnet, daß die Dispersion auf einem Glasfiebergewebe aufgebracht ist, das mit der gut wärmeleitenden Platte derart verbunden ist, daß die mit der Dispersion beschichtete Oberfläche auf der Platte liegt.
  10. 10. Unterlage nach einem der Ansprüche 1 bis 8, d a durch gekennzeichnet, daß die auf der gut wärmeleitenden Metallplatte liegenden Metalloxidpartikel in Flächenberührung mit dieser Platte stehen.
    130012/0806
    INSPECTED
DE19803032744 1979-08-30 1980-08-30 Elektrisch isolierende unterlage mit hoher waermeleitfaehigkeit Withdrawn DE3032744A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10966679A JPS5635494A (en) 1979-08-30 1979-08-30 High heat transfer electric insulating substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3032744A1 true DE3032744A1 (de) 1981-03-19

Family

ID=14516078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803032744 Withdrawn DE3032744A1 (de) 1979-08-30 1980-08-30 Elektrisch isolierende unterlage mit hoher waermeleitfaehigkeit

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4307147A (de)
JP (1) JPS5635494A (de)
DE (1) DE3032744A1 (de)
FR (1) FR2464540A1 (de)
GB (1) GB2060435B (de)
NL (1) NL8004908A (de)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3520945A1 (de) * 1985-06-12 1986-12-18 Anton Piller GmbH & Co KG, 3360 Osterode Traegerelement zur aufnahme elektrischer und/oder elektronischer bauteile und/oder schaltungen
DE3522084A1 (de) * 1985-06-20 1987-01-02 Siemens Ag Elektrisch isolierende, gut waermeleitende kunststoffmasse mit als fuellstoff enthaltenen aluminiumpulverpartikeln sowie ein verfahren zu ihrer herstellung
DE4012100A1 (de) * 1990-04-14 1991-10-17 Standard Elektrik Lorenz Ag Leiterplatte mit einer kuehlvorrichtung und verfahren zur herstellung derselben
DE4215084A1 (de) * 1991-05-08 1992-11-12 Fuji Electric Co Ltd Metallische printplatte
DE4416403A1 (de) * 1994-05-09 1995-11-23 Schweizer Electronic Ag Kühlvorrichtung für eine Leiterplatte und Verfahren zum Herstellen einer solchen Kühlvorrichtung
DE19528459A1 (de) * 1995-08-03 1997-02-13 Garufo Gmbh Leuchtaggregat
DE10065857A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-18 Siemens Ag Wärmeableitung aus Kunststoffgehäusen elektronischer Baugruppen
DE10340705A1 (de) * 2003-09-04 2005-04-21 Fela Hilzinger Gmbh Leiterplat Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte und Leiterplatte mit einem Metallträger als Leiterplattenkern
DE19860322B4 (de) * 1997-12-25 2005-06-02 Yazaki Corp. Anordnung zur Abführung von in einem PTC-Element entstehender Wärme
DE102005030479B3 (de) * 2005-06-28 2006-11-02 Armin Mang Mit Kunstmarmorschicht versehene Metallplatten und Verfahren zu deren Herstellung

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58119692A (ja) * 1982-01-08 1983-07-16 東芝ケミカル株式会社 印刷配線板
US4463084A (en) * 1982-02-09 1984-07-31 Alps Electric Co., Ltd. Method of fabricating a circuit board and circuit board provided thereby
FI64878C (fi) * 1982-05-10 1984-01-10 Lohja Ab Oy Kombinationsfilm foer isynnerhet tunnfilmelektroluminensstrukturer
JPS58216059A (ja) * 1982-06-10 1983-12-15 工業技術院長 体液浄化装置
US4767674A (en) * 1984-01-27 1988-08-30 Dainichi-Nippon Cables, Ltd. Metal cored board and method for manufacturing same
US4670339A (en) * 1984-06-04 1987-06-02 Advanced Technology Laboratories, Inc. Electrically conductive thin epoxy bond
DE3422435A1 (de) * 1984-06-16 1986-01-16 B. Braun Melsungen Ag, 3508 Melsungen Verfahren und vorrichtung zur selektiven abtrennung pathologischer und/oder toxischer spezies aus blut oder blutplasma unter verwendung von filterkerzen
US4726991A (en) * 1986-07-10 1988-02-23 Eos Technologies Inc. Electrical overstress protection material and process
US5340781A (en) * 1986-07-14 1994-08-23 Showa Denko Kabushiki Kaisha Spherical corundum particles, process for preparation thereof and rubber or plastic composition having high thermal conductivity and having spherical corundum paticles incorporated therein
US4888247A (en) * 1986-08-27 1989-12-19 General Electric Company Low-thermal-expansion, heat conducting laminates having layers of metal and reinforced polymer matrix composite
US4870121A (en) * 1987-10-26 1989-09-26 Canadian Patents & Development Ltd. Electrical tree suppression in high-voltage polymeric insulation
US5019675A (en) * 1989-09-05 1991-05-28 Xerox Corporation Thick film substrate with highly thermally conductive metal base
EP0511162A1 (de) * 1991-04-24 1992-10-28 Ciba-Geigy Ag Wärmeleitende Klebfilme, Laminate mit wärmeleitenden Klebschichten und deren Verwendung
WO1993024314A1 (en) * 1992-06-01 1993-12-09 Motorola, Inc. Thermally conductive printed circuit board
FR2694839A1 (fr) * 1992-08-14 1994-02-18 Protex Manuf Prod Chimiq Utilisation de corindon brun comme charge thermoconductrice dans des compositions polymères, en particulier des compositions d'enrobage électriquement isolantes.
US5660917A (en) 1993-07-06 1997-08-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Thermal conductivity sheet
JP2756075B2 (ja) * 1993-08-06 1998-05-25 三菱電機株式会社 金属ベース基板およびそれを用いた電子機器
DE4401608C1 (de) * 1994-01-20 1995-07-27 Siemens Ag Thermisch leitende, elektrisch isolierende Klebeverbindung, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US5691402A (en) * 1996-09-13 1997-11-25 Composite Technology Group, Llc Composite tooling material having vinyl ester resins and fillers
JPH11106516A (ja) * 1997-09-30 1999-04-20 Ngk Insulators Ltd プラスチック・セラミック複合材
WO1999016813A1 (fr) * 1997-09-30 1999-04-08 Ngk Insulators, Ltd. Materiau composite plastique/ceramique
US6048919A (en) 1999-01-29 2000-04-11 Chip Coolers, Inc. Thermally conductive composite material
US6309587B1 (en) 1999-08-13 2001-10-30 Jeffrey L. Gniatczyk Composite molding tools and parts and processes of forming molding tools
US6620497B2 (en) 2000-01-11 2003-09-16 Cool Options, Inc. Polymer composition with boron nitride coated carbon flakes
US20010049028A1 (en) * 2000-01-11 2001-12-06 Mccullough Kevin A Metal injection molding material with high aspect ratio filler
US6680015B2 (en) * 2000-02-01 2004-01-20 Cool Options, Inc. Method of manufacturing a heat sink assembly with overmolded carbon matrix
TW504497B (en) * 2000-05-23 2002-10-01 Sumitomo Chemical Co Alpha-alumina powder and heat-conductive sheet containing the same
WO2001096458A1 (de) * 2000-06-16 2001-12-20 Siemens Aktiengesellschaft Füllstoff für wärmeleitende kunststoffe, wärmeleitender kunststoff und herstellungsverfahren dazu
US6710109B2 (en) * 2000-07-13 2004-03-23 Cool Options, Inc. A New Hampshire Corp. Thermally conductive and high strength injection moldable composition
JP4645726B2 (ja) * 2008-05-19 2011-03-09 パナソニック電工株式会社 積層板、プリプレグ、金属箔張積層板、回路基板及びled搭載用回路基板
JP4788799B2 (ja) * 2009-04-24 2011-10-05 パナソニック電工株式会社 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、コンポジット積層板、金属箔張積層板、回路基板及びled搭載用回路基板
FR2934705B1 (fr) * 2008-07-29 2015-10-02 Univ Toulouse 3 Paul Sabatier Materiau solide composite electriquement conducteur et procede d'obtention d'un tel materiau
JPWO2013183671A1 (ja) * 2012-06-08 2016-02-01 日立化成株式会社 半導体装置の製造方法
WO2015056523A1 (ja) * 2013-10-17 2015-04-23 住友ベークライト株式会社 エポキシ樹脂組成物、樹脂層付きキャリア材料、金属ベース回路基板および電子装置
DE102014107909A1 (de) * 2014-06-05 2015-12-17 Infineon Technologies Ag Leiterplatten und Verfahren zu deren Herstellung
KR102538902B1 (ko) 2016-02-24 2023-06-01 삼성전기주식회사 전자부품 및 그의 제조방법
US10355175B2 (en) * 2016-03-10 2019-07-16 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Light emitting device
JPWO2021200585A1 (de) * 2020-04-01 2021-10-07

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE632250A (de) * 1962-05-21
NL294831A (de) * 1962-08-01 1900-01-01
US3427189A (en) * 1965-03-10 1969-02-11 Atomic Energy Commission Radiation resistant insulation
US3511690A (en) * 1967-06-05 1970-05-12 Nat Presto Ind Production of polytetrafluoroethylene-containing coatings on metallic bases
US3808042A (en) * 1970-06-05 1974-04-30 Owens Illinois Inc Multilayer dielectric
GB1321010A (en) * 1971-05-27 1973-06-20 Int Electronic Res Corp Method of manufacturing metal core printed circuit board

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3520945A1 (de) * 1985-06-12 1986-12-18 Anton Piller GmbH & Co KG, 3360 Osterode Traegerelement zur aufnahme elektrischer und/oder elektronischer bauteile und/oder schaltungen
DE3522084A1 (de) * 1985-06-20 1987-01-02 Siemens Ag Elektrisch isolierende, gut waermeleitende kunststoffmasse mit als fuellstoff enthaltenen aluminiumpulverpartikeln sowie ein verfahren zu ihrer herstellung
DE4012100A1 (de) * 1990-04-14 1991-10-17 Standard Elektrik Lorenz Ag Leiterplatte mit einer kuehlvorrichtung und verfahren zur herstellung derselben
DE4215084A1 (de) * 1991-05-08 1992-11-12 Fuji Electric Co Ltd Metallische printplatte
DE4416403C2 (de) * 1994-05-09 2000-07-13 Schweizer Electronic Ag Kühlvorrichtung für eine Leiterplatte und Verfahren zum Herstellen einer solchen Kühlvorrichtung
DE4416403A1 (de) * 1994-05-09 1995-11-23 Schweizer Electronic Ag Kühlvorrichtung für eine Leiterplatte und Verfahren zum Herstellen einer solchen Kühlvorrichtung
DE19528459A1 (de) * 1995-08-03 1997-02-13 Garufo Gmbh Leuchtaggregat
DE19528459C2 (de) * 1995-08-03 2001-08-23 Garufo Gmbh Kühlung für ein mit LED's bestücktes Leuchtaggregat
DE19860322B4 (de) * 1997-12-25 2005-06-02 Yazaki Corp. Anordnung zur Abführung von in einem PTC-Element entstehender Wärme
DE10065857A1 (de) * 2000-12-22 2002-07-18 Siemens Ag Wärmeableitung aus Kunststoffgehäusen elektronischer Baugruppen
DE10065857B4 (de) * 2000-12-22 2005-04-14 Siemens Ag Wärmeübertragungsanordnung für ein Kuststoffgehäuse elektronischer Baugruppen
DE10340705A1 (de) * 2003-09-04 2005-04-21 Fela Hilzinger Gmbh Leiterplat Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte und Leiterplatte mit einem Metallträger als Leiterplattenkern
DE10340705B4 (de) * 2003-09-04 2008-08-07 Fela Hilzinger Gmbh Leiterplattentechnik Metallkernleiterplatte und Verfahren zum Herstellen einer solchen Metallkernleiterplatte
DE102005030479B3 (de) * 2005-06-28 2006-11-02 Armin Mang Mit Kunstmarmorschicht versehene Metallplatten und Verfahren zu deren Herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
GB2060435A (en) 1981-05-07
JPS5635494A (en) 1981-04-08
NL8004908A (nl) 1981-03-03
FR2464540B1 (de) 1985-01-04
GB2060435B (en) 1983-10-26
US4307147A (en) 1981-12-22
FR2464540A1 (fr) 1981-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3032744A1 (de) Elektrisch isolierende unterlage mit hoher waermeleitfaehigkeit
DE3611157C2 (de)
DE69813103T2 (de) Mehrschichtiger, anisotroper und elektrisch leitender Klebstoff und Verfahren zu dessen Herstellung
DE60312422T2 (de) Verbessertes Verfahren zum Einbetten von Dickschichtkomponenten
DE19712825B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Keramik-Leitersubstrates sowie Keramik-Leitersubstrat
DE69937413T2 (de) Wärmesenke für elektronisches Bauteil
DE19980206B4 (de) Grundplatte für eine Leiterplatte unter Verwendung einer wärmebeständigen Isolationsschicht, deren Herstellverfahren und Verfahren zur Herstellung der Leiterplatte
DE69725689T2 (de) Gedruckte Leiterplatte und elektronische Bauteile
DE69936483T2 (de) Laminierte Leiterplatte und Herstellungsverfahren
DE4427994A1 (de) Metallbasisplatine und elektronische Einrichtung, die diese verwendet
DE2536316C2 (de) Schaltungskarte für integrierte Halbleiterschaltungen
DE102006037070A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Platine
DE3145648A1 (de) Halbleiteranordnung
DE69921893T2 (de) Leitfähige Pastenzusammensetzung zum Füllen
DE112015003487T5 (de) Keramische Leiterplatte und Verfahren zur Herstellung der selben
EP0549791A1 (de) Mehrlagenleiterplatte und verfahren zu ihrer herstellung
DE112017005682T5 (de) Halbleitereinheit und verfahren zur herstellung derselben sowie drahtlose datenübertragungsvorrichtung
DE112018005807B4 (de) Mehrschichtige leiterplatte
DE112020001296T5 (de) Fräsen von flexfolie mit zwei leitenden schichten von beiden seiten
DE102008051918A1 (de) Dielektrische Zusammensetzungen, die beschichteten Füllstoff enthalten, und damit verbundene Verfahren
DE102004014157B4 (de) Thermistor vom Laminattyp mit positivem Temperaturkoeffizienten
DE2929547C2 (de) Mikrowellen-Dämpfungsglied
DE10038429C2 (de) Verbundlaminat und Verfahren zur Herstellung desselben
DE19611240A1 (de) Leitfähige Paste auf Silberbasis und mehrschichtiges Keramikschaltkreissubstrat, in dem diese verwendet wird
DE102011088586A1 (de) Tinte zum Drucken von Leitungsmustern

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee