DE2739427C2 - Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück - Google Patents

Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück

Info

Publication number
DE2739427C2
DE2739427C2 DE2739427A DE2739427A DE2739427C2 DE 2739427 C2 DE2739427 C2 DE 2739427C2 DE 2739427 A DE2739427 A DE 2739427A DE 2739427 A DE2739427 A DE 2739427A DE 2739427 C2 DE2739427 C2 DE 2739427C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pulse
working gap
workpiece
current
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2739427A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2739427A1 (de
Inventor
Kiyoshi Tokyo Inoue
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inoue Japax Research Inc
Original Assignee
Inoue Japax Research Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP10472476A external-priority patent/JPS5329346A/ja
Priority claimed from JP15005176A external-priority patent/JPS5373437A/ja
Priority claimed from JP6912977A external-priority patent/JPS544253A/ja
Application filed by Inoue Japax Research Inc filed Critical Inoue Japax Research Inc
Publication of DE2739427A1 publication Critical patent/DE2739427A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2739427C2 publication Critical patent/DE2739427C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M3/00Conversion of dc power input into dc power output
    • H02M3/02Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac
    • H02M3/04Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters
    • H02M3/10Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
    • H02M3/145Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
    • H02M3/155Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only
    • H02M3/156Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only with automatic control of output voltage or current, e.g. switching regulators
    • H02M3/158Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only with automatic control of output voltage or current, e.g. switching regulators including plural semiconductor devices as final control devices for a single load
    • H02M3/1584Conversion of dc power input into dc power output without intermediate conversion into ac by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only with automatic control of output voltage or current, e.g. switching regulators including plural semiconductor devices as final control devices for a single load with a plurality of power processing stages connected in parallel
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S204/00Chemistry: electrical and wave energy
    • Y10S204/09Wave forms

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück der im Patentanspruch 1 angegebenen Gattung.
Bei einem z.B. aus JP-PS 40-8801, JP-PS 48-5529 bekannten Impuls-Galvanisierverfahren fließt ein Impulsstrom hoher Stromdichte in einem von einem Elektrolyten durchströmten Arbeitsspalt zwischen einer Elektrode und einem Werkstück. Dieses Verfahren ermöglicht eine wirksame lonenregelung im Elektrolyten und damit eine Intensivierung des Galvanisiervorgangs.
Aus »Plating«, Aug. 1969, S.909-913 ist bereits ein Verfahren zum Impuls-Galvanisieren bekannt, bei dem zur Erzeugung einer sehr dünnen gleichmäßigen Metallschicht auf z. B. Betatron-Fenstern mit Impulsen einer Dauer zwischen 1 und 50 μ5 und Impulsfrequenzen zwischen 1000 und 2000 pro Sekunde gearbeitet wird. Ein kontinuierlich verstellbarer Impulsgenerator wurde mit einem Impuls-Stromverstärker einer Kapazität von 15 A gekoppelt, um ausreichend hohe Stromdichten in dem Arbeitsspalt zwischen einer ebenen Anode und Kathode zu erzielen. Eine an die Galvanisierzelle angeschlossene Pumpe erzeugte eine lineare Elektrolytströmung von 3 m/min, um die von der Anode gelösten Partikel aus dem Arbeitsspalt wegzuschwemmen.
Aus »Handbuch der Galvanotechnik«, C. Hanser Verlag, 1963, S. 134 ist es bekannt, daß sich bei stark ausgeprägten Profilierungen des als Kathode geschalteten Werkstückes erhebliche Dickenunterschiede der aufgetragenen Schicht bilden, wobei am Boden dieser Vertiefungen keine nachweisbare Abscheidung mehr stattfinden kann. Zur Ermittlung der Deckfähigkeit, d. h. derjenigen Tiefe, bis zu der bei einem bestimmten Oberflächenprofil noch Metallabscheidung stattfindet, werden Winkelkathoden, Spaltkathoden, Schlitz- und Blendenzellen oder Lochskalen benutzt. Bei Anwendung des Gleichstrom-Galvanisierens ist die Deckfähigkeit um so besser, je höher die Stromdichte ist. Eine Beeinflussung der Deckfähigkeit durch Steuerung verschiedener Parameter beim Impuls-Galvanisieren ist
in dieser Druckschrift nicht angesprochen.
In »Metalloberflächen«, Mai 1976, H. 5, S. 205-252 ist ein Stromumpol-Impulsverfahren beschrieben und dem Gleichstromverfahren jeweils in einem Elektrolytbad gegenübergestellt Beim Umpolverfahren erzeugen zwei Stromregler und ein elektronisches Zeitschaltwerk, wahlweise Umpol-Stromimpulse sowie Gleichstromimpulse mit einstellbaren Schaltzeiten von 0,1 bis 99,9 s und Totzeiten zwischen den Impulsen, deren Länge so eingestellt wird, daß während der Impulszeiten die Grenzstromdichte nicht erreicht wird. Diese Totzeiten, denen im Umpolbetrieb entsprechend lange Impulszeiten entgegengesetzter Polarität entsprechen, liegen im Bereich zwischen 0,1 und 10 s. Als Ergebnis der Versuche wird in dieser Druckschrift festgestellt, daß beim Umpolbetrieb durch die zusätzliche snodische Phase eine Steigerung der Auftragungsgeschwindigkeit erreicht v/erden könnte, die mit kürzeren Impulszeiten und hohen Stromdichten stark zunimmt. Über den Einfluß von Impulsparametern auf das Beschichten von profilierten Werkstücken läßt sich dieser Druckschrift nichts entnehmen.
Um profilierte Werkstücke mit schmalen Ausnehmungen oder Nuten von relativ zur Breite großer Tiefe gleichmäßig mit einem Metall galvanisch zu beschichten, mußten bisher Elektroden von entsprechend negativ profilierter Oberfläche verwendet werden, die einen den Profilierungen folgenden Arbeitsspalt konstanter Weite sicherstellten. Dieser Arbeitsspalt wurde von einem Elektrolyten durchströmt, um die sich im Arbeitsspalt bildenden Metallpartikel wegzuschwemmen und gleichzeitig die Grenzschichten abzubauen. Die Herstellung der mitunter kompliziert profilierten Elektroden war zeit- und arbeitsaufwendig sowie mit
3ί> hohen Kosten verbunden.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs angegebenen Gattung aufzuzeigen, bei dem eine gleichmäßig dicke Metallschicht galvanisch auch auf profilierten Werkstücken erzeugt werden kann, welcher enge Vertiefungen von relativ zur Breite großer Tiefe aufweisen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Patentanspruch 1 angegebenen Maßnahmen gelöst.
Zweckmäßige Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnungen beispielhaft beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 schematisch im Schnitt ein Impuls-Galvanisier-Sy stern;
F i g. 2 Versuchsergebnisse der Impuls-Galvanisierung bei Verwendung des Systems nach Fig. 1;
Fig. 3 —6 Schaltbilder verschiedener elektrischer Steuerungen.
Das in F i g. 1 dargestellte Werkstück 1 weist eine Vertiefung oder Nut 1 a mit der Tiefe D und der Breite H auf. Eine Elektrode 2 ist unter Ausbildung eines Arbeitsspaltes gegenüber dem Werkstück 1 angeordnet und weist eine Bohrung 2a auf, durch die ein flüssiger Elektrolyt 3 in den Bereich des Werkstückes 1 mit hoher Strömungsgeschwindigkeit zugeführt wird. Der Arbeitsspalt zwischen dem Werkstück 1 und der Elektrode 2 wird durch eine Regeleinheit konstant gehalten. Über Anschlüsse 4 wird eine Folge von elektrischen Impulsen über das Werkstück 1 und d;c Elektrode 2 zugeführt, wobei die Impulsdauer zwischen 1 und 50 μ5, vorzugsweise 1 bis 10 μ5, beträgt und die Impulspausen mehr als das Zweifache länger als die Impulsdauer sind. Unter diesen Bedingungen wird eine gleichförmige Metall-
schicht 5 galvanisch auf einem profilierten Werkstück 1 aufgetragen, wobei das Verhältnis zwischen der Nuttiefe D und der Nutbreite H beispielsweise 10:1 beträgt
Im Diagramm nach Fig.2 ist das D/H-Verhältnis einer Vertiefung auf der Ordinate und die Impulsdauer ron in \is auf der Abszisse aufgetragen. Als Elektrolyt wurde Nickelsulfat oder-Sulfonat verwendet und die Breite des Arbeitsspaltes betrug 40 mm bei einer Stromdichte von 5 A/cm2. Die Kurven a bis f !0 kennzeichnen Impuls-Beschichtungen unter folgenden Bedingungen:
(a) 7T0n/rOff=l/2
(b) 7Ton/^off=l/3 -
(c) ν cd τ on= \ 14
(d) ToiAoff=l/4
bei einer Elektrolyt-Strömungsgeschwindigkeit von 3 m/s,
(e) Γοπ/τΟΓΓ=1/4 mit einer Elektrolyt-Strömungsgeschwindigkeit von 5 m/s,
(0 Ton/roff=l/4
mit einer Elektrolyt-Strömungsgeschwindigkeit von 7 m/s.
Jede Kurve gibt an, daß mit Abnahme der Impulsdauer ein größeres D/W-Verhältnis gewählt werden kann, wobei diese Tendenz besonders bei Impulsen mit einer kleineren Impulsdauer als 50 μ5 deutlich wird. Das Verhältnis D/H kann größer gewählt werden mit länger werdender Impulspause bei gegebener Impulsdauer. Die Kurven d, e und f zeigen den Einfluß der Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten, wobei bessere Ergebnisse bei höheren Strömungsgeschwindigkeiten von mindestens 5 m/s des den Arbeitsspalt duichfließenden Elektrolyten erreicht werden.
In den F i g. 3 bis 6 sind verschiedene Schaltungen zur Steuerung mindestens eines Impulsparameters wiedergegeben. Die Schaltung nach Fig.3 weist Wechselstromanschlüsse 10a, 106 und einen Spannungsregler 11 auf, der eine konstante Gleichspannung abgibt. Mit den Ausgängen 11a und 116 des Spannungsreglers 11 sind ein Strombegrenzerwiderstand R, ein elektronisches Schaltglied 12 und der Arbeitsspalt G zwischen einer Elektrode 13 und einem Werkstück 14 in Reihe geschaltet. Ein Elektrolyt 15 durchfließt zwangsweise den Arbeitsspalt C. Ein Impulsgenerator 16 erzeugt Steuerimpulse von vorgegebenen Einschalt- und Ausschaltzeiten, welche das elektronische Schaltglied 12 ansteuern und zwischen der Elektrode 13 und dem Werkstück 14 einen Impulsstromfluß von entsprechender Impulsdauer und Impulspause bewirken. Die Amplitude der Impulse wird durch den Widerstand R eingestellt. Der Impulsstrom kann bei Änderungen der Betriebsbedingungen im Arbeitsspalt G modifiziert werden. Dabei kann die Amplitude, die Impulsdauer und/oder die Impulspause gesteuert werden, und zwar in Abhängigkeit von der Spannung oder vom Strom im Arbeitsspalt G und/oder von der Impedanz zwischen der Elektrode 13 und dem Werkstück 14, deren Größe durch Änderungen der Betriebsbedingungen beeinflußt wird.
Die Schaltung nach F i g. 3 spricht auf den Spaltstrom an und weist einen Meßwiderrtand 18 auf, der mit dem elektronischen Schaltglied 12 und dem Arbeitsspalt G in Reihe geschaltet ist. Ein ausgangsseitig an den Meßwiderstand 18 angeschlossener Verstärker 19 ist mit einem ersten Eingang 17a eines UND-Gliedes 17 verbunden, dessen zweiter Eingang 176 Steuerimpulse vom Impulsgenerator 16 erhält Der Verstärker hat eine Diskriminatorwirkung und vergleicht die Größe des vom Meßwiderstand 18 erfaßten Spaltstromes mit einem Sollwert Wenn der Spaltstrom diesen Sollwert überschreitet wird ein »0«-SignaI dem ersten Eingang 17a zugeführt um den Durchgang der Steuerimpulse vom Impulsgenerator 16 zum Schaltglied 12 zu sperren und die Frequenz bzw. das Impulsdauer/Impulspausen-Verhältnis der im Arbeitsspalt G wirksamen Impulse zu verringern. Dadurch ergibt sich eine verbesserte Gleichförmigkeit der auf das Werkstück 14 aufgalvanisierten Metallschicht
Die Schaltung nach F i g. 4 verwendet einen Zerhakker-Verstärker 20, dem eine Bezugsspannungsquelle 21 und ein Meßwiderstand 18 zugeordnet sind. Durch Vergleich der Bezugsspannung mit der am Meßwiderstand 18 abgegriffenen Spannung, die der Stromstärke zwischen der Elektrode 13 und dem Werkstück 14 proportional ist, wird vom Zerhacker-Verstärker 20 eine Steuersignalfolge zum Ein- und Ausschalten des elektronischen Schaltgliedes 12 mit veränderbaren Ein-/Ausschaltzeiten — ähnlich wie bei der Schaltung nach F i g. 3 — erzeugt.
In der Schaltung nach Fig.5 wird ein Multivibrator 22 als Impulsgenerator verwendet um Umschaltimpulse dem Schaltglied 12 zuzuführen. Diese Umschaltimpulse und damit die Stromimpulse im Arbeitsspalt werden mittels eines Vergleichers 23 verändert, welcher eine an einer Z-Diode 24 abfallende Bezugsspannung mit der vom Meßwiderstand 18 erfaßten Spannung vergleicht, die der Stromstärke im Spalt G proportional ist.
Bei der Schaltung nach Fig.6 ist der zwischen der Elektrode 13 und dem Werkstück 14 gebildete Arbeitsspalt G mit dem elektronischen Schaltglied 12 in Reihe geschaltet, welches drei Transistoren 12a, 12t>, 12c enthält und mit der Gleichstromquelle 11 in Reihe geschaltet ist. Das Schaltglied 12 wird von einem Impulsgenerator 16 angesteuert, der ein Multivibrator mit Zeiteinstellgliedern 16' ist. Die Zeiteinstellglieder 16' sind durch drei Paare 16ä, 166 und 16c aus je einem Transistor und einem Widerstand gebildet, die paralle!- geschaltet sind und selektiv betätigt werden. Die Widerstände dieser Paare 16a, 16Zj, 16c sind auf unterschiedliche Werte so eingestellt, daß beim Einschalten des Paares 16a die Impulspause einen Minimalwert, beim Einschalten des Paares 16c einen Maximalwert und beim Einschalten des Paares 166 einen Mittelwert hat.
Die Ausgänge des Impulsgenerators 16 führen zu drei Logikgliedern 17a, 176,17c, die das jeweilige Ausgangssignal einem der drei Schaittransistoren 12a, 126, 12c zuführen. Die Logikglieder 17a, 176, 17c besitzen je einen weiteren Eingang a, 6, c und sind jeweils gesetzt, wenn der entsprechende Eingangsimpuls aniiegt. Die Schalttransistoren 12a, 126, 12c sind mit jeweils unterschiedlichen Widerständen R\, /?2, /?3 in Reihe geschaltet, welche die Größe der dem Arbeitsspalt G zugeführten Stromimpulse bestimmen.
Eire Hilfsspannungsquelle 26 und ein Transistor 27 sind über den Arbeitsspalt G angeschlossen. Der Transistor 27 wird durch phasenverkehrte Signale des Impulsgenerators 16 durchgeschaltet und gesperrt, welche in einem Phasenumkehr-Transistor 31 erzeugt werden. Die Spannung der Hilfsspannungsquelle 26 dient als Prüfspannung und liegt am Arbeitsspalt G
während jeder Impulspause an. Der Widerstand- oder Impedanzwert während der Impulspause wird an einem weiteren Widerstand 28 selektiv erfaßt, welcher während der Impulspause über einen weiteren Transistor 29 kurzgeschlossen ist. Dieser Transistor 29 wird durch den Einschaltimpuls vom Impulsgenerator 16 durchgeschaltet. Der im Widerstand 28 erfaßte Widerstandswert wird eine Diskriminatoreinheit 30 zugeführt, die aus drei Schwellenwertschaltungen 30a, 30£>, 30c in Form von Schmitt-Triggern mit unterschiedlichen Schwellenwert-Cpannungen V30;l > V306> VW an ihren jeweiligen Ausgängen a, b, cbesteht.
Im Betrieb wird bei jedem Ausschalten des Beschichtungs-Stroms der Transistor 27 durchgeschaltet, damit die Prüfspannung von der Hilfsspannungsquelle 26 über den Arbeitsspalt G angelegt wird, während der Transistor 29 gesperrt ist. Eine der Arbeitsspalt-Spannung proportionale Spannung wird am Widerstand 28 abgegriffen und durch die Diskriminatoreinheit 30 unterschieden. Sobald im Arbeitsspalt C normale Betriebsbedingungen herrschen, tritt ein »!«-Signal am Ausgang b auf, um den Schalttransislor des Paares 26i> durchzuschalten und die Impulspause auf einen vorgegebenen mittleren Wert einzustellen. Gleichzeitig aktiviert dieses »1 «-Signal am Ausgang b selektiv das Logikglied 17</ des Schalttransistors 12d und es fließt ein impulsförmiger Niederschlags- bzw. Beschichtungsstrom durch den Arbeitsspalt G, dessen Größe vom Widerstand Ri bestimmt wird.
Wenn im Arbeitsspalt G Hochimpedanz-Bedingungen vorliegen, tritt am Ausgang a ein »1 «-Signal zur Betätigung des Paares 16a auf, um die Impulspause auf einen vorgegebenen Minimalwert einzustellen. Dieses »1 «-Signal am Ausgang a aktiviert außerdem selektiv das Logikglied 17a, damit nur der Schalttransistor 12a angesteuert wird. Der impulsförmige Beschichtungs- bzw. Niederschlagsstrom ist aufgrund des entsprechend ausgelegten Widerstandes R\ vergrößert.
Wenn im Arbeitsspalt G Niederimpedanz-Bedingungen vorliegen, wird ein »1«-Signal am Ausgang c zur Betätigung des Paares 16c erzeugt, wodurch die Impulspause auf einen vorgegebenen größeren Wert eingestellt wird. Gleichzeitig wird das »1 «-Signal am Ausgang c zum selektiven Setzen des Logikgliedes 10c, damit der Schalttransistor 12c allein angesteuert wird. Es fließt ein impulsförmiger Niederschlags- bzw. Beschichtungsstrom, dessen verringerte Stärke vom Widerstand Rz bestimmt wird.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Impuls-Galvanisieren von Metall auf einem Werkstück, bei dem im Arbeitsspalt zwischen der Werkstückfläche und der Elektrode eine Impulsfolge mit einer Impulsdauer von 1 bis 50 μ5 erzeugt wird, wobei die jeweilige Impulsdauer deutlich geringer ist als die entsprechende Impulspause, bei dem eine Elektrolytströmung im Arbeitsspalt aufrechterhalten wird und bei dem der Abstand zwischen der Elektrode und dem Werkstück im Arbeitsspalt konstant gehalten wird, dadurch gekennzeichnet, daß zur gleichmäßigen Beschichtung der Vertiefungen aufweisen-den Werkstückfläche im Arbeitsspalt eine Elektrolytströmung von mindestens 5 m/s und eire gesteuerte Impulsfolge mit einem Impulsdauer- zu Impulspausenverhältnis von kleiner 1 :2 erzeugt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Arbeitsspalt zwischen zwei aufeinanderfolgenden Impulsen normaler Polarität ein Impuls entgegengesetzter Polarität erzeugt wird.
DE2739427A 1976-09-01 1977-09-01 Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück Expired DE2739427C2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10472476A JPS5329346A (en) 1976-09-01 1976-09-01 Process of electrodeposition
JP15005176A JPS5373437A (en) 1976-12-14 1976-12-14 Power source device for electrolysis
JP6912977A JPS544253A (en) 1977-06-10 1977-06-10 Electrolytic apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2739427A1 DE2739427A1 (de) 1978-03-02
DE2739427C2 true DE2739427C2 (de) 1983-12-08

Family

ID=27299961

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2739427A Expired DE2739427C2 (de) 1976-09-01 1977-09-01 Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4496436A (de)
CH (1) CH629542A5 (de)
DE (1) DE2739427C2 (de)
FR (1) FR2363644A1 (de)
GB (1) GB1529187A (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4436591A (en) 1981-11-13 1984-03-13 Veco Beheer B.V. Process of electroforming screen material
DE19545231A1 (de) * 1995-11-21 1997-05-22 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Metallschichten
DE19925373A1 (de) * 1999-06-02 2000-12-07 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zum Galvanisieren
DE10202431C1 (de) * 2002-01-22 2003-05-28 Egon Huebel Vorrichtung und Verfahren zum elektrochemischen Behandeln von Gut mit Pulsstrom

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1539309A (en) * 1976-12-14 1979-01-31 Inoue Japax Res Electrochemical polishing
US4396467A (en) * 1980-10-27 1983-08-02 General Electric Company Periodic reverse current pulsing to form uniformly sized feed through conductors
US4468293A (en) * 1982-03-05 1984-08-28 Olin Corporation Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength
US4515671A (en) * 1983-01-24 1985-05-07 Olin Corporation Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength
US4566953A (en) * 1984-12-24 1986-01-28 At&T Technologies, Inc. Pulse plating of nickel-antimony films
IT1215985B (it) * 1988-03-04 1990-02-22 Elca Srl Procedimento elettrochimico per la realizzazione di rivestimenti di cromo e metalli simili mediante corrente pulsante ad inversione periodica della polarita'
US5270229A (en) * 1989-03-07 1993-12-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thin film semiconductor device and process for producing thereof
FI85793C (fi) * 1990-05-18 1992-05-25 Plasmapiiri Oy Foerfarande och anordning foer framstaellning av kretskort.
JP2875680B2 (ja) * 1992-03-17 1999-03-31 株式会社東芝 基材表面の微小孔又は微細凹みの充填又は被覆方法
DE4225961C5 (de) * 1992-08-06 2011-01-27 Atotech Deutschland Gmbh Vorrichtung zur Galvanisierung, insbesondere Verkupferung, flacher platten- oder bogenförmiger Gegenstände
DE19547948C1 (de) * 1995-12-21 1996-11-21 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Schaltungsanordnung zur Erzeugung von Strompulsen zur elektrolytischen Metallabscheidung
US6402931B1 (en) 1998-05-18 2002-06-11 Faraday Technology Marketing Group, Llc Electrochemical machining using modulated reverse electric fields
US6582578B1 (en) 1999-04-08 2003-06-24 Applied Materials, Inc. Method and associated apparatus for tilting a substrate upon entry for metal deposition
US6379223B1 (en) 1999-11-29 2002-04-30 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for electrochemical-mechanical planarization
US6299741B1 (en) 1999-11-29 2001-10-09 Applied Materials, Inc. Advanced electrolytic polish (AEP) assisted metal wafer planarization method and apparatus
US6913680B1 (en) 2000-05-02 2005-07-05 Applied Materials, Inc. Method of application of electrical biasing to enhance metal deposition
WO2001090446A2 (en) 2000-05-23 2001-11-29 Applied Materials, Inc. Method and apparatus to overcome anomalies in copper seed layers and to tune for feature size and aspect ratio
JP3423702B2 (ja) * 2000-08-29 2003-07-07 創輝株式会社 金属めっき方法
US6740221B2 (en) 2001-03-15 2004-05-25 Applied Materials Inc. Method of forming copper interconnects
WO2003063067A1 (en) * 2002-01-24 2003-07-31 Chatterbox Systems, Inc. Method and system for locating positions in printed texts and delivering multimedia information
US20030188974A1 (en) * 2002-04-03 2003-10-09 Applied Materials, Inc. Homogeneous copper-tin alloy plating for enhancement of electro-migration resistance in interconnects
US20030201185A1 (en) * 2002-04-29 2003-10-30 Applied Materials, Inc. In-situ pre-clean for electroplating process
US6911136B2 (en) * 2002-04-29 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Method for regulating the electrical power applied to a substrate during an immersion process
US7189313B2 (en) * 2002-05-09 2007-03-13 Applied Materials, Inc. Substrate support with fluid retention band
US20030209523A1 (en) * 2002-05-09 2003-11-13 Applied Materials, Inc. Planarization by chemical polishing for ULSI applications
US20040072445A1 (en) * 2002-07-11 2004-04-15 Applied Materials, Inc. Effective method to improve surface finish in electrochemically assisted CMP
US20040118699A1 (en) * 2002-10-02 2004-06-24 Applied Materials, Inc. Homogeneous copper-palladium alloy plating for enhancement of electro-migration resistance in interconnects
DE10311575B4 (de) * 2003-03-10 2007-03-22 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zum elektrolytischen Metallisieren von Werkstücken mit Bohrungen mit einem hohen Aspektverhältnis
US20040206628A1 (en) * 2003-04-18 2004-10-21 Applied Materials, Inc. Electrical bias during wafer exit from electrolyte bath
DE102004045451B4 (de) * 2004-09-20 2007-05-03 Atotech Deutschland Gmbh Galvanisches Verfahren zum Füllen von Durchgangslöchern mit Metallen, insbesondere von Leiterplatten mit Kupfer
US20060175201A1 (en) * 2005-02-07 2006-08-10 Hooman Hafezi Immersion process for electroplating applications
JP5073736B2 (ja) 2006-03-30 2012-11-14 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー 孔及びキャビティの金属による電解充填法
EP2113587B9 (de) 2008-04-28 2011-09-07 ATOTECH Deutschland GmbH Wässriges saures Bad und Verfahren zum elektrolytischen Abschneiden von Kupfer
US20110017608A1 (en) * 2009-07-27 2011-01-27 Faraday Technology, Inc. Electrochemical etching and polishing of conductive substrates
EP2518187A1 (de) 2011-04-26 2012-10-31 Atotech Deutschland GmbH Wässriges Säurebad zur elektrolytischen Ablagerung von Kupfer
US10081880B2 (en) 2013-05-06 2018-09-25 Fpinnovations Cellulose nanocrystal (CNC) films and conductive CNC-based polymer films produced using electrochemical techniques
JP7064115B2 (ja) 2016-08-15 2022-05-10 アトテック ドイチュラント ゲー・エム・ベー・ハー ウント コー. カー・ゲー 電解銅めっきのための酸性水性組成物
EP3470552B1 (de) 2017-10-13 2020-12-30 ATOTECH Deutschland GmbH Saure wässrige zusammensetzung zur elektrolytischen abscheidung einer kupferabscheidung
EP3901331A1 (de) 2020-04-23 2021-10-27 ATOTECH Deutschland GmbH Saure wässrige zusammensetzung zur elektrolytischen abscheidung einer kupferabscheidung

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2726202A (en) * 1955-06-06 1955-12-06 Robotron Corp Method for plating by condenser discharge
DE1421984A1 (de) * 1962-10-01 1968-11-07 Forsch Edelmetalle Und Metallc Verfahren zur Herstellung von rissfreien Chromueberzuegen
US3716464A (en) * 1969-12-30 1973-02-13 Ibm Method for electrodepositing of alloy film of a given composition from a given solution
DE2121150C3 (de) * 1971-04-24 1980-08-21 Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Goldlegierungen
JPS5745318B2 (de) * 1974-09-18 1982-09-27
US3959088A (en) * 1975-03-19 1976-05-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method and apparatus for generating high amperage pulses from an A-C power source

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4436591A (en) 1981-11-13 1984-03-13 Veco Beheer B.V. Process of electroforming screen material
DE19545231A1 (de) * 1995-11-21 1997-05-22 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Metallschichten
DE19925373A1 (de) * 1999-06-02 2000-12-07 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zum Galvanisieren
DE19925373B4 (de) * 1999-06-02 2006-04-06 Robert Bosch Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Galvanisieren
DE10202431C1 (de) * 2002-01-22 2003-05-28 Egon Huebel Vorrichtung und Verfahren zum elektrochemischen Behandeln von Gut mit Pulsstrom

Also Published As

Publication number Publication date
DE2739427A1 (de) 1978-03-02
GB1529187A (en) 1978-10-18
FR2363644B1 (de) 1982-05-28
CH629542A5 (de) 1982-04-30
FR2363644A1 (fr) 1978-03-31
US4496436A (en) 1985-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2739427C2 (de) Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück
DE4422967C2 (de) Funkenerodiermaschine und Verfahren zur Steuerung einer Spannung am Arbeitsspalt bei funkenerodierender Bearbeitung eines Werkstücks
DE112006004048B4 (de) Energieversorgungs-Steuervorrichtung für eine Bearbeitungsvorrichtung mit elektrischer Entladung
DE1934140C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Elektroentladungsbearbeitung
DE112008003599B4 (de) Entladungsgerät
DE69113434T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum funkenerosionsbearbeiten.
DE3204838C2 (de)
DE112008003662B4 (de) Elektrische Entladungsbearbeitungsvorrichtung und elektrisches Entladungsbearbeitungsverfahren
CH664314A5 (de) Funkenerosionseinrichtung.
DE1939729C2 (de) Elektrische Schaltung zum Speisen eines Bades für die anodische Oxydation
DE112004002662B4 (de) Elektrizitätsentladungsbearbeitungsvorrichtung
DE3790717C2 (de) Verfahren und vorrichtung zur funkenerosiven bearbeitung eines werkstuecks
DE69224397T2 (de) Verfahren zur Betriebssteuerung einer Funkenerosionsmaschine
DE3390011C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung eines Werkstücks
CH661228A5 (de) Funkenerosionsmaschine mit einer elektrode zum bearbeiten eines werkstueckes.
DE2547767C3 (de) Impulsgenerator zur funkenerosiven Metallbearbeitung
CH699826B1 (de) Stromversorgungseinheit für die Drahterosionsbearbeitung und Drahterosionsbearbeitungsverfahren.
DE2407017C3 (de) Verfahren und Vorrrichtung zur Elektroerosionsbearbeitung
DE69211783T2 (de) Stromversorgung für elektrische Entladungsmachine
DE2606396B2 (de) Vorrichtung zum Aufheizen und Einstellen einer vorgegebenen Behandlungstemperatur von Werkstücken mittels stromstarker Glimmentladung
DE112017005583B4 (de) Stromversorgungs-Steuervorrichtung für eine Funkenerosionsmaschine
DE10084876B4 (de) Funkenerosions-Stromversorgungssystem
DE2326007C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der Elektrodenvorschubbewegung bei der elektroerosiven Bearbeitung
DE19708023B4 (de) Elektrodenzuführvorrichtung und Verfahren für eine elektro-erosive Bearbeitung
DE3123214C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Steuern einer chemisch-thermischen Behandlung von Werkstücken in einer Glimmentladung

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8181 Inventor (new situation)

Free format text: INOUE, KIYOSHI, TOKYO, JP

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition