DE2739427A1 - Verfahren und vorrichtung fuer galvanischen niederschlag - Google Patents
Verfahren und vorrichtung fuer galvanischen niederschlagInfo
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Description
Verfahren und Vorrichtung für galvanischen Niederschlag
Die Erfindung betrifft ein Verfahren für elektrischen
oder galvanischen Niederschlag bzw. Metal!abscheidung sowie
eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Bei einem bekannten Impuls-Niederschlagverfahren, fließt
der elektrischer Strom in Form einer Impulsfolge zwischen einem Substrat oder Werkstück und einer Elektrode,
die mit Abstand dazu angeordnet ist,bei Anwesenheit eines Elektrolyten (vgl. JA-PS £0-8801, JA-PS 48-5529). Dieses
Impuls-Niederschlagen ist vorteilhaft, da dadurch eine wirksame Ionen-Regelung bzw.-Steuerung im niederschlagenden
Elektrolyten möglich ist, wodurch der Niederschlagungsvorgang mit höherer Geschwindigkeit und Genauigkeit durchgeführt
werden kann. Diese Wirkungen werden weiter erhöht, wenn der flüssige Elektrolyt so zugeführt wird, daß er
durch die Niederschlagungszone mit höherer Strömungsgeschwindigkeit tritt, wodurch die Niederschlagung mit höherer
Stromdichte durchgeführt werden kann.
58l-(A54l)-MeF
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Die Impulsdauer oder -breite der beim Impuls-Niederschlagungsverfahren
bisher verwendeten Impulse ist relativ lang, wegen der Verwendung einer Stromversorgung handelsüblicher
Ausgangsfrequenz, und ob die Impuls-Einschaltzeit,
die Impuls-Ausschaltzeit und/oder die Frequenz kritisch sein können, ist praktisch noch nicht untersucht worden.
Rs ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren der eingangs
genannten Art so durchzuführen, daß optimale Rrgebnisse
erhältlich sind, sowie eine dazu geeignete Vorrichtung anzugeben.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß bessere
Niederschlagungsergebnisse erhalten werden können, wenn Impuls-Parameter innerhalb bestimmter Bereiche gewählt
werden. Der Hlektroniederschlag oder galvanische Niederschlag auf Flächen auch von tiefen Vertiefungen oder Nuten wird
dadurch mit einer Gleichmäßigkeit erreicht, die bisher nur mit nichtelektrischen oder chemischen Plattierverfahren
möglich war, die relativ zeitaufwendig sind.
Gemäß der Erfindung wird ein Verfahren zum galvanischen Niederschlagen angegeben, bei dem ein elektrischer Strom
in Form von Impulsen zwischen einem Werkstück und einer demgegenüber mit Abstand angeordneten Elektrode bei Vorhandensein
eines flüssigen Elektrolyten angelegt wird, zur Bildung einer elektrolytisch niedergeschlagenen Schicht auf
dem Werkstück, wobei die Impulse eine Impulsdauer oder Impulsbreite von höchstens 100 /usbesitzen.
Die Impulsbreite liegt vorzugsweise im Bereich zwischen 1 und 50 /ve. Die Impuls-Ausschaltzeit oder Impulspause
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ist vorzugsweise mindestens um das Zweifache länger als die Impulsbreite oder Impulsdauer.
Die Strömungsgeschwindigkeit des Elektrolyten im Bereich der galvanischen Niederschlagung liegt vorzugsweise Über
5 m/s.
Vorzugsweise wird ein Impuls entgegengesetzter Polarität zwischen benachbarten Impulsen der normalen Polarität zugeführt.
Eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens enthält eine Gleichstromquelle, eine Schalteinrichtung zur Einschalt-Ausschalt-Steuerung des A us gangs Signa Is
der Gleichstromquelle und einen Impulsgeber zum Zuführen von Umschalt-Steuerimpulsen zur Schalteinrichtung. Die
Gleichstromquelle kann vorzugsweise ein Spannungsstabilisier-Regelglied
aufweisen.
Die Vorrichtung enthält vorteilhaft eine Einrichtung, die auf einen elektrischen Parameter anspricht, der repräsentativ
für die Bedingung des galvanischen Niederschlagungsspalts zwischen der Elektrode und dem Werkstück ist. Diese Einrichtung
kann beispielsweise ein mit dem Spalt und einer Spannungsquelle reihengeschalteter Widerstand sein zum
Erfassen der Größe des galvanischen Niederschlagungsstroms, der durch den Spalt fließt, oder kann ein parallel zum elektrischen
Niederschlagungsspalt geschalteter Widerstand sein zur Erfassung der anliegenden Spannung.
Das die Spalt-Bedingung wiedergebende elektrische Signal
kann zum Verändern der grundlegenden Umschalt-Steuerimpulse
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so verwendet werden, daß ein Parameter der galvanischen Niederschlagungsstromimpulse verändert wird, z. B. die
Impulsdauer, die Impulspause und/oder die Impulsamplitude abhängig von der Spalt-Bedingung derart, daß die galvanische
Niederschlagung unter optimaler Bedingung durchgeführt werden kann.
Die elektronische Schalteinrichtung kann daher an ihrem Eingang oder ihren Steuerelektroden Logikglieder aufweisen,
die zwei EingangsanschiUsse besitzen, deren einer vom
Impulsgenerator zugefUhrte grundlegende Umschalt-Steuerimpulse
und deren anderer ein vom Spaltbedingungs-Erfassungsgiled
zugefUhrten Steuersignal empfängt, um veränderte Impulse über den Spalt zu führen. Andererseits kann der Impulsgenerator
auch mehrere Zeitkonstantenglieder aufweisen, die die Impulsdauer und/oder Impulspause bestimmen und selektiv
betätigbar sind, abhängig von der Spaltbedingungs-Krfassungseinrichtung.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung dargestellten AusfUhrungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 schematisch im Schnitt ein galvanisches Impuls-Nieder*
schlagungssystem zur Erläuterung der Erfindung}
Fig. 2 eine Darstellung von Versuchsergebnissen von
galvanischer Impuls-Niederschlagung bei Verwendung des Systems gemäß Fig. 1;
Fig. 3 schematisch im Schnittjeine der Fig. 1 ähnliche
Vorrichtung;
Fig. 4 eine Darstellung weiterer Versuchsergebnisse bei galvanischer Impuls-Niederschlagung;
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Fig. 5 bis 7 Schaltbilder verschiedener AusfUhrungsbeispiel
e zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens;
Fig. 8 ein Schaltbild eines weiteren Impulssystems zur Durchführung der Erfindung;
Fig. 9 schematisch eine Darstellung der Impulsverlaufe,
die gemäß einer Weiterbildung der Erfindung verändert werden.
In Fig. 1 ist ein Substrat oder Werkstück 1 darrgestellt,
das eine Vertiefung oder Nut la mit der Tiefe D und der Breite H besitzt, das beschichtet bzw. auf dem niedergeschlagen
werden soll. Eine Elektrode 2 ist benachbart zum Werkstück 1 angeordnet und mit einer Bohrung und öffnung 2a
dargestellt, durch die ein flüssiger Elektrolyt 3 dem Bereich des Werkstücks 1 mittels einer (nicht dargestellten)
Pumpe mit hoher Strömungsgeschwindigkeit zugeführt wird. Ein Abstand oder Spalt, der zwischen dem Werkstück 1 und der
Elektrode 2 gebildet ist, ist im allgemeinen konstant gehalten mittels einer Steuer- oder Regeleinheit (vgl. JA-PS 38-12823).
Anschlüsse 4 sind dargestellt, die eine Reihe oder Folge elektrischer Impulse über das Werkstück 1 und die Elektrode
führen, wobei die Impulse eine Impulsbreite oder Impulsdauer
besitzen, die höchstens 100 /us, vorzugsweise zwischen 1 und
50 /us, vorzugsweise zwischen 1 und 10 /US beträgt. Der
Impulsabstand oder die Impulspause i«t vorzugsweise mehr als das Zweifache länger als die Impulsdauer.
Bei diesen Bedingungen wird eine gleichförmige Schicht 5
elektrolytisch bei einem Huteijaufwe is enden Werkstück 1 erzeugt mit einem D/H-Verhältnis, das beispielsweise 10/1 beträgt.
Fig. 2 zeigt Untersuchungsergebnisse in Form einer graphischen Darstellung, bei der das D/H-Verhältnis einer
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erhältlichen Beschichtung längs der Ordinate aufgetragen ist gegenüber der Impulsdauer oder Impulsbreite, V ,
die in /US längs der Abszisse aufgetragen ist.
Der verwendete Elektrolyt war Nickelsulfat oder -sulfonate
(Sulfonicnickel und der Spalt zwischen der Werksttlckflache
und der Elektrode war auf 40 mm gehalten bei einer Stromdichte
2
von 5 A/cm . In der Darstellung sind die Kurven a, b, c, d, e, f
Ergebnisse der Impuls-Niederschlagung unter den folgenden
Bedingungen:
Ton/ rof f
(d) T0n/ 7Of£ s 1A bei einer Elektrolyt-Strömungsgeschwin
digkeit von 3 m/s,
(e) 7On^*off = 1^ mit einer Elektrolyt-Strömungsgeschwindigkeit
von 5 m/s,
^ * on/^^ off = 1^ mit einer Elektrolyt-Strömungsgeschwindigkeit von 7 m/s*
oder Impulsbreite der Wert D/H zunimmt und daß diese
der Wert D/H zunimmt mit zunehmendem Impulsdauer/Impuls-Verhältnis.
und wenn dieses Verhältnis geringer als 1/2 ist, ergibt
sich kein merkbarer Effekt durch die Verwendung von Impulsen.
länger werdender Impulspause bei gegebener Impulsdauer» Die
erheblich wird, wenn die Strömungsgeschwindigkeit auf 3 m/s
erhöht wird.
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Pig. 3 zeigt ein AusfUhrungsbeispiel der Erfindung
ähnlich dem gemäß Pig. I. Mit einer derartigen Vorrichtung wurden Versuche durchgeführt. Das Werkstück I besaß eine
Tiefe von 20 mm und eine Breite von 20 mm. Die Elektrode 2 war mit Abstand IO mm vom Werkstück 1 angeordnet. Der
Elektrolyt enthielt 220 g/l von CuSO2. und 70 g/l von
H2SO1^ und besaß eine Temperatur von 25 0C. Die Impulse
besaßen ein Impulsdauer/Impulspausen-Verhältnis von 1/30 und eine Stromdichte von 12A/dm .
Zur Bestimmung der Gleichmäßigkeit der galvanischen Niederschlagung über die gesamte Fläche wurden die Dicke der
niedergeschlagenen Schicht aus der oberen Fläche S und die Dicke D* der niedergeschlagenen Schicht am Boden der
Vertiefung oder Nut la gemessen. Die Ergebnisse sind in Fig.^ graphisch dargestellt, wobei das Verhälntis S/D1
und der Niederschlagungs-Wirkungsgrad φ längs der Ordinate aufgetragen sind gegenüber der Impulsdauer in /US, die
längs der Abszisse aufgetragen ist. Die Strichlinienkurven
zeigen Ergebnisse, bei denen ein Impuls entgegengesetzter Polarität in jedem Intervall zwischen aufeinanderfolgenden
Impulsen regulärer Polarität angeordnet waren.
Die Darstellung zeigt, daß das Verhältnis S/D1 annähernd
1 beträgt bei Impulsen einer Impulsdauer zwischen 0,1 und 10 /us und steil zunimmt, wenn die Impulsdauer 50 /US überschreitet, wodurch es schwierig wird, eine Niederschlagung
in einer Nut oder Vertiefung zu erreichen. Andererseits wird der Niederschlagungs-Wirkungsgrad verbessert mit
zunehmender Impulsdauer. Folglich werden die besten Ergebnisse erreicht, wenn die Impulsdauer im Bereich zwischen 1 und 50 aus
gewählt wird.
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-JT-
In den Fig. 5 bis 7 sind verschiedene Schaltungsanordnungen wiedergegeben, die zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeignet sind.
Die Schaltungsanordnung gemäß Fig.5 weist Eingangsanschlüsse 10a und 10b auf, die von einer handelsüblichen
Stromquelle Wechselstrom zufUhren, und einen Spannungsregler 11, der Über seine AusgangsanschlUsse 11a, 11b eine
Gleichspannung oder ein Ausgangssignal konstanter Amplitude
abgibt. Der Spannungsregler 11 ist dabei von Üblicher Bauart (vgl. z. B. US-PS 3 9^7 753).
Mit den AusgangsanschiUssen 11a und 11b des Spannungsreglers 11 sind in Reihe geschaltet ein Strombegrenzerwiderstand R, eine wie dargestellt von einem Transistor, von
von
einem Thyristor oder/einem anderen elektronischen Schaltelement gebildete Schalteinrichtung 12 und ein Niederschlagungsspalt G, der durch eine Elektrode 13 und ein
Werkstück Ik gebildet 1st, die einander gegenüberliegend in
einem Niederschlagungsbad eines Elektrolyten 15 angeordnet
sind. Damit der Niederschlagungs-Elektrolyt zwangsweise in den Bereich des Spalts G strömt, können eine (nicht dargestellte) Pumpe und (nicht dargestellte) Leitungen zu deren
Kopplung mit dem Bad des Elektrolyten 13 vorgesehen sein.
Die Schalteinrichtung wird mittels eines Impulsgenerators ein*und ausgeschaltet, wobei der Impulsgenerator 16 Steueroder Regelimpulse einer vorgegebenen Einschaltzeit und
vorgegebener Ausschaltzeit in den oben genannten Bereichen abgibt, um Über die Elektrode 13 und das Werkstück 14
den Niederschlagungsstrom in Form eines Pulses entsprechender Impulsdauer und Impulspause abzugeben, wobei die Amplitude
mittels des Widerstands R eingestellt wird.
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Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung wird der impulsförmige Niederschlagungsstrom für die galvanische
Niederschlagung abhängig von Änderungen der Niederschlagungsbedingung
modifiziert oder verändert. Dabei kann die Amplitude, die Impulsdauer und/oder die Impulspause der
Niederschlagungsimpulse gesteuert oder geregelt werden
abhängig von der Spaltspannung, vom Spaltstrom und/oder von der Impedanz zwischen der Elektrode 13 und dem Werkstück
14, die einer Änderung abhängig -von Änderungen der galvanischen Niederschlagungsbedingungen unterliegen.
Die Schaltungsanordnung gemäß Fig. 5 ist dabei so ausgebildet,
daß sie auf den Spaltstrom anspricht, und ist dazu mit einem FUhlerwiderstand 18 versehen, der in Reihe
mit der Schalteinrichtung 12 und dem galvanischen Niederschlagungsspalt
G zwischen der Elektrode IJ> und dem Werkstück
14 geschaltet ist. Der FUhlerwiderstand 18 besitzt einen ausgangsseitig angeschlossenen Verstärker 19· Der
Ausgang des Verstärkers 19 ist mit einem ersten Eingang 17a
eines UND-Gliedes 17 verbunden, dessen zweiter Eingang 17b Steuer- bzw. Regelimpulse vom Impulsgenerator 16 erhält.
Der Verstärker 19 besitzt hier eine Diskriminatorwirkung
zum Diskriminieren der Grüße des Spaltstroms oder galvanischen Niederschlffungsstroms, der durch den FUhlerwiderstand 18
erfaßt wird,gegenüber einem voreingestellten Wert derart, daß beispielsweise dann, wenn der Spaltstrom diesen Wert
überschreitet, ein "0"-Signal entsteht, das dem ersten
Eingang 17a zugeführt wird, um den Durchtritt und das Anlegen
der Steuer- bzw. Regelimpulse vom Impulsgenerator an die Schalteinrichtung 12 zu sperren, um dadurch die Frequenz
oder das Impulsdauer/Impulspausen-Verhältnis der am galvanischen Niederschlagungsspalt 0 anliegenden Impulse zu verringern.
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Dadurch ergibt sich eine verbesserte Gleichförmigkeit der durch galvanischen Niederschlag auf dem Werkstück 14 aufgebrachten Schicht.
Die Schaltungsanordnung gemäß Fig.6 verwendet einen
Zerhackerverstärker 20, dem eine Bezugsspannungsquelle 21 und ein FUhIerwiderstand 18 zugeordnet sind. Der Vergleich
der Bezugjspannung 21 mit der Über dem FUhlerwider3tand 18
abfallenden Spannung abhängig von der Größe des galvanischen Niederschlagungsstroms, der zwischen der Elektrode 13 und
dem Werkstück 14 fließt, löst durch den Zerhackerverstärker 10 ein gesteuertes bzw. geregeltes Ein- und Ausschalten der
Schalteinrichtung 12 mit veränderbaren Ein-/Ausschaltzeiten aus, wie beim AusfUhrungsbeispiel gemäß Fig.5. Als Zerhackerverstärker können herkömmliche handelsübliche Verstärker verwendet werden, wie beispielsweise die'Texas
Instrumente-Typen SG1524, SG2524, SG3524.
In der Schaltungsanordnung gemäß Fig. 7 wird ein üblicher
Multivibrator 22 als Impulsgenerator verwendet, um grundlegende oder Basisumschalt-Steuer- oder-Regelimpulse an
die Schalteinrichtung 12 anzulegen. Die grundlegenden Umschalt-Regelimpulse und damit die galvanischen Niederschlagungsstromimpulse, die dadurch bestimmt sind, werden wie bei den vorhergehenden AusfUhrungsbeispielen verändert,und zwar hier mittels
eines Vergleichers 23, der die Bezugsspannung, die Über einer Z-Diode 24 abfällt, mit der Spannung über dem Fühlerwiderstand 18 vergleicht, der von der Größe des durch den
Spalt G fließenden galvanischen Niederschlagungsstroms abhängt.
In Fig. 8 ist eine andere AusfUhrungsform einer Schaltungsanordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
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It,
wiedergegeben. Bei dieser Schaltungsanordnung bilden,die Elektrode Ij5 und das Werkstück 14 wieder einen galvanischen
Niederschlagungsspalt G zwischen sich und sind in Reihe
geschaltet mit einer elektronischen Schalteinrichtung 12, die hier durch drei Transistoren 12a, 12b, 12c gebildet
ist^und mit einer Gleichstromquelle 11. Die Schalteinrichtung
wird ein- und ausgeschaltet durch einen Impulsgenerator 16, der ein Multivibrator mit Zeiteinstellgliedern 16' sein
kann, die hier durch drei Paare 16a, l6b, l6c eines Transistors und eines Widerstands gebildet sind, . die
parallel zueinander geschaltet sind und die selektiv betätigbar sind. Der Widerstandswert der Widerstände dieser Paare l6a,
I6b,l6c ist auf verschiedene Werte so eingestellt, daß bei Einschalten des Paars 16a die Impulspause des Impulsgenerators
einen Minimalwert, daß bei Einschalten des Paars 16c diese einen Maximalwert, und daß bei Einschalten des
Paars 16b diese einen Mittelwert besitzt.
Am Ausgang des Impulsgenerators 16 sind drei Logikglieder 17a, 17b, 17c vorgesehen, um das Ausgangssignal den drei
Schalt-Transistoren 12a, 12b bzw. 12c zuzuführen. Diese
Logikglieder besitzen jeweils einen zusätzlichen Eingangsanschluß a, b bzw. c und sind jeweils gesetzt, wenn der entsprechende
Eingangsimpuls anliegt. Die Transistor-Schalter 12a,
12b, 12c sind weiter jeweils reihengeschaltet mit Widerständen R1, R2 bzw. R-,, die unterschiedliche Widerstandswerte
besitzen, die die Größe der dem Spalt G zugeführten Stromimpulse bestimmen.
Bei diesem AusfUhrungsbeispiel ist die Reihenschaltung
einer Hilfsspannungsquelle 26 und eines Transistors 27
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über den Spalt G angeschlossen. Der Transistor 27 ist
so ausgeführt, daß er durch die in der Phase umgekehrten Signale der Ausgangsimpulse des Impulsgenerators 16 ein-
und ausgeschaltet bzw. durchgeschaltet und gesperrt wird, die über einen Phasenumkehrtransistor 31 auftreten, derart,
daß die Spannung von der Hilfsspannungsquelle 26, die
als Prüfspannung dient, über dem Spalt G auftritt während
Jeder Impulspause des galvanischen Niederschlagungsstromimpulses. Der Widerstandswert oder Impedanzwert während der
Impulspause wird so selektiv erfaßt an einem weiteren Widerstand 28, der kurzgeschlossen ist während der Impulsdauer
mittels eines weiteren Transistors 29, der durch den Einschaltimpuls vom Impulsgenerator 16 durchgeschaltet
wird. Der Erfassungs-Widerstand 28 bzw. dessen Widerstandswert wird einer Diskriminatoreinheit 30 zugeführt, die aus
drei Schwellenwertschaltungen 30a, 30b, 30c besteht, die
durch Schmitt-Triggerschaltungen gebildet sind, die unterschiedliche Schwellenwert- oder Trigger-Spannungspegel V,Qa>
V30b ^ V30c besitzen und die jeweils AusgangsanschiUsse a, b
bzw. c besitzen.
Im Betrieb wird jedesmal, wenn der Niederschlagungsstrom ausgeschaltet wird, der Schalt-Transistor 27 durchgeschaltet,
damit die PrUfspannung von der Hilfsspannungsquelle 26
über den Spalt G angelegt wird/ während der Schalt-Transistor
gesperrt ist. Eine Spannung proportional der Spaltspannung fällt dann über dem Widerstand 28 ab und wird durch die
Diskriminatoreinheit 30 diskriminiert oder unterschieden. Daher tritt, wenn der Spalt G unter Normalbedingung ist,
ein "ln-Signal am Ausgang b auf, um den Schalttransistor des
Paars 16b durchzuschalten, um dadurch die Impulspause auf einen vorgegebenen mittleren Wert einzustellen. Gleichzeitig
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setzt das "1"-Signal am Ausgang b selektiv, das
Logikglied 17b damit der Schalt-Transistor 12b allein betätigt wird. Sin impulsförmiger galvanischer Niederschlagungsstrom
fließt dann, der eine Größe hat, die durch den Widerstand R2 bestimmt ist.
Wenn der Spalt G unter der Hochimpedanz-Bedingung ist, tritt ein "1"-Signal am Ausgang a auf zur Betätigung des
Kinstell-Paars l6a, um die Impulspause auf einen vorgegebenen
durch dieses Paar 16a erreichten verringerten Wert einzustellen. Das "1"-Signal am Ausgang a setzt außerdem selektiv
das Logitcglied 17a, damit der Schalt-Transistor 12a allein schaltungsgesteuert ist. Ein gepulster oder impulsförmiger
galvanischer Niederschlagungsstrom fließt danieder eine erhöhte Größe besitzt, die durch den Widerstand R1 erreicht
ist. Eine Folge von Impulsen, die verändert sind, wenn der Spalt G unter einer Hochimpedanz-Bedingung ist, ist in Fig. 9A
dargestellt.
Wenn der Spalt G unter einer Niederimpedanz-Bedingung ist, entsteht ein "lw-Signal am Ausgang c zur Betätigung des
Sinstell-Paars 16c, wodurch die Impulsdauer auf einen vorgegebenen
durch dieses Paar l6c erreichten höheren Wert eingestellt wird. Simultan wirkt das "1"-Signal am Ausgang c
zum selektiven Setzen des Logikglieds 17c« damit der
Schalttransistor 12c allein angesteuert wird.
Ein impulsförmiger. galvanischer Niederschlagungsstrom fließt dann, der eine verringerte Größe besitzt, die durch den
Widerstand R, bestimmt ist. Eine Impulsfolge, die verändert ist, wenn der Spalt G unter einer NiederImpedanz-Bedingung ist,
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ist in Fig. 9C dargestellt. Der Signalverlauf gemäß Pig. 9B zeigt eine Impulsfolge unter normaler Spaltbedingung.
Galvanische Kupferniederschlagung wurde durchgeführt unter Verwendung einer Impuls-Schaltungsanordnung gemäß
Fig. 8, 9 und es wurden dabei hervorragende Ergebnisse erreicht, beispielsweise mit einer Impulsdauer von 10 ,us
und einem Impulspausen/Impulsdauer-Verhältnis von 1/1 unter Normalimpedanz'-Spaltbedingung einem erhöhten Impulspause/Impuls
dauer-Verhältnis von 5/1 unter Niederimpedanz-Spaltbedingung und einem verringerten Impulspausen/Impulsdauer-Verhältnis von 0,3/1 unter Hochimpedanz-Spaltjgbedingung.
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Leerseite
Claims (15)
- Ansprüche\1. Verfahren zum galvanischen Niederschlagen, dadurch gekennzeichnet,daß elektrischer Strom in Form von Impulsen zwischen einem Werkstück und einer diesem gegenüber angeordneten Elektrode bei Vorhandensein eines Elektrolyten zugeführt wird, wobei die Impulse eine Impulsdauer von höchstens 100 Ms besitzen.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Impulsdauer zwischen 1 und $0 ,us.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Impulspause bzw. der Zeitabstand zwischen benachbarten Impulsen mehr als zweimal länger ist, als die Impulsdauer.
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,daß ein Impuls umgekehrter Polarität zwischen benachbarten Impulsen der normalen Polarität zwischengefUgt wird.
- 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,daß zumindest einer der Impulsparameter verändert wird abhängig von zumindest einem der elektrischen Parameter, die der Spaltbedingung zwischen der Elektrode und dem Werkstück entsprechen.
- 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,daßdie Impulsparameter die Impulsdauer, die Impulspause und/oder die Impulsamplitude sind.809809/1ORIGINAL INSPECTED2739^27
- 7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet,daß die Spaltparameter der Spaltstrom, die Spaltspannung und/oder die Spaltimpedanz sind.
- 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekenn zeichnet,daß der Elektrolyt im Bereich der galvanischen Niederschlagung mit einer Strömungsgeschwindigkeit über 5 m/s gefördert wird.
- 9. Vorrichtung für galvanischen Niederschlag,gekennzeichnet durcheine Gleichspannungsquelle (11),eine elektronische Schalteinrichtung (12), die mit der Gleichstromquelle (11) und einem Spalt (G) für galvanischen Niederschlag zwischen einer Elektrode (2, 13) und einem Werkstück (1, 14) reihengeschaltet ist, undeinen Impulsgenerator (16), der mit der elektronischen Schalteinrichtung (12) zu deren Einschaltung und Ausschaltung verbunden ist, um über den Spalt (G) für galvanischen Niederschlag einen elektrischen Strom in Form von Impulsen einer Impulsdauer von höchstens 100 /US zu führen.
- 10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Gleichstromquelle (11) einen Spannungsregler enthält.
- 11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, gekennzeichnet durch eine auf einen elektrischen Parameter ansprechende Einrichtung (17, 18, 19; 18, 20, 21; 18, 22, 23, 24; 17a, b, c, 26, 27, 28, 29, 30, 31), wobei der Parameter der Bedingung des Spalts (G) für galvanischen Niederschlag entspricht, um aufgrund^dessen ein Signal zu erzeugen zum Ver-809809/11042739Λ27*7 3ändern eines Parameters der Impulse abhängig von diesem Signal.
- 12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung einen Zerhackerkreis (20, 21) aufweist.
- 13. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung einen Fühlerwiderstand (18) der auf den durch den Spalt (G) fließenden Strom anspricht zur Erzeugung einer Signalspannung, eine Bezugsspannungsquelle (24, 26) und eine Einrichtung zur Veränderung der Ausgangsfrequenz des Impulsgenerators (16) abhängig von der Signalspannung und der Bezugsspannung aufweist zur Veränderung der Impulse.
- 14. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung einen FUhlerwiderstand (28), der mit dem Spalt (G) verbunden ist, um ein die Spaltbedingung wiedergebendes Signal zu erzeugen, und eine Schwellenwertschaltung (30a, 30b, 30c) aufweist, die dem FUhlerwiderstand (28) zugeordnet ist, um die Spaltbedingung in zumindest zwei Klassen aufzuteilen,und daß der Impulsgenerator (16) mehrere Impulsparameter einstellende Glieder (Paare 16a, l6b, I6c) aufweist, die selektiv betätigbar sind,abhängig vom Ausgangssignal der Schwellenwertschaltung (30a, 30b, 30c), um eine Veränderung der Impulse zu erreichen.
- 15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 14, gekennzeichnet durch eine Pumpe zur Förderung des Elektrolyten im Bereich des Spaltes (G) mit einer Strömungsgeschwindigkeit von über 5 m/s.809809/1
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10472476A JPS5329346A (en) | 1976-09-01 | 1976-09-01 | Process of electrodeposition |
JP15005176A JPS5373437A (en) | 1976-12-14 | 1976-12-14 | Power source device for electrolysis |
JP6912977A JPS544253A (en) | 1977-06-10 | 1977-06-10 | Electrolytic apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2739427A1 true DE2739427A1 (de) | 1978-03-02 |
DE2739427C2 DE2739427C2 (de) | 1983-12-08 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2739427A Expired DE2739427C2 (de) | 1976-09-01 | 1977-09-01 | Verfahren zum Impulsgalvanisieren von Metall auf einem Werkstück |
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---|---|
US (1) | US4496436A (de) |
CH (1) | CH629542A5 (de) |
DE (1) | DE2739427C2 (de) |
FR (1) | FR2363644A1 (de) |
GB (1) | GB1529187A (de) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2755792A1 (de) * | 1976-12-14 | 1978-06-29 | Inoue Japax Res | Verfahren und vorrichtung zum elektrochemischen polieren |
US4396467A (en) * | 1980-10-27 | 1983-08-02 | General Electric Company | Periodic reverse current pulsing to form uniformly sized feed through conductors |
US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4515671A (en) * | 1983-01-24 | 1985-05-07 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
DE19547948C1 (de) * | 1995-12-21 | 1996-11-21 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Schaltungsanordnung zur Erzeugung von Strompulsen zur elektrolytischen Metallabscheidung |
US6099711A (en) * | 1995-11-21 | 2000-08-08 | Atotech Deutschland Gmbh | Process for the electrolytic deposition of metal layers |
WO2004081262A1 (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Method of electroplating a workpiece having high-aspect ratio holes |
DE102004045451A1 (de) * | 2004-09-20 | 2006-03-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Galvanisches Verfahren zum Füllen von Durchgangslöchern mit Metallen, insbesondere von Leiterplatten mit Kupfer |
EP2113587A1 (de) | 2008-04-28 | 2009-11-04 | ATOTECH Deutschland GmbH | Wässriges saures Bad und Verfahren zum elektronischen Abschneiden von Kupfer |
DE4225961C5 (de) * | 1992-08-06 | 2011-01-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Vorrichtung zur Galvanisierung, insbesondere Verkupferung, flacher platten- oder bogenförmiger Gegenstände |
EP2518187A1 (de) | 2011-04-26 | 2012-10-31 | Atotech Deutschland GmbH | Wässriges Säurebad zur elektrolytischen Ablagerung von Kupfer |
US8784634B2 (en) | 2006-03-30 | 2014-07-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Electrolytic method for filling holes and cavities with metals |
WO2018033461A1 (en) | 2016-08-15 | 2018-02-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Acidic aqueous composition for electrolytic copper plating |
EP3470552A1 (de) | 2017-10-13 | 2019-04-17 | ATOTECH Deutschland GmbH | Saure wässrige zusammensetzung zur elektrolytischen abscheidung einer kupferabscheidung |
EP3901331A1 (de) | 2020-04-23 | 2021-10-27 | ATOTECH Deutschland GmbH | Saure wässrige zusammensetzung zur elektrolytischen abscheidung einer kupferabscheidung |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8105150A (nl) | 1981-11-13 | 1983-06-01 | Veco Beheer Bv | Werkwijze voor het vervaardigen van zeefmateriaal, verkregen zeefmateriaal, alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
US4566953A (en) * | 1984-12-24 | 1986-01-28 | At&T Technologies, Inc. | Pulse plating of nickel-antimony films |
IT1215985B (it) * | 1988-03-04 | 1990-02-22 | Elca Srl | Procedimento elettrochimico per la realizzazione di rivestimenti di cromo e metalli simili mediante corrente pulsante ad inversione periodica della polarita' |
US5270229A (en) * | 1989-03-07 | 1993-12-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film semiconductor device and process for producing thereof |
FI85793C (fi) * | 1990-05-18 | 1992-05-25 | Plasmapiiri Oy | Foerfarande och anordning foer framstaellning av kretskort. |
JP2875680B2 (ja) * | 1992-03-17 | 1999-03-31 | 株式会社東芝 | 基材表面の微小孔又は微細凹みの充填又は被覆方法 |
US6402931B1 (en) | 1998-05-18 | 2002-06-11 | Faraday Technology Marketing Group, Llc | Electrochemical machining using modulated reverse electric fields |
US6582578B1 (en) | 1999-04-08 | 2003-06-24 | Applied Materials, Inc. | Method and associated apparatus for tilting a substrate upon entry for metal deposition |
DE19925373B4 (de) * | 1999-06-02 | 2006-04-06 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Galvanisieren |
US6299741B1 (en) | 1999-11-29 | 2001-10-09 | Applied Materials, Inc. | Advanced electrolytic polish (AEP) assisted metal wafer planarization method and apparatus |
US6379223B1 (en) | 1999-11-29 | 2002-04-30 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for electrochemical-mechanical planarization |
US6913680B1 (en) | 2000-05-02 | 2005-07-05 | Applied Materials, Inc. | Method of application of electrical biasing to enhance metal deposition |
WO2001090446A2 (en) | 2000-05-23 | 2001-11-29 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus to overcome anomalies in copper seed layers and to tune for feature size and aspect ratio |
JP3423702B2 (ja) * | 2000-08-29 | 2003-07-07 | 創輝株式会社 | 金属めっき方法 |
US6740221B2 (en) | 2001-03-15 | 2004-05-25 | Applied Materials Inc. | Method of forming copper interconnects |
DE10202431C1 (de) * | 2002-01-22 | 2003-05-28 | Egon Huebel | Vorrichtung und Verfahren zum elektrochemischen Behandeln von Gut mit Pulsstrom |
WO2003063067A1 (en) * | 2002-01-24 | 2003-07-31 | Chatterbox Systems, Inc. | Method and system for locating positions in printed texts and delivering multimedia information |
US20030188974A1 (en) * | 2002-04-03 | 2003-10-09 | Applied Materials, Inc. | Homogeneous copper-tin alloy plating for enhancement of electro-migration resistance in interconnects |
US6911136B2 (en) * | 2002-04-29 | 2005-06-28 | Applied Materials, Inc. | Method for regulating the electrical power applied to a substrate during an immersion process |
US20030201185A1 (en) * | 2002-04-29 | 2003-10-30 | Applied Materials, Inc. | In-situ pre-clean for electroplating process |
US20030209523A1 (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-13 | Applied Materials, Inc. | Planarization by chemical polishing for ULSI applications |
US7189313B2 (en) * | 2002-05-09 | 2007-03-13 | Applied Materials, Inc. | Substrate support with fluid retention band |
US20040072445A1 (en) * | 2002-07-11 | 2004-04-15 | Applied Materials, Inc. | Effective method to improve surface finish in electrochemically assisted CMP |
US20040118699A1 (en) * | 2002-10-02 | 2004-06-24 | Applied Materials, Inc. | Homogeneous copper-palladium alloy plating for enhancement of electro-migration resistance in interconnects |
US20040206628A1 (en) * | 2003-04-18 | 2004-10-21 | Applied Materials, Inc. | Electrical bias during wafer exit from electrolyte bath |
US20060175201A1 (en) * | 2005-02-07 | 2006-08-10 | Hooman Hafezi | Immersion process for electroplating applications |
US20110017608A1 (en) * | 2009-07-27 | 2011-01-27 | Faraday Technology, Inc. | Electrochemical etching and polishing of conductive substrates |
CA2911750C (en) | 2013-05-06 | 2017-01-03 | Fpinnovations | Cellulose nanocrystal (cnc) films and conductive cnc-based polymer films produced using electrochemical techniques |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2726202A (en) * | 1955-06-06 | 1955-12-06 | Robotron Corp | Method for plating by condenser discharge |
DE1421984A1 (de) * | 1962-10-01 | 1968-11-07 | Forsch Edelmetalle Und Metallc | Verfahren zur Herstellung von rissfreien Chromueberzuegen |
US3716464A (en) * | 1969-12-30 | 1973-02-13 | Ibm | Method for electrodepositing of alloy film of a given composition from a given solution |
DE2121150C3 (de) * | 1971-04-24 | 1980-08-21 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Goldlegierungen |
JPS5745318B2 (de) * | 1974-09-18 | 1982-09-27 | ||
US3959088A (en) * | 1975-03-19 | 1976-05-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Method and apparatus for generating high amperage pulses from an A-C power source |
-
1977
- 1977-08-31 CH CH1062977A patent/CH629542A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-09-01 FR FR7726610A patent/FR2363644A1/fr active Granted
- 1977-09-01 DE DE2739427A patent/DE2739427C2/de not_active Expired
- 1977-09-01 GB GB36632/77A patent/GB1529187A/en not_active Expired
-
1978
- 1978-12-27 US US06/973,608 patent/US4496436A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
Dettner, Elze, Handbuch der Galvanstechnik, Bd. I, Teil 1, 1963, S. 134-135 * |
Metalloberfläche, Mai 1976, S. 205-211 * |
Plating, August 1969, S. 909-913 * |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2755792A1 (de) * | 1976-12-14 | 1978-06-29 | Inoue Japax Res | Verfahren und vorrichtung zum elektrochemischen polieren |
US4396467A (en) * | 1980-10-27 | 1983-08-02 | General Electric Company | Periodic reverse current pulsing to form uniformly sized feed through conductors |
US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4515671A (en) * | 1983-01-24 | 1985-05-07 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
DE4225961C5 (de) * | 1992-08-06 | 2011-01-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Vorrichtung zur Galvanisierung, insbesondere Verkupferung, flacher platten- oder bogenförmiger Gegenstände |
US6099711A (en) * | 1995-11-21 | 2000-08-08 | Atotech Deutschland Gmbh | Process for the electrolytic deposition of metal layers |
DE19547948C1 (de) * | 1995-12-21 | 1996-11-21 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Schaltungsanordnung zur Erzeugung von Strompulsen zur elektrolytischen Metallabscheidung |
US6132584A (en) * | 1995-12-21 | 2000-10-17 | Atotech Deutschland Gmbh | Process and circuitry for generating current pulses for electrolytic metal deposition |
WO2004081262A1 (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Method of electroplating a workpiece having high-aspect ratio holes |
DE10311575A1 (de) * | 2003-03-10 | 2004-09-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum elektrolytischen Metallisieren von Werkstücken mit Bohrungen mit einem hohen Aspektverhältnis |
DE10311575B4 (de) * | 2003-03-10 | 2007-03-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum elektrolytischen Metallisieren von Werkstücken mit Bohrungen mit einem hohen Aspektverhältnis |
US9445510B2 (en) | 2004-09-20 | 2016-09-13 | Atotech Deutschland Gmbh | Galvanic process for filling through-holes with metals, in particular of printed circuit boards with copper |
DE102004045451B4 (de) * | 2004-09-20 | 2007-05-03 | Atotech Deutschland Gmbh | Galvanisches Verfahren zum Füllen von Durchgangslöchern mit Metallen, insbesondere von Leiterplatten mit Kupfer |
DE102004045451A1 (de) * | 2004-09-20 | 2006-03-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Galvanisches Verfahren zum Füllen von Durchgangslöchern mit Metallen, insbesondere von Leiterplatten mit Kupfer |
US9526183B2 (en) | 2004-09-20 | 2016-12-20 | Atotech Deutschland Gmbh | Galvanic process for filling through-holes with metals, in particular of printed circuit boards with copper |
US8784634B2 (en) | 2006-03-30 | 2014-07-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Electrolytic method for filling holes and cavities with metals |
EP2113587A1 (de) | 2008-04-28 | 2009-11-04 | ATOTECH Deutschland GmbH | Wässriges saures Bad und Verfahren zum elektronischen Abschneiden von Kupfer |
US8679316B2 (en) | 2008-04-28 | 2014-03-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Aqueous, acid bath and method for the electrolytic deposition of copper |
EP2518187A1 (de) | 2011-04-26 | 2012-10-31 | Atotech Deutschland GmbH | Wässriges Säurebad zur elektrolytischen Ablagerung von Kupfer |
WO2012146591A1 (en) | 2011-04-26 | 2012-11-01 | Atotech Deutschland Gmbh | Aqueous acidic bath for electrolytic deposition of copper |
WO2018033461A1 (en) | 2016-08-15 | 2018-02-22 | Atotech Deutschland Gmbh | Acidic aqueous composition for electrolytic copper plating |
EP3470552A1 (de) | 2017-10-13 | 2019-04-17 | ATOTECH Deutschland GmbH | Saure wässrige zusammensetzung zur elektrolytischen abscheidung einer kupferabscheidung |
EP3901331A1 (de) | 2020-04-23 | 2021-10-27 | ATOTECH Deutschland GmbH | Saure wässrige zusammensetzung zur elektrolytischen abscheidung einer kupferabscheidung |
WO2021214255A1 (en) | 2020-04-23 | 2021-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Acidic aqueous composition for electrolytically depositing a copper deposit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH629542A5 (de) | 1982-04-30 |
GB1529187A (en) | 1978-10-18 |
DE2739427C2 (de) | 1983-12-08 |
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FR2363644A1 (fr) | 1978-03-31 |
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