DE2650050A1 - Photopolymerisierbare massen - Google Patents
Photopolymerisierbare massenInfo
- Publication number
- DE2650050A1 DE2650050A1 DE19762650050 DE2650050A DE2650050A1 DE 2650050 A1 DE2650050 A1 DE 2650050A1 DE 19762650050 DE19762650050 DE 19762650050 DE 2650050 A DE2650050 A DE 2650050A DE 2650050 A1 DE2650050 A1 DE 2650050A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- groups
- polymer
- photopolymerizable
- formula
- butadiene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 62
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 61
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 41
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 25
- -1 methyl-substituted styrenes Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 17
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 12
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical group CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims description 9
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 8
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 7
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 6
- 150000001336 alkenes Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 5
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 claims description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 3
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- PKXHXOTZMFCXSH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylbut-1-ene Chemical compound CC(C)(C)C=C PKXHXOTZMFCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 5
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920013646 Hycar Polymers 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N Methyl ethyl ketone Natural products CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 2
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N ortho-butylphenol Natural products CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004584 weight gain Effects 0.000 description 2
- 235000019786 weight gain Nutrition 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (1R)-1,3-butanediol Natural products CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIKUXHHNKRKVGJ-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-(4-methylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1Cl WIKUXHHNKRKVGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRWAIZJYJNLOPG-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(=O)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 QRWAIZJYJNLOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URBLVRAVOIVZFJ-UHFFFAOYSA-N (3-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound CC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 URBLVRAVOIVZFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEOLYBMGRQYQTN-UHFFFAOYSA-N (4-bromophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KEOLYBMGRQYQTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRIBPIAKCVDXLY-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)-(4-methylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MRIBPIAKCVDXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFYJCXSOGSYMAJ-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DFYJCXSOGSYMAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWCRCPYQHKOKNR-NSCUHMNNSA-N 1-o-methyl 4-o-(oxiran-2-ylmethyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(=O)OCC1CO1 OWCRCPYQHKOKNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZJUIZVJLSNDD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylidenebutanoyloxy)ethyl 2-methylidenebutanoate Chemical compound CCC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(=C)CC QLZJUIZVJLSNDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRYKSOAJFBKBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylidenepentanoyloxy)ethyl 2-methylidenepentanoate Chemical compound CCCC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(=C)CCC WRYKSOAJFBKBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-2-enoxymethyl)oxirane Chemical compound C=CCOCC1CO1 LSWYGACWGAICNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propoxy]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)OCC(C)OC(=O)C(C)=C JFZBUNLOTDDXNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTNZIJNHZRKTDU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[1-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(C)NC(=O)C(C)=C BTNZIJNHZRKTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAIHIGGRKUDIBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-n-[(2-methylidenebutanoylamino)methyl]butanamide Chemical compound CCC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(=C)CC WAIHIGGRKUDIBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBSUXVQZQSTIJB-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-n-[(2-methylidenepentanoylamino)methyl]pentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(=C)CCC OBSUXVQZQSTIJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIXYXZFKOULKBD-UHFFFAOYSA-N 2-pentoxybenzene-1,4-diol Chemical compound CCCCCOC1=CC(O)=CC=C1O AIXYXZFKOULKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(O)=O RTTAGBVNSDJDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIIIPQXXLVCCQP-UHFFFAOYSA-N 4-propoxyphenol Chemical compound CCCOC1=CC=C(O)C=C1 KIIIPQXXLVCCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTDRDQBEARUVNC-LURJTMIESA-N L-DOPA Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=C(O)C(O)=C1 WTDRDQBEARUVNC-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100345589 Mus musculus Mical1 gene Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N benzilic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087675 benzilic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SCBBVCPZAKTFJU-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dichlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl SCBBVCPZAKTFJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLAXRNPOMJQLE-UHFFFAOYSA-N n-[1-(prop-2-enoylamino)propyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(CC)NC(=O)C=C RWLAXRNPOMJQLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical group C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005651 polypropylene glycol dimethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920006250 telechelic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSROZUMNVRXZNO-UHFFFAOYSA-K tris[(1-naphthalen-1-yl-3-phenylnaphthalen-2-yl)oxy]alumane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C=CC=CC2=C(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=1O[Al](OC=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1C=1C=CC=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)OC(C(=C1C=CC=CC1=C1)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 DSROZUMNVRXZNO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/04—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
- C08F290/048—Polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft photopolymerisierbare Massen,
Verfahren zur Herstellung von Reliefdruckformen und photopolymerisierbare Materialien, insbesondere flüssige,
in Wasser dispergierbare photopolymerisierbare Massen, die bei Belichtung mit aktinischer Strahlung vernetzte
Strukturen mit Härte, Flexibilität, Elastizität, Abriebfestigkeit und Beständigkeit gegen Druckfarben auf
Basis von Alkoholen aufweisen, die photopolymeren Druckformen, auf die eine Schicht dieser Masse aufgebracht
ist, und ein Verfahren zur Herstellung von Reliefdruck— formen aus diesen Massen.
Photopolymerisierbare Massen, die unter der Einwirkung von aktinischem Licht in einen festen, unlöslichen,
zähen Zustand überführt werden können, sind allgemein bekannt und haben steigende Bedeutung für die Herstellung
von Druckformen erlangt· Eines der grundlegenden Patente, das solche Massen zum Gegenstand hat, ist das
US-Patent 2 760 863. Bei dem Verfahren dieses Patents werden Druckplatten unmittelbar hergestellt, indem akti-
70981 9/1129
Telefon: (02 21) 23 45 41 - 4 · Telex: 888 2307 dopa d · Telegramm: Dompatent Köln
nisches Licht durch eine Transparentvorlage auf eine
Schicht einer im wesentlichen transparenten Masse zur Einwirkung gebracht wird, die ein additionspolymerisierbares,
äthylenisch ungesättigtes Monomeres und einen durch aktinisches Licht aktivierbaren Additionspolymere—
sationsinitiator enthält. Die Schicht der polymerisierbaren Masse ist auf einen geeigneten Träger aufgebracht,
und die Schicht wird so lange belichtet, bis wesentliche Polymerisation der Masse in den belichteten Bereichen
stattgefunden hat, während in den unbelichteten Bereichen im wesentlichen keine Polymerisation stattfindet. Das
unveränderte Material in den unbelichteten Bereichen wird dann beispielsweise durch Behandlung mit einem geeigneten
Lösungsmittel, in dem die polymerisierte Masse in den belichteten Bereichen unlöslich ist, entfernt. Hierdurch
entsteht ein aus einem erhabenen Relief bestehendes Bild, das dem transparenten Bild der Transparentvorlage entspricht
und für die Verwendung als Druckform beispielsweise in der Druckerpresse und für den Offsetdruck geeignet
ist.
Photopolymerisierbare Schichten der in der oben genannten US-Patentschrift beschriebenen Art werden im allgemeinen
aus polymeren Komponenten hergestellt, die in organischen Lösungsmitteln löslich sind. Demgemäß erfordert die Entwicklung
von Druckplatten auf Basis solcher Massen die Verwendung von organischen Lösungsmitteln oder Lösungen,
die hohe Anteile von organischen Lösungsmitteln enthalten. Auf Grund der Giftigkeit, hohen Flüchtigkeit und
des allgemein niedrigen Flammpunkts von billigen organischen Lösungsmitteln führte ihre Verwendung häufig zu
gefährlichen Situationen. Dies hatte zur Folge, daß weitere Forschungsarbeiten auf die Entwicklung verschiedener
photopolymerisierbarer Schichten, die in Wasser oder wässrigem Alkali löslich sind, gerichtet wurden und auch
erfolgreich waren. Beispielsweise werden für diese
70981 9/1129
Schichten polymere Komponenten, die seitenständige Säuregruppen enthalten, oder ihre löslichen Salze oder gewisse
wasserlösliche Polymermassen verwendet. In der US-PS 3 794 494 werden in Wasser oder wässrigem Alkali
dispergierbare Massen beschrieben, die sich für die Verwendung zur Herstellung von starren oder elastischen
Druckformen für den Flexodruck eignen. Diese Massen enthalten Kombinationen von ungesättigten Polyestern, mehrfach
ungesättigten Monomeren und einem Photopolymerisationsinitiator. Flexible Druckformen, die sich für den
Flexodruck unter Verwendung von Druckfarben auf Alkohol- · basis eignen, können jedoch unter Verwendung der Massen
des in der genannten Patentschrift beschriebenen Typs
nicht hergestellt werden, weil die für den Flexodruck verwendeten schnell trocknenden Druckfarben auf Alkoholbasis
die gehärteten Massen quellen und auflösen.
Es wurde nun gefunden, daß photopolymere Druckformen von ausgezeichneter Qualität, die Flexibilität, Elastizität,
Abriebfestigkeit und Beständigkeit gegen Druckfarben auf Alkoholbasis aufweisen, aus gewissen außergewöhnlichen
Photopolymermassen gemäß der Erfindung hergestellt werden können. Die Photopolymermassen gemäß der Erfindung enthalten
ein flüssiges Polymerisat, das wenigstens zwei endständige Olefingruppen enthält, die an das Polymere
über eine Kombination von wenigstens zwei Äther-, Thioäther-, Ester-, Keto- oder Amidgruppen gebunden sind, etwa
1 bis 50 Gew.-% (bezogen auf das flüssige Polymerisat)
eines äthylenisch ungesättigten Monomeren aus der Gruppe, die aus Acrylnitril, Styrol, methylsubstituierten Styrolen
und Monomeren besteht, deren Ungesättigtheit in Form wenigstens einer Gruppe der Formel O
CH2=C-C-
vorliegt, in der R Wasserstoff oder ein C*-C,-Alkylrest
ist, etwa 0,1 bis 10 Gew.-% eines Photoinitiators und etwa 0,01 bis 2% eines Inhibitors der thermischen Polyme-
70981 9/1129
risation.
Die photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung
sind nicht wasserlöslich, jedoch in Wasser in ausreichendem Maße dispergierbar, um unbelichtete Bereiche der aus
diesen Massen hergestellten Druckformen durch Waschen mit verdünnten wässrigen Lösungen eines Detergens entfernen
zu können. Besonders gut geeignet als Detergentien sind
anionaktive Tenside, z.B. Olefinsulfonate.
Typisch für die flüssigen Polymerisate, die in den photopolymerisierbaren
Massen gemäß der Erfindung verwendet werden, ist ein Polymerisat, das hergestellt wird durch
Umsetzung eines Butadien-, Isopren-, Chloropren-, Styrol-, Isobutylen- oder Äthylenpolymerisats oder eines Butadien/
Acrylnitril-Copolymerisats, eines Butadien/Isopren-Copolymerisats,
eines Butadien/Styrol-Copolymerisats oder eines Äthylen/Neohexen-Copolymerisats, das endständige
Carboxylgruppen, Amingruppen, Hydroxylgruppen, Thiolgruppen, Oxirangruppen oder Aziridingruppen enthält, oder
entsprechender Produkte, aus denen die olefinische Doppelbindung beispielsweise durch Hydrierung entfernt worden
ist, mit einem Glycidylallyläther, Glycidylacrylat oder alkylsubstituiertem Glycidylacrylat. Endständige funktioneile
Gruppen enthaltende Polymerisate und Copolymerisate des zur Herstellung dieser endständig ungesättigten Polymerisate
geeigneten Typs werden in einer Arbeit von French in Rubber Chemistry and Technology 42 (1969) 71-107
beschrieben. Die photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung lassen sich leicht auf Träger, z.B. Polyesterfolien
oder gekörnte Bleche aus Lösungen nach üblichen Beschichtungsverfahren aufbringen. Diese Schichten haben
im allgemeinen eine Dicke von 76 u bis 6,4 mm. Nach dem Belichten durch eine Transparentvorlage lassen sich die
Schichten leicht mit einer wässrigen Tensidlösung zur Bildung von Reliefdruckplatten entwickeln, so daß die
Notwendigkeit der Verwendung organischer Lösungsmittel
70981 9/1129
/ο
ausgeschaltet wird, Obwohl organische Lösungsmittel, falls
gewünscht, allein oder in Kombination mit Wasser verwendet werden können.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung eines flüssigen Polymerisats, das aus endständige Carboxylgruppen
enthaltendem Polybutadien und Glycxdylmethacrylat hergestellt wird, in einer photopolymerisierbaren Masse
gemäß der Erfindung.
In einen mit Rührer, Rückflußkühler und Luftverteilerrohr
versehenen Rundkolben werden 3272 Teile Polybutadien mit endständigen Carboxylgruppen ("Hycar CTB"-2OOOX162, Hersteller
B.F.Goodrich Co.) und 2,61 Teile Natriummethoxyd
als Katalysator gegeben. Das Gemisch wird unter Rühren erhitzt, während ein trockener Luftstrom durchgeleitet
wird. Nach Erreichen einer Temperatur von 1000C werden
229 Teile Glycidylmethacrylat zusammen mit einem Gemisch von Wärmestabilisatoren aus 0,26 Teilen Nitrobenzol,
0,49 Teilen Phenothiazin und 6,55 Teilen Di-t-butyl-pkresol
zugesetzt. Das Reaktionsgemisch wird 11 Stunden bei einer Temperatur von 1000C gehalten. Das erhaltene endständig
ungesättigte Polymerisat hat eine Säurezahl von 2,8 und eine bei 25°C gemessene Brookfield-Viskosität von
92.410 cPs.
Ein Teil von 3087 Teilen des in der beschriebenen Weise hergestellten Polymerisats wird zusammen mit einem Gemisch
von ungesättigten Monomeren aus 210,5 Teilen 1,6-Hexandioldimethacrylat
und 210,5 Teilen Laurylmethacrylat und 140,3 Teilen 2,2-Diäthoxyacetophenon als Photoinitiator
gerührt. Dieses Gemisch wird eine Stunde bei Raumtemperatur gerührt und ist nach dieser Zeit vollständig homogen.
Die erhaltene photopolymerisierbare Masse hat eine bei 25°C gemessene Brookfield-Viskosität von 21.200 cPs.
70981 9/1129
Die in der beschriebenen Weise hergestellte photopolymerisierbare Masse wird in einen 2 mm hohen Gummirahmen
gegossen. Eine Glasplatte wird über den Rahmen in Berührung mit der Masse gelegt. Die Masse wird dann durch die
Glasplatte 60 Sekunden bei Raumtemperatur mit einer Reihe
von 10 im Abstand von 7 cm vom Glas angeordneten 30 W-UV-Fluoreszenzlampen
(Westinghouse F3OT8/BL) belichtet. Die Glasplatte mit der daran haftenden Photopolymerschicht
wird aus der Form genommen und in ein Waschbad getaucht, das eine wässrige Lösung von 1,0% a-Olef insulfonat~Detergens
("Bioterg", Hersteller Stepan Chemical Corp.) enthält. Der
dem Glas (und den UV-Lampen) am nächsten liegende Teil der Schicht ist gehärtet worden. Diese gehärtete Masse
wird vom Glas abgestreift und getrocknet. Sie hat eine Dicke von 0,36 mm.
Dieses Beispiel veranschaulicht die physikalischen Eigenschaften der in Beispiel 1 beschriebenen vernetzten
Photopodymermasse.
Eine Probe der in Beispiel 1 beschriebenen photopolymerisierbaren Masse wird in einer Dicke von 1,02 mm auf
einer Glasplatte mit einer Rakel ausgebreitet. Die Masse wird mit einer 0,1 mm dicken Polyesterfolie bedeckt und
auf die in Beispiel 1 beschriebene Weise 20 Sekunden durch die Polyesterfolie mit UV-Lampen belichtet. Die Masse wird
dann 4,5 Minuten durch die Glasplatte mit einer 3 kW-Quecksilbermitteldruck-Bogenlampe
4,5-Minuten belichtet. Die Polyesterfolie wird von der vernetzten Masse abgestreift
und die gehärtete Masse ihrerseits vom Glas abgestreift. Hanteiförmige Proben werden aus der vernetzten
Masse geschnitten und zur Bestimmung der physikalischen Eigenschaften verwendet. Die vernetzte Masse hat eine
2
Zugfestigkeit von 16,9 kg/cm , eine Dehnung von 70%, einen
Zugfestigkeit von 16,9 kg/cm , eine Dehnung von 70%, einen
2
Zugmodul von 33 kg/cm , eine Bayshore-Rückprallelastizität
Zugmodul von 33 kg/cm , eine Bayshore-Rückprallelastizität
70981 9/1129
von 47% und eine Shore-A-Härte von 52,
Dieses Beispiel veranschaulicht die Lösungsmittelbeständigkeit der in Beispiel 1 beschriebenen photopolymerisierbaren
Masse in verschiedenen Lösungsmitteln.
Proben der vernetzten Photopolymermassen werden in einer Dicke von 1,27 mm auf die in Beispiel 2 beschriebene
Weise hergestellt und in verschiedenen Lösungsmitteln getestet. Die prozentuale Gewichtszunahme und die Änderung
der Shore-A-Härte sind nachstehend in Tabelle I genannt.
Lösungsmittelbeständigkeit der vernetzten Photopolymermasse
Versuch
Lösungsmittel
Gewichts- Änderung der zunähme Shore-A-in
%* Härte
a Wasser
b Methanol
c Äthanol
d N-Propanol
e Isopropanol
f Äthylenglykol
g Propylenglykol
h Diäthylenglykol
i Cellosolve
j Butylcellosolve
k Aceton
1 Methyläthylketon
m Äthylacetat
η Heptan
ο Kerosin
ρ Xylol
q Perchloräthylen
+ 2
2 2 4 3 |
O O CM CM |
-1 -1 |
+ 1 + 1 O |
10 13 |
-7 -1,4 |
20 50 |
-3 —4 |
62 75 82 |
-4 aufgelöst -4 |
- | aufgelöst |
aufgelöst |
709819/1129
Ver- τ .· „",.,„, Gewichts- Änderung
such Losungsmittel zunahme in %· der Shore-A-
Härte
r 90% denaturierter
Äthylalkohol - ·. 5 ρ
,10% Äthylacetat
s 80% denaturierter . .
Äthylalkohol 9 -5
20% Äthylacetat
t 77% Wasser 1,5 1,5
17% Isöpropanol 6% konzentriertes NH.OH
*Nach 24 Stunden im Lösungsmittel bei Raumtemperatur;
Probendicke 1,27 mm; Schicht auf Polyesterfolie aufgebracht.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung eines aus einem Butadien/Acrylnitril-Copolymerisat mit endständigen
Carboxylgruppen und Glycidylmethacrylat hergestellten flüssigen Polymerisats in einer photopolymerisierbaren
Masse gemäß der Erfindung.
In einen Kolben, der auf die in Beispiel 1 beschriebene
Weise ausgestattet ist, werden 536 Teile eines endständige Carboxylgruppen enthaltenden Butadien/Acrylnitril-Copolymerisats,
das eine Säurezahl von 31,1 hat und 17% Acrylnitril enthält, 98,0 Teile Glycidylmethacrylat,
0,43 Teile Natriummethoxyd als Katalysator und 2,41 Teile
Di-t-butyl-p-kresol als Stabilisator gegeben. Das Reaktionsgemisch
wird 5 Stunden bei 1OO°C gerührt. Das erhaltene endständig ungesättigte Polymerisat hat eine
Säurezahl von 0,8.
440 Teile des in der beschriebenen Weise hergestellten Polymerisats werden zusammen mit einem Gemisch von ungesättigten
Monomeren, bestehend aus 30 Teilen 1,6-Hexan-
70981 9/1129
dioldimethacrylat und 30 Teilen Laurylmetharcylat, und
20 Teilen 2,2-Diäthoxyacetophenonals Photoinitiator
gerührt, bis das Gemisch vollständig homogen ist. Eine
Probe der erhaltenen photopolymerisierbaren Masse wird 5O Tage im Dunkeln bei einer Temperatur von 6O°C gehalten. Nach der Lagerung wird die Masse untersucht. Es wird
festgestellt, daß keine Gelbildung stattgefunden hat.
Eine Probe der in der beschriebenen Weise hergestellten photopolymerisierbaren Masse wird in einen Gummirahmen
gegossen. Auf den Rahmen wird eine Glasplatte gelegt, die mit der Masse in Berührung ist. Die Schicht wird dann
durch die Glasplatte mit UV-Lampen genau in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise belichtet. Eine 0,432 mm
dicke Schicht aus der vernetzten (d.h. gehärteten) Masse hat sich angrenzend an die Glasplatte gebildet.
Proben der vernetzten Photopolymermasse werden in einer Dicke von 1,27 mm hergestellt und auf die in Beispiel 2
beschriebene Weise auf ihre physikalischen Eigenschaften geprüft. Die vernetzte Masse hat eine Zugfestigkeit von
2
25,3 kg/cm , eine Dehnung von 70%, einen Zugmodul von
25,3 kg/cm , eine Dehnung von 70%, einen Zugmodul von
2
51,7 kg/cm , eine Bayshore—Rückprallelastizität von 37% und eine Shore-A-Härte von 59. Proben, die 24 Stunden bei Raumtemperatur in Äthylalkohol gehalten werden, zeigen eine Gewichtszunahme von 6%. Proben, die unter den gleichen Bedingungen in Isopropanol getaucht werden, haben eine Gewichtszunahme von 8· %.
51,7 kg/cm , eine Bayshore—Rückprallelastizität von 37% und eine Shore-A-Härte von 59. Proben, die 24 Stunden bei Raumtemperatur in Äthylalkohol gehalten werden, zeigen eine Gewichtszunahme von 6%. Proben, die unter den gleichen Bedingungen in Isopropanol getaucht werden, haben eine Gewichtszunahme von 8· %.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung eines aus einem endständige Amingruppen enthaltenden Butadien/Acrylnitril-Copolymerisat
und Glycidylmethacrylat hergestellten flüssigen Polymerisats in einer photopolymerisierbaren
Masse gemäß der Erfindung.
In einen ersten Kolben, der auf die in Beispiel 1 be-
709819/1129
schriebene Weise ausgestattet ist, werden 934,8 Teile eines Butadien/Acrylnitril-Copolymerisats mit endständigen
Amingruppen ("Hycar ATBN", Hersteller B.F.Goodrich
Co.), 374 Teile Glycidylmethacrylat und ein Gemisch von thermischen Stabilisatoren, bestehend aus 0,07 Teilen
Nitrobenzol, 0,14 Teilen Phenothiazin und 1,87 Teilen Di-t-butyl-p-kresol, gegeben. Das Reaktionsgemisch wird
4 Stunden bei 60°C gerührt.
246 Teile des erhaltenen endständig ungesättigten Polymerisats werden zusammen mit einem Gemisch von ungesättigten
Monomeren, bestehend aus 18 Teilen 1,6-Hexandioldimethacrylat
und 18 Teilen Laurylmethacrylat, 12 Teilen 2,2-Diäthoxyacetophenon
als Photoinitiator und 1,2 Teilen Di-t-butyl-p-kresol als Stabilisator eine Stunde bei
Raumtemperatur gerührt.
Eine 1,02 mm dicke Schicht der erhaltenen photopolymerisierbaren Masse wird, durch Belichtung für 3,5 Minuten mit
einer 3 kW-Quecksilbermitteldruck-Bogenlampe vernetzt.
Proben der vernetzten Masse werden auf ihre physikalischen Eigenschaften untersucht. Gefunden wird eine Zugfestigkeit
von 148 kg/cm (2100 psi), eine Dehnung von 32%, ein Zugmodul von 1617 kg/cm (23 200 psi) und eine Shore-A-Härte
von 88.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung der in Beispiel 1 beschriebenen photopolymerisierbaren Masse für
die Herstellung einer Druckform.
Ein Teil der in Beispiel 1 beschriebenen photopolymerisierbaren Masse wird in einer 1,7 mm dicken Schicht auf
eine 0,1 mm dicke Polyester-Trägerfolie aufgetragen und durch ein Negativtransparent 6 Minuten mit· einer 3 kW-Quecksilbermitteldruck-Bogenlampe
belichtet. Die nicht vernetzte photopolymere Masse wird mit einer wässrigen
70981 9/1129
Lösung von 1,0% α-Olefinsulfonat ("Bioterg") bei 50°C
herausgewaschen. Die erhaltene Druckform wird getrocknet
und nachbelichtet, indem sie unter Stickstoff 12 Minuten der Einwirkung von 10 UV-Leuchtstofflampen von je 30 W
ausgesetzt wird. Die erhaltene Druckplatte zeigt nicht die geringste Klebrigkeit.
Die in dieser Weise hergestellte Druckform wird auf einer Druckerpresse für den Flexodruck aufgespannt. Die Presse
wird mit einer Geschwindigkeit von 76,2 bis "91,4 m/Minute betrieben, bis eine Auflage von etwa 10000 erreicht ist.
Hierbei wird eine rote Druckfarbe für den Flexodruck verwendet, die als Lösungsmittel 3% Methylalkohol, 73% Äthylalkohol,
10% Isopropylalkohol, 10% Äthylcellosolve und 4% Wasser enthält. Nach Beendigung des Versuchs wird die
Druckform visuell untersucht. Sie zeigt keine Anzeichen von Verschleiß, Quellung oder Klebrigkeit. Die hergestellten
Drucke sind von hoher Qualität.
Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung des in Beispiel 1 beschriebenen endständig ungesättigten Polymerisats
in verschiedenen photopolymerisierbaren Massen.
In jedem Fall wird das endständig ungesättigte Polymerisat, das das in Beispiel 1 beschriebene Gemisch von thermischen
Stabilisatoren enthält, mit einem oder mehreren ungesättigten Monomeren und einem Photoinitiator zur Bildung einer
photopolymerisierbaren Masse gerührt. Proben für die Ermittlung der physikalischen Eigenschaften werden in einer
Dicke von 1,27 mm auf eine Glasplatte aufgetragen und mit einer 0,254 mm dicken Polyesterfolie bedeckt. Jede Probe
wird dann durch die Polyesterfolie auf die in Beispiel 1 beschriebene Weise 1 Minute mit UV-Lampen und dann 4 Minuten
durch die Glasplatte mit einer 3 kW-Quecksilbermitteldruck-Bogenlampe
belichtet. Weitere Proben werden in der gleichen Weise hergestellt, jedoch nur mit UV-Licht durch
709819/1 1 29
die Polyesterfolie für 30 bis 180 Sekunden belichtet. Die Bestandteile der photopolymerisierbaren Masse, die Dicke
der vernetzten Schichten, die durch Belichtung für 30 bis 180 Sekunden gebildet werden, und die physikalischen
Eigenschaften der vollständig vernetzten Proben sind nachstehend in Tabelle II genannt.
der vernetzten Schichten, die durch Belichtung für 30 bis 180 Sekunden gebildet werden, und die physikalischen
Eigenschaften der vollständig vernetzten Proben sind nachstehend in Tabelle II genannt.
7 0 9 8 19/1129
II
Komponenten der phctopolymerisierbaren Masse
Endständig ungesättigtes Polymeres Laurylmethacrylat
1,6-Hexandioldimethacrylat
Tetraäthylenglykoldimethacrylat Polypropylenglykoldimethacrylet
1,3-Butylenglykoldimethacrylat
2,2-Diäthoxyacetophenon (Photoinitiator) Benzoinisobutyläther (Photoinitiator)
Dicke der vernetzten Schicht in mm nach Belichtung für die folgende
Zeit:
30 Sekunden
60 "
90 120 " 180
,2 a)
Teile | nro K | X) Teile | 88 | 88 | 0.10 | 0.12 ■ | 88 | 16,2 | 15,5 | 12,7 | 12 | 88 | 88 | 77 | 3 | |
88 | 88 | 88 | 88 | 6 | 6 | 0.29 | 0.36 | 6 | 2 30 | 220 | 180 | 170 | 6 | 12 | - | |
6 | 4.2 | 7.8 | 6 | 6 | 6 | 0.52 | 0.48 | (. | 70 | 80 | 80 | 80 | - | 23 | ||
6 | 7.8 | 4.2 | 6 | - | 4 | 0.63 | 0.58 | 4 | 26 | 26,2 | 14,5 | 20,4 | 6 4 |
4 | - | |
or) 4 | 4 | 4 | 6 | 1.0 | - | 0.89 | 0.74 | - | 370 | 373 | 206 | 290 | - | ■ - | 1.8 | |
- | - | - | - | Dicke in min | 42 | 46 | 42 | 40 | ||||||||
44 | 44 | 44 | 44 | 0.35 | ||||||||||||
0.26 | 0.32 | 2 | 2 | 4 | 4 | 0.24 | 0.19 | 0.68 | ||||||||
0.21 | 0.25 | 0.23 | 0.41 | 0.48 | 0.37 | 0.31 | 0.8.3 | |||||||||
0.39 | 0.40 | 0.41 | 0.55 | 0.60 | 0.50 | 0.39 | 1.12 | |||||||||
0.50 | 0.51 | 0.52 | 0.75 | 0.76 | 0.68 | 0.56 | 1.25 | |||||||||
0.69 | 0.70 | 0.71 | Physikalische Eigenschaften | |||||||||||||
14 | 19 | 10/5 | ||||||||||||||
15,5 | 16,2 | 200 | 270 | 150 | — | |||||||||||
220 | 2 30 | 80 | 80 | 100 | ||||||||||||
70 | 60 | 23,3 | 30,2 | 25,3 | _ | |||||||||||
28 | 33 | 331 | 430 | 360 | ||||||||||||
400 | 470 | 42 | 48 | 44 | 83 | |||||||||||
47 | 52 | 44 | 44 | 50 | _ | |||||||||||
46 | 47 | 2 | 2 | 2 | ||||||||||||
2 | 2 |
Zugfestigkeit, kg/cm"
, psi
Dehnung, % Zugmodul, kg/cm2
/ psi
Shore-A-Härte Rückprallelastizität, %)
Gewichtszunahme in Äthylalkohol0 , %
Die Festigkeitseigenschaften v/erden mit der Instron-Zugprüfmaschine mit einer
Geschwindigkeit der ziehenden Klemme von 5,08 cm/Minute gemessen.
Die Rückprallelastizität wird auf einem Stapel von 5 Proben von je 1,27 mm Dicke
als Rückprallhöhe einer Stahlkugel gemessen, die aus 30 cm Höhe fallen gelassen wird.
Die Proben werden 24 Stunden in Äthylalkohol bei einer Temperatur von 25°C gehalten.
N3 CD Ol CD
CD
Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung eines endständige Vinylgruppen enthaltenden Butadien/Acrylnitril-Copolymerisats
in einer photopolymerisierbaien Masse gemäß der Erfindung.
77 Teile eines endständige Vinylgruppen enthaltenden
Butadien/Acrylnitril-Copolymerisats ("Hycar VTBN-ISOOX^"
mit 17% Acrylnitril und einem Zahlenmittelmolekulargewicht von etwa 3400; Hersteller B.F.Goodrich Co.) wird
zusammen mit 23 Teilen Tetraäthylenglykoldimethacrylat (ungesättigtes Monomeres), 1,8 Teilen Benzoinisobutyläther
(Photoinitiator) und 0,1 Teil Di-t-butyl-p-kresol (Stabilisator) gerührt, bis die Masse vollständig homogen
ist (etwa 1 Stunde).
Die in der beschriebenen Weise hergestellte photopolymerisierbare Masse wird in einen Gummirahmen gegossen, mit
einer Glasplatte bedeckt und auf die in Beispiel 1 beschriebene Weise mit einer Reihe von UV-Lampen belichtet.
Eine 1,09 mm dicke Schicht aus einer vernetzten Masse wird gebildet. Eine Probe der vernetzten Masse quillt um
7%, wenn sie 24 Stunden bei Raumtemperatur in Äthylalkohol gehalten wird.
Wie bereits erwähnt, sind die in den photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung verwendeten endständig
ungesättigten Polymerisate flüssige Polymerisate, die wenigstens zwei endständige Olefingruppen enthalten, die
an das Monomere über eine Kombination von wenigstens zwei Äther-, Thioäther-, Ester-, Keto- oder Amidgruppen gebunden
sind. Diese endständig olefinisch ungesättigten Polymerisate haben eine der folgenden Formeln:
70981 9/1129
-ZQ 5 QIlSO.
NAOi-JGERElCHT
"nacht-afniich I
oc'-r;acr: j
ίο
' Y"CH2 -CH-CH2-X-P-X-CH2-CH- CH3-Y "" I
OH. OH
CH2=C -C-O-P-O-C-C =CH2 II
R1 R1
O O
Z-C-O-CH2-CH-P-CH-CH2^O-C-Z III
OH OH
O O
O O
Z-C-O-CH2-CH-P-CH-CH9-O-C-Z IV
j ;
NH2 NH2
0 0
It H
CH2=CH-C-P-C-CH=CH2 V
It H
CH2=CH-C-P-C-CH=CH2 V
0 worin X für Gruppen der Formel -0-, -S-, -C-O oder -N-,
H Y für eine Gruppe der Formel -0-CHp-CH=CH2 oder
/0
-0-C-CH=CH9 , R1 für Gruppen der Formel -H oder -CH-, Z
-0-C-CH=CH9 , R1 für Gruppen der Formel -H oder -CH-, Z
für eine Gruppe der Formel -£=CH-R" oder -CH5-C-C-O-R1,
R "
worin R" für -H, -CH3 oder -C-O-R« steht und P ein Polymerrest
aus der aus flüssigen Homopolymeren von Butadien, Isopren, Chloropren, Styrol, Isobutylen, Äthylen und
Copolymerisaten von Butadien mit Acrylnitril, Butadien mit Styrol, Butadien mit Isopren, Äthylen mit Neohexen,
Isobutylen mit Styrol und Isobutylen mit Acrylnitril und den entsprechenden gesättigten Polymerresten bestehenden
Gruppe ist. Vorzugsweise haben die vorstehend genannten flüssigen Polymerisate ein Molekulargewicht im Bereich von
1000 bis 2o 000,insbesondere im Bereich von 3000 bis 6000·
Natürlich kann der vorstehend genannte Polymerrest bei
Herstellung durch freiradikalische Polymerisation verbindende Gruppen enthalten, die aus dem zu seiner Herstel-
709819/1 129
ff
lung verwendeten, freie Radikale bildenden Initiator stammen. . . _
Polymerisate der Formel I können hergestellt werden durch
Umsetzung von Polymerisaten mit endständigen funktioneilen Gruppen oder "telechelic" Polymerisaten des von
French in der oben genannten Arbeit in Rubber Chemistry and Technology beschriebenen Typs, die Carboxylgruppen,
Hydroxylgruppen, Thiolgruppen oder Amingruppen als endständige funktionelle Gruppen enthalten, mit Verbindungen
wie Allylglycidyläther, Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat,
Glycidylcrotonat, AthylitaconatmonoglycidyTester
oder Methylfumaratmonoglycidylester.
Polymerisate der Formel II können durch Umsetzung von
endständige funktionelle Gruppen enthaltenden Polymerisaten (telechelic polymers), die Hydroxylgruppen enthalten,
mit Acrylsäure oder Methacrylsäure oder dem entsprechenden Anhydrid hergestellt werden.
Polymerisate der Formeln III und IV können hergestellt werden durch Umsetzung von Polymerisaten, die endständige
funktionelle Oxiran— bzw. Aziridingruppen enthalten, mit ungesättigten polymerisierbaren Säuren, z.B. Acrylsäure
oder Methacrylsäure, oder mit Monoalkylestern von Crotonsäure, Itaconsäure oder Fumarsäure.
Die Polymerisate der Formel V sind "telechelic" Polymerisate mit endständigen Vinylketongruppen.
Die in den photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung verwendeten endständig olefinisch ungesättigten
Polymerisate sind im allgemeinen viskose Flüssigkeiten mit Brookfield-Viskositäten zwischen 1000 und 1000.000 cPs,
vorzugsweise zwischen 20.000 und 100.000 cPs.
Um den Reaktionstyp zu veranschaulichen, der zur Einführung
der endständigen ungesättigten Gruppen in die nie-
709819/112 9
drigmolekularen Polymerisate und Copolymerisate dient, um
die für die Zwecke der Erfindung geeigneten Polymerisate herzustellen, wird durch das folgende Reaktionsschema
die Reaktion zwischen einem Polybutadien mit endständigen
Carboxylgruppen und Glycidylacrylat dargestellt:
O /\ (C-C-C-R··')
HOOC-
-CH2-CH=CH-CH2
O Η- Ο
Λ ι / .
-COOH+2H2C-C-C-O-C-C=CH2
-x
OH
^C=CH-C-O-H2C-C-CH2-0-C-
IH2-CH=CH-CH2
OH
-C-O-CHo-C-CH0-O-C-CH=CH.
Wie bereits erwähnt, reagieren zwei Mol Epoxyverbindung mit jedem Mol des Olefinadditionspolymeren. Im allgemeinen
wird jedoch das Epoxyd im leichten Überschuss verwendet.
Es ist auch möglich, die Epoxyverbindung im großen Überschuss zu verwenden. In diesem Fall findet Kettenverlängerung
statt. Das überschüssige Epoxyd reagiert mit den Hydroxylgruppen, die durch die Anfangsreaktion zwischen
dem Olefinadditionspolymerisat mit endständigen funktioneilen Gruppen und der Epoxyverbindung gebildet
werden, beispielsweise:
OH
P-(COOH)2 + 2H2C-CH-CH2-R1" =>
P(C-O-C^-CH-CH2-R1 ")2
OH
OH
O-CH2-CH-CH2-R''\
P-(C-O-CH2-CH-CH2-R' ")2 + 2H2C-CH-CH2-R1'' >
P C-O-CH2-CH-CH2-R1''
OH I 0-CH0-CH-C-R1 ' '\
PlC-O-CH2-CH-C-R'
OH
0-CH2-CH-CH2-R''* O-CH2-CH-CH2-R1''
/2 + 2H2C-CH-CH2-R"i_>
P C-O-CH2-CH-CH2-R
709819/1 1 29
Diese Reaktionen können bei Temperaturen zwischen 25° und 2OO°C durchgeführt werden, wobei ein Temperaturbereich
von 100 bis 125°C bevorzugt wird. Ein saurer oder basischer Katalysator kann verwendet werden, um die
erforderliche Reaktionstemperatur zu senken und die Reaktionszeit zu verkürzen. Als Katalysatoren eignen sich
beispielsweise Natriumhydroxyd, Natrium äthoxyd, Triäthylamin, Triäthylbenzylammoniumchlorid, Chlorwasserstoff
und Bortrifluoridatherat. Im allgemeinen werden
0,001 bis 5,0 Gew.-% Katalysator verwendet.
Um Polymerisate mit nur einzelnen endständigen Doppelbindungen herzustellen, müssen das Epoxyd in einer dicht
bei der stöchiometrischen Menge liegenden Menge und ein basischer Katalysator verwendet werden. Zur Herstellung
eines kettenverlängerten Polymerisats werden das Epoxyd im großen Überschuss und ein saurer Katalysator bevorzugt.
Als äthylenisch ungesättigte Monomere werden in den photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung Acrylnitril,
Methacrylnitril, Styrol, methylsubstituierte Styrole und Verbindungen, die eine oder mehrere Gruppen
der Formel O in der R Wasserstoff oder ein
l!
CH2=C-C- ,
R
C.-C.-Alkylrest ist, verwendet.
C.-C.-Alkylrest ist, verwendet.
Als monofunktionelle äthylenisch ungesättigte Monomere
eignen sich beispielsweise Acrylnitril, Methacrylnitril, Styrol, 2-Methylstyrol, α,ρ-Dimethylstyrol, Acrylsäure,
Methacrylsäure, Ester von Acrylsäure und Methacrylsäure mit bis zu 22 C-Atomen, Acrylamid, Mono- und Di-N-alkylsubstituierte
Acrylamide und Methacrylamide mit bis zu 10 C-Atomen im Alkylrest und Diacetonacrylamid.
Als trifunktionelles Monomeres eignet sich beispielsweise
1,3,5-Triacryloyl-hexahydro -1,3,5-triazin. Diese Ver-
70981 9/1129
bindung und verwandte Verbindungen, z.B. die entsprechenden Methacryloylderivate, haben die Strukturformel
O R
C-C=CH2
C-C=CH2
. N
CH9 CH2 · τ-
Ι I
R N ,N R
worin R Wasserstoff oder ein C ^-C .,-Alkyl rest ist.
Geeignet sind ferner difunktionelle Monomere der Formel
CH2=C-C-X ' -A-X · -Cr-C=CH0
i k
worin R wiederum Wasserstoff oder ein C^-C~-Alkylrest
ist, die beiden Reste X für -NH- oder -O- stehen und A ein Alkylenrest, ein substituierter Alkylenrest oder ein
Alkylenoxyalkylenrest ist. Bevorzugt von den Monomeren dieser Gruppe wird N,N'-Oxydimethylen-bis(acrylamid).
Wenn X1 in der vorstehenden Formel II eine Gruppe der
Formel -NH- ist, jedoch A für einen Alkylenrest oder substituierten Alkylenrest steht, so fällt unter diese
Beschreibung ein weiteres bevorzugtes Monomeres, das N,N'-Methylen-bis(acrylamid). Diese Verbindung gehört
zu einer wertvollen Gruppe von monomeren Verbindungen der Formel
O ο
CH2=C-C^NH- (CHR1) n-NH-CM:=CH2 III
R R
worin R Wasserstoff oder ein C^-C^-Alkylrest, R^ Wasserstoff,
ein C.-C-j-Alkylrest oder Phenylrest ist, η für
eine Zahl von 1 bis 6 steht und die Gesamtzahl der C-Atome in der Gruppe -(CHR^) - nicht höher ist als
709819/1 129
Als repräsentative Veikindungen der vorstehenden Formel
III seien genarm ti Ν,Ν·-Methylen-bis(acrylamid),
N,N'-Methylen-bis(methacrylamid), N,N'-Methylen-bis(2-äthylacrylamid),
N,N1-Methylen-bis(2-propylacrylamid),
N,N·-Äthylen-bis(acrylamid), N, N ♦-Äthylen-bis-(methacrylamid)
, N,N •-(■l,6-Hexamethylen)-b"is(acrylamid), Ν,Ν·-(1,6-Hexamethylen)-bis(methacrylamid),
N,N'-Äthyliden-bis-(acrylamid), N,N'-Äthyliden-bis(methacrylamid), N,N'-Benzyliden-bis-(acrylamid),
N,N-Butyliden-bis(methacrylamid)
und N,N'—Propyliden-bis(acrylamid). Diese Verbindungen
können durch übliche bekannte Reaktionen, wie sie beispielsweise in der US-PS 2 475 846 beschrieben werden,
hergestellt werden.
Geeignet sind ferner Monomere, in denen X1 in der Formel
II für -O- steht. Wenn A ein Alkylenrest oder substituierter Alkylenrest ist, sind die Verbindungen Di-,
Tri- und Tetraacrylate gewisser mehrwertiger Alkohole» Diese Acrylate können durch die folgende allgemeine
Formel dargestellt werden:
CH2=C-C-O-(CH2)a-(CR2R3)n-(CH2)a-O-C-C=CH2 IV
R R
Hierin steht R für Wasserstoff oder einen C,-C--Alkylrest,
a für 0 oder 1, R_ für Wasserstoff, einen C^-C--
Alkylrest, -OH, -CH0OH, P oder ,0
2 -CH2OC-C=CH0 #
Δ I 2 -OC-C=CHo,
R I
■..■■" R
R- für Wasserstoff, einen C._C_-Alkylrest, -CH0OH oder
-CH2OC-C=CH2 und η für eine Zahl von 1 bis 6, wobei die
R
Gesamtzahl der C-Atome in der Gruppe der Formel -(CR0R-)-nicht mehr als 11 beträgt. Als repräsentative Verbindungen dieser Gruppe seien genannt: Athylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat, Äthylenglykol-di(2-äthylacrylat), Äthylenglykol-di(2-propylacrylat), 1,3-Propy-
Gesamtzahl der C-Atome in der Gruppe der Formel -(CR0R-)-nicht mehr als 11 beträgt. Als repräsentative Verbindungen dieser Gruppe seien genannt: Athylenglykoldiacrylat, Äthylenglykoldimethacrylat, Äthylenglykol-di(2-äthylacrylat), Äthylenglykol-di(2-propylacrylat), 1,3-Propy-
7098 19/1129
1,4-Butylenglykoldiacrylat, 1,5-Pentandioldimethacrylat,
Glycerindiacrylat, Glycerintriacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat,
PentaerythritdiacryLat, Pentaerythrittriacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat und Pentaerythrittetraaerylat.
Eng verwandt mit den vorstehend genannten Acrylaten sind Acrylate, die von Di-, Tri- und Tetraäthylenglykol und
Di- und Tripropylenglykol abgeleitet sind. Hierbei handelt es sich um Verbindungen der Formel II, worin X'
für -O- und A für Alkylenoxyalkylen steht· Diese Verbindungen können speziell durch die folgende Formel dargestellt werden:
0 .0
/■ s
CH9=C-C-O-(CHR1CH0O)n-C-C=CH0 V
R R
Hierin steht R für Wasserstoff oder einen C^-C3-Alkylrest,
R1 für Wasserstoff oder Methyl, η für eine Zahl von 2 bis 4, wenn R1 Wasserstoff ist, und von 2 bis 3,
wenn R1 ein Methylrest ist. Als repräsentativ für diese
Verbindungen seien genannt: Diäthylenglykoldiacrylat, Diäthylenglykoldimethacrylat, Triäthylenglykoldiacrylat,
Triäthylenglykoldimethacrylat, Tetraäthylenglykoldiacrylat,
Tetraäthylenglykoldimethacrylat, Dipropylenglykoldiacrylat, Dipropylenglykoldimethacrylat, Tripropylenglykoldiacrylat
und Tripropylenglykoldimethacrylat.
Wie bereits erwähnt, kann man ein ungesättigtes Monomeres allein oder zwei oder mehr Monomere gemeinsam in der
photopolymerisierbaren Masse verwenden. In jedem Fall beträgt die Menge des oder der Monomeren, die zur Vernetzung
der Polymerkomponente der photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung verwendet wird, etwa 1 bis 50%.
vorzugsweise etwa 5 bis 25%.
7098 19/1129
Die in den photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung
geeigneten Photoinitiatoren sind im allgemeinen wohlbekannt. Einige zeichnen sich dadurch aus, daß sie
photoreduzierbar sind. Sie sind ^erbindungen, die aktinisches Licht sehr stark absorbieren und hierbei bis zu
einem Punkt aktiviert werden, bei dem sie Wasserstoffdonatorverbindungen Wasserstoffatome entziehen. Hierbei
wird der Photoinitiator selbst reduziert und der Wasserstoffdonator in ein freies Radikal umgewandelt. Als
repräsentative Verbindungen dieser Gruppe seien genannt: Benzophenon, 2-Chlorbenzophenon, 4-Methoxybenzophenon,
4-Methylbenzophenon, 4,4*-Dimethylbenzophenon, 4-Brombenzophenon,
2,2',4,4'-Tetrachlorbenzophenon, 2-Chlor-4'-methylbenzophenon,
4-Chlor-4'-methylbenzophenon,
3-Methylbenzophenon, 4-t-Butylbenzophenon, Benzoin,
Benzoin methyläther, Benzoinäthyläther, Benzoinisopropyläther, Benzoinisobutyläther, Benzoinacetat, Benzil,
Benzilsäure, Methylenblau, Acetophenon, 2,2-Diäthoxyacetophenon, 9,10-Phenanthrenchinon, 2-Methylanthrachinon,
2-Äthylanthrachinon, 2-t-Butylanthrachinon und
1,4-Naphthochinon. Besonders gut geeignet sind 2,2-Diäthoxyacetophenon,
Benzoinisopropyläther, Benzoinisobutyläther
und 2-Äthylanthrachinon. Geeignet sind ferner Kombinationen von Carboxylgruppen enthaltenden Sensibilisatorverbindungen
und gewisse aktivierende organische Amine, wie sie in der US-PS 3 759 807 beschrieben werden.
Im allgemeinen sollte der Photoinitiator bei Temperaturen bis etwa 100°C thermisch stabil sein. Stabilität
bei diesen Temperaturen verhindert vorzeitige Vernetzung bei der Herstellung der photopolymerisierbaren Massen
gemäß der Erfindung oder während ihrer Lagerung. Diese Stabilität schaltet ferner während der Belichtung eine
etwaige Vernetzung in den unbelichteten Bereichen als Folge bei der Vernetzungsreaktion erzeugten Wärme oder
der durch die undurchsichtigen Bereiche des Transparents
709819/1129
übertragenen Wärme weitgehend aus. Die Menge des Photoinitiators
beträgt etwa 0,1 bis 10%, vorzugsweise etwa 1,0 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Polymerisats
in der photopolymerisierbaren Masse.
Um vorzeitige Vernetzung während der Verarbeitung und der Wärmeeinwirkung und während der Lagerung der photopolymerisierbaren
Massen gemäß der Erfindung zu verhindern, ist es zweckmäßig, einen Inhibitor der thermischen
Polymerisation und Inhbitoren einzuarbeiten. Diese Stabilisatoren sind ebenfalls bekannt. Als Beispiele
sind Di-t-butyl-p-kresol, Hydrochinonmonomethyläther,
Pyrogallol, Chinon, Hydrochinon, Methylenblau, t-Butylcatechin, Hydrochxnonmonobenzylather, Methylhydrochinon,
Amylchinon, Amyloxyhydrochinon, n—Butylphenol, Phenol,
Hydrochinonmonopropyläther, Phenothiazin und Nitrobenzol zu nennen, die einzeln oder in Kombination verwendet
werden. Bei Verwendung in einer Menge im Bereich von etwa 0,01 bis 2 Gew.-% des Polymerisats verhindern diese
Stabilisatoren sehr wirksam die Vernetzung der photopolymerisierbaren Massen während der Verarbeitung und
Lagerung. Während der Belichtung verzögern und verhindern somit diese Stabilisatormengen die Vernetzung durch
Streulicht in den unbelichteten Bereichen der Masse, jedoch stören sie oder verzögern sie nicht wesentlich die
Vernetzung der Masse in stark belichteten Bereichen, so daß sie zur Bildung einer Druckform mit optimaler Tiefe
und Oberflächenkonfiguration beitragen.
Die photopolymerisierbaren Massen können außerdem einen inerten feinteiligen Füllstoff, der für aktinisches Licht
im wesentlichen durchlässig ist, in einer Menge bis etwa 55 Gew.-% enthalten. Als Beispiele geeigneter Füllstoffe
sind die organophilen Siliciumdioxyde, die Bentonite, Siliciumdioxyd und Glaspulver zu nennen, die sämtlich
eine Teilchengröße von weniger als 10 u in ihrer größten Dimension haben. Bevorzugt werden Teilchen einer Größe
709819/1129
von 0,1 u oder weniger. Diese Füllstoffe können den Massen und Reliefdruckplatten gemäß der Erfindung erwünschte
Eigenschaften verleihen. Ferner erweitert die durch die feinteiligen Füllstoffe bewirkte Lichtstreuung
das Bild in Richtung zum Boden der Platte, so daß die Rasterpunkte im Querschnitt das Aussehen von Kegelstümpfen
annehmen. Diese Punkte sind stärker und neigen weniger zum Abbrechen als Punkte, deren Querschnitt
mehr zylindrisch ist.
Wenn die photopolymerisierbaren Massen gemäß der Erfindung mit aktinischem Licht einer Wellenlänge von etwa
3000 bis 4000 A durch ein photographisches Negativ oder Positiv belichtet werden, wird das Polymerisat unter den
belichteten Bereichen unlöslich, während das Polymerisat unter den unbelichteten Bereichen in Wasser dispergierbar
bleibt. Durch anschließendes Waschen der Platte wird das dispergierbare Polymerisat entfernt, wobei eine Nachbildung
des Negativs oder Positivs im Relief zurückbleibt. Normalerweise wird mit verdünnten wässrigen Lösungen
eines anionaktiven oder nichtionogenen Tensids gewaschen. Anionaktive Tenside, z.B. oc-Olefinsulfonate, Alkylarylsulfonate,
Laurylsulfat, Alkylester von Sulfobernsteinsäure oder sulfatierte Äthylenoxydkondensate von Alkylphenolen
oder Fettalkoholen, und nichtionogene Tenside, z.B. Alkylphenol, Fettalkohole oder Fettsäure-Äthylenoxyd-Kondensate,
können verwendet werden. Besonders gut geeignet sind cx-Olefinsulfonate. Normalerweise wird das
Tensid in Konzentrationen von etwa 0,2 bis 2% und im allgemeinen bei Temperaturen von 25 bis 60°C verwendet.
Die Entwicklung kann häufig durch Bürsten oder Abreiben beschleunigt werden. Bei der serienmäßigen Herstellung
wird die Behandlung mit Wasser, das als Lösungsmittel dient, vorteilhaft durch Spritzen oder Besprühen vorgenommen.
In gewissen Fällen kann es vorteilhaft sein, geringe Mengen organischer Lösungsmittel, z.B. der kurz-
709819/1129
kettigen aliphatischen Alkohole und Ketone, zu verwenden. Als Lösungsmittel dieser Art eignen sich beispielsweise
Methanol, Äthanol und Aceton. Sie werden im allgemeinen
in Mengen von nicht mehr als 25 bis 35%, vorzugsweise von weniger als 1 bis 5% des Wassers oder als Entwickler
verwendeten Tensids verwendet. Nach der Entwicklung der Druckform können restliches Oberflächenwasser und etwaiges
organisches Lösungsmittel, die ebenfalls vorhanden sein können, entfernt werden, indem ein warmer Luftstrom
über das Relief geführt wird. In gewissen Fällen kann es zweckmäßig sein, eine Nachbelichtung oder Nachhärtung
der Platten vorzunehmen, indem mit aktiniscbem Licht bei den oben genannten Wellenlängen belichtet wird, nachdem
die nicht vernetzte photopolymerisierbare Masse herausgewaschen worden ist.
Das Verfahren gemäß der Erfindung ist besonders vorteilhaft für die Herstellung von Reliefdruckplatten, bei
denen ein deutlicher Höhenunterschied zwischen druckenden und nichtdruckenden Bereichen erforderlich ist. Hierzu
gehören Druckformen, bei denen die erhöhten Stellen des Reliefs die Druckfarbe annehmen, z.B. beim trockenen
Offsetdruck und beim gewöhnlichen Buchdruck. Auf Grund der Flexibilität, Abriebfestigkeit, Elastizität und
Alkoholbeständigkeit der unter Verwendung dieser photopolymerisierbaren
Massen hergestellten Reliefdruckplatten eignen sie sich besonders gut für den Flexodruck,
bei dem Druckfarben auf Basis von Alkoholen verwendet werden.
7 09819/1129
Claims (1)
- Patentansprüchea) ein flüssiges Polymerisat, das wenigstens zwei endständige Olefingruppen enthält, die an das Polymere über• eine Kombination von wenigstens zwei Äther-, Thioäther-, Ester-, Keto- oder Amidgruppen gebunden sind,b) etwa 1 - 5o Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des flüssigen Polymeren, eines äthylenisch ungesättigten Monomeren aus der Gruppe, die aus Acrylnitril, Styrol, Methylsubstituierten Styrolen und Monomeren besteht, deren
Ungesättigtheit in Form wenigstens einer Gruppe der
Formel 0CH9=C-C-R
vorliegt, in der R Wasserstoff oder ein C.-C3-Alkylrestist,c) etwa o,1 bis etwa 1o Gew.-% eines Photoinitiators undd) etwa o,o1 bis etwa 2 Gew.-% eines Inhibitors der thermischen Polymerisation.7 0 9 8 19/1129 ORIGINAL INSPECTED2) Bhotopolymerisierbare Massen, enthaltenda) ein flüssiges, endständige olefinische Doppelbindungen enthaltendes Polymerisat der FormelY-CH2-CH-CH2-X-P-X-CH2-CH-CH2-Y, n OH OHft P ■ X) - PCH2=C-C-O-P-O-C-C=CH2, Z-C^O-CH2-CH-P-CH-CH2-O-C-Z, Rl R1 OH OHZ-C-O-CH0-CH-P-CH-CH9-O-C-Z und/oder CH0=CH-C-P-C-CH=CH0NH2 NH2 0worin X für Gruppen der Formel -0-, -S-, -C-O- oder -NH-, Y für eine Gruppe der Formel -0-CH2-CH=CH2 oder o-O-C-C =CHO, R' für Gruppen der Formel -HR'
oder -CH3, Z für Gruppen der Formel -C=CH-R" oder0 R-CH2-C-C-O-R' steht, worin R" für H, -CH3 oder CH20
ti-C-O-R' steht, und P ein Polymerrest aus der aus Homopolymeren von Butadien, Isopren, Chloropren, Styrol, Isobutylen, Äthylen und Copolymerisaten von Butadien mit Acrylnitril, Butadien mit Styrol, Butadien mit Isopren, Äthylen mit Neohexen, Isobutylen mit Styrol, Isobutylen mit Acrylnitril und den entsprechenden gesättigten Resten bestehenden Gruppe ist,b) etwa 1 bis 50 Gew.-% (bezogen auf das Gewicht des Polymerisats) wenigstens eines äthylenisch ungesättigten Monomeren aus der Gruppe, die aus Acrylnitril, Methacrylnitril, Styrol, methylsubstituiertem Styrol und Monomeren besteht, die eine oder mehrere Gruppen der Formel709819/1129IlCH9=C-C- enthalten, worin R Wasserstoff oder ein c^-co-R Alkylrest ist,c) etwa 0,1 bis 10 Gew.-% (bezogen auf das Gewicht des Polymerisats) eines Photoinitiators undd) etwa 0,01 bis 2 Gew.-% (bezogen auf das Gewicht des Polymerisats) eines Stabilisators.) Photopolymerisierbare Massen nach Anspruch 1 und 2,dadurch gekennzeichnet, daß sie als flüssiges Polymerisat mit endständigen olefinischen Doppelbindungen das Reaktions— produkt von Polybutadien, das endständige Carboxylgruppen enthält, und Glycidylmethacrylat enthalten.4) Photopolymerisierbare Massen nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie als flüssiges Polymerisat mit endständigen olefinischen Doppelbindungen das Reaktions— produkt eines endständige Carboxylgruppen enthaltenden Butadien/Acrylnitril-Copolymerisats mit Glycidylmethacrylat enthalten.und 2 5.) Photopolymerisierbare Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als flüssiges Polymerisat mit endständigen olefinischen Doppelbindungen das Reaktionsprodukt eines endständige Amingruppen enthaltenden Butadien/Acrylnitril-Copolymerisats mit Glycidylmethacrylat enthalten.6) Photopolymerisierbare Massen nach Anspruch 1 u. 2,dadurch gekennzeichnet, daß sie als flüssiges Polymerisat mit endständigen olefinischen Doppelbindungen ein Butadien/ Acrylnitril—Copolymerisat mit endständigen Vinylgruppen . enthalten.Photopolymerisierbare Massen nach AnSprucn l bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sie als äthylenisch ungesättigtes Monomeres ein Gemisch von 1,6-Hexandioldimethacry-709819/1 129lat und Laurylmethacrylat enthalten.8) Photopolymere Materialien, bestehend aus einem Träger und einer Schicht aus einer photopolymerisierbaren Masse nach Anspruch 1 bis 7.9S) Photopolymere Materialien nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse nach Anspruch 1 bis 7. eine ein Hochrelief bildende Schicht ist.) Photopolymerisierbare Massen nach Anspruch 8 und 9 dadurch gekennzeichnet, daß der Träger eine Polyesterfolie ist.11) Photopolymere Materialien nach Ansprüche - 1o, , dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse bis zu 55 Gew.-% eines inerten feinteiligen Füllstoffs enthält, der in der Schicht im wesentlichen transparent ist.)Verwendung der photopolymerisierbaren Massen nach Anspruch 1 bis 7 für die Herstellung von Reliefdruckplatten, wobei mana) die Bestandteile der photopolymerisierbaren Masse nach Anspruch 1 bis 7 mischt,b) die photopolymerisierbare Masse als Schicht auf einen Träger unter Bildung eines photopolymeren Materials aufbringt,c) ausgewählte Bereiche der Schicht auf dem Träger mit aktinischer Strahlung belichtet, bis wesentliche Vernetzung in den belichteten Bereichen ohne wesentliche Vernetzung in den unbelichteten Bereichen stattgefunden hat, undd) die unbelichteten Bereiche der photopolymerisierbaren Masse durch "Waschen des photopolymeren Materials mit709819/1129einer wässrigen Tensidlösung entfernt.13.) Verwendung nach Anspruch 12·, wobei man restliche wässrige Lösung auf der Oberfläche entfernt, indem man einen warmen Luftstrom über die Druckform leitet.14,) Verwendung nach Anspruch 12 und 13 » wobei man die Relief· druckform mit aktinischem Licht nachbelichtet, nachdem das photopolymere Material mit einer wässrigen Tensidlösung gewaschen worden ist.7098 19/1129
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US62886275A | 1975-11-05 | 1975-11-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2650050A1 true DE2650050A1 (de) | 1977-05-12 |
DE2650050C2 DE2650050C2 (de) | 1989-02-09 |
Family
ID=24520617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762650050 Granted DE2650050A1 (de) | 1975-11-05 | 1976-10-30 | Photopolymerisierbare massen |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4137081A (de) |
JP (1) | JPS5258784A (de) |
AU (1) | AU507014B2 (de) |
BE (1) | BE847986A (de) |
BR (1) | BR7607377A (de) |
CA (1) | CA1068969A (de) |
CH (1) | CH619795A5 (de) |
DE (1) | DE2650050A1 (de) |
DK (1) | DK152819C (de) |
ES (1) | ES452982A1 (de) |
FR (1) | FR2331061A1 (de) |
GB (1) | GB1561914A (de) |
HK (1) | HK44180A (de) |
IT (1) | IT1111655B (de) |
MX (1) | MX144350A (de) |
NL (1) | NL180225C (de) |
SE (1) | SE417323B (de) |
ZA (1) | ZA766632B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2854260A1 (de) * | 1978-01-04 | 1979-07-12 | Hercules Inc | Photopolymerisierbare gemische fuer druckplatten |
Families Citing this family (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4518677A (en) * | 1978-01-04 | 1985-05-21 | Hercules Incorporated | Process for making printing plates |
JPS54117572A (en) * | 1978-03-06 | 1979-09-12 | Teijin Ltd | Molded article of crosslinked polyester and its production |
JPS54134799A (en) * | 1978-04-12 | 1979-10-19 | Teijin Ltd | Crosslinked polyester film |
US4266007A (en) * | 1978-06-22 | 1981-05-05 | Hercules Incorporated | Multilayer printing plates and process for making same |
JPS5542890A (en) * | 1978-09-22 | 1980-03-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Desensitizing solution for lithographic printing |
JPS55113563A (en) * | 1979-02-23 | 1980-09-02 | Teijin Ltd | Polyester laminated film |
JPS5638223A (en) * | 1979-09-07 | 1981-04-13 | Teijin Ltd | Preparation of polyester laminate film |
DE3120052A1 (de) * | 1981-05-20 | 1982-12-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial |
JPS5854336A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Daicel Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JPS597948A (ja) * | 1982-07-06 | 1984-01-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 画像形成方法 |
US4789625A (en) * | 1982-09-20 | 1988-12-06 | Morton Thiokol, Inc. | Radiation curable coating for photographic laminate, and development process |
US4659781A (en) * | 1983-05-19 | 1987-04-21 | Nippon Paint Co., Ltd. | Reactive acrylic oligomer, grafted acrylic resinous composition based on said oligomer and coating composition containing the same |
US4795693A (en) * | 1983-07-13 | 1989-01-03 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Technologies, Inc. | Multilayer circuit board fabrication process |
US4628022A (en) * | 1983-07-13 | 1986-12-09 | At&T Technologies, Inc. | Multilayer circuit board fabrication process and polymer insulator used therein |
US4702994A (en) * | 1984-10-01 | 1987-10-27 | W. R. Grace & Co. | Projection imaged relief printing plates |
US4960674A (en) * | 1984-12-17 | 1990-10-02 | Johnson Service Company | Method of fabricating fluidic plates and devices by irradiation of photopolymers |
US4786586A (en) * | 1985-08-06 | 1988-11-22 | Morton Thiokol, Inc. | Radiation curable coating for photographic laminate |
ZA872282B (en) * | 1986-05-23 | 1987-11-25 | Grace W R & Co | Radiation curable liquid maleated polymeric hydrocarbon(meth)acrylate prepolymer and formulations containing same |
US4857434A (en) * | 1986-09-23 | 1989-08-15 | W. R. Grace & Co. | Radiation curable liquid (meth) acrylated polymeric hydrocarbon maleate prepolymers and formulations containing same |
US5288571A (en) * | 1986-10-02 | 1994-02-22 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photoresin printing plate for use in printing a corrugated board |
US4752498A (en) * | 1987-03-02 | 1988-06-21 | Fudim Efrem V | Method and apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification |
US4801477A (en) * | 1987-09-29 | 1989-01-31 | Fudim Efrem V | Method and apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification |
JPH07112712B2 (ja) * | 1987-03-02 | 1995-12-06 | エフレム ブイ. フューディム | 光固化により三次元の物体を製造するための方法及び装置 |
JPS6459787A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-07 | Furukawa Electric Co Ltd | Water-proof connector |
JPH02110118A (ja) * | 1988-03-16 | 1990-04-23 | Canon Inc | 新規な高分子物質及び該高分子物質を含有する新規な光重合性樹脂組成物 |
US5135379A (en) * | 1988-11-29 | 1992-08-04 | Fudim Efrem V | Apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification |
US5174843A (en) * | 1989-02-17 | 1992-12-29 | Honatech, Inc. | Matrix support article shaping system and method |
US5002854A (en) * | 1989-04-21 | 1991-03-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging method using compositions containing core-shell polymers |
US5051334A (en) * | 1989-04-21 | 1991-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solid imaging method using photohardenable compositions containing hollow spheres |
CA1321671C (en) * | 1989-05-11 | 1993-08-24 | Paul J. Shustack | Ultraviolet radiation-curable coatings for optical fibers and optical fibers coated therewith |
US5352712A (en) * | 1989-05-11 | 1994-10-04 | Borden, Inc. | Ultraviolet radiation-curable coatings for optical fibers |
US5536529A (en) * | 1989-05-11 | 1996-07-16 | Borden, Inc. | Ultraviolet radiation-curable coatings for optical fibers and optical fibers coated therewith |
US5348605A (en) * | 1993-09-15 | 1994-09-20 | Hercules Incorporated | Tilting bucket assembly for photopolymer platemaking |
US5776661A (en) * | 1994-08-24 | 1998-07-07 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Process for imaging of liquid photopolymer printing plates |
US5753414A (en) * | 1995-10-02 | 1998-05-19 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Photopolymer plate having a peelable substrate |
US5912106A (en) * | 1996-09-10 | 1999-06-15 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Method for improving photoimage quality |
US6555292B1 (en) * | 1996-09-24 | 2003-04-29 | Misty Huang | Liquid photopolymer useful in fabricating printing plates which are resistant to solvent based ink |
WO1998030356A1 (en) * | 1997-01-13 | 1998-07-16 | Rodel, Inc. | Polymeric polishing pad having photolithographically induced surface pattern(s) and methods relating thereto |
US5965460A (en) * | 1997-01-29 | 1999-10-12 | Mac Dermid, Incorporated | Polyurethane composition with (meth)acrylate end groups useful in the manufacture of polishing pads |
US6696221B1 (en) | 1997-05-19 | 2004-02-24 | Day International, Inc. | Printing plate and method of making using digital imaging photopolymerization |
US6964999B1 (en) | 1998-02-27 | 2005-11-15 | Kaneka Corporation | Polymer and curable composition |
US6756095B2 (en) | 2001-01-10 | 2004-06-29 | Avery Dennison Corporation | Heat-sealable laminate |
US6758000B2 (en) | 2001-01-10 | 2004-07-06 | Avery Dennison Corporation | Livestock security tag assembly |
US6773653B2 (en) | 2001-10-05 | 2004-08-10 | Avery Dennison Corporation | In-mold labeling method |
US6716501B2 (en) | 2002-07-18 | 2004-04-06 | Avery Dennison Corporation | Multilayered film |
US20040146806A1 (en) * | 2003-01-29 | 2004-07-29 | Roberts David H. | Photo-imageable nanocomposites |
WO2004098868A2 (en) * | 2003-05-01 | 2004-11-18 | Avery Dennison Corporation | Multilayered film |
US20050056954A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-17 | Devlin Brian Gerrard | Method for making contact lenses |
DE102004006484A1 (de) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Schaltungsanordnungen mit ESD-festem Kondensator und Herstellungsverfahren |
US20070134596A1 (en) * | 2005-12-08 | 2007-06-14 | Adrian Lungu | Photosensitive printing element having nanoparticles and method for preparing the printing element |
WO2012166953A1 (en) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Nanoptics, Incorporated | Method and apparatus for lithographic manufacture of multi-component polymeric fiber plates |
US9134612B2 (en) | 2012-03-27 | 2015-09-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form precursor having elastomeric cap layer and a method of preparing a printing form from the precursor |
US20200207142A1 (en) | 2019-01-02 | 2020-07-02 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Liquid Photopolymer Resin Compositions for Flexographic Printing |
US11046092B2 (en) | 2019-02-13 | 2021-06-29 | Macdermid Graphics Solutions Llc | Photopolymer film with UV filtering |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2760863A (en) * | 1951-08-20 | 1956-08-28 | Du Pont | Photographic preparation of relief images |
DE1944015A1 (de) * | 1968-08-31 | 1970-04-23 | Nippon Soda Co | Waermehaertbares Harz,Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
US3794414A (en) * | 1972-05-12 | 1974-02-26 | Jessen Inc Wesley | Multiple focal contact lens |
US3833384A (en) * | 1972-04-26 | 1974-09-03 | Eastman Kodak Co | Photopolymerizable compositions and elements and uses thereof |
US3910992A (en) * | 1972-09-28 | 1975-10-07 | Goodrich Co B F | Liquid vinylidene-terminated polymers |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1447593A1 (de) * | 1964-12-24 | 1969-04-30 | Agfa Gevaert Ag | Lichtvernetzbare Schichten |
JPS5137320B1 (de) * | 1967-11-09 | 1976-10-14 | ||
DE2250105B2 (de) * | 1971-10-13 | 1977-04-14 | Meisei Churchill Co. Ltd., Sakai, Osaka (Japan) | Lichthaertende kunststoffmasse |
US3861917A (en) * | 1972-02-22 | 1975-01-21 | Grace W R & Co | Continuous tone lithographic plate and method of making |
US3809633A (en) * | 1972-03-08 | 1974-05-07 | Grace W R & Co | Chain extended polythioether polyene photocurable compositions |
US3787212A (en) * | 1972-08-04 | 1974-01-22 | Monsanto Co | Polymeric photosensitive compositions and methods using same |
JPS5834488B2 (ja) * | 1973-02-07 | 1983-07-27 | 富士写真フイルム株式会社 | ヒカリジユウゴウセイソセイブツ |
US3960572A (en) * | 1973-02-21 | 1976-06-01 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive compositions comprising a polyester-polyether block polymer |
US3929489A (en) * | 1973-09-14 | 1975-12-30 | Eastman Kodak Co | Lithographic plates having radiation sensitive elements developable with aqueous alcohol |
JPS5290304A (en) * | 1976-01-24 | 1977-07-29 | Asahi Chemical Ind | Photoosensitive resin composition for making flexo graphic printing plate |
-
1976
- 1976-10-28 AU AU19140/76A patent/AU507014B2/en not_active Expired
- 1976-10-30 DE DE19762650050 patent/DE2650050A1/de active Granted
- 1976-11-02 SE SE7612199A patent/SE417323B/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-11-03 IT IT29015/76A patent/IT1111655B/it active
- 1976-11-03 CA CA264,783A patent/CA1068969A/en not_active Expired
- 1976-11-04 CH CH1391076A patent/CH619795A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1976-11-04 ES ES452982A patent/ES452982A1/es not_active Expired
- 1976-11-04 FR FR7633272A patent/FR2331061A1/fr active Granted
- 1976-11-04 BE BE172081A patent/BE847986A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-11-04 NL NLAANVRAGE7612217,A patent/NL180225C/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-11-04 MX MX166897A patent/MX144350A/es unknown
- 1976-11-04 GB GB45940/76A patent/GB1561914A/en not_active Expired
- 1976-11-04 BR BR7607377A patent/BR7607377A/pt unknown
- 1976-11-05 DK DK502976A patent/DK152819C/da not_active IP Right Cessation
- 1976-11-05 JP JP51132516A patent/JPS5258784A/ja active Granted
- 1976-11-05 ZA ZA766632A patent/ZA766632B/xx unknown
-
1977
- 1977-06-27 US US05/810,334 patent/US4137081A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-08-14 HK HK441/80A patent/HK44180A/xx unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2760863A (en) * | 1951-08-20 | 1956-08-28 | Du Pont | Photographic preparation of relief images |
DE1944015A1 (de) * | 1968-08-31 | 1970-04-23 | Nippon Soda Co | Waermehaertbares Harz,Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
US3833384A (en) * | 1972-04-26 | 1974-09-03 | Eastman Kodak Co | Photopolymerizable compositions and elements and uses thereof |
US3794414A (en) * | 1972-05-12 | 1974-02-26 | Jessen Inc Wesley | Multiple focal contact lens |
US3910992A (en) * | 1972-09-28 | 1975-10-07 | Goodrich Co B F | Liquid vinylidene-terminated polymers |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2854260A1 (de) * | 1978-01-04 | 1979-07-12 | Hercules Inc | Photopolymerisierbare gemische fuer druckplatten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1561914A (en) | 1980-03-05 |
FR2331061A1 (fr) | 1977-06-03 |
HK44180A (en) | 1980-08-22 |
US4137081A (en) | 1979-01-30 |
IT1111655B (it) | 1986-01-13 |
NL7612217A (nl) | 1977-05-09 |
SE7612199L (sv) | 1977-05-06 |
BE847986A (fr) | 1977-03-01 |
DE2650050C2 (de) | 1989-02-09 |
CA1068969A (en) | 1980-01-01 |
DK502976A (da) | 1977-05-06 |
CH619795A5 (de) | 1980-10-15 |
NL180225B (nl) | 1986-08-18 |
DK152819B (da) | 1988-05-16 |
FR2331061B1 (de) | 1981-12-24 |
SE417323B (sv) | 1981-03-09 |
JPS5258784A (en) | 1977-05-14 |
ES452982A1 (es) | 1977-12-16 |
DK152819C (da) | 1988-10-03 |
AU1914076A (en) | 1978-05-04 |
NL180225C (nl) | 1987-01-16 |
MX144350A (es) | 1981-10-05 |
BR7607377A (pt) | 1977-09-20 |
JPS6119980B2 (de) | 1986-05-20 |
ZA766632B (en) | 1977-10-26 |
AU507014B2 (en) | 1980-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2650050A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
DE2854260C2 (de) | Photopolymerisierbare Gemische für Druckplatten | |
DE2517034C3 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
DE2064079C2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
US4174218A (en) | Relief plates from polymer with terminal unsaturation | |
EP0274075B1 (de) | Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial | |
DE2623790C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch für die Erzeugung von Ätzschutzschichten | |
DE2207209B2 (de) | Neue photopolymerisierbare Gemische fur lichtempfindliche, Rehefbilder liefern de Aufzeichnungsschichten | |
EP0343470A2 (de) | Alkenylphosphon- und -phosphinsäureester, Verfahren zu ihrer Herstellung und durch Strahlung polymerisierbares Gemisch, das diese Verbindungen enthält | |
EP0164059A2 (de) | Perfluoralkylgruppen aufweisende Polymere, sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck | |
EP0167777B1 (de) | Perfluoralkylgruppen aufweisende Copolymere, sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck | |
EP0480335B1 (de) | Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten | |
DE60034606T2 (de) | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung für Flexodruckplatten | |
DE2702708A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
DE3604402A1 (de) | Lichtempfindliche harzmasse | |
DE2818455A1 (de) | Photopolymerisierbare massen | |
DE3788897T2 (de) | Härtbare Polymere. | |
DE69113969T2 (de) | Styrol/Maleat Terpolymere. | |
DE2035658A1 (de) | Mittel zum Entwickeln von Flachdruck formen | |
US4518677A (en) | Process for making printing plates | |
EP0406683A2 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial | |
EP0564917A2 (de) | Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten | |
DE2452761A1 (de) | Photographisches aufzeichnungsmaterial | |
DE2311896A1 (de) | Lichtempfindliche polymermassen und ihre verwendung zur herstellung von druckformen | |
DE2454676C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: C08F 2/48 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8330 | Complete renunciation |