DE2613787A1 - Verfahren zum bilden eines schuetzenden films auf einer gegen koksbildung anfaelligen substratoberflaeche - Google Patents
Verfahren zum bilden eines schuetzenden films auf einer gegen koksbildung anfaelligen substratoberflaecheInfo
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Description
Verfahrer, zum Bilden eines schützenden Filmes auf einer gegen Koksbildung ί-jafälligen Substratoberfläche
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Bildung eines schützenden Oberflächenfilmec auf der inneren
Oberfläche von Reaktorrohren und -schlangen.
Rohre bzw. Leitungen und Schlangen, die in Reaktionssystemen
mit einem kohlenstoffhaltigen Material bei hoher Temperatur verwendet werden, z.B. in der Kohlenwasserstoffumwandlung durch
thermisches Kracken, unterliegen leicht einer Verkokung und Carburierung ("carburisation"). Diese Reaktionen werden oft
nicht nur zur Herstellung von Olefinen, insbesondere Äthylen,
durch Kracken und von Motortreibstofx'en aus Erdölquellen durch Umwandlung schwerer Beschickungen, sondern auch zur Erzielung
von Produkten, wie Vinylchlorid, aus Dichloräthan,verwendet.
Unweigerlich werden diese Reaktionen von einer Koksbildung innerhalb der Krackrohre belgeitet, was zu einem eingeschränkten Fluß
des Reaktionsmaterials und einer vermindertem Wärmeübertragung
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ORIGINAL INSPECTED
vom Rohrinetall zum Verfahrensgas führt. Dies erfordert die Erhöhung
der Rohrmetalltemperatur, um eine konstante Gastemperatur
und Pr,oduktionsgeschwindigkeit aufrechtzuerhalten. Daher
erhöht sich die Rohrmetalltemperatur mit fortschreitender Koksbildung,
was die Ausbeute pro Zoiteinneit des betriebenen Reaktors
Schlange
einschränkt. Wenn die Metalltemperatur der / den für ein sicheres
Arbeiten zulässige:.: Maximalwert erreicht, wird der Betrieb zum Entkoksen mit dem damit verbundenen Produktionsverlust abgestellt.
Die Koksbildung bewirkt auch Schaden auf der inneren Rohroberfläche aufgrund von Carburierung, und ein ständiger.
Carburierungs/Oxidations-Zyklus beschleunigt die Korrosion; beide Faktoren veT^iiigem die erwartete Lebensdauer des Reaktors.
übliche Verfahren zur verminderten Koksbildung und Carburierung
in Wasserdampf-Krackschlangen erfolgen unter Wasserdampfvorbehandlung
der Oberfläche zur besseren Bildung einer schützenden Oxidhaut. Die Wasserdampf Verdünnung der Kohlenwasser stoffdämpfe
ist auch zur Verminderung des homogenen Verkoksens angewendet worden. Auch Schwefelverbindungen wurden den Verfahrensgasen
zum Vergiften aktiver Nickelstellen und damit zum Inhibieren einer Metallstaubkorrosion beim Wasserdampfreformieren
verwendet. Die Koksbildungsgeschwindigkeit (CFR) ist jedoch unter sehr scharfen Bedingungen noch immer schnell, und eine
Betriebsdauer von etwa 30 Tagen ist als Norm akzeptiert worden.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist daher die Behandlung solcher Rohre bzw. Leitungen zur Erhöhung ihrer Carburierungsbeständigkeit
und verminderten Neigung, die Koksbildung zu katalysieren,
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wodurch die Betriesbdauer des Ofens und die Lebenserwartung der Schlangen erhöht wird.
Es wurde nun gefunden, daß ιηεΛ eine verminderte Koksbildung erreicht,
indem man chemisch in'jrte und hoch wärmefestige Oberflächenfilwe
aus Kieselsäure auf der Substratoberflache bildet,
die die katalytisch^ Viirksamkeit dieser Oberflächen verringert.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Bildung schützender Filme
auf einer gegen Koksbildung anfälligen· Substratober.fläche ist
nun dadurch gekennzeichnet, daß man auf der Substratoberfläche eine Schicht aus Kieselsäure durch thermische Zersetzung eines
Alkoxysilans in 'ie?' Dampfphase in Berührung mit der Substratoberfläche abscheidet.
Das Verfahren eignet sich zum Schutz von Metalloberflächen, wie Gußstahl, hoch und niedrig legierte Stahle und insbesondere
für Legierungen, die bei der Konstruktion von Reaktoren für Kohlenwasserstoff Umwandlungen bei hoher Temperatur, z.B. bei
der Herstellung von Äthylen durch Kracken, für die beim Oxidieren, Reduzieren oder im Meer verwendeten Gasturbinenkompressoren, fortgeschrittene, gasgekühlte Reaktoraustauscheroberflachen und für Reaktorrohre, wie sie bei der Herstellung von
Vinylchlorid aus Dichloräthan verwendet werden, eingesetzt werden. Diese Legierungen enthalten gewöhnlich Nickel, Chrom
oder Eisen. Geeignete Legierungen, die erfindungsgemäß behandelt werden können, sind z.B. hoch legierte Stahle, wie
"Inconel"®, "Incoloy"® und Materialien vom AISI 31O/HK 40
Typ. Andere nkfafc so hodiwarüge "rostfreie" Stahle, wie die Legierungstypen 321, 304 und 316 können ebenfalls erfindungsgemäß
609SA3/07 Π 8
- 4 mit Vorteil behandelt v/erden.
Die Alkoxysilane, die zum Abscheiden der Kieselsäureschicht auf
der Substratoberfläche verwendet werden können, sind zweckmäßig Mono-, Di-, Tri- oder Tetr&alkoxysilane und die teilweise hydro-'
lysierten oder polymerisierten Produkte derselben. Diese enthalten vorzugsweise etwa 1-15 Kohlenstoffatome in der Alkoxygruppe.
Von diesen werden die Tetralkoxysilane, insbesondere Tetraäthoxysilan, besonders bevorzugt.
Für eine maximale Wirkung der Alkoxysilane, die zum Abscheiden
der Kieselsäureschicht auf der Substratoberfläche verwendet
werden, ist es zweckmäßig, das Alkoxysilan in den Strom eines Trägersgases, z.B. Gase, wie Stickstoff, Helium und Argon, die
unter den Reaktionsbedingungen inert sind, oder oxigenierte Gase, wie Kohlendioxid, Wasserdampf, Stickstoffoxide und Schwefeloxide,
die unter den Reaktionsbedingungen mild oxidierend sind, zu verdampfen. Der Trägergasstrom kann eine Mischung aus inerten
und mild oxidierenden Gasen sein. Die beste Mischung hängt ab von den Betriebsbedingungen, dem nötigen Maß an Überzugsbildung
und dem gewünschten Maß des Alkoxysilanverbrauches.
Die zur Bildung der Kieselsäureschicht erforderliche Alkoxysilanmenge
hängt ab von der Natur des Substrates und der notwendigen Dicke der Schicht. Die Alkoxysilankonzentration im Trägergas
liegt zweckmäßig unter 10,0 % Vol/Vol., vorzugsweise zwischen
0,05-1,5 % Vol./Vol.
Die Temperatur zur Durchführung der Abscheidung kann zwischen 200-12000C. liegen, die Abscheidung wird jedoch vorzugsweise
6 0 9 S /■ 3 / 0 7 6 8
zwischen 600-9OO0C. durchgeführt', vorzugsweise wird bei atmosphärischem
Druck gearbeitet.
Vo ein mild oxidierendes Gas, wie CO oder Wasserdampf, als
Trägergaskomponente verwendet wird, kenn dessen zur Abscheidung
erforderliche Menge in weiten Grenzen in Abhängigkeit von der Natur des Substrates variieren. Die Menge liegt zweckmäßig
zwischen 5-100 Vol.-%, vorzugsweise zwischen 30-100 Vol.~% des
gesamten Trägergasstromes.
Manchmal kann es zweckmäßig sein, die Substratoberfläche vor der Behandlung mit einem Alkoxysilan vorzuoxidieren. Dies kann man
erreichen, indem man einige Minuten eine Gas/Op Flamme verwendet
und dann auf hohe Temperatur, z.B. 8000C, in Anwesenheit von
Wasserdampf erhitzt. Diese Vorstufe soll eine haftende matt-
("snatt-black oxide surface")
schwarz Oberfläche / liefern, die in Aussehen und /
S tv ></'
Zusammensetzung der inneren Oberfläche der Leitungen im Brennofen
ähnlich ist. In einer Anlage ist eine solche Behandlung vermutlich jedoch nicht notwendig, weil angenommen wird, daß der Oxidhaftfilm bereits gebildet worden ist. Wenn eine oxidative Vorbehandlung des Ofens als notwendig erachtet wird, kann dies
durch jede Kombination von Oxidationsbehandlungen, wie Flammbehandlung oder Erhitzen in einer oxidierenden Atmosphäre, wie
CO2 oder H2O, zur Bildung eines dünnen, haftenden Oxidfilmes
erfolgen.
Die Wirksamkeit dieser Behandlung in einem Krackerrohr wird durch die in Fig. 1 gezeigte Koksbildungsgeschwindigkeit (CFR)
dargestellt.
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Die folgenden Beispiele veranschaulichen die vorliegende Erfindung
t ohne sie zu beschränken»
Beispiel 1_
Beispiel 1_
a) Verfahren zum Kie^-seleaureüberziehen
Eine Probe von frisch geschnittenem HK 40 rostfreien St-anl
wurde durch 2 Minuten lange Verwendung einer Gas/Sauerstoff-Fl?.mme
voroxidiert und in ein Kieselsäuregefäß gegeben. Danach wurde einige Stunden bei 8000C. in 75-$>igem Wasserdampf (mit
Stickstoff als inertes Verdünnungsmittel) behandelt, Dadurch erhielt man eine "matt black oxide surface"
Ähnlich wie in Ofenrohren. Dann wurde dieses voroxidierte Metall in fließendem Wasserdampf (50 %) und Tetraäthoxysilan (0,5 %), wobei
der Rest aus N2 bestand, 4,5 Stunden auf 740°C. erhitzt.
Die überzogene Probe wurde auf Zimmertemperatur abkühlen gelassen, wodurch man eine 2 /um dicke Kieselsäureschicht auf der
Metalloberfläche erhielt.
b) Verfahren zur Bestimmung der Koksbildungsgeschwindigkeit
Das obige, kieselsäureüberzogene Metall wurde in eine Kammer gegeben und die Temperatur in einer Atmosphäre aus 60 ccm/min
Stickstoff auf 9000C. erhöht. Bei dieser Temperatur wurden
ccm/min Äthan zusammen mit 124 ccm/min Wasserdampf eingeführt und die Koksbildungsgeschwindigkeit durch einen automatischen
Mikroausgleich verfolgt. Nach 1 Stunde wurde' die Temperatur gesenkt und die Mengen bei 860°-C, 880°C. und so weiter bis
98O0C. in Abständen von 0,5-1 Stunde bestimmt. Das Verfahren
wurde mit unbehandeltem HK 40 Stahl wiederholt. Die Ergebnisse sind in Fig. 1 aufgeführt.
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Beispiel 1 wurde mit 57 ccra/min Äthan und 249,0 ccm/min Wasserdampf
wiederholt., wobei die Ergebnisse ähnlich wie für Beispiel 1 (Fig. 1) waren.
Feispiel £
Beispiel 2 wurde unter Verwendung einer zusätzlichen schwereren Beschickung, nymlich 3':» 4 ccm/min Hexan wiederholt. Man erhielt
dieselben Ergebnisse wie vorher, wobei die gemessenen Geschwindigkeiten sehr ähnlich waren.
Aus den Ergebnisse wird klar, daß die Verkokungsgeschwindigkeit auf mit Kieselsäure überzogenen Stahl 2- bis 8-fach langsamer
ist als beim Stahl selbst, und zwar innerhalb des derzeit interessanten Temperaturbereiches.
auf Zimmertemperatur Trotz des schnellen Abkühlens/vom Erhitzen auf 740 C. auf 980 C.
beim Verkokungstest und bei einem zweiten schnellen Abkühlen auf Zimmertemperatur zeigten Elektronenmikroskoprasteraufnahmen
kein Lösen des Überzuges.
Eine 5-m-Schlange aus "Incoloy 800" mit 7,5 Umdrehungen (9,5
mm OD 20 swg) wurde bei 740-760°C. 30 Minuten in 2 1/sec Wasserdampf
(Dampf bei 7500C.) vorbehandelt. Dann wurde das Rohr durch
Einführen von 0,26 % Vol./Vol. Tetraäthoxysilan in den Wasserdampf für die Dauer von 25 Minuten überzogen. Proben wurden von
den Rohrwänden in Abständen vom Eingang und Ausgang mit Gebieten nahe bei den Ofenwänden und von diesen entfernt geschnitten. Der
Film auf dem Rohr war von einheitlicher Dicke (etwa 2 /um) mit dem Aussehen zusammenlaufender (oder übereinander liegenden)
Kügelchen; diese hatten einen unterschiedlichen Durchmesser,
6 0 9 >'l ι. 3 / 0 7 B 8
was jedoch die Filmkontinuität nicht beeinträchtigte.
"Ihcoloy 800"- Rohre (9,5 mm äußerer Durchmesser 20 swg)
wurden in CO2 1,4 Stunden bei 680~860°C., das mit 36,1 l/min
(42,2 m/sec) floß, vorbehandelt. In das Kohlei'dioxid wurden 0,7
Gew.-% Tetraäthoxysilan eingeführt und die Behandlung 40 Minuter
fortgesetzt, wobei das Rohr zwischen 6S0-7^0°C. gehalten wurde. Danach wurde das Rohr in fließendem Kohlendioxid abgekühlt und
ein Teil zur Untersuchung entfernt. Die Elektronenmikrcskoprasteraufnahme des gebildeten Filmes zeigte die Struktur mit
übereinander liegenden Kügelchen wie beim vorherigen Film ohne Risse aufgrund von Versagen.
Beispiel 6 bis 8
Beispiel 6 bis 8
Beispiel 5 wurde mit geringen Änderungen der Fließgeschwindigkeit usw. wiederholt, die zusammen mit den Ergebnissen in der
folgenden Tabelle aufgeführt sind.
Wie ersichtlich, ist das erfindungsgemäße Verfahren eindeutig
für Substratoberflächen, die gegen eine Koksbildung anfällig sind, günstig. Weiterhin ist es vorteilhaft für andere Oberflächen, z.B. solche, die gegen eine schwefelinduzierte Korrosion oder Oxidation bei hoher Temperatur anfällig sind.
6 0 9 B /. :· / 0 7 G 8
Beisp.
Behandlung
Fließgeschw. l/min (Reakt.-geschwind. m/secT ** +
Einführungsgeschw. Tgmp. d.Tetraäthoxysilans C.
ccm/std Vol.-96 Gew.-%
6 1 std COp Vorbehandlung + SiO«
Überziehen (6 min; 6 ecm)
83,54 (97,71) 60,1 (0,14) 0,66 620-768
1 std CO2 Vorbehandlung + SiO2 83,54
überziehen (24 min; 24 ecm)
1 std CO2 Vorbehandlung mit Vermin- 53,82
derung der Fließgeschwind, von auf 54 l/min + SiO2 Überziehen
(12 min, 6 ecm)
* Das SiO0 Überziehen erfolgte immer bei 7500C.
** Rohr mit 7,6 inm innerem Durchmesser und 0,454 eis" Querschnitt
+ die Geschwindigkeit erlaubt die Expansion bei Ί>
(97,71) 60,1 (0,14) 0,66
690-760
(62,95) 30,0 (0,!O) 0,47 670-770
LO f
geroigten Reakti.onstemperatur
Claims (10)
- Patentansprüche '1i- Verfahren zum*Bilden eines schützenden Filmes auf einer gegen Koksbildung anfälligen Substrateberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß man auf der Subs tr ixtober fläche eine Schicht Kieselsäure durch thermische Al^scl'Sidung eines Alkoxysilans in der Dampfphase in Berührung mit der Substatoberfläche ablagert.
- 2.- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratoberfläche Gußstahl oder hoch oder niedrig legierter Stahl mit einem oder mehreren Metallen aus der Gruppe von Nickel, Chrom und Eisen ist.
- 3.- Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Alkoxysilan ein Mono-, Di-, Tri- oder Tetralkoxysilan oder ein teilweise hydrolysiertes oder polymerisiertes Produkt derselben verwendet wird.
- 4,- Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Alkoxysilan Tetraäthoxysilan oder ein teilweise hydrolysiertes oder polymerisiertes Produkt desselben verwendet wird.
- 5,- Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkoxysilan in einen Trägergasstrom verdampft wird.
- 6.- Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Trägergasstrom ein mild oxidierendes Gas, wie Kohlendioxid oder Wasserdampf, umfaßt.
- 7.- Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkoxysilan im Trägergas in einer Konzentration unter 10 Vol.-%, vorzugsweise zwischen 0,05-1,5 Vol.-96, anwesend ist.60984 3/0783
- 8,- Verfahren nach Anspruch 1 bis 7» dadurch gekennzeichnet, daß die Abscheidung bei einer Temperatur zwischen 200-12000C, vorzugsweise zwischen 600-90O0C, erfolgt.
- 9.- Vorfahren nach Axispruch 4 bis 8, dadurch gekennzaichnet, daß die Menge der mild oxidierenden Gasy.omponente in dom r.ur Abscheidung verwendeten Trägergas zwischen 5-100 Vol.-?6, vorzugsweise zwischen 30-100 Vol.-9a, des gesamten Trägergasstromes liegt.
- 10.- Verfahren nach Anspruch 1 bis 9> dadurch gekennzeichnet, daß die Substratoberfläche vor der Behandlung mit dem Alkoxysilan bei erhöhter Temperatur voroxidiert wird.Der Patentanwalt:6 0 Q ■« α 2 / (J '/ Γ, 8Leerseite
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