DE2606892C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur automatischen konstanten Entwicklung latenter Rasterbilder in belichteten photographischen Lith-Silberhalogenidmaterialien in einer automatischen Entwicklungsmaschine mit einer Lith-Entwicklerlösung, die eine p-Dihydroxybenzol-Entwicklersubstanz, freie Sulfitionen und ein Alkalimetallbromid enthält, unter Zusatz zweier Regeneratorlösungen zu dieser Entwicklerlösung.

Bei der genormten Maschinenentwicklung sind reproduzierbare Entwicklungsbedingungen außerordentlich notwendig. Das gilt ganz besonders im graphischen Betrieb, wo die Entwicklung der belichteten Silberhalogenidmaterialien immer häufiger automatisch erfolgt und praktisch identische sensitometrische Eigenschaften der Bilder gefordert werden, so daß hier ein konstanter Entwicklungs­ vorgang besonders wichtig ist.

Bei den Bildern im graphischen Betrieb handelt es sich zum großen Teil um Rasterbilder, die in kontrastreichen Silberhalogenidmaterialien mit kontrastreich arbeitenden Entwicklerlösungen, d. h. den sogenanten Lith-Entwicklerlösungen erzeugt werden. Um in Rasterbildern sehr kontrast­ reiche Rasterpunkte zu erhalten, ist es in der Praxis üblich gewesen, Entwicklerrezepturen zu benutzen, die aus einem p-Dihydroxyphenol, wie etwa Hydrochinon, einem Alkali, einem Alkalimetallbromid und einer geringen Menge freier Sulfitionen bestanden. Die geringe Menge freier Sulfitionen stabilisiert teilweise die Entwicklerlösung kurzzeitig und wird in den meisten handelsüblichen Entwicklerlösungen dieser Art durch Zusatz eines Aldehydsulfits, wie Natrium- Formaldehydhydrogensulfit, erhalten, das als Sulfitionen-Puffer wirkt. Eine derartige Entwicklerlösung ist z. B. in der GB-PS 11 97 306 beschrieben.

In letzter Zeit entwickelte kontrastreich arbeitende Entwicklerlösungen, die Lith-Entwicklerlösungen mit einem vergleichsweise hohen Gehalt an Sulfitionen, sind in der GB-PS 13 76 600 beschrieben.

Ein sehr starker Kontrast, vorzugsweise mit einem Gammawert oberhalb von 10 (auch als "Lith-Gradation" bezeichnet), läßt sich mit diesen kontrastreich arbeitenden Entwicklerlösungen und den sogenannten "Lith-Silberhalogenidmaterialien" erhalten. Bei diesen Materialien besteht das Silberhalogenid zu mindestens 50 Mol-% aus Silberchlorid; nur machmal ist der Rest Silberbromid und wahlweise eine kleine Menge Silberjodid. Die Beziehung Lith- Gradation und Schärfe eines Punktes wird im Handbuch "Modern Halftone Photography" von E. Fred Noemer, erschienen bei Perfect Graphic Arts, Demarest/New Jersey, USA, 1965, Seiten 54-55, behandelt.

Bekanntlich verändert sich die Zusammensetzung einer in der Silberhalogenidphotographie benutzten Entwicklerlösung auf Grund der bei der Entwicklung stattfindenden Reaktionen und der Berührung mit dem Luftsauerstoff. Diese chemischen Veränderungen haben einen gewissen Einfluß auf die photographischen Eigenschaften der schließlich erhaltenen Bilder.

Bei der Entwicklung der belichteten Silberhalogenidmaterialien wird eine bestimmte Menge der Entwicklersubstanzen und der oxidationshemmenden Verbindungen verbraucht, dagegen gelangt eine bestimmte Menge an Halogenidionen des entwickelten Silberhalogenids in die Entwicklerlösung.

Wie schnell die Erschöpfung der Entwicklerlösung dabei voranschreitet, ist eine Frage von Anzahl und Art (Negativ- oder Positivmaterial) und des Gehalts an entwickelbarem (belichtetem oder verschleiertem) Silberhalogenid im entwickelten Material.

Weiterhin nimmt jedes entwickelte Silberhalogenidmaterial, das den Entwicklungsbehälter verläßt, eine gewisse Menge Entwicklerlösung mit, die für die nachfolgende Entwicklung von Material verlorengeht. Diese Menge ist abhängig von Dicke und Art der Silberhalogenidemulsionsschicht, der Oberfläche des Materials, der Art des Trägers und von der Zeitspanne, während der man das Material abtropfen oder abgepreßt hängen läßt, um den Überschuß an Entwicklerlösung zu entfernen.

Der ständige Kontakt der Entwicklerlösung mit dem Sauerstoff der Luft verbracht ebenfalls eine Menge der Entwicklersubstanzen zusammen mit einer Menge der oxidationshemmenden Verbindungen und verändert dadurch das Reduziervermögen der Entwicklerlösung. Je länger die Kontaktzeit ist, je größer die Kontaktfläche zwischen der Entwicklerlösung und der Luft ist und je intensiver die Entwicklerflüssigkeit bewegt wird, umso schneller findet eine Oxidation statt. Die Luftoxidation unterliegt ebenfalls dem Einfluß der Temperatur der Entwicklerlösung, d. h. je höher die Temperatur ist, umso intensiver erfolgt die Luftoxidation.

Um die Entwicklungseigenschaften auf einem annähernd konstanten Pegel zu halten, kommen unterschiedliche Verfahren zur Anwendung. Die bekanntesten Verfahren sind die folgenden:

• a) Häufiges Wegschütten der verbrauchten Entwicklerlösung und Ersatz durch frische Lösung und
• b) rechtzeitiger, teilweiser Ersatz der Entwicklerlösung durch eine sogenannte Regeneratorlösung.

Bei der Schalenentwicklung ist das einzig praktisch brauchbare Verfahren das erstere, was natürlich zu einem hohen Verbrauch an Entwicklersubstanz führt und sich infolgedessen als kostspielig erweist.

Im Falle der Maschinenentwicklung ist es sicherlich wirtschaftlicher, die Entwicklungswirkung dadurch auf dem gewünschten Pegel zu halten, daß man rechtzeitig einen Teil der Entwicklerlösung durch eine Regeneratorlösung ersetzt.

Beim heutzutage zur Anwendung kommenden Regeneratorbetrieb wird die Wirkung der Luftoxidation nicht wirksam berücksichtigt. Das Regenerieren wird mit nur einer Lösung durchgeführt, deren Zusammensetzung für eine ganz bestimmte Materialmenge und -art charakteristisch ist. Mit anderen Worten: die Menge der zugesetzten Regeneratorlösung ist praktisch nur der Menge entwickelten Silberhalogenids proportional. Insbesondere bei Lith-Entwicklerlösungen ist die Luftoxidation keineswegs vernachlässigbar, und man muß die dadurch verursachten Veränderungen der photographischen Resultate verhindern.

In der GB-PS 13 13 796 ist ein Verfahren zur Aufrechterhaltung einer praktisch konstanten Entwickleraktivität unter beliebigen Materialdurchsatzbedingungen beschrieben worden. Bei diesem Verfahren auf der Basis der Regenerierung einer Entwicklerlösung für photographisches Silberhalogenid kommen eine erste und eine zweite Regeneratorlösung mit unterschiedlicher Halogenidionenkonzentration zur Verwendung. Die Lösungen werden zur Entwicklerlösung derart zugesetzt, daß sowohl die Konzentration an Halogenidionen als auch die Konzentration an nichtoxidierter Entwicklersubstanz in der Entwicklerlösung praktisch auf einem gewünschten Pegel gehalten werden.

Die erste Regeneratorlösung hat eine niedrige Konzentration an Halogenidionen, die jedoch vorzugsweise nicht unbedingt gleich Null ist, während die zweite Regeneratorlösung eine höhere Konzentration an Halogenidionen enthält, die praktisch gleich der gewünschten Konzentration in der Entwicklerlösung ist.

Jedoch löst der Ausgleich der Veränderung der Konzentration an Halogenidionen und der Konzentration an nichtoxidierter Entwicklersubstanz das Problem, die Entwicklungseigenschaften bei der Lith-Entwicklung praktisch konstant zu halten, nur zum Teil. So sind z. B. auch die Sulfitionenkonzentration, der pH-Wert und sogar die Konzentration der Reaktionsprodukte wichtig und müssen sorgfältig überwacht werden.

Aus der DE-PS 23 43 242 ist ein Entwicklungsverfahren bekannt, bei dem man wiederholt die Entwicklerlösung mit einer Menge einer Regeneratorlösung regeneriert und ergänzt, die aus wenigstens zwei stabilen Lösungskonzentraten hergestellt und dem Bad der Entwicklerlösung bei Entwicklung jeder Materialmenge zugesetzt wird, wobei die Menge der Regeneratorlösung aus der Konzentration jedes Lösungskonzentrats und der Menge und dem Entwickler­ bedarf des Materials vorherbestimmt wird, und zwar durch die Vorherbestimmung etlicher Parameter, nämlich der Größe des zu entwickelnden Materials, dem Belichtungsgrad des Materials der Art des verwendeten Materials und der Zeit, die seit dem letzten Gebrauch oder der letzten Regenerierung der Entwicklerlösung vergangen ist, nicht aber durch Steuerung mit Hilfe der Messung von Verarbeitungs­ ergebnissen.

Das vorbekannte Verfahren ist umständlich und außerdem nicht so exakt wie das Verfahren gemäß der Erfindung, bei dem nicht irgendwelche vorherbestimmte Faktoren sondern die tatsächliche Zusammensetzung der Entwickler­ lösung die Regenerierung bestimmt.

Es ist Aufgabe dieser Erfindung, ein Entwicklungsverfahren anzugeben, bei dem die Aktivität der Entwicklerlösung sehr konstant gehalten wird.

Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß als Regeneratorlösungen die Lösungen R _D und R _A verwendet werden, die sich in folgender Hinsicht voneinander unterscheiden:

• 1) der pH-Wert von R _D ist höher als der pH-Wert von R _A ,
• 2) die Halogenidionenkonzentration in R _D ist niedriger als die Halogenidkonzentration in R _A ,
• 3) die Konzentration an freien Sulfitionen in R _D ist niedriger als in R _A ,
• 4) das Gewichtsverhältnis zwischen der p-Dihydroxy­ benzol-Entwicklersubstanz und freien Sulfitionen in der Regeneratorlösung R _D ist derart verschieden von dem entsprechenden Gewichtsverhältnis in der Regeneratorlösung R _A , daß die Regeneratorlösung R _D in der Entwicklerlösung in der Hauptsache die Erschöpfung durch die während der Entwicklung ablaufenden chemischen Reaktionen kompensiert und die Regenerator­ lösung R _A in der Entwicklerlösung in der Hauptsache die Erschöpfung durch Luftoxidation kompensiert, und wobei der Zusatz der Regeneratorlösungen zur Entwicklerlösung durch Ergebnisse geregelt wird, die sich aus einer oder mehreren Kontrollmessungen ergeben, die die Wirksamkeit der jeweiligen Entwicklerlösung auf ein Lith-Silberhalogenidmaterial anzeigen, das zuvor durch einen oder mehrere Sensitometerkeil(e) hindurch belichtet und durch Entwicklung in der vorliegenden Entwicklerlösung zu einer Rasterkeilkopie verarbeitet worden ist, wobei bei der Messung der Abstand zwischen der Fläche unterschiedlichen Punkt­ wertes gemessen und mit einem Bezugsabstand verglichen wird, wobei die Abweichung von diesem Bezugsabstand als Richtwert für die Bestimmung eines teilweisen Ersatzes von Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _A dient und wobei die Lage eines Empfindlichkeitspunktes auf dieser Raster-Keilkopie oder auf einer Verlaufskeilkopie auf diesem Material, bezogen auf einen festgelegten Empfindlichkeits­ punkt, als Richtwert für die Bestimmung des teilweisen Ersatzes von Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _D dient.

Gemäß einer ersten Ausgestaltung dieser Erfindung werden zwei Regeneratorlösungen verwendet, von denen die eine aus einer Mischung dieser Regeneratorlösungen R _D und R _A besteht, in der die Menge R _A unter den üblichen Betriebsbedingungen noch nicht ausreicht, um die durch Luftoxidation hervorgerufene Erschöpfung der Entwicklerlösung vollständig zu kompensieren, und daß als zweite Regeneratorlösung kleine Mengen gesondert aufbewahrtes R _A zugegeben werden, die für den Rest der Kompensierung der Erschöpfung durch Oxidation sorgen.

Die Mischung von R _D und R _A wird nach der bereits erwähnten Kontrolle proportional zur entwickelbaren Menge Silberhalo­ genid des durch die Entwicklerlösung gelaufenen Materials zugegeben; jede durch weitere Kontrollen der vorliegenden Entwicklerlösung festgestellte Abweichung des Bezugsabstandes wird durch Mengen R _A eingestellt, die hauptsächlich die Erschöpfung durch Luftoxidation kompensieren.

Gemäß einer zweiten Ausgestaltung dieser Erfindung wird die Regeneratorlösung R _A in zwei Teilen verwendet, von denen dem Teil R _{A 1} zusätzlich Sulfitionen zugesetzt werden, von hauptsächlichen den Verlust an Sulfitionen zu kompensieren, während dem anderen Teil R _{A 2} zusätzlich Entwicklersubstanzen zugesetzt werden, um dadurch hauptsächlich den Verlust an Entwicklersubstanzen zu kompensieren. Dadurch werden eine noch besser einstellbare Kompensation der Erschöpfung und besser reproduzierbare Entwicklungsresultate erhalten. Das ist auch dann der Fall, wenn wie in der ersten Ausgestaltung eine Mischung von R _D und R _A zur Anwendung kommt, jedoch dann in zwei Teilen, wobei ein Teil eine größere Menge Sulfitionen enthält als der andere Teil, der seinerseits eine größere Menge Entwicklersubstanz enthält.

Ist das wirkliche Verhältnis zwischen der Erschöpfung durch Entwicklung und der Erschöpfung durch Luftoxidation bekannt, so können die beiden Regeneratorlösungen R _D und R _A als Mischung im entsprechenden Verhältnis zugegeben werden, bevor sie in die Entwicklerlösung gelangen.

Gemäß einer besonderen Ausführungsform und um bereits seit Beginn des Einbringens des ersten Silberhalogenidmaterials sensitometrische Resultate zu erhalten, die mit den beim Dauerbetrieb erhaltenen praktisch identisch sind, werden ein oder mehrere Reaktionsprodukt(e), die sich während der Lith- Entwicklung und/oder während des Kontaktes mit dem Luftsauerstoff bilden, bereits zu Beginn der automatischen Entwicklung in die Entwicklerlösung eingebracht.

Durch Versuche ist festgestellt worden, daß mindestens eines dieser Reaktionsprodukte, nämlich p-Dihydroxybenzolsulfonat, einen Einfluß auf die photographischen Eigenschaften ausübt und zu einer Empfindlichkeitssteigerung führt. Da die Bildung von p-Dihydroxybenzolsulfonat ein stetig fortschreitender Vorgang ist, enthalten die oben beschriebenen Regenerator­ lösungen kein p-Dihydroxybenzolsulfonat oder weniger davon als die Entwicklerlösung, um die Konzentration von p-Dihydroxybenzol­ sulfonat und seinen Einfluß auf die photographischen Eigenschaften auf dem gewünschten Pegel zu halten.

Enthält die Lith-Entwicklerlösung freie Sulfitionen in einer Menge, die bereits groß genug ist, um eine kontrastreiche Entwicklung zu verhindern, so werden bestimmte Substanzen, wie Nitroindazol- oder Nitrobenzimidazolverbindungen zugegeben, wie es in der GB-PS 13 76 600 beschrieben ist. In Gegenwart dieser Verbindungen, von denen 5-Nitroindazol vorzuziehen ist, kann der Gehalt an freien Sulfitionen mehr als 5 g/Liter betragen, ohne die Lith-Gradation zu beeinträchtigen.

Wird eine große Menge freier Sulfitionen enthaltende Lith-Entwicklerlösung benutzt, so werden dieser Nitroverbindungen zur Entwicklerlösung und vorzugsweise auch zu den Regeneratorlösungen zugegeben. Einzelheiten über geeignete Mengen sind in der GB-PS 13 76 600 angegeben.

Beim erfindungsgemäßen Verfahren können die Lith-Entwicklerlösung und mindestens eine der Regeneratorlösungen alle Arten von Zusätzen enthalten, die die Qualität der Rasterkopie verbessern. Beispiele für derartige Zusätze sind polymere Oxyalkylen­ verbindungen und Poly-N-Vinylpyrrolidon und Derivate, die in der bereits erwähnten GB-PS 13 76 600 und in der US-PS 36 17 284 beschrieben sind. Eine vorzugsweise zur Verwendung kommende Polyoxyalkylenverbindungen ist Polyoxyäthylenglykol mit einem mittleren Molekulargewicht von mindestens 1500.

Bei der Durchführung der bereits erwähnten Kontrollen werden identisch belichtete Streifen Lith-Material in gewünschten zeitlichen Abständen oder ständig durch die Entwicklerlösung gegeben.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform erfolgt die Belichtung und Entwicklung dieser Streifen in der Weise, daß eine Raster­ keilkopie und eine Verlaufskeilkopie erzeugt wird. Parallel zu jedem Keil wird eine Millimeterskala kopiert. Der Null- Wert der Millimeterskalakopie entspricht dem maximalen Schwärzungs­ wert jeder Keilkopie. In der Zone der geringeren Belichtungen hat jeder Streifen eine Kerbe, die denjenigen Teil des Streifens bezeichnet, der zuerst in die Entwicklungsmaschine gebracht werden muß, um vergleichbare Messungen sicherzustellen.

Die Streifen können fabrikmäßig vorbelichtet sein oder an Ort und Stelle durch die beschriebenen Keile hindurch belichtet werden. Hier erfolgt die Belichtung vorzugsweise unmittelbar vor der Entwicklung.

Der Empfindlichkeitspunkt wird entweder auf der Verlaufskeilkopie, vorzugsweise bei einer optischen Dichte zwischen 0,3 und 3,0, oder auf dem Rasterkeil bei einem beliebigen prozentualen Punktwert, vorzugsweise jedoch zwischen 10 und 95% Punktwert, bestimmt. Der Empfindlichkeitspuntk wird senkrecht auf die erwähnte Millimeterskala übertragen.

Um die Stelle mit dem Punktwert 10% zu finden, wird die gerasterte Keilkopie mit einem Densitometer ausgemessen, der einen Meßfleck (Blendenöffnung) hat, der mindestens 15 Rasterpunkte erfaßt (siehe das bereits erwähnte Handbuch "Modern Halftone Photography" von Ewald Fred Noemer, Seiten 97-98). Die integrierte Rasterdichte (D-Integral), die 10% Punktfläche entspricht, beträgt 0,04 + Schleier des Materials.

Der Spitzenwert des D-Integrals, der diesen 10% Punktfläche entspricht, wird senkrecht auf die Millimeterskala übertragen und mit D₁ bezeichnet.

Die integrierte Rasterdichte (D-Integral), die 95% Punktfläche entspricht, beträgt 1,30 + Schleier des Materials. Der Spitzenwert des D-Integrals, der diesen 95% Punktfläche entspricht, wird senkrecht auf die Millimeterskala übertragen und mit D₂ bezeichnet. Der Abstand zwischen D₁ und D₂ wird hier "inte­ grierter Schwärzungsbereich" genannt.

Die Erschöpfung der Lith-Entwicklerlösung verursacht eine Verschiebung der Empfindlichkeit, bezogen auf den festgelegten Empfindlichkeitspunkt, zu niedrigeren Werten hin.

Der Zusatz einer Menge R _D oder der Mischung R _D + R _A zur Entwicklerlösung verursacht eine Verschiebung des Empfindlich­ keitspunktes, bezogen auf den festgelegten Empfindlichkeitspunkt, zu höheren Werten um eine Strecke, die von der durch Regeneratorlösung ersetzten Menge Entwicklerlösung und von der Konzentration der benutzten Lösung(en) abhängt.

Wird durch eine oder mehrere dieser Kontrollen eine Verschiebung des Empfindlichkeitspunktes von dem festgelegten Empfindlichkeits­ punkt in Richtung auf niedrigere Empfindlichkeitswerte festgestellt, so wird die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes von Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _D oder durch die Mischung R _D + R _A erhöht und/oder eine zusätzliche Menge von R _D oder von dieser Mischung wird zugegeben.

Wird durch eine oder mehrere dieser Kontrollen eine Verschiebung des Empfindlichkeitspunktes von dem festgelegten Empfindlichkeits­ punkt in Richtung auf höhere Empfindlichkeitswerte festgestellt, so wird die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes von Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _D oder durch die Mischung von R _D und R _A herabgesetzt und/oder es wird zu entwickelndes Silberhalogenidmaterial ohne Regenerierung mit R _D oder mit dieser Mischung durch die Entwicklerlösung geschickt.

Der "integrierte Schwärzungsbereich", d. h. der Abstand zwischen D₁ und D₂, wird durch Erschöpfung infolge Luftoxidation kleiner; die Zugabe der Regeneratorlösung R _A stellt diesen unerwünschten Effekt ab.

Wird demgemäß entweder durch eine oder durch mehrere dieser Kontrollen eine Verminderung dieses Abstandes festgestellt, so wird eine die Entwicklerlösung teilweise ersetzende Menge R _A zur Entwicklerlösung zugesetzt und/oder die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes der Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _A oder die Menge R _A in der Mischung R _D + R _A erhöht.

Wird durch eine oder mehrere dieser Kontrollen eine Vergrößerung dieses Abstandes festgestellt, so wird die Geschwindigkeit des teilweisen Ersatzes der Entwicklerlösung durch Regenerator­ lösung R _A oder die Menge R _A in der Mischung R _D + R _A herabgesetzt.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungs­ gemäßen Verfahrens wird als Ersatz für einen Teil der Entwicklerlösung R _D zur letzteren mit einer Geschwindigkeit zugegeben, die durch eine gemessene Menge zu entwickelnden Silberhalogenids oder durch das festgestellte Ergebnis mehrerer dieser Kontrolle geregelt wird.

Die Zugabe von R _A erfolgt vorzugsweise als Funktion der Zeit. Einer Tendenz zur Vergrößerung des integrierten Schwärzungs­ bereiches, die durch mehrere dieser Kontrollen festgestellt wird, wird durch Herabsetzung der Geschwindigkeit des Ersatzes von Entwicklerlösung durch R _A entgegengewirkt. Einer Tendenz zur Verkleinerung des integrierten Schwärzungsbereichs, die durch mehrere dieser Kontrollen festgestellt wird, wird durch Erhöhung der Geschwindigkeit des Ersatzes von Entwicklerlösung durch R _A entgegengewirkt.

Die Erfindung soll nun durch ein spezielles Beispiel näher erläutert werden, ohne jedoch dadurch beschränkt zu werden.

Beispiel

Ein Lith-Silberhalogenidmaterial mit einer 8 g/m² Silbernitrat äquivalenten Silberhalogenidschicht aus einer Silberchlorid­ bromidemulsion mit 84 Gew.-% Chlorid und 16 Gew.-% Bromid wird zur Herstellung von Rasterkopien benutzt und in einer Verarbeitungsanlage entwickelt.

Die in dieser Verarbeitungsanlage eingesetzte Entwicklerlösung wird erhalten durch Mischen der folgenden Ingredienzien:

Formaldehydhydrogensulfit50 g Kaliummetabisulfit 4,25 g Kaliumbromid 2 g Kaliumchlorid 6 g Hydrochinon15 g Kaliumcarbonat70 g Borsäure 6 g Polyoxyäthylenglykol
(mittleres Molekulargewicht 1500) 0,3 g Hydrochinonsulfonsäure15 g Mit Wasser aufgefüllt auf1 Liter

Der pH-Wert wird mit Kaliumhydroxid auf 9,90 eingestellt.

Die Regeneratorlösung R _A hat eine der der Entwicklerlösung identische Zusammensetzung mit Ausnahme der Verwendung von:

Kaliummetabisulfit 9,25 g Hydrochinon21 g Hydrochinonsulfonsäurekeine

Der pH-Wert wird mit Kaliumhydroxid auf 9,81 eingestellt.

Die Regeneratorlösung R _D hat eine der der Entwicklerlösung identische Zusammensetzung mit Ausnahme der Verwendung von:

Kaliummetabisulfit 7,15 g Hydrochinon19 g Kaliumbromid 0,7 g Kaliumchlorid 0,7 g Hydrochinonsulfonsäure 7 g

Der pH-Wert wird mit Kaliumhydroxid auf 10,05 eingestellt.

Die bei der vorliegenden Entwicklung zur Anwendung kommende Entwicklungszeit beträgt 1 min 45 sek. Die Entwicklungstemperatur wird konstant auf 26°C gehalten.

Die Regenerierung der Entwicklerlösung mit den Regenerator­ lösungen R _D und R _A erfolgt mit den folgenden Geschwindigkeiten:

Es werden je m² dieses Materials 320 ml R _D zugegeben, wobei dieses Material unter solchen Bedingungen belichtet wird, daß etwa 50 Gew.-% des Silberhalogenids entwickelbar sind, sowie 5500 ml R _A /24 Std. in kleinen, gleichen Portionen alle 20 min.

Alle 2 Std. wird ein Teststreifen des obigen Materials in der vorliegenden Entwicklerlösung entwickelt, der vorher in Kontakt mit einem Verlaufskeil mit einem Inkrement von D = 0,15 je cm durch einen Purpur-Kontrastraster mit 60 Linien/cm belichtet wurde.

Gemäß dem zur Anwendung kommenden Kontrollverfahren entspricht dem festgelegten Empfindlichkeitspunkt bei einer Schwärzung von 0,04 über Schleier dem Punkt auf der Millimeterskala, der unterhalb des Schwärzungswerts 0,04 auf der Verlaufs­ keilkopie eines richtig entwickelten Streifens liegt. Der integrierte Bezugs-Schwärzungsbereich wird auf der Millimeterskala unter dem Rasterkeil gemessen und ist der Abstand auf dieser Skala, der dem Abstand zwischen der integrierten Schwärzung 0,04 über Schleier einerseits und/oder integrierten Schwärzung 1,30 über Schleier andererseits auf diesem Rasterkeil entspricht. Der festgelegte Empfindlichkeitspunkt und der integrierte Bezugs-Schwärzungsbereich werden mit einer Entwicklerlösung mit der gewünschten Aktivität, nämlich der Aktivität der frischen, oben beschriebenen Entwicklerlösung bestimmt.

Für die Regenerierung wird das folgende Verfahren verwendet: Es wurde keine der oben aufgeführten Regenerationslöungs­ zugaben (R _D und R _A ) verändert, wenn auf drei aufeinanderfolgenden Kontrollstreifen (in Intervallen von 120 min erhalten) keine Abweichung von dem festgelegten Empfindlichkeitspunkt und vom integrierten Schwärzungsbereich von mehr als 2 mm in derselben Richtung festgestellt wurde. Wurde eine stärkere Abweichung festgestellt, so wurden die obigen Regenerierungsgeschwindigkeiten in folgender Weise herabgesetzt oder erhöht:

Nach Feststellung einer Tendenz zur Überschreitung dieser Verschiebung von 2 mm in Richtung auf höhere Empfindlichkeit wird die Zugabegeschwindigkeit von R _D um 10% vermindert, während eine Erhöhung der Zugabegeschwindigkeit von R _D um 10% zur Entgegenwirkung einer Tendenz in entgegengesetzter Richtung zur Anwendung kommt.

Einer Tendenz zur Erzeugung einer Vergrößerung des integrierten Schwärzungsbereichs von mehr als 2 mm wird dadurch entgegengewirkt, daß man unter den obigen Entwicklungsbedingungen die Zugabegeschwindigkeit von R _A um 10% herabsetzt, während eine Erhöhung der Zugabegeschwindigkeit von R _A um 10% zur Anwendung kommt, um der entgegengesetzten Tendenz, nämlich eines abnehmenden integrierten Schwärzungsbereichs, entgegenzuwirken.

Die photographische Empfindlichkeit, die Punktschärfe und die Bromidmitnahme blieben bei der Durchführung der Maschinen­ entwicklung unter den beschriebenen Umständen wochenlang unverändert.

Claims (7)

1. Verfahren zur automatischen konstanten Entwicklung latenter Rasterbilder in belichteten photographischen Lith-Silberhalogenidmaterialien in einer automatischen Entwicklungsmaschine mit einer Lith-Entwicklerlösung, die eine p-Dihydroxybenzol-Entwickler­ substanz, freie Sulfitionen und ein Alkalimetallbromid enthält, unter Zusatz zweier Regeneratorlösungen zu dieser Entwicklerlösung, dadurch gekennzeichnet, daß als Regeneratorlösungen die Lösungen R _D und R _A verwendet werden, die sich in folgender Hinsicht voneinander weiter unterscheiden:

• 1) der pH-Wert von R _D ist höher als der pH-Wert von R _A ,
• 2) die Halogenidionenkonzentration in R _D ist niedriger als in R _A ,
• 3) die Konzentration an freien Sulfitionen in R _D ist niedriger als in R _A ,
• 4) das Gewichtsverhältnis zwischen der p-Dihydroxybenzol-Entwicklersubstanz und freien Sulfitionen in der Regeneratorlösung R _D ist derart verschieden von dem entsprechenden Gewichtsverhältnis in der Regeneratorlösung R _A , daß die Regeneratorlösung R _D in der Entwicklerlösung in der Hauptsache die Erschöpfung durch die während der Entwicklung ablaufenden chemischen Reaktionen kompensiert und die Regeneratorlösung R _A in der Entwicklerlösung in der Hauptsache die Erschöpfung durch Luftoxidation kompensiert, und wobei der Zusatz der Regenerationslösungen zur Entwicklerlösung durch Ergebnisse geregelt wird, die sich aus einer oder mehreren Kontrollmessungen ergeben, die die Wirksamkeit der jeweiligen Entwicklerlösung auf ein Lith-Silberhalogenidmaterial anzeigen, das zuvor durch einen oder mehrere Sensitometerkeil(e) hindurch belichtet und durch Entwicklung in der vorliegenden Entwicklerlösung zu einer Rasterkeilkopie verarbeitet worden ist, wobei bei der Messung der Abstand zwischen der Fläche unterschiedlichen Punktwertes gemessen und mit einem Bezugsabstand verglichen wird, wobei die Abweichung von diesem Bezugsabstand als Richtwert für die Bestimmung eines teilweisen Ersatzes von Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _A dient, und wobei die Lage eines Empfindlichkeitspunktes auf dieser Rasterkeilkopie oder auf einer Verlaufskeilkopie auf diesem Material, bezogen auf einen festgelegten Empfindlichkeitspunkt, als Richtwert für die Bestimmung des teilweisen Ersatzes von Entwicklerlösung durch Regeneratorlösung R _D dient.

2. Verfahren nach Anspruch 1), dadurch gekennzeichnet, daß zwei Regeneratorlösungen verwendet werden, von denen eine aus einer Mischung dieser Regeneratorlösungen R _D und R _A besteht, in der die Menge von R _A unter den üblichen Betriebsbedingungen noch nicht ausreicht, um die durch Luftoxidation hervorgerufene Erschöpfung der Entwicklerlösung vollständig zu kompensieren, und daß als zweite Regeneratorlösung kleine Mengen gesondert aufbewahrtes R _A zugegeben werden, die für den Rest der Kompensation der Erschöpfung durch Oxidation sorgen.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Regeneratorlösung R _A in zwei Teilen verwendet wird, von denen dem Teil R _A ₁ zusätzlich Sulfitionen zugesetzt werden, um hauptsächlich den Verlust an Sulfitionen zu kompensieren, während dem Teil R _{A 2} zusätzlich Entwicklersubstanzen zugesetzt werden, um hauptsächlich den Verlust an Entwicklersubstanzen zu kompensieren.

4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Mischung von R _A und R _D in zwei Teilen verwendet wird, von denen dem einen Teil zusätzlich Sulfitionen und dem anderen Teil zusätzlich Entwicklersubstanzen zugesetzt werden.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Entwickler verwendet wird, der bereits vom Beginn der automatischen Entwicklung an Reaktionsprodukte enthält, die während der Lith-Entwicklung der photographischen Materialien und/oder während des Kontaktes mit Luftsauerstoff gebildet werden.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß eines dieser Reaktionsprodukte p-Dihydroxybenzolsulfonat ist.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Regeneratorlösung R _D p-Dihydroxybenzolsulfonat enthält.