DE2061972B2 - Photographisches Aufzeichnungsmaterial - Google Patents
Photographisches AufzeichnungsmaterialInfo
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Description
V~ N — C-S-CO-O-CH2-CH2-S
4. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Antischleiermitte
der folgenden Formel enthäh:
Cl Cl
N C-S-CO-O-CH2-CH2-S
I!
N N
Cl Cl
Die Erfindung betrifft ein photographisches Aufzeichnungsmaterial,
bestehend aus einem Schichtträger und mindestens einer lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht
und gegebenenfalls licht-Unempfindlichen Hilfsschichten, mit einem Antischleiermittel.
Müssen photographische Aufzeichnungsmaterialien 5c
unter verschärften Bedingungen verarbeitet werden, Z. B. durch Anwendung hochaktiver Entwicklerlösungen,
durch Entwicklung bei relativ hohen Temperaturen oder durch äußerste zeitliche Ausnutzung der
Entwicklung, so besteht die Gefahr, daß auch Silberhalogenidkörner
reduziert werden, die keine Latenzbildkeime tragen. Der durch diese unerwünschte
Reduktion von unbelichteten Silberhalogenidkörnern erzeugte Schleier tritt unter den obengenannten
ungünstigen Bedingungen besonders stark gegen Ende des normalen Entwicklungsprozesses auf und wird
auch als Uberentwicklungsschleier bezeichnet. Dieser Uberentwicklungsschleier kann von den konventionellen
Stabilisierungsmitteln nicht oder nur unter Aufgabe optimaler Empfindlichkeitsausnutzung verhindert
werden.
So sind z. B. die zur Verhinderung des Lagerschleiers hervorragend geeigneten Stabilisatoren aus
der Klasse dcrTriazaindolizine kein geeigneter Schutz
gegen rjberentwicklungsschleier, weil ihre Schutzwirkung gerade gegen Ende der Entwicklung, wo sie
am notwendigsten gebraucht wird, durch Diffusionsverdrängung und andere Mechanismen nachläßt und
praktisch verschwindet. Andere Stabilisatoren von bekannter Wirksamkeit, wie z. B. Quecksilberverbindungen
oder heterocyclische Mercaptoverbindungen, sind zwar imstande, den Entwicklungsschleier im
normalen wie auch im Uberentwicklungsbereich beträchtlich
herabzusetzen, haben jedoch den großen Nachteil, daß sie bei Anwendung in ausreichenden
Mengen die ausnutzbare Empfindlichkeit der photographischen Emulsionen erheblich herabsetzen.
Ein grundsätzlicher Nachteil der direkten Zugabe der an sich gegen Uberentwicklungsschleier besonders
wirksamen heterocyclischen Mercaptoverbindungen zu Silberhalogenidemulsionen besteht darin, daß sie
bereits vom Zeitpunkt der Zugabe ab, d. h. also während des Begießprozesses, während der Gesamtzeit
der Lagerung des unverarbeiteten Filmmaterials, und schließlich schon im Anfangsstadium der photographischen
Entwicklung voll wirksam sind. Damit müssen schon vor der Verarbeitung Desensibilisierungseffekte
und während der Entwicklune selbst
unvollständige Ausnutzung der Eigenempfindlichkeit des Materials in Kauf genommen werden. Zur Lösung
dieses Problems hat man bereits versucht, die Mercaptogruppe dieser Verbindungen durch geeignete
Reste zu substituieren und damit für die Zeit, in der sie noch nicht zur Wirkung kommen sollen, zu inaktivieren.
Damit kann man im Prinzip erreichen, daß die Verbindungen der lichtempfindlichen Emulsion ohne
Schaden zugesetzt werden können, da die wirksamen Gruppen erst während des Entwicklungsvotganges
frei werden. Für die mit den geschützten Verbindungen erzielbare Wirkung ist es dabei von ausschlaggebender
Bedeutung, zu welchem Zeitpunkt die Reaktivierung der geschützten Gruppe erfolgt. Läuft
dieser Vorgang nämlich zu langsam ab, wird der Uberentwicklungsschleier
nicht ausreichend verhindert, läuft er zu schnell ab, so wird der Bildaufbau beeinträchtigt.
In beiden Fällen ist dann kein optimales EmpfindlichkeitS/S :hleier-Verhältnis erreichbar.
Aus der deutschen Patentschrift 1 P3 336 und der USA.-Patentschrift 3 260 597 sind z.B. Mercaptostabilisatoren
bekannt, deren aktive Gruppen durch eine Carbon- oder Sulfonsäuregruppe geschützt sind.
Diese Acylreste haben jedoch den Nachteil, daß sie in alkalischem Medium zu schnell abgespalten werden,
d. h.. die aktive Gruppe wird bereits vor Anschluß des Bildaufbaucs frei, was zu merklichen Bilddichtcvcrlusten
führt.
Im Gegensatz dnzu reaktivieren die in den USA.-Patentschriften
2 981624 und 3 260 597 sowie der deutschen OflenlegungsschriA I 908 "117 beschriebenen
Thioäther viel zu langsam und können daher den Uberentwicklungsschlcier nicht in c.-m gewünschten
Maße verhindern.
Aus der deutschen Patentschrift 1189 380 sind
Mercaptostabilisatoren bekannt, die eine Carbäthoxyschutzgruppe aufweisen und zur Verhinderung von
Gelbschleier in Photopapieren verwendet werden. Auch diese Verbindungen beeinträchtigen die Empfindlichkeit
der Emulsion erheblich, da die Reaktivierung zu schnell erfolgt.
Aus der Offenlegungsschrift 1 597 503 sind schließlich noch Stabilisatoren bekannt, deren Mercaplogruppe
mit Phosgen oder Isocyanaten umgesetzt ist. Diese Derivate werden jedoch ebenfalls zu schnell
reaktiviert oder sind im Entwickler nicht spaltbar, so daß sie praktisch ebenfalls ohne Wirkung auf den
Uberentwicklungsschleier sind.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung bestand daher darin, nach Antischleiermitteln mit inaktivierter
bzw. inaktivierten Mercaptogruppen zu suchen, die erst nach Abschluß des Bildaufbaus in der photographischen
Entwicklung, jedoch vor dem sonst zu erwartenden merklichen Anstieg der Schleicrkurve
zur schleierhemmenden Reaktion freigesetzt werden. Diese Aufgabe wurde dadurch gelöst, daß in der lichtempfindlichen
Silberhalogenidemulsionsschicht und/ oder in einer an sie angrenzenden lichtunempfindlichen
Hilfsschicht als Antischleiermittel mindestens eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel
enthalten ist:
A-(Y-CO-O-CH2-CH2-Z-B)n
in der bedeutet A ein- bzw. zweiwertiger Rest eines Tetrazols, Thiodiazols, Thiazols, Oxazols, Imidazole,
Benzthiazols, Benzoxazols, Benzimidazole, Pynmidins
ίο oder Triazols, B ein Phenylrest, der einfach durch
einen Alkyl- oder Oxalkylrest oder ein- bis fünffach durch Chloratome substituiert sein kann, Y S, falls
η = 1 und jeweils S oder S und NH, falls η = 2,
Z S oder SO2, ?i = 1 oder 2.
Eine besondere Bedeutung im Rahmen der vorliegenden Erfindung kommt Verbindungen zu, die sich
vom l-Phenyl-5-mercaptotetrazol ableiten.
Durch die Erfindung wird ein Aufzeichnungsmaterial erhalten, das. ohne einen Empfindlichkeitsverlust
zu erleiden, gegen den Uberentwicklungsschleier wirksam geschützt ist. weil die darin enthaltenen Antischleiermittel
in ihrer funktionell gesteuerten Wirkung den bekannten Antischleiermitteln überlegen sind.
Die Herstellung der neuen Antischleiermittel erfolgt durch Umsetzung von mercaptogruppenhaltigcn Antischleiermitteln mit Chlorameisensäureestern in Gegenwart von Säureabfängern und läßt sich durch das folgende Reaktionsschema darstellen:
Die Herstellung der neuen Antischleiermittel erfolgt durch Umsetzung von mercaptogruppenhaltigcn Antischleiermitteln mit Chlorameisensäureestern in Gegenwart von Säureabfängern und läßt sich durch das folgende Reaktionsschema darstellen:
Cl — CO—Cl + HO—CHj-CHj — Z—B
-(I) Cl-CO-O-CH2-CH2-Z-B + HCI
A-SH-r Cl-CO — Ο — CH2-CH2-Z-B
-»(II) A-S-CO-O-CH2-CH2-Z-B 4- HCl
wobei A. B und Z die oben angegebene Bedeutung zukommt. Die Herstellung der als Zwischenprodukte
benötigten Chlorameisensäureester (I). die in der p-Stellungdes Phenylkeriies durch eine Methylgruppe
substituiert sind, ist von T. A. Kader und C. J. M.
Stirling in Proc. Chem. Soc, 1962. S. 363. beschrieben.
Die Synthese kann jedoch auch unter Verwendung von Chlorameisen-/>'-bromäthylester nach
dem folgenden Reaktionsschema durchgeführt werden:
(I) A-SH -t- Cl-CO-O-CH2-CH2-Br
-A-S-CO-O-CH2-CH2-Br + HCl
-A-S-CO-O-CH2-CH2-Br + HCl
(H)A-S-CO-O-CH2-CH2-Br-I-H-Z-E
♦A—S —CO-O — CH2-CH2-Z-B + HCl
Erfindungsgemäß geeignete Verbindungen sind folgende:
Verbindung 1
-N — C -- S — CO — O — CH2 — CH2 — S-
I ii
N N
CH1
Verbindung 2
f Vn
N N
CH3
Verbindung 3
I Il
N N
Verbindung 4
/~V- Ν — C-S-CO-O-CH,
\=/ I Il
CH2
N N
Verbindung 5
Cl
ΛΛ-Ν —C-S-CO-O-CH2-CH2-S-<
N N
Cl
Verbindung 6
/~Vn — c _ s - co - ο - CH2 - CH2 -:
I Il
N N
Λ /
Cl Cl
Verbindung 7
N C - S - CO — O — CH2 - CH2 - SO2
N N
Verbindung 8
N-C-S-CO-O-CH2-CH2-SO2
N N
Λ /
Verbindung 9
SC — S - CO - O - CH2 - CH2 - S
2061
'~O^~cH3
N — N
j-χ
Il Il
N — N
N N
H3C
Cl Ο
Cl
N N
Cl Cl
Cl
Cl Cl
α ei s
N — N
^-SO2-CH2-CH2-O-CO-NH-C C-S-CO-O-CH2-CH2-SO2-^
N N
H3C-^A-SO2-Ch2-CH2-O-CO-NH-C C-S-CO-O-CH2-CH2-SO2-^A-CH,
nachfolgend beschrieben, jedoch wird für deren Her- kristallisiert
stellung kein Schutz begehrt. Ausbeute: etwa 60% der Theorie; Fp. 47° C
103 g (0,05 Mol) Kalrumsalz des l-Phenyl-^mer- 6o Die Synthese erfolgt analog wie bei Verbii
captotetrazols werden ha 300 ml Aceton gelöst und durch Umsetzung des Kaliumsalzes von Ισα 5° C mit 11,5g (0,05 Mol) p-Tolyltbioäthyten- 5-mercaptotetrazoI mit 11,5 g (0,05 Mol) ι
chlorformiat in 50 ml wasserfreiem Aceton unter tbioäthylenchlorfonniat
Rühren tropfenweise versetzt. Nach beendeter Zugabe Ausbeute: etwa 60% der Theorie; Fp. 40°(
wird noch 5 Stunden bei Raumtemperator gerührt 65 ν«·ΚηΗι,ηβ -5
und über Nacht stehengelassen. Anschfießend wird veromaung 5
zum Sieden erwärmt, dasausgefanene Kaliumchlorid 10,8g (0,05 Mol) Kairamsalz des 1-Phen]
abfiltriert und im Vakuum eingeengt. Der ölige captotetrazols werden in 300 ml Aceton ge
bei 5° C mit 10,8 g(0,05 Mol) Phenylthioäthylcnchlorformiat in 50 ml wasserfreiem Aceton unter Rühren
tropfenweise versetzt. Nach beendeter Zugabe wird noch 5 Stunden bei Raumtemperatur gerührt und über
Nacht stehengelassen. Anschließend wird zürn Sieden erwärmt, das ausgefallene Kaliumbromid abfiltriert
und i?j Vakuum eingeengt. Der ölige Rückstand wird
mehrmals aus wenig Äthanol umkristallisicrt.
Ausbeute: etwa 60% der Theorie; Fp. 53°C.
Ausbeute: etwa 60% der Theorie; Fp. 53°C.
Verbindung 4
Die Synthese wird analog wie bei Verbindung I durch Umsetzung von l-Phenyl-5-mercaptotetrazol
Hit 12,6 g(0,05 MoOp-Chlorbenzolthioäthylenformiat
durchgeführt. Ausbeute: etwa 50% der Theorie; Fp. 58"C.
Verbindung 5
7,2 g (0,033 Mol) Kaliumsalz des l-Phenyl-5-mer-
«aptotetrazols werden in 200 ml Aceton gelöst und fcei 5"C unter Rühren mit 6,2 g (0,033 Mol) Chlorimeisensäure-/*-bromäthylester
versetzt. Die Lösung Wird bei Raumtemperatur über Nacht stehengelassen, anschließend filtriert und im Vakuum eingeengt. Der
ülige Rückstand aus l-Phenyl-5(thiokohlensäurc-0-bromäthylester)-tetrazol
wird ohne weitere Reinigung für die folgende Umsetzung verwendet: 6,4 g f0,03 Mol) 2,4,5-Trichlorthiophenol werden in 100 ml
Acc.on gelöst und mit 9,9 g (0,03 Mol) 1-Phenyl-3(thiokohlensäure-/J-bromäthylester)-tetrazol
in 50 ml Aceton unter Zusatz von i,2 g(0,03 Mol) Magnesium-Oxid versetzt. Die Aufschlämmung wird 4 Stunden
unter Rückfluß erwnrmt. filtriert und die acetonische Lösung im Vakuum eingeengt. Der Rückstand wird
mehrmals aus Methanol umkristallisiert. Ausbeute: 8.7 g(63% der Theorie): Fp. 138r C.
Verbindung 6
Die Synthese wird wie bei Verbindung 5 mit 8.5 g (0,03 Mol) Pentachlorthiophenol durchgeführt.
Ausbeute: 7.5 g (47% der Theorie); Fp. 98' C.
Verbindung 7
Die Herstellung erfolgt analog wie bei Verbindung i mit 13,1 g p-Tolylsulfonyläthylenchlorformiat.
Ausbeute: etwa 60% der Theorie; Fp. 115" C.
Verbindung 8
9.9 g (0,03 Mol) i-Phenyl-5(thiokohlensäure-/<-bromäthylester)-tetrazol
werden in 150 ml Aceton mit 6,0 g (0,03 Mol) Natriumsalz der p-ToluolsuIfinsäure
4 Stunden unter Rückfluß erwärmt. Nach dem Filtrieren wird die acetonische Lösung im Vakuum
eingeengt und der Rückstand mehrmals aus Methanol umkristaliisiert. SS
Ausbeute: 9,2 g (68% der Theorie); Fp. 137°C.
Verbindung 9
3,4 g (0,02 Mol) 2-Mercaptobenzthiazol werden in 200 ml Aceton gelöst und mit 0,8 g (0,02 Mol) Magnesiumoxid
versetzt. Hierzu wird bei 5° C unter Rühren tropfenweise eine Lösung von 4,6 g (0,02 Mol)
p-ToIylthioäthylenchlorfofmiat in 25 ml wasserfreiem
Aceton gegeben. Nach beendeter Zugabe läßt man «och 5 Stunden bei Raumtemperatur rühren und
ober Nacht stehen. Anschließend wird zum Sieden erwäimt, abfiltriert und die acetonische Lösung hn
Vakuum eingeengt. Der Rückstand wird aus wenig Äthanol umkristallisiert.
Ausbeute: 1,9 g (26% der Theorie); Fp. 176°C.
Ausbeute: 1,9 g (26% der Theorie); Fp. 176°C.
Verbindung 10
Die Synthese wird analog wie bei Verbindung 9 mit 5,4 g (0,02 Mol) p-ToIylsulfonyläthylenchlorformiat
durchgeführt.
Fp. 153° C.
Verbindung 11
3,0 g (0,02 Mol) 2,5-Dimercaptothiodiazol werden in 200 ml Aceton gelöst und mit 1,6 g (0,04 Mol)
Magnesiumoxid versetzt. Zu dieser Aufschlämmung wird bei 5° C unter Rühren tropfenweise eine Lösung
von 9,2 g (0,04MoI) p-Toiylthioäthylenchlorformiat
in 50 ml wasserfreiem Aceton gegeben. Nach beendeter Zugabe läßt man noch 5 Stunden bei Raumtemperatur
rühren und über Nacht stehen. Anschließend wird die Aufschlämmung zum Sieden erwärmt, abfiltriert und die acetonische Lösung im
Vakuum eingeengt. Der Rückstand wird aus wenig Äthanol umkristallisiert.
Ausbeute: 6,5 g (61% der Theorie); Fp. 94°C.
Verbindung 12
Die Synthese wird wie bei Verbindung 11 mit 10.5 g (0,04 Mol) p-TolylsuIfonyläthylenchlorformiat durchgeführt.
Ausbeute: 6.0 g (50% der Theorie); Fp. 151 C.
Verbindung 13
4,0 g(0,03 Mo!)2-Amino-5-mercaptothiodiazo! werden in 250 ml Aceton gelöst und mit 2,4 g (0,06 Mol)
Magnesiumoxid versetzt. Zu dieser Aufschlämmung wird bei 5° C unter Rühren tropfenweiae eine Lösung
von 13.9 g (0,06 Mol) p-Tolylthioäthylenchlorformiat
in 50 ml wasserfreiem Aceton gegeben. Nach beendeter
Zugabe läßt man noch 5 Stunden bei Raumtemperatur rühren und über Nacht stehen. Anschließend
wird die Aufschlämmung zum Sieden erwärmt, heiß filtriert und die acetonische Lösung im
Vakuum eingeengt. Der ölige Rückstand wird mehrmals aus Äthanol umkristallisiert.
Ausbeute: 11,1 g (71% der Theorie); Fp. 143"C.
Verbindung 14
Die Synthese wird wie bei Verbindung 13 mit
23,2 g (0,06 Mol) Pentachlorthioäthylenchlorformiat durchgeführt.
Ausbeute: 15,6 g (62% der Theorie); Fp. 232°C.
Verbindung 15
Die Synthese wird wie bei Verbindung 13 mit 15,0 g (0,06MoI) Benzolsulfonyläthylenchlorforiniat
durchgeführt.
Ausbeute: 9,7 g (58% der Theorie); Fp. 178°C.
Verbindung 16
Die Synthese wird wie bei Verbindung 13 mit
15,8 g (0,06MoI) p-Tolylsulfonyläthylenchlorformiat
durchgeführt.
Ausbeute: 11,4 g (65% der Theorie); Fp. 168°C
Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Aufoeichnungsmaterialien werden die Antischleiermittel den lichtempfindlichen Emulsionen oder auch den lichtunempfindlichen Mischungen, die zur Herstellung der Hilfsschichten, wie z.B. Zwischenschichten und
Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Aufoeichnungsmaterialien werden die Antischleiermittel den lichtempfindlichen Emulsionen oder auch den lichtunempfindlichen Mischungen, die zur Herstellung der Hilfsschichten, wie z.B. Zwischenschichten und
2061 11
Schutzschichten, dienen, zugesetzt. Der Zusatz erfolgt am vorteilhaftesten unmittelbar vor dem Vergießen
der Emulsionen bzw. Mischungen, es ist jedoch auch möglich, die Verbindungen zu einem anderen Zeitpunkt
zuzugeben. Bei Verwendung in der Emulsionsschicht selbst werden die Verbindungen vorzugsweise
in Mengen von 0,05 bis 5 mMol, bezogen auf 1,0 Mol Silberhalogenid, zugesetzt, während sie in den
Hilfsschichten in Mengen von 0,1 bis 5 mMol pro Mol Silberhalogenid in der angrenzenden Emulsionsschicht to
die beste Wirkung zeigen. Die jeweils optimale Menge hängt natürlich von der Art des Antischleiermittels
und der verwendeten Emulsion ab und kann von Fall zu Fall leicht ermittelt werden.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen können in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst und in dieser
Form zugesetzt werden. Falls die Löslichkeit der Verbindungen in mit Wasser mischbaren organischen
Lösungsmitteln zu gering ist, können sie auch in an sich bekannter Weise in mit Wasser nicht mischbaren
organischen Lösungsmitteln gelöst und in Form einer Dispersion zugesetzt werden. Geeignete Lösungsmittel
sind beispielsweise 4-Phenyl-1,3-dioxan. Tributylphosphat,
Diäthylphthalat. Äthylacetat und Phenylglykol.
Die erfindungsgemäßen Antischleiermittel können in den verschiedenartigsten Aufzeichnungsmaterialien
verwendet werden, z. B in nicht spektral sensibilisierten Materialien wie Röntgenfilmen, aber ebenso
auch in orthochromatisch und panchromatisch sensibilisierten Aufzeichnungsmaterialien.
Die erfindungsgemäßen Antischleiermittel können ferner in Mischung miteinander oder in Kombination
mit anderen Antischleiermitteln zur Anwendung gelangen.
Die nachfolgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen, ohne sie zu beschränken.
Es wurde eine spektral unsensibilisierte hochempfindliche Silberhalogenidemulsion hergestellt, die etwa
5 Gewichtsprozent Gelatine und etwa 10 Gewichtsprozent Silberhalogenid enthielt. Das Silberhalogenid
bestand zu 98 Gewichtsprozent aus Silberbromid und zu 2 Gewichtsprozent aus Silberjodid. Die so hergestellte
Emulsion wurde in die Teile A und B aufgeteilt. Teil A erhielt keinen Zusatz und diente als Vergleichsprobe.
Dem Teil B wurde pro Mol Silberbromid eine Lösung von 0,3 mMol der Verbindung 1,
gelöst in Aceton, zugesetzt.
Die Emulsion wurde auf einen Polyesterschichtträger vergossen and das erhaltene lichtempfindliche
Material in der üblichen Weise ausgewertet.
Hierzu wurden die Proben in Form der bekannten Prüfstreifen 2 Sekunden lang zwei Osramlampen
(Wi 9 2 66O0K) im Abstand von 1,2 m in einem
Graukeil-Sensitometer mit einer Keilkonstanten von D = 0,15/cm mit Filtern BG 3 (1,8 mm) und BG 38
(1,5 mm) belichtet und dann mit einem Entwickler der nachstehenden Zusammensetzung 25 Sekunden lang
bei Temperaturen von 35 und 39°C entwickelt:
Hydrochinon 30,00 g
I-Phenyl-3-pyrazolidon 1,00 g
Na2SO3 (wasserfrei) 60,0Og
KOH 23,00g
NaBO2 -4H2O 20,00 g
mit Wasser aufgefüllt auf 11
972
Dann wird mit einem üblichen Fixierbad fixiert, anschließend gewussert und getrocknet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten, wobei der einfacheren Vergleichsmöglichkeit wegen der
Wert für die Allgemeinempfindlichkeit der Vergleichsemulsion gleich 100 gesetzt wurde. Alle Empfindlichkeitswerte,
auch in den nachfolgenden Beispielen, wurden bei einer Schwärzung "on 0,5 über dem
Schleier gemessen.
Zusiit/
A Ohne
B Verbindung 1
35 C
Hnlwicklertcmpcratur
Hnlwicklertcmpcratur
r;mpfindlichkcil
100
107
107
Schleier
0,19 0,10
39 C fintwicklerteniperatur
Empfindlichkeit
115 125
Schleier
0,40 0,13
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,3 mMol der Verbindung 2 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 1 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Zusatz
A Ohne
B Verbindung2
350C
Entwicklertemperatur
Entwicklertemperatur
Empfindlichkeit
100
102
102
Schleier
0,20 0,09
39 C Entwicklertemperalur
Empfindlichkeit
107 120
Schleier
0,42 0.11
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,2,.iMol der Verbindung 3 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 1 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Zusatz
A Ohne
B Verbindung 3
35'C
EnI Wicklertemperatur
EnI Wicklertemperatur
Empfindlichkeit
100
105
105
Schleier
0,14
0,10
39'C Entwicklertemperatur
Empfindlichkeit
120 125
Schleier
0,33 0.13
Einer nach <*en Angaben von Beispiel I hergestellten
Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid eine acetonische Lösung von 0,2 mMol der
Verbindung 4 zugesetzt und die Emulsion wie im Beispiel 1 vergossen, belichtet und verarbeitet
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Zusatz
A Ohne
B Verbindung4
35'c
Empfindlichkeit
lOO
100
100
Schleier
0,19
39" C Entwicklertemperatur
Empfindlichkeit
120
123
Schleier
035 0,16
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,4 ir.Mol der Verbindung 5 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 1 vergossen, belichtet, in dem dort angegebenen Entwickler 3 und 12 Minuten lang bei 20°C
entwickelt und weiter wie im Beispiel 1 fixiert, gewässert und getrocknet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
/usut/
A Ohne
B Verbindung8
} Minuten
Entwicklungs/cil
Entwicklungs/cil
l.mpfind-Jichkeit
100
110
110
Schleier
0,04
0,03
0,03
12 Minuten Entwicklungszeit
limpfindlichkci.
144 158
Schleier
0,26 0.13
Zusatz
A Ohne
B Verbindung5
.1 Minuten
Entwicklungszeit
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
98
98
Schleier
0,06
0,05
0,05
12 Minuten Entwicklungszeit
fimpfindlichkeit
145 148
Schleier
0,32 0,14
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,1 mMol der Verbindung 9 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 1 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
/USilt/
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,4 mMol der Verbindung 6 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Λ Ohne
B Verbindung9
15 (
I rilwicklerlcmpcrauir
I rilwicklerlcmpcrauir
I mpfindlichkcit
100
105
105
Schleier
0,15 0,08
w (
l.nlwicklertcmpcratur
l.mpfindlichkcil
128 140
Schleier
0,43 0,13
Zusatz
A Ohne
B Verbindung 6
? Minuten
Entwicklungszeit
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
100
100
Schleier
0,04 0,03
12 Minuten Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
132 144
Schleier Einer nach den Angaben von Beispiel !hergestellten
Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid eine acetonische Lösung von 0,1 mMol der
Verbindung 10 zugesetzt und die Emulsion wie im Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
0,27 0,13 Zusatz
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,2 mMol der Verbindung? zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
A Ohne
B Verbindung 10
B Verbindung 10
J Minuten
Γ ntwicklungszeit
Γ ntwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
98
98
Schleier
0.06 0,04
12 Minuten Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
132 1J»2
Schleier
0,36 0,14
Zusatz
A Ohne
B Verbindung?
3 Minuten
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
98
98
Schleier
0,04
0,03
12 Minuten Entwicklungszeit
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergeste'" s
Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol SiWjer
bromid eine acetonische Lösung von 0,1 mMol dei Verbindung 11 zugesetzt und die Emulsion wie in
Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Empfindlichkeit
132 128
Schleier
0,33 0,15 Znsatz
A Ohne
B Verbindung 11
B Verbindung 11
3 Minuten
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
102
Schleier
0,04 0,03
12 Minuten EntwicKiUngszcit
Enipfindlichkeit
141 148
Schleier
Ο32 0,17
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,3 mMol der Verbindung 8 zugesetzt und die Emulsion v»ie hu
Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellte! Silberbromidjodidemulsion wurde pro MoI Silber
bromid eine acetonische Lösung von 0,1 mMol de
20 6i
Verbindung 12 zugesetzt und die Emulsion wie im Beispiel I vergossen, belichtet und verarbeitet
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten-
Zusai/
A Ohne
B Verbindung 12
B Verbindung 12
35 C
Enlwicklerlemperatur
Emplind-
p
lichkcii
100
112
112
Schleier
0,18 0,12
39 C-Hntwicklertemperatur
Schleier
Empfindlichkeil
107 120
0,42 0,19
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,2 mMol der
Verbindung 13 zugesetzt und die Emulsion wie im Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
IO
"5
Zusatz |
3 Minuten
Entwicklungszeit |
Schleier |
12 Minuten
Entwicklungszeit |
Schleier |
Empfind
lichkeit |
0,04 |
Empfind
lichkeit |
0,30 | |
A Ohne | 100 | 0,03 | 126 | 0,13 |
B Verbin dung 13 |
100 | 132 |
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,2 mMol der Verbindung 14 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Zusatz
A Ohne
B Verbindung 14
B Verbindung 14
3 Minuten
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
109
109
Schleier
0,05 0,05
12 Minuten Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
129 138
Schleier
0.26 0,12
Beispiel 15
Zusatz.
A Ohne
B Verbindung 15
i Minuten
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
98
98
Schleier
0,4
0,3
0,3
12 Minuten Entwicklungszeit
Empfindlichkeil
132 126
Schleier
0,35 0,09
Einer nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silber-
bromid eine acetonische Lösung von 0,1 mMol der Verbindung 16 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 5 veigossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
Zusatz
A Ohne
B Verbindung 16
B Verbindung 16
3 Minuten
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
100
105
105
Schleier
0,5
0,4
0,4
ΊΪ Minuten
Entwicklungszeit
Empfindlichkeit
129
129
129
Schleier
0,32
0,11
0,11
Eine nach den Angaben von Beispiel 1 hergestellte Silberbromidjodidemulsion wurde in 5 Teile geteilt.
Während Teil A unverändert als Vergleich auf einer Polyesterunterlage vergossen wurde, wurden die Teile
B, C, D und E jeweils pro Mol Silberbromid mit den folgenden Zusätzen in Form ihrer acetonischen Lösungen
versetzt:
B: 0,2 mMol l-Phenyl-5-carbäthoxythiotetrazol
(Verbindung 4 der DT-PS 1 189 380).
C: 0,4 mMol l-Phenyl-5-diäthylcarbamoyl-
C: 0,4 mMol l-Phenyl-5-diäthylcarbamoyl-
thiotetrazol
(Verbindung 8 der DT-OS 1 597 503).
D: 0,2 mMol Bis-1-Phenyl-tetrazolyl-
D: 0,2 mMol Bis-1-Phenyl-tetrazolyl-
5-dithiokohlensäureester
(Verbindung 1 der DT-OS 1 597 503).
E: 0,4 mMol l-Phenyl-5-p-tolylthioäthylen-
E: 0,4 mMol l-Phenyl-5-p-tolylthioäthylen-
carboxythiotetrazol
(Verbindung 1, erfindungsgemäß).
Die belichteten Prüfstreifen wurden wie im Beispiel 5 verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
40
45
Einer nach den Angaben von Beispiel I hergestellten Silberbromidjodidemulsion wurde pro Mol Silberbromid
eine acetonische Lösung von 0,1 mMol der Verbindung 15 zugesetzt und die Emulsion wie im
Beispiel 5 vergossen, belichtet und verarbeitet.
Dabei wurden folgende Ergebnisse erhalten:
60
3 Minuten | Schleier | 12 Minuten | Schleier | |
Zusatz | Entwicklungszeit | 0,08 | Entwicklungszeit | 0,28 |
Empfind
lichkeit |
0,06 |
Empfind
lichkeit |
0,13 | |
A Ohne | 100 | 125 | ||
B Verbin | 79 | 95 | ||
dung 4 | ||||
der DT-PS | 0,08 | 0,25 | ||
1 189 380 | ||||
C Verbin | 100 | 120 | ||
dung 8 | ||||
der DT-OS | 0,04 | 0,10 | ||
1 597 503 | ||||
D Verbin | 71 | 100 | ||
dung 1 | ||||
der DT-OS | 0,05 | 0,12 | ||
1 597 503 | ||||
E Verbin | 100 | 120 | ||
dung 1 | ||||
(erfindungs | ||||
gemäß) |
Wie ersichtlich, läßt sich beim bisherigen Stand der Technik (B, C, D) keine ausreichende Verbesserung
des rjberentwicklungsschleiers ohne Empfindlichkeitsverlust erzielen.
Claims (3)
1. Photographisches Aufzeichnungsmaterial, bestehend aus einem Schichtträger und mindestens
einer lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht
und gegebenenfalls lichtunempfindlichen Hilfsschichten, mit einem Antischleiermittel,
dadurch gekennzeichnet, daß es in der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht
und/oder in einer an sie angrenzenden lichtunempfindlichen Hilfssciiicht als Antischleiermittel
mindestens eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel enthält:
15
A-(Y-CO-O-CH2-CH2-Z-B)n
in der bedeutet A ein- bzw. zweiwertiger Rest eines Tetrazole, Thiodiazols, Thiazols, Oxazols
Imidazols, Benzthiazols, Benzoxazole, Benzimid azols, Pyrimidine oder Triazols, B ein Phenylresi
der einfach durch einen Alkyl- oder Oxalkylres oder ein- bis fünffach durch Chloratome substitu
iert sein kann, Y S, falls η = 1 und jeweil S oder S und NH, falls η = 2, Z S oder SO2
η = 1 oder 2.
2. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch I, da durch gekennzeichnet, daß in der allgemeinei
Formel A den Rest des l-Phenyltetrazolyls be
deutet.
3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 und2 dadurch gekennzeichnet, daß es ein Antischleier
mittel der folgenden Formel entl/äU:
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---|---|---|---|
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BE776719A BE776719A (fr) | 1970-12-16 | 1971-12-15 | Matiere photographique sensible a la lumiere |
JP10225971A JPS559696B1 (de) | 1970-12-16 | 1971-12-16 | |
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---|---|---|---|
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---|---|
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ID=5791193
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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JP (1) | JPS559696B1 (de) |
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US5358843A (en) * | 1993-08-20 | 1994-10-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photothermographic elements containing silyl blocking groups |
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-
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- 1971-12-16 JP JP10225971A patent/JPS559696B1/ja active Pending
-
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- 1973-05-22 US US00362737A patent/US3791830A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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