DE1106169B - Lichtempfindliches photographisches Material - Google Patents
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Description
DEUTSCHES
Die Erfindung bezieht sich auf die Verwendung von Antischleier- und Stabilisierungsmittel für photographische
Süberhalogenidemulsionen, und sie betrifft insbesondere die Verwendung von Carboxyalkyläthylpyridyl- oder
-chinolylthioäthern, bei welchen dieÄthylthioäthergruppe in der 2- oder 4-Stellung des Pyridin- oder Chinolinringes
steht, ihrer Salze und Ester für derartige Zwecke.
Es ist bekannt, daß lichtempfindliche Schichten aus Süberhalogenidemulsionen zu Schleierbildungen neigen.
Diese Schleierbildung kann auf verschiedene Ursachen zurückgeführt werden, z. B. durch übermäßiges Reifen der
Emulsionen während der Lagerung des Films oder des Papiers bei insbesondere erhöhterTemperatur undFeuchtigkeit
sowie längere Entwicklung der belichteten Emulsion.
Es ist bereits eine große Anzahl von Antischleiermitteln und Stabilisatoren beschrieben worden, die durch
die Verhinderung der Schleierbildung die Haltbarkeit der lichtempfindlichen Süberhalogenidemulsionen stabilisieren
oder regeln. Derartige Verbindungen sind z. B. Benzthiazol, Benzimidazol und deren 2-Mercaptoderivate.
Obgleich diese Verbindungen die Schleierbildung herabsetzen und dadurch die Stabilität erhöhen, besitzen sie
den Nachteil, daß sie die Empfindlichkeit der Emulsionen herabdrücken und sowohl die Allgemein- als auch ihre
Farbempfindlichkeit vermindern.
Es wurde nun gefunden, daß Carboxyalkyläthyl-2-
oder -4-pyridyl- oder -chinolylthioäther, ihre Salze und Ester nicht nur ausgezeichnete Stabilisierungs- und Antischleiermittel
für lichtempfindliche Süberhalogenidemulsionen sind, sondern außerdem diese Wirkung
zeigen, ohne die Allgemeinempfindlichkeit der Emulsion, der sie zugesetzt sind, herabzusetzen oder die Empfindlichkeit
gegenüber bestimmten Wellenlängen, welche auf die Anwesenheit sensibilisierender Farbstoffe zurückzuführen
ist, zu vermindern.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist daher die Verwendung der artiger Verbindungen zur Verhinderung der
Schleierbildung und zur Stabilisierung der Halogensilberschichten, indem die Verbindungen der Emulsion selbst,
den ihr benachbarten Schichten oder den Verarbeitungsbädern für die belichtete Schicht zugegeben werden.
Die erfindungsgemäß verwendbaren Verbindungen können durch die folgenden Formeln dargestellt werden:
CHa
Lichtempfindliches photographisches
Material
Material
Anmelder:
General Aniline & Film Corporation,
New York, N. Y. (V. St. A.)
New York, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter: Dr. W. Schalk, Dipl.-Ing. P. Wirth,
Dipl.-Ing. G. E. M. Dannenberg
und Dr. V. Schmied-Kowarzik, Patentanwälte,
Frankfurt/M., Große Eschenheimer Str. 39
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 13. März 1958
V. St. v. Amerika vom 13. März 1958
Fritz Dersch und Millet Rodger DeAngelus,
Binghamton, N. Y. (V. St. A.),
sind als Erfinder genannt worden
sind als Erfinder genannt worden
CH — S — (CH2)re · COOR
CH,
— CH — S — (CH2)„ · COOR
worin die Seitenkette in der 2- oder 4-Stellung des Pyridin- oder Chinolinringes steht, η eine ganze Zahl
von 1 bis 3 bedeutet und R für Wasserstoff oder einen Alkylrest, wie z. B. einen Methyl-, Äthyl-, Propyl-,
Butyl- oder Amylrest u. dgl., einen Oxyalkylrest, wie z. B. einen Oxymethyl-, Oxyäthylrest u. dgl., einen Carboxyalkylrest,
wie z. B. einen Carboxymethyl-, Carboxyäthylrest u. dgl., einen Arylrest, wie z. B. einen Phenyl-,
Tolyl-, Naphthyl-, Carboxyphenyl-, Sulfophenylrest
u. dgl., einen Aralkylrest, wie z. B. einen Benzylrest oder ein Kation, wie z. B. Wasserstoff, Natrium, Kalium,
Silber, Ammonium od. dgl., steht.
Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare Verbindungen, die unter die obigen Form * "illen, sind:
1. (%-2-Pyridyläthylthioessigsäure und u~ren Kalium-,
Natrium-, Silber- und Ammoniumsalze;
2. «-4-Pyridyläthylthioessigsäure und deren Methyl-,
Benzyl- und Phenylester;
3. ß-(α-2-Pyridyläthylthio)-propionsäure und deren
Natrium- und Ammoniumsalze;
4. /?-(a-4-Pyridyläthylthio)-propionsäure;
5. y-(«-2-Pyridyläthylthio)-buttersäure und deren Butylester;
6. y-(a-4-Pyridyläthylthio)-buttersäure;
7. «-2-Chinolyläthylthioessigsäure und deren Methyl-,
Butyl- und Benzylester;
8. α-4-Chinolyläthylthioessigsäure und deren Natrium-
und Kaliumsalze;
9. /9-(«-2-Chinolyläthylthio)-propionsäure;
109 579/374
10. β-(χ-4-Chinolyläthylthio)-propionsäure;
11. y-(x-2-Pyridyläthylthio)-buttersäure;
12. ^-(«^-ChinolyläthylthioJ-buttersäure.
Die obigen Verbindungen können unter Auswahl des gewünschten Vinylpyridins oder Vinylchinolins und der
gewünschten niederen aliphatischen Mercaptosäure mittels des aus der USA.-Patentschrift 2 810 724 bekannten
Verfahrens hergestellt werden. Hierbei wird ein Moläquivalent der niederen aliphatischen Mercaptosäure zu
dem gewählten Vinylpyridin oder -chinolin in Gegenwart eines Porymerisationsinhibitors, wie z. B. eines Antioxydationsmittels,
wie Hydrochinon, zugegeben. Bei der Reaktion wird Wärme freigesetzt, und man erhält
ein kristallines Produkt. Gegebenenfalls kann die Reaktionsmischung zur Vollendung der Umsetzung auf
mäßige Temperaturen, z. B. auf 40 bis 600C, erhitzt
werden. Nach dem Abkühlen wird das Reaktionsprodukt mit Äther oder Äthanol behandelt und durch Filtrieren
gesammelt. Das feste Produkt kann mit Holzkohle gereinigt und aus Äthanol umkristallisiert werden.
Die bei diesem Verfahren gebildete freie Säure kann in ihr Salz umgewandelt werden, indem sie mit einem
wasserlöslichen Salz, welches das gewünschte Kation enthält, wie z. B. Kaliumcarbonat, Natriumcarbonat,
Ammoniumcarbonat, Silbernitrat od. dgl., umgesetzt wird.
Die Ester werden auf übliche Weise hergestellt, indem die freie Säure mit dem gewünschten Alkohol oder Phenol
in Gegenwart von Chlorwasserstoff unter Rückflußkühlung erhitzt wird.
Günstige Wirkungen und eine Verminderung der Schleierbildung werden erzielt, wenn die obenerwähnten
Verbindungen den Silberhalogenidemulsionen als Reifungs- oder als Gießzusatz zugegeben werden. Reifungsmittel
werden während der Stufe des Emulsionsherstellungsverfahrens zugegeben, in welcher die Empfindlichkeit
der Emulsionen erhöht wird. Diese Zugaben können vor, während oder nach der Umsetzung des
löslichen Silbersalzes, z. B. Silbernitrat, durch lösliche Halogenide, wie Kaliumbromid, in Gegenwart eines
kolloidalen Trägers, wie z. B. Gelatine, PVA, löslich gemachtes Kasein oder Albumin, erfolgen.
Gießzusätze werden der Emulsion kurz vor dem Aufbringen auf einen geeigneten Träger, wie Glas, Papier
oder Film, zu dem Zeitpunkt zugegeben, an dem die Emulsion praktisch ihre maximale Empfindlichkeit
erreicht hat.
Als Reifungsmittel werden die ^Antischleiermittel oder
Stabilisatoren am besten in einer Konzentration von 1 bis 100 mg je 0,6 Mol Silberhalogenid und als Gießzusätze
in einer Konzentration von 10 bis 300 mg je 0,6 Mol Silberhalogenid verwendet. Die Konzentration
hängt in hohem Maße von der Art der verwendeten Emulsion ab, und es ist ratsam, die optimale Konzentration
von Fall zu Fall zu bestimmen. In einigen Fällen ist es zweckmäßig, das Antischleiermittel in einer der
lichtempfindlichen Schicht benachbarten Schicht unterzubringen, d. h. als Unterschicht oder als Oberflächen-Schutzschicht.
In anderen Fällen ist es zweckmäßig, das Antischleiermittel einem oder allen Verarbeitungs- oder
Vor- und Nachbehandlungsbädern zuzugeben.
Die obengenannten Antischleiermittel und Stabilisatoren können auch in Verbindung mit jeder beliebigen
anderen photographischen Emulsion angewendet werden, d. h. nicht sensibilisierten, orthochromatischen, panchromatischen,
Röntgenemulsionen, Papieremulsionen, Farbemulsionen od. dgl. Sie können auch in Verbindung
mit anderen Antischleiermitteln und Stabilisatoren, Reduktions- und Metall- und Edelmetallsensibilisatoren
oder in Verbindung mit Oxypolyäthylenoxyderivaten,
d. h. solchen, die durch Umsetzung von Äthylenoxyd mit einem Alkohol, Phenol, Amin od. dgl. erhalten werden
(vgl. USA.-Patentschrift 1 970 578), verwendet werden.
Die nachfolgenden Beispiele dienen zur Erläuterung
des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Es wurde auf übliche Weise eine Silberhalogenidemulsion in Gelatine hergestellt, die 2% Silber j odid und
ίο 98% Silberbromid enthielt; diese Emulsion wurde auf
ihre höchste Lichtempfindlichkeit gebracht. Sie wurde dann zum Vergießen vorbereitet, indem Zusätze, wie
sensibilisierende Farbstoffe, Härtungsmittel usw., zugegeben wurden. Darauf wurde der Emulsion eine l%ige
Lösung von α-4-Pyridyläthylthioessigsäure als Antischleiermittel
und Stabilisator zugegeben. Proben der Emulsion enthielten etwa 0,6 Mol Silberhalogenid. Die so
hergestellte Emulsion wurde auf einen geeigneten Celluloseesterfilm aufgetragen und getrocknet. Ein Teil
der Proben wurde 6 Tage bei einer Temperatur von 50° C und einer relativen Feuchtigkeit von 53% im Brutschrank
aufbewahrt, dann in einem II B-Sensitometer belichtet und schließlich mit einem Entwicklungsbad
der untenstehenden Zusammensetzung behandelt; ein Teil wurde ohne Brutschrankbehandlung entwickelt.
Metol 1,5 g
Natriumsulfit, wasserfrei 45 g
Natriumbisulfit Ig
Hydrochinon 3 g
Natriumcarbonat, Monohydrat 6 g
Kaliumbromid 0,8 g
Wasser auf 11
Unbehandelte Proben | Relative | Schleier | Im Brutschrank | Schleier |
Licht | dichte bei 12' | behandelte Proben | dichte bei 6' | |
empfind | Entwicklung | Entwicklung | ||
Zugegebene | lichkeit | 0,75 | Relative | 0,50 |
Verbindung | 150 | 0,52 | Empfind | 0,28 |
150 | 0,50 | lichkeit | 0,26 | |
0 | 150 | 150 | ||
25 mg | 150 | |||
200 mg | 150 | |||
Das Antischleiermittel besaß die folgende Formel:
COOH
Diese Verbindung wurde hergestellt, indem 4,6 g Mercaptoessigsäure zu 5,25 g 4-Vinylpyridin (welches
0,1 Gewichtsprozent Hydrochinon als Polymerisationsinhibitor enthielt) zugegeben wurden, worauf eine
exotherme Reaktion unter Bildung eines kristallinen Produktes stattfand. Die Reaktionsmischung wurde
15 Minuten auf 6O0C erhitzt und dann abkühlen gelassen.
Darauf wurde das Reaktionsprodukt mit Äther behandelt und durch Filtration gesammelt. Der Feststoff wurde
mit Holzkohle gereinigt und aus Methanol umkristallisiert, wobei eine weiße kristalline Verbindung erhalten
wurde, die bei 151 bis 152° C schmolz.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wobei jedoch die «-4-Pyridyläthylthioessigsäure durch eine
äquivalente Menge Λ-2-Pyridyläthylthioessigsäure ersetzt
wurde. Es wurden praktisch die gleichen Ergebnisse erzielt wie im Beispiel 1.
Die Antischleiermittel dieses Beispiels wurden auf die im Beispiel 1 beschriebene Weise hergestellt, wobei jedoch
an Stelle von 4-Vinylpyridin 2-Vinylpyridin verwendet
wurde. Das Antischleiermittel besaß die folgende Formel:
N:'
CH3-CH-S-CH2-COOH
Beispiel 3
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wobei jedoch eine äquivalente Menge /3-(«-4-Pyridyläthylthio)-propionsäure
verwendet wurde.
Diese Verbindung wurde gemäß dem Beispiel der USA.-Patentschrift 2 810 724 hergestellt.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wobei jedoch als Antischleiermittel y-(a-4-Pyridyläthylthio)-buttersäure
verwendet wurde. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie im Beispiel 1 erzielt.
Das Antischleiermittel wurde gemäß dem Verfahren der USA.-Patentschrift 2 810 724 hergestellt, wobei
jedoch an Stelle von /J-Mercaptopropionsäure y-Mercaptobuttersäure
verwendet wurde.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, wöbe1
jedoch als Antischleiermittel /3-(<x-4-Chinolyläthylthio)-propionsäure
verwendet wurde.
Dieses Antischleiermittel wurde gemäß dem Verfahren der USA.-Patentschrift 2 810 724 hergestellt, wobei
jedoch an Stelle von 4-Vinylpyridin 4-Vinylchinolin
verwendet wurde.
35
Eine belichtete Probs eines photographischen Film wurde 12 Minuten bei 650C in einen Standard-Metol-Hydrochinon-Entwickler
entwickelt. Eine weitere belichtete Probe wurde mit der gleichen Entwicklerlösung
behandelt, wobei jedoch der Lösung 100 mg der Verbindung
des Beispiels 1 je Liter Entwickler zugegeben wurden. Sensitometrische Streifen, die in dem üblichen
Entwicklerbad als Kontrolle entwickelt wurden, zeigten eine Schleierbildung von 0,30, während die Streifen,
welche mit dem das Antischleiermittel enthaltenden Entwickler behandelt worden waren, eine Schleierbildung
von 0,20 zeigten.
Das Verfahren des Beispiels 6 wurde wiederholt, wobei jedoch als Antischleiermittel y-(<x-2-Chinolyläthylthio)-buttersäure
verwendet wurde. Die Ergebnisse waren die gleichen wie im Beispiel 6.
Claims (6)
1. Lichtempfindliches photographisches Material, bestehend aus einem Träger und einer lichtempfindlichen
Silberhalogenidemulsionsschicht, wobei das
55
lichtempfindliche Material als Antischleiermittel eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formeln enthält:
CH3
/\ I
-!— CH — S — (CH2)M · COOR
CH,
-|— CH — S — (CH2)ffi -COOR
in denen η eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, R für einen
Alkyl-, Aryl- oder Aralkylrest oder ein Kation steht und die Seitenketten in der 2- oder 4-Stellung des
heterocyclischen Ringes stehen.
2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich das Antischleiermittel
in der Silberhalogenidschicht befindet.
3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich das Antischleiermittel
in einer der lichtempfindlichen benachbarten Schicht befindet.
4. Lichtempfindliches Material, bestehend aus einem Träger und einer darauf aufgebrachten Silberhalogenidschicht,
wobei die Emulsion als Antischleiermittel eine «-4-Pyridyläthylthioessigsäure enthält.
5. Verfahren zur Verminderung und Verhinderung der Schleierbildung in lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterialieii,
die aus einem Träger und einer auf diesen aufgebrachten lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsion
bestehen, dadurch gekennzeichnet, daß diese Emulsion in Gegenwart einer Verbindung
der folgenden Formeln
CH,
-,—CH — S — (CH2)m · COOR
CH,
+-CH — S — (CH8),, · COOR
in denen η eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, R für einen
Alkyl-, Aryl-, Aralkylrest oder ein Kation steht und die Seitenketten in der 2- oder 4-Stellung des heterocyclischen
Ringes stehen, als Antischleiermittel gereift, vergossen, belichtet oder entwickelt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Antischleiermittel cv-4-Pyridyläthylthioessigsäure
verwendet wird.
© 109 579/37* Ψ.
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