DE2029020A1 - Vakuum-Aufdampfgerat - Google Patents

Vakuum-Aufdampfgerat

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DE2029020A1
DE2029020A1 DE19702029020 DE2029020A DE2029020A1 DE 2029020 A1 DE2029020 A1 DE 2029020A1 DE 19702029020 DE19702029020 DE 19702029020 DE 2029020 A DE2029020 A DE 2029020A DE 2029020 A1 DE2029020 A1 DE 2029020A1
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DE
Germany
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holder
frame
evaporation device
axis
rotatable
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DE19702029020
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DE2029020B2 (de
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Jan Roland: Martensson John Olof;Taby Jacobsson (Schweden). P
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AGA AB
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AGA AB
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Dipi.-Ing. Η. Strohschänk
8 München 60 12.6.1970-SLa
Musöusstraße 5 190-Ö46P
CSchweden)
Vakuum-Aufdamp fgerät
Die Erfindung bezieht sich auf ein Gerät zum gleichzeitigen oder aufeinanderfolgenden Vakuum-Aufdampfen von Substanzen auf mehrere Oberflächen, bestehend aus einer an eine Absaugequelle angeschlossenen Vakuumkammer, in der außer einer die Substanzen vor ihrer Verdampfung aufnehmenden Abdampfvorrichtung ein
um sich selbst drehbar gelagerter sowie die zu beschichtenden
Oberflächen aufweisende Substrate tragender Halter angeordnet
ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, beim gleichzeitigen oder aufeinanderfolgenden Beschichten mehrerer Oberflächen auf allen in einem Arbeitsgang beschichteten Oberflächen genau gleichartige und gleich dicke Schichten zu erzeugen, so daß
die beschichteten Substrate, z.B. optische Filterglasscheiben, genau gleiche Eigenschaften aufweisen.
Die gestellte Aufgabe ist erfindungsgemäß im wesentlichen
dadurch gelöst, daß die Drehachse des Haltens des eingangs
genannten Aufdampf gerät ea eine von der von der Abdampfvor-
rijh'unr; /.um Halter vas' laufend rm Richtung abv/eiohende Richtung !-'.Lv-ILt ur* i -It :i ι L■■.·■£■ in.\->viUitü, um eine v/eiitere» durch
l-i -./£■'ί-π ν j iif. ι'»., · iüi'f.ui.i k'.hsje dpöhbjr gelagert ■ Lot,
BAD ORIGINAL
deren Richtung von der ecätgenannten Richtung abweicht.
Bei einem solchen doppelten Drehantrieb des die Substrate tragenden Halters ergibt sich während der gleichzeitigen Bedampfung der Substrate deren "außerordentlich gleichmäßige und gleichartige Beschichtung»
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist ein Lager de& Halters an einer UmfangssteXle eines Rahmens angeordnet, der in einer im wesentlichen waagerechten Ebene angeordnet und um sich selbst drehbar ist.
Andere Ausgestaltungen betreffen weitere konstruktive Einzelheiten des erfindungsgemäßen Aufdampfgerätes.
In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise veranschaulicht j es zeigen;
Fig. 1 das Aufdampfgerät in einem schematisch gehaltenen lotrechten Schnitt ·,
Fig. 2 einen drehbaren Halter des Gerätes in einer Stirnansicht;
Fig. 3 einen gegenüber Fig. 2 abgewandelten Halter des Aufdampfgerätes in einer gleichen Stirnansicht j
Fig. 4 eine zweite Ausführungsforro dös Aufdampfgerätes zum gleichzeitigen Beschichten einer großen Zahl von Oberflächen (in einer der Fig, I ähnlichen Schemadarstellung),
Das in Fig. 1 dargestellte Vakuum-Aufdampfgerät-weist eine Grundplatte .1 auf, auf der1 eine Glocke 2 mittels einer Dichtung 2\ vakuumdicht angeordnet ist. Die dadurch gebildete· Vakuum- !■■immer J si; in-üb L lehn r Wt use in ;j i.na Abaauvjaquol.te 2l> ange- ;..: Lfi.-jsii-n , llhv.v db: Ln aur Kummer ein Vakuum ^raeugt werden !,
0 Q a i 8 2 /Ί 811
Auf der Grundplatte 1 iet eine Abdampfvorrichtung 3 angeordnet , die eine zur Aufnahme der zu verdampfenden Substanzen dienende Ringnute aufweist und durch eine Heizvorrichtung 25 beheizbar ist, die über Kontakte 26 in nicht besonders dargestellter Weise an eine Stromquelle angeschlossen werden kann.
Die zu beschichtenden Substrate sind an einer Anzahl von Haltern U festgelegt, von denen in Fig. 1 zwei dargestellt sind. Jeder Halter ^ ist über eine mit ihm verbundene Welle 5 um sich selbst drehbar und an einem Lager 6 gelagert. Die das Lager 6 durchsetzende Welle 5 trägt an ihrem freien Ende ein Antriebsrad 7, welches in nachstehend noch beschriebener Weise zum Drehantrieb des zugeordneten Halters 4 dient.
Die Lager 6 sind auf einem ringförmigen Rahmen 8 verteilt angeordnet, der sich-innerhalb eines etwas größeren Stützringes 9 in einer waagerechten Ebene befindet. Auch der auf einem Ständer 10 gelagerte Stützring 9 befindet sich etwa in der gleichen waagerechten Ebene. Dabei stützen sich, wie aus Fig. 1 ersichtlich, die Antriebsräder 7 auf dem Stützring 9 ab, wodurch zugleich der ganze Rahmen 8 mit den Haltern H auf dem Stützring 9 um seine eigene Achse drehbar gelagert
'■
Zum Drehantrieb des Rahmens 8 dient ein am Ständer 10 angeordneter Elektromotor 11, auf dessen radial zum Stützring 9 verlaufender Abtriebswelle ein an der Unterseite des ringförmigen Rahmens 8 angreifendes Antriebsrad 12 festgelegt ist. Bei eingeschaltetem Elektromotor 11 werden über das Antriebsrad 12 nicht nur der Rahmen 8, sondern über die bei umlaufendem. Rahmen 8 auf dem Stützring 9 abrollenden Antriebsräder 7 und die Wellen 5 auch alle Halter H rotierend angetrieben.
009882/1931 BADOfflGiNAL
K 1 » * 1 1 J ' -V
Dabei verlaufen die Wellen 5 innerhalb je einer zur Drehachse des Rahmens 8 axialen Ebene in einer solchen Richtung, daß die von der Abdampfvorrichtung 3 zu jedem Halter M- verlaufende Richtung 13 von der Drehachse des zugeordneten Halters M- abweicht.
Gemäß Fig. 2 besteht jeder Halter M- aus einem festen Körper mit einem, in Achsrichtung gesehen polygonalen Profil, welches nach dem Ausführungsbeispiel acht Polygonflächen aufweist. Die zu beschichtenden Substrate 14 bestehen gemäß dem Ausführungsbeispiel aus Filterscheiben mit zueinander planparallelen Flächen und sind über jeweils eine derselben an einer zugeordneten Polygonfläche des Halters M- festgehalten, so daß die zu beschichtende andere Oberfläche parallel zur zugeordneten Polygonfläche verläuft. Die Scheiben können beispielsweise optische Filter sein, von denen zunächst die eine Oberfläche und anschließend - nach einer entsprechend umgekehrten Festlegung am Halter M- - die andere der zu beschichtenden, zueinander planparallelen Flächen beschichtet wird.
Der in Fig. 3 dargestellte abgewandelte Halter 15 weist lediglich zwei zueinander parallele gegenüberliegende Aufnahmeflächen für zwei Substrate 17 und 18 auf und ist im übrigen ähnlich dem ersten Ausführungsbeispiel um eine Welle 16 drehbar. Dabei ist auch die Welle 16 innerhalb der Vakuumkammer oberhalb der Abdampfvorrichtung 3 in einer solchen Richtung gelagert, die von der von der Abdampfvorrichtung zum Halter 15 verlaufenden Richtung abweicht. Auch die Substrate 17 und 18 können optische Filterscheiben sein, die zu beschichten sind.
009882/1931
Wenn eine große Zahl von Substraten zugleich beschichtet werden soll, empfiehlt sich eine Ausbildung des Aufdampfgerätes in der aus Fig. ·+ ersichtlichen Weise» Hier besteht die Abdampfvorrichtung 19 aus einem in der Mitte der Vakuumkammer um seine lotrecht verlaufende Achse drehbaren Rohr, welches entlang seinem Außenumfang verteilt eine große Zahl von etwa kreisförmigen Mulden 20 zur Aufnahme der Substanzen aufweist. Jede Mulde 20 kann in an sich bekannter, nicht besonders dargestellter Weise durch ein Sieb oder Gitter verdeckt sein. Die Beheizung der Abdampfvorrichtung 19 kann durch ein unmittelbares Erhitzen des an eine Stromquelle angeschlossenen Rohres erfolgen. ·
Um die Abdampfvorrichtung 19 herum ist entlang einem konzentrischen Kreis eine Anzahl von Wellen 22 in ebenfalls jeweils lotrechter Richtung und drehbar gleichmäßig verteilt angeordnet. Auf jeder Welle 22 sind übereinander in einer etwa der Länge des Rohres der Abdampfvorrichtung 19 entsprechenden Höhe etliche Halter 21 festgelegt, die die Substrate in gleicher Weise wie die Halter 1^ des ersten Ausführungsbeicpiels tragen. Während des Betriebes dieses Aufdampfgerätes drehen sich zugleich mit der Abdampfvorrichtung 19 auch alle Wellen 22 nebst Halter 21, und es können schließlich außerdem auch alle Wellen 22 auf einem um die Achse der Abdampf vor richtung 19 rotierenden (nicht dargestellten) Ring angeordnet sein.
BAD ORIGINAL
Ό09β9-?'/1931 . '■ . .-.

Claims (1)

  1. rl?) Gerät zum gleichzeitigen oder» aufeinanderfolgenden Vakuum-Aufdampfen von Substanzen auf mehrere Oberflächen, bestehend aus einer an eine Absaugequelle angeschlossenen Vakuumkammer, in der außer einer die Substanzen vor ihrer Verdampfung aufnehmenden Abdampfvorrichtung ein um sich selbst drehbar gelagerter sowie die zu beschichtenden Oberflächen aufweisende Substrate tragender Halter angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehachse (5 bzw. 16 bzw. 22) des Halters (H bzw. 15 bzw. 21) eine von der von der Abdampfvorrichtung (3 bzw. 19) zum Halter verlaufenden Richtung (z.B. 13) abweichende Richtung aufweist und der Halter (H bzw. 15 bzw. 21) außerdem um eine weitere, durch die Abdampfvorrichtung (3 bzw. 19) verlaufende Achse drehbar gelagert ist, deren Richtung von der erstgenannten Richtung (z.B. 13) abweicht.
    2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß beide Drehbewegungen des Halters (H bzw. 15 bzw. 21) von einem gemeinsamen Antriebsmotor (z.B. 11) her erzeugbar sind»
    3, Gerät nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet9 daß ein Lager (6) des Halters (z.B. H) an einer Umfangsstelle eines Rahmens (8) angeordnet ist, der in einer im wesentlichen waagerechten Ebene angeordnet und um sich selbst drehbar ist.
    H. Gerät.nach den Ansprüchen 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmen (8) vom Antriebsmotor (11) her drehbar ist.
    0098 82/1931 bad .obminai.
    5. Gerät nach Anspruch 1^, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmen (8) ein um seine Achse drehbarer Kreisring ist und konzentrisch zu ihm ein feststehender Stützring (9) angeordnet ist, auf dem ein zugleich zum Drehantrieb des Halters (z.B. Ό dienendes, auf dessen Achse (Welle 5) festgelegtes Antriebsrad (7) abrollbar anliegt.
    6. Gerät nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem Rahmen (8) entlang dessen Umfang verteilt mehrere Halter (z.B.M-) konzentrisch verteilt angeordnet sind und der Rahmen (8) über die zugeordneten Antriebsräder (7) auf dem Stützring (9) gelagert ist.
    7. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der bzw. jeder Halter (4 bzw. 21) die Querschnittsform eines regelmäßigen, die zu bedampfenden Oberflächen entlang seinem Umfang aufweisenden Polygons aufweist.
    8. Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Umfangsflächen des Polygons selbst die zu bedampfenden Oberflächen sind.
    9. Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zu bedampfenden Oberflächen die Oberflächen optischer Filter (Substrate 14) sind, die an den Umfangsflachen des Polygons mit zu diesen Flächen paralleler Oberfläche gehalten sind.
    0098 82/1931
    Leerseite
DE19702029020 1969-06-13 1970-06-12 Vakuum-bedampfungsvorrichtung Pending DE2029020B2 (de)

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GB (1) GB1317052A (de)
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JPS4842352B1 (de) 1973-12-12
SE335294B (de) 1971-05-17
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GB1317052A (en) 1973-05-16

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