DE2014122A1 - Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Rutheniumüberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses Verfahrens - Google Patents
Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Rutheniumüberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses VerfahrensInfo
- Publication number
- DE2014122A1 DE2014122A1 DE19702014122 DE2014122A DE2014122A1 DE 2014122 A1 DE2014122 A1 DE 2014122A1 DE 19702014122 DE19702014122 DE 19702014122 DE 2014122 A DE2014122 A DE 2014122A DE 2014122 A1 DE2014122 A1 DE 2014122A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ruthenium
- carrying
- coatings
- indium
- elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 title claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N Ammonium sulfamate Chemical compound [NH4+].NS([O-])(=O)=O GEHMBYLTCISYNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical group [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010327 methods by industry Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/54—Electroplating: Baths therefor from solutions of metals not provided for in groups C25D3/04 - C25D3/50
Description
Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Ruth&niumÜberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses Verfahrens
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen elektrolytischer
Rutheniumüberzüge und ein wässriges Elektrolysebad zur Durchführung des Verfahrens.
Es ist bekannt, elektrolytische Rutheniumüberzüge bei verschiedenen
Stromdichten herzustellen, indem als Elektrolyt ein Komplexsalz der Formel (NH.) [Ru CIg(H2O) nJ , verwendet
wird, das 3^»^ Gew.-^ Ruthenium enthält.
Die so erhaltenen Rutheniuniabscheidungen weisen jedoch erhebliche innere Spannungen auf, die bei Schichtdicken
über 1,0 bis 1 ,5 /um zur Rissbildung in den Schichten
führen. Die technischen Anwendungen von Ruthenium erfordern dagegen in den nieisben Fällen Schichtdicken von 2, 5 bis
~~) /Lim.
-2-
0098437 167 4
BAD ORIGINAL
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, technische Vorkehrungen zu schaffen, die eine Abscheidung von mehr als
5 /um dicken gleichmässigen Rutheniumschichten ermöglichen,
die weder mit blossem Auge noch bei 500-facher Vergrösserung
Risse oder Sprünge erkennen lassen.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäss in verfahrenstechnischer
Hinsicht dadurch gelöst, dass die wässrige Lösung einer Rutheniumverbindung, die 0,5 bis 50 g/l Ruthenium enthält,
elektrolysiert wird und dass diese Lösung zusätzlich mindestens eine stabile und lösliche Verbindung mindestens
eines der Elemente der dritten Hauptgruppe des Periodensystems der Elemente (PSE), insbesondere Gallium, Indium
und Thallium in einer Konzentration von 50 mg/l bis zur
Sättigungskonzentration enthält.
Das Elektrolysebad zur Durchführung dieses Verfahrens ist erfindungsgemäss dadurch bestimmt, dass es aus einer
wässrigen Lösung einer Rutheniumverbindung besteht, die 0,5 bis 50 g/l Ruthenium enthält und zusätzlich mindestens
eine stabile und lösliche Verbindung mindestens eines der Elemente der dritten Hauptgruppe des PSE, insbesondere
Gallium, Indium und Thallium in einer Konzentration von 50 mg/l bis zur Sättigungskonzentration enthält.
Der Zusatz stabiler und wasserlöslicher Verbindungen von
Elementen der dritten Hauptgruppe des PSE, insbesondere von Ga, In und/oder Th führt zu wesentlich duktileren
Abscheidungsschichten. Diese Metallverbindungen, die
während der Elektrolyse in der Kathodenschicht auftreten,
verändern die Kathodenpolarisation und die Kristallisub
i onsbod iiigurigeri und führen zu Überzügen, die sich
0098 4 Ί/1674
20U122
wesentlich von denjenigen unterscheiden, die mit dem
herkömmlichen Verfahren zu erhalten sind. Sie haben ein anderes Aussehen (glänzender und weniger stumpf), andere
mechanische Eigenschaften (duktiler, keine Hisse) und
insofern auch eine andere Zusammensetzung, als die Zusatzelemente während der Elektrolyse gemeinsam mit dem
Ru abgeschieden werden.
Als Nebeneffekt der vorgenannten Zusätze werden eine
leichte Verbesserung der Kathodenausbeute, insbesondere
bei hohen Stromdichten, sowie eine verbesserte Festigkeit der Makro- und Makrostruktur beobachtet.
Bei spiel 1 ;
Es wurde ein Bad folgender Zusammensetzung hergestellt
Ruthenium
Indium
Ammoniumsulfamat PH-¥ert -
Badtemperatür
Stromdichte
IO g/l als Komplex (NH,(),5 £Ru2C1s (H2O
3't, *4 Gew. -*) Hu,
mit
■5 g/l (als Sulfat), 15 g/l (Leitfähigkeitssalz),
mit NH1OH, HCl und/oder
H SO, auf 1,5 eingestellt, 60°C und
1 A/dm2.
1 A/dm2.
Die hochglänzenden Abscheidungen, die in vergoldeten
Messingbehältern erhalten wurden, zeigten weder für das
009843/1674
20U122
blosse Auge, noch unter dem Mikroskop Sprünge oder Haarrisse, und das bei Schichtdicken bis zu 10 /um, die mit
einer Abscheidungsgeschwindigkeit von 12 mg/A.min, d.h.
mit 1 /um pro 9 min, erhalten wurden. Die so abgeschiedenen* Überzüge enthielten ca. 1,2 bis 1,5 % Indium.
Es wurden Abscheidungen mit Hilfe des wie folgt zusammengesetzten Bades erhalten:
Ruthenium 10 g/l als Komplex
Indium 3 g/l (als Sulfamat),
Ammoniumsulfamat 5 g/l,
Amidöschwefelsäure 5 g/l,
Amidöschwefelsäure 5 g/l,
Schwefelsäure bis zu einem ρ -Wert von
1,0 bis 1,5
Badtemperatur 65 bis 70 C,
Stromdichte 1 A/dm .
Die hochglänzenden Abscheidungen, die in vergoldeten
Messingbehältern erhalten wurden, zeigten weder für das blosse Auge, noch unter dem Mikroskop Sprünge oder Haarrisse,
und das bei Schichtdicken bis zu 10yum, die mit einer Abscheidungsgeschwindigkeit von 11 mg/A· min erhalten
wurden. Die Abscheidungen enthielten etwa 1,0 bis 1,3 $ Indium.
-5-
009843/1674
2OU122
Die Beispiele dienen lediglich zur besseren Erläuterung der Erfindung, da diese selbstverständlich nicht auf
diese Beispiele begrenzt ist.
Die Erfahrung hat gezeigt, dass die besten Ergebnisse mit Indium und Gallium erzielt werden, da Thallium
weniger löslich ist und zu teilweiser Kristallisation neigt.
Die Wirkung der Zusätze ist ab Konzentrationen der Grössenordnung
von 100 mg/l spürbar, wobei jedoch das Wirkungsmaximum
bei der Zugabe von beispielsweise *5 g/l an Indium
erzielt wird. Mit höheren Konzentrationen ist keine zusätzlich spürbare Wirkung zu erzielen.
Bei ρ -Werten oberhalb von 1,5 erhaltene Abscheidungen
xi
zeigen weniger Glanz und neigen verstärkt zur Ausbildung
von Mikrorissen und Sprüngen, welche das Aussehen beeinträchtigen.
Die Kathodenausbeute nimmt mit der Temperatur zu und ist zwischen 60 und 80 C praktisch konstant. Die Kathodenausbeute
neigt bei steigender Stromdichte zur Verringerung.
Die Überzüge können auf jede Unterlage aufgebracht werden,
die die Elektroabscheidung gestattet, insbesondere auf die gleichen Unterlagen, die die Abscheidung von Gold gestatten,
also Messing, Nickel, Titan usw.
-6-
9843/167
20U122
Zur Gewährleistung einer guten Haftfähigkeit und zur
Einschränkung der Ausbildung von porösen Überzügen ist es in manchen Fällen vorteilhaft, vor der elektrolytischen
Rutheniumabscheidung eine Goldschicht auf die Unterlage aufzubringen.
-7-
009843/1674
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung .elektrolytischer Ruthenium-Überzüge,
dadurch gekennzeichnet, dass die wässrige Lösung einer Rutheniumverbindung, die 0,5 bis 50 g/l
Ruthenium enthält, elektrolysiert wird und dass dieser
Lösung zusätzlich mindestens eine stabile und lösliche Verbindung mindestens eines der Elemente der dritten
Hauptgruppe des Periodensysteme der Elemente (PSE), insbesondere Gallium, Indium· und Thallium in einer
Konzentration von 50 mg/l bis zur Sättigungskonzentration enthält.
2. Wässriges Bad zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es aus einer
wässrigen Lösung einer Rutheniumverbindung besteht, die 0,5 bis 50 g/l Ruthenium enthält und zusätzlich
mindestens eine stabile und lösliche Verbindung zumindest eines der Elemente der dritten Hauptgruppe
des PSE, insbesondere Gallium, Indium und Thallium,
in einer Konzentration von 50 mg/l bis zur Sättigungskonzentration
enthält.
Jae/MP/Hi -22 277
009843/1674
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH427769A CH508055A (fr) | 1969-03-21 | 1969-03-21 | Procédé de placage électrolytique de ruthénium, et bain aqueux pour la mise en oeuvre de ce procédé |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2014122A1 true DE2014122A1 (de) | 1970-10-22 |
DE2014122B2 DE2014122B2 (de) | 1978-10-05 |
DE2014122C3 DE2014122C3 (de) | 1979-05-10 |
Family
ID=4273098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2014122A Expired DE2014122C3 (de) | 1969-03-21 | 1970-03-19 | Wäßriges saures Rutheniumbad zur galvanischen Abscheidung von Ruthenium |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3630856A (de) |
JP (1) | JPS4926175B1 (de) |
AT (1) | AT301977B (de) |
BE (1) | BE747595A (de) |
CA (1) | CA920084A (de) |
CH (1) | CH508055A (de) |
DE (1) | DE2014122C3 (de) |
DK (1) | DK124960B (de) |
ES (1) | ES377773A1 (de) |
FR (1) | FR2037241B1 (de) |
GB (1) | GB1300153A (de) |
NL (1) | NL7004066A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3219666A1 (de) * | 1981-06-02 | 1982-12-16 | Hooker Chemicals & Plastics Corp., 48089 Warren, Mich. | Bad zur galvanischen abscheidung von ruthenium auf einem substrat und ein verfahren zur abscheidung von ruthenium auf einem substrat mit diesem bad |
DE19741990C1 (de) * | 1997-09-24 | 1999-04-29 | Degussa | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von spannungsarmen, rißfesten Rutheniumschichten, Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1407592A (en) * | 1971-12-17 | 1975-09-24 | Int Nickel Ltd | Electrodeposition of ruthenium |
GB1520140A (en) * | 1976-06-08 | 1978-08-02 | Inco Europ Ltd | Electrodeposition of ruthenium |
US4082622A (en) * | 1977-04-20 | 1978-04-04 | Gte Automatic Electric Laboratories Incorporated | Electrodeposition of ruthenium |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB959052A (en) * | 1962-01-02 | 1964-05-27 | Johnson Matthey Co Ltd | Improvements in and relating to the electro-deposition of rhodium |
-
1969
- 1969-03-21 CH CH427769A patent/CH508055A/fr not_active IP Right Cessation
-
1970
- 1970-03-17 GB GB02824/70A patent/GB1300153A/en not_active Expired
- 1970-03-19 BE BE747595D patent/BE747595A/xx unknown
- 1970-03-19 DE DE2014122A patent/DE2014122C3/de not_active Expired
- 1970-03-20 FR FR707010260A patent/FR2037241B1/fr not_active Expired
- 1970-03-20 US US21533A patent/US3630856A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-03-20 NL NL7004066A patent/NL7004066A/xx unknown
- 1970-03-20 DK DK143670AA patent/DK124960B/da unknown
- 1970-03-20 CA CA077959A patent/CA920084A/en not_active Expired
- 1970-03-20 AT AT264370A patent/AT301977B/de active
- 1970-03-20 JP JP45023234A patent/JPS4926175B1/ja active Pending
- 1970-03-21 ES ES377773A patent/ES377773A1/es not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3219666A1 (de) * | 1981-06-02 | 1982-12-16 | Hooker Chemicals & Plastics Corp., 48089 Warren, Mich. | Bad zur galvanischen abscheidung von ruthenium auf einem substrat und ein verfahren zur abscheidung von ruthenium auf einem substrat mit diesem bad |
DE19741990C1 (de) * | 1997-09-24 | 1999-04-29 | Degussa | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von spannungsarmen, rißfesten Rutheniumschichten, Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3630856A (en) | 1971-12-28 |
AT301977B (de) | 1972-09-25 |
CA920084A (en) | 1973-01-30 |
ES377773A1 (es) | 1972-05-16 |
NL7004066A (de) | 1970-09-23 |
CH508055A (fr) | 1971-05-31 |
DE2014122C3 (de) | 1979-05-10 |
DK124960B (da) | 1972-12-11 |
GB1300153A (en) | 1972-12-20 |
DE2014122B2 (de) | 1978-10-05 |
FR2037241A1 (de) | 1970-12-31 |
JPS4926175B1 (de) | 1974-07-06 |
FR2037241B1 (de) | 1973-03-16 |
BE747595A (fr) | 1970-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1280014B (de) | Bad und Verfahren zum galvanischen UEberziehen von Metallen mit Platin, Palladium, Rhodium, Ruthenium oder Legierungen dieser Metalle untereinander und/oder mit Iridium | |
DE832982C (de) | Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer | |
DE2908846A1 (de) | Galvanisches chrombad | |
DE860300C (de) | Kupfer- und Zinnsalze enthaltender Elektrolyt zur Erzeugung von Kupfer-Zinn-Legierungsueberzuegen und Verfahren zum Erzeugen dieser UEberzuege | |
DE1621151C3 (de) | Verfahren zur galvanischen Herstellung eines mikrorissigen Chromüberzugs auf Nickelzwischenschichten | |
DE2723943A1 (de) | Chromquelle fuer das elektroplattieren, ihre herstellung und verwendung | |
DE1017000B (de) | Bad und Verfahren fuer die elektrolytische Abscheidung von Kupferueberzuegen | |
DE2114119A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Ruthenium und Elektrolysebad zur Durchfuehrung dieses Verfahrens | |
DE1250712B (de) | Galvanisches Nickelsulfamatbad und Verfahren zum Abscheiden von Nickeluberzugen | |
DE2014122A1 (de) | Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Rutheniumüberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE2537065A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von legierungen von nickel, kobalt oder nickel und kobalt mit eisen | |
DE898383C (de) | Zinkcyanidbad und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung glaenzender Zinkueberzuege | |
DE2247840B2 (de) | Galvanisches chrombad | |
DE2251103B2 (de) | ||
DE2032867C3 (de) | Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge | |
DE2147257A1 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung halbglanzender Nickeluber züge | |
DE2352970A1 (de) | Korrosionsbestaendige metallueberzuege, die galvanisch abgeschiedenes nickel und mikroporoeses chrom enthalten | |
DE3143225C2 (de) | "Stabiles wäßriges galvanisches Bad und Verfahren zur Schnellabscheidung von Silberüberzügen mit Spiegelglanz" | |
DE973986C (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Indium, insbesondere Indiumueberzuegen | |
DE1086508B (de) | Saures galvanisches Kupferbad | |
DE3135597C2 (de) | Verfahren zur Auffrischung einer Palladium/Nickel-Legierung-Plattierungslösung mit Palladium | |
DE1496830B1 (de) | Verfahren zum galvanischen Abscheiden von duktilen halbglaenzenden Nickelschichten aus Cumarin und Cumarinderivate enthaltenden Nic | |
DE1240358B (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Platinueberzuegen | |
DE692122C (de) | Rhodiumbad | |
DE815882C (de) | Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen auf Metallflaechen durch Elektrolyse |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: OMI INTERNATIONAL CORP. (EINE GESELLSCHAFT N.D.GES |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: HAUCK, H., DIPL.-ING. DIPL.-WIRTSCH.-ING., 8000 MUENCHEN SCHMITZ, W., DIPL.-PHYS. GRAALFS, E., DIPL.-ING., 2000 HAMBURG WEHNERT, W., DIPL.-ING., 8000 MUENCHEN DOERING, W., DIPL.-WIRTSCH.-ING. DR.-ING., PAT.-ANW., 4000 DUESSELDORF |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |