-
Die
Erfindung betrifft ein Lichtemissionselement aus einem Galliumnitrid(GaN)-Verbindungshalbleiter,
das Licht im Bereich von blauem bis zu ultraviolettem Licht emittieren
kann.
-
Wenn
ein Verbindungshalbleiter vom Typ mit Stromsperrschicht oder mit
Rippen-Wellenleiter
hergestellt wird, ist ein Prozess des Ätzens von Schichten des Verbindungshalbleiters
des Lasers auf jeweils spezifizierte Dicken mit hoher Genauigkeit
oder ein Prozess des selektiven Ätzen
einer Schicht zum Freilegen der Oberfläche einer darunterliegenden Schicht
erforderlich.
-
Beim Ätzen einer
Schicht eines GaAs-Verbindungshalbleiters wird normalerweise ein
Nassätzvorgang
mit hoher Selektivität
verwendet. Beim Ätzen
eines GaN-Verbindungshalbleiters
wird normalerweise ein Trockenätzvorgang
verwendet, da kein geeignetes Ätzmittel
verfügbar
ist. Durch Trockenätzen
ist jedoch das Ätzen
einer Schicht eines GaN-Verbindungshalbleiters mit ausreichender
Selektivität
schwierig. Ein GaN-Verbindungshalbleiter, der nicht mit ausreichender
Selektivität
geätzt
werden kann, ist nicht als Trockenätz-Stoppschicht geeignet. Daher
ist es schwierig, einen Halbleiterlaser vom Typ mit Stromsperrschicht
oder vom Typ mit Rippenwellenleiter durch Trockenätzen mit
guter Reproduzierbarkeit herzustellen.
-
J.
Vac. Sci. Technol., A 11 (4) 1993, S. 1772–1775 beschreibt das Ätzen von
GaN, InN und AlN durch ECR-RIBE (Ätzen mit einem reaktiven Ionenstrahl
vom Typ mit Elektronenzyklotronresonanz), das eines der Trockenätzverfahren
ist. Dieser Artikel erörtert,
dass die Ätzrate
bei diesem Verfahren Selektivität
zeigt.
-
Weiterhin
sind in Appl. Phys. Lett., 1995, Vol. 67, No. 16, S. 2329 bis 2331,
InGaAlN-Halbleiterverbindungen zur Herstellung von Lichtemissionselementen
beschrieben, die im blauen oder ultravioletten Spektralbereich emittieren.
Die chemische Stabilität
der binären,
ternären
oder quaternären
Verbindungen dieses Materialsystems erfordert bei der Strukturierung
der daraus herzustellenden Lichtemissionselemente dabei ein Trockenätzen.
-
Aus
der
EP 0 579 244 A2 ist
ein Halbleiterlaser bekannt, bei dem auf einem Halbleitersubstrat eine
Mehrschichtstruktur aufgebracht ist. Diese Mehrschichtstruktur umfasst
eine aktive Schicht zwischen zwei Mantelschichten und eine Strombegrenzungsschicht
zum Injizieren eines Stromes in einen streifenförmigen Bereich der aktiven
Schicht. Die Strombegrenzungsschicht weist eine Stromsperrschicht
auf, deren Brechungsindex größer ist
als der Brechungsindex der beiden Mantelschichten. Der Bandabstand
der Stromsperrschicht ist größer als der
Bandabstand der aktiven Schicht. Ein geeignetes Halbleitermaterial
ist AlGaInP, wobei jedoch auch andere Materialien der Gruppen II–VI und
III–V
gewählt werden
können.
-
Weiterhin
beschreibt die
US 5,420,066 einen ähnlichen
Halbleiterlaser mit einer zwischen zwei Mantelschichten gelegenen
aktiven Schicht. Als geeignetes Halbleitermaterial wird AlGaAs verwendet.
-
Schließlich ist
auch noch ein weiterer ähnlicher
Halbleiterlaser aus der
US 5,185,755 bekannt. Auch
bei diesem Halbleiterlaser ist eine aktive Schicht zwischen zwei
Mantelschichten eingebettet, und eine Strombegrenzungsschicht besteht
aus einem Halbleitermaterial der Gruppe V mit Arsen.
-
Der
Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Lichtemissionselement
vom Typ mit Stromsperrschicht oder vom Typ mit Rippenwellenleiter
aus einem Galliumnitrid-Verbindungshalbleiter
mit gutem Wirkungsgrad sowie ein Verfahren zum Herstellen eines
derartigen Lichtemissionselements unter Verwendung eines Ätzverfahrens
mit guter Reproduzierbarkeit zu schaffen.
-
Diese
Aufgabe ist hinsichtlich des Lichtemissionselements durch die Lehren
der beigefügten
Ansprüche
1 und 8 sowie hinsichtlich des Verfahrens durch die Lehre des beigefügten Anspruch
11 gelöst. Vorteilhafte
Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind Gegenstand jeweiliger Ansprüche 2 bis
7, 9, 10 und 12 bis 20.
-
Selektives Ätzen eines
Galliumnitrid-Verbindungshalbleiters ist also dadurch möglich, dass
bei der ECR-RIBE-Trockenätztechnik
geeignete Ätzbedingungen
ausgewählt
werden.
-
Dabei
wird eine InN-Schicht auf einer Mantelschicht als Trockenätz-Stoppschicht
hergestellt. Die InN-Schicht wird durch ECR-RIBE extrem verdünnt und
geätzt.
So wird ein Halbleiterlaser vom Stromsperrtyp oder vom Typ mit Rippenwellenleiter realisiert.
-
Die
Dicke der InN-Trockenätzstoppschicht liegt
im Bereich von ungefähr
1 nm bis ungefähr
5 nm (1 nm = 10 Å).
Wenn sie ungefähr
5 nm überschreitet, nimmt
die Absorption von Laserlicht durch diese InN-Trockenätzstoppschicht
plötzlich
zu, was den Wirkungsgrad der Laserausgangsleistung verringert. Wenn
sie kleiner als ungefähr
1 nm (10 Å)
ist, ist nicht nur die Dickenkontrolle bei der Herstellung der Schicht
schwierig, sondern eine derartige dünne Schicht dient auch nicht
mehr ausreichend als Ätzstoppschicht.
-
Genauer
gesagt, kann ein Halbleiterlaser oder ein Lichtemissionselement
vom Stromsperrtyp dadurch realisiert werden, dass zwischen einer
zweiten Mantelschicht aus AlGaN und einer GaN-Stromsperrschicht
oder einer oberen Mantelschicht aus AlGaN eine InN-Trockenätzstoppschicht
eingefügt wird.
Auch kann ein Halbleiterlaser oder ein Lichtemissionselement aus
einer Galliumnitridverbindung vom Typ mit Rippenwellenleiter dadurch
geschaffen werden, dass eine InN-Trockenätzschicht zwischen eine zweite
Mantelschicht aus AlGaN und eine obere Mantelschicht aus AlGaN eingefügt wird.
-
Diese
und andere Vorteile der Erfindung werden dem Fachmann beim Lesen
und Verstehen der folgenden detaillierten Beschreibung unter Bezugnahme
auf die beigefügten
Figuren deutlich.
-
1 und 2 sind
schematische Schnittansichten eines jeweiligen Halbleiterlasers
vom Stromsperrtyp aus einer Galliumnitridverbindung gemäß einem
Beispiel 1 bzw. einem Beispiel 2 der Erfindung.
-
3 und 4 sind
schematische Schnittansichten eines jeweiligen Halbleiterlasers
vom Typ mit Rippenwellenleiter aus einer Galliumnitridverbindung
gemäß einem
Beispiel 3 bzw. einem Beispiel 4 der Erfindung.
-
5A bis 5E, 6A bis 6F, 7A bis 7E und 8A bis 8E veranschaulichen
jeweils schematisch Schritte zum Herstellen des Lasers gemäß einem
der Beispiele 1 bis 4.
-
Ein
erfindungsgemäßer Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser
enthält
eine Trockenätz-Stoppschicht,
die auf einer mehrschichtigen Halbleiterstruktur ausgebildet ist.
Eine andere mehrschichtige Halbleiterstruktur ist auf der Trockenätz-Stoppschicht ausgebildet.
-
Die
Erfinder stellten versuchsweise Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser
vom Stromsperrtyp, wie in 1 dargestellt,
und vom Typ mit Rippenwellenleiter, wie in 3 dargestellt,
durch selektives Ätzen
einer GaN-Schicht her, die auf InN-oder AlN-Schicht ausgebildet
war, von der erwartet wurde, dass sie bei einem ECR-RIBE-Vorgang als Trockenätz-Stoppschicht
dienen sollte. Im Ergebnis diente die InN- oder AlN-Schicht tatsächlich als
Trockenätz-Stoppschicht,
und es wurden die in den 1 und 3 dargestellten
Strukturen hergestellt.
-
Die
sich unter Verwendung der AlN-Schicht als Trockenätz- Stoppschicht
ergebende Halbleiterstruktur zeigte jedoch keine Laserschwingung,
konnte also nicht als Laser arbeiten. Dies, da AlN nichtleitend
ist und dadurch das Fließen
eines Stroms in eine aktive Schicht der Halbleiterstruktur verhindert.
-
Die
Halbleiterstruktur unter Verwendung einer InN-Schicht als Trockenätz-Stoppschicht zeigt Laserschwingung,
da InN leitend ist. Jedoch ist der Wirkungsgrad des Lasers niedrig.
Dies, da die Bandlücke
der InN-Schicht schmäler
als die der Lichtemissionsschicht der Struktur ist, wodurch von
der Lichtemissionsschicht emittiertes Laserlicht durch die InN- Trockenätzstoppschicht
absorbiert wird.
-
Die
Erfinder haben herausgefunden, dass dieses Problem dadurch überwunden
werden kann, dass die Dicke der InN-Trockenätzstoppschicht im Bereich von
ungefähr
1 nm bis ungefähr
5 nm beträgt.
So kann ein Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser
mit hohem Wirkungsgrad erhalten werden.
-
Die
Dicke der InN-Trockenätzstoppschicht liegt
vorzugsweise, wie oben beschrieben, im Bereich von ungefähr 1 nm
bis ungefähr
5 nm. Wenn sie ungefähr
5 nm übersteigt,
nimmt die Absorption von Laserlicht durch diese InN-Trockenätzstoppschicht plötzlich zu,
was den Wirkungsgrad der Laserausgangsleistung verringert. Wenn
sie kleiner als ungefähr
1 nm ist, wird nicht nur die Dickenkontrolle bei der Herstellung
der Schicht schwierig, sondern eine derartig dünne Schicht dient auch nicht
ausreichend als Ätzstoppschicht
beim Ätzen.
-
Die
Erfindung wird nun durch Beispiele unter Bezugnahme auf die beifügten Zeichnungen
beschrieben. In den folgenden Beispielen ist die Dicke der InN-Trockenätzstoppschicht
auf ungefähr
3 nm eingestellt. Es kann jede beliebige Dicke ebenfalls verwendet
werden, solange sie im Bereich von ungefähr 1 nm bis ungefähr 5 nm
liegt.
-
(Beispiel 1)
-
1 ist
eine schematische Schnittansicht eines Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlasers
des Beispiels 1 der Erfindung. Der Laser dieses Beispiels verfügt über Stromsperrstruktur.
-
Gemäß 1 enthält der Halbleiterlaser
dieses Beispiels ein Substrat 1 aus n-6H-SiC (0001) mit niedrigem
Widerstand und darauf ausgebildete mehrschichtige Halbleiterstrukturen.
-
Eine
erste mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine n-GaN-Pufferschicht 2,
eine n-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 3,
eine undotierte aktive Schicht 4 aus In0,32Ga0,68N und eine p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5, die in dieser
Reihenfolge auf dem Substrat 1 ausgebildet sind. Auf der
ersten mehrschichtigen Halbleiterstruktur ist eine p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet.
Eine zweite mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine p-GaN-Stromsperrschicht 7,
eine p-Al0,1 Ga0,9N-Mantelschicht 8 und
eine p-GaN-Kontaktschicht 9, die in dieser Reihenfolge
auf der p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet
sind. Eine p-seitige Elektrode 10 und eine n-seitige Elektrode 11 sind auf
der Oberseite der mehrschichtigen Halbleiterstruktur bzw. der Unterseite
des Substrats 1 ausgebildet.
-
Der
Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser mit der obigen Struktur
wird z.B. durch metallorganische, chemische Dampfniederschlagung (MOCVD)
hergestellt, wobei Ammoniak (NH3) als Material
der Gruppe V sowie Trimethylgallium (TMG), Trimethylaluminium (TMA)
und Trimethylindium (TMI) als Materialien der Gruppen III verwendet
werden. Bis(Cyclopentatienyl)-Magnesium (Cp2Mg)
wird als p-Dotiermaterial
verwendet, Monosilan (SiH4) wird als n-Dotiermaterial
verwendet und H2 wird als Trägergas verwendet.
-
Nun
wird die Herstellung dieses Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlasers
unter Bezugnahme auf die 5A bis 5E beschrieben.
-
Das
n-6H-SiC(0001)-Substrat 1 mit niedrigem Widerstand wird
auf einen Aufnehmer in einer MOCVD-Vorrichtung aufgesetzt, um einen
ersten Kristallwachstumsvorgang auszuführen. Das Substrat wird auf
ungefähr
1200°C erwärmt und
einer NH3-Atmosphäre ausgesetzt, um die Oberfläche des Substrats
zu reinigen. Dann wird die Temperatur des Substrats 1 auf
ungefähr
1000°C abgesenkt,
und die n-GaN-Pufferschicht 2 wird
mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,5 μm bis ungefähr 1 μm (z.B. 1 μm) dadurch auf das Substrat
aufgewachsen, dass TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10 bis
30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 5
bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 20 Minuten (z.B. 15
Minuten) eingeleitet werden. Dann wird die n-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 3 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,7 μm bis
ungefähr
1 μm (z.B.
1 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 30 Minuten (z.B. 20
Minuten) auf der n-GaN-Pufferschicht 2 aufgewachsen.
Die Substrattemperatur wird dann in den Bereich von ungefähr 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 850°C) abgesenkt, und
die undotierte aktive Schicht 4 aus In0,32Ga0,68N wird mit einer Dicke im Bereich von
ungefähr
5 nm bis ungefähr
80 nm (z.B. 5 nm) durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 30 bis 70 cm3/min (z.B. 50
cm3/min), TMG-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 5 cm3/min) und NH3-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 l/min (z.B. 20 l/min) für 5 bis 60 Sekunden (z.B. 40
Sekunden) auf die n-Mantelschicht 3 aufgewachsen. Dann
wird die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht und die mit Mg dotierte
Al0,1 Ga0,9N-Mantelschicht 5 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,1 μm bis
ungefähr
0,3 μm (z.B.
0,3 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 3 bis 10 Minuten (z.B. 7
Minuten) auf die aktive Schicht 4 aufgewachsen. Dann wird,
nachdem die Substrattemperatur in den Bereich von 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 800°C) abgesenkt wurde,
die mit Mg dotierte InN-Trockenätzstoppschicht 6 mit
einer Dicke von ungefähr
3 nm durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 70 cm3/min (z.B. 50 cm3/min), NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10 bis
30 l/min (z.B. 20 l/min) und Cp2Mg-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 7 bis 100 Sekunden (z.B.
60 Sekunden) auf die Mantelschicht 5 aufgewachsen. Dann wird,
nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht wurde, die n-GaN-Stromsperrschicht 7 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,1 μm bis ungefähr 1 μm (z.B. 0,5 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10 bis
30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 5
bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 2 bis 15 Minuten (z.B. 7
Minuten) auf die Trockenätz-Stoppschicht 6 aufgewachsen
(5A).
-
Der
sich ergebende Wafer wird der MOCVD-Vorrichtung entnommen. Auf der n-GaN-Stromsperrschicht 7 wird
eine Maske 13 aus SiO2, Si3N4 oder einem Photoresistmaterial
hergestellt, und sie wird durch normale Photolithographie teilweise
entfernt, um einen streifenförmigen
Graben 14 auszubilden (5B).
-
Dann
wird der sich ergebende Wafer in einer ECR-RIBE-Vorrichtung plaziert,
und die n-GaN-Stromsperrschicht 7 wird bei den folgenden Bedingungen
trockengeätzt:
Mikrowellenenergie
bei 2,45 GHz, Mikrowellenleistung von 200 W, Druck in der Reaktionskammer
von 0,133 Pa (1 mTorr; 1 Torr = 1,33 hPa), Eigenvorspannung von
ungefähr –140 V und Ätzgas in
Form von BCl3/Ar oder CCl2F2/Ar, bis die Oberfläche der mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht
freigelegt ist, wobei ein streifenförmiger Graben 15 hergestellt
wird (5C). Bei den obigen Bedingungen
wird die InN-Schicht nicht geätzt,
während
die GaN-Schicht geätzt
wird. So wird der Ätzvorgang
automatisch an der Oberfläche
der mit Mg dotierten InN-Trockenätzschicht 6 beendet.
Bei diesem Ätzvorgang
liegt die Eigenvorspannung vorzugsweise im Bereich von ungefähr –50 V bis
ungefähr –150 V.
Dies, da die GaN-Schicht
auf einer Spannung von ungefähr –50 V geätzt wird,
während
dies für
die InN-Schicht bei einer Spannung von ungefähr –150 V gilt. Da die Ätzrate größer ist,
wenn der Absolutwert der Eigenvorspannung größer ist, ist die Eigenvorspannung
bei diesem Beispiel auf ungefähr –140 V eingestellt.
Als Ätzgas
kann auch SiCl4 verwendet werden.
-
Anschließend wird,
nachdem die Maske 13 mit einem Ätzmittel mit Fluorwasserstoffsäure oder einem
organischen Lösungsmittel
entfernt wurde, der Wafer erneut auf den Aufnehmer in der MOCVD-Vorrichtung
aufgesetzt, um einen zweiten Kristallwachstumsvorgang auszuführen. Die
Substrattemperatur wird auf ungefähr 1000°C erhöht, und die mit Mg dotierte
Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 wird
mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,7 μm bis ungefähr 1 μm (z.B. 1 μm) durch Einleiten von TMG-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 cm3/min (z.B. 20
cm3/min), TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 15 bis 25 Minuten (z.B. 25
Minuten) auf den Wafer aufgewachsen. Dann wird die mit Mg dotierte
GaN-Kontaktschicht 9 mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,5 μm bis ungefähr 1 μm (z.B. 0,5 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 60 cm3/min (z.B. 40 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 1
bis 6 l/min (z.B. 4 l/min) und Cp2Mg-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 9 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) für
7 bis 15 Minuten (z.B. 7 Minuten) auf die Mantelschicht 8 aufgewachsen (5D).
-
Der
sich ergebende Wafer wird der MOCVD-Vorrichtung entnommen und in
N2-Atmosphäre einem
Tempervorgang bei ungefähr
700°C unterzogen.
Der Tempervorgang wird ausgeführt,
um Wasserstoff durch thermische Dissoziation aus der Mg-H-Bindung
zu erzeugen, um Wasserstoff aus den mit Mg dotierten Schichten zu
entfernen, um es dadurch zu ermöglichen,
dass die eindotierten Fremdstoffe als Akzeptoren dienen können, was
die mit Mg dotierten Schichten in p-Schichten überführt.
-
Die
p-seitige Elektrode 10 und die n-seitige Elektrode 11 werden
auf der p-GaN-Kontaktschicht 9 bzw.
der Unterseite des n-6H-SiC(0001)-Substrats 1 mit niedrigem Widerstand
hergestellt (5E). So wird der Halbleiterlaser
dieses Beispiels fertiggestellt.
-
(Beispiel 2)
-
2 ist
eine schematische Schnittansicht eines Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlasers
des Beispiels 2 der Erfindung. Der Laser dieses Beispiels verfügt über Stromsperrstruktur.
-
Gemäß 2 umfasst
der Halbleiterlaser dieses Beispiels ein isolierendes Substrat 1 aus
Saphir (0001) und auf diesem ausgebildete mehrschichtige Halbleiterstrukturen.
-
Eine
erste mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine Pufferschicht 102 aus
Al0,1Ga0,9N, eine n-GaN-Pufferschicht 2,
eine n-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 3,
eine undotierte aktive Schicht 4 aus In0,32Ga0,68N und eine p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5, die
in dieser Reihenfolge auf dem Substrat 1 ausgebildet sind.
Auf der ersten mehrschichtigen Halbleiterstruktur ist eine n-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet.
Eine zweite mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine n-GaN-Stromsperrschicht 7, eine
p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 und
eine p-GaN-Kontaktschicht 9, die in dieser Reihenfolge auf
der p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet sind.
Eine p-seitige Elektrode 10 und eine n-seitige Elektrode 11 sind
auf der Oberseite der zweiten mehrschichtigen Halbleiterstruktur
bzw. einem Abschnitt der Oberseite der n-GaN-Pufferschicht 2 ausgebildet.
-
Der
Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser mit der obigen Struktur
wird ebenfalls z.B. durch metallorganische, chemische Dampfniederschlagung
(MOCVD) hergestellt, wobei die obengenannten Materialien verwendet
werden.
-
Nun
wird die Herstellung dieses Lasers unter Bezugnahme auf die 6A bis 6F beschrieben.
-
Das
Substrat 1 aus Saphir (0001) wird auf einen Aufnehmer in
einer MOCVD-Vorrichtung
aufgesetzt, um einen ersten Kristallwachstumsvorgang auszuführen. Das
Substrat wird auf ungefähr
1200°C erwärmt und
einer NH3-Atmosphäre ausgesetzt, um seine Oberfläche zu reinigen.
Nachdem die Temperatur des Substrats 1 auf den Bereich
von ungefähr 500°C bis ungefähr 650°C (z.B. 550°C) abgesenkt wurde,
wird die aus Al0,1 Ga0,9N
bestehende Pufferschicht 102 mit einer Dicke im Bereich
von ungefähr 5
nm bis ungefähr
2 μm (z.B.
55 nm) durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) und NH3-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) für 5 Sekunden bis 30 Minuten
(z.B. 1 Minute) auf das Substrat 1 aufgewachsen. Die Pufferschicht 102 kann
aus GaN, AlN oder AlWGa1–WN
(0 < w < 1) bestehen. Dann
wird, nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht wurde, die n-GaN-Pufferschicht 2 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,
5 μm bis
ungefähr
1 μm (z.B.
0,7 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min), NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 5 bis
10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 20 Minuten (z.B. 11
Minuten) auf der Pufferschicht 102 aufgewachsen. Dann wird
die n-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 3 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,7 μm bis
ungefähr
1 μm (z.B.
0,9 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit einer
Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 6 bis 30 Minuten (z.B. 18
Minuten) auf die n-GaN-Pufferschicht 2 aufgewachsen. Dann
wird die Substrattemperatur auf den Bereich von ungefähr 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 800°C) abgesenkt,
und die undotierte aktive Schicht 4 aus In0,32Ga0,68N mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 5 nm
bis ungefähr
80 nm (z.B. 6 nm) durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 30 bis 70 cm3/min (z.B. 50
cm3/min), TMG-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 5 cm3/min) und NH3-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 l/min (z.B. 20 l/min) für 5 bis 60 Sekunden (z.B. 50
Sekunden) auf die n-Mantelschicht 3 aufgewachsen.
Dann wird die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht, und die mit Mg dotierte Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5 wird
mit einer Dicke von ungefähr
0,1 μm bis
ungefähr
0,3 μm (z.B
0,2 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 3 bis 10 Minuten auf die
aktive Schicht 4 aufgewachsen. Dann wird, nachdem die Substrattemperatur
auf den Bereich von ungefähr
800°C bis
ungefähr 850°C (z.B. 810°C) gesenkt
wurde, die mit Mg dotierte InN-Trockenätzstoppschicht 6 mit
einer Dicke von ungefähr
3 nm durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 70 cm3/min (z.B. 50 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 l/min (z.B. 20 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 7 bis 100 Sekunden (z.B.
60 Sekunden) auf die p-Mantelschicht 5 aufgewachsen.
Dann wird, nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht wurde,
die n-GaN-Stromsperrschicht 7 mit einer Dicke im Bereich
von ungefähr
0,1 μm bis
ungefähr
1 μm (z.B.
ungefähr
0,5 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 5
bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 2 bis 15 Minuten (z.B. 7 Minuten)
auf die Trockenätz-Stoppschicht 6 aufgewachsen.
-
Der
sich ergebende Wafer wird der MOCVD-Vorrichtung entnommen. Auf der n-GaN-Stromsperrschicht 7 wird
eine Maske 13 aus SiO2, Si3N4 oder einem Photoresistmaterial
hergestellt, und sie wird durch normale Photolithographie entfernt,
um einen streifenförmigen
Graben 14 herzustellen (6B).
-
Dann
wird der sich ergebende Wafer in eine ECR-RIBE-Vorrichtung eingesetzt,
und die n-GaN-Stromsperrschicht 7 wird bei den folgenden Bedingungen
trockengeätzt:
Mikrowellenenergie
von 2,45 GHz, Mikrowellenleistung von 200 W, Druck in der Reaktionskammer
von 0,133 Pa (1 mTorr), Eigenvorspannung von ungefähr –140 V, Ätzgas aus
BCl3/Ar oder CCL2F2/Ar, wobei das Ätzen erfolgt, bis die Oberfläche der
mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht 6 freigelegt
ist, wobei ein streifenförmiger
Graben 15 ausgebildet wird (6C). Bei
den obigen Bedingungen wird die InN-Schicht nicht geätzt, während die
GaN-Schicht geätzt
wird. So wird der Ätzvorgang
automatisch an der Oberfläche
der mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht 6 beendet.
-
Anschließend wird,
nachdem die Maske 13 mit einem Ätzmittel mit Fluorwasserstoffsäure oder einem
organischen Lösungsmittel
entfernt wurde, der Wafer erneut auf den Aufnehmer in der MOCVD-Vorrichtung
aufgesetzt, um einen zweiten Kristallwachstumsvorgang auszuführen. Die
Substrattemperatur wird auf ungefähr 1000°C erhöht, und die mit Mg dotierte
Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 wird
mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,7 μm bis ungefähr 1 μm (z.B. 0,7 μm) durch Einleiten von TMG-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 cm3/min (z.B. 20
cm3/min), TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 15 bis 25 Minuten (z.B. 18
Minuten) auf den Wafer aufgewachsen. Dann wird die mit Mg dotierte
GaN-Kontaktschicht 9 mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,5 μm bis ungefähr 1 μm (z.B. 0,5 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 60 cm3/min (z.B. 40 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 1
bis 6 l/min (z.B. 4 l/min) und Cp2Mg-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 9 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) für
7 bis 15 Minuten (z.B. 7 Minuten) auf die Mantelschicht 8 aufgewachsen (6D).
-
Der
sich ergebende Wafer wird der MOCVD-Vorrichtung entnommen, und er
wird in N2-Atmosphäre einem Tempervorgang bei
ungefähr 700°C unterzogen.
Das Tempern erfolgt, um aus der Mg-H-Bindung Wasserstoff thermisch
zu dissoziieren, um Wasserstoff aus den mit Mg dotierten Schichten
zu entfernen, wodurch die eindotierten Fremdstoffe als Akzeptoren
dienen können,
was die mit Mg dotierten Schichten zu p-Schichten macht.
-
Dann
wird die sich ergebende mehrschichtige Struktur teilweise geätzt, bis
die Oberfläche
der n-GaN-Pufferschicht 2 freigelegt ist, so dass die n-seitige
Elektrode 11 auf der freigelegten Fläche hergestellt werden kann
(6E).
-
Die
p-seitige Elektrode 10 und die n-Elektrode 11 werden
auf der p-GaN-Kontaktschicht 9 bzw. einem
Teil der Oberfläche
der n-GaN-Pufferschicht hergestellt (6F). So
wird der Halbleiterlaser dieses Beispiels fertiggestellt.
-
(Beispiel 3)
-
3 ist
eine schematische Schnittansicht eines Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlasers
des Beispiels 3 der Erfindung. Der Laser dieses Beispiels verfügt über eine
Struktur mit Rippenwellenleiter.
-
Gemäß 3 umfasst
der Halbleiterlaser dieses Beispiels ein 6H-SiC(0001)-Substrat 1 mit niedrigem
Widerstand und darauf ausgebildete mehrschichtige Halbleiterstrukturen.
-
Eine
erste mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine n- GaN-Pufferschicht 2,
eine n-Mantelschicht 3 aus Al0,1 Ga0,9N, eine undotierte aktive Schicht 4 aus
In0,32Ga0,68N und
eine p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5,
die in dieser Reihenfolge auf dem Substrat 1 ausgebildet
sind. Auf der ersten mehrschichtigen Halbleiterstruktur ist eine p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet.
Eine zweite mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 und
eine p-GaN-Kontaktschicht 9, die in dieser Reihenfolge auf
der p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet sind.
Auf der Struktur ist ein Isolierfilm 12 ausgebildet. Eine
p-seitige Elektrode 10 und eine n-seitige Elektrode 11 sind
auf der Oberseite der sich ergebenden Struktur bzw. der Unterseite
des Substrats 1 ausgebildet.
-
Der
Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser mit der obigen Struktur
wird wiederum z.B. durch metallorganische, chemische Dampfniederschlagung
(MOCVD) mit den obengenannten Materialien hergestellt.
-
Nun
wird die Herstellung dieses Lasers unter Bezugnahme auf die 7A bis 7E beschrieben.
-
Das
n-6H-SiC(0001)-Substrat 1 mit niedrigem Widerstand wird
für einen
ersten Kristallwachstumsvorgang auf einen Aufnehmer in einer MOCVD-Vorrichtung
aufgesetzt. Das Substrat wird auf ungefähr 1200°C erwärmt und NH3-Atmosphäre ausgesetzt,
um die Oberfläche
des Substrats zu reinigen. Nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C abgesenkt
wurde, wird die n-GaN-Pufferschicht 2 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,5
nm bis ungefähr
1 μm (z.B.
0,5 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min), NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 5 bis
10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 20 Minuten (z.B. 12
Minuten) auf das Substrat 1 aufgewachsen. Dann wird die n-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 3 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,7 μm bis
ungefähr
0,1 μm (z.B. 0,9 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 30 Minuten (z.B. 18
Minuten) auf der n-GaN-Pufferschicht 2 aufgewachsen.
Dann wird die Substrattemperatur auf den Bereich von ungefähr 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 820°C) abgesenkt
und die undotierte aktive Schicht aus In0,32Ga0,68N wird mit einer Dicke im Bereich von
ungefähr
5 nm bis ungefähr
80 nm (z.B. 7 nm) durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 30 bis 70 cm3/min (z.B. 50
cm3/min), TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) und NH3-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 l/min (z.B. 20 l/min) für 5 bis 60 Sekunden (z.B. 60
Sekunden) auf die n-Mantelschicht 3 aufgewachsen. Dann
wird die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht, und die mit Mg dotierte Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5 wird
mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,2 μm bis ungefähr 0,3 μm (z.B. 0,2 μm) durch Einleiten von TMG-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 cm3/min (z.B. 20
cm3/min), TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und Cp2Mg-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 3 bis 10 Minuten (z.B. 5
Minuten) auf die aktive Schicht 4 aufgewachsen. Dann wird,
nachdem die Substrattemperatur in den Bereich von ungefähr 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 830°C) abgesenkt
wurde, die mit Mg dotierte InN-Trockenätzstoppschicht 6 einer
Dicke von ungefähr
3 nm durch Einleiten von TMI-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 30 bis 70 cm3/min (z.B. 50
cm3/min), NH3-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 l/min (z.B. 20 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 7 bis 100 Sekunden (z.B.
60 Sekunden) auf die p-Mantelschicht 5 aufgewachsen. Dann wird,
nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht wurde, die mit Mg dotierte
Al0,1 Ga0,9N-Mantelschicht 8 mit
einer Dicke von ungefähr 0,7 μm bis ungefähr 0,9 μm (z.B. ungefähr 0,7 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA- Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 15 bis 20 Minuten (z.B. 18
Minuten) auf der Trockenätz-Stoppschicht 6 ausgebildet.
Dann wird die mit Mg dotierte GaN- Kontaktschicht 9 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,1 μm bis
ungefähr
1 μm (z.B.
0,5 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 60 cm3/min (z.B. 40 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 1
bis 6 l/min (z.B. 4 l/min) und Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 9 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) für
1 bis 15 Minuten (z.B. 7 Minuten) auf die Mantelschicht 8 aufgewachsen.
-
Der
sich ergebende Wafer wird der MOCVD-Vorrichtung entnommen. Auf der
mit Mg dotierten GaN-Kontaktschicht 9 wird eine Maske 13 aus SiO2, Si3N4 oder
einem Photoresistmaterial hergestellt, und sie wird durch normale
Photolithographie teilweise entfernt, um einen Streifen der Maske 13 auszubilden
(7B).
-
Der
sich ergebende Wafer wird dann in eine ECR-RIBE-Vorrichtung eingesetzt,
und die mit Mg dotierte GaN-Kontaktschicht 9 und die mit
Mg dotierte Al0,1 Ga0,9N-Mantelschicht 8 werden
bei den folgenden Bedingungen trockengeätzt: Mikrowellenenergie von
2,45 GHz, Mikrowellenleistung von 200 W, Druck in der Reaktionskammer
von 0,133 Pa (1 mTorr), Eigenvorspannung von ungefähr –140 V, Ätzgas aus BCl3/Ar oder CCl2F2/Ar, wobei das Ätzen erfolgt, bis die Oberfläche der
mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht 6 freigelegt
ist (7C). Bei den obigen Bedingungen wird die InN-Schicht
nicht geätzt,
während
die GaN-Schicht geätzt
wird. So wird der Ätzvorgang
automatisch an der Oberfläche
der mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht 6 beendet.
-
Anschließend wird,
nachdem die Resistmaske 13 mit einem Ätzmittel mit Fluorwasserstoffsäure oder
einem organischen Lösungsmittel
entfernt wurde, der Wafer einem Tempervorgang bei ungefähr 700°C in N2-Atmosphäre
unterzogen. Der Tempervorgang wird ausgeführt, um aus der Mg-H-Bindung Wasserstoff
durch thermische Dissoziation zu befreien und Wasserstoff aus den
mit Mg dotierten Schichten zu entfernen, wodurch die eindotierten
Fremdstoffe als Akzeptoren dienen können, was die mit Mg dotierten
Schichten zu p-Schichten macht. Danach wird der Isolierfilm 12 aus
SiO2, Si3N4 oder dergleichen durch P-CVD hergestellt.
-
Die
p-seitige Elektrode 10 und die n-Elektrode 11 werden
auf der Oberseite der sich ergebenden Struktur bzw. der Unterseite
des Substrats 1 hergestellt (7E). So
wird der Halbleiterlaser dieses Beispiels fertiggestellt.
-
(Beispiel 4)
-
4 ist
eine schematische Schnittansicht eines Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlasers
des Beispiels 4 der Erfindung. Der Laser dieses Beispiels verfügt über eine
Struktur mit Rippenwellenleiter.
-
Gemäß 4 umfasst
der Halbleiterlaser dieses Beispiels ein isolierendes Substrat 1 aus
Saphir (0001) sowie darauf ausgebildete mehrschichtige Halbleiterstrukturen.
-
Eine
erste mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine Pufferschicht 102 aus
GaN, AlN oder Al0,1Ga0,9N,
eine n-GaN- Pufferschicht 2, eine n-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 3,
eine undotierte aktive Schicht 4 aus In0,32Ga0,68N und eine p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5, die in dieser
Reihenfolge auf dem Substrat 1 ausgebildet sind. Auf der
ersten mehrschichtigen Halbleiterstruktur ist eine p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet.
Eine zweite mehrschichtige Halbleiterstruktur umfasst eine p-Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 und
eine p-GaN-Kontaktschicht 9,
die in dieser Reihenfolge auf der p-InN-Trockenätzstoppschicht 6 ausgebildet sind.
Auf der Struktur ist ein Isolierfilm 12 ausgebildet. Eine
p-seitige Elektrode 10 und eine n-seitige Elektrode 11 sind
auf der Oberseite der sich ergebenden Struktur bzw. einem Teil der
Oberfläche
der n-GaN-Pufferschicht 2 ausgebildet.
-
Der
Galliumnitrid-Verbindungshalbleiterlaser mit der obigen Struktur
wird wiederum z.B. durch metallorganische, chemische Dampfniederschlagung
(MOCVD) mit den obengenannten Materialien hergestellt.
-
Nun
wird die Herstellung dieses Lasers unter Bezugnahme auf die 8A bis 8E beschrieben.
-
Das
Substrat 1 aus Saphir (0001) wird für einen ersten Kristallwachstumsvorgang
auf einen Aufnehmer in einer MOCVD-Vorrichtung aufgesetzt. Das Substrat
wird auf ungefähr
1200°C erwärmt und NH3-Atmosphäre
ausgesetzt, um die Oberfläche
des Substrats zu reinigen. Nachdem die Temperatur des Substrats 1 auf
den Bereich von ungefähr
500°C bis ungefähr 650°C (z.B. 600°C) abgesenkt
wurde, wird die Al0,1Ga0,9N-Pufferschicht 102 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
50 nm bis ungefähr
2 μm (z.B. 2 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) und NH3-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min) für 5 Sekunden bis 30 Minuten
(z.B. 30 Minuten) auf das Substrat 1 aufgewachsen. Die Pufferschicht 102 kann
aus GaN, AlN oder Al0,1 Ga0,9N
bestehen. Dann wird, nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht wurde, die
n-GaN-Pufferschicht 2 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,5 μm bis
ungefähr
4,0 μm (z.B.
4,0 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 5
bis 10 l/min (z.B. 7 l/min), SiH4-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 60 Minuten (z.B. 60
Minuten) auf die Pufferschicht 102 aufgewachsen. Dann wird
die n-Al0,1 Ga0,9N-Mantelschicht 3 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,7 μm bis
ungefähr
1 μm (z.B.
0,7 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min), SiH4-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 l/min (z.B. 6 l/min) für 10 bis 30 Minuten (z.B. 40
Minuten) auf die n-GaN-Pufferschicht 2 aufgewachsen.
Die Substrattemperatur wird dann in den Bereich von ungefähr 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 850°C) abgesenkt,
und die undotierte aktive Schicht aus In0,32Ga0,68N wird mit einer Dicke im Bereich von
ungefähr
5 nm bis ungefähr
80 nm (z.B. 20 nm) durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 30 bis 70 cm3/min (z.B. 50
cm3/min), TMG- Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 5 cm3/min) und NH3-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 l/min (z.B. 20 l/min) für 5 Sekunden bis 11 Minuten
(z.B. 3 Minuten) auf die n-Mantelschicht 3 aufgewachsen.
Dann wird die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht und die mit Mg dotierte Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 5 wird
mit einer Dicke im Bereich von ungefähr 0,1 μm bis ungefähr 0,3 μm (z.B. 0,3 μm) durch Einleiten von TMG-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 10 bis 30 cm3/min (z.B. 20
cm3/min), TMA-Gas mit einer Strömungsrate im
Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 7 l/min), Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) für
3 bis 10 Minuten (z.B. 8 Minuten) auf die aktive Schicht 4 aufgewachsen.
Dann wird, nachdem die Substrattemperatur in den Bereich von ungefähr 800°C bis ungefähr 850°C (z.B. 800°C) abgesenkt wurde,
die mit Mg dotierte InN-Trockenätzstoppschicht 6 mit
einer Dicke von ungefähr
3 nm durch Einleiten von TMI-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 70 cm3/min (z.B. 50 cm3/min), NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10 bis
30 l/min (z.B. 20 l/min), Cp2Mg-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) für
7 bis 100 Sekunden (z.B. 60 Sekunden) auf der p-Mantelschicht 5 aufgewachsen.
Dann wird, nachdem die Substrattemperatur auf ungefähr 1000°C erhöht wurde,
die mit Mg dotierte Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 mit
einer Dicke im Bereich von ungefähr
0,7 μm bis
ungefähr
0,9 μm (z.B. 0,7 μm) durch
Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 10
bis 30 cm3/min (z.B. 20 cm3/min),
TMA-Gas mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 8 cm3/min (z.B. 6 cm3/min), NH3-Gas mit
einer Strömungsrate
im Bereich von 5 bis 10 l/min (z.B. 5 l/min), Cp2Mg-Gas
mit einer Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 10 cm3/min (z.B. 6
cm3/min) für 17 bis 22 Minuten (z.B. 17
Minuten) auf der Trockenätz-Stoppschicht 6 ausgebildet.
Dann wird die mit Mg dotierte GaN-Kontaktschicht 9 mit einer
Dicke im Bereich von 0,1 μm
bis ungefähr
1 μm (z.B.
0,5 μm)
durch Einleiten von TMG-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 30
bis 60 cm3/min (z.B. 40 cm3/min),
NH3-Gas mit einer Strömungsrate im Bereich von 1
bis 6 l/min (z.B. 4 l/min), Cp2-Mg-Gas mit einer
Strömungsrate
im Bereich von 3 bis 9 cm3/min (z.B. 6 cm3/min) für
2 bis 14 Minuten (z.B. 7 Minuten) auf die Mantelschicht 8 aufgewachsen
(8A).
-
Der
sich ergebende Wafer wird der MOCVD-Vorrichtung entnommen. Auf der
mit Mg dotierten GaN-Kontakschicht 9 wird eine Maske 13 aus SiO2, Si3N4 oder
einem Photoresistmaterial hergestellt, und sie wird durch normale
Photolithographie teilweise entfernt, um einen Streifen der Maske 13 auszubilden
(8B).
-
Dann
wird der sich ergebende Wafer in eine ECR-RIBE-Vorrichtung eingesetzt,
und die mit Mg dotierte GaN-Kontaktschicht 9 und die mit
Mg dotierte Al0,1Ga0,9N-Mantelschicht 8 werden
bei den folgenden Bedingungen trockengeätzt: Mikrowellenenergie von
2,45 GHz, Mikrowellenleistung von 200 W, Druck in der Reaktionskammer
von 0,133 Pa (1 mTorr), Eigenvorspannung von ungefähr –140 V, Ätzgas aus BCl3/Ar oder CCl2F2/Ar, wobei das Ätzen erfolgt, bis die Oberfläche der
mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht 6 freigelegt
ist (8C). Bei den obigen Bedingungen wird die InN-Schicht
nicht geätzt,
während
die GaN-Schicht geätzt
wird. So wird der Ätzvorgang
automatisch an der Oberfläche
der mit Mg dotierten InN-Trockenätzstoppschicht 6 beendet.
-
Dann
wird die sich ergebende Mehrschichtstruktur teilweise geätzt, bis
die Oberfläche der
n-GaN-Pufferschicht 2 freigelegt ist (8D).
Die Maske 13 wird mit einem Ätzmittel mit Fluorwasserstoffsäure oder
einem organischen Lösungsmittel entfernt.
Dann wird der Wafer einem Tempervorgang bei ungefähr 700°C in N2-Atmosphäre unterzogen. Der
Tempervorgang wird ausgeführt,
um aus der Mg-H-Bindung
Wasserstoff durch thermische Dissoziation freizusetzen, um Wasserstoff
aus den mit Mg dotierten Schichten zu entfernen und es dadurch zu ermöglichen,
dass die eindotierten Fremdstoffe als Akzeptoren dienen, wodurch
die mit Mg dotierten Schichten zu p-Schichten werden. Danach wird
der aus SiO2, Si3N4, oder dergleichen bestehende Isolierfilm 12 durch
P-CVD hergestellt.
-
Die
p-seitige Elektrode 10 und die n-Elektrode 11 werden
auf der Oberseite der sich ergebenden Struktur bzw. einem Teil der
Oberfläche
der n-GaN-Pufferschicht 2 hergestellt (8E).
So wird der Halbleiterlaser dieses Beispiels fertiggestellt.