DE19549726B4 - Lichtemittierendes Bauelement und Herstellverfahren für dieses - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 186
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 94
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 40
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 19
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 abstract 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 10
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 3
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229920003208 poly(ethylene sulfide) Polymers 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000000763 evoking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
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- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
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Abstract
– ein isolierendes Substrat (17), in welchem eine erste und eine zweite Aussparung (11') auf dessen beiden Seitenflächen ausgebildet sind, wobei sich die erste und die zweite Aussparung (11') von den Seitenflächen zur Mitte des isolierenden Substrats (17) erstrecken;
– einen LED-Chip (14) mit einer p-seitigen Halbleiterschicht (14b) und einer n-seitigen Halbleiterschicht (14a), die an einem p-n-Übergang zusammengefügt sind, und der zwischen der ersten und der zweiten Aussparung (11') angeordnet ist;
– eine erste Elektrode (12), die in der ersten Aussparung (11') ausgebildet und mit der p-seitigen Halbleiterschicht (14b) verbunden ist, um an der Unterseite des isolierenden Substrats (17) elektrische Verbindungen herzustellen;
– eine zweite Elektrode (12), die in der zweiten Aussparung (11') getrennt von der ersten Elektrode (12) ausgebildet und mit der n-seitigen Halbleiterschicht (14a) verbunden ist, um elektrische Verbindungen an der Unterseite des isolierenden Substrats (17) herzustellen;...
Description
- Die Erfindung betrifft ein lichtemittierendes Bauelement nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 sowie ein Herstellverfahren für dieses Bauelement. Ein solches Bauelement wird z. B. als Lichtquelle für verschiedene Anzeigetafeln, als Hintergrundbeleuchtung für Flüssigkristallanzeigen und als Lichtquelle für Lichtschalter verwendet. Das lichtemittierende Bauelement verwendet dabei LED(lichtemittierende Diode)-Chips kleiner Grösse mit hoher Beständigkeit gegen äußere Belastungen.
- Im Allgemeinen werden LED-Chips in lichtemittierenden Bauelementen für Oberflächenmontage verwendet, wie sie als Lichtquelle bei verschiedenen Anzeigetafeln, Hintergrundbeleuchtung bei Flüssigkristallanzeigen und als Lichtquelle bei Lichtschaltern verwendet werden. Jeder LED-Chip besteht aus einem p-seitigen Halbleiter und einem n-seitigen Halbleiter, die zu einem pn-Übergang zusammengefügt sind.
12 zeigt ein Beispiel für ein lichtemittierendes Bauelement60 , bei dem ein derartiger Chip verwendet ist. - In diesem lichtemittierenden Bauelement
60 ist ein LED-Chip62 mit einer n-seitigen Halbleiterschicht62a und einer p-seitigen Halbleiterschicht62b , die zu einem pn-Übergang verbunden sind, verwendet. Die n-seitige Halbleiterschicht62a dieses LED-Chips62 ist auf einem Leiterrahmen61 befestigt. - Die p-seitige Halbleiterschicht
62b , die die Oberseite des LED-Chips62 bildet, ist auf der Anodenseite, die dem Leiterrahmen61 benachbart ist, durch einen Bonddraht64 aus einem Golddraht oder anderen Drähten mit einem Durchmesser von ungefähr 10 μm bis 40 μm elektrisch mit einem Rahmen63 verbunden. Hierbei ist der Bonddraht64 bogenförmig so über dem LED-Chip62 geformt, dass er durch die Kanten oder andere Teile des LED-Chips62 nicht durchgetrennt wird. Darüber hinaus sind ein Teil des Leiterrahmens61 und ein Teil des Rahmens63 auf der Anodenseite durch ein lichtdurchlässiges Harz65 auf solche Weise abgedichtet, dass der LED-Chip62 und der Bonddraht64 überdeckt sind. -
13 ist eine Seitenansicht, die ein Beispiel lichtemittierender Bauelemente zeigt, in denen derartige Chipteile verwendet sind. In einem lichtemittierenden Bauelement70 ist ein LED-Chip74 verwendet, der eine n-seitige Halbleiter schicht74a und eine p-seitige Halbleiterschicht74b aufweisen, die an einem pn-Übergang miteinander verbunden sind. In diesem lichtemittierenden Bauelement70 werden Elektrodenmuster72 und73 durch Metallplattierung an jeweiligen Enden in der Längsrichtung der Oberseite eines isolierenden Substrats71 hergestellt. Die Elektrodenmuster72 und73 werden von der Oberseite des isolierenden Substrats71 ausgehend entlang der jeweiligen Endseiten desselben in der Längsrichtung heruntergebogen, wobei sie jeweilige Endbereiche der Bodenseite des isolierenden Substrats71 bedecken. Hierbei wird die n-seitige Halbleiterschicht74a auf einem der Elektrodenmuster72 befestigt. - Die p-seitige Halbleiterschicht
74b , die die Oberseite des LED-Chips74 bildet, ist elektrisch mit dem anderen Elektrodenmuster73 des isolierenden Substrats71 über einen Bonddraht75 aus einem Golddraht oder anderen Drähten mit einem Durchmesser von ungefähr 10 μm bis 40 μm verbunden. Hierbei ist der Bonddraht75 bogenförmig über dem LED-Chip74 ausgebildet, um nicht durch die Kanten oder andere Teile des LED-Chips74 durchgetrennt zu werden. Ferner ist der LED-Chip74 zusammen mit dem Bonddraht75 durch ein lichtdurchlässiges Harz76 abgedichtet. - Wie vorstehend beschrieben, sind die Bonddrähte
74 und75 , die gegen Durchtrennen aufgrund äußerer Belastungen hochanfällig sind, jeweils durch die lichtdurchlässigen Harze65 bzw.76 abgedichtet. - Wenn jedoch beim Herstellen des lichtemittierenden Bauelements
60 oder des lichtemittierenden Bauelements70 der Bonddraht74 oder75 an den Rahmen63 oder das Elektrodenmuster73 gelötet wird, besteht immer noch die Tendenz, dass dieser Bonddraht64 oder75 durchgetrennt wird. Darüber hinaus besteht auch die Tendenz, dass der Bonddraht64 oder75 durch externe Belastungen durchgetrennt wird, wie sie durch Verwindungen oder andere Effekte des Rahmens63 und des isolierenden Substrats71 , die nach dem Lötprozess auftreten, verursacht werden. - Ferner ist es erforderlich, dass der Bonddraht
64 oder75 einen Abstand von ungefähr 100 μm bis 200 μm von der Oberseite des Bogens über dem LED-Chip62 oder74 bis zur Oberseite dieses Chips62 aufweist, um nicht durch die Kanten oder andere Teile des LED-Chips62 oder74 durchgetrennt zu werden. Im Ergebnis muss das lichtdurchlässige Harz65 oder76 über dem Bogen eine Dicke in der Grössenordnung von 100 μm aufweisen, um auch den Bogen abzudichten, der über dem Bonddraht64 oder75 ausgebildet ist. Dies macht das lichtdurchlässige Harz65 oder76 dicker, was bewirkt, dass das lichtemittierende Bauelement60 oder70 voluminös wird. - Darüber hinaus besteht dann, wenn ein auf einem isolierenden Substrat
71 montierter LED-Chip74 mit lichtdurchlässigem Harz76 abgedichtet wird, die Tendenz, dass etwas dieses lichtdurchlässigen Harzes76 im geschmolzenen Zustand an der Unterseite des isolierenden Substrats71 anhaftet. Das so an der Unterseite des isolierenden Substrats71 anhaftende lichtdurchlässige Harz76 hat nachteilige Einflüsse auf die Leitungsanordnung und andere Elemente, die an der Bodenseite des isolierenden Substrats71 angebracht sind. Aus diesem Grund ist es erforderlich zu verhindern, dass lichtdurchlässiges Harz76 im geschmolzenen Zustand zur Unterseite des isolierenden Substrats71 herunterrinnt. - Im Allgemeinen wird dann, wenn der LED-Chip
74 durch das lichtdurchlässige Harz76 abgedichtet wird, ein Spannwerkzeug, ein metallisches Formwerkzeug oder andere Teile, die dazu verwendet werden, dass das lichtdurchlässige Harz76 in seinem geschmolzenen Zustand nicht entlang der Seitenfläche des isolierenden Substrats71 zur Bodenseite herunterrinnt, dicht an einen Teil entlang der Kante des isolierenden Substrats71 gedrückt. Aus diesem Grund ist es erforderlich, für einen Bereich zu sorgen, an dem das Spannwerkzeug oder andere Teile entlang der Kante des isolierenden Substrats71 angreifen können. Auch dies bewirkt, dass das lichtemittierende Bauelement70 voluminös wird. - Darüber hinaus werden zur Massenherstellung lichtemittierender Bauelemente eine Anzahl von Durchgangslöchern in einem isolierenden Substrat ausgebildet und eine Anzahl von LED-Chips wird auf dem isolierenden Substrat angeordnet und durch lichtdurchlässiges Harz abgedichtet. Dann werden das isolierende Substrat und das lichtdurchlässige Harz Trennschneidvorgängen unterzogen, um eine Ausbildung zu einem jeweiligen LED-Chip zu erhalten. Insbesondere besteht bei dieser Anordnung die Tendenz, dass das lichtdurchlässige Harz im geschmolzenen Zustand zur Unterseite des isolierenden Substrats und durch die Durchgangslöcher hindurch rinnt. Aus diesem Grund ist erforderlich, für Flächen zu sorgen, an denen die Spannwerkzeuge oder andere Teile um die jeweiligen Durchgangslöcher hindurch angreifen können.
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14 zeigt ein Beispiel für die Minimalabmessungen eines lichtemittierenden Bauelements70 vom Chiptyp gemäss13 . Bei diesem lichtemittierenden Bauelement70 wurde ein quadratischer LED-Chip74 mit einer Seitenlänge von 300 μm verwendet. In diesem Fall betrug die Dicke des isolierenden Substrats71 mindestens 200 μm, die Dicke des LED-Chips betrug 300 μm, der Abstand von der Oberseite des Bogens des Bonddrahts75 zur Oberseite des LED-Chips74 betrug 200 μm, und die Dicke des den Bogen bedeckenden lichtemittierenden Harzes76 betrug 100 μm. Daher betrug die minimal erforderliche Dicke des lichtemittierenden Bauelements70 800 μm. - Ferner betrug die Länge (Bereich) des isolierenden Substrats
71 in der Längsrichtung, die dazu erforderlich war, den LED-Chip74 zu montieren, 600 μm, die zum Trennen des Elektrodenmusters73 und des Elektrodenmusters72 voneinander erforderliche Länge betrug 200 μm, die zum Verbinden des Bonddrahts75 und des Elektrodenmusters73 erforderliche Länge betrug 400 μm, und die zum Anbringen eines Spannwerkzeugs oder anderer Teile, die dazu verwendet wurden, zu verhindern, dass das auf das isolierende Substrat71 aufgebrachte lichtdurchlässige Harz76 zur Unterseite dieses Substrats herunterrann, erforderliche Länge betrug 200 μm entlang der gesamten Kante des isolierenden Substrats71 . Daher war für die Länge des isolierenden Substrats71 in der Längsrichtung, die die Länge des lichtemittierenden Bauelements70 in der Längsrichtung bildet, ein Wert von minimal 1400 μm (1,4 mm) erforderlich. - In den letzten Jahren wurden kompakte lichtemittierende Bauelemente erforderlich, um Bedürfnissen hinsichtlich der Kompaktheit verschiedener Anzeigetafeln, Lichtschalter und anderer Geräte zu genügen. Daher ist es nicht erwünscht, dass ein dickes lichtdurchlässiges Harz
65 oder76 vorliegt. Jedoch ist die Wahrscheinlichkeit eines Durchtrennens des Bonddrahts64 oder75 um so höher, je dünner das lichtdurchlässige Harz65 oder76 gemacht wird. Dies führt zu einer Schwierigkeit hinsichtlich geringer Zuverlässigkeit der hergestellten lichtemittierenden Bauelemente. - Im einzelnen ist ein lichtemittierendes Bauelement der eingangs genannten Art aus der
US 4 843 280 A bekannt. Diese Druckschrift offenbart eine Anordnung, bei der flüssiges Epoxidharz auf die Gesamtfläche eines Substrates, auf der Leuchtdioden befestigt sind, aufgetragen wird, während ein Abdichtungsband an der Unterseite des Substrates angebracht ist, um zu verhindern, dass das flüs sige Epoxidharz zur Unterseite über plattierte Durchgangslöcher fließt. - Weiterhin ist aus der
US 5 293 068 A ein Bauelement bekannt, bei dem ein als Dichtungsglied wirkendes Harz einen Chip und ein Chip-Kontaktkissen von oben nach unten umhüllt und bei dem ein Durchgangsloch abdichtendes Material als elektrische Verbindungseinrichtung dient, die mit einem Bonddraht in Wirkverbindung steht. - In der
EP 0 588 040 A2 ist ein lichtemittierendes Bauelement beschrieben, dessen pn-Übergang rechtwinklig zur Oberfläche eines Substrates verläuft. Halbleiterschichten und jeweilige Elektroden sind hier über ein leitendes Verbindungsmittel, wie eine leitfähige Paste, miteinander verbunden. Ein LED-Chip überbrückt dabei zwei Elektroden. - Das Anbringen von Durchgangslöchern in den Ecken eines Substrats ist schließlich der
JP 05-13 818 A - Es ist eine Aufgabe der Erfindung, ein lichtemittierendes Bauelement zu schaffen, das kompakt ist, hohe Beständigkeit gegen äußere Belastungen aufweist und das auf einfache Weise massenhergestellt werden kann; außerdem soll ein Herstellverfahren angegeben werden, durch das derartige lichtemittierende Bauelemente leicht massenhergestellt werden können.
- Die Aufgabe hinsichtlich des Bauelements wird durch die Lehre des beigefügten unabhängigen Anspruchs 1 gelöst.
- Wenn der LED-Chip so angebracht wird, dass seine Fläche mit dem pn-Übergang nicht zum isolierenden Substrat parallel ist, ist es möglich, die Elektroden und den LED-Chip durch ein leitendes Verbindungsmittel ohne Verwendung eines Bonddrahts im leitenden Zustand zu halten. Daher ist ein solches lichtemittierendes Bauelement frei von Beschädigungen aufgrund äußerer Belastungen, wie sie durch Verwindungen oder andere Effekte des isolierenden Substrats hervorgerufen werden. Ferner beseitigt diese Anordnung, im Unterschied zu herkömmlichen Anordnungen, das Erfordernis, dass das lichtdurchlässige Harz dicker aufgetragen wird, um den Bonddraht zu schützen, weswegen das lichtemittierende Bauelement in grossem Ausmass miniaturisiert werden kann.
- Ferner kann dann, da der LED-Chip in einem die Elektroden überbrückenden Zustand angeordnet wird und der LED-Chip durch das lichtdurchlässige Harz abgedichtet wird, dieses Harz in Zwischenräume zwischen dem LED-Chip und dem isolierenden Substrat eindringen, um einen einstöckigen Teil mit diesem zu bilden. So wird der LED-Chip fester auf dem isolierenden Substrat angebracht. Daher wird die Beständigkeit des lichtemittierenden Bauelements in bezug auf von aussen angeregte Schwingungen wie auch in bezug auf Warmbelastungen noch hervorragender.
- Lichtemittierende Bauelemente mit einem oder mehreren LED-Chips können leicht dadurch massenhergestellt werden, dass das mit dem lichtdurchlässigen Harz bedeckte isolierende Substrat entlang der Positionen von Durchgangslöchern durchtrennt wird.
- Da die Durchgangslöcher durch ein Abdichtungsteil abgedichtet sind, besteht darüber hinaus keine Möglichkeit, dass das lichtdurchlässige Harz in die Durchgangslöcher fliesst und zur Unterseite des isolierenden Substrats herunterrinnt. Daher ist es nicht erforderlich, Spannwerkzeuge oder andere Teile um die Kanten der Durchgangslöcher im isolierenden Substrat herum anzuordnen, um zu verhindern, dass lichtdurchlässiges Harz in die Durchgangslöcher fließt. Dies beseitigt das Erfordernis, Bereiche zum Anbringen der Spannwerkzeuge um die jeweiligen Durchgangslöcher herum vorzusehen, und macht es möglich, lichtemittierende Bauelemente weiter zu miniaturisieren.
- Da die LED-Chips im lichtemittierenden Bauelement jeweils durch das lichtdurchlässige Harz abgedichtet werden können, ist es ferner möglich zu verhindern, dass Wasser, Staub oder andere Gegenstände in sie eindringen. Wie oben beschrieben, besteht, da die Oberseite des LED-Chips mit dem pn-Übergang durch das lichtdurchlässige Harz geschützt ist, keine Möglichkeit, dass diese Oberseite mit dem pn-Übergang beschädigt werden kann, und zwar selbst dann nicht, wenn das lichtemittierende Bauelement auf ein Substrat aufgelötet wird, und es können keine Kurzschlüsse auftreten. Demgemäß hat das lichtemittierende Bauelement hohe Beständigkeit gegen Beschädigungen aufgrund äusserer Belastungen, und es kann leicht hergestellt werden.
- Die oben angegebene Aufgabe hinsichtlich des Verfahrens wird durch die Lehre des beigefügten unabhängigen Anspruchs 9 gelöst.
- Da bei den erfindungsgemäßen Verfahren die Durchgangslöcher abgedichtet werden, bevor das isolierende Substrat mit dem lichtdurchlässigen Harz beschichtet wird, ist es möglich zu verhindern, dass das Harz in seinem geschmolzenen Zustand in die jeweiligen Durchgangslöcher hineinfließt, wenn das isolierende Substrat mit diesem Harz beschichtet wird. Daher ist es nicht erforderlich, Spannwerkzeuge oder andere Teile um die Kanten der Durchgangslöcher im isolierenden Substrat herum anzuordnen, um zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Harz in seinem geschmolzenen Zustand in die Durchgangslöcher hineinfließt. Dies ermöglicht es, den Abdichtungsprozess, bei dem das lichtdurchlässige Harz verwendet wird, leicht auszuführen.
- Darüber hinaus ermöglicht es das vorstehend angegebene Verfahren, lichtemittierende Bauelemente einfach herzustellen, von denen jedes eine gewünschte Anzahl von LED-Chips enthält.
- Ferner ist es möglich, da die erste und zweite Elektrode, mit denen der LED-Chip verbunden ist, für jedes Durchgangsloch auf getrennte Weise ausgebildet werden, lichtemittierende Bauelem mit einem oder mehreren LED-Chips einfach dadurch massenherzustellen, dass die Struktur an den Durchgangslöchern durchgetrennt wird.
- Für ein vollständigeres Verständnis der Art und der Vorteile der Erfindung ist auf die folgende detaillierte Beschreibung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen Bezug zu nehmen.
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1(a) ist eine Draufsicht, die ein lichtemittierendes Bauelement, das einem Ausführungsbeispiel der Erfindung entspricht, teilweise in Explosionsdarstellung zeigt;1(b) ist eine Schnittansicht entlang der Linie A-A in1(a) . -
2(a) bis2(f) sind Schnittansichten, die die Herstellprozesse für das lichtemittierende Bauelement von1(a) veranschaulichen. -
3 ist eine Schnittansicht, die die Abmessungen des lichtemittierenden Bauelements von1(a) zeigt. -
4(a) und4(b) sind schematische Vorderansichten, die jeweils modifizierte Beispiele des lichtemittierenden Bauelements von1(a) zeigen. -
5(a) ist eine schematische Vorderansicht, die ein anderes modifiziertes Beispiel des lichtemittierenden Bauelements von1(a) zeigt;5(b) ist eine Seitenansicht hierzu. -
6 ist eine Schnittansicht, die ein lichtemittierendes Bauelement ohne Durchgangslöcher zeigt. -
7(a) und7(b) sind Draufsichten, die lichtemittierende Bauelemente, die andere Ausführungsbeispiele der Erfindung betreffen, teilweise in Explosionsdarstellung zeigen. -
8(a) ist eine Draufsicht, die ein lichtemittierendes Bauelement, das noch ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung betrifft, teilweise in Explosionsdarstellung zeigt;8(b) ist eine Schnittansicht entlang der Linie B-B von8(a) . -
9(a) bis9(c) sind Schnittansichten, die wesentliche Teile eines isolierenden Substrats bei Herstellprozessen für das lichtemittierende Bauelement von8(a) veranschaulichen. -
10(a) ist eine schematische Draufsicht auf das isolierende Substrat, die Fixierpositionen für LED-Chips zeigt;10(b) ist eine Schnittansicht entlang der Linie C-C in10(a) . -
11(a) bis11(c) sind Schnittansichten für Herstellprozesse des lichtemittierenden Bauelements von8(a) . -
12 ist eine Schnittansicht, die ein herkömmliches lichtemittierendes Bauelement zeigt. -
13 ist eine Schnittansicht, die ein anderes herkömmliches lichtemittierendes Bauelement zeigt. -
14 ist eine Schnittansicht, die Abmessungen des lichtemittierenden Bauelements von13 zeigt. - Ausführungsbeispiel 1
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1(a) ist eine Draufsicht, die ein Beispiel eines erfindungsgemäßen lichtemittierenden Bauelements in teilweiser Explosionsdarstellung zeigt, und1(b) ist eine Schnittansicht entlang der Linie A-A in1(a) . - Diese lichtemittierende Bauelement
10 ist mit einem länglichen isolierenden Substrat17 und einem LED-Chip14 versehen, der auf dem isolierenden Substrat17 angeordnet ist. Das isolierende Substrat17 besteht z. B. aus glasartigem Epoxidharz, einem Verbundmaterial oder anderen Materialien. An den jeweiligen Enden des isolierenden Substrats17 in Längsrichtung (nachfolgend wird die Längsrichtung als X-Richtung bezeichnet und die dazu rechtwinklige Richtung wird als Y-Richtung bezeichnet) sind halbzylindrische, ausgesparte Abschnitte11 vorhanden. Darüber hinaus ist ein Paar Elektrodenmuster12 (erste Elektrode und zweite Elektrode), die im mittleren Abschnitt in der X-Richtung des isolierenden Substrats17 unterteilt sind, auf der Oberseiten des isolierenden Substrats17 angebracht. Die jeweiligen Elektrodenmuster12 bestehen aus einer Metallplattierung. Die Elektrodenmuster12 bedecken jeweils die Innenflächen der ausgesparten Abschnitte11 min, die an den Enden des isolierenden Substrats17 vorhanden sind. Ferner erreichen die Elektrodenmuster12 jeweils die Unterseite des isolierenden Substrats17 durch die ausgesparten Abschnitte11 min hindurch, auf gebogene Weise entlang der Unterseite des isolierenden Substrats17 . - Die ausgesparten Abschnitte
11' , die mit den jeweiligen Elektrodenmustern12 bedeckt sein können, werden mit einem leitenden Verbindungsmittel13 , wie Lot, Silber(Ag)-Paste oder Kupfer(Cu)-Paste, das als Abdichtungsteil fungiert, aufgefüllt. Der LED-Chip14 wird auf die jeweiligen Elektrodenmuster12 aufgesetzt, die die Oberseite des isolierenden Substrats17 bedecken, und zwar auf solche Weise, dass er eine Überbrückung vom einen der Elektrodenmuster12 zum anderen bildet. Der LED-Chip14 besteht aus einer n-seitigen Halbleiterschicht14a und einer p-seitigen Halbleiterschicht14b , die unter Bildung eines pn-Übergangs aufeinandergestapelt sind. Ferner ist eine n-seitige Elektrode14d auf der Oberseite der n-seitigen Halbleiterschicht14a angebracht. - Darüber hinaus ist eine p-seitige Elektrode
14e auf der Oberseite der p-seitigen Halbleiterschicht14b aufgebracht. Der LED-Chip14 ist mit einem solchen Überbrückungszustand zwischen den gepaarten Elektrodenmusters12 angeordnet, dass eine Fläche14c mit dem pn-Übergang, die eine Verbindungsfläche zwischen der n-seitigen Halbleiterfläche14a und der p-seitigen Halbleiterschicht14b bildet, nicht-parallel zum isolierenden Substrat17 gehalten wird, oder, was speziell wünschenswert ist, rechtwinklig hierzu gehalten wird. In diesem Fall sind die n-seitige Elektrode14d und die p-seitige Elektrode14e jeweils rechtwinklig zu den Elektrodenmustern12 angeordnet. - Die Elektrodenmuster
12 werden unter Verwendung eines leitenden Verbindungsmittels15 wie Lot, Ag-Paste oder Cu-Paste mit der n-seitigen Elektrode14d und der p-seitigen Elektrode14e , die beide über den Elektrodenmustern12 angeordnet werden, so verbunden, dass sie in leitendem Zustand miteinander gehalten werden. - Der LED-Chip
14 und das leitende Verbindungsmittel15 auf dem isolierenden Substrat17 sind durch ein lichtdurchlässiges Harz16 , wie Epoxidharz, Phenoxyharz, Acrylatharz oder Polyethersulfonharz (PES-Harz) abgedichtet. Dieses lichtdurchlässige Harz16 ist zu einem Quader gegossen, der die jeweiligen Endflächen des isolierenden Substrats17 , an denen die ausgesparten Abschnitte11 min ausgebildet sind, und den Endflächen in Längsrichtung folgt. -
2(a) bis2(f) sind Schnittansichten, die Herstellprozesse für das in1(a) dargestellte lichtemittierende Bauelement10 veranschaulichen. Bei diesen Herstellprozessen wird eine Anzahl lichtemittierender Bauelemente10 aus einer Lage des isolierenden Substrats17 hergestellt. Zunächst wird, wie es in2(a) dargestellt ist, eine Anzahl von Durchgangslöchern11 mit jeweils runder Form matrixförmig im isolierenden Substrat17 mit vorgegebenen Schrittweiten in X- und Y-Richtung hergestellt. Hierbei werden, wie es später beschrieben wird, die ausgesparten Abschnitte11 min dadurch ausgebildet, dass die Durchgangslöcher11 entlang Schnittlinien durchtrennt werden, die jeweils durch die Mitte der Durchgangslöcher11 gehen. - Danach wird eine Metallschicht durch einen Plattierungsprozess oder einen anderen Prozess so ausgebildet, dass sie alle Abschnitte des isolierenden Substrats
17 einschliesslich der Oberseite und der Unterseite desselben sowie der Innenseiten der Durchgangslöcher11 bedeckt. Dann wird, wie es in2(b) veranschaulicht ist, die Oberseite des isolierenden Substrats17 so gemustert, dass die Metallschicht im mittleren Abschnitt zwischen benachbarten Durchgangslöchern11 durchgetrennt ist. Die Unterseite des isolierenden Substrats17 wird dagegen so gemustert, dass die Metallschicht nur in den Bereichen verbleibt, die ein Durchgangsloch11 umgeben. Demgemäss werden Elektrodenmuster12 , von denen jedes hinsichtlich jedem Durchgangsloch11 getrennt ist, auf dem isolierenden Substrat17 ausgebildet. - Danach werden, wie es in der
2(c) veranschaulicht ist, die mit den Elektrodenmustern12 bedeckten Durchgangslöcher11 mit dem leitenden Verbindungsmittel13 aufgefüllt. - Wie vorstehend beschrieben, werden, da die Durchgangslöcher
11 mit dem leitenden Verbindungsmittel13 aufgefüllt werden, mehrere LED-Chips14 auf dem isolierenden Substrat17 angebracht, während sie leitend miteinander verbunden gehalten werden. - Danach wird, wie es in
2(d) veranschaulicht ist, der LED-Chip14 als Brücke zwischen den gepaarten Elektrodenmustern12 auf der Oberseite des isolierenden Substrats17 , die durch die benachbarten Durchgangslöcher11 getrennt sind, so auf der Oberseite des isolierenden Substrats17 angebracht, dass die Fläche14c mit dem pn-Übergang rechtwinklig zum isolierenden Substrat17 steht. - Danach werden die Elektrodenmuster
12 mit dem überbrückenden LED-Chip14 unter Verwendung des leitenden Verbindungsmittels15 so mit der n-seitigen Elektrode14d und der p-seitigen Elektrode14e des LED-Chips14a verbunden, dass ein leitender Zustand zwischen diesen besteht. In diesem Fall können allgemein verwendete leitende Verbindungsmittel wie Lot, Ag-Paste oder Cu-Paste als leitendes Verbindungsmittel15 verwendet werden. Jedoch besteht im Fall der Verwendung von Lot als leitendes Verbindungsmittel15 die Tendenz, dass Verunreinigungen im Lot die Fläche14c mit dem pn-Übergang erreichen, was Kurzschlüsse hervorruft. Daher ist es bevorzugt, leitende Pasten wie Ag-Paste oder Cu-Paste zu verwenden. - Wie oben beschrieben, ist beim lichtemittierenden Bauelement
10 des vorliegenden Ausführungsbeispiels der LED-Chip14 so zwischen den gepaarten Elektro denmustern12 angeordnet, dass seine Fläche14c mit dem pn-Übergang nichtparallel zum isolierenden Substrat17 steht. Daher ist es möglich, die Elektroden und den LED-Chip durch ein leitendes Verbindungsmittel in einem leitenden Zustand zu halten, ohne dass ein Bonddraht verwendet wird. Im Ergebnis ist das lichtemittierende Bauelement10 frei von Beschädigungen aufgrund von aussen wirkender Belastungen, wie sie durch Verbindungen oder andere Effekte des isolierenden Substrats17 hervorgerufen werden. Ferner beseitigt diese Anordnung, abweichend von herkömmlichen Anordnungen, das Erfordernis, das lichtdurchlässige Harz dicker z machen, was später beschrieben wird, um den Bonddraht zu schützen; daher kann das lichtemittierende Bauelement10 in hohem Ausmass miniaturisiert werden. - Anschließend wird, wie es in
2(e) veranschaulicht ist, eine Lage des lichtdurchlässigen Harzes16 auf der Oberseite des isolierenden Substrats17 angeordnet und im Vakuum unter Wärme angedrückt. Als Lage des lichtdurchlässigen Harzes16 wird ein lichtdurchlässiges Harz wie Epoxidharz, Phenoxyharz, Acrylatharz oder PES-Harz verwendet. Demgemäss wird der LED-Chip14 durch das lichtdurchlässige Harz16 abgedichtet. - Hierbei werden die jeweiligen Durchgangslöcher
11 , die im isolierenden Substrat17 enthalten sind, mit dem leitenden Verbindungsmittel13 aufgefüllt. Dies verhindert, dass das lichtdurchlässige Harz16 im geschmolzenen Zustand in die jeweiligen Durchgangslöcher11 fließt und zur Unterseite des isolierenden Substrats17 herunterrinnt. - Daher ist es dann, wenn das lichtdurchlässige Harz
16 im geschmolzenen Zustand auf das isolierende Substrat17 gedrückt wird, nur erforderlich, das metallische Formwerkzeug oder die Spanneinrichtung oder andere Teile um die Umfangskante des isolierenden Substrats17 herum anzuordnen, und diese Anordnung ermöglicht es zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Harz16 im geschmolzenen Zustand zur Unterseite des isolierenden Substrats17 entlang den Seiten desselben herunterrinnt. - Anders gesagt, ist es nicht erforderlich, Spannwerkzeuge oder andere Teile um die Kanten der Durchgangslöcher
11 im isolierenden Substrat17 herum anzuordnen, um zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Substrat16 im geschmolzenen Zustand in die Durchgangslöcher11 fliesst. Dies beseitigt auch das Erfor dernis, Bereiche bereitzustellen, an denen die Spanneinrichtungen um die jeweiligen Durchgangslöcher11 herum angreifen können. Im Ergebnis kann der Abdichtungsprozess unter Verwendung des lichtdurchlässigen Harzes16 leicht ausgeführt werden. Ferner ist es möglich, die gesamte Struktur des lichtdurchlässigen Bauelements10 zu miniaturisieren. - Darüber hinaus existiert, da die Fläche
14c mit dem pn-Übergang rechtwinklig zum isolierenden Substrat17 gehalten wird, keine Elektrodenschicht, die emittiertes Licht ausblendet. Dies ermöglicht es, den Wirkungsgrad der nach aussen gegebenen Lichtemission zu erhöhen. Ferner ist es möglich, da die Dicke des zum Abdichten des LED-Chips14 erforderlichen lichtemittierenden Harzes16 weiter verringert ist, das lichtemittierende Bauelement10 kompakter auszubilden. - Ferner kann bei einer Anordnung, bei der der LED-Chip
14 in überbrückendem Zustand zwischen den Elektrodenmustern12 angeordnet ist, dann, wenn dieser LED-Chip14 und das leitende Verbindungsmittel15 durch das lichtdurchlässige Harz16 abgedichtet werden, dieses Harz in Zwischenräume zwischen dem LED-Chip14 und dem isolierenden Substrat17 eindringen, um ein integraler Teil desselben zu werden. Demgemäss wird der LED-Chip14 fester auf dem isolierenden Substrat17 angebracht. Daher wird das lichtemittierende Bauelement10 hinsichtlich seiner Beständigkeit gegen von aussen angeregte Schwingungen und auch gegen thermische Belastungen noch hervorragender. - Nachdem das lichtdurchlässige Harz
16 ausgehärtet ist, um die jeweiligen LED-Chips14 auf dem isolierenden Substrat17 abzudichten, werden dieses isolierende Substrat17 und das lichtdurchlässige Harz16 trennenden Schnitten entlang Trennlinien19a unterzogen, die durch die Mitten der in der Y-Richtung angeordneten Durchgangslöcher11 gehen, wie es in2(f) dargestellt ist. Ferner werden das isolierende Substrat17 und das lichtdurchlässige Harz16 auch trennenden Schnitten zwischen den LED-Chips14 unterzogen, die in der Y-Richtung benachbart liegen. Demgemäss kann eine Anzahl lichtemittierender Bauelemente10 hergestellt werden, die jeweils einen LED-Chip14 enthalten. - Wie vorstehend beschrieben, ist es beim lichtemittierenden Bauelement
10 , da die LED-Chips14 und das leitende Verbindungsmittel15 durch das lichtdurchlässige Harz16 abgedichtet sind, möglich zu verhindern, dass Wasser, Staub oder andere Gegenstände in das lichtemittierende Bauelement10 eindringen. Darüber hinaus sind die LED-Chips14 mit dem isolierenden Substrat17 verbunden, und die Fläche14c mit dem pn-Übergang ist durch das lichtdurchlässige Harz16 geschützt. Daher besteht bei tatsächlichen Prozessen, z. B. beim Prozess, bei dem das lichtemittierende Bauelement10 auf eine Leiterplatte gelötet wird, keine Möglichkeit, dass die Fläche14c mit dem pn-Übergang beschädigt wird und dass Kurzschlüsse auftreten. Demgemäss ist das lichtemittierende Bauelement gegen Beschädigungen aufgrund äusserer Belastungen sehr beständig, und es kann leicht hergestellt werden. - Darüber hinaus ist es dann, wenn das lichtemittierende Bauelement
10 vor der Verwendung auf eine Leiterplatte gelötet wird, nicht erforderlich, da die Elektrodenmuster12 so konzipiert sind, dass sie die Unterseite des isolierenden Substrats17 erreichen, Einführungslöcher in der Leiterplatte anzubringen, um Zuleitungsstifte aufzunehmen. Diese Einführungslöcher sind erforderlich, wenn das lichtemittierende Bauelement10 unter Verwendung von z. B. Zuleitungsstiften oder anderer Teile anstelle der Elektrodenmuster12 auf die Leiterplatte gelötet wird. - Ferner ist es beim lichtemittierenden Bauelement
10 möglich, da die Elektrodenmuster12 so konzipiert sind, dass sie die Unterseite des isolierenden Substrats17 erreichen, die Elektrodenmuster12 auf die Oberseite einer Leiterplatte zu löten. - Hier ist das Durchgangsloch
11 mit dem leitenden Verbindungsmittel13 gefüllt. Daher wirkt dann, wenn das isolierende Substrat17 und das lichtdurchlässige Harz16 trennenden Schnitten entlang der Trennungslinien19a , von denen jede durch die Mitte des Durchgangslochs11 geht, unterzogen werden, jeder durchgetrennte Abschnitt als Elektrode, wie sie verwendet wird, wenn das lichtemittierende Bauelement10 auf das Substrat gelötet wird. Dies ermöglicht es, das lichtemittierende Bauelement10 stabil auf das Substrat zu löten, ohne dass die Gesamtdicke erhöht ist. - Anders gesagt, hat das lichtemittierende Bauelement
10 hervorragende Bearbeitbarkeit, und wenn es verwendet wird, ist es möglich, den Gesamtaufbau eines Geräts zu miniaturisieren, in dem es eingesetzt wird. Ausserdem wird dann, wenn das lichtemittierende Bauelement10 unter Verwendung von Zuleitungs stiften oder anderen Teilen fixiert wird, der Lötprozess auf der Rückseite der Leiterplatte ausgeführt. Dies macht den Gesamtaufbau der Vorrichtung dicker. -
3 zeigt ein Beispiel für die Abmessungen eines lichtemittierenden Bauelements10 , das wie oben beschrieben hergestellt wurde. Beim lichtemittierenden Bauelement10 des vorliegenden Ausführungsbeispiels wurde ein quadratischer LED-Chip14 mit Seitenlängen von 300 μm verwendet. In diesem Fall betrug die Dicke des isolierenden Substrats17 und der Elektrodenmuster12 200 μm, die Dicke des LED-Chips14 betrug 300 μm und die Dicke des lichtdurchlässigen Harzes16 , das den LED-Chip14 abdeckt, betrug 100 μm. Daher betrug die minimal erforderliche Dicke für das lichtemittierende Bauelement10 600 m. - Darüber hinaus waren im LED-Chip
14 die Länge der n-seitigen Halbleiterschicht14a und der p-seitigen Halbleiterschicht14b in der Stapelrichtung 300 μm, und die Längen, die dazu erforderlich waren, die Elektrodenmuster12 elektrisch mit der n-seitigen Elektrode14d und der p-seitigen Elektrode14e über das leitende Verbindungsmittel15 zu verbinden, betrugen jeweils 350 μm. Daher betrug die Abmessung des lichtemittierenden Bauelements10 in der X-Richtung 1000 μm (1,0 mm), was die minimal erforderliche Abmessung ist. - Daher ermöglicht es das lichtemittierende Bauelement
10 des vorliegenden Ausführungsbeispiels im Vergleich mit der herkömmlichen Anordnung, die Dicke um 200 μm von 800 μm auf 600 μm zu verringern und auch die Länge in der Längsrichtung um 600 μm von 1600 μm auf 1000 μm zu verkürzen. - Ferner kann, wie es in
4 veranschaulicht ist, das erfindungsgemässe lichtemittierende Bauelement so modifiziert werden, dass das lichtdurchlässige Harz16 , das auf das isolierende Substrat17 aufgebracht ist, in verschiedenen Linsenformen ausgebildet wird. Z. B. wird, wie es in4(a) veranschaulicht ist, das lichtdurchlässige Harz16 in der Form einer konvexen Linse mit einem halbkugelförmigen, vorstehenden Abschnitt ausgebildet, oder es wird, wie es in4(b) veranschaulicht ist, in Form einer konvexen Linse ausgebildet, die als ausgesparter, halbkugelförmiger Abschnitt vorhanden ist. Darüber hinaus kann, wie es in den5(a) und5(b) veranschaulicht ist, das lichtdurchlässige Harz16 in Form einer Stablinse mit halbzylindrischem Abschnitt gegossen werden. - Wenn das lichtdurchlässige Harz
16 linsenförmig ausgebildet wird, werden an pressende Spanneinrichtungen, die für die jeweiligen Linsenformen geeignet sind, auf eine Lage des lichtdurchlässigen Harzes16 aufgedrückt, wenn diese Lage auf dem isolierenden Substrat17 mit darauf befindlichen LED-Chips14 aufgelegt und unter Wärme angedrückt wird. - Das lichtdurchlässige Harz
16 , das auf diese Weise zu verschiedenen Linsenformen ausgebildet wurde, ermöglicht es, Licht wirkungsvoller zu konvergieren, was die Leuchtkraft des Bauelements verbessert. - Darüber hinaus kann, wenn die LED-Chips
14 durch das lichtdurchlässige Harz16 abgedichtet sind, das isolierende Substrat17 innerhalb eines metallischen Formwerkzeugs mit vorgegebener Form angeordnet werden, anstatt dass die Lage aus lichtdurchlässigem Harz16 verwendet wird, und es kann lichtdurchlässiges Harz16 in geschmolzenem Zustand in das metallische Formwerkzeug eingegossen werden. Auch in diesem Fall ist es möglich, da die jeweiligen Durchgangslöcher11 im isolierenden Substrat17 mit dem leitenden Verbindungsmittel13 gefüllt sind, zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Harz16 in geschmolzenem Zustand zur Unterseite des isolierenden Substrats17 herunterrinnt. -
6 ist eine Schnittansicht, die ein lichtemittierendes Bauelement20 ohne Durchgangslöcher zeigt. Bei diesem lichtemittierenden Bauelement20 ist ein Paar Elektrodenmuster22 , die im mittleren Abschnitt in X-Richtung eines isolierenden Substrats27 voneinander getrennt sind, auf der Oberseite und der Rückseite des isolierenden Substrats27 entlang den jeweiligen Seiten dieses isolierenden Substrats27 angebracht. Auf dieselbe Weise wie beim vorstehend angegebenen Ausführungsbeispiel überbrückt der LED-Chip24 , die gepaarten Elektrodenmuster20 , wobei eine Fläche24c mit einem pn-Übergang nicht-parallel zum isolierenden Substrat27 gehalten wird, am wünschenswertesten rechtwinklig zu diesem. Der LED-Chip24 und die Elektrodenmuster22 werden unter Verwendung eines leitenden Verbindungsmittels25 so miteinander verbunden, dass sie in leitendem Zustand verbleiben. Ferner werden das leitende Verbindungsmittel25 und der LED-Chip24 durch einen lichtdurchlässigen Kleber26 abgedichtet, der auf dem isolierenden Substrat27 ausgebildet wird. Hierbei bestehen das isolierende Substrat27 , die Elektrodenmuster22 , der LED-Chip24 und das leitende Verbindungsmittel25 jeweils aus denselben Materialien wie das isolierende Substrat17 , die Elektrodenmuster12 , der LED- Chip14 bzw. das leitende Verbindungsmittel15 beim ersten Ausführungsbeispiel. - Das lichtemittierende Bauelement
20 des vorliegenden Ausführungsbeispiels wird dadurch hergestellt, dass ein LED-Chip24 auf einer Lage des isolierenden Substrats27 montiert wird, das auf vorgegebene Grösse geformt wurde. Daher sind weder Durchgangslöcher noch ausgesparte Abschnitte im isolierenden Substrat27 vorhanden. - Bei diesem lichtemittierenden Bauelement
20 ist es erforderlich, entlang der gesamten Umfangskante des isolierenden Substrats27 für Bereiche zu sorgen, an denen ein metallisches Formwerkzeug, eine Spanneinrichtung oder andere Teile angreifen können, die verhindern, dass das lichtdurchlässige Substrat26 im geschmolzenen Zustand zur Unterseite des isolierenden Substrats27 herunterrinnt. Aus diesem Grund sind die Längen in der Längsrichtung und der Breitenrichtung des isolierenden Substrats27 geringfügig grösser als die beim lichtemittierenden Bauelement10 des vorstehend genannten Ausführungsbeispiels. Jedoch benötigt das lichtemittierende Bauelement20 keinen Bonddraht, was dasselbe wie beim vorstehenden Ausführungsbeispiel ist. Daher ermöglicht es dieses lichtemittierende Bauelement10 im Vergleich mit einem herkömmlichen lichtemittierenden Bauelement, die Dicke des lichtdurchlässigen Harzes26 zu verringern, wodurch das Bauelement miniaturisiert werden kann. - Auch beim lichtemittierenden Bauelement
20 kann das lichtdurchlässige Harz26 , das auf dem isolierenden Substrat27 anzubringen ist, mit verschiedenen Linsenformen ausgebildet werden. - Ausführungsbeispiel 2
- Unter Bezugnahme auf
7 erörtert die folgende Beschreibung ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung. Hierbei sind zum Vereinfachen der Erläuterung diejenigen Teile, die dieselben Funktionen wie beim Ausführungsbeispiel 1 haben und die dort beschrieben sind, mit denselben Bezugszahlen gekennzeichnet, und die Beschreibung dieser Teile wird weggelassen. - Wie es in
7(a) dargestellt ist, ist das lichtemittierende Bauelement30 des vorliegenden Ausführungsbeispiels mit zwei LED-Chips14 versehen, die auf ei nem isolierenden Substrat17 angeordnet sind. Um das lichtemittierende Bauelement30 mit diesem Aufbau zu erhalten, wird zunächst eine Anzahl von LED-Chips14 auf einer Lage des isolierenden Substrats17 montiert, und dieses isolierende Substrat17 wird durch lichtdurchlässiges Harz16 ganz abgedichtet, wie es in den2(a) bis2(f) dargestellt ist. Danach werden das isolierende Substrat17 und das lichtdurchlässige Harz16 in diesem Zustand trennenden Schnitten entlang den Trennungslinien19a unterzogen, die sich in der Y-Richtung erstrecken, d. h. in der Achsenrichtung des isolierenden Substrats17 . Dann werden das isolierende Substrat17 und das lichtdurchlässige Harz16 erneut trennenden Schnitten in der X- Richtung so unterzogen, dass zwei in Y-Richtung einander benachbarte LED-Chips14 eine integrale Einheit bilden; so wird das lichtemittierende Bauelement20 auf einfache Weise hergestellt. - Ferner kann, wie es in
7(b) veranschaulicht ist, eine andere Anordnung vorgeschlagen werden, bei der Durchgangslöcher11 , die später ausgesparte Bereiche 11 min bilden, vorab in den Ecken der Installationsposition der zwei LED-Chips14 (Bereich, auf dem die LED-Chips14 montiert werden) auf solche Weise ausgebildet werden, dass sie die LED-Chips14 umgeben. Bei dieser Anordnung sind die ausgesparten Abschnitte11 min, nachdem das isolierende Substrat17 entlang den durch die Durchgangslöcher11 gehenden Trennungslinien zerschnitten wurde, in den vier die zwei LED-Chips14 umgebenden Ecken ausgebildet. - Auch in diesem Fall reichen die jeweiligen Elektrodenmuster
12 bis zur Unterseite des isolierenden Substrats17 , und zwar ausgehend von seiner Oberseite durch die Durchgangslöcher11 hindurch (entsprechend den ausgesparten Abschnitten11 min, nachdem das isolierende Substrat17 zerteilt wurde), auf gebogene Weise entlang der Unterseite des isolierenden Substrats17 . So sind die LED-Chips14 mittels eines leitenden Verbindungsmittels15 mit den durch jedes Durchgangsloch11 unterteilten Elektrodenmustern12 verbunden, wobei der leitende Zustand durch das Verbindungsmittel aufrechterhalten wird. - Bei dieser Anordnung werden die Durchgangslöcher
11 , die vorab auf solche Weise ausgebildet sind, dass sie die Anbringungspunkte der zwei LED-Chips14 umgeben, als Zielpunkte angesehen, wenn trennenden Schnitte ausgeführt werden, so dass die einander in der V-Richtung benachbarten beiden LED-Chips14 eine einstückige Einheit bilden. Dies ermöglicht es, den trennenden Schneidpro zess einfacher auszuführen. - Darüber hinaus kann auch in diesem Fall das lichtemittierende Bauelement
30 so hergestellt werden, dass zwei LED-Chips14 auf einem isolierenden Substrat17 montiert werden, das vorab mit einer vorgegebenen Form hergestellt wurde. - Ferner soll beim erfindungsgemässen lichtemittierenden Bauelement die Anzahl von LED-Chips nicht auf eins oder zwei begrenzt sein: zum Beispiel können drei oder mehr LED-Chips angebracht werden. Auch in diesem Fall kann das lichtemittierende Bauelement auf die folgende Weise hergestellt werden. Nachdem Anzahl von LED-Chips auf einem isolierenden Substrat montiert wurde und sie durch lichtdurchlässiges Harz abgedichtet wurden, wird das Substrat trennenden Schnitten unterzogen, die es in Teile unterteilt, von denen jedes die gewünschte Anzahl von LED-Chips enthält. Ferner kann das lichtemittierende Bauelement dadurch hergestellt werden, dass eine vorgegebene Anzahl von LED-Chips auf einem isolierenden Substrat montiert wird, das vorab mit einer vorgegebenen Form hergestellt wurde.
- Hierbei werden, da die Durchgangslöcher
11 mit dem leitenden Verbindungsmittel13 aufgefüllt sind, mehrere LED-Chips14 so auf dem isolierenden Substrat17 angebracht, dass sie leitend miteinander verbunden sind. Wenn ein lichtemittierendes Bauelement mit mehreren LED-Chips verwendet wird, ermöglicht es diese Anordnung, die Abschnitte zu verringern, an die Spannung anzulegen ist. - Ausserdem kann beim lichtemittierenden Bauelement
30 gemäss der Erfindung das lichtdurchlässige Harz16 , das auf dem isolierenden Substrat17 anzubringen ist, auch in Form verschiedener Linsen an Orten ausgebildet werden, die den jeweiligen LED-Chips14 entsprechen, auf dieselbe Weise wie bei den vorstehend angegebenen Ausführungsbeispielen. - Ausführungsbeispiel 3
- Unter Bezugnahme auf die
8 bis11 erörtert die folgende Beschreibung noch ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung. -
8(a) ist eine Draufsicht, die ein lichtemittierendes Bauelement40 in teilwei ser Explosionsdarstellung zeigt, das noch ein anderes Ausführungsbeispiel der Erfindung betrifft;8(b) ist eine Schnittansicht entlang der Linie B-B in8(a) . - Das lichtemittierende Bauelement
40 des vorliegenden Ausführungsbeispiels ist mit einem isolierenden Substrat47 mit rechteckiger Form sowie einem LED-Chip44 versehen, der auf diesem isolierenden Substrat47 angeordnet ist. Das isolierende Substrat47 besteht aus glasigem Epoxidharz, einem Verbundmaterial oder anderen Materialien, auf dieselbe Weise wie bei den vorstehenden Ausführungsbeispielen. - Das isolierende Substrat
47 ist an seinen jeweiligen Enden in der X-Richtung, d. h. in der Längsrichtung, mit ausgesparten Abschnitten41' versehen. Jeder ausgesparte Abschnitt41' verfügt über halbzylindrische Ausschnittsform. Ein Paar rechteckiger Elektrodenmuster (erste und zweite Elektrode)42 sind auf der Oberseite des isolierenden Substrats47 angebracht. Die paarweisen Elektrodenmuster42 sind im mittleren Abschnitt des isolierenden Substrats47 in der Längsrichtung mit einem vorgegebenen Zwischenraum voneinander beabstandet. - Beim vorliegenden Ausführungsbeispiel bedecken die jeweiligen Endabschnitte der Elektrodenmuster
42 die ausgesparten Abschnitte41' im isolierenden Substrat47 . Anders gesagt, wirken die jeweiligen Elektrodenmuster42 auch als Abdichtungsteile, die die ausgesparten Abschnitte41' bedecken. - Ferner sind Metallschichten
43 auf die jeweiligen Enden der Unterseite des isolierenden Substrats47 in der Längsrichtung aufgeschichtet. Die Metallschichten43 , die durch die Innenseiten der ausgesparten Abschnitte41' im isolierenden Substrat47 gehen, sind an den Rückseiten der Elektrodenmuster42 befestigt, die die ausgesparten Abschnitte41' bedecken. - Der LED-Chip
44 überbrückt die gepaarten Elektrodenmuster42 , die auf der Oberseite des isolierenden Substrats47 angeordnet sind. Der LED-Chip44 besteht aus einer n-seitigen Halbleiterschicht44a und einer p-seitigen Halbleiterschicht44b , die in einem pn-Übergang zusammengefügt sind, auf dieselbe Weise wie bei den vorstehenden Ausführungsbeispielen. Ferner ist eine n-seitige Elektrode44d auf der Oberseite der n-seitigen Halbleiterschicht44a aufge bracht. Eine p-seitige Elektrode44e ist auf der Oberseite der p-seitigen Halbleiterschicht44b aufgebracht. Hierbei ist der LED-Chip44 zwischen den gepaarten Elektrodenmustern42 auf solche Weise angebracht, dass im Überbrückungszustand von einem Elektrodenmuster42 zum anderen Elektrodenmuster42 eine Fläche44c mit dem pn-Übergang, die die Verbindungsfläche zwischen der n-seitigen Halbleiterschicht44a und der p-seitigen Halbleiterschicht44b ist, nicht-parallel zum isolierenden Substrat47 gehalten wird, speziell und wünschenswerterweise, rechtwinklig hierzu. In diesem Fall sind die nseitige Elektrode44d und die p-seitige Elektrode44e jeweils rechtwinklig zu den Elektrodenmustern42 angeordnet. - Die Elektrodenmuster
42 werden unter Verwendung eines leitenden Klebemittels45 wie Lot, Ag-Paste oder Cu-Paste mit der n-seitigen Elektroden44d und der p-seitigen Elektrode44e verbunden, so dass sie in leitendem Zustand zueinander gehalten werden. - Der LED-Chip
44 und das leitende Verbindungsmittel45 auf dem isolierenden Substrat47 werden durch ein lichtdurchlässiges Harz46 wie Epoxidharz, Ethylen-Vinylacetat-Copolymer (EVA), Phenoxyharz, Acrylatharz oder PES-Harz abgedichtet. Das lichtdurchlässige Harz46 wird in Quaderform gegossen, die den jeweiligen Endflächen des isolierenden Substrats47 folgt. - Die
9(a) bis9(c) sind Schnittansichten, die den wesentlichen Teil es isolierenden Substrats47 bei Herstellprozessen für das lichtemittierende Bauelement40 zeigen. Zunächst werden, wie es in9(a) dargestellt ist, Durchgangslöcher41 mit jeweils runder Form matrixförmig mit einer Schrittweite von 1,1 mm in der X-Richtung (d. h. in der Längsrichtung des lichtemittierenden Bauelements40 ) und mit einer Schrittweite von 0,6 mm in der zur X-Richtung rechtwinkligen Y-Richtung (d. h. in der Breitenrichtung des isolierenden Substrats47 ) matrixförmig ausgebildet. Dann wird eine Metallfolie42a wie eine Kupferfolie auf die gesamte Oberfläche des isolierenden Substrats47 auflaminiert. Demgemäss werden die Durchgangslöcher41 im isolierenden Substrat47 vollständig mit der Metallfolie42a bedeckt. Hierbei werden, wie es später beschrieben wird, die ausgesparten Abschnitte41' durch Zerschneiden der Durchgangslöcher41 entlang Trennlinien hergestellt, die jeweils durch die Mitte der Durchgangslöcher41 gehen. - Danach wird, wie es in
9(b) veranschaulicht ist, die Metallfolie42a für jedes im isolierenden Substrat47 ausgebildete Durchgangsloch41 zu rechteckiger Form gemustert. Demgemäss werden die Elektrodenmuster42 , von denen jedes Rechteckform aufweist und jedes Durchgangsloch41 auf konzentrische Weise bedeckt, jeweils in voneinander getrenntem Zustand ausgebildet. - Danach wird das isolierende Substrat
47 an seiner gesamten Unterseite einem Kupferplattierungsprozess unterzogen. Danach werden Plattierungsprozesse für Nickel und Gold (oder mit Silber und Palladium) darauf ausgeführt. In diesem Fall werden auch die Innenflächen der Durchgangslöcher41 und die gesamten Rückseiten der Elektrodenmuster42 , die die Durchgangslöcher41 bedecken, den Plattierungsprozessen unterzogen. Im Ergebnis wird auf der gesamten Unterseite des isolierenden Substrats47 , auf den Innenseiten der Durchgangslöcher41 und auf den Rückseiten der Elektrodenmuster42 , die die Durchgangslöcher41 bedecken, eine Metallschicht43a ausgebildet. - Danach wird, wie es in
9(c) veranschaulicht ist, die Unterseite des isolierenden Substrats47 so gemustert, dass die Metallschicht43a im mittleren Abschnitt zwischen benachbarten Durchgangslöchern41 aufgetrennt wird. Stücke der Metallschicht43 , von denen jedes auf die Rückseite des Elektrodenmusters42 plattiert ist, das auf der Oberseite des isolierenden Substrats47 angebracht ist und das durch das Durchgangsloch41 geht, werden jeweils getrennt voneinander ausgebildet. - Anders gesagt, bedeckt jedes Stück der Metallschicht
43 , die aus Kupfer, Nickel und Gold besteht, die Innenfläche jedes Durchgangslochs41 , und es bedeckt auch die Umfangsfläche des Durchgangslochs41 mit Rechteckform an der Unterseite des isolierenden Substrats47 . - Ferner kann das folgende Verfahren dazu verwendet werden, die in
9(c) dargestellte Struktur zu erhalten. Zunächst wird ein zweiseitiges Substrat bereitgestellt, das aus einer isolierenden Leiterplatte aus Aramid oder einem anderen isolierenden Material sowie Kupferfolien (Metallschichten) besteht, die der Ober- und Unterseite ausgebildet sind. Dann wird die auf der Unterseite des zweiseitigen Substrats ausgebildete Kupferfolie durch Ätzen in Bereichen entfernt, in der ausgesparte Abschnitte auszubilden sind. Hierbei werden die den Durchgangslöchern41 entsprechenden ausgesparten Abschnitte, auf denen die Elektroden muster42 liegen, hergestellt. Dann werden die ausgesparten Abschnitte dadurch ausgebildet, dass ein Laserlichtstrahl auf die Bereiche gestrahlt wird, in denen die ausgesparten Abschnitte auszubilden sind un von denen die Kupferfolie entfernt wurde. In diesem Fall wird hinsichtlich der Abschnitte, in denen die Kupferfolie verblieben ist, dieselbe selbst dann nicht beseitigt, wenn der Laserlichtstrahl eingestrahlt wird. Demgemäss wird hinsichtlich der Bereiche, in denen ausgesparte Abschnitte auszubilden sind und von denen die Kupferfolie entfernt wurde, n die Leiterplatte durch die Einstrahlung des Laserlichtstrahls zersetzt, wodurch die ausgesparten Abschnitte leicht geschaffen werden können. - Danach werden die gesamte Oberseite und die Unterseite des zweiseitigen Substrats, die die Innenwände der ausgesparten Abschnitte enthalten, einem Kupferplattierungsprozess in solcher Weise unterzogen, dass die Plattierungsschichten (Metallschicht auf der gesamten Ober- und Unterseite des zweiseitigen Substrats ausgebildet werden. Ferner werden die auf der Ober- und der Unterseite des zweiseitigen Substrats ausgebildeten Plattierungsschichten Musterungsprozessen hinsichtlich jedes ausgesparten Abschnitts unterzogen. Die Struktur, wie sie in
9(c) veranschaulicht ist, wird dadurch erhalten, dass ferner Plattierungsprozesse mit Nickel und Gold auf den vorstehend angegebenen Flächen angewandt werden. - Zusätzlich können die Durchgangslöcher
41 durch einen Ätzprozess anstatt durch das Einstrahlen eines Laserlichtstrahls hergestellt werden. -
10(a) ist eine schematische Draufsicht, die Fixierpositionen auf dem in9(c) dargestellten Isoliersubstrat47 angeben, an denen die LED-Chips44 zu befestigen sind;10(b) ist eine Schnittansicht entlang der C-C in10(a) . - Im durch
9(c) veranschaulichten Zustand des isolierenden Substrats47 überbrückt der LED-Chip44 die in X-Richtung benachbarten Elektrodenmuster42 , wie es durch Linien mit abwechselnd einem langen und zwei kurzen Strichen in10(a) und10(b) dargestellt ist. - Danach werden die Elektrodenmuster
42 mit dem überbrückenden LED-Chip44 unter Verwendung des leitenden Klebemittels45 mit der n-seitigen Elektrode44d und der p-seitigen Elektrode44e verbunden, so dass sie in leitender Verbindung miteinander gehalten werden. - Danach wird, wie es in
11(a) veranschaulicht ist, eine Lage46a aus einem lichtdurchlässigen Harz auf die Oberfläche des isolierenden Substrats47 aufgelegt und im Vakuum unter Wärmeeinwirkung angedrückt. So werden die LED-Chips44 durch das lichtdurchlässige Harz46 abgedichtet, wie es in11(b) veranschaulicht ist. - In diesem Fall sind die im isolierenden Substrat
47 vorhandenen Durchgangslöcher41 mit den Elektrodenmustern42 bedeckt. Daher ist es möglich, zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Harz46 im geschmolzenen Zustand in die jeweiligen Durchgangslöcher41 fliesst und zur Bodenseite des isolierenden Substrats47 herunterrinnt. - Daher ist es dann, wenn das lichtdurchlässige Harz
46 im geschmolzenen Zustand auf das isolierende Substrat47 gedrückt wird, nur erforderlich, ein metallisches Formwerkzeug, eine Spanneinrichtung oder andere Teile, die dazu verwendet werden zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Harz46 in geschmolzenem Zustand entlang den Seitenflächen des isolierenden Substrats47 zur Unterseite herunterrinnt, um die Umfangskante des isolierenden Substrats47 herum anzuordnen. - Anders gesagt, ist es nicht erforderlich, Spanneinrichtungen oder andere Teile um die Kanten der Durchgangslöcher
41 im isolierenden Substrat47 herum anzuordnen, um zu verhindern, dass das lichtdurchlässige Harz46 im geschmolzenen Zustand in die Durchgangslöcher41 fliesst. Dies beseitigt auch das Erfordernis, Bereiche um die jeweiligen Durchgangslöcher41 herum bereitzustellen, an denen die Spanneinrichtungen angreifen können. Im Ergebnis kann der Abdichtungsprozess unter Verwendung des lichtdurchlässigen Harzes46 leicht ausgeführt werden. Ferner ist es möglich, den Gesamtaufbau des lichtdurchlässigen Bauelements40 zu miniaturisieren. - Wie vorstehend beschrieben, hat das lichtemittierende Bauelement
40 gemäss dem vorliegenden Ausführungsbeispiel keine Anordnung, bei der die Elektrodenmuster42 von der Oberseite des isolierenden Substrats47 durch die Innenflächen der Durchgangslöcher41 zur Bodenseite des isolierenden Substrats47 heruntergebogen wären, sondern Abschnitte, die Elektrodenanschlüsse werden, werden an der Unterseite des isolierenden Substrats47 dadurch ausgebildet, dass dort ein Plattierungsprozess ausgeführt wird. Dies ermöglicht es, die lichtemittierenden Bauelemente einfacher herzustellen. - Nachdem das lichtdurchlässige Harz
46 ausgehärtet ist, um die jeweiligen LED-Chips44 auf dem isolierenden Substrat47 abzudichten, werden dieses isolierende Substrat47 und das lichtdurchlässige Harz46 trennenden Schnitten entlang Trennungslinien49a unterzogen, die durch die Mitten der in Y-Richtung angeordneten Durchgangslöcher41 gehen, wie es in10(a) und10(b) veranschaulicht ist. Das isolierende Substrat47 und das lichtdurchlässige Harz46 werden trennenden Schnitten entlang Trennlinien49b unterzogen, die sich in X-Richtung zwischen den in Y-Richtung angeordneten Elektrodenmustern42 erstrecken. Demgemäss kann, wie es in11(c) veranschaulicht ist, eine Anzahl an lichtemittierenden Bauelementen40 , wie in8 dargestellt, mit jeweils einem LED-Chip44 hergestellt werden. -
8(b) zeigt ein Beispiel für die Abmessungen eines lichtemittierenden Bauelements40 , das wie vorstehend beschrieben hergestellt wurde. Beim lichtemittierenden Bauteil40 des vorliegenden Ausführungsbeispiels wurde ein quadratischer LED-Chip44 mit einer Seitenlänge von 300 μm verwendet. In diesem Fall betrug die Dicke des isolierenden Substrats47 , jedes Elektrodenmusters42 und jeder Metallschicht43 100 μm, die Dicke des LED-Chips44 betrug 300 μm und die Dicke des lichtemittierenden, den LED-Chip44 bedeckenden Harzes46 betrug 100 μm. Daher war die minimal erforderliche Dicke für das lichtemittierende Bauelement40 500 μm. - Darüber hinaus betrug im LED-Chip
44 die Länge der n-seitigen Halbleiterschicht44a und der p-seitigen Halbleiterschicht44b in Stapelrichtung 300 μm m, und die Längen, die dazu erforderlich waren, die Elektrodenmuster42 elektrisch mit der n-seitigen Elektrode44d und der p-seitigen Elektrode44e über das leitende Verbindungsmittel45 zu verbinden, betrugen jeweils 350 μm. Daher betrug die Abmessung des lichtemittierenden Bauelements40 in der X-Richtung 1000 μm (1,0 mm), was die minimal erforderliche Abmessung ist. - Ausserdem können auch beim lichtemittierenden Bauelement
40 des vorliegenden Ausführungsbeispiels mehrere LED-Chips44 auf einem isolierenden Substrat47 angebracht sein. Ferner kann auch beim lichtemittierenden Bauelement40 des vorliegenden Ausführungsbeispiels das lichtdurchlässige Harz46 , das auf dem isolierenden Substrat47 anzubringen ist, in seinen Abschnitten, die jeweiligen LED-Chips44 entsprechen, mit verschiedenen Linsenformen ausgebildet werden, auf dieselbe Weise wie bei den vorstehenden Ausführungsbeispielen.
Claims (14)
- Lichtemittierendes Bauelement (
10 ) umfassend: – ein isolierendes Substrat (17 ), in welchem eine erste und eine zweite Aussparung (11' ) auf dessen beiden Seitenflächen ausgebildet sind, wobei sich die erste und die zweite Aussparung (11' ) von den Seitenflächen zur Mitte des isolierenden Substrats (17 ) erstrecken; – einen LED-Chip (14 ) mit einer p-seitigen Halbleiterschicht (14b ) und einer n-seitigen Halbleiterschicht (14a ), die an einem p-n-Übergang zusammengefügt sind, und der zwischen der ersten und der zweiten Aussparung (11' ) angeordnet ist; – eine erste Elektrode (12 ), die in der ersten Aussparung (11' ) ausgebildet und mit der p-seitigen Halbleiterschicht (14b ) verbunden ist, um an der Unterseite des isolierenden Substrats (17 ) elektrische Verbindungen herzustellen; – eine zweite Elektrode (12 ), die in der zweiten Aussparung (11' ) getrennt von der ersten Elektrode (12 ) ausgebildet und mit der n-seitigen Halbleiterschicht (14a ) verbunden ist, um elektrische Verbindungen an der Unterseite des isolierenden Substrats (17 ) herzustellen; und – ein lichtdurchlässiges Harz (16 ) zum Einkapseln des LED-Chips; dadurch gekennzeichnet, dass – die erste und die zweite Aussparung (11' ) mit einem leitenden Mittel (13 ) gefüllt sind, das als Abdichtungsglied dient und nach dem Verlöten des lichtemittierenden Bauelements (10 ) auf einem Basissubstrat auch als Elektrodenanschluß verwendet ist. - Lichtemittierendes Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass eine Fläche (
14c ) mit dem pn-Übergang zwischen der p-seitigen Halbleiterschicht (14b ) und der n-seitigen Halbleiterschicht (14a ) so ausgerichtet ist, dass sie nichtparallel zum isolierenden Substrat (17 ) verläuft. - Lichtemittierendes Bauelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der LED-Chip (
14 ) so zwischen den Elektroden (12 ) auf dem isolierenden Substrat (17 ) angeordnet ist, dass eine Fläche (14c ) mit dem pn-Übergang rechtwinklig zum isolierenden Substrat (17 ) verläuft. - Lichtemittierendes Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Halbleiterschichten (
14a ;14b ) und die jeweiligen Elektroden (12 ) über ein leitendes Verbindungsmittel (15 ) miteinander verbunden sind. - Lichtemittierendes Bauelement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das leitende Verbindungsmittel (
15 ) eine aus Silberpaste und Kupferpaste ausgewählte leitende Paste ist. - Lichtemittierendes Bauelement nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der LED-Chip (
14 ) die erste und die zweite Elektrode (12 ) überbrückt. - Lichtemittierendes Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sich jede Elektrode (
12 ) so erstreckt, dass sie die Unterseite des isolierenden Substrats (17 ) durch die jeweilige Aussparung (11' ) ausgehend von der Oberseite des isolierenden Substrats (17 ) erreicht. - Lichtemittierendes Bauelement nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das lichtdurchlässige Harz (
16 ) in einem Abschnitt, der dem LED-Chip (14 ) zugeordnet ist, linsenförmig ausgebildet ist. - Herstellverfahren für ein lichtemittierendes Bauelement, umfassend die folgenden Schritte: – Herstellen mehrerer Durchgangslöcher (
11 ) in einem isolierenden Substrat (17 ); – Herstellen einer ersten Elektrode (12 ) und einer zweiten Elektrode (12 ) zwischen benachbarten Durchgangslöchern (11 ) auf solche Weise, dass sie voneinander getrennt sind; – Anordnen eines LED-Chips (14 ) zwischen benachbarten Durchgangslöchern (11 ), wobei der LED-Chip (14 ) eine p-seitige Halbleiterschicht (14b ) und eine n-seitige Halbleiterschicht (14a ) aufweist, die an einem pn-Übergang miteinander in Verbindung stehen; – elektrisches Verbinden der p-seitigen Halbleiterschicht (14b ) und der ersten Elektrode (12 ), während die n-seitige Halbleiterschicht (14a ) und die zweite Elektrode (12 ) elektrisch miteinander verbunden werden; – Füllen der Durchgangslöcher (11 ) mit einem leitenden Mittel (13 ); – Bedecken des isolierenden Substrats (17 ) mit einem lichtdurchlässigen Harz (16 ) in solcher Weise, dass die LED-Chips (14 ) auf dem isolierenden Substrat (17 ) eingekapselt sind; und – Durchtrennen des mit dem lichtdurchlässigen Harz (16 ) bedeckten isolierenden Substrats (17 ) entlang einer Schnittlinie, die durch das Durchgangsloch (11 ) verläuft, und Zerschneiden des isolierenden Substrats (17 ) in solche Stücke, die jeweils mindestens einen LED-Chip (14 ) enthalten. - Herstellverfahren nach Anspruch 9, gekennzeichnet durch das Herstellen der Durchgangslöcher (
11 ) in einer Matrixanordnung. - Herstellverfahren nach Anspruch 9 oder 10, gekennzeichnet durch das Einstellen einer Fläche mit dem pn-Übergang in solcher Weise, dass sie rechtwinklig zum isolierenden Substrat (
17 ) verläuft. - Herstellverfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, gekennzeichnet durch das Ausbilden der Durchgangslöcher (
11 ) in vier Ecken einer Anbringungsposition für mindestens einen LED-Chip (14 ) auf solche Weise, dass der LED-Chip (14 ) von den Durchgangslöchern (11 ) umgeben ist. - Herstellverfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12, gekennzeichnet durch das Ausbilden der ersten und der zweiten Elektrode (
12 ) in solcher Weise, dass jede Elektrode (12 ) die Innenfläche des Durchgangslochs (11 ) und die Oberseite des Substrats (17 ) bedeckt, wobei die Elektroden (12 ) hinsichtlich jedes Durchgangslochs (11 ) voneinander getrennt sind. - Herstellverfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass beim elektrischen Verbinden die Halbleiterschichten (
14a ,14b ) mit den Elektroden (12 ) jeweils durch ein leitendes Verbindungsmittel (15 ) gebondet werden.
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---|---|---|---|
JP6-302329 | 1994-12-06 | ||
JP30232994 | 1994-12-06 | ||
JP7-142202 | 1995-06-08 | ||
JP07142202A JP3127195B2 (ja) | 1994-12-06 | 1995-06-08 | 発光デバイスおよびその製造方法 |
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DE19549726B4 true DE19549726B4 (de) | 2010-04-22 |
Family
ID=42035268
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8142 | Declaration for partition to be considered as not given as to paragraph 39 or 60 | ||
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8170 | Reinstatement of the former position | ||
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|
Q171 | Divided out to: |
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|
AC | Divided out of |
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|
AH | Division in |
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|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
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