DE1537265A1 - Verfahren zur Herstellung einer Anzahl einander angepasster Masken - Google Patents

Description

"Verfahren-zur Hersteilung einer Anzahl einander angepasster Maβken".

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Anzahl einander angepasster Basken, die aus «einem mit strahlungsundurchlässigen Teilen versehenen 91astr8ger bestehen und bei der Herstellung eines Bildwiedergabeschirme für eine Elektronenstrahlröhre zur Wiedergabe von Farbbildern verwendet werden, der mindesten» zwei in nahezu streifenf6rmigen Fllohen vorhandene bei Elektronenanrtfung in verschiedenen Farben aufleuchtende Stoffe enthalt, die durch nahezu streifenfSrmipe PlSehen eines bei Elektronenanregung nicht in eichtbaren Licht aufleuchtenden und lichtundurohlSssigen Stoffes und nahezu streifenförmig Flüchen, eines bei Elektronenanregung ein intJoxaignal abgebenden

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Stoffes getrennt είπα.

Die verschiedenen Flachen des Bildwiedergsbeschirme werden unter Verwendung eines lichtempfindlichen Bindemittels, hergestellt, da· ist tin Stoff, der sich nach Belichtung mit sogenannter "härtender Strahlung" nicht mehr in einem bestimmten I8eungemittel 16rt, wobei unter Verwendung einer Maske jeweils diejenigen Teile bestrahlt werden, auf denen der betreffende Stoff vorhanden »ein muss. Die gewünschte Verteilung der nahezu etreifenfSrmigen Flüchen erhllt man beispielsweise dadurch, daes eine punktfSrmige Strahlungsquelle verwendet und zwisohen dieser Quell« und der zu belichtenden Schicht eine Maske ait strahlung*-» lurchlSeaigen Teilen, durch welohe die'gewünschten Oberflächen belichtet werden, angeordnet wird. In diesem fall von Kontakt* oder Abblendbelicbt- ' ung wird die !iaske dicht am Träger des Iiehteepfindlichen Bindemittels

angeordnet. Dieser TrSger iat gewShnlich das Fenster der Elektronenstrahlröhre und die Form der Maske nuss dann mit der gekrümmten Innenfläche des Fensters Übereinstimmen. Eine andere Möglichkeit zur Erhaltung der gewünschten Verteilung besteht darin, dass eine beleuchtete, gewöhnlid ebene iiaeke mit Hilfe eines Linsensystem» auf der.zu belichtenden Schicht abgebildet wird.

Der Bildwiedergabeschirm der erwlhnten Art enthalt gewöhnlich drei bei Elektrcnenanregung in verschiedenen Farben, und zwar rot, grün und blau, aufleuchtende Stoffe. Die nahezu streifenförmig«» Fliehen des bei Elektronenanregung ein Index»ignal abgebenden Stoffes (die la weiter·«! einfach Inaexstreifen genannt werden), müssen die Lage eines Teils der Flächen des bei Slektrsnenaregung nicht in sichtbarem Lieht aufleuchtenden v.nd llchtundurchl^eeigen Stoffes (die im weiteren einfach Zwischenstreifen genannt werden), einnehmen. Darunter la folgendes zu verstehen.

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Der Bildwiederfabtscnirn enthalt eine metallische, elektronendurchlSssige Schiebt, dl« euf den Leuchtetreifen und den Zwischen*? tre if en vorhanden let, «rlhrend die Inderstreifen auf dierpr Metallschicht vorhanden sind, und die Indezetreifen befinden eich nun gerade an der anderen Seite der metallischen, elektronendurchlässigen Schicht als ein Teil der Zwischenetreifen. Hinsichtlich der Breit« der verschiedenen Streifen des BiIdwiederpabeschiras filt, das· jeder Leuehtptreifen den Haus zwischen ίβπ neben ihm liegenden ZwiecLenstreifen vSlli« auffüllen muss. Da hei der Herstellung des Bildwisdergabesctilrms zunSchet die Zwischenstreifen und danach die Leuchtetreifen angebracht werden, und die Zwischenstreifen kein Licht durchlassen, dürfen eich die Leuchtetreifen van Fenster her getsehen, auch teilweise hinter den Zwiachenctreifen erstrecken* Dies ceectieht in der Praxie auch mehr insbesondere zur Gewährleistung davon, decs der Zwlachenraua tstsSohlieh mit dec Leuchtetreifen aufgefüllt ist. leder Leuchtetreifen ist also vorzugsweise et«as breiter nie der betreffende Zwiachenrauo. Die Breite der Indexntreifen ist höchstens gleich der der Zwischenetreifes. leim die Indexstreifen breiter w3ren, kennte ier Hektronenstro· «inen Teil der Leuehtstreifen nicht oder wenigstens nioht Bit erreichender tnerfie erreicheu. Die Breite der Indexstrei^ren darf ««hl»geringer sein, wenn dafür geeckt wird, das genügend Stoff sua lree>Utfea de« gewOneehten Signals vorhanden ist.

Aof .Qrvmd d·· Bau· de» Bildwiedergabeechirms aüseen die %«i der Belichtung 4er verecJaiedenen Bindemittelschichten verwendeten Masken einander genau engepasst sein. Ix Zusammenhang mit der Elektronenoptik der *lektrcnenntrahlröhre, für die es meistens erwünscht ist, -lass die Leuchtstreifen an manchen Stellen nicht gerade, sondern einigeraassen gekrümmt sind und dass die Breite der LeucMstrei^pen nicht überall gleich

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ist, wa3 dann eelbotverstSndlich euch für die Zwiächenstreifen und die Tndexstreifen gilt, hat der Sildv.iederes'bescMrffl eine nicht so einfach· Streifenstruktur. Die einander änge"pas6ten ldasken müssen dann eine entsprechende verwickelte Struktur besitzen. '.VShrend der Belishtung müssen die Hasken weiter stits eine sehr definierte Lage gegenüber dem Fenster des etwaigen Linsensystem einnehmen. !Tun wird jedenfalls beim Anbringen des Leuchtstreifen und der Indexstreifen der betreffende Stoff gewöhnlich in einer Lösung des lichtempfindlichen Bindemitteis suspendiert. Diese Suspension wird auf dem Trlger,der in diesen FfIlan die Innenseite dee Fensters ist, auf dem die Zwiachenßtreifen und gegebenenfalls auch scLon Leuchtstreifen vorhanden sind, ausgebreitet, getrocknet und danach in der Beileitungsanordnung dem Einfluss der hKrtend en Strahlung unterworfen. Bei Massenfertigung kann es aus fertigungstechnischen SrwSgungen den Vorzug haben, für jeden anzubringenden Stoff eine gesonderte Belichtungsanordnung zu verwenden. Wird dann dafür gesorgt das· in jeder Belichtungsanordnung die Lage der Kaske gegenüber des Fenster und dem etwaigen Linsensystem gleich ist, dann werden dennoch sehr hohe Anforderungen in bezug auf die gegenseitige Anpassung der verschiedenen Masken gestellt, damit der Bildwiedergabeschirm tatsächlich den gewünschten Bau erhält. Die Erfindung schafft nun ein ziemlich einfaches Verfahren zur Herstellung derartiger einander angepasster Masken.

Nach der Erfindung wird für jede Maske zunächst unter Verwendung einer lichtempfindlichen Seticht in derselben Belichtungeanordnung ein aus einem TrSger mit εtrahlungsundurchlAasigen Teilen bestehendes Negativ hergestellt, wobei die Strahlung im Fall des Negative für diejenige Maske, die eich auf die nahezu streifenfinnigen Fliehen des bei Elektronenanregung nicht in sichtbarem Licht aufleuchtenden und

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lichtundurchlSssigerr Stoffes bezieht, durch eine Hilfsniaeke geht und wobei die Strahlung in den Fällen der Negative für die Masken, die sioh auf die nahezu streifenfSrmigen Flächen *Vr bei Elektronenanregung in verschiedenen Tarben aufleichtenden Stoffe und auf die nahezu streifeaförmigen Fliehen dea bei Elektronenanregung ein Indexeignal abgebenden Stoffes bestehen, jeweils durch«die teilweise abgedeckte Hilfsmaeke ■ geht, worauf von jedem der Negative unter Verwendung einer liebtempfindlichep Schicht eine Maske hergestellt wird. /

Des Abdecken der Hilfema«ke° wird in bezug auf die Ifegative der Ilasken für die LeuchtetreifeiÜ der Anzahl anzubringender Leuchtstoffe angepasst. Wenn drei sich auf Leuchtetreifen beziehende Masken hergestellt werden müssen, weil der Bildwiedergabeechirm drei Leuchtstoffe enthllt, dann werden bei der Herstellung der betreffenden Negative! jeweils twti von drei aufeinanderfolgenden etrahlunfedurchllasigen Teilen der Hilfsaaake abgedeckt. Dies kann beispielsweise mittels einer tuittsliehen Hilf Baaske erfolgen. In dieser zuslttliohen Hilfsoaeke brauchen die «trail· lungsdurchlSssigen Teile nicht mit grosser Genauigkeit angebracht zu werden, da es auereicht, daaa die sueltcliohe Maske derart aufgeführt ist, daas einerseits nur Strahlung durchgelassen wird die durch einen von drei aufeinander folgenden atrahlungsdurchllssigen Teilen der Hilfemaske geht und andererseits kein Teil dieser Strahlung gehemat wird. Ein entsprechender Gedankengang gilt selbstverständlich im Fall einer anderen Anzahl den Leuchtstoffen entsprechender Vaaken. Zum Abdecken der Hilf»maske in bezug auf daa Kegatlv der Maske für die Indexstreifen gilt ein Ihnlicher Gedankengang. In einem bestimmten Fall sind die Indexstreifen des Bildwiedergabeschirms abgeeehen von einem siemlich schmalen Streifen, der nahezu parallel zum Rand des wirksamen Bild-

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Wiedergabeschirms verläuft, an der Stelle jede« aweiten Zwischenatreifen· vorhanden. Diesem Umstand ist die bei der Herstellung de« betreffenden Negative verwendete zusätzliche-Hilfsmaeke angepasst« Auch hier brauohen an die zusätzliche Hilfemaske wieder keine hohen Qenauigkeitsanforderungtil gestellt zu werden.

Da die Indexstreifen im Bildwiedergabeschirm "die lagt tint· Teils der Zwischenstreifen einnehmen, kann die Hilfamagkt wlhrend der . J Belichtung für das negativ der Maske für die Indexstrelfen dieselbe Lagt gegenüber der zu belichtenden Platte und dem etwaigen Linsensystem einnehmen wie während der Belichtung für das Negativ der Maske für die . Zwischenstreifen. Im Bildwiedergabesohire befinden sioh die Leuohtstreif·^ in den ZwischenrSumen zwischen den Zwischenstreiftn und bei der Her- ' stellung des Bildwiedergabeschirms muss für Leuchtetreifen die hortende Strahlung also gerade Teile der Bindemittelschicht, die mindestens zwisohfü den bereits vorhandenen Zwischenstreifen auf dem Fenster vorhanden aihd, j härten. Dieses Problem kann in verschiedenen Weisen gelöat werden« Ea Istmöglich dies bei der Herstellung des Bildwiedergabeschirme in den Beiich-^f

■ I tungeanordnungen, die sich auf die Leuchtstoffe beziehen, durch Regelung der Lage des Fensters gegenüber der Maske durchzuführen. Dann brauchen

bei der Herstellung der Masken keine besonderen Maβ«nahmen getroffen zu >. , werden. Es ist auch möglich dies bei der Herstellung der Masken und dann '

entweder einerseits bei der Herstellung der betreffenden Negative oder Ίf

andererseits während des Schritte»,bei dem von einem Heget ir eine Maake j.

hergestellt wird, durchzuführen. Wenn die Anpassung bei der Herstellung i

der Negative erfolgt, kann dies noch in verschiedenen Weisen geschehen. I . Es ist möglich die Platte, auf der das Negativ gebildet wird, gegenüber der Hilfsmaske über einen Abstand, der dem Abstand ewiaohen der Mittt

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•ines Swiechenetreifena und der «ines benachbarten Zwischenraums entsprich^ su verschieben. Auch tat «s möglich dia Hilfamaaka über dieaen Abstand zu verschieben. Wenn die beleuchtete Hilfamaake mit Hilfe einea Lineenejateme abgebildet wird, ist es jedoch auch raöglich eine optlache Verschiebung zuatande eu bringen, bei der die Anordnung mcehaniaoh ungelndert bleibt, vas aelbatverattndllch bevorzugt" wird. Dazu wird eine planparallele Glaa- oder Quarzplatte verwendet, die bei der Belichtung für die Negative der Masken für die Zwiachenetreifen und die Indezatreifen parallel zur Hilfamaake steht, aber bei der Belichtung für die Negative der Masken für die Leuchtstreifen um einen kleinen Winkel ua eine Achse, parallel zur atrahlungedurohllaaigen Linie in der Mitte der Hilfamaake gedreht ist. Die Stärke der Platte und der Winkel über den dleee gedreht ist ,ist von der erwünschten Veraohlebung an der Stelle der Negative abhlngig. Vorzugsweise geht deawegen dl· Strahlung la allgemeinen bei der Heratellung der Negative iacaer durch eine planparallele Platte, die im Fall dee Negativs fOr die Maske, die eich auf die nahetu etreifenfSrmigen Fllohen dea bei Blektronenanregunf nicht in alohtbarem Lloht aufleuchtenden und lichtundurchllaalgen Stoff·· besieht, und Im Fall dea Negative für die Maske, dl« eich auf dl« naheiu atreifenfOrmigen Fliehen de· bei Elektronenanregung ein Indexeignal abgeb«mdeo Stoff·· besieat, dl· gleiche Lag« einnimmt und in den FIlien der !«gam· für dl« Maeken, dl· eic* auf . .} dl· na he tu etreifenfSnrtf** Fliehen der Wl tlektroneaajir«guag in v«r- .' eohiedenen Farben aufleuchtenden Stoffe bealeben, gegenüber jener Lag« um einen kleinen Winkel ua eine Achse parallel zur atrahlungadurchileeigen Linie in der Vitte der Hilfsroaske gedreht ist. VVenn die Anpaasung wKhrend dea Schrittes, bei dem von einem Negativ eine Xaeke hergestellt wird, erfolgt, dann ist es möglich, die Flatte, auf der die Maske gebildet wird,

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gegenüber dem Negativ Ober einen Abstand, der dem Abstand zwischen der Mitte eines Zwischenetreifens und der eines benachbarten Zwischenraum« im betreffenden Negativ entspricht, zu verschieben. Wenn des beleuchtet· Negativ mit Hilfe eines Linsensystems abgebildet wird, ist auch in diesem Fall eine optische Verschiebung unter Verwendung einer plenparallelen 01ββ- oder Quarzplatte mSglich.

Räch der Herstellung des Negativs der Maske für die Leuchtstreifen der ersten Farbe mues for die Herstellung der Negative der Masken für die folgenden Farben die Anordnung geändert werden, damit die atrahlungsdurchlSesigen Teile dieser IUβken gegenüber denen der Maske für die Leuchtstreifen der ersten Farbe verschoben sind. Dies kann dadurel erfolgen, dass die Platte, auf der. dieses Negativ gebildet wird, gegen-Cber der £ilfsmask,e und der tusltelichen Hilf «maske verschoben wird· Es wird Jedoch bevoreugt, die Lag« der Platte, auf der dieses Negativ gebildet wird, ungelndert tu lassen, weil dann bein nfchsten Schritt, bei dem von jedes; der Negativ· eine Mask· hergestellt wird, die Anordnung de» Negative in jedem dieser Fill· gegenüber der Lichtquelle und dir Platte, auf der die kaake gebildet wird, gleich «ein kenn. Ss gibt dann noch zwei KSgIIchkelten. Im einen Fall wird dl· ruelttliohe Hilfsmask· gegenüber der Hilfsmask· derart verschoben, dass dl· htrt«nd« Strahlung durch Teile der Eilfumaeke geht, die la vorigen Fall oder in den vorig·· FSllen von der rueStzlichen Hilfemaske abgedeckt waren. Ia ·η4·ι<·η Fall Ut für die Herstellung de» legatlvs für dl« Streifen jedes UtMb t· UfM eine gesonderte suslttliohe Hilfsmask· vorbanden.

In den obenbeechriebenen Flllen wird bei der Herstellung der Negative und der Masken inner dasselbe Belichtungeverfahren engewandt, una zwer entweder in beiden rillen ein sogenanntes negatives Verfahren oder ir. beiden Fallen ein pogenanntes positives Verfahren.

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Bei einem negativen Verfahren sind die belichteten Teile strahlungsduretiaesig. Di·»« ISest sich in verschiedener Weise verwirklichen und eir·ige Beispiele werden la nachstehenden erläutert. Im ersten ■Fall wird der TrSger mit einer photograph!sehen Schicht bedeckt, 4Je nach selektiver Belichtung in normaler Weise entwickelt wird. Auf den belichteten Teilen entstehen Eil'berkeime, die verstärkt werden und anwachsen. Im zweiten Fall wird der TrSger mit einer lichtempfindlichen Ne»jc<tiv-Lackschicht bedeckt, d.h. einen Lack,der bei Belichtung unlöslich wird, beispielsweise Polyvinylalkohol mit Bichromat oder Eiweias mit Bicbromat. Nach selektiver Belichtung und LSaung der unbelichteten Teile wird der belichtete Lack mit einem geeigneten Farbstoff angefürbt oder es werden pulverfSrmige dunkele Teilchen daran festgeklebt. Im dritten Fall wird auf den TrSger eine gut-haftende Metallaohicht aufgedampft, beispielsweise eine CbrosH- oder eine Chroenickelschicht. Vorzugsweise wird der TrSger be int Aufdampfen erhitgt, Di« Metallechicht wird mit einer lichtempfindlichen Negatir-Lackachioht bedeokt. fach selektiver Belichtung und LSeung der unbelichteten Tail· wird daa freigekommene Metall weggeätzt. Im vierten Fall wird entweder der TrSger «it einer lichtempfindlichen Positiv-Laokschioht bedeokt, d.h. «in·· Lack, der bei Belichtung löslich wird, beiepieleweiee "Kalla-P'-Laok, dj,· selektiv belichtet wird, wonach die belichteten Teil· weggewaechen werden, oder der TrIger wird mit einer photographischen Schicht bedeckt, die nach selektiver Belichtung einer Umkehrentwicklung unterworfen wird, wobei das nach der Entwicklung gebildete Silberbild gelßet wird, und die restlichen Teile der photographischen Schicht danach nachbellchtet und entwickelt werden. In dieser Weiee wird ein teilweise bedeckter Triger er^lten, auf den Metall bei-8piel»weine Chrom oder Chromnickel aufgedampft wird. Das Metall haftet

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besser am Träger selber als am restlichen Lack oder an der photographischen Schicht. Der noch vorhandene Lack oder dl· noch vorhanden· photographieche Schicht wird mittels einer, dazu geeigneten lösungsmittel· entfernt, wodurch auch das darauf vorhandene Metall entfernt wird.

Bei einem positiven Verfahren sind die unbelichteten Teile strahlungsundurchläesig. Genau genommen kann das durch ein derartiges Verfahren erhaltene Erzeugnis nicht als ein "Negativ" bezeichnet «erden. Der Einfachheit h&lber ist in der Beschreibung und in den Ansprüchen der Gegenstand, der ausgehend vonder, gegebenenfalls teilweise abgedeckten, Hilfemasice hergestellt wird, und von dem bei der Herstellung der Maske ausgegangen, wird, dennoch stets das Negativ genannt. Diesem Begriff muss ! also eine weitere Bedeutung gegeben werden als mit der eigentlichen Bedeutung übereinstimmt. Ein positives Verfahren lässt sich ebenfalls in verschiedener Weise verwirklichen und einige Beispiels werden im untenstehenden erläutert. Im ersten Fall wird der TrSger mit einer photo-· graphischen Schicht bedeckt, auf die nach selektiver Belichtung eine Umekehrentwicklung angwandt wird. Dabei wird das nach der Entwicklung gebildete Silberbild gelöst und die restlichen Teile der photograph!βoben Schicht werden nachbelichtet und entwickelt. Im zweiten Fall wird der TrSger mit einer lichtempfindlichen Positiv-Lackechicht bedeckt, d.h.,

einem Lack, der bei Belichtung loslich wird, in einem bestimmten Lösungsmittel, in dem der unbelichtete Lack unlöslich ist beispielsweise "Kalle P"~Lack. Nach selektiver Belichtung und Lflsung der belichteten ' TJiIe wird der unbelichtete Lack mit einem geeigneten Farbstoff angefärbt oder es werden pulverförmig· dunkele Teilchen daran festgeklebt. Im | dritten Fall wird auf den Träger eine gut^haftend· Metalleeliicht aufgedampft, beispielsweise eine Chrom- oder eine Chromnickelschicht,

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Vorzugsweise wird der Träger beim Aufdenpfen erhitzt. Die Metallschicht Wird mit einer lichtempfindlichen Positiv-LackBchicht bedeckt. Nach selektiver Belichtung und Lösung, der belichteten Teile wird das freigekommene Metall weggeMtat» Im vierten Fall wird entweder der Träger mit einer lichtempfindlichen Negativ-Lackschicht (beispielsweise Polyvinylalkohol mit Bichromat oder Siweiss mit Bichromat) bedeckt,die selektiv belichtet wird, wonech die unbelichteten Teile weggewaechen werden, oder der TrSger wird mit einer photographischen Schicht bedeckt, die nach selektiver Belichtung in normaler -A'eise entwickelt wird. In dieser 7/eiae wird ein teilweise bedeckter Träger erhalten, auf den i.'e-ta31, beispielsweise Chrom oder Chromnickel aufgedampt wird. Das "e+all haftet besser am TrSger selber als am restlichen Lack oder an der phctographischen Schicht. Der noch vorhandene Lack oder die noch vorhandene photographische Schicht wird mit einem dazu geeigneten Lösungsmittel entfernt, wodurch auch darf darauf vorhandene Metall entfernt wird.

Im ellgemeinen sind negative una I'asken mit aus Chrom eier Chromnickel bestehenden strahlungsundurchlSssigen Teilen günstig, weil sie dann nicht so verletzbar sind, und leicht gereinigt werden können. Diep iet selbstverständlich insbesondere von Belang für Kaeken, da diese bei der Herstellung einer groeeen Anzahl Bildwiedergabeschirme verwendet werden

Uadurch, daes bei der Herstellung der Kega ive und der Kaeken nicht immerhin negatives Verfahren oder immer ein positive« Verfahren angewandt wird, kann in einer besonderen Weise für den erwähnten Umstand gesorgt werden, daee die Kaeken derart aneinander angepasst sein n.Uesen, daea bei der Herstellung des Bildwiedergabeschirms die hortende Strahlung für die Leuchtstreifen Teil« der BindemittelscLicht härtet, die mindestens zwischen den bereits vorhandenen Zwischenstreifen auf dem Fenster vcrh&nden

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sind. Dies wird im weiteren nSher erläutert. Bei der Herstellung der Kaske für die Zwiscbehstreifen wird entweder das Negativ nach einen negativen Verfahren hergestellt und danach die L'.aeken nach «inen positiven Verfahren, oder das Negativ nach eine« positiven Verfahren und dann die Maske nach einem negativen Verfahren hergestellt. Die strahlung» dur chi Masigen Teile der Itaake entsprechen in dieser Weise den strahlungsundurchlSeeigen Teilen der Hilfamaake. Bei der Herstellung der Uaaken für die Leuohtatreifen werden daa Negativ und die Maske Jeweila entweder nach einem negativen Verfahren oder nach einen positiven Verfahren hergestellt. Die strahlungsdurchlIssigen Teil« dieeer »aken entapreohen in dieeer Weise den strahlungedurohlllaigeß Teilen der Hilfsnake, ao daaa die gewünschte Verschiebung verwirklicht ist. line besondere Torkehrung muss noch getroffen werden bei der Herstellung der Maske für die Indezstreifen, deren strshlungsdurchllaslge Teil« alt den strahlung»« d'urchlSasigen Teilen der Maake für die Zwiachenetreifen und in diese« Fall also mit strahlungeundurchliatigen Teilen dtr Hilfaeaske übereinet ium· n müssen« Bei der Herstellung dea Iegative findet sweimal selektiv· Belichtung statt. Daa erate Mal geht die Strahlung durch die nicht abgedeckte üilfemaeke und das sweite Mal geht die Strahlung durch dia mit der betreffenden zusätzlichen Hilfsmaske abgedeckte Hilfemaske und zugleich durch eine planparallele 01a·- oder Quereplatte, die derart angeordnet ist, dass eine optische Verschiebung Ober einen Abstand, der dem Abstand zwischen der Ii it te eines noch unbelichteten Teils de· Negativs und der eines angrenzenden bereits belichteten Teils des Negativs gleich ist, erhalten wird. Bei der «weiten Belichtung wird in dieser Weise ein Teil der noch unbelichteten Teile abhängig von der Form der zusätzlichen HilfMnaske belichtet. Wie bereits im obenetehenden

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bemerkt wurde, brauchen in der zusätzlichen Hilfemaske die strahlungsdurchlSerigen Teile nicht rait grosser Genauigkeit angebracht zu werden, da es eusreicht, dass einerseits nur Strahlung durchgelassen wird, die bestimmte straLlungsdurchl??3sige Teile der Hilfemaske passiert, und andererseits kein Teil dieser Strahlung gehemmt wird. Auch für die mit Hilfe der planparnllelen Glas- oder Quarzplatte erhaltene optische Verschiebung ist in diesem Fall keine grosse Genauigkeit erforderlich, wofür ein entsprechender Gedankengang gilt.

Wenn das Negativ nach einem negativen Verfahren hergestellt wird, wird vom Negativ unter Anwendung eines positiven Verfahrens eine ?iaske hergestellt. Wird das Negativ nach einem positiven Verfahren hergestellt, dann wirf vom Negativ unter Anwendung eines negativen Verfahrens eine Vaske hergestellt. Insbesondere werden deswegen bei der Herstellung des Negativs für die Maske, die sich auf die nahezu streifenfSrmigen Flächen des bei Elektronenanregung nicht in sichtbarem Licht aufleiohtenden und lichtundurohlSssigen Stoffes bezieht, und bei der Herstellung dieser i'aeke derartigt phot©empfindliche Schichten verwendet, das« die strahlungedurchlSesigen Teil· der Kaske Kit strehlungeundurehHesigen Teilen der Hi 1 fsmaske. übereinstimmen, werden bei der Herstellung der Negative für die Basken, die eiah auf die nahezu artreifenfCnaigen Flächen der bei Blektronenanregung in verschiedenen Farben aufleuchtenden Stoff· beziehen, und bei der Herstellung dieser Masken derartig« photoeepfindllofa·. Schichten verwendet, d*«s dl· »tr*hlung*durohllseigen Teil« der Vasken mit strahXungsdurchllssigen Teilen der Hilfsmaeke tlbereinctlnaen, und deswegen wird bei der Herstellung dee Negativs für die Maske, die eich auf die nahezu etreifenförmigen FlSchen des bei Elektronenanregung ein abgebenden Stoffes bezieht, die photoempfindliche Schicht

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zweimal belichtet und die Strahlung geht das eratt Mal durch-die nicht

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abgedeckte Hilfsmaake und da· sw»it· Kai durch die ,teilweit· abgedeckt· ι Hilfsmaske,dies und jenes derart," dass die unbelichteten Teile dee ' Negative mit einem Teil der strahlungsundurchllseigen Tail· der Hilfamaeke übereinstimmen, während bei der Herstellung dea Negativ» und der Maake derartige photoempfindliche Schichten verwendet werden» da·· die strahlungsdurchläsaigen Teile der Maske mit den unbelichteten feilen dea

W Negativs übersinstii&aen· ■

Vorzugsweise aind die Negative gekrüant und zwar in gleicher Weise wie das Fenster der Elektronenstrahlröhre und die strahlungsundurchlässigen Teile befinden sich an derselben Seite wie die spSter auf das Fenster aufzutragenden Streifen. Beim Abbilden von plan auf hohl/ konvex oder von hfchl/konvex auf plan wird vorzugsweise ein speziell daran angepasstes Linsensystem verwendet.

Da sibh die Leuchtstreifen im Bildwiedergabeaohirm teilweise hinter den Zwischenstreifen befinden dürfen und sich auch meistens befinde;

k werden, sind einerseits die strahlungsdurchlSaaigen feile der Maske, die bei der Auftragung-der Zwischenstreifen verwendet wird, beatiaswnd für die Lage, die For» und die Breite der Zwischenstreifen und andererseits aind die strahlungsundurchlSasigen Teile dieser Ksske bestimmend für die Lage, die Fora und die Breite der Bit dem Fenster der HektronenetrahlrShre in Berührung stehenden Teile der Leuohtstreifen. Dies nuss j^: bei der Herstellung der Masken beröoksichtift werden. Di· Breite der gehärteten Teile jeder der Bindenittelschiohten bei der Verwendung der Masken wShrend der Herstellung eines BildwiedergabesohiraiB wird ausser durch die βtrahlungsdurchlKeeigen Teile der Maske auch durch die Art und Weise, wie der aufzutragende Stoff angebracht wird, bestimmt, nlmlich

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'9% dieser lit einer LSautlf das lichtempfindlichen Bindemittels suspendiert wird oder ob nur die §ltod«mitteleohioht 'belichtet und der aufzutragende $töff itsjii»·* aplter»n Stufe an die klebrig gewordenen Teile geheftet wird, und» wenn euch "in geringerem liaeee, duroh die Belichtungszeit« . Felle der aufzutragende Stoff In einer Lösung dee lichtempfindlichen Bindemittele euependiert wird, verursachen die Teilchen dieeee Stoffes eine gewleee Streuung der hirtenden Strahlung» was sur folge hat, dass der gehärtete Teil der Bindaeittalsohicht verbreitert wird im Vergleich su de» Fall, dass dir Stoff nicht in der Lösung suspendiert ist. Der Einfluss der B«lichtuftf«*eit i»t gröeeer, wenn die beleuchtete Mafcke mit Hilfe •ine· Lin«»nejp»t·»· «uf dir su belichtenden Schicht dee hersuetellenden Biltiwi«dergebeeohir«e abgebildet wird, al« wenn in der Anordnung die Maske nahe bei der Bittdeoittelechicht liegt. Wenn die beleuchtete Maske mit Hilfe tinea Linaenejreteme auf der su belichtenden Schicht abgebildet wird und wann die atrahlungedurchliaeigen Teile der lCaske ebeneobreit sind wie die etrahlungaundurohilaeigen Teil·, denn sind, felle der aufzutragende Stoff in der LSeung dee lichtempfindlichen Bindemittels suspendiert let, dia belichteten Teile dar Bindemittelaohicht !ferner breiter als die unbelichteten Teilet um wieviel breiter, hBngt von der Belichtungszeit ab. Falle der aufzutragende Stoff picht in der Lßeung suspendiert ist, sind die belichteten Teile dar Bindenittelechlcht gewöhnlich etwas breiter el· die unbelichteten Teile| durch die Wahl der Bellchtungeseit können sie auch gleich breit aein und eventuell sogar etwas «challer. Das Bindemittel wird an den belichteten Stallen unlöslich, aber es wird, wenn die Belichtung wenigstens nicht aulange fortgesetzt wird, etwas klebrig, sobald <*s mit einem Lösungsmittel benetzt wird. Ifues zur Erhaltung der gewünschten Breite denn noch eine längere Belichtungszeit angewandt werden, so ist

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•int dickere Bihdemittelschicht zu verwenden. Diese Irwigungen, die bei , Hereteilung des Bildwiedergabeschirms, bei dem die MaβWen nach de» ' ·

et€indubg8gemgs8sn Verfahren hergestellt werden, verwendet werden, mOeeen bei der Herstellu»! der Masken berücksichtig* werden, was U.a. ie yerhli*t4· zwischen den Breiten der etrahlungsdurchllisigen felle und der etrahlungsunduröaifceeigen Teile der Hilfsmaske «um Auedruok gelangen kann·

Das Verfahren wird nun an Hand der in der Zeichnung in Schnitt schematisch und nichtnaesstlblich dargestellten BeliOhtuügsanordnungen als Beispiel beschrieben, in der eich

Fig. 1 auf die Herstellung des Kegative für die Zwieohen- " \

streifen, . "

Fig. 2 auf die Herstellung des negative für die Streifen des

ersten Leuchtstoffes,

Fig. 3 auf die Herstellung des Negative fQr die Streifen dee «

zweiten Leuchtetoffee,

Fig. .4 auf die Herstellung des Negativs fOr die Indeietreifem» Fig. 3 auf die Herstellung der Maske für die Ewieohenetreifettg

Fig. 6 ebenfalls auf die Herstellung der Maske für die Zwischenstreifen besieht,

Fig. 7a einen Zusammenhang in bezug auf die Maeke für die Zwischen»treifen darstellt, . .

Fig. 7b einen anderen Zusammenhang in bezug auf die Maske für die Zwiechenstreifen darstellt,

Fig. 8a einen Zusammenhang, in bezug auf die Maske für die Phoephoretreifen darstellt, ,

Fig. 8b einen anderen Zusammenhang in bezug auf die Maske für die Phoephoretreifen darstellt,

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Fig· 9* ·1η·η Zusammenhang in bezug auf di· Maske für dit Indexstre'ifen darstellt und

Fig. 9* tintn anderen Zusammenhang in bezug auf die Ma β ice für die Indexatreifen darstellt» -

In Fig. 1 iat 1 ein Teil einer gebogenen Glasplatte, 2 eine ebene Hilfsmaske, die durch eine nicht dargestellte Strahlungsquelle beleuchtet wird, 3 ein schematisch dargestelltes Linsensystem, mit dessen Hilfe die beleuchtet· Maske auf der zubelichtenden Schicht auf der Glasplatte abgebildet wird, und 4 eine planparallele Glasplatte mit einer Stärke von 1 em, welche die Strahlung durchliest. Sie der Linse zugewandte Fliehe der Glasplatte 1 entspricht nahezu der Fläche des Fensters der Elektronenstrahlröhre, auf das der Bildwiedergabeschirm aufgetragen wird. Da die beleuchtete ebene Hilfsmaske 2 auf der zu belichtenden Schicht auf der gekrümmten Glasplatte 1 abgebildet wird, muss das Linsensystem 3 vorzugsweise Sonderanforderungen entsprechen. Die Hilfsmaske besteht aus einer Glasplatte 5 mit darauf nahezu streifenförmigen Flächen 11, 13, 15,'17, 19, 21, 23, 25, 27, 29 und 31, welche die Strahlung nicht durchlassen. Diese haben in der Mitte der Hilfsmaske eine Breite von etwas mehr als 37 H^m· Bei der Abbildung fungieren die strahlungsdurchlSssigen Teil· 12, 14, 16, 18, 20, 22, 24, 26, 28 'und 30, die. in der Mitte der Hilfsmaske eine Breite von etwas weniger als 37 μ» aufweisen, als Objekt. Die der Linse sugewandte Seite der Glasplatte 1 ist mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen, die gemSss der in Fig. 1 dargestellte« Anordnung belichtet wird, wobei die nicht dargestellte Strahlungsquelle, die Hilfsmaske 2 und das Linsensystem 3 fest in bezug aufeinander angeordnet sind und die Platte 1 eine genaue Lage gegenüber diesen einnimmt. Von der lichtempfindlichen Schicht ist einfachheitshalber nur das aus den

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Teilen 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49 und 50 b«st«h«nd«.g«fonBt· ; Bild dargestellt. Ss dürfte einleuchten, da·· die Platte 1 alt dieaen : Teilen Jedoch erst nach der Entwicklung der teilweise belichteten ßcbioht entsteht, wobei diese Bearbeitung selbetverstlndlich ausserhalb der Beliohtungsanprdnung geschieht, so dass eigentlichdi« Figurnioht «ine; Stufe während des Verfahrens darstellt· Die Strahlung geht durch die plan* parallele Glasplatte 4, die parallel zur Hilfsmaake 2 angeordnet 1st* Optisch ist die Anordnung derart eingerichtet, dass ein« Vergrößerung yon ~°r auftritt. In dem auf diese Weise gebildeten Negativ 9 für die Zwischenstreifen lassen die Teile 41 bis einschlieeelich 50 diejenige Strahlung nioht durch, die später bei der Herstellung der betreffenden Maske mit Hilfe dieses Negativs verwendet wird. Die Teile 41 bis einscblitaelicb 50 haben in der Mitte des Negativs eine Breite yon etwas weniger als 200 μα, wahrend die zwisohellegenden .unbedeoktenTeile 51, 52, 53, 54, 55, 56, 57, 58 und 59 an dieser Stelle eine Ireite von etwa· sehr als 200 μα aufweiset In Fig. 2 ist 65 ein Teil einer fekrüanten. Glasplatte, f die gegenüber der nioht dargestellten Strahlungsquelle, der Hilfemaske 2 , und dem Linsensystem 3 dieselbe genaue Lag« wie die Glasplatt· 1 in Fig* % einniant, wShrend zugleich dl« der Linse auge wandte Fl I oh« naa«su dl« ·'' gleiche ist. Die der Linsen zugewandte Seite de* 01aaplatte 65 ist alt einer lichtempfindlichen Sohicht veraehen, dl« gemlss-der in Fig. 2 dargestellten Anordnung belichtet wird* linfachbeitahalber lsi von der licht-i empfindlichen Schicht nur das aus den Teilen' 66, 67, 68 und 69 bestehend« geformte Bild dargestellt. An der der nioht dargeetellten Strahlungsquell· zugewandten Seite der Hilf«maske 2 ist eine zusätzliche Hilfsmaske 6 an-f\ · gebracht. Die zusätzlich« Hilfsmaske 6 besteht aua einer Glasplatte 60 mit darauf nahezu etreifenfSrmigen Fliehen 61, 62, 63 und 64, welch« dl«

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'f - i¹ s

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nicht durchlaeeen. Di· Flüche 61 sorgt dafür, dass di· Strahlung ftMhluntedurohlieeigtn Teil· 12 und 14 der Hilfemaeke 2 nicht

kann» da· gleiche gilt für die FlSche 62 gegenüber den Teilen

... ίβ UÜ4 ßO, für dl« Plict· 63 gegenüber den Teilen 24 und 26 und für die

64 gegenüber dem Teil 30. Andererseits läset die zueMtzliche Hilfei 6 die Strahlung, »elohe auf di· etrahlungsdurchlSeeigen Teile 16, und 26 de? EiIfBaaske 2 gerichtet ist, unbehindert durch. Bei der

ti

4bfcil&tmg, di· bei der in-Pig. 2 dargestellten Anordnung erfolgt, wirken di· ttrahlungedurchlueeigen Teile 16, 22 und 28 als Objekt. Die planptf«ü*^· Hatte .4 iat in beeug auf di· in Pig. 1 dargestellte Lage um tlfeen Winkel von 3⁰IO¹ gedreht^ um eu gewährleisten, dass bei einer ent-•pt*oh«nd«n Anordnung der Glasplatten 1 und 6$ gegenüber der nicht dargelt*llt«n Strahlungsqu«lle, der Hilfemaeke 2 und dem Linseneyetem 3 das auf der Platt« 65 geformte Bild im Vergleich eu dem, das auf der Platte 1 geformt ist, Über einen Abstand, der dem Abstand zwischen der Mitte des Streifens 45 und der d·· unbedeckten Teils 55 entspricht, verschoben ist. Xn dem auf diese Weis· gebildeten Negativ 95 für die Streifen des ersten Leuchtstoff·· lassen di· Τ·11· 66, 67, 66 und 69 diejenige Strahlung nicht durch, die spSttr bei der Herstellung der betreffenden Maske mit Hilfe di···· Kegativs verwendet wird. Di· Teil· 66, 67, -68 und 69 haben in der Mitt· d·· Negative «in· Breite von etwae weniger als 200 um.

In Pig. J tot 13 *tn Teil einer gekrümmten Glasplatte, die gegenüber der nicht dargestellten Strahlungsquelle, der Hilfsmaske 2 und dem Linsensystem 3 di· gleich« genaue Lage wie die Glasplatte 1 in Fig. 1 und die Glasplatte 65 In Fig. 2 einnimmt, wShrend zugleich die der Linse tugewandte FlSehe nahezu die gleiche ist. Sie der Linse zugewandte Seite der Glasplatte 75 ist mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen, die

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nach der in Fig. 3 dargestellten Anordnung belichtet wird* Auch hier ist einfachheitehalber von der lichtempfindlichen Schicht nur da· tue den . Teilen 76, 77 und 78 bestehende entstandene Bild dargestellt. An der der nicht dargestellten Strahlungequelle zugewandten Seite der Hilfsmaeke 2 ist eine zusätzliche Hilfsmaeke 7 angebracht. Die zueßttliche Hilfsmaske T besieht aus einer Glasplatte 70 mit darauf nahezu streifenfCraigen Fliehen 71, 72, 73 und 74, welche die Strahlung nicht durchlassen. Di# Fliehe 71. sorgt dafür, dass die Strahlung den Btrahlungedurchllseigen Teil. 12 der Hilfemaske 2 nicht erreichen kann; das gleiche gilt für die Fliehe 72 gegenüber den Teilen 16 und 18, für die FlSche 73 gegenüber den Teilen 22 und 24 und für die FlSche 74 gegenüber-den Teilen 28 und 30. Andererseits lässt die zusätzliche Maske 7 die strahlung, welche auf die strahlung·-' durchlässigen Teile 14, 20 und 26 der Hilfemaeke 2 gerichtet ist« unbehindert durch. Bei der Abbildung, die bei der in Fig. 3 dargestellten Anordnung erfolgt, wirken die strahlungsdurchiSesigen Teile 14, 20 und 26 als Objekt. Die Anordnung¹ entspricht übrigens der nach Fig. 2. Die «usiti-Iiehe Hilfemaeke 7 kann eine gesonderte Hilfsmaske sein, aber es ist auch möglich, die zusätzliche Maske 6 dafür zu verwenden und diese für die Anordnung nach Fig. 3 über den betreffenden Abstand, its beschriebenen Fall 74 μα, tu verschieben. In dem auf diese Weise gebildeten Negativ 79 für die Streifen des zweiten Leuchtstoffes laeeen die. Teile 76, 77 und 78 diejenige Strahlung nicht durch, die später bei der Herytellung der betreffenden Maske mit Hilfe dieses Hegativs verwendet wird* Wt Teile 76, 77 und 78 haben in der Mitte des Negative eine Breite von etwas wehiger ale 200 μηί.

iJarauf wird in entsprechender Weise ein Negativ tut die

Streifen des dritten Leuchtstoffes hergestellt}.die strahlungsdurchiSeeiget Teile 12, 18, 24 und 30 der Hilfsmaske 2 werden dabei abgebildet.

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In Pig. 4 ist 86 ein Teil einer gekrümmten Glasplatte, die gegenüber der nicht dargestellten Strahlungsquelle, der Hilfsmaske 2 und dem Linsensystem 3 di· gleiche genaue Lage wie die Glasplatte 1 in Fig. 1, di· Glasplatte 65 in Fig. 2 und die Glasplatte 75 in Fig. 3. einnimmt, während zugleich die der Linse .zugewandte Fläche nahezu die gleiche ist. Die der Lins· zugewandte Seite der Glasplatte 86 ist mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen, die gemäss der in Fig. 4 dargestellten Anordnung belichtet wird. Auch hier ist einfachheitshalber von der lichtempfindlichen Schicht nur das aus den Teilen 87, 88, 89, 90 und 91 bestehende entstandene Bild dargestellt. An der der nicht dargestellten Strahlungsquelle zugewandten Seite der Hilfsmaske 2 ist eine zusätzliche Hilfsmaske 8 angebracht. Di· zusätzliche Hilfsmaske 8 besteht aus einer Glasplatte 80 mit darauf nahezu streifenförmigen Flächen 81, 82, 83t 84 xuid 85, welch· die Strahlung nicht durchlassen. Die Fläche sorgt dafür, dass die Strahlung die strahlungsdurchlassigen Teile 14 der Hilfsmaske 2 nicht erreichen kann; das gleiche gilt für die Fläche 82 gegenüber dem Teil 18, für die Fläch· 83 gegenüber dem Teil 22, für die Fläch· 84 gegenüber dem Teil 26 und für die Fläche 85 gegenüber dem Teil 30. Andererseits liest die zusätzliche Hilfsmaske 8 die Strahlung, welche auf di· atrahlungsdurchlieaigen Teile 12_} 16^s, 20, 24 und 28 der Hilfsmask· 2 gerichtet ist, unbehindert durch. Bei der Abbildung, die bei der in Fig. 4 dargestellten Anordnung erfolgt, wirken die strahlungsdurchlässigen Teil· 12, 16, 20, 24 und 28 als Objekt. Die planparallele Platte.4 ist in diesem Fall wieder parallel zur Hilfsmaske 2 angebracht, genauso wie bei der Anordnung nach i'ig.l. In dem auf diese Weise gebildeten Negativ 92 für die Indexstreifen lassen die Teile 87, 88, 89, und 91 diejenige Strahlung nicht durch, die später bei der Herstellung der

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betreffenden Maske mit Hilfe dieses Negative verwendet wird; Sie Teil· 87, 88, 89, 90 und 91 haben in der Mitte des Negativs ein· Breit· von etwas weniger als 200 μπ». Beim Vergleich des Negative 92 für die Indexstreifen und des Negativs 9 für die Zwischenstreifen stellt sich heraus, dass die Teile 87» 88, 89, 90 und 91 die Lag· «ims Teils der Teil· 41, 42, 43, 44, 45» 46, 47, 48, 49» und 50.einnehmen.

Von jedem der in dieser Weise erhaltenen gekrüsnten Negativ· werden unte;:■ 7erw©rdung einer lichtempfindlichen Schicht eine oder mehrere Masken hergestellt. Für das Negativ 9 für die Zwischenstreifen ist dies in Fig. 5 dargestellt. Darin ist 9 ein Teil des gekrümmten Negativs, 100 eine Strahlungsquelle und 102 ein Teil "»iner gekrümmten Glasplatte, die

j. durch das Negativ hindurch belichte* wird. Das Negativ 9 und die Glas- i platte 102 sind genau in bezug aufeinander aufgestellt. Sie dem Negativ 9^J\ zugewandte Fläche der Glasplatte 102 entspricht nahesu der an dieser Seii| liegenden HScLe der'Glasplatte 1 dee Negative 9· Di· dem Negativ su- § gewandte Seite der Glasplatte 102 ist mit ein·? lichtempfindlichen Sohiehf versehen, die gemSse der in Fig. 5 dargestellten Anordnung belichtet wirey Auch hier ist wieder einfachheitshalber von der lichtempfindlichen 3ehio»f

nur das aus den Teilen 103, 104» IO5, 106, 107, 108, 109» HO und 111 M

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bestehende entstandene Bild dargestellt, wob«i diese Teile von einer von i.

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der Strahlungsquelle 100 herrührenden Strahlung getroffen werden, welche -.' durch die etrahlungsdurchlSeeigen Teil· 51, 32, 53» 54» 55, 56, 57, 58

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und 59 des Negativs 9 geht. Diese etrahlungedurchllssigen Teile weisen in der Mitte des Negativs eine Breite von etwas mehr als 200 μ» auf, während diestrafclungsdurpalaseigen Teile Q_r.A2_t 43, 44» 45, 46, -47, 48»| 49 und 50 in der Jii.tte des Negativs eine Breite von etwas weniger als 200 μΐη.aufweisen. Dadurch haben die bedeckten Teile 103, 104, IO5, 106,

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107, 108, 109, 110 und 111 der Maske 101 in der Mitte der Maske eine Breit· ron etwas mehr als 200 μ, während die unbedeckten Teile 112, 113, 114, 1X5, .116, 117, 118, 119, 120 und 121 in der liitte der Maske eine Breite von etwas weniger ale 200 μΐη aufweisen.

- Die Maske 101 wird beim Auftragen α er Zwischenstreifen in den Bildwiedergabeschirmen verwendet. Die Fläche der gekrümmten und mit •trahlungeundurchlffssigen Teilen versehenen Glasplatte 102 entspricht nahexu einer der Plfichen der gekrümmten Glasplatte 1 des Negativs 9, welche PlSehe an eich nahezu der Fläche des Fensters der Elektronenstrahlröhre, auf dae der Bildwiedergabeschirm aufgebracht wird, entspricht, so dass auch die Flächen der Üaske und des Fensters nahezu miteinander übereinstimmen. Dies gilt auch für die anderen Masken. Jedes der Negative hat bei seiner Herstellung dieselbe genaue Lage gegenüber der Strahlungsquelle, der Hilfemaske und dem Linsensystem eingenommen. Auch bei der Herstellung der Masken, bei der von jedem der Negative ausgegangen wird, wird für eine genaue gegenseitige Lage gesorgt, so dass die hergestellten Masken einander angepasst sind. Dies ISest sich dadurch erreichen, dass man der Glasplatte, auf der die Maske hergestellt wird, eine fixierte Lage auf einen Bahnen gibt, wobei auf demselben Rahmen auch das Negativ eine fixierte Lage einniantt. Wenn bei der Herstellung der Bildwiedergabeschirme in jeder der Belichtungeanordnungen das Fenster dieselbe Lage gegenüber der Maske einnimmt, wird erreicht, dass der Bildwiedergabe- »chirm den gewünschten Bau erh&lt. Dazu nimmt beispielsweise .das Fenster auf dem erwähnten Rahmen die fixierte Lage des Negative ein.

Anders als bei der in Fig. 5 dargestellten Anordnung kann bei der Herstellung der Masken auch eine Belichtungsanordnung verwendet werden, bei der das beleuchtete Negativ mit Hilfe eines Linsensystems

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auf der zu belichtenden Schicht abgebildet wird, was in Pig. 6 dargestellt ist. Darin ist 9 ein Teil des gekrümmten Negativs, das von einer nicht dargestellten Strahlungsquelle beleuchtet wird, I5I ein ßohematiech dar«- gestelltes Linsensystem, mit dessen Hilfe das beleuchtete Negativ auf dtr , teilweise dargestellten Glasplatte I3I abgebildet wird. Die nicht dargestellte Strahlungsquelle, das Negativ 9, das Linsensystem I5I und die ! Glasplatte 131 sind genau gegenüber einander angeordnet. Die der Lins· _k zugewandte Seite der Glasplatte I3I ist mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen, die gemäss der in Fig. 6 dargestellten Anordnung b·- j lichtet wird. Von der lichtempfindlichen Schicht iat wieder einfaohheiti·· * j

halber nur das aus den Teilen 132, 133r 134, 135, 136, 137, 138, 139 und , 140 bestehende entstandene Bild dargestellt, wobei diese Teile von der durch die strahlungsdurchlässigen Teile 59, 58, 57, 56, 55, 54, 53, 52 und 51 des Negativs 9 hindurchgehenden Strahlung getroffen werden. Diese strahlungsdurchlässi-gen Teile haben in der Mitte des Negative eine Breite von etwas mehr als 200 μα, während die strahlungsundurchlSeeigen Teile 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49 und 50 in der Mitte des Negativs eint Breite von etwas weniger als 200 μα aufweisen. Somit gilt, dass die bedeckten Teile I32, 133, 134, 135, 136, 137, 138, 139 und 140 der Maske 130 in der Mitte der Maske etwas breiter sind als ein bestimmtes Mass, während die unbedeckten Teile 141, 142, 143, 144, 145, 146, 147, 148, und 150 in der Mitte der Maske etwas schmalersind als das bestimmte Mass. Wie gross das bestimmte Mass ist, hängt von der Verkleinerung des Linsensystems 151 ab. Die übrigen Masken werden dann, ausgehend von den anderen Negativen, in derselben Weise aber immer in einer anderen analogen Anordnung hergestellt. Bei der Herstellung der Bildwiedergabeschirme wird dann in jeder Beileitungsanordnung die beleuchtete Kaske mit Hilfe des

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bei der Herstellung*' der betreffenden Maske verwendeten Linsensystems auf der zu belichtetenden Schicht auf dem Fenster abgebildet. Das Negativ 9 ist gekrümmt; wenn nun die Maske 130 eben ist, muss das Linsensystem 151 im Zusammenhang damit vorzugsweise Sonderanforderun^en genügen. Vt'enn die Maske 130 gekrümmt ist und zwar entsprechend dem Negativ 9» dann entfallen diese Sonderanforderungen hinsichtlich des Linsensystems.

Von dem obenstehend beschriebenen Fall, bei dem in jeder Stufe Abbildung mit Hilfe eines Linaensy-stems erfolgt, ist noch eine Variante möglich und zwar in bezug auf die planparallele Platte, Im ^! beschriebenen Fall war die planparallele Glasplatte während der Herstellung der Negative vorhanden. Im alternativen Fall ist diese in der Belichtungsanordnung bei der Herstellung der Negative nicht vorhanden. Dann ist jedoch immer eine planparallele Glasplatte in den verschiedenen Belichtungsanordnungen während der Herstellung der Masken, ausgehend von den Negativen, und auch während der Herstellung des Bildwiedergabe— schirms mit Hilfe der verschiedenen Masken vorhanden. Hinsichtlich der Lage der planparallelen Platten gibt es nun noch zwei Möglichkeiten, Im einen Fall nehmen die Platten bei der Herstellung aller Masken dieselbe Lage ein, die auch von den Platten bei der Herstellung des BiIdviedergabeschirms während des Auftragens der Zwischenstreifen und der Indexstreifers eingenommen wird, während die Platten in den Belichtimfeeancrdnungen zum Anbringen der Leuchtstoffstreifen im Vergleich dazu um einen Winkel von 3°10' gedreht sind. Im anderen Fall nehmen die Platten bei der Herstellung der i'asken für die Zwischenstreifen und die Indexstreifen eine ^eviisse Lage eir. und ihre La_fe-e ist bei der Herstellung der Masken für die Leuchtstoffstreifen um einen V/inkel von 3°10' gedreht, während die Platten in den Belichtungsanordnungen zum Anbringen der

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Einzelteile des Schirms dieselbe Lage einnehmen wie die Platten während der Herstellung tier Masken für die Zwischenstreifen und die Indexstreifert#

Bei der Beschreibung des Verfahrens an^Hand der Figuren 1 b/e 6 wurde immer ein negatives Verfahren angewandt, wobei die belichteten Teile strahlungsundurchlässig sind» Beispielsweise wird in Fig. 1 der styahlungsdurchlSssigen Teil 22 der Hilfsmaske 2 mit Hilfe dee Linaensystems 3 an der Stelle des Teils 45 <ier lichtempfindlichen Schicht auf der Glasplatte 1 abgebildet.

In den Figuren 7a» und 7b, 8a und 8b, $a und $h wird

schematisch dargestellt, v.ie unter Anwendung von positiven und negativen Verfahren die gewünschte Anpassung der-Masken erhalten werden kann. In diesen Figuren sind die strahlungsun&ureblassigen Teile der Hilfsmaske, die zusätzlichen Hilfsmasken die Negative und die Masken dargestellt. Deutlichkeitshalber ist aine Vergreisserung von 1 angenommen.

Di© Figuren 7a «nd 7b beziehen sich auf die Herstellung der Maske für die Zwischenstreif©n. Nach Fig. 7a ist mit Hilfe eines positiven Verfahrens von einer Hilfsmaske 200 ein Negativ 201 und von diesem mit Hilfe eines negativen Verfahrens eine Maske 202 hergestellt. Nach Fig. 7^> i«t mit Hilfe eines negativen Verfahrens .von der Hilfsmaske 200 ein Negativ 203 und von diesem mit Hilfe eines positiven Verfahrens die Maske 202 hergestellt« Die strahlungsdurchlSssigen Teil© der Maske 202 stimmen mit den strahlungsundurchlSssigen Teilen der Hilfemaske 200 überein.

Die Figuren 8a und 8b beziehen sich auf die Herstellung einer Maske für die Leuchtstreifen. Nach ^ig. 8a ist mit Hilf© eines negativen Verfahrens von der mit einer zusätzlichen Hilferaaske 204 abgedeckten Hilfsmaske 200 ein Negativ 205 und von diesem mit Hilfe eines negativen Verfahrens eine Maske 206 hergestellt. Bach Fig. 8b ist mit Hilfe eines

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bad

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positiven Verfahrens von der mit der zusätzlichen Hilfsraaske 204 abgedeckten Hilf smaeke 200 ein Negativ 207 und von diesem mit Hilfe eines positiven Verfahrens die Maske 206 hergestellt. Die strahlungsdurch-1 Iss igen Teile der Maske 206 stimmen mit atrahlungsdurehltissigen Teilen der Hilfemaske 200 überein.

Die Figuren 9* und 9b beziehen sich auf die Herstellung einer Maske für die Indefstreif en. Nach **ig. 9a ist mit Hilfe eines positiven Verfahrens von der Hilfsmaske 200 ein Negativ 209 hergestellt, Jj wobei sweimal belichtet worden ist. Beim ersten Hai war die Eilfsmaske 200 nicht abgedeckt und die Teile 210, 211, 212, 213 und 214 wurden, -belichtet. Beim zweiten Mal war die Hilfsmaske 200 mit einer zusätzlichen Hilfemaske 208 abgedeckt, wMhrend zwischen der Hilfsmaske 200 und dem Negativ 209 eine nicht dargestellte planparallele Glasplatte angeordnet war, die eine derartige optische Verschiebung ergab, dass die Teile 215_f 216 und 217 belichtet würden. Vom Negativ 209 ist mit Hilfe eines negativen Verfahrens eine Maske 218 hergestellt. Nach Fig. 9b ist mit Hilfe eines negativen Verfahrens von der Hilfsmaske 200 ein Negativ 219

hergestellt, wobei zweimal belichtet worden ist. Beim ersten Mal war die Hilfemaske 200 nicht abgedeckt und die Teile £20,"221, 222, 223 und 224 wurden belichtet. Bein zweiten IEaI war die Hilfsmaske 200 mit einer zusätzlichen Hilfemaske 208 abgedeckt, während zwischen der Hilfsmaske 200 und dem Negativ 219 eine nicht dargestellte planparallele Glasplatte angeordnet war, die eine derartige optische Verschiebung ergab, dass die Teile 225, 226 und 227 belichtet wurden. Vom Negativ 219 ist mit Hilfe eines positiven Verfahrens die Maske 218 hergestellt. Die strahlungsdurehlässigen Teile der Maske 218 stimmen mit strahlungsundurchlässigen Teilen der Hilfsma&ke 2CO überein, _, — -_t

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Claims (1)

1. -28- PHN.1913

   PATENTANSPRÜCHE ι ' .

   1, Verfahren zur Herstellung einer Anzahl einender angepasster ' Masken,, die aus einem mit strahlungsundurchlä&sigen Teilen versehenen Qlasträger bestehen und bei der Herstellung «ines BildwiedergabesohinBg für eine Elektronenstrahlröhre zur Wiedergabe vori Farbbildern verwendet werden, der mindestens zwei in nahezu streifenförmigen Flächen vorhanden· bei Elektronenanregung in verschiedenen Farben aufleuchtende Stoffe enthält, die durch nahezu streifenförmife Fläche eines bei Elektronenanregung nicht in sichtbarem Licht aufleuchtenden und lichtundurohlässigen Stoffes und nahezu streifenförmige Flächen eines bei Elektronenanregung ein Indexsignal abgebenden Stoffes getrennt Bind, dadurch gekennzeichnet, dass für jede Maske zunächst unter Verwendung einer lichtempfindlichen Schicht in derselben Belichtungsanordnung ein aus einem Träger mit strahlungsundurchlässigen Teilen bestehendes Negativ hergestellt wird, wobei die Strahlung im Falle des Negativs für diejenige Maske, die sich auf die nahezu streifenförmigen Flächen des bei Elektronen· anregung nicht in sichtbarem Licht aufleuchtenden und lichtundurchlässigen Stoffes bezieht, durch eine Hilfεmaske geht und wobei die Strahlung in den Fällen der Negative für die Masken, die such auf die nahezu streifenförmigen Flächen der bei Elektronenanregung in verschiedenen Farben aufleuchtenden Stoffe und auf die nahezu streifen- · förmigen Flächen des bei Elektronenanregung ein Indexsignal abgebenden Stoffes beziehen, jeweils durch die teilweise abgedeckte Hilfemaeke geht, worauf von jedem der Negative unter Verwendung einer lichtempfindlichen Schicht eine Maske hergestellt wird.

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   -29- · PHiI. 1913

   2, Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Herstellung der Negative die Strahlung stete durch eine planparallel· Platt· geht, die im Fall dee Negativs für die Maske, die sich auf die nahezu Btreif«nf3rmigen Flächen des bei Elektronenanregung nicht in sichtbarem Licht aufleuchtenden und lichiundurchläesigen Stoffes bezieht, und im Fall des Negativs für die liaske, die sich auf die nahezu streifenförmigen Flächen des bei Elektronenanregung ein Indexsignal abgebenden Stoffes bezieht, die gleiche Läge einnimmt und in den Fällen der Negative für die Masken, die sich auf die nahezu streifenförrnigen Flächen der bei Slektronenanregung in verschiedenen Farben aufleuchtenden Stofi'e beziehen, gegenüber jeder Lage um einen kleinen Winkel um eine Achse, parallel zur strahlungsdurchlässigen Linie in der Mitte der Hilfsmaske, gedreht ist.

   3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Herstellung des Negativs für die Maske, die sich auf die nahezu streifenförmigen FISchen des bei Elektronenanregung nicht im sichtbaren Licht aufleuchtenden und lichtundurchlässigen Stoffes bezieht, und bei der Herstellung dieser Makse derartige photoempfindliche Schichten verwendet werden, dass die strahlungsdurchlässigen Teile der Maske mit strahlungsundurchlässigen Teilen der Hilfsmaske übereinstimmen, dass bei der Herstellung der Negative für die Masken, die sich auf die nahezu streifenförmigen Flächen derjenigen Stoffe beziehen, die bei Elektronenanregung in verschiedenen Farben aufleuchten, und bei der Herstellung dieser Masken derartige photoempfindliche Schichten verwendet werden, dass die strahlungsdurchlMssigen Teile der Masken mit strahlungsdurchlässigen Teilen der Hilfsmaske ÜbereinstimiLen und bei der Herstellung des

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   -30- PHN.1913

   Negativs für die Maske, die such auf die nahezu streif einförmigen Pl Hohen des bei Elektronenanregung ein Indexsignal abgebenden Stoffes bezieht, die photoempfindliche Schicht zweimal belichtet wird, und zwar derart, dass die Strahlung das erste Mal durch die nicht abgedeckten Hilfsmaeke und das zweite Mal durch die teilweise abgedeckte Hilfsmaske geht, dies und jenes derart, dass die unbelichteten Teile des Negativs'mit einem Teil der strahlungsundurchlMssigen Teile der Hilfsmaske übereinstimmen und bei der Herstellung des Negativs und der Maske derartige photoempfindliche Schichten verwendet werden, dass die strahlungsdurchlässigen Teile der üaske mit den unbelichteten Teilen des Negativs übereinstimmen·

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   L e e"r $ e i t e