DE1515890C3 - Verfahren zum Herstellen von Widerstanden und Leitungsfuhrungen fur mikroelektromsche Schaltkreise - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von Widerstanden und Leitungsfuhrungen fur mikroelektromsche SchaltkreiseInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Leitungsführungen und Widerständen für mikroelektronische
Schaltkreise durch reduzierendes Ausfällen eines Edelmetalls aus der Lösung eines seiner
Salze, Vermischen des Edelmetalls bzw. des zuvor oxydierten Edelmetalls mit einem anderen Edelmetall,
einem Keramikmaterial und einem Bindemittel zu einer Paste, Aufbringen der Paste in Form der gewünschten
Leitungsführungen oder Widerstände auf ein Substrat und anschließendes Erhitzen. .
Leitungsführungen und/oder Widerstände, die Glasbestandteile und Edelmetalle oder Edelmetalle und/
5 oder Edelmetalloxide enthalten und hergestellt werden aus pastenartigen Massen, werden beschrieben in der
USA.-Patentschrift 3 052 573, in der deutschen Auslegeschrift 1 132 633 und in der österreichischen
Patentschrift 137 832.
ίο Durch die genannte USA.-Patentschrift, die britische
Patentschrift 836 480 und den Artikel von E. L. H e b b in »Microcircuitry by Chemical Deposition«,
S. 10ff., ist es auch bekannt, Metalle, die für Leitungsführungen, Widerstände oder dünne Schichten
benötigt werden, aus Lösungen ihrer Salze reduzierend auszufällen.
Mit den bekannten Verfahren ist es jedoch schwierig, Leiterzüge und Widerstände mit gewünschten elektrischen
Eigenschaften reproduzierbar herzustellen.
Relativ spät wurde erkannt, daß nicht, wie bisher angenommen worden war, die Größe der Edelmetallbzw,
der Edelmetalloxidteilchen die elektrischen Eigenschaften der Leitungsführungen und Widerstände
mitbestimmt, sondern die Größe der Kristallite, aus denen diese Teilchen bestehen, bzw. deren
spezifische Oberfläche. Infolgedessen wurde auch vor-
■ geschlagen, Teilchen mit reproduzierbaren, spezifischen Oberflächen entsprechend dem" von J. W ο 1 f f u. a.
in »Metallurgy for Engineers« (Verlag: John Wiley and Sons, Ine, 1952) auf S. 40 vorgeschlagenen Verfahren,
bei dem sehr kleine Teilchen durch Sintern in Teilchen mit der gewünschten spezifischen Oberfläche,
umgewandelt werden, herzustellen.
Bei diesem genannten Verfahren ist es jedoch schwierig, Teilchen mit einer einheitlichen, spezifischen
Oberfläche herzustellen, z. B. deshalb, weil von Teilchen unterschiedlicher Größe ausgegangen wird und
die Wärmeverteilung beim Sintern nicht einheitlich durch die ganze Charge ist. Deshalb treten Unterschiede
von Charge zu Charge auf, und die Eigenschaften der Widerstände und Leitungsführungen, die
mit diesen Teilchen hergestellt worden sind, können noch nicht hinreichend befriedigend kontrolliert
werden.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, die bekannten Verfahren dahingehend zu verbessern, daß Widerstände
und Leitungsführungen für mikroelektronische Schaltkreise mit festgelegten elektrischen Eigenschaften reproduzierbar herstellbar sind.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Edelmetallsalzlösung vor dem reduzierenden
Ausfällen der Edelmetallteilchen auf einen pH-Wert zwischen 0 und 7 eingestellt wird, daß während
der Reduktion eine bestimmte Temperatur zwisehen Zimmertemperatur und der Siedetemperatur der
Salzlösung konstant gehalten wird und das Reduktionsmittel in bestimmter Konzentration und in kontrollierter
Dosierung zugegeben wird.
Die Geschwindigkeit der Reduktionsreaktion läßt sich kontrollieren, indem man bei konstanter-Temperatur arbeitet und das Reduktionsmittel in definierten, diskreten Mengen zugibt.
Die Geschwindigkeit der Reduktionsreaktion läßt sich kontrollieren, indem man bei konstanter-Temperatur arbeitet und das Reduktionsmittel in definierten, diskreten Mengen zugibt.
Es ist vorteilhaft, vor der Reduktion ein Dispergiermittel in einer Menge, die zwischen 0 und 5%. bezogen
auf das Gewicht der Lösung, liegt, der Lösung zuzugeben. · -
Durch geeignete Wahl des pH-Werts, der Konzentration des Reduktionsmittels und des eventuell zu-
gesetzten Dispergiermittels und einen kontrollierten Ablauf der Reduktionsreaktion läßt sich die gewünschte,
spezifische Oberfläche im Bereich zwischen 2 und 40 m2/g gezielt herstellen.
Das Verfahren wird mit Vorteil angewandt, wenn als Edelmetalle Platin, Gold, Silber, Palladium oder
Kombinationen von bis zu drei dieser Edelmetalle verwendet werden.
Als Reduktionsmittel wird mit Vorteil Ameisensäure oder eine wäßrige Lösung von Hydrazin
genommen.
Die Erfindung wird an Hand von durch Zeichnungen erläuterten Ausführungsbeispielen beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 ein Flußdiagramm des beschriebenen Verfahrens,
F i g. 2 in graphischer Darstellung die Abhängigkeit der spezifischen Oberfläche in m2/g von der Konzentration
des Dispergiermittels in Gewichtsprozent für drei verschiedene Verhältnisse von vorhandener Edelmetallmenge
zu zugesetzter Reduktionsmittelmenge,
F i g. 3 in graphischer Darstellung die Abhängigkeit des Flächenwiderstands in Kiloohm, der spezifischen
Oberfläche in m2/g und des Temperaturkoeffizienten des Widerstands (TKm) in 10-6/°C (PPM/0 C) von der
Konzentration des Dispergiermittels in Gewichts-prozent für einen Palladiumoxidwiderstand,
F i g. 4 in graphischer Darstellung die Abhängigkeit der spezifischen Oberfläche in m2/g, des Flächenwiderstands
in Kiloohm und des TKn in 10"6/°C
(PPM/°C) von der cm3-Menge Ameisensäure/g Palladium
bei einem pH-Wert von 1,
F i g. 5 in graphischer Darstellung die Abhängigkeit der spezifischen Oberfläche in m2/g des Flächenwiderstands
in Kiloohm und des TKR in 10-6/°C
(PPM/0C) vom pH-Wert bei einer Reduktion mit
Ameisensäure, und
F i g. 6 in graphischer Darstellung die Abhängigkeit der spezifischen Oberfläche in m2/g, des Flächenwiderstands
in Kiloohm und des TKR in 10-e/°C
(PPM/0C) von verschiedenen Verdünnungen der
Metallösung bei konstantem pH-Wert und Ameisensäure als Reduktionsmittel.
In F i g. 1 zeigt der erste Verfahrensschritt 20 die Auswahl eines Metalls aus der Gruppe Platin, Palladium,
Silber und Gold als Bestandteil eines aus metallischen und keramischen Bestandteilen bestehenden
Gemenges zur Herstellung von Leitungsführungen und Widerständen für mikroelektronische
Schaltkreise. Das Edelmetall, im allgemeinen Palladium, ist mit 99,9prozentiger Reinheit im Handel
erhältlich. Das Palladium besitzt z. B. einen Partikeldurchmesser von weniger als 75 μηι, wobei die Größe
der Kristallite unbekannt ist. Das Metall muß im Verfahrensschritt 25 durch bekannte Verfahren in
einer vorzugsweise anorganischen, nicht halogenhaltigen Säure aufgelöst werden. Es ist günstig, 10 g
Palladium in 100 cm3 Salpetersäure zu lösen. Eine nicht halogenhaltige Säure wird deswegen vorgezogen, weil
Spuren von Halogenen, die in dem käuflich erhältlichen Palladiumschwarz gefunden wurden, das
Verfahren in nicht reproduzierbarer Weise beeinflussen. Wird Platin oder Gold eingesetzt, so muß in
Königswasser aufgelöst werden, da es keine andere geeignete Säure gibt, in der sich diese Metalle lösen.
Im Verfahrensschritt 30 wird die stark saure Lösung mit sehr reinem Ammoniak auf einen pH-Wert von 1
eingestellt. Ammoniak hinterläßt bei der Weiterbehandlung des Metalls keine störenden Verunreinigungen.
Die Einstellung des pH-Werts erfolgt mittels eines pH-Meßgeräts mit automatischer Temperaturkompensation. Anschließend wird die Lösung filtriert
und dann entweder sofort weiterverarbeitet oder für den zukünftigen Gebrauch aufbewahrt.
Zu der filtrierten Lösung wird im Verfahrensschritt 35 ein Dispergiermittel hinzugefügt. Dieses
Dispergiermittel, z. B. ein siliciumhaltiges Material, Gelatine oder Methylzellulose, wird zu der Lösung in
ίο Gewichtsprozent, entsprechend der Darstellung in
F i g. 2, zugefügt. Man nimmt an, daß das Dispergiermittel Kristallisationskeime liefert, an welchen das
Palladium zu wachsen beginnt, nachdem es mit einem Reduktionsmittel aus der Lösung ausgefällt worden ist.
Diese zahlreichen Kristallisationskeime bewirken, daß die verschiedenartigen, sich bildenden Kristalle relativ
groß sind. Fehlt das Dispergiermittel, so ist die Anzahl von Kristallisationskeimen entsprechend kleiner, infolgedessen
bilden sich große Kristalle mit kleiner spezifischer Oberfläche mit geringerer Wahrscheinlichkeit.
Es ist daher möglich, je nach der gewünschten Größe der Kristallite den Prozeß mit oder ohne
Hinzufügen eines Dispergiermittels durchzuführen. Dadurch kann die Größe der Kristallite den Erfordernissen
der herzustellenden Leitungsführungen bzw. Widerstände angepaßt werden. Im Flußdiagramm
. der F i g. 1 ist durch eine gestrichelte Linie angedeutet, daß der Verfahrensschritt 35 ausgelassen werden kann.
Die Metallsalzlösung mit eingestelltem pH-Wert und festgelegter Konzentration des Dispergiermittels
wird auf Siedetemperatur erhitzt und im Verfahrensschritt 40 mit einem Reduktionsmittel versetzt. Bei
der Siedetemperatur wird deshalb vorzugsweise gearbeitet, weil diese leicht konstant gehalten werden
kann, auch wenn bei Zugabe des Reduktionsmittels eine große Reaktionswärme frei wird. Grundsätzlich
kann auch bei Temperaturen unterhalb des Siedepunktes reduziert werden, jedoch ist es dann schwierig,
den Temperaturverlauf zu kontrollieren. Hat die Lösung Siedetemperatur erreicht, so wird vor der Zugabe
des Reduktionsmittels 5 Minuten gewartet.
Als Reduktionsmittel sind organische und anorganische Substanzen geeignet, die sich leicht,
vorzugsweise durch Abdampfen, aus dem System entfernen lassen. Auf diese Weise wird das gefällte Metall
am wenigsten verunreinigt.
Als Reduktionsmittel erwies sich z. B. Hydrazin .(NH2 — NH2) in verschiedenen Konzentrationen,
z. B. in Gewichtsverhältnissen von 1: 3 bis 1: 27 des
Hydrazins zu Wasser, für das beschriebene Verfahren als geeignet. Da jedoch bei der Zugabe von Hydrazin
eine große Wärmemenge frei wird, muß es kontrolliert zugefügt werden, um eine definierte spezifische Oberfläche
reproduzierbar herstellen zu können. Man kann in der Weise verfahren, daß man eine wäßrige Lösung
mit 25 Gewichtsprozent Hydrazin in l-cm3-Portionen in Abständen von 15 Sekunden zufügt, bis die Reduktion
abgeschlossen ist. Sehr verdünnte Hydrazinlösungen können in l-cm3-Portionen in Abständen von
5 Sekunden zugegeben werden. Es wurde eine automatische Pipette benutzt, um definierte Mengen des
Reduktionsmittels kontrolliert intermittierend zuzufügen. Die Zeitabstände wurden so gewählt, daß die
Reaktion abklingen kann, bevor das nächste Quantum Reduktionsmittel zugefügt wird. Bei der Anwendung
des beschriebenen Verfahrens ist man nicht auf die angegebenen Mengen an Reduktionsmittel und die
angegebenen Zeitabstände beschränkt.
5 6
Das Hydrazin wird intermittierend zugegeben, um F i g. 4 dargestellt. Die erreichbare spezifische Ober-
die Bildung eines Metallspiegels an den Wänden des fläche ist bei der Benutzung von Ameisensäure ge-
Reaktionsgefäßes zu verhindern und um die Reaktion wohnlich viel kleiner, als bei der Benutzung von
zu zügeln. Es kann nämlich unter Umständen schon Hydrazin möglich ist. F i g. 4 zeigt, daß bei der
das Hinzufügen von 1 cm3 Hydrazinlösung eine 5 Reduktion mit Ameisensäure spezifische Oberflächen
unkontrollierbare Reaktion hervorrufen, die zu einem in der Größenordnung von 3 m2/g erreicht werden,
Materialverlust führt. während mit Hydrazin spezifische Oberflächen von
Bei der Reduktion fällt das Palladium aus der 18 m2/g erreicht werden (siehe F i g. 2).
Palladiumnitrat-Lösung entsprechend der folgenden Andere brauchbare Reduktionsmittel sind z. B.
Gleichung aus: 10 Formaldehyd, Ascorbinsäure und Hydrochinon. Das
ausgefällte Metall wird im Verfahrensschritt 45 durch
Pd++ ' 2e~ hydrazin pj° ein Filter, wie es für analytische Zwecke üblich ist,
^ von der Flüssigkeit abgetrennt. Das auf dem Filter
liegende Metall wird gründlich mit entionisiertem
Die Beendigung der Reduktion erkennt man daran, 15 Wasser gereinigt. Anschließend wird das Metall bei
daß der obere Teil der Lösung klar wird. 1050C 1 Stunde lang in einem Ofen getrocknet. Je
Der Einfluß der Hydrazinkonzentration ist in F i g. 2 nach dem pH-Wert bei der Reaktion, der Konzendargestellt.
Wird die Konzentration des Hydrazins ver- tration des Reduktionsmittels sowie der Konzenringert,
so vergrößert sich die spezifische Oberfläche tration des Dispergiermittels und des Metallsalzes
der Palladiumteilchen. Außerdem bilden sich bei 20 in der zu reduzierenden Lösung können spezifische
weniger konzentrierten Hydrazinlösungen eine ge- Oberflächen zwischen 2 und 40 m2/g erhalten werden,
ringere Anzahl von Kristallisationskeimen, auf denen Mit dem beschriebenen Verfahren können nicht nur
das ausgefallene Palladium aufwachsen kann. Die Palladiumkristallite, sondern auch solche von Platin,
Wirkung des Dispergiermittels ist vom eingesetzten Gold und Silber erzeugt werden. Platinteilchen können
Metall unabhängig. In jedem Fall ergibt sich eine 25 z. B. so hergestellt werden, daß Hexachloroplatinsäure
Herabsetzung" der spezifischen Oberfläche, wenn der mit Wismutoxid gemischt und dann reduziert wird.
Prozentsatz an Dispergiermittel erhöht wird. Die· *- Zum Gebrauch als Widerstandsmaterial wird das
graphischen Darstellungen zeigen, daß die Änderung Metall im Verfahrensschritt 47 z. B. durch ein
des Oberflächenanteils im wesentlichen linear mit 2stündiges Erhitzen bei 75O0C in einem konvenwachsender
Konzentration des Dispergiermittels er- 30 tionellen Ofen unter Luftzutritt oxydiert. Das Metallfolgt.
Mit wachsender Konzentration des Dispergier- oxid wird im Verfahrensschritt 49 mit gesinterten Glasmittels
erhält man größere Kristallite mit einer ge- teilchen mit einem Durchmesser von etwa 0,044 mm,
ringeren spezifischen Oberfläche. mit kolloidalem Siliciumdioxid und Silber gemischt.
Mit der Abnahme der Konzentration des Reduk- Nach bekannten Verfahren wird dann — dasselbe
tionsmittels nimmt die Zahl der gebildeten Kristalli- 35 gilt für die Herstellung der Leitungsführungspaste —
sationskeime zu, und es entstehen deshalb kleinere bis zu einer gewünschten Partikelgröße gemahlen, an-
Kristallite mit einer größeren spezifischen Oberfläche. schließend wird ein organisches Bindemittel zugesetzt
Die spezifische Oberfläche wird mit der Gasabsorptions- und in einer Rollenmühle die Paste homogenisiert,
methode, wie sie z. B. in dem Artikel »Fine Particle Im abschließenden Verfahrensschritt 51 wird die Paste
Measurements« von C. O r r, Jr. und J. M. D a 11 a - 40 mittels Siebdruck entsprechend einem festgelegten
ν alle, New York, 1959, Kapitel 7, beschrieben wird, Muster auf dem vorgesehenen Substrat aufgebracht,
gemessen. Anschließend wird das bedruckte Substrat in einem
Die Kristallisationskeimbildung bei Fällungsreak- Ofen bei 75O0C 1 Stunde lang gebrannt,
tionen verläuft analog den Vorgängen, die sich bei der Mit dem beschriebenen Verfahren lassen sich auch
Verfestigung eines flüssigen Metalls bei dessen Ab- 45 Keramik-Metallgemenge herstellen. Dazu wird das
kühlung abspielen. Einzelheiten finden sich in der keramische Material, häufig ein Borsilicatglas, vor der
bereits zitierten Arbeit von Wolff u. a. auf den Zugabe des Reduktionsmittels zu der Metallsalzlösung
S. 42 bis 46. Zusammenfassend ist zu sagen, daß der . hinzugefügt. Das aus' der Lösung ausgefällte Metall
pH-Wert, die Temperatur sowie die Konzentration wird innig mit den Keramikteilchen vermengt. An-
von Dispergier- und Reduktionsmittel die Keimbildung 50 schließend wird wie im" Verfahrensschritt 45 filtriert,
und damit die Größe der Kristallite steuern. dann wird der Rückstand im Filter gewaschen und
Als weiteres geeignetes Reduktionsmittel wurde getrocknet. Es ist auch möglich, das Silber vor der
Ameisensäure gefunden. Diese wird in gleicher Weise, Reduktion in Form von Silbernitrat einzubringen,
wie oben für Hydrazin beschrieben, eingesetzt, aller- Nach dem Verfahrensschritt 40 bilden das Silber, das
dings ist zu beachten, daß in diesem Fall das Disper- 55 Keramikmaterial und das Metall bzw. das Metalloxid
giermittel die spezifische Oberfläche der Kristallite miteinander ein inniges Gemenge,
wenig beeinflußt. Im allgemeinen, aber nicht not- Die F i g. 3, 4, 5 und 6 veranschaulichen die Eigenwendigerweise, wird deshalb auf ein Dispergiermittel schäften von Widerständen, die, entsprechend dem in verzichtet. Entsprechend kann der Verfahrensschritt 35 F i g. 1 beschriebenen Verfahren, aus Palladium herbei der Benutzung von Ameisensäure weggelassen 60 gestellt worden sind. Es scheint angebracht, die Figuren werden. Anders als beim Einsatz von Hydrazin setzt kurz zu erläutern, um zu zeigen, daß mit dem bedie Reaktion bei der Verwendung von Ameisensäure schriebenen Verfahren Widerstände mit sehr unternicht sofort ein. Bei einer Lösung, die sich auf Siede- schiedlichen Eigenschaften reproduzierbar hergestellt temperatur befindet und einen pH-Wert von 1 hat, werden können.
wenig beeinflußt. Im allgemeinen, aber nicht not- Die F i g. 3, 4, 5 und 6 veranschaulichen die Eigenwendigerweise, wird deshalb auf ein Dispergiermittel schäften von Widerständen, die, entsprechend dem in verzichtet. Entsprechend kann der Verfahrensschritt 35 F i g. 1 beschriebenen Verfahren, aus Palladium herbei der Benutzung von Ameisensäure weggelassen 60 gestellt worden sind. Es scheint angebracht, die Figuren werden. Anders als beim Einsatz von Hydrazin setzt kurz zu erläutern, um zu zeigen, daß mit dem bedie Reaktion bei der Verwendung von Ameisensäure schriebenen Verfahren Widerstände mit sehr unternicht sofort ein. Bei einer Lösung, die sich auf Siede- schiedlichen Eigenschaften reproduzierbar hergestellt temperatur befindet und einen pH-Wert von 1 hat, werden können.
muß man nach der Zugabe der Ameisensäure etwa 65 F i g. 3 zeigt, in welchem Bereich der Flächen-5
Minuten warten, bis die Reaktion einsetzt. Der Ein- widerstand eines Palladiumoxidwiderstands variiert
fluß der Menge Ameisensäure pro Gramm Palladium werden kann, wenn bei der Reduktion der Palladiumauf
die Eigenschaften der ausgefällten Teilchen ist in salzlösung mit 25gewichtsprozentiger, wäßriger Hydra-
zinlösung unterschiedliche Mengen Dispergiermittel zugegeben werden. Es ist zu beachten, daß die spezifische
Oberfläche des Palladiumoxids mit zunehmender Konzentration des Dispergiermittels anwächst, während
beim Palladiumschwarz, wie die F i g. 2 zeigt, mit zunehmendem Dispergiermittelanteil die spezifische
Oberfläche abnimmt. Untersuchungen legen die Annahme nahe, daß durch eine Wechselwirkung
zwischen Siliciumdioxid, das in geringer Menge aus dem siliciumhaltigen Dispergiermittel entstanden ist,
und Palladium während der Herstellung des Oxids eine Vergrößerung der spezifischen Oberfläche des
Palladiumoxids durch Behinderung von dessen Wachstum eintritt.
F i g. 4 zeigt Eigenschaften eines Widerstands, der
auf Palladiumoxidbasis hergestellt wurde. Die Palladiumsalzlösung wurde dabei mit Ameisensäure reduziert.
Sowohl die spezifische Oberfläche als auch der Flächenwiderstand nehmen etwa linear mit ansteigender
Menge von Ameisensäure pro Gramm des zu reduzierenden Metalls zu. Wie ein Vergleich mit
der F i g. 3 zeigt, erhält man bei der Reduktion mit Ameisensäure kleinere spezifische Oberflächen als bei
der Reduktion mit Hydrazin. Bei der Reduktion mit Ameisensäure" ist der Einfluß des Dispergiermittels
sehr gering, und es kann deshalb auf dessen Zusatz· verzichtet werden.
Die F i g. 5 zeigt, daß die Wasserstoffionenkonzentration der zu reduzierenden Lösung die spezifische
Oberfläche und den Flächenwiderstand stark beeinflußt, wenn das zugrunde liegende Palladiumschwarz durch
Reduktion mit Ameisensäure hergestellt wurde. Mit zunehmendem pH-Wert steigen die spezifische Oberfläche
und der Flächenwiderstand zunächst an, werden bei pH-Wert 2 maximal und fallen dann bei weiter
steigendem pH-Wert ab. F i g. 5 macht deutlich, daß es sehr wichtig ist, die Reduktion bei einem festgelegten
pH-Wert zu beginnen. Wird dies nicht beachtet, sind unkontrollierte Änderungen der spezifischen
Oberfläche und des Flächenwiderstands unvermeidlich.
F i g. 6 verdeutlicht, daß die Verdünnung der Palladiumsalzlösung vor dem Neutralisieren und dem
Reduktionsmittelzusatz die spezifische Oberfläche der Palladiumoxidteilchen und den Flächenwiderstand
beeinflußt. Man erhält eine abnehmende spezifische Oberfläche und einen abnehmenden Flächenwiderstand,
wenn die Palladiumnitratlösung bei konstantem
ίο pH-Wert und Ameisensäure als Reduktionsmittel
zunehmend verdünnt werden. Die F i g. 6 legt die Annahme nahe, daß die Verdünnung der Metallsalzlösung
die an Hand der F i g. 4 erläuterte Wirkung einer zunehmenden Ameisensäuremenge pro Gramm zu
reduzierenden Metalls aufhebt.
Mit dem beschriebenen Verfahren lassen sich also definierte spezifische Oberflächen und daraus resultierend
Flächenwiderstände herstellen, die in einem gewünschten Bereich liegen. Dies ist möglich auf
Grund einiger weniger Parameter, die leicht und genau kontrolliert werden können. Versuchsdaten zeigen,
daß festgelegte spezifische Oberflächen und Flächenwiderstände leichter reproduziert werden können,
als dies bisher mit thermischen Prozessen möglich
as war. Es ist anzunehmen, daß dies mindestens teilweise
*■ darauf beruht, daß beim Wachsen der Kristallite in einem naßchemischen Reduktionsverfahren eine geringere
Zahl und leichter zu steuernde Verfahrensparameter zu berücksichtigen sind, als dies bei den
thermischen Verfahren der Fall ist. Die bei thermischen Prozessen außerordentlich wichtige, genaue Kontrolle
der Atmosphäre ist schwierig zu bewerkstelligen. Im Gegensatz zu den thermischen Verfahren ist die Kontrolle
der Umgebungsbedingungen bei Wachstumsvorgängen in wäßrigen Lösungen einfacher.
In der folgenden Tabelle sind die bevorzugten Werte der für das beschriebene Verfahren wichtigen
Parämter und die Bereiche, in denen diese Parameter variiert werden dürfen, zusammengestellt.
Spezifische Ohi»rflar*H#» |
Menge des Palladiums |
(2) | Temperatur | Siede | Raum- | Reduktion | 1 | 0bis2 | Reduktions | 5 bis 15 | Ibis 2 | Anteil | 3 | 0 bis 5 | |
VyUGilldWllC
in m^/ff |
ο) . ; | tempe ratur |
bis Siede tempe |
1 | 0bis2 | mittel | 20 bis 30 | (in Gewichts prozent) |
2,5 | 0bis5 | |||||
111 ill /JJ | (ing) | 0,5 bis 20 | ratur | 1 | 0bis7 | (5) | 60 bis 64 | des Dispergier | 2 | 0 bis 5 | |||||
pro 100 cm3 Säure | 0,5 bis 20 | pH-Wert | Hydrazin1) | Ameisensäure2 | mittels | ||||||||||
(D | 0,5 bis 20 | (4) | 1 | Obis7 | 10 | 1,5 | in der Lösung | 0 | Obis5 | ||||||
25 | (6) | ||||||||||||||
20 bis 30 | 0,5 bis 20 | 64 | |||||||||||||
A. | 10 bis 20 | 10 | |||||||||||||
B. | 0,5 bis 10 | 10 | |||||||||||||
C. | 10 | ||||||||||||||
0,5 bis 10 | |||||||||||||||
D. | 10 | ||||||||||||||
*) Gewichtsprozent Hydrazin in seiner wässerigen Lösung.
*) cm3 Ameisensäure pro Gramm zu reduzierendes Edelmetall.
Es erscheint angebracht, die Tabelle kurz zu erläutern. Soweit die Spalten unterteilt sind (Spalten 2
bis 6) stehen im linken Teil optimale bzw. bevorzugt anzuwendende Werte und im rechten Teil der Bereich,
innerhalb welchem das Verfahren durchführbar ist. Spalte 1 zeigt die Bereiche der spezifischen Oberfläche,
die unter den nachfolgenden, d. h. den in derselben Reihe stehenden Bedingungen hergestellt werden sollen.
Die spezifische Oberfläche wird ausgedrückt in m2/g.
"6o 1In der Spalte 2 steht links die optimale Verdünnung
der Palladiumsalzlösung in g Palladium pro 100 cm3 anorganischer Säure rechts der tolerierbare Verdünnungsbereich.
Aus der Spalte 3 geht hervor, daß bevorzugt bei Siedetemperatur reduziert wird, daß
aber eine Reduktion auch im Bereich zwischen Zimmertemperatur und Siedetemperatur möglich ist. In
der Spalte 4 steht links der bevorzugte pH-Wert und rechts die mögliche Variationsbreite. Als Reduktions-
309 512/110
9 10
mittel wurde für die Reihen A, B und C Hydrazin und B e i s d i e 1 2
für die Reihe D Ameisensäure eingesetzt. Die Werte
für die Reihe D Ameisensäure eingesetzt. Die Werte
in der Spalte 5, Reihe A bis C, bedeuten den Gewichts- Käufliches Palladium wurde in 70prozentiger SaI-
prozentanteil an Hydrazin in wäßrigen Hydrazin- petersäure gelöst und zwar im Verhältnis 10 g Palla-
lösungen, und die Angabe in Reihe D bedeutet die 5 dium zu 100 cm3 Lösung. Etwa 225 cm3 28prozentigen
zugesetzte cm3-Menge an Ameisensäure pro Gramm Ammoniaks (NH4OH) hoher Reinheit wurden pro
reduziertes Metall. Die Prozentzahlen in der Spalte 6 Liter Lösung zur Einstellung des pH 1 zugefügt,
bedeuten den Anteil des Dispergiermittels in Gewichts- 300 cm3 dieser Lösung wurden zum Sieden erhitzt
prozent in der zu reduzierenden Lösung. Wie bereits und auf einmal mit 37,5 cm3 einer 88prozentigen
erwähnt, wird bei der Reduktion mit Ameisensäure io Ameisensäure (HCOOH) hoher Reinheit versetzt,
am besten auf den Zusatz von Dispergiermitteln ver- Nach etwa 5 Minuten setzte die Reaktion ein. Das
ziehtet. Die Dispergiermittel für die Reihen A und B Ende der Reaktion wurde durch ein Verschwinden
sind identisch, das Dispergiermittel für die Reihe C ist der Färbung angezeigt. Das Palladiumschwarz wurde,
dem für A und B verwendeten ähnlich. wie im Beispiel 1, abfiltriert, gereinigt und getrocknet.
Es folgen Beispiele für Palladiumoxidwiderstände 15 Anschließend wurde das Palladiumschwarz bei etwa
sowie für Palladiumsilberleitungsführungen. Sofern es 7500C an Luft 1 Stunde lang getrocknet. Das oxydierte
nicht ausdrücklich anders vermerkt ist, beziehen sich Palladium wurde mit Lithiumkarbonat versetzt, und
Angaben über Teile, Verhältnisse und Prozente auf zwar wurde auf je 100 g Palladiumoxid Vs g Lithium-Gewichtsteile,
Gewichtsverhältnisse und Gewichts- karbonat gegeben. Dieses Gemenge wurde bei etwa
Prozente. 20 800° C gebrannt. Das entstandene, mit Lithium
dotierte Palladiumoxid wurde mit anderen Stoffen
. -I1 in derWeise kombiniert, daß 19% mit Lithium dotiertes
ßei spiel 1 Palladiumoxid mit 21% Silber und 60% Glas gemischt
wurden. Zu diesem Gemisch wurde ein organi-
Käufliches Palladium hoher Reinheit wurde in-25 sches Bindemittel zugegeben, so daß der Anteil der
70prozentiger Salpetersäure (HNO3) gelöst. Die Lö- festen Bestandteile in der entstandenen Paste etwa bei
sung enthielt 10 g Palladium pro 100 cm3 Salpetersäure. . 80% lag. Die mittels Siebdruck aufgebrachte Masse
Mit konzentriertem Ammoniak (NH4OH) hoher wurde bei etwa 8000C gebrannt. Die so hergestellten
Reinheit wurde die Lösung auf den pH-Wert 1 ein- Widerstände hatten einen Flächenwiderstand in der
gestellt. Zur Messung wurde ein pH-Meter mit auto- 30 Größenordnung von 50 Ohm und einen Temperaturmatischer
Temperaturkompensation benutzt. Zu koeffizienten des Widerstands von etwa 5010-6/°C.
300 cm3 der Metallösung mit dem pH-Wert 1, die 25 g Die spezifische Oberfläche' des Palladiumoxids lag in
Palladium enthielten, wurden 2,97 g eines silicium- der Größenordnung von 1 m2/g.
haltigen Dispergiermittels zugesetzt. Vor dem Zugeben .... ■ des Reduktionsmittels wurde die Lösung auf ihren 35 Beispiel 3
Siedepunkt erhitzt. Eine 32prozentige wäßrige Hydra- Käufliches Palladium wurde in Salpetersäure gelöst, zinlösung wurde intermittierend in Dosen von und zwar je 10 g Palladium in 100 cm3 Lösung. Mit 1 cm3/10 see innerhalb von 8 Minuten zugefügt. Das Ammoniak wurde der pH-Wert 1 eingestellt. 300 cm3 Ende der Reaktion wurde daran erkannt, daß die dieser Lösung, entsprechend 25 g Palladium, wurden Färbung der Lösung verschwand. Insgesamt wurden 40 zum Kochen gebracht. Zu der siedenden Lösung wurden 32 cm3 Hydrazinlösung während des Reduktions- 8 Minuten lang l-cm3-Mengen von wäßriger Hydrazinprozesses hinzugefügt. Die Siedetemperatur wurde lösung in 15-Sekunden-Abständen gegeben. Das auswährend des Reduktionsprozesses und noch für gefallene Palladium wurde abfiltriert, gewaschen und 5 Minuten danach aufrechterhalten. Anschließend bei 1050C 1 Stunde lang getrocknet. Die Palladiumwurde filtriert und das reduzierte Metall in entionisier- 45 teile hatten eine spezifische Oberfläche von 18 m2/g. tem Wasser gewaschen. Die Ausbeute betrug 25 g Das Palladiumpulver wurde mit Silberpulver mit einer Palladium (100%). Das Palladiumschwarz wurde bei spezifischen Oberfläche von 0,7 m2/g vereinigt. Das 1050C 1 Stunde lang getrocknet und anschließend in Gemenge wurde durch .ein Sieb mit etwa 0,04 mm einem Ofen bei 800° C oxydiert. Nach dem Abkühlen ^Maschenweite gegeben. Bleiborsilicatglaspulver mit wurden 19 % Palladiumoxid, 21 % Silber, 60 % Glas 50 einem Teilchendurchmesser von etwa 0,04 mm wurde und so viel sehr fein verteiltes kolloidales Silicium- der Masse, zugesetzt, wobei. 98% der Gesamtmasse dioxid gemischt, daß Siliciumdioxid zu der Summe auf* das Metallpulver und 2% auf die Glasbestandteile der übrigen Bestandteile im Verhältnis 1,5: 98,5 vorlag. entfielen. Ein Bindemittel wurde zugefügt, und an-Die vier Bestandteile wurden in einer Schüttelvorrich- schließend wurde die Paste in einer Dreirollenmühle tung bei hoher Geschwindigkeit etwa 2 Stunden lang 55 gemahlen, um den Festkörperanteil noch weiter in dem gemischt. Ein Bindemittel, z. B. /3-Terpineol, wurde zu Bindemittel zu verteilen. Nun, wurde die Paste im den festen Bestandteilen hinzugefügt, wobei deren An- Siebdruckverfahren durch ein Seidengewebe mit einer teil 80% betrug. Das Gemenge wurde gemahlen und Maschenweite von etwa 0,044 mm mit Hilfe eines anschließend im Siebdruckverfahren auf das vor- Gummiquetschers auf ein keramisches Substrat aufgesehene Substrat aufgebracht. Schließlich wurde bei 60 gebracht. Die bedruckten Substrate wurden in einem 1000C getrocknet und in einem Ofen bei 750° C etwa Ofen bei 7500C gebrannt^ Der Flächenwiderstand 20 Minuten lang gebrannt. Die erhaltenen Flächen- eines so hergestellten, 0,381 inm breiten und 25,4 mm widerstände lagen in der Größenordnung von 2 Kilo- langen Leiters betrug 0,45 bis 1,2 Ohm.
ohm mit einem Temperaturkoeffizienten des Wider- Das in den Beispielen benutzte Silber kann völlig stands von etwa 1%O/°C. Die spezifische Oberfläche 65 oder teilweise durch Gold, Platin oder eine Kombider Palladiumoxidteilchen lag in der Größenordnung nation dieser beiden Metalle ersetzt werden, wobei von 3 m2/g. man ähnliche Resultate erhält.
haltigen Dispergiermittels zugesetzt. Vor dem Zugeben .... ■ des Reduktionsmittels wurde die Lösung auf ihren 35 Beispiel 3
Siedepunkt erhitzt. Eine 32prozentige wäßrige Hydra- Käufliches Palladium wurde in Salpetersäure gelöst, zinlösung wurde intermittierend in Dosen von und zwar je 10 g Palladium in 100 cm3 Lösung. Mit 1 cm3/10 see innerhalb von 8 Minuten zugefügt. Das Ammoniak wurde der pH-Wert 1 eingestellt. 300 cm3 Ende der Reaktion wurde daran erkannt, daß die dieser Lösung, entsprechend 25 g Palladium, wurden Färbung der Lösung verschwand. Insgesamt wurden 40 zum Kochen gebracht. Zu der siedenden Lösung wurden 32 cm3 Hydrazinlösung während des Reduktions- 8 Minuten lang l-cm3-Mengen von wäßriger Hydrazinprozesses hinzugefügt. Die Siedetemperatur wurde lösung in 15-Sekunden-Abständen gegeben. Das auswährend des Reduktionsprozesses und noch für gefallene Palladium wurde abfiltriert, gewaschen und 5 Minuten danach aufrechterhalten. Anschließend bei 1050C 1 Stunde lang getrocknet. Die Palladiumwurde filtriert und das reduzierte Metall in entionisier- 45 teile hatten eine spezifische Oberfläche von 18 m2/g. tem Wasser gewaschen. Die Ausbeute betrug 25 g Das Palladiumpulver wurde mit Silberpulver mit einer Palladium (100%). Das Palladiumschwarz wurde bei spezifischen Oberfläche von 0,7 m2/g vereinigt. Das 1050C 1 Stunde lang getrocknet und anschließend in Gemenge wurde durch .ein Sieb mit etwa 0,04 mm einem Ofen bei 800° C oxydiert. Nach dem Abkühlen ^Maschenweite gegeben. Bleiborsilicatglaspulver mit wurden 19 % Palladiumoxid, 21 % Silber, 60 % Glas 50 einem Teilchendurchmesser von etwa 0,04 mm wurde und so viel sehr fein verteiltes kolloidales Silicium- der Masse, zugesetzt, wobei. 98% der Gesamtmasse dioxid gemischt, daß Siliciumdioxid zu der Summe auf* das Metallpulver und 2% auf die Glasbestandteile der übrigen Bestandteile im Verhältnis 1,5: 98,5 vorlag. entfielen. Ein Bindemittel wurde zugefügt, und an-Die vier Bestandteile wurden in einer Schüttelvorrich- schließend wurde die Paste in einer Dreirollenmühle tung bei hoher Geschwindigkeit etwa 2 Stunden lang 55 gemahlen, um den Festkörperanteil noch weiter in dem gemischt. Ein Bindemittel, z. B. /3-Terpineol, wurde zu Bindemittel zu verteilen. Nun, wurde die Paste im den festen Bestandteilen hinzugefügt, wobei deren An- Siebdruckverfahren durch ein Seidengewebe mit einer teil 80% betrug. Das Gemenge wurde gemahlen und Maschenweite von etwa 0,044 mm mit Hilfe eines anschließend im Siebdruckverfahren auf das vor- Gummiquetschers auf ein keramisches Substrat aufgesehene Substrat aufgebracht. Schließlich wurde bei 60 gebracht. Die bedruckten Substrate wurden in einem 1000C getrocknet und in einem Ofen bei 750° C etwa Ofen bei 7500C gebrannt^ Der Flächenwiderstand 20 Minuten lang gebrannt. Die erhaltenen Flächen- eines so hergestellten, 0,381 inm breiten und 25,4 mm widerstände lagen in der Größenordnung von 2 Kilo- langen Leiters betrug 0,45 bis 1,2 Ohm.
ohm mit einem Temperaturkoeffizienten des Wider- Das in den Beispielen benutzte Silber kann völlig stands von etwa 1%O/°C. Die spezifische Oberfläche 65 oder teilweise durch Gold, Platin oder eine Kombider Palladiumoxidteilchen lag in der Größenordnung nation dieser beiden Metalle ersetzt werden, wobei von 3 m2/g. man ähnliche Resultate erhält.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (10)
1. Verfahren zum Herstellen von Leitungsführungen und Widerständen für mikroelektronische
Schaltkreise durch reduzierendes Ausfällen eines Edelmetalls aus der Lösung eines seiner Salze,
Vermischen des Edelmetalls bzw. des zuvor oxydierten Edelmetalls mit einem anderen Edelmetall,
einem Keramikmaterial und einem Bindemittel zu einer Paste, Aufbringen der Paste in Form der
gewünschten Leitungsführungen oder der Widerstände auf das Substrat und anschließendes Erhitzen,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Edelmetallsalzlösung vor dem reduzierenden Ausfällen des Edelmetalls auf einen bestimmten
pH-Wert zwischen 0 und 7 eingestellt wird, daß während der Reduktion eine bestimmte Temperatur
zwischen Zimmertemperatur und der Siedetemperatur der Salzlösung konstant gehalten wird und
das Reduktionsmittel in bestimmter Konzentration und in kontrollierter Dosierung zugegeben wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Reduktion ein Dispergiermittel
in einer Menge, die zwischen 0 und 5°/o/ bezogen, auf das Gewicht der Lösung, liegt, der
Edelmetallsalzlösung zugesetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Edelmetalle Platin, Gold,
Silber, Palladium oder Kombinationen von bis zu drei dieser Edelmetalle verwendet werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Edelmetall Palladium
genommen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Palladium vor der Reduktion in
einer nicht halogenhaltigen Säure gelöst wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß als nicht halogenhaltige Säure
Salpetersäure genommen wird.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß
der pH-Wert der sauren Edelmetallsalzlösung mit Ammoniak eingestellt wird.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß
als Reduktionsmittel eine wäßrige Lösung von Hydrazin verwendet wird.
9. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß
als Reduktionsmittel Ameisensäure genommen wird.
10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß
das Keramikmaterial vor der Reduktion in die Edelmetallsalzlösung gegeben wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US388459A US3345158A (en) | 1964-08-10 | 1964-08-10 | Electrical conductor material and method of making same |
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Publication Number | Publication Date |
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DE1515890B2 DE1515890B2 (de) | 1973-03-22 |
DE1515890C3 true DE1515890C3 (de) | 1973-10-11 |
Family
ID=23534197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1515890A Expired DE1515890C3 (de) | 1964-08-10 | 1965-08-04 | Verfahren zum Herstellen von Widerstanden und Leitungsfuhrungen fur mikroelektromsche Schaltkreise |
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CH (1) | CH490500A (de) |
DE (1) | DE1515890C3 (de) |
GB (1) | GB1082370A (de) |
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US3940261A (en) * | 1974-07-24 | 1976-02-24 | Eastman Kodak Company | Process for preparing crystalline silver particles having electrically conductive surfaces and product |
GB2103659A (en) * | 1981-08-12 | 1983-02-23 | Robert Henry Perrin | Recovery of precious metals from solutions |
EP0363552B1 (de) * | 1988-07-27 | 1993-10-13 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Verfahren zur Herstellung von Metallpulver |
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JP3429958B2 (ja) * | 1996-08-28 | 2003-07-28 | 三井金属鉱業株式会社 | 銀コロイド液の製造方法 |
CA2411796C (en) | 2002-11-13 | 2006-07-25 | Chemical Vapour Metal Refining Inc. | Purification of metals from mixtures thereof |
CA2421832C (en) | 2003-03-13 | 2006-10-10 | Bradley A. Saville | Enhancement of enzyme activity by selective purification |
US8349591B2 (en) | 2008-10-16 | 2013-01-08 | Scientek Llc | Method and apparatus for producing alcohol or sugar using a commercial-scale bioreactor |
CN102717090A (zh) * | 2011-03-31 | 2012-10-10 | 北京有色金属研究总院 | 一种采用液相还原法制备超细铂粉的方法 |
CN103286320A (zh) * | 2013-06-08 | 2013-09-11 | 苏州诺信创新能源有限公司 | 用于太阳能电池的超细银粉的制备方法 |
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US1426517A (en) * | 1916-09-11 | 1922-08-22 | Sulzberger Nathan | Nonpyrophoric catalysts and process for effecting catalytic reactions therewith |
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GB874257A (en) * | 1960-03-02 | 1961-08-02 | Controllix Corp | Improvements in or relating to circuit-breaker actuating mechanisms |
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-
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- 1965-08-10 CH CH1124465A patent/CH490500A/de not_active IP Right Cessation
- 1965-08-10 NL NL6510354A patent/NL6510354A/xx unknown
Also Published As
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GB1082370A (en) | 1967-09-06 |
NL6510354A (de) | 1966-02-11 |
US3345158A (en) | 1967-10-03 |
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CH490500A (de) | 1970-05-15 |
DE1515890A1 (de) | 1969-11-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |