DE1496905A1

DE1496905A1 - Chromplattierungsverfahren

Info

Publication number: DE1496905A1
Application number: DE19641496905
Authority: DE
Inventors: Frank Passal
Original assignee: M&T Chemicals Inc
Current assignee: M&T Chemicals Inc
Priority date: 1963-09-24
Filing date: 1964-09-24
Publication date: 1969-08-14
Also published as: NL148113B; US3341434A; DE1496905C3; GB1050223A; CH471233A; DE1496905B2; NL6411161A

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Chronplattierungs· verfahren und insbesondere auf ein neues Verfahren zur Verhinderung oder Unterdrückung der Entwicklung von Dämpfen aus Chroeplattierungsbädern.

Cs ist bekannt, daft Chromplattierungen mit Bädern durchgeführt werden können, welche Chromsäure und Sulfat (das vorzugsweise als Schwefelsäure eingeführt wird) neben anderen Bestandteilen oder Zusatzstoffen enthält, einschließlich solchen, weiche die

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BAD ORIGINAL,

2 -

Ί~

Plattierungseigenschaften des Bades kontrollieren oder regeln» Typische Regulierungszusatzstoffe sind Strontiumsulfat und Kaliumsiiicofluorid «it oder ohne Zusätzen von Qberschflssigen Strontiumionen (eingeführt in Fora von SrCO₃, SrCrO*, usw.) oder überschüssigen Kaliumionen (eingeführt als K₂CrOf, K₂Cr₂Oy, ^usw·)· wodurch das Bad zu einem mit hoher Geschwindigkeit arbeitenden Bad wird, das sich hinsichtlich der Katalysatoranionan selbst reguliert.

Während der Chromplattierung aus solchen Bädern findet eine sehr heftige Wasserstoffentwicklung an der Kathode und Sauerstoffentwicklung an der Anode statt» Bein Entweichen dieser Gase reissen diese beträchtliche Mengen der Chromplattierungslösung, welche Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure, Schwefelsäure und dergleichen enthält, in die Atmosphäre mit und diese Mengen sind -ausreichend, ura Giftwirkungen auf das an den Bädern arbeitende Personal auszuüben<- Durch längere Einwirkung dieser Dämpfe auf das Perscnal können Entzündungen der Atmungswege, Perforation der Nasenschleimhäute odor Lungenkrebs entstehen.

Die sich bei der Chromplattierung entwickelnden Gase und die in ihnen enthaltenen Chemikalien stollen also ein ernsthaftes Problem <Jar, insbesondere aus dem Grunde, weil sie Giftwirkungen auf das Bedienungspersonal dusüben und darüberhinaus korrodierend auf die Einrichtungen einwirken bzw.. schädlich sind für andere in .der Nähe befindliche Plattierungsbäder, beispielsweise soiclii» zum Nickelplattiercn . Hierbei ist es nämlich wichtig, daß schld«·

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liehe Bentandteile der Gase in die umgebende Atmopshäre gelangen und aus diesem Grunde muss die Entwicklung solcher Grase beschränkt oder unterdrückt werden«, Es wurden schon Versuche unternommen, um diese Hachteile zu beheben, und zwar durch Zunätüe, welche die Entwicklung von Hebeln unterdrücken» welche s:.ch jedoch nur als teilweise erfolgreich erwiesen haben ο Die meisten der bisher bekannten Zusätze sind organische, auf die Oberfläche einwirkende Stoffe gewesen, welche derart wirken, dass auf der Oberfläche des Ghromplattierungsbades eine gröusere Schaummasee aufgebaut wird, wodurch verhindert werden soll, dass der sich entwickelnde Wasserstoff und Sauer-. stoff Flüssigkeit mitreisetο Bei fortlaufender ArBeIt werden jedoch die Schaumeigenechaften dieser bekannten Zusatzstoffe geringer, hauptsächlich well eie eioh verunreinigen oder «ersetzen, und zwar unter der durchgreifenden WEinwirkung des Elektrolyten» Infolgedessen wird der Wert dieser Zusatastoffe als Dunst- und Hebelunterdrückungemittel geringer_o Biese bisher bekannten Dunstunterdrückungsmittel müssen also dem Bad in grosson Mengen zugesetzt werden oder sie müssen häufig aufgefüllt Άerden, und zwar nach sear kurzen Arbeitszeiten» Diese häi.fi^en Zusätze von verhältnismässlg groesen Mengen

■φ

der Dune*,Unterdrückungemittel kann zvl einem unerwünscht raschen Aufbau von Zersetzungeprodukten in dem Bad führen, wodurch dau Katalysatorgleichgewicht des Bades in unerwünschter Weise beeinflusst wirdο

Eb wurde schon versucht, billige Dunstunterdrückungsmittel zu

entwickeln, welche eine lange Lebensdauer besitzen und durch

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die eint; dauerhafte langanhaltende Sehaumdecke auf der Oberfläche des Plattierungsbades erzeugt wird₀ Ea wurde auch schon versucht, Dunstunterdrückungsnijttel su entwickeln, durch die diese erwünschten Erzeugniese erhielt werden, wenn diese Mittel in dem Bad mit geringen Konzentrationen vorliegen und Virelche nur nach verhältnismäßig langen Arbeitszeiten aufgefüllt zu werden brauchen.

Durch dj.e Erfindung wird nunmehr ein neues Duns tun terdrückungsmittel für Elektroplattierungsbäder vorgeschlagen, wodurch eine Schaumdecke von ausserordentlicher Dauerhaftigkeit erzeugt wirdο Ein weiteres Merkmal der Erfindung besteht darin* dass diese DunstunterdrUckungsmittel wirksam sind, wenn sie in dom Bad nur in sehr geringen Konzentrationen vorliegen,. Weitere Merkmale der Erfindung ergeben eich aus der folgenden Beschreibungβ

Die Erfindung betrifft also ein Ohronplattierungsverfahren, wobei in einem Chromsäure und Sulfat enthaltenden Bad gearbeitet wird und wobei an den Elektroden beträchtliche Gas· = mengen entwickelt werden und das Neue der Erfindung besteht daring dass in dem Bad eine verhältnismäseig geringe, die Bildung von Dunst unterdrückende Ksnge an einem sulfonierten 2-Alkylbenßimidas5ol aufrechterhalten wird»

Durch diesen Zusatz wird auf der Badoberfläche, bestehend auB einer wässrigen Chromplattierungslösung,, eine Schaumßchicht von optimaler Stärke erzeugt, welche den sich bilden-

COPY

cer.. Dunst bindet ο

£öSb33/tO5C? _ r ...

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Typische Chrompiattierungsbäder_r bei denen die Erfindung angewandt werden kann, besitzen folgende Zusammensetzungen.

Bevorzugte

Bestandteil e Menge Menge ___ __«____„=__ g/idter g/Liter

Bad X Chromsäure 150-500 250

Sulfationen 1 - 10 2_P5

(zoBo aus Schwefelsäure)

Bad II Chromsäure 150-500 250

Sulfationen . O₉5 -- 5 1

(zoB_o aus Schwefelsäure)

Silicofluoridionen 1-10 2

(ZoBo aus H

Bad III Chromsäure 150-500 400

Sulfationen 1-5 2

(zoBo aus Strontiumsulfat)

Silicofluoridionen 2-8 5

(s₆Bc aus H

Das neue Dunstunterdrückungs=- oder Antiiiebelmittel gemäss der Erfindung !canii ein sulfoiiierteB 2-Alkyl"benzimidasol_f beispielsweise folgender formel

Si/

3f ^

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enthalten, worin Ar ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Phenyl- und NaphthyIringen, wobei diese Ringe der Imidazolstruktur durch benachbarte Kohlenstoffatome des Ringes einverleibt sind, d.h„ durch 2 Kohlenstoff atome, die einander unmittelbar benachbart sind; H ist ein Kation, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Ammonium und Metallen; R ist ein nicht aromatischer Kohlenwasserstoff rest, der mindestens 3 Kohlenstoff atome enthält; R* wird ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Aralkyl, C3 ~sulf oniertem Alkyl, sulfonierten» Aryl und sulfoniert em Aralkyl; H*⁵ wird ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoff, Alkyl und Aralkyl; Y ist ein wasserlösliches Anion und a entspricht den Zahlen 0 oder I₀ Die sulfonierten Benzimidazole, welche in der 2-Stellung Alkenyl-, Cycloalkyl» und Cycloalkenylsubstituenten enthalten, können zu der Bezeichnung "sulfoniertes 2-Alkylbenzimidazol^H zusammen-gefasst werden, welche in der folgenden Beschreibung angewendet wird ο

In dem sulfonierten 2-Alkylbenzimidazol kann die Gruppe Ar aus Phenyl oder Naphthyl und vorzugsweise aus Phenyl bestehen.

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mm H ^.

Das Kation H kann Wasserstoff, Ammoniak oder ein Metall sein. Vorzugsweise wird M ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff₉ Ammoniak, Hatrium, Kalium» Lithium, dreiwertigem Chrom, Calcium, Strontium, Barium« Magnesium, Nickel, Bisen und Kupfer. Vorsugsweise besteht M aus einem Alkalineteil, wie Vatrium, Kalium, Ammonium und Lithium·

Sie Gruppe R kann ein nichtaromatiaoher Kohlenwasserstoff sein, der mindestens 3 Kohlenstoff atome enthält. Toreugsweise kann R ausgewählt werden aus der Gruppe bestehend aus Alkyl-, Cycloalkyl-, Alkenyl- und Oycloalkenylreeten. R enthält vorsugsweise mindestens 8, s.B. 8 bis 18 Kohlenstoffatomen Die Gruppen R können vorzugsweise aus n-Ootyl, Isoootyl, Honyl, Deoyl, Undeoyl, Tridecyl, Pentadeoyl, Heptadecyl, Ootadeoyl, 4-Äthylcyolohexyl, Ootenyl, Honenyl, Ondecenyl, Tridecenyl, Pentadeoenyl, Heptadeoenyl, 4-Amyloyolohexenyl, usw. bestehen·

Die Gruppe R* kann aus Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Aralkyl, co -sulfonierten Alkyl, sulfonlertem Aryl oder sulfoniertem Aralkyl bestehen. Vorzugsweise kann R' ein <# -«Blfoniertes Alkyl, sulfoniertes Aryl oder eulfoniertee Aralkyl sein und besonders ssweekmässig wird S* auegewählt aus der Gruppe bestehend aus

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u) - sulfoniertem niederen Alkyl (d.h. einem weniger als etwa 6 Kohlenstoffatomen enthaltendem Alkyl), sulfonierten Phenyl und sulfonierten! Benzyl. Die in der R'-Gruppe enthaltene Sulfonatgruppe kann der Formel HO-S- entsprechen, wobei H vorzugsweise ein Alkalimetall, wie Hatrium, Kalium, Ammonium ader Lithium ist.

Die Gruppe R'' kann Wasserstoff, Alkyl oder Aralkyl sein. Vorzugsweise wird R** ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, niederem Alkyl (d.h. einem weniger als 6 Kohlenstoffatome enthaltendem Alkyl) und Benzyl und besonders Bwaofcmäeeig besteht R¹' aus Benzyl.

Die Gruppe Y kann ein sich lösendes Anion, zweokmässig ein wasserlösliches Anion sein. Vorzugsweise wird Y ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Bronid, Jodid, Sulfat, Acetat» Methosulfat, λthosulfat, Oitrat und Perchlorate

Öle sulfonierten 2-AlkylbenEimidazole, welche in der Stoffsueaamensetzung gemäee der Erfindung enthalten sein können, ktfnnen ein quaternäres Stickstoffatom aufweisen. So kann a - 1 rein und die Verbindung kann aus einem quaternlsierten sulfonierten 2-Alkylbenzimidasol bestehen. Wenn a « 0 ist, kann die zugesetzte Verbindung kein quaternisiertes Stickstoffatom enthalten.

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INSPECTED

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Beispiele von bevorzugten sulfonierten 2-AXkylimidazolverbindungen» welche in dem neuen DunstunterdrUckungsmittel gemäss der Erfindung angewendet werden können_s sind:

A. Natrium-2-n-heptadecyl, 3-Sulfophenylbenzimidazolsulfonat· B. Natrium-2-n-heptadecyl, 3-Sulfobentylbenzimidazoisulfonat. C. Kalium-2-n-ictyl, S-uJ-Sulfo-n-buty^benzimidazolsulfonat.

D. Natrium-t-benzyl-2-n-undecyl, 3-Sulfobenzylsulfobenzimidazolbro!» r.d.

E< Kalium-1 -methyl, 2-PentadecyI₉ a-Sulfoplianylsulfobenzimidazolacetat.

F. Natiuum-t-athyl, 2-Nonyl» 3-tO-Sulfo-n-propylsulfobenzimidazolclthosulfat.

G. Aramoniuni-2-isooctyl, 3~Sulfophenyl, Benzimidazolsulfonat.

In dem Plattierungsbad liegt das. sulfonierte 2-Alkylbenzimidazol offenbar in einer ionisierten Form folgender Formel

·■·■

. R^f

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BAD

U96905 - ίο -

Es ist einleuchtend, dass» wenn R¹ auch noph eine Sulfonatgruppe enthält, diese Gruppe auch in der ionisierten ^O-S-Form vorhanden sein kann· Die Stickstoffatome des Imidazolringes können in dem stark sauren Plattierungsbad ebenfalls in Form von ionisierten quatemärem Stickstoff vorliegen.

Die neuen Dunstunterdrückungsraittel ge räss der Erfindung können dem Bad in fester Form oder als wässrige Lösung zugesetzt werden. Die Losungen können etwa 1 bis '20, vorzugsweise lO-Gew.% des neuen ÖunstunterdrÜckungsitiittels enthalten-« Das trockene Material kann auch beispielsweise zu Pellets verpresst werden, vorzugsweise zusammen eit einem Zusatzstoff, wie Natriumbicarbonat. Es können auch Mischungen der genannten sulfonierten 2-AikylbenziBiidazole verwendet werden. .

Es ist gefunden worden, dass, wenn nur 0,001 g/l der neuen die Dunetbiidung unterdrückenden Stoff zusammensetzung einem Chrom— saurebad bei einem Chromplattierungs ve rf ahren zugesetzt wird, hierdurch die Entwicklung von Dunst und Sprühnebeln wesentlich verringert wird. Obwohl diese Zusatzstoffe in ChromsSurebädera stabil sind, zersetzen sie sich etwas und bei längerer Anwendung der Bäder werden sie aufgebraucht, und zwar entsprechend dem Verbrauch des Bades« Die zunächst dem Bad zugesetzte geringste Menge wird in hohem Masse durch die jeweils angewendete Auf fül lungs geschwindigkeit des Bades beherrscht. Sie wird

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BAD

weiterhin bestimmt durch Kostenberechnungen, durch die Stärke des verwendeten Plattierungsetromes und durch die eigentliche Konstruktion der Plattierungsbehälter. Bäder, welche mit diesem Zusatzstoff genäse der Erfindung versehen sind, bilden bei Gebrauch auf der Badeoberfläche eine Schaindecke. Ee ist wünschenswert, dass diese Schaumdecke stabil ist und eine gewisse, jedoch nicht zu grosse Stärke besitzt,' «ras schädlich sein kann, wegen der in der Schaumoas&e zurückgehaltenen Sauerstoff- und Wasserstoff mengen. Aus diesen Grunde wird der geometrische Aufbau der Plattierungsanlage die jeweilige Konzentration des Zusatzstoffes beeinflussen und damit die Stärke der Schaumdecke bei einem bestirnten Badvolumen. Da die neuen Dunstunterdrückungsmittel genäss der Erfindung eine ausgezeichnete Schaumkraft besitzen» braucht nicht mehr als etwa 0,2 g/l dieses Zusatzmittels in dem Bad zu irgendeiner Zeit zugegen sein· Das Bad kann vorzugsweise weniger als 0,2 g/l und beispielsweise 0,001 bis 0,2 g/l enthalten. Für Zwischenbehandlungen können grSssere Mengen angewendet werden, jedoch ist es bei einer kontinuierlichen Elektrolyse zweckmäesi·», nur 0,02 g/l oder weniger anzuwenden, da anderenfalls der '.Jehau» bis 'zu einer unerwünschten Stärke anwachsen kann.

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Bei einer zweckmässigen Ausführungsform der Erfindung, gann das neue die Dunstbildung unterdrückende Mittel in den Chromplattiarungsbadern in einer &enge von etwa 0,001 bis 0,2 g/l zugegen sein_o

Torzugeweise wird die Stoffzusammensetzung in einer Menge von 0,002 bis 0,05, beispielsweise 0,01 g/l des Bades angewendet«

Se ist gefunden worden, dass die die Dunstbildung unterdrückenden Eigenschaften der neuen Stoffzusammensetzung ge-Bass der Erfindung über sehr lange Zeit andauern, selbst wenn nur sehr geringe Konzentrationen des Dunstunterdrückungs« mittels angewendet werden«

Wegen der aussergewöhnlichen Stabilität und der grossen Wirksamkeit dieser BunetunterdrUckungsmittel wird eine Verunreinigung des Bades durch Zersetzungeprodukte sehr gering sein«

Der Erfindungsgegenstand ist in den folgenden Beispielen naher erläutert, ohne hierauf beaühr&nfct zu sein»

BAD

Beispiel 1

Es wurde ein Chromplattierungsbad folgender Zusammensetzung hergestellt:

CrO, 205 g/l

0,5 g/l 2,0 g/i

205 1 dieser Lösung wurden in einfplattierungstank eingefüllt,

ρ wobei die Badtiefe 57,7 cm und die Badoberfläche 3570 cm betrug« Bleianoden und eine Stahlkathode wurdenin den Tank eingesetzt und die Temperatur der Lösung wurde durch einen Thermostaten auf 45°C gehalten.

Durch das Elektrolyeebad wurde ein Strom einer Stärke von 190 Amp geleitet und an den Elektroden war eine heftige Dunstentwicklung festausteilen. Diese Dunstentwicklung ließ sich schon sichtbar feststellen und v>enn ein weisses Blatt Papier etwa 5 cm Über der Lösung in der Nähe der Elektroden gehalten wurde, so war ein ausgedehntes und ein rasches Benetzen und eine Braunverfärbung an der Unterseite des Papiers festzustellen.

Dieser Lösung wurden dann 0,05 g/l Uatrium—2-n-heptadecenyl-3-sulfobenzylbenzimidazolsulfonat zugesetzt, wobei die Dunstentwicklung vollkommen aufhörte. Die Stärke der Dunstschicht wurde von i-eit zu Zeit gemessen, wobei folgendes festgestellt

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wurdet

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9.15 früh	f.. Strom eingeschaltet
9.50	Schaumschichtstärke 7,6 ca
10.00	15,2
10.30	11,4
11.00	7,6-15,2
11.30	10,2-15,2
11.45	7,6 (Lösung gerührt)
12.00	7,6 , . '
12.45	1,3-6,4 "*
13.18	10,2
14.00	7,6
17.00	2,5-15,2
17.10	Strom ausgeschaltet.

Die Lösung wurde über Nacht auf Haumtemperatiir abgekühlt.

Am nächsten Tage wur.de mit der Elektrolyse wieder begonnen und die Dunstentwicklung wurde den ganzen Tag über (8 Stunden lang) wirksam unterdrückt. Die Sehaumstärke betrug § Tfhr vormittags l_t6 bis 15,2 cm und 17 Uhr nachmittags 2,5 bis 6,4 cm.

An einem dritten Tage wurde mit der Elektrolyse wieder begonnen, und zwar mit einer Stromstärke von 150 Amp, wobei, die Dunstentwjeklung den ganzen Tag über (8 Stunden lang); wirksam unterdrückt wurde« Gegen Ende des dritten Tages begann die ScJbaumd eel e geringer zu werden. Durch. Zusatz von nochmals 0,005 g/l de; gleichen sulfonierten 2-Alky!benzimidazole wurde die Dunst entwicklung weitere 8 Stunden lang vollkommen unter-' drückt.

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- US *

Beispiel 2

4 1 einer Chromplattierungslösung, die 250 g CrO~ _und 2,5 g SOj^B im Liter enthielt, wurde in ein Elektrolysiergefäß eingefüllt. Me Lösun^stiefe betrug 21 cm und die Oberfläche der FliissigkerVt etwa 195 cm . Die lösung wurde auf 49°C erwärmt und jgwei Dleianoden und eine Hessingkathode wurden in die flüssigkeit eingetaucht und ein Strom iron 5 Amp wurde durchgeleitet. An den Elektroden war eine heftige Dunstbildung zu beobachten.

Der ElektJOlyeelÖsung wurde »atriu«-2-n-heptadecyl-3-sulfo~ benzylbem;imidazol8ulfonat in einer.Menge von 0,005 g/l, d.h. insgesamt C,02 g sugesetsst. TSb bildete eich eine Schaumdecke von etwa 2,5 cm Stärke und die Sunstentwlcklung wurde Über 7 Stunden "El.ektrolysedauer wirkungsvoll unterdrückt.

Beispiel 5

In ähnlicher Weise, wie- in Beispiel 2 beschrieben, wurde liatritM-2--n--heptadecenyl-3-«»*«ulfo-n--propylbeneiiiidazölBulfonat als BunstiinterdrückungHmittel geprüft. Durch Zupatz von 0^1 g/l dieses l<a-erials zu einem Ghromplattierungsbad wurde eine völlkommei e Unterdrückung der Dunatblldung erreicht undwlhrend der 6 Stunden dauernden!Uektrolyee bildete eioh eine Schaum-Bchicht von etwa 2,5 cm Stärke.

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Aus diesen Beispielen let ersichtlich, daß die neuen Dunstunterdrückungsmittel $em3ß der Erfindung ausgezeichnet: dauere häft und wirksam sind. '

¹SIn wesentliches Merkmal der neuen Verbindungen gemäß der Erfindung besteht darin, daß in einem üblichen ElektrolyeebcÄ ein geringerer Aufbau an Sulfat stattfindet, als es bei den bisher bekannten Dunstunterdrückungsmitteln der Fall ist« Sulfationen entstehen, wenn sich die DunstunterdrUokungsmittel in dem Plattierungebad, zersetzen. Da die Mittel der 7?rfindung vielfach wirksamer sind, als die bisher irüf« wendeten Hittel brauchen sie nicht so häufig zugesetzt und der Sulfataufbau wird auch hierdurch verringert.

Die Antidunstmittel gemäß der Erfindung haben auch noefe i§ü Verteil, daß pie wesentlich billiger sind, mehr Schaum pro Gewichteeinheit des Zusatzstoffes entwickeln und dauerhaft*_ Schäume Über lSngere Gebräucheaeiten eriaeugt werden«

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Claims

1· Chromplattierungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß öera Chronplattierungsbad eine geringe Menge eines die Ounstbildun^ unterdrückenden Mittels,bestehend aus einem sulfonier ten 2-Alkylbenzimidazol,zugesetzt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1*, dadurch gekennzeichnet, daß das sulfonierte 2-Alkylbenzimidazol dem Plattierungsbad in einer Menge vqn 0,001 bis 0,2 g/l zugesetzt wird.

3· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein sulfrniertes Benzimidazol der Formel

Υ R"
a ^ y· a

verwendet wird, worin Ar ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Phenyl- und NaphthylrIngen, wobei dieser Ring der Imidazolstruktur durch benachbarte Eohlenstoffatome des Ringes einverleibt ist, ¥ ein Kation bezeichnet, das aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff, Ammonium und Metallen abgeleitet wird, R ein nichtaromatischer Kohlenwasserstoff mit 3 bis 18 Kohlenstoff atomen ist, R¹ ausgewählt -wird aus der

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Gruppe bestehend aus oo-salfoniertem niederem Alkyl, sulfo- -niertem Phenyl and sulfonierten Benzyl, R" ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoff,, niederem Alkyl und Benzyl, T ein wasserlösliches Anion ist und a der Ziffer O oder 1 entspricht«

4-. Verfahren nach Anspruch 1,bia 3» dadurch gekennzeichnet, daß der Zusatzstoff in einer Menge von 0,002 bis 0,05 g/l

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angewendet wird. ν s.

5. Yerf ahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das sulfonierte 2-Alkylbenzimidazol aus 2-n-Heptadeeyl-3-sulfophenyl- bzw.-benzylbenzimidazolsulfonat oder aus Hatrium-2-n-heptade6yl~3-«o-eulfo-n-propylbenziniidazolsulfonat besteht.

PATENTANWÄirt

Ofc-WGK-FINCKE DIPl.-ING.RBOI» DtPL-!MG S. ETAiSER

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