DE112017007491B4 - Halbleitervorrichtung - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 59
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/778—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
- H01L29/7786—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface with direct single heterostructure, i.e. with wide bandgap layer formed on top of active layer, e.g. direct single heterostructure MIS-like HEMT
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/02373—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02381—Silicon, silicon germanium, germanium
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02538—Group 13/15 materials
- H01L21/0254—Nitrides
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02579—P-type
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0642—Isolation within the component, i.e. internal isolation
- H01L29/0649—Dielectric regions, e.g. SiO2 regions, air gaps
- H01L29/0653—Dielectric regions, e.g. SiO2 regions, air gaps adjoining the input or output region of a field-effect device, e.g. the source or drain region
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- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
- H01L29/107—Substrate region of field-effect devices
- H01L29/1075—Substrate region of field-effect devices of field-effect transistors
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- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
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- H01L29/66446—Unipolar field-effect transistors with an active layer made of a group 13/15 material, e.g. group 13/15 velocity modulation transistor [VMT], group 13/15 negative resistance FET [NERFET]
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- H01L29/778—Field effect transistors with two-dimensional charge carrier gas channel, e.g. HEMT ; with two-dimensional charge-carrier layer formed at a heterojunction interface
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Abstract
Halbleitervorrichtung, aufweisend:- ein Si-Substrat (1) mit hohem Widerstand;- eine Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4), die auf dem Si-Substrat (1) mit hohem Widerstand ausgebildet ist;- eine Gateelektrode (5), eine Sourceelektrode (6) und eine Drainelektrode (7), die auf der Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4) ausgebildet sind; und- eine leitfähige Schicht (11) vom P-Typ, die mit der Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4) in Kontakt und auf dem Si-Substrat (1) mit hohem Widerstand unterhalb der Drainelektrode (7) ausgebildet ist, wobei die leitfähige Schicht (11) vom P-Typ nicht unterhalb der Gateelektrode (5) und der Sourceelektrode (6) ausgebildet ist.
Description
- Gebiet
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit (HEMT) aus Nitrid, der auf einem Si-Substrat ausgebildet ist.
- Hintergrund
- Ein GaN-HEMT mit einer AIGaN/GaN-basierten Heterostruktur wurde aktiv entwickelt, da verglichen mit einem GaAs-basierten HEMT solch ein Transistor eine große Hochfrequenz-(HF)-Ausgangsleistungsdichte aufweist und die Vorrichtungsgröße, das heißt die Gatebreite, reduziert werden kann. Wenn beispielsweise ein GaN-HEMT mit der gleichen Leistung wie der GaAs-basierte HEMT realisiert wird, kann der Drainstrom reduziert werden, da die Durchschlagspannung groß ist, kann die Transistorgröße reduziert werden und kann auch die Zwischenelektroden-Kapazität reduziert werden. Daher nimmt die Ausgangsimpedanz zu, nimmt der Leistungsverlust aufgrund des seriellen parasitären Widerstands ab, nimmt das Impedanzänderungsverhältnis ab und wird das Band breit.
-
7 zeigt eine Eingangs/Ausgangs-Charakteristik einer GaN-auf-Si-Vorrichtung. Bei niedriger Temperatur ist die Eingangs/Ausgangs-Charakteristik normal. Bei einer hohen Temperatur fällt jedoch die Ausgangsleistung, nachdem sie gesättigt ist, ab einer signifikant niedrigeren Eingangsleistung als bei niedriger Temperatur. Die hohe Temperatur ist hier beispielsweise eine Bedingung, in der die Si-Substrattemperatur 180°C übersteigt, und die Temperatur unterhalb dieser ist die niedrige Temperatur. Das Si-Substrat ist günstiger als ein SiC-Substrat, weist aber das oben beschriebene Problem auf. -
8 zeigt den spezifischen Widerstand eines Si-Substrats mit hohem Widerstand. Der spezifische Widerstand des Si-Substrats ändert sich mit der Temperatur und nimmt bei einer Temperatur von 180°C oder höher schnell ab. Dies verhält sich so, weil aufgrund einer kleinen Bandlücke von Si Träger erzeugt werden. Daher ist die Abnahme in der Ausgangsleistung des GaN-auf-Si-HEMT bei hoher Temperatur auf die Abnahme im Substratwiderstand zurückzuführen. Dies ist ein einem Si-Substrat inhärentes Problem. Im Fall eines SiC-Substrats, das eine etwa dreimal so große Bandlücke wie diejenige von Si aufweist, tritt die Abnahme im spezifischen Widerstand nicht auf. -
9 ist eine Querschnittsansicht, in der Ausgangsleistungspfade, wenn der spezifische Widerstand des Si-Substrats hoch und niedrig ist, in einem AUS-Zustand miteinander verglichen werden, das heißt, wenn der Kanal im HF-Betrieb abgeschnürt ist. Bei einer niedrigen Temperatur ist der Substratwiderstand Rs groß, und die Drain-Source-Kapazität Cds ist auch klein. Aus diesem Grund leckt, obgleich HF-Leistung versucht, über den Pfad über die rückwärtige Elektrode zu gelangen, HF-Leistung kaum in diesem Pfad. Indes wird bei einer hohen Temperatur der Substratwiderstand Rs gesenkt, so dass ein einfacher Durchgang der HF-Leistung ermöglicht wird, und die Drain-Source-Kapazität Cds wird durch den niedrigen Widerstand des Si-Substrats schnell erhöht. Aus diesem Grund nimmt auch eine Leckage von HF-Leistung schnell zu, und es tritt ein Phänomen auf, dass die Ausgangsleistung nicht zunimmt, selbst wenn die Eingangsleistung erhöht wird. - Folglich gibt es, obgleich der GaN-auf-Si-HEMT für kostengünstige und mit hoher Leistung betriebene Vorrichtungen geeignet ist, ein Problem, dass ein HF-Betrieb bei hoher Temperatur instabil ist. Um dieses Problem zu lösen, wurde vorgeschlagen, die Drainelektrode zu teilen und die geteilten Teilbereiche zu isolieren, um so die parasitäre Kapazität mit dem Substrat zu reduzieren und den HF-Betrieb bei hoher Temperatur zu verbessern (siehe zum Beispiel PTL 1). Es wurde auch vorgeschlagen, die Drainelektrode zu teilen und eine schwach dielektrische Schicht mit einer Dielektrizitätskonstante, die niedriger als diejenige von GaN ist, zwischen den geteilten Teilbereichen einzubetten, um so die Drain-Source-Kapazität zu reduzieren und den HF-Betrieb bei hoher Temperatur zu verbessern (siehe zum Beispiel PTL 2).
- Zitatliste
- Patentliteratur
-
- [PTL 1] Japanische Patentanmeldung
JP 2011 204 984 A - [PTL 2] Japanische Patentanmeldung
JP 2015 079 923 A - Die
JP 2013 038 250 A - Die
US 2012 / 0 153 355 A1 - Zusammenfassung
- Technisches Problem
- In einem GaN-auf-Si-HEMT wird ein Si-Substrat mit hohem Widerstand verwendet. Wenn die Temperatur hoch wird, beginnt eine Akkumulierung von Elektronen im Si-Substrat an der Grenze zwischen dem Nitrid-Halbleiter und dem Si-Substrat unter der Drainelektrode. Dies wird ein Leckpfad der HF-Leistung, und ferner erzeugt die entwichene Leistung Wärme, wodurch ein Zyklus angestoßen wird, in welchem der spezifische Widerstand des Si-Substrats gesenkt wird. Infolgedessen nimmt die Drain-Source-Kapazität schnell zu und nimmt die Ausgangsleistung ab. Daher wird, wenn ein GaN-auf-Si-HEMT als eine HF-Hochleistungsvorrichtung verwendet wird, selbst wenn die Eingangsleistung bei hoher Temperatur erhöht wird, die Ausgangsleistung gesättigt und nimmt in einer frühen Phase ab.
- Mit der herkömmlichen Technik, bei der eine Drainelektrode geteilt wird und die geteilten Teilbereiche isoliert werden, ist es schwierig, die parasitäre Kapazität zwischen der Drainelektrode und dem Si-Substrat zu reduzieren, und es ist schwierig, eine Abnahme im spezifischen Widerstand zu verhindern. Außerdem ist es mit der herkömmlichen Technik, bei der eine Drainelektrode geteilt und eine schwach dielektrische Schicht zwischen den geteilten Teilbereichen eingebettet wird, schwierig, die Abnahme im spezifischen Widerstand des Si-Substrats zu verhindern.
- Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um die Probleme wie oben beschrieben zu lösen, und deren Aufgabe besteht darin, eine Halbleitervorrichtung zu erhalten, die es ermöglicht, Hochfrequenzcharakteristiken bei hoher Temperatur zu verbessern.
- Lösung für das Problem
- Die der Erfindung zu Grunde liegende Aufgabe wird bei einer Halbleitervorrichtung erfindungsgemäß mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der jeweiligen abhängigen Ansprüche.
- Eine Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst: ein Si-Substrat; eine Nitrid-Halbleiterschicht, die auf dem Si-Substrat vorgesehen ist; eine Gateelektrode, eine Sourceelektrode und eine Drainelektrode, die auf der Nitrid-Halbleiterschicht vorgesehen sind; und eine leitfähige Schicht vom P-Typ, die mit der Nitrid-Halbleiterschicht in Kontakt und auf dem Si-Substrat unterhalb der Drainelektrode vorgesehen ist.
- Vorteilhafte Effekte der Erfindung
- In der vorliegenden Erfindung ist die leitfähige Schicht vom P-Typ unterhalb der Drainelektrode vorgesehen. Aus diesem Grund kann verhindert werden, dass im Si-Substrat bei hoher Temperatur erzeugte Elektronen unter der Drainelektrode akkumuliert werden. Daher gibt es keine Elektronen, die Hochfrequenzleistung entweichen lassen, und es ist möglich, zu verhindern, dass im AUS-Zustand Hochfrequenzleistung zur Substratseite leckt. Folglich ist die Abnahme in der Ausgangsleistung bei hoher Temperatur eliminiert, und Hochfrequenz-Charakteristiken bei hoher Temperatur können verbessert werden.
- Figurenliste
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1 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 1 der vorliegenden Erfindung zeigt. -
2 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 2 der vorliegenden Erfindung zeigt. -
3 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 3 der vorliegenden Erfindung zeigt. -
4 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 4 der vorliegenden Erfindung zeigt. -
5 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 5 der vorliegenden Erfindung zeigt. -
6 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 6 der vorliegenden Erfindung zeigt. -
7 zeigt eine Eingangs/Ausgangs-Charakteristik einer GaN-auf-Si-Vorrichtung. -
8 zeigt den spezifischen Widerstand eines Si-Substrats mit hohem Widerstand. -
9 ist eine Querschnittsansicht, in der Ausgangsleistungspfade, wenn der spezifische Widerstand des Si-Substrats hoch und niedrig ist, in einem AUS-Zustand miteinander verglichen werden, das heißt, wenn der Kanal im HF-Betrieb abgeschnürt ist. - Beschreibung von Ausführungsformen
- Eine Halbleitervorrichtung gemäß den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung wird unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. Die gleichen Komponenten sind durch die gleichen Symbole bezeichnet, und deren wiederholte Beschreibung kann weggelassen werden.
- Ausführungsform 1
-
1 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 1 der vorliegenden Erfindung zeigt. Diese Halbleitervorrichtung ist ein GaN-auf-Si-HEMT. Ein Si-Substrat 1 ist beispielsweise ein Si-Substrat mit hohem Widerstand, das einen Widerstand von etwa 10.000 Ω·cm bei Raumtemperatur aufweist. - Eine Pufferschicht 2, eine Elektronenübergangsschicht 3 und eine Elektronenzufuhrschicht 4 werden mittels Kristallwachstum als Nitrid-Halbleiterschichten auf dem Si-Substrat 1 vorgesehen. Die Pufferschicht 2 wird zum Beispiel gebildet, indem eine Vielzahl von AlGaN-Schichten mit verschiedenen AI-Konzentrationen laminiert wird. Die Elektronenübergangsschicht 3 ist beispielsweise eine nicht-dotierte GaN-Schicht. Die Elektronenzufuhrschicht 4 ist beispielsweise eine AlGaN-Schicht mit einer Al-Zusammensetzung von 0,1 bis 0,5 oder eine zwischen der AlGaN-Schicht und der Elektronenübergangsschicht 3 ausgebildete AIN-Schicht.
- Eine Gateelektrode 5, eine Sourceelektrode 6 und eine Drainelektrode 7 sind auf der Elektronenzufuhrschicht 4 vorgesehen. Die Gateelektrode 5 besteht beispielsweise aus einem Ni/Au-basierten Material. Die Sourceelektrode 6 und die Drainelektrode 7 bestehen beispielsweise aus einem Ti/Al-basierten Material. Ein unterer Isolierfilm 8 und ein oberer Isolierfilm 9 sind vorgesehen, um diese Elektroden zu schützen. Der untere Isolierfilm 8 und der obere Isolierfilm 9 sind beispielsweise Siliziumnitridfilme. Eine rückwärtige Elektrode 10 ist auf der rückwärtigen Oberfläche des Si-Substrats 1 vorgesehen. Die rückwärtige Elektrode 10 besteht beispielsweise aus einem Ti/Au-basierten Material.
- Eine leitfähige Schicht 11 vom P-Typ in Kontakt mit der Pufferschicht 2 ist auf dem Si-Substrat 1 unterhalb der Drainelektrode 7 vorgesehen. Die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ wird beispielsweise mittels Ionenimplantation gebildet, und Bor (B), Aluminium (Al) oder dergleichen wird als Dotierstoff vom P-Typ verwendet. Die Störstellenkonzentration der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ beträgt vorzugsweise 5E16 cm-3 oder mehr. Die Implantationstiefe der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ kann 1 Mikrometer oder weniger betragen.
- Wenn ein GaN-auf-Si-HEMT als eine Hochfrequenzvorrichtung genutzt wird, wird ein Si-Substrat 1 mit hohem Widerstand verwendet, um zu verhindern, dass die HF-Leistung zur Substratseite leckt und damit die Verschlechterung der Ausgangs-Charakteristik verursacht wird. Bei einer hohen Temperatur beginnt jedoch im Si-Substrat 1 die Erzeugung von Trägern. In dem GaN-auf-Si-HEMT wird ferner ein Hochspannungsbetrieb durchgeführt, um die Charakteristiken des GaN-basierten Materials auszunutzen. Beispielsweise wird als die Drainspannung gewöhnlich etwa 50 V genutzt. Da die Drainspannung hoch ist, werden Elektronen unter den im Si-Substrat 1 erzeugten Trägern unter der Drainelektrode 7 auf der Seite des Si-Substrats 1 konzentriert, die mit der Pufferschicht 2 in Kontakt ist.
- Im Gegensatz dazu ist in der vorliegenden Ausführungsform die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ unterhalb der Drainelektrode 7 vorgesehen. Aus diesem Grund kann verhindert werden, dass im Si-Substrat 1 bei hoher Temperatur erzeugte Elektronen unter der Drainelektrode 7 akkumuliert werden. Deshalb gibt es keine Elektronen, die eine Hochfrequenzleistung entweichen lassen, und es ist möglich, zu verhindern, dass Hochfrequenzleistung im AUS-Zustand zur Substratseite leckt. Als Folge ist die Abnahme in der Ausgangsleistung bei hoher Temperatur eliminiert, und Hochfrequenz-Charakteristiken bei hoher Temperatur können verbessert werden. Infolgedessen ist es möglich, einen GaN-auf-Si-HEMT zu verwirklichen, der bei einer höheren Temperatur als die herkömmlichen Transistoren arbeiten kann.
- Wenn jedoch die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ auf der ganzen Oberfläche des Si-Substrats 1 einschließlich der Bereiche unter der Gateelektrode 5 und der Sourceelektrode 6 ausgebildet ist, leckt, obwohl eine Ausgangsleistungsabnahme bei hoher Temperatur unterdrückt werden kann, die HF-Leistung bei niedriger Temperatur über die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ. Da die Sourceelektrode 6 die gleiche Spannung wie die Elektrode 10 auf der rückwärtigen Oberfläche aufweist, ist es, selbst wenn die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ unter der Sourceelektrode 6 ausgebildet ist, ferner verglichen mit unter der Drainelektrode 7 weniger wahrscheinlich, dass sich Elektronen darin akkumulieren, und es zeigt sich kein Effekt. Daher wird die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ nicht unterhalb der Gateelektrode 5 und der Sourceelektrode 6 vorgesehen.
- Ausführungsform 2
-
2 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 2 der vorliegenden Erfindung zeigt. Wenn die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ vorgesehen ist, kann eine Leckage einer Hochfrequenzleistung bei niedriger Temperatur zunehmen. Indes ist in der vorliegenden Ausführungsform die Breite der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ kleiner als die Breite der Drainelektrode 7. Infolgedessen kann eine Leckage einer Hochfrequenzleistung zum Substrat bei niedriger Temperatur reduziert werden, und die Charakteristiken bei niedriger Temperatur können verbessert werden. Sonstige Merkmale und Effekte sind die gleichen wie in der Ausführungsform 1. - Ausführungsform 3
-
3 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 3 der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Breite der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ ist größer als die Breite der Drainelektrode 7. Infolgedessen kann verglichen mit der Ausführungsform 1 eine Leckage einer Hochfrequenzleistung zur Substratseite bei hoher Temperatur reduziert werden. Sonstige Merkmale und Effekte sind die gleichen wie in der Ausführungsform 1. Wenn die Breite der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ vergrößert wird, wird bei niedriger Temperatur eine Leckage einer Hochfrequenzleistung erhöht. Diese Ausführungsform ist jedoch effektiv, wenn die Charakteristiken bei hoher Temperatur als wichtig erachtet werden. - Ausführungsform 4
-
4 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 4 der vorliegenden Erfindung zeigt. Die leitfähige Schicht 11 vom P-Typ weist eine Schicht 11 a mit hoher Konzentration und eine Schicht 11b mit niedriger Konzentration auf, die außerhalb der Schicht 11a mit hoher Konzentration vorgesehen ist und eine Störstellenkonzentration aufweist, die niedriger als diejenige der Schicht 11a mit hoher Konzentration ist. Die Schicht 11a mit hoher Konzentration und die Schicht 11b mit niedriger Konzentration werden zum Beispiel mittels Ionenimplantation gebildet, und als Dotierstoff vom P-Typ wird Bor (B), Aluminium (Al) oder dergleichen verwendet. - Wenn die Breite der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ wie in der Ausführungsform 3 vergrößert wird, wird bei niedriger Temperatur eine Leckage einer Hochfrequenzleistung erhöht. Im Gegensatz dazu ist es, wenn die Schicht 11a mit hoher Konzentration und die Schicht 11b mit niedriger Konzentration wie in der vorliegenden Ausführungsform vorgesehen werden, einfach, sowohl die Charakteristiken bei hoher Temperatur als auch die Charakteristiken bei niedriger Temperatur zu erreichen. Das heißt, es ist einfach, die Charakteristiken bei niedriger Temperatur einzustellen, während verhindert wird, dass die im Si-Substrat 1 bei hoher Temperatur erzeugten Elektronen unter der Drainelektrode 7 akkumuliert werden. Infolgedessen kann die Einstellung auf den für den Verwendungszweck einer Vorrichtung optimalen Zustand vorgenommen werden. Sonstige Merkmale und Effekte sind die gleichen wie in der Ausführungsform 1.
- Ausführungsform 5
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5 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 5 der vorliegenden Erfindung zeigt. Die Drainelektrode 7 ist auf der leitfähigen Schicht 11 vom P-Typ geteilt, und ein Hohlraum 12 ist in der Pufferschicht 2, der Elektronenübergangsschicht 3 und der Elektronenzufuhrschicht 4 vorgesehen. Beispielsweise werden die Pufferschicht 2, die Elektronenübergangsschicht 3 und die Elektronenzufuhrschicht 4 unter Verwendung eines Gases auf Chlorbasis trockengeätzt, um den Hohlraum 12 so zu bilden, dass das Si-Substrat 1 freigelegt wird. Infolgedessen ist es, da die Drain-Source-Kapazität reduziert werden kann, weniger wahrscheinlich, dass die Hochfrequenzleistung bei hoher Temperatur zur Substratseite leckt. - Ausführungsform 6
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6 ist eine Querschnittsansicht, die eine Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 6 der vorliegenden Erfindung zeigt. Ein Material 13 mit einer niedrigen Dielektrizitätskonstante, das eine niedrigere Dielektrizitätskonstante als Dielektrizitätskonstanten der Pufferschicht 2, der Elektronenübergangsschicht 3 und der Elektronenzufuhrschicht 4 aufweist, ist im Hohlraum 12 eingebettet. Das Material 13 mit einer niedrigen Dielektrizitätskonstante ist zum Beispiel Benzocyclobuten, ein Polyimid, ein Polyfluorkohlenstoff oder dergleichen. Infolgedessen ist es, da die Drain-Source-Kapazität reduziert werden kann, weniger wahrscheinlich, dass die Hochfrequenzleistung bei hoher Temperatur zur Substratseite leckt. Im Fall einer mit einem Gussharz versiegelten Vorrichtung wird in der Ausführungsform 5, da das Gussharz mit einer etwas hohen Dielektrizitätskonstante in den Hohlraum 12 eintritt, der Effekt reduziert. Im Gegensatz dazu kann dies in der vorliegenden Ausführungsform, in der das Material 13 mit einer niedrigen Dielektrizitätskonstante, das eine niedrigere Dielektrizitätskonstante als diejenige des Gussharzes aufweist, im Hohlraum 12 eingebettet wird, verhindert werden. - Bezugszeichenliste
-
- 1
- Si-Substrat;
- 2
- Pufferschicht (Nitrid-Halbleiterschicht);
- 3
- Elektronenübergangsschicht (Nitrid-Halbleiterschicht);
- 4
- Elektronenzufuhrschicht (Nitrid-Halbleiterschicht);
- 5
- Gateelektrode;
- 6
- Sourceelektrode;
- 7
- Drainelektrode;
- 11
- leitfähige Schicht vom P-Typ;
- 11a
- Schicht mit hoher Konzentration;
- 11b
- Schicht mit niedriger Konzentration;
- 12
- Hohlraum;
- 13
- Material mit niedriger Dielektrizitätskonstante
Claims (6)
- Halbleitervorrichtung, aufweisend: - ein Si-Substrat (1) mit hohem Widerstand; - eine Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4), die auf dem Si-Substrat (1) mit hohem Widerstand ausgebildet ist; - eine Gateelektrode (5), eine Sourceelektrode (6) und eine Drainelektrode (7), die auf der Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4) ausgebildet sind; und - eine leitfähige Schicht (11) vom P-Typ, die mit der Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4) in Kontakt und auf dem Si-Substrat (1) mit hohem Widerstand unterhalb der Drainelektrode (7) ausgebildet ist, wobei die leitfähige Schicht (11) vom P-Typ nicht unterhalb der Gateelektrode (5) und der Sourceelektrode (6) ausgebildet ist.
- Halbleitervorrichtung nach
Anspruch 1 , wobei die leitfähige Schicht (11) vom P-Typ eine Schicht (11a) mit hoher Konzentration und eine Schicht (11b) mit niedriger Konzentration aufweist, die außerhalb der Schicht (11a) mit hoher Konzentration ausgebildet ist und eine Störstellenkonzentration aufweist, die niedriger als eine Störstellenkonzentration der Schicht mit hoher Konzentration (11a) ist. - Halbleitervorrichtung nach
Anspruch 1 , wobei ein Hohlraum (12) in der Nitrid-Halbleiterschicht auf der leitfähigen Schicht vom P-Typ ausgebildet ist. - Halbleitervorrichtung nach
Anspruch 3 , ferner aufweisend ein Material (13) mit einer niedrigen Dielektrizitätskonstante, - das eine niedrigere Dielektrizitätskonstante als eine Dielektrizitätskonstante der Nitrid-Halbleiterschicht (2, 3, 4) aufweist und - das im Hohlraum (12) eingebettet ist. - Halbleitervorrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis4 , wobei eine Breite der leitfähigen Schicht (11) vom P-Typ geringer als eine Breite der Drainelektrode (7) ist. - Halbleitervorrichtung nach einem der
Ansprüche 1 bis4 , wobei eine Breite der leitfähigen Schicht (11) vom P-Typ größer als eine Breite der Drainelektrode (7) ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/017014 WO2018198337A1 (ja) | 2017-04-28 | 2017-04-28 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE112017007491T5 DE112017007491T5 (de) | 2020-01-09 |
DE112017007491B4 true DE112017007491B4 (de) | 2023-04-27 |
Family
ID=60685646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE112017007491.6T Active DE112017007491B4 (de) | 2017-04-28 | 2017-04-28 | Halbleitervorrichtung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10804369B2 (de) |
JP (1) | JP6249146B1 (de) |
KR (1) | KR102202173B1 (de) |
CN (1) | CN110574147B (de) |
DE (1) | DE112017007491B4 (de) |
WO (1) | WO2018198337A1 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2017
- 2017-04-28 WO PCT/JP2017/017014 patent/WO2018198337A1/ja active Application Filing
- 2017-04-28 DE DE112017007491.6T patent/DE112017007491B4/de active Active
- 2017-04-28 US US16/473,567 patent/US10804369B2/en active Active
- 2017-04-28 JP JP2017545695A patent/JP6249146B1/ja active Active
- 2017-04-28 CN CN201780089939.1A patent/CN110574147B/zh active Active
- 2017-04-28 KR KR1020197031079A patent/KR102202173B1/ko active IP Right Grant
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JP6249146B1 (ja) | 2017-12-20 |
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US10804369B2 (en) | 2020-10-13 |
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WO2018198337A1 (ja) | 2018-11-01 |
CN110574147B (zh) | 2023-01-10 |
JPWO2018198337A1 (ja) | 2019-06-27 |
DE112017007491T5 (de) | 2020-01-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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R012 | Request for examination validly filed | ||
R082 | Change of representative |
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|
R084 | Declaration of willingness to licence | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R079 | Amendment of ipc main class |
Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: H01L0021338000 Ipc: H01L0029778000 |
|
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |