DE112005002965T5 - Verfahren zur Bestimmung des chemischen Inhalts komplexer Strukturen unter Verwendung einer Röntgenstrahlenmikroanalyse - Google Patents

Verfahren zur Bestimmung des chemischen Inhalts komplexer Strukturen unter Verwendung einer Röntgenstrahlenmikroanalyse Download PDF

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Abstract

Verfahren zur Identifikation gefährlicher Substanzen in einer gedruckten Verdrahtungsbaugruppe mit mehreren separaten Komponenten unter Verwendung einer Röntgenstrahlenfluoreszenzspektroskopie, das folgendes umfasst:
a) das Analysieren der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe durch Bewegen einer Sonde über die Baugruppe als Reaktion auf Informationen in einer Bezugsdatenbank zur Bestimmung der Elementzusammensetzung an ausgewählten Positionen auf der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe, wobei die Sonde für die Analyse in einem im Wesentlichen optimalen Analyseabstand zu jeder ausgewählten Position angeordnet wird, und
b) das Korrelieren der bestimmten Elementzusammensetzung an den ausgewählten Positionen mit der Bezugsdatenbank zur Zuordnung erfasster Elemente zu den verschiedenen Komponenten auf der gedruckten Verdrahtungsplattenbaugruppe.

Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die Erfindung betrifft allgemein die Röntgenstrahlenspektroskopie und insbesondere die automatisierte Verwendung der Röntgenstrahlenspektroskopie zur Erfassung und Identifikation spezifischer Metalle in gedruckten Verdrahtungsbaugruppen.
  • Hintergrund
  • Die Gesetzgebung der Europäischen Union (EU) wurde erlassen, um das Niveau gefährlicher Chemikalien in der Um welt zu reduzieren. Das Gesetz zur Begrenzung bestimmter gefährlicher Stoffe (RoHS) zielt auf Materialien, wie Blei, Cadmium, Quecksilber, Chrom VI und einige in elektronischen Vorrichtungen verwendete, bromhaltige Brandinhibitoren ab. Zur Einhaltung dieser gesetzlichen Bestimmungen ist ein Verfahren zur Erfassung und Identifikation dieser und weiterer gefährlicher Materialien in elektronischen Geräten erforderlich. Ein derartiges Verfahren sollte schnell und genau sein, um zur Einhaltung der zeitlichen Vermarktungserfordernisse der globalen Elektronikindustrie eine rasche Überprüfung und kurze Durchlaufzeiten zu ermöglichen. Das Erfassungsverfahren muss auch hoch kosteneffektiv sein, und es sollte nicht durch die Verwendung weiterer gefährlicher Substanzen bei der Erfassungsprozedur nachteilige Auswirkungen auf die Umwelt haben.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die für neuartig erachteten Merkmale der Erfindung sind in den beiliegenden Ansprüchen im Einzelnen aufgeführt. Die Erfindung selbst ist jedoch sowohl hinsichtlich der Organisation als auch hinsichtlich der Funktionsweise im Zusammenhang mit ihren Aufgaben und Vorteilen am Besten unter Bezugnahme auf die folgende genaue Beschreibung der Erfindung, in der bestimmte beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung beschrieben sind, in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen verständlich.
  • Die einzige Figur der Zeichnungen ist ein Ablaufdiagramm, das Entscheidungsverzweigungsanalyseverfahren gemäß bestimmter Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung darstellt.
  • Genaue Beschreibung
  • Obwohl die Erfindung für eine Ausführung in den verschiedensten Formen geeignet ist, sind spezifische Ausführungsformen in der Zeichnung dargestellt und hier im Einzelnen beschrieben, wobei vorausgesetzt wird, dass die vorliegende Offenbarung als Beispiel für die Prinzipien der Erfindung zu verstehen ist und dass keine Einschränkung der Erfindung auf die spezifischen gezeigten und beschriebenen Ausführungsformen beabsichtigt ist. In der nachstehenden Beschreibung werden übereinstimmende Bezugszeichen zur Beschreibung übereinstimmender, ähnlicher bzw. entsprechender Elemente in der Zeichnung verwendet. Elektronische Vorrichtungen, gedruckte Verdrahtungsbaugruppen (PWA, printed wiring assemblies) und einzelne Komponenten enthielten herkömmlicher Weise manchmal betreffende Materialien, wie Pb, Cr, Cd, Hg und Br. Die offenbarten Ausführungsformen verwenden eine Mikroröntgenstrahlenfluoreszenzspektroskopie (μ-XRF) und eine Röntgenstrahlenabsorptionsfeinstrukturspektroskopie (XAFS) als Erfassungsverfahren zur Lokalisierung dieser und weiterer fraglicher Materialien in einer elektronischen Vorrichtung. Die zu untersuchende Vorrichtung oder Baugruppe wird zur Bestimmung der elementaren Zusammensetzung an ausgewählten Positionen auf der Baugruppe durch Bewegungen in der X-, Y- und Z-Richtung unter einer Sonde als Reaktion auf Informationen in einer Bezugsdatenbank analysiert, wobei die Sonde für die Analyse in einem optimalen Analyseabstand zu jeder ausgewählten Position angeordnet wird. Die bestimmte Elementzusammensetzung an jeder ausgewählten Position wird dann mit der Bezugsdatenbank in Korrelation gebracht, und die erfassten Elemente werden den verschiedenen Komponenten der Baugruppe zugeordnet.
  • In den nachstehenden Beschreibungen wird aus Gründen der Zweckmäßigkeit der Begriff „gedruckte Verdrahtungsbaugruppe" bzw. „PWA" verwendet, es wird jedoch darauf hingewiesen, dass eine derartige Verwendung nicht als einschränkend zu verstehen ist, sondern all diese sowie weitere Typen komplexer Baugruppen abdecken soll, die in gegenwärtigen und zukünftigen elektronischen Vorrichtungen verwendet werden, wie beispielsweise Motoren, Kabelbaugruppen, Anzeigen, Schalter, Knöpfe, Gehäuse, Lautsprecher, Transformatoren, etc, jedoch nicht auf diese beschränkt. Gemäß 1, die ein Ablaufdiagramm zeigt, das eine Ausführungsform der Erfindung darstellt, wird die auf das Vorhandensein gefährlicher Chemikalien zu analysierende Probe bzw. das zu analysierende Teil direkt in der Kammer einer μ-XRF- oder einer XAFS-Analysevorrichtung angeordnet (100). Das Verfahren ermöglicht eine rasche Erfassung und Identifikation, da keine Probenvorbereitung, beispielsweise durch Sputtern, erfolgt, bei der weitere für die Umwelt kritische Materialien verwendet werden könnten. Anschließend wird auf eine CAD-Datei (CAD: Computer aided design, computergestützte Konstruktion) für die Probe zugegriffen (105). Die CAD-Datei enthält (unter Anderem) eine mathematische Repräsentation der physischen Abmessungen der unterschiedlichen Komponenten auf der PWA und ihrer Positionen auf der gedruckten Leiterplatte und wird bei der Analyse als Bezugsdatenbank verwendet. CAD-Datenbanken und die Informationen, die sie typischerweise enthalten, sind Fachleuten auf dem Gebiet der Konstruktion und des Zusammenbaus elektronischer Vorrichtungen allgemein bekannt und werden hier nicht wei ter behandelt. Die CAD-Datenbank wird zu einer Steuerung der μ-XRF- oder einer XAFS-Analysevorrichtung portiert, um eine Ansteuerung einiger der Funktionen der Analysevorrichtung durch die Informationen in der Datei zu ermöglichen. Typischerweise wird der Tisch der Analysevorrichtung als Reaktion auf Informationen in der CAD-Datenbank so bewegt, dass die Probe derart umher bewegt wird, dass die Sonde der Analysevorrichtung sämtliche wesentlichen Bereiche der Probe „erkennen" kann. Die Position der Probe in Bezug auf die Analysevorrichtung wird dann durch ihre Registrierung unter Verwendung von Kennwertmarkierungen oder Vergleichswerten bestimmt (110). Obwohl dies wahlweise erfolgt und entweder manuell oder automatisch ausgeführt werden kann, halten wir es für das Sinnvollste, eine vollständige Automatisierung zu realisieren und die typischerweise in der CAD-Datenbank befindlichen Kennwertinformationen zur Registrierung der Probe zu verwenden. Eine Registrierung unter Verwendung von Kennwerten ist Fachleuten bekannt, und ein Mechanismus, wie eine optische Abtastung, eine Laserregistrierung, eine mechanische Registrierung, etc., kann hier erfolgreich eingesetzt werden. Die Probe wird dann durch geeignetes Bewegen des Tischs der Analysevorrichtung entlang der x- und der y-Achse zu einer ersten Position bewegt, die analysiert oder abgetastet wird (115). Typischerweise weisen viele, wenn nicht alle Komponenten einer PWA unterschiedliche Größen und Formen auf, und bei der Verwendung von Röntgenstrahlenanalysetechniken ist es für eine genaue Analyse kritisch, den geeigneten Abstand zwischen dem zu analysierenden Bereich auf der Probe und der Sonde der Analysevorrichtung einzuhalten. Dieser optimale Analyseabstand wird durch ausreichendes Einstellen bzw. Bewegen des Probentischs entlang der z-Achse zum Einstellen des geeigneten Abstands zwischen der Sonde und dem Analysebereich realisiert (120). Der Abstand zwischen der Probe und der Sonde wird durch einen Höhensensor, wie eine Videokamera, einen Hall-Effekt-Sensor, einen Sensor, der eine Triangulation verwendet, oder eine andere optische Einrichtung bestimmt. Bei bestimmten Ausführungsformen wird die Sonde während der Analyse automatisch so bewegt, dass der Abstand zwischen Sonde und Probe während der Analyseperiode stets der optimale Abstand ist.
  • Abhängig von der bei der Analyse gewünschten Auflösung können unterschiedliche Strahlengrößen verwendet werden. Größere Strahlengrößen liefern typischerweise eine geringere Auflösung, decken jedoch einen größeren Bereich ab. Wie bei den meisten Analyseprozeduren, muss den Erfordernissen entsprechend zwischen Auflösung und abgedecktem Bereich ausgewählt werden. Bei einer Analyse unter Verwendung einer μ-XRF reagieren die chemischen Elemente im Oberflächenbereich der Erregungsenergie des Strahls und emittieren sekundäre Photonen, die von dem Detektor der Analysevorrichtung erfasst werden. Sind die Analyseparameter einmal gewählt, wird die Analyse auf herkömmliche Art ausgeführt (125), und die erfassten Elemente von Interesse werden (falls solche gefunden werden) vorübergehend im Speicher des Computers der Analysevorrichtung oder in einem anderen Speicherbereich gespeichert.
  • Nach der Analyse der ersten Position (125) wird der Tisch mittels Informationen in der CAD-Datenbank angesteuert, um die Probe zur nächsten Position zu bewegen (130). Es wird darauf hingewiesen, dass die CAD-Datenbank den Tisch bei bestimmten Ausführungsformen nicht direkt bewegt, sondern dass statt dessen die Steuerung der μ-XRF- Analysevorrichtung auf Informationen in der Datenbank reagiert. Alternative Ausführungsformen ermöglichen eine direkte Steuerung der Bewegungen des Tischs durch die CAD-Datenbank. Der optimale Analyseabstand wird erneut durch Einstellen bzw. zum Einstellen des geeigneten Abstands zwischen der Sonde und dem Analysebereich ausreichendes Bewegen des Probentischs entlang der z-Achse erreicht (120), und die Analyse der zweiten Position (125) erfolgt, wie vorstehend erläutert. Nach der Analyse der zweiten Position wird der Tisch durch Informationen in der CAD-Datenbank angesteuert, um die Probe zur nächsten Position zu bewegen (130). Die Blöcke 120, 125 und 130 werden den Erfordernissen entsprechend wiederholt (wie in dem Ablaufdiagramm durch die Schleife dargestellt), bis sämtliche Positionen von Interesse auf der Probe analysiert sind. Nach der Analyse der letzten Position (135) werden die Informationen aus den mehreren Stadien der Analyse mit den Informationen in der CAD-Datenbank in Korrelation gebracht (140), um den unterschiedlichen Komponenten der PWA die erfassten Niveaus der unterschiedlichen Elemente zuzuordnen. Die bei sämtlichen Abtastungen an jeder jeweiligen Position erhaltenen Spektraldaten werden spezifischen Positionen oder Komponenten zugeordnet, indem die Spektraldaten einer oder mehreren Komponenten bzw. Positionen zugeordnet werden. Eine Elementkarte des abgetasteten Bereichs bzw. der abgetasteten Komponente, die das Vorhandensein oder Fehlen jedes Element als Funktion der Topographie der Probe zeigt, kann ebenfalls erstellt werden (145), wobei die verschiedenen Komponenten auf der PWA gezeigt sind und das Niveau jedes erfassten Elements auf dem CAD-Diagramm darüber gelegt werden kann.
  • Nach der Erstellung der Elementkarte (145), wird die CAD-Datenbank abgefragt, um zu bestimmen, ob der abgetastete Bereich bzw. die abgetastete Komponente in der Datenbank enthalten ist oder nicht (Block 150). Wenn der betreffende Bereich in der Datenbank gespeichert ist (wie in dem Diagramm unmittelbar unter dem Kästchen 150 durch „JA" angegeben), werden die aus der Abtastung abgeleiteten Informationen unter statistischen Wahrscheinlichkeitsabgleichtechniken von 90 %, 95 % bzw. 99 % mit den in der Datenbank gespeicherten verglichen (155). Die Elementkarte und die die Komponente betreffenden, dreidimensionalen, geometrischen Informationen liefern ein Werkzeug zum Vergleichen bzw. Abgleichen der Komponente auf der Probe mit einer in der Datenbank befindlichen Komponente, da die Größe, die Form und die chemische Zusammensetzung der Komponente betreffende Informationen in der CAD-Datenbank enthalten sind. Die Elementkarte kann beispielsweise angeben, dass ein bestimmter Widerstand auf der abgetasteten Probe Kupferanschlüsse, ein Widerstandselement, das Nickel und Chrom enthält, und eine aus Siliciumdioxid hergestellte Keramikbasis aufweist. Diese Informationen können kombiniert mit die Größe und die Form des Widerstands betreffenden Informationen unter Verwendung statistischer Abgleichtechniken mit Informationen in der Datenbank abgeglichen werden, um die genaue Teilenummer und den Widerstandswert des Widerstands zu bestimmten. Es wird entschieden, ob sie mit den in einer eine Liste von Materialien enthaltenden Datenbank (einer BOM-Datenbank (BOM: bill of materials)) gespeicherten Informationen übereinstimmen oder nicht (160), und wenn die Antwort „JA" ist, wird eine weitere abgetastete Position oder Komponente ausgewählt (165), und die Prozesse in den Blö cken 155, 160 und 165 werden wiederholt, bis sie abgeschlossen sind, wobei die Analyse an diesem Punkt endet (170). Ist die Antwort auf die Entscheidung hinsichtlich einer Übereinstimmung im Block 160 „NEIN", wird der betreffende Bereich bzw. die betreffende Komponente mit einer höheren Auflösung erneut abgetastet (180), um eine genauere bzw. mehr in die Tiefe gehende Analyse auszuführen. Wieder erfolgt ein Vergleich der bei der erneuten Abtastung erhaltenen Informationen mit der eine Liste von Materialien enthaltenden Datenbank (185), und wenn eine Übereinstimmung festgestellt wird, wird die Analyse im Block 165 an einer anderen Position fortgesetzt und verläuft von da aus, wie zuvor. Ist die Antwort „NEIN" (d.h. liegt keine Übereinstimmung vor), werden die bei der erneuten Abtastung erhaltenen Informationen zu der CAD-Datenbank hinzugefügt (190), um eine neue Komponente bzw. eine neue Bereichsposition zur Bezugnahme bei einer künftigen Analyse einer weiteren Probe zu erstellen.
  • Nachfolgend wird erneut auf den Block 150 Bezug genommen, in dem die CAD-Datenbank abgefragt wird, um zu bestimmen, ob der abgetastete Bereich bzw. die abgetastete Komponente in der Datenbank vorhanden ist oder nicht. Ist die Antwort „NEIN", wird der Bereich bzw. die Komponente von Interesse mit einer höheren Auflösung erneut abgetastet (195), um eine genauere bzw. weiter in die Tiefe gehende Analyse zu erstellen, und die bei dieser erneuten Abtastung erhaltenen Informationen werden zur CAD-Datenbank hinzugefügt (190), um eine neue Komponenten- oder Bereichsposition zur Bezugnahme bei der Analyse einer künftigen Probe zu erstellen.
  • Nachdem nun eine Ausführungsform beschrieben wurde, werden nachstehend zusätzliche Einzelheiten hinsichtlich der verwendeten Ausstattung und Technik ausgeführt. Die vorliegende Offenbarung dient der weiteren Information des Lesers hinsichtlich einiger Einzelheiten der Prozedur und stellt keine Einschränkung dar. Für die Elementkartierung wurde eine mit einer 40 Watt Rheniumröhre (40 kV, 1000 μAmp) und einer 100 μm Kapillaroptik ausgestattete Eagle II μ-Sonde für ein Mikrostrahl-XRF-System (Röntgenanalytik Messtechnik GmbH, Taunusstein, Deutschland) verwendet. Die Proben (Baugruppen aus einem Mobiltelefon) wurden auf dem computergesteuerten Tisch des Instruments platziert, und ein Vakuum wurde erzeugt. Mit zwei Videomikroskopen (mit einer Vergrößerung von 1 : 10 bzw. 1 : 100) wurde der Bereich für die Elementkartierung ausgewählt, und anschließend wurden die gewünschten Elemente ausgewählt. Die Abtastungen gedruckter Leiterplatten mit einem geometrischen Verhältnis von 5 : 2 (Länge zu Breite) erfolgten durch zwei separate Messungen, und die Vorder- und die Rückseite wurden untersucht. Für Elemente bis zu einer Ordnungszahl von 42 (Mo), wurden K Strahlungslinien zur Analyse verwendet. Schwerere Elemente wurden unter Verwendung von L Strahlungslinien erfasst. Zur Bestimmung von Bi und Hg wurden zusätzlich M Strahlungslinien verwendet. Die ausgewählten Elemente waren: Silber, Arsen, Wismut, Brom, Cadmium, Chrom, Quecksilber, Nickel, Blei, Antimon und Zinn. Die Messzeitspanne für einen gelesenen Punkt wurde auf 200 Millisekunden eingestellt, und die Matrizengröße wurde auf 256 200 eingestellt. Aus sämtlichen einzelnen Spektren wurde ein Gesamtspektrum kompiliert, und mittels Software (Vision XRF Software für die Eagle II μ-Sonde, Version 3.308) wur den Elementverteilungsabbildungen berechnet. Helle Bereiche in der Abbildung entsprechen Bereichen mit einer hohen Elementkonzentration. Die Elementkarten werden anhand der Messungen aus den μ-XRF-Messungen für jedes Element von Interesse extrahiert und in schwarz-weiße Karten umgewandelt. Die Karten werden zur Bestimmung, welche Teile welche Elemente enthalten, über die Plattenzeicheninformationen gelegt. Dies erfolgt für sämtlichen Elemente von Interesse. Die Intensität an jedem Messpunkt, an dem ein Element von Interesse erfasst wird, wird mit dem Typ des Teils in Korrelation gebracht. Anhand der Kalibrierung für jeden Typ von Teil wird der Beitrag zur Konzentration des betreffenden Elements bestimmt. Das Ergebnis einer Elementverteilungsanalyse wird in einem Gesamtspektrum aufgezeichnet, d.h. sämtliche anhand der Messpunkte erhaltenen, einzelnen Spektren werden summiert. Zudem werden anhand der Messdaten Elementabbildungen für jedes ausgewählte Element berechnet. Dadurch werden Elementintensitäten als mehr oder weniger intensive Farben kartiert.
  • Eine geeignete Prozedur zur Auswertung der erhaltenen Daten wurde definiert, die eine Korrelation der durch die Messungen erhaltenen Daten und der Anzahl der Komponenten auf der untersuchten PwB umfasst, die den gesetzlichen Regeln nicht entsprechen. Einige der Vorteile, die bei diesem neuartigen Verfahren zusammenkommen, sind: Das beschriebene Verfahren ist zur Verarbeitung einer breiten Vielfalt an PWBs mit darauf montierten Komponenten bei einer einzigen Analyse geeignet. Das Verfahren ermöglicht die Lokalisierung von anderen Elementen als Br und Pb unter Verwendung einer Subtraktion von Spektren und weiterer Mittel. Der neue Prozess ist im Vergleich zu herkömmlichen Techniken erheblich weniger kostspielig und erheblich schneller. Das gesamte System ist automatisiert und ermöglicht eine direkte Erfassung von Teilen, die mit den Umweltgesetzen nicht vereinbar sind. Von den Lieferanten können auf der Grundlage der Ergebnisse und der Erfassung unvereinbarer Teile korrigierende Maßnahmen gefordert werden. Insgesamt wird die Erfassung und Lokalisierung von Schwermetallen und bromhaltigen Verbindungen auf besetzten PWBs durch diesen Ansatz ohne Probenbearbeitung und unter Verwendung vergleichsweise kostengünstiger analytischer Erfassungsverfahren leichter, weniger zeitaufwendig und weniger kostenintensiv.
  • Zusammenfassend und ohne die Absicht, den Rahmen der Erfindung einzuschränken, wird durch die offenbarten Ausführungsformen ein Verfahren zur Überprüfung gedruckter Verdrahtungsbaugruppen oder anderer komplexer, in elektronischen Vorrichtungen verwendeter Strukturen auf ihre Vereinbarkeit mit dem RoHS (dem Gesetz zur Beschränkung der Verwendung bestimmter gefährlicher Stoffe) geschaffen. Die XRF ermöglicht die Verwendung von Brom als Indikatorelement für die Identifikation bromhaltiger Brandinhibitoradditive, wie Octabromdiphenyl, Decabromdiphenyl, Octabromdiphenyloxid, Decabromdiphenyloxid und Tetrabrombisphenol A, und von Chrom als Indikatorelement für Cr VI.
  • Obwohl die Erfindung unter Angabe spezifischer Einzelheiten und Parameter beschrieben wurde, die bei einer tatsächlichen Analyse verwendet werden, wird darauf hingewiesen, dass diese beispielhaft und nicht als Beschränkung aufgeführt sind und dass eine Abweichung von diesen Einstellungen und Werten selbstverständlich auftreten und weiterhin in den Rahmen und Sinn der Erfindung fallen kann. Es ist offensichtlich, dass für Personen mit normalen Fachkenntnissen auf dem Gebiet im Hinblick auf die vorstehende Beschreibung viele Alternativen, Modifikationen, Umstellungen und Veränderungen erkennbar sind. Dementsprechend ist beabsichtigt, dass die vorliegende Erfindung sämtliche derartigen Alternativen, Modifikationen und Veränderungen umfasst, die in den Rahmen der beiliegenden Ansprüche fallen. Beansprucht wird:
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Verfahren zur Bestimmung des chemischen Inhalts komplexer Strukturen unter Verwendung einer Röntgenstrahlenmikroana lyse
  • Ein Verfahren zur Identifikation gefährlicher Substanzen in einer gedruckten Verdrahtungsbaugruppe mit mehreren separaten Komponenten unter Verwendung einer Mikroröntgenstrahlenfluoreszenzspektroskopie. Eine Mikroröntgenstrahlenfluoreszenzspektroskopie (μ-XRF) und/oder eine Röntgenstrahlenabsorptionsfeinstrukturspektroskopie (XAFS) werden als Erfassungsanalysemittel zur Identifikation von betreffenden Materialien in einer elektronischen Vorrichtung verwendet. Die zu untersuchende Vorrichtung oder Baugruppe wird zur Bestimmung der Elementzusammensetzung an ausgewählten Positionen auf der Baugruppe als Reaktion auf Informationen in einer Bezugsdatenbank durch Bewegungen in der X-, der Y- und der Z-Richtung unter einer Sonde analysiert, wobei die Sonde zur Analyse in einem optimalen Analyseabstand zu jeder ausgewählten Position angeordnet wird. Die bestimmte Elementzusammensetzung an jeder ausgewählten Position wird dann mit der Bezugsdatenbank in Korrelation gebracht, und die erfassten Elemente werden den verschiedenen Komponenten der Baugruppe zugeordnet.

Claims (18)

  1. Verfahren zur Identifikation gefährlicher Substanzen in einer gedruckten Verdrahtungsbaugruppe mit mehreren separaten Komponenten unter Verwendung einer Röntgenstrahlenfluoreszenzspektroskopie, das folgendes umfasst: a) das Analysieren der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe durch Bewegen einer Sonde über die Baugruppe als Reaktion auf Informationen in einer Bezugsdatenbank zur Bestimmung der Elementzusammensetzung an ausgewählten Positionen auf der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe, wobei die Sonde für die Analyse in einem im Wesentlichen optimalen Analyseabstand zu jeder ausgewählten Position angeordnet wird, und b) das Korrelieren der bestimmten Elementzusammensetzung an den ausgewählten Positionen mit der Bezugsdatenbank zur Zuordnung erfasster Elemente zu den verschiedenen Komponenten auf der gedruckten Verdrahtungsplattenbaugruppe.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Sonde mittels eines Höhensensors in dem im Wesentlichen optimalen Analyseabstand gehalten wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem der Höhensensor eine Videokamera, einen Hall-Effekt-Sensor oder einen Triangulationssensor umfasst.
  4. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Sonde als Reaktion auf die Topographie der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe beschreibende Informationen in der Bezugsdatenbank in dem im Wesentlichen optimalen Analyseabstand gehalten wird.
  5. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner das anfängliche Registrieren der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe relativ zur Sonde mittels einer oder mehrerer Bezugspositionen auf der gedruckten Verdrahtungsbaugruppe umfasst.
  6. Verfahren zur Abtastungsröntgenstrahlenmikroanalyse, das folgendes umfasst: a) das Bereitstellen einer Probe mit einer Oberflächentopographie mit unterschiedlichen Höhen, b) das Analysieren der Probe unter Verwendung einer Mikroröntgenstrahlenfluoreszenzspektroskopie, wobei eine Sonde entlang einer X-, einer Y- und einer Z-Achse bewegt werden kann und zum Halten der Sonde in einem im wesentlichen optimalen Analyseabstand zur Probe bei jeder der unterschiedlichen Probenhöhen eine Bewegung entlang der Z-Achse erfolgt und c) wobei die Bewegungen der Sonde in der X- und der Y-Richtung auf eine Informationen, die verschiedene Positionen auf der Probe betreffen, enthaltende Datenbank reagieren, um eine Korrelation von in der Probe erfassten Elementen mit den Informationen in der Datenbank zu ermöglichen.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Sonde mittels eines Höhensensors in dem im wesentlichen optimalen Analyseabstand gehalten wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem der Höhensensor eine Videokamera, einen Hall-Effekt-Sensor oder einen Triangulationssensor umfasst.
  9. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Sonde als Reaktion auf die Topographie der Probe beschreibende Informationen in der Bezugsdatenbank in dem im Wesentlichen optimalen Analyseabstand gehalten wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 6, das ferner die Registrierung der Probe relativ zur Sonde mittels einer oder mehrerer Bezugspositionen auf der Probe nach (a) umfasst.
  11. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Probe eine gedruckte Verdrahtungsbaugruppe mit mehreren separaten Komponenten ist.
  12. Verfahren zur Mikroanalyse, das folgendes umfasst: a) das Bereitstellen einer Probe mit einer Oberflächentopographie mit unterschiedlichen Höhen, b) das Planieren der Probe in einer Analysekammer und c) das Analysieren der Probe an mehreren Positionen mittels einer auf eine Bezugsdatenbank reagierenden Sonde, wobei die Sonde entlang einer X-, einer Y- und einer Z-Achse bewegt werden kann und zum Halten der Sonde in einem optimalen Analyseabstand zur Probe an jeder der unterschiedlichen Positionen eine Bewegung entlang der Z-Achse erfolgt.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, bei dem die Sonde mittels eines Höhensensors im optimalen Analyseabstand gehalten wird.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, bei dem der Höhensensor eine Videokamera, einen Hall-Effekt-Sensor oder einen Triangulationssensor umfasst.
  15. Verfahren nach Anspruch 12, bei dem die Sonde mittels einer Korrelation der Bewegungen der Sonde in der X- und der Y-Richtung mit einer die Topographie der Probe betreffende Bezugsinformationen enthaltenden Datenbank im optimalen Analyseabstand gehalten wird.
  16. Verfahren nach Anspruch 12, bei dem die Probe eine gedruckte Verdrahtungsbaugruppe mit mehreren separaten Komponenten ist.
  17. Verfahren nach Anspruch 12, bei dem die bei der gemäß (c) ausgeführten Analyse erhaltenen Informationen mit jeder der mehreren Positionen in der Datenbank in Korrelation gebracht werden.
  18. Verfahren nach Anspruch 12, das ferner das Registrieren der Probe relativ zur Sonde mittels einer oder mehrerer Bezugspositionen auf der Probe nach (b) umfasst.
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