DE112016006579B4

DE112016006579B4 - Ladungsträgerstrahlvorrichtung und Probenhalterung

Info

Publication number: DE112016006579B4
Application number: DE112016006579.5T
Authority: DE
Inventors: Akira Ikeuchi; Shigeru Haneda; Yoshinobu Hoshino
Original assignee: Hitachi High Tech Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2016-04-13
Filing date: 2016-04-13
Publication date: 2022-08-04
Anticipated expiration: 2036-04-14
Also published as: DE112016006579T5; JPWO2017179145A1; US20190122853A1; CN109075003B; US10431417B2; WO2017179145A1; JP6549313B2; CN109075003A

Abstract

Ladungsträgerstrahlvorrichtung, die eine Ladungsträgerquelle, eine Probenhalterung (116) mit einer darauf platzierten Probe (112), ein optisches Ladungsträgerstrahlsystem, in dem die Probe (112) mit einem Ladungsträger, der aus der Ladungsträgerquelle als ein Ladungsträgerstrahl emittiert wird, bestrahlt wird, einen Detektor (114), der ein Signal, das aus der Probe (112) emittiert wird, detektiert, und eine Steuereinheit (105), die jeden Bestandteil steuert, umfasst, wobei die Probenhalterung (116) enthält:einen Probenplatzierungsabschnitt (137), der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite enthält, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an einem Probenlagerelement (115) montiert ist, das eine Struktur zum Ausrichten (117), die eine zentrale Markierung (134) und eine Struktur und eine Adressmarkierung (135), zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels, enthält, aufweist,einen Probenbasisabschnitt (141), der eine Öffnung, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt (137) vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, undein Probenabdeckungsabschnitt, der eine Leitfähigkeit aufweist, ein Fenster (144) enthält, durch das die Struktur zur Ausrichtung (117) des Probenlagerelements (115) freigelegt ist, und so nach unten in einer Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts (141) gedrückt wird, dass eine Oberseite des Probenlagerelements (115), das auf dem Probenplatzierungsabschnitt (137) platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung und eine Probenhalterung.
Stand der Technik
In einer Ladungsträgerstrahlvorrichtung, die durch ein Rasterelektronenmikroskop (nachstehend als „SEM“ bezeichnet) repräsentiert wird, wird eine Probe mit einem Ladungsträgerstrahl bestrahlt, der durch eine elektrostatische Linse, eine elektromagnetische Linse oder dergleichen eng fokussiert ist, um gewünschte Informationen (beispielsweise ein Probenbild) von der Probe zu erhalten. Wenn eine Probe mit einer solchen Vorrichtung beobachtet wird, ist es notwendig zu bestimmen, welche Position der Probe das aktuelle Sichtfeld erreicht, und das Sichtfeld bis zu einem Ort zu bewegen, den der Anwender beobachten möchte (nachstehend als „Suchen nach einem Beobachtungssichtfeld“ bezeichnet).
In PTL 1 sind eine Probenhalterung für ein SEM und ein SEM, in dem die Probenhalterung montiert ist, die zum Verwenden eines Objektträgers, der zur Beobachtung mit einem optischen Mikroskop (nachstehend als „OM“ bezeichnet) verwendet wird, unverändert als eine Beobachtungsprobe fähig ist, offenbart. PTL 2 beschreibt einen Probenträger für eine Probe. Weiter zeigt der Probenträger der PTL 2 einen Auflagesockel und einen Schlitten mit einem Aufnahmebereich für die Probe, wobei der Schlitten auf dem Auflagesockel abgestützt ist. Weiterhin beschreibt die PTL 2 eine Führung, bei der der Schlitten entlang der Führung beweglich angeordnet ist, und eine um eine Drehachse drehbewegliche Scheibe, die mit dem Schlitten wirkverbunden ist.
Entgegenhaltungsliste
Patentliteratur

PTL 1: JP 2014 - 044 967 A
PTL 2: WO 2015/ 155 347 A1

Zusammenfassung der Erfindung
Technisches Problem
Da die Ladungsträgerstrahlvorrichtung einen Ladungsträgerstrahl verwendet, der eine kürzere Wellenlänge als Licht aufweist, ist sie darin vorteilhaft, dass die Ladungsträgerstrahlvorrichtung eine höhere Auflösung als ein OM aufweist, so dass es möglich ist, eine Probe (oder die Struktur einer Probe) zu beobachten, die eine Größe von einigen Nanometern bis einigen hundert Nanometern aufweist. Andererseits ist es, abhängig von dem Zustand des elektronenoptischen Systems der Ladungsträgerstrahlvorrichtung, schwierig für den Anwender, nach einem Sichtfeld zu suchen. Mit Bezug auf dieses Problem offenbart PTL 1 eine Technik, Beobachtungssichtfeldsuche durch Beobachten der gesamten Ansicht einer Probe mit dem OM vor der Beobachtung der Probe mit einer Ladungsträgerstrahlvorrichtung und dann Beobachten der Probe mit einem Ladungsträgerstrahl während des Vergleichens mit dem erhaltenen optischen Bild auszuführen.
In PTL 1 wird jedoch, wenn die Ladungsträgerstrahlvorrichtung Beobachtungssichtfeldsuche durch Verwenden eines Bildes, das mit dem OM aufgenommen ist, (nachstehend als ein „Beobachtungspositionsfestlegungsbild“ bezeichnet) ausführt, eine Kalibrierungsarbeit, um das Koordinatensystem des Beobachtungspositionsfestlegungsbildes auf der Beobachtungszielprobe und das Koordinatensystem des Probentisches miteinander zusammenfallen zu lassen, kompliziert, was problematisch ist.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung und eine Probenhalterung zu schaffen, die ein Beobachtungssichtfeld auf einfache Weise suchen können.
Lösung der Aufgabe
In einer Ausführungsform zum Erreichen der vorstehend beschriebenen Aufgabe wird eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung geschaffen, die eine Ladungsträgerquelle, eine Probenhalterung mit einer darauf platzierten Probe, ein optisches Ladungsträgerstrahlsystem, in dem die Probe mit einem Ladungsträger, der aus der Ladungsträgerquelle als ein Ladungsträgerstrahl emittiert wird, bestrahlt wird, einen Detektor, der ein Signal, das aus der Probe emittiert wird, detektiert, und eine Steuereinheit, die jeden Bestandteil steuert, enthält, wobei die Probenhalterung enthält:

einen Probenplatzierungsabschnitt, der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite enthält, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an ein Probenlagerelement montiert ist, das eine Struktur zum Ausrichten,. die eine zentrale Markierung und eine Struktur und eine Adressmarkierung zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels enthält, aufweist,
einen Probenbasisabschnitt, der eine Öffnung, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, und
ein Probenabdeckungsabschnitt, der eine Leitfähigkeit aufweist, ein Fenster enthält, durch das die Struktur zur Ausrichtung des Probenlagerelements freigelegt ist, und nach unten in einer Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts gedrückt wird, so dass eine Oberseite des Probenlagerelements, das auf dem Probenplatzierungsabschnitt platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind.

Vorteilhafte Effekte der Erfindung
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung und eine Probenhalterung zu schaffen, die das Beobachtungssichtfeld auf einfache Weise suchen können.
Figurenliste

1 ist eine Schnittansicht (Teilblockdiagramm), die ein Konfigurationsbeispiel eines Systems eines SEM darstellt.
2A ist ein Ablaufplan, der ein Operationsbeispiel zur OM-Bildaufnahme auf einer Beobachtungszielprobe darstellt.
2B ist ein Ablaufplan, der ein Operationsbeispiel zur SEM-Bildaufnahme auf einer Beobachtungszielprobe darstellt.
3A ist eine Ansicht aus der Vogelperspektive, die ein schematisches Konfigurationsbeispiel eines Probenlagerelements darstellt.
3B ist eine Draufsicht, die ein schematisches Konfigurationsbeispiel des Probenlagerelements (ohne eine Probe) darstellt.
3C ist eine Draufsicht, die ein schematisches Konfigurationsbeispiel des Probenlagerelements (mit einer Probe) darstellt.
4A ist eine Ansicht aus der Vogelperspektive, die ein schematisches Konfigurationsbeispiel einer Probenhalterung darstellt.
4B ist eine Schnittansicht, genommen entlang der Linie A-A' in 4A.
4C ist eine Ansicht aus der Vogelperspektive, die ein weiteres schematisches Konfigurationsbeispiel einer Probenhalterung darstellt.
5A ist eine Draufsicht, die eine Positionsbeziehung zwischen einem anfänglichen Sichtfeld eines Elektronenmikroskopbildes und einer Struktur zum Ausrichten zeigt.
5B ist eine Draufsicht zum Beschreiben einer Positionsbeziehung zwischen Strukturdaten eines Elektronenmikroskopbildes und dem anfänglichen Sichtfeld des Elektronenmikroskopbildes zeigt.
6 ist ein Ablaufplan, der ein Operationsbeispiel einer Positionsvergrößerungsberechnungseinheit zeigt.

Beschreibung von Ausführungsformen
In Beispielen wird ein SEM als Beispiel zur Beschreibung als eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung verwendet, die Ladungsträgerstrahlvorrichtung der Erfindung wird jedoch nicht auf das SEM beschränkt. Die Ladungsträgerstrahlvorrichtung gemäß der Erfindung kann einen Beobachtungsbereich einer Probe, von der ein Beobachtungsbild durch eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung erfasst wird, auf ein aufgenommenes Bild der Probe, das durch eine Bildaufnahmevorrichtung erfasst wird, als einen Sichtfeldbereich einstellen, und wenn ein Beobachtungsbereich einer Probe, der dem Sichtfeldbereich entspricht, durch eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung mit einem Ladungsträgerstrahl bestrahlt wird, um ein Beobachtungsbild der Probe zu erfassen, kann die Ladungsträgerstrahlvorrichtung eine Form und Abmessungsinformationen einer Struktur verwenden, die auf einem Probenlagerelement in einem Beobachtungspositionsfestlegungsbild benutzt wird, das verwendet wird, um den Sichtfeldbereich zur Kalibrierung auf die Bestrahlungsposition des Ladungsträgerstrahls einzustellen. Beispielsweise enthält ein Beispiel der Ladungsträgerstrahlvorrichtung ein Rasterionenmikroskop, ein Rastertransmissionselektronenmikroskop, ein Transmissionselektronenmikroskop, eine Verbundeinrichtung aus diesen mit einer Probenverarbeitungsvorrichtung und eine Analyseuntersuchungseinrichtung, die mit diesen Vorrichtungen angewandt wird.
Nachstehend wird die Ladungsträgerstrahlvorrichtung gemäß Beispielen der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die Zeichnungen beschrieben. Die gleichen Bezugszeichen geben die gleichen Bestandteile an.
Beispiel 1
<Systemkonfigurationsbeispiel der Ladungsträgerstrahlvorrichtung und Bildaufnahmeablauf>
Zuerst werden ein Systemkonfigurationsbeispiel der Ladungsträgerstrahlvorrichtung und ein Bildaufnahmeablauf einer Beobachtungszielprobe mit Bezug auf 1 und die 2A und 2B beschrieben.
1 ist eine schematische Konfigurationsansicht, die ein Beispiel einer Ladungsträgerstrahlvorrichtung (hier eines „SEM“) darstellt.
Ein SEM 101 enthält einen Mikroskopkörper 101, der durch Integrierern einer Elektronenstrahlsäule 102 und einer Probenkammer 103 und einer Steuervorrichtung (Steuereinheit) 105, die jeden Teil des SEM steuert, konfiguriert ist, und die Steuervorrichtung 105 ist mit einer Anzeigeeinheit 150 und einer Bedieneinheit 151 verbunden.
Die Elektronenstrahlsäule 102 ist mit einer Elektronenkanone 107 zum Emittieren eines Elektronenstrahls 106 und einem elektronenoptischen System 108, das die Bestrahlung des Elektronenstrahls 106 steuert, ausgestattet.
Das elektronenoptische System 108 enthält Kondensorlinsen 109 zum Fokussieren des Elektronenstrahls 106, der aus der Elektronenkanone emittiert 107 wird, Deflektoren 110 zum Abtasten des Elektronenstrahls 106 und Objektivlinsen 111 zum Fokussieren des Elektronenstrahls 106, so dass er auf der Oberfläche der Oberfläche einer Probe 112 fokussiert ist. In dem Beispiel von 1 ist auch ein Detektor 114 vorgesehen, der ein Signal 113 (beispielsweise Sekundärelektronen, reflektierte Elektronen und dergleichen) detektiert, das erzeugt wird, wenn die Probe 112 mit dem Elektronenstrahl 106 bestrahlt wird.
Die Probenkammer 103 nimmt eine Probenhalterung 116 auf, die mit einem Probenlagerelement 115 durch einen Einlass/Auslass-Zugang platziert wird, der zum Öffnen und Schließen fähig ist und nicht dargestellt ist, und die Probe 112 ist auf dem Probenlagerelement 115 platziert. Das Probenlagerelement 115 ist mit Strukturen zur Ausrichtung 117 gebildet. Die Einzelheiten des Probenlagerelements 115 werden später unter Verwendung des schematischen Konfigurationsbeispiels in einem Fall, in dem das Probenlagerelement 115, das in den 3A bis 3C dargestellt ist, eine Form eines runden Deckglases aufweist, beschrieben, und die Einzelheiten der Probenhalterung 116 werden später mit Bezug auf die 4A bis 4C beschrieben.
Die Probenhalterung 116 enthält einen Mechanismus, der zum einfachen Platzieren, Drehen und Befestigen des Probenlagerelements 115 fähig ist, und enthält einen Mechanismus zum Befestigen des Probenlagerelements 115, so dass die Struktur zur Ausrichtung 117 während der Bildaufnahme des SEM 101 in das anfängliche Sichtfeld fällt. Die Probenkammer 103 ist mit einem Probentisch 118 versehen, der durch die Probenhalterung 116 gehalten wird. Die Probenkammer ist natürlich evakuiert.
Der Probentisch 118 enthält einen Montageteil 119, in dem die Probenhalterung 116 lösbar angebracht ist, und einen Probenbewegungsmechanismus 120, der den Montageteil 119 beispielsweise in der horizontalen Ebene und in einer Richtung senkrecht zu der Ebene bewegt, den Montageteil innerhalb der Probenkammer 103 dreht oder neigt und dadurch die Position oder die Orientierung der Probe 112 und des Probenlagerelements 115 innerhalb der Probenkammer 103 mit der ganzen Probenhalterung 116 verlagert. Die Steuervorrichtung 105 steuert den Probenbewegungsmechanismus 120 und das elektronenoptische System 108, eine beliebige Position der Probe 112 wird mit dem Elektronenstrahl 106 bestrahlt, und der Detektor 114 detektiert das erzeugte Signal 113, wodurch er die Beobachtung mit dem Elektronenmikroskop in irgendeiner Position und Vergrößerung der Probe ermöglicht.
Hier kann die vorstehend beschriebene Vergrößerung eine Breite des Sichtfelds (FOV), eine Länge (Pixelgröße), die ein Pixel in dem Fall eines digitalen Bildes angibt, oder dergleichen sein.
Das OM 121 ist beispielhaft als ein OM vom aufrechten Typ in diesem Beispiel verwendet, das OM kann jedoch ein OM vom invertierten Typ sein, und das OM ist mit einem Objekttisch 112, auf dem das Probenlagerelement 115 platziert ist, und einem Bildaufnahmeelement 123, das Bilddaten eines zu beobachtenden Objekts erhält, versehen. Es ist offensichtlich, dass das OM unter Atmosphärendruck verwendet wird.
Der Objekttisch 122 enthält einen Mechanismus, der das Probenlagerelement 115 an einer Probenlagerelementhalterung (nicht dargestellt), mit der Probe darauf platziert befestigt und das Probenlagerelement 119 beispielsweise in der horizontalen Ebene und in einer Richtung senkrecht zu der Ebene bewegt, das Probenlagerelement dreht oder neigt und dadurch die Position oder die Orientierung der Probe 112 auf dem Objekttisch 122 mit dem ganzen Probenlagerelement 115 verlagert. Der Bewegungsmechanismus des Objekttischs 122 kann irgendeiner aus einem elektrischen Typ und einem manuellen Typ sein.
Das Bildaufnahmeelement 123 ist beispielsweise ein CCD-Sensor oder ein CMOS-Sensor und weist eine Funktion zum Erfassen von Bildaufnahmedaten entweder eines Standbildes oder eines Bewegtbildes des Beobachtungsziels auf. In diesem Beispiel ist als Beispiel verwendet, dass das Bildaufnahmeelement 123 mit der Steuervorrichtung 105 verbunden ist, um die aufgenommenen Bilddaten zu einem Bildprozessor für das OM (ersten Bildprozessor) 124 zu übertragen, es ist jedoch nicht notwendig, dass das Bildaufnahmeelement 123 mit der Steuervorrichtung 105 verbunden sein muss, und das Bildaufnahmeelement kann die aufgenommenen Bilddaten eines Beobachtungsziels basierend auf dem Format der digitalen Bilddaten speichern, um die gespeicherten Bilddaten zu einem Bildprozessor für das OM 124 zu übertragen.
Die Steuervorrichtung 105 enthält einen Bildprozessor für das SEM (einen zweiten Bildprozessor) 125 zum Umsetzen eines Signals, das durch den Detektor 114 erhalten wird, in Beobachtungsbilddaten (nachstehend als „SEM-Bilddaten“ bezeichnet), einen Bildprozessor für das OM 124 und eine Strukturdatenspeichereinheit 126, in der Formdaten einer Struktur zur Ausrichtung gespeichert sind.
Jede Dateneinheit wird zu einer Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 gelesen, die Vergrößerung jedes Beobachtungssichtfelds wird in einer Vergrößerungsberechnungseinheit 128 unter Verwendung der Strukturdaten berechnet, und Positionsinformationen werden in einer Positionsberechnungseinheit 129 berechnet, und dadurch werden die Positionsinformationen relativ zu den Strukturkoordinaten berechnet (die Berechnung, die durch die Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 ausgeführt wird, wird später im Einzelnen beschrieben). Durch Ausführen von Kalibrierung eines Probentischs 118 unter Verwendung der erhaltenen Vergrößerung und der Positionsinformationen zu dieser Zeit ist es möglich, eine Probenhalterung 116 basierend auf den Strukturkoordinaten zu bewegen, um die Position, die durch die Strukturkoordinaten bezeichnet ist, mit einem SEM 101 abzubilden.
Außerdem sind ein Sichtfeld und eine Vergrößerung der Beobachtungsbilddaten (nachstehend als „OM-Bilddaten“ bezeichnet), die durch das OM 121 erhalten werden, gleichfalls den Strukturkoordinaten zugeordnet. Die Informationen über diese Vergrößerung und Strukturkoordinaten werden in einer Steuereinheit 130 des elektronenoptischen Systems und einer Probentischsteuereinheit 131 eingestellt, und somit ist es möglich, das gleiche Sichtfeld wie das OM-Bild mit dem SEM 101 abzubilden. Eine Sichtfeldausrichtungseinheit 132 führt die vorstehend beschriebene Positionsinformationsberechnung und Anweisungen für die entsprechenden Steuereinheiten zum Erhalten des gleichen Sichtfelds aus.
Die Sichtfeldausrichtungseinheit 132 überträgt die Objekttischposition mit dem gleichen Sichtfeld wie das OM-Bild und einen Einstellparameter der Beobachtungsvergrößerung zu der Probentischsteuereinheit 131 und der Steuereinheit 130 des elektronenoptischen Systems basierend auf den Informationen über die Sichtfeldposition des OM-Bildes, die in der Positionsvergrößerungsberechnungsein heit 127 berechnet sind.
Das Vorstehende ist ein Überblick über das beispielhafte SEM-System, das in 1 dargestellt ist.
Hier ist es gemäß PTL 1 dann, wenn die Ladungsträgerstrahlvorrichtung eine Beobachtungssichtfeldsuche unter Verwendung des Beobachtungspositionsfestlegungsbildes für eine Kalibrierungsarbeit ausführt, um das Koordinatensystem des Beobachtungspositionsfestlegungsbildes und das Koordinatensystem des Probentischs auf der Beobachtungszielprobe miteinander zusammenfallen zu lassen, notwendig, die gesamte Ansicht des Objektträgers, der als ein Probenlagerelement dient, das mit einer Probe platziert ist, mit einer optischen Bildaufnahmevorrichtung aufzunehmen, um sie als ein Referenzbild zu verwenden. Zusätzlich wird, da es notwendig ist, das Referenzbild mit einem vorbestimmten Sichtfeld und einer vorbestimmten Vergrößerung aufzunehmen, eine optische Bildaufnahmevorrichtung, in der ein Sichtfeld und eine Vergrößerung im Voraus festgelegt sind, zum Aufnehmen des Referenzbildes benötigt. Aus diesem Grund wird die minimale Vergrößerung bei der Beobachtung der Probe bestimmt, und es gibt ein Problem, dass die gesamte Ansicht der Probe nicht beobachtet werden kann, wobei es schwierig wird, nach dem Sichtfeld zu suchen. Ferner ist es, wenn eine Kalibrierungsarbeit unter Verwendung des Beobachtungspositionsfestlegungsbildes ausgeführt wird, notwendig, eine komplizierte Arbeit zum Suchen nach Merkmalspunkten des Beobachtungspositionsfestlegungsbildes aus dem Beobachtungsbild der Ladungsträgerstrahlvorrichtung auszuführen, um die Merkmalspunkte jeder Referenz mehreren Orten zuzuordnen.
In dem Beispiel wird die folgende Bildaufnahmeoperation unter Verwendung des vorstehend beschriebenen SEM-System-Beispiels ausgeführt.
Die 2A und 2B sind ein Ablaufplan einer Bildaufnahmeoperation mit dem OM bzw. ein Ablaufplan, der eine Bildaufnahmeoperation darstellt, wenn die Beobachtung in dem gleichen Sichtfeld wie ein Sichtfeld des dadurch erhaltenen OM-Bildes mit dem SEM durchgeführt wird, in dem Beispiel, das das in 1 dargestellte SEM verwendet.
Wenn gestartet wird (Schritt S200), wird die Probe 112 auf dem Probenlagerelement 115 platziert (Schritt S201), und das Probenlagerelement 115 wird auf dem Objekttisch 122 des OM installiert (Schritt S202). Durch Ausführen der Bildaufnahme in diesem Zustand können ein OM-Bild der Probe 112 und eine Struktur zur Ausrichtung 117 erhalten werden. Zu dieser Zeit wird in einem Fall der Bildaufnahme mit geringer Vergrößerung die Bildaufnahme in einem Sichtfeld ausgeführt, das in 3B darstellt ist, in dem eine Gitterstruktur 133 und eine zentrale Markierung 134 enthalten sind, und in einem Fall der Bildaufnahme mit hoher Vergrößerung wird die Bildaufnahme in einem Sichtfeld ausgeführt, in dem die Gitterstruktur 133 und die zentrale Markierung 134 oder eine Adressmarkierung 135 enthalten sind (Schritt S203). Dementsprechend ist es möglich, die Positionsbeziehung zwischen dem OM-Bild-Sichtfeld und der Struktur zur Ausrichtung 117 in der Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 in Bezug auf das OM-Bild, das mit geringer Auflösung oder mit hoher Auflösung erhalten wird, zu berechnen. Der Gitterabstand in der Gitterstruktur ist auf einen Wert eingestellt, in dem zwei oder mehr gerade Linien in dem Anfangssichtfeld enthalten sind. In diesem Beispiel ist es nicht notwendig, die gesamte Ansicht der Probe aufzunehmen. Nachdem die Bildaufnahme beendet ist, wird das Probenlagerelement 115 von dem Objekttisch 122 entfernt (Schritt S204), um zu einem SEM-Bildaufnahmeablauf weiterzugehen (Schritt S205).
Der Bildaufnahmeablauf mit dem SEM wird gestartet (Schritt S206), das Probenlagerelement 115, das von dem Objekttisch 122 des OM 131 entfernt worden ist, wird auf der Probenhalterung 116 für das SEM installiert (Schritt S207). In diesem Zustand werden die Vorder- und Rückseite des Probenlagerelements 115 mit einer Markierung 136 zum Erkennen der Richtung der Vorder- und Rückseite abgeglichen, wie in 3B dargestellt ist, und das Probenlagerelement 115 wird auf dem Probenplatzierungsabschnitt 137 platziert, wie in 4 dargestellt ist. Um die horizontale Richtung des Probenlagerelements 115 an der horizontalen Richtung der Probenhalterung 116 auszurichten, wird Rillenverarbeitung 138, die die horizontale Richtung der Probenhalterung 116 angibt, um die horizontale Richtung des Probenlagerelements 115 anzupassen, unter Verwendung eines Drehknopfes 139 geführt, und schließlich wird das Probenlagerelement 115 an der Probenhalterung 116 unter Verwendung eines Probenabdeckabschnitts 140 befestigt. Durch diesen Schritt wird die Ausrichtung des Probenlagerelements an der Probenhalterung, das heißt die Ausrichtung der zentralen Markierung an einer Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts, ausgeführt.
Nachfolgend wird die Probenhalterung 116 auf dem Probentisch montiert (Schritt S208). Deshalb ist die Struktur zur Ausrichtung 117, die auf dem Probenlagerelement 115 gebildet ist, in einem Bereich innerhalb des anfänglichen Sichtfelds zur Zeit der SEM-Bildaufnahme angeordnet. Wenn das Aufnehmen eines Bildes des anfänglichen Sichtfelds in diesem Zustand ausgeführt wird (Schritt S209), kann ein Beobachtungsbild der Struktur zur Ausrichtung 117 erhalten werden.
Nachfolgend werden Beobachtungsbilddaten des erhaltenen Beobachtungsbildes in die Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 gelesen, um Positionsinformationen mit den Strukturkoordinaten unter Verwendung der Strukturdaten zu berechnen (Schritt S210), und dadurch wird die Kalibrierung der Objekttischposition des Probentischs 118 und der Vergrößerung ausgeführt (Schritt S211).
Nach der Kalibrierung werden wenigstens ein oder mehrere OM-Bilder, die in dem früheren OM-Bildaufnahmeablauf aufgenommen sind, gelesen, um in einer Anzeigeeinheit 150 angezeigt zu werden (Schritt S212). Das gelesene OM-Bild wird in der Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 ähnlich verarbeitet, und dadurch werden Positionsinformationen relativ zu den Strukturkoordinaten gespeichert.
Schließlich wählt der Anwender ein OM-Bild, das der Anwender in dem gleichen Sichtfeld beobachten möchte, unter Verwendung einer Bedieneinheit 151 aus dem angezeigten OM-Bild aus (Schritt S213). Dann steuert die Sichtfeldausrichtungseinheit 132 ein elektronenoptisches System 108 und einen Probentisch 118 (Schritt S214), und die Bildaufnahme in dem gleichen Sichtfeld wie das ausgewählte OM-Bild wird gestartet (Schritt S215).
Wie vorstehend beschrieben ordnet das SEM in dem Beispiel die Struktur zur Ausrichtung 117 in dem anfänglichen Sichtfeld in der Elektronenmikroskopbeobachtung an unter Verwendung des Probenlagerelements 115, das allgemein für den Fall der OM-Beobachtung verwendet werden kann, so dass es möglich ist, Beobachtung in dem gleichen Sichtfeld wie das Sichtfeld des OM-Bildes auszuführen, ohne Sichtfeldsuche und eine Positionsvergrößerungskalibrierungsarbeit, die manuell durch den Anwender ausgeführt wird, zu erfordern.
<Probenlagerelement>
Die 3A und 3B sind Ansichten, die eine Struktur des Probenlagerelements 115 darstellen, wobei 3A eine schematische Ansicht aus Vogelperspektive ist und 3B eine Draufsicht ist.
Das Probenlagerelement 115 ist beispielsweise eine ebene Platte, die aus einem Material wie z. B. Quarz und Metall gebildet ist. In diesem Beispiel ist die Form der Platte ein Kreis, die Form kann jedoch ein Dreieck, ein Viereck, ein Polygon oder dergleichen sein. Die Platte kann ein Deckglas sein, das eine Dicke von etwa 0,04 mm bis 0,6 mm aufweist, das im Allgemeinen zur OM-Beobachtung verwendet wird, oder kann ein Objektträger sei, der eine Dicke von etwa 0,8 mm bis 1,5 mm aufweist, und die Form der Platte ist nicht besonders eingeschränkt. Wenn die Pro 112 auf der ebenen Platte platziert ist und die Probe 112 mit der Ladungsträgerstrahlvorrichtung beobachtet wird, ist es notwendig, dass die Probe 112 und das Probenlagerelement 115 Leitfähigkeit aufweisen, wenn jedoch die Probe 112 und das Probenlagerelement 115 keine Leitfähigkeit aufweisen, kann ein leitfähiges Material wie z. B. Osmium, Indium-Zinn-Oxid (ITO), Gold, Platin, Kohlenstoff, Polythiophen oder eine ionische Flüssigkeit auf der Probe 112 oder dem Probenlagerelement 115 beschichtet sein, um die Leitfähigkeit zu vermitteln. Was die Beschichtung, die verwendet werden soll, betrifft, kann irgendein Material auf geeignete Weise ausgewählt werden, um die Ladungspartikelvorrichtungsbeobachtung nicht zu beeinflussen, und das Material zur leitfähigen Beschichtung ist nicht besonders eingeschränkt.
Wie in 3B dargestellt ist, ist die Platte mit einer Struktur zur Ausrichtung 117 versehen, die durch eine Gitterstruktur 133, eine Adressmarkierung 135 und eine zentrale Markierung 134 gebildet ist. Zusätzlich ist außerdem eine Markierung 136 zur Erkennung der Richtung der Vorderseite und der Rückseite vorgesehen, so dass der Anwender die Vorder- und Rückseite und die Richtung des Probenlagerelements erkennen kann, wenn er die Probe ersetzt. Jedes aus der Struktur und der Markierung kann irgendeine Struktur und Markierung sein, die durch das OM und die Ladungsträgerstrahlvorrichtung beobachtet werden kann, und ein Bildungsverfahren dafür kann Drucken, Gravieren oder Stanzen sei.
Die Gitterstruktur 133 wird verwendet, um die Vergrößerung eines Beobachtungsbildes und einen Drehwinkel des Probenlagerelements 115 zu berechnen, wenn Positionsberechnung ausgeführt wird. In dem vorliegenden Beispiel ist eine Gitterstruktur dargestellt, in der entsprechende Gitterlinien mit einem festen Zwischenraum ausgerichtet und orthogonal zueinander sind. Die Gitterstruktur 133 kann jedoch irgendeine Gitterstruktur sein, mit der die Merkmalspunkte wie beispielsweise der Gitterabstand und der Drehwinkel analysiert werden können, und kann eine Struktur sein, in der Punkte oder Symbole mit gleichen Zwischenräumen ausgerichtet sind, und die Gitterstruktur ist nicht besonders eingeschränkt.
Die Adressmarkierung 135 wird verwendet, um Positionsinformationen des Probenlagerelements zu berechnen, wenn die Positionsberechnung ausgeführt wird. In diesem Beispiel kann, obwohl ein kreisförmiger Rahmen an dem Schnittpunkt der Gitterlinien angeordnet ist und ihm ein alphabetisches Erkennungssymbol zugewiesen ist, der Rahmen ein Dreieck oder ein Viereck sein, und das Erkennungssymbol kann irgendein Symbol sein, wie z. B. eine Zahl, ein Schriftzeichen, ein Symbol oder dergleichen, solange jede Adresse mit dem Symbol erkannt werden kann, und seine Form ist nicht besonders eingeschränkt.
Die zentrale Markierung 134 wird verwendet, um die Größe der Positionsabweichung zwischen der Mitte des anfänglichen Beobachtungssichtfelds und der zentralen Markierung 134 eines Beobachtungsbildes zu berechnen, wenn die Positionsberechnung ausgeführt wird. Wenn das Probenlagerelement 115 auf der Probenhalterung 116 platziert ist, kann, da die zentrale Markierung 134 so konfiguriert ist, dass die Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts 137 mit der zentralen Markierung 34 zusammenfällt, wie in 4A dargestellt ist, die zentrale Markierung 134 im Wesentlichen in der Mitte des anfänglichen Sichtfelds beobachtet werden, selbst in dem Fall von Bildaufnahme mit großer Vergrößerung, wodurch es möglich ist, die Positionsberechnungsverarbeitung zu starten, ohne das Sichtfeld zu bewegen. In dem Beispiel ist die Form der zentralen Markierung 134 in einer Sternform gebildet, die Form kann jedoch rund, halbrund, dreieckig, viereckig oder dergleichen sein, und irgendeine Form kann verwendet werden, solange sie es ermöglicht, den Mittelpunkt in der Gitterstruktur 133 zu erkennen. In dem Fall, in dem die Form eine Form ist, die Rotationssymmetrie zeigt, ist es weiter vorzuziehen, ein Symbol, um die Richtung erkennbar zu machen, innerhalb der oder um die zentrale Markierung 134 hinzuzufügen.
Allgemein, da der Anwender das Probenlagerelement 115 auf der Probenhalterung 116 platziert, so dass das Beobachtungssichtfeld und die Gitterstruktur 133 miteinander bündig sind, fällt ein Drehwinkel des Probenlagerelements 115 in Bezug auf das Beobachtungssichtfeld in den Bereich von höchstens -10 Grad bis +10 Grad. Falls der Drehwinkel 90 Grad übersteigt, kann die Richtung des Probenlagerelements 115 fälschlicherweise nur dadurch erkannt werden, dass die zentrale Markierung 134 und die Gitterstruktur 133 Formen aufweisen, die Rotationssymmetrie zeigen. Deshalb ist es mit einem Probenlagerelement mit einem Symbol, das die Probenhalterung 116 ermöglicht, die in 4A dargestellt ist, möglich, den Drehwinkel des Probenlagerelements 115 richtig zu berechnen.
Die Markierung 136 zur Erkennung der Richtung der Vorderseite und der Rückseite ist vorgesehen, so dass der Anwender die Vorderseite und Rückseite und die Richtung des Probenlagerelements 115 erkennen kann. In dem Beispiel ist die Form der Markierung auf das alphabetische Zeichen „F“ eingestellt, die Form kann jedoch auf „B, G, R, P oder dergleichen“ eingestellt sein, oder ein/e ähnliche/s Symbol oder Figur können verwendet werden, und ihre Formen sind nicht besonders eingeschränkt, solange die Form die Erkennung der Vorder- und Rückseite und der Richtung unterstützt.
3C ist eine Ansicht, die eine Positionsbeziehung zwischen dem Probenlagerelement 115 und der Probe 112, die auf dem Probenlagerelement 115 platziert ist, darstellt. Die Probe 112 ist in dem Bereich der Struktur zur Ausrichtung 117, die auf dem Probenlagerelement 115 vorgesehen ist, platziert. In dem Beispiel ist es möglich, selbst wenn die Probe 112 auf der Gitterstruktur 133 oder der zentralen Markierung in der Struktur zur Ausrichtung 117 platziert ist, die Gitterstruktur 133 oder die zentrale Markierung 134 unter der Probe 112 zu beobachten.
Allgemein, wenn eine biologische Probe durch OM-Beobachtung beobachtet wird, ist es möglich, einfach die Struktur unter der Probe 112 durch Anpassen der Intensität einer Lichtquelle, die zur Beleuchtung verwendet wird, zu beobachten. Im Übrigen kann bei der Elektronenmikroskopmessung die Energie der Elektronen des Elektronenstrahls 106 durch Ändern der Beschleunigungsspannung angepasst werden, und Elektronen, die eine ausreichend hohe Energie für die Dicke der Probe 112 aufweisen, können durch die Probe 112 hindurch treten. Deshalb tritt, durch Einstellen einer Beschleunigungsspannung so dass der Elektronenstrahl 106 durch die Probe 112 hindurch treten kann, der Elektronenstrahl 106 durch die Probe 112 hindurch, und dadurch wird ein Signal 113 detektiert, das von der Struktur erzeugt wird, die unter der Probe 112 positioniert ist. Ferner wird die Beschleunigungsspannung geändert, um die Energie der Elektronen zu reduzieren, so dass sie nicht durch die Probe 112 hindurch treten, so dass es möglich ist, die Oberfläche der Probe 112 zu beobachten. Dementsprechend muss die Probe 112 nicht notwendigerweise so platziert sein, dass sie die zentrale Markierung 124 vermeidet, und kann an einer beliebigen Position platziert sein.
<Probenhalterung>
Die 4A und 4B stellen ein Konfigurationsbeispiel der Probenhalterung 116 dar, wobei 4A eine schematische Ansicht aus Vogelperspektive ist und 4B eine Schnittansicht ist, genommen entlang der Linie A-A' in 4A.
Die Probenhalterung 116 enthält den Probenplatzierungsabschnitt 137, auf dem das Probenlagerelement 115 platziert ist, einen Probenbasisabschnitt 141, der als die Basis des Probenplatzierungsabschnitts 137 dient, und den Probenabdeckabschnitt 140, der das Probenlagerelement 115 befestigt.
Zum Verbessern der Effizienz der Probenersetzungsarbeit ist ein abgesenkter Teil, der die gleiche Dicke wie das Probenlagerelement 115, das während der Beobachtung verwendet werden soll, aufweist, auf der Oberseite des Probenplatzierungsabschnitts 137 vorgesehen, so dass das Probenlagerelement 115 und der Probenplatzierungsabschnitt 137 im Wesentlichen miteinander bündig sind. Die Tiefe des abgesenkten Teils und die Dicke des Probenlagerelements 115 können jedoch nicht gleich sein. Wenn der Probenabdeckabschnitt 140 montiert wird, drückt der Probenabdeckabschnitt 140 das Probenlagerelement 115 aus der Richtung der Oberseite, und der Probenplatzierungsabschnitt 137 wird um die Größe der Dicke des Probenlagerelements 115 nach unten verlagert, und somit kann die Höhe der Oberseite des Probenlagerelements 115 immer mit der Höhe des Probenbasisabschnitts 141, die nicht besonders eingeschränkt ist, zusammenfallen. Durch Installieren des Probenlagerelements auf dem abgesenkten Teil wird die Ausrichtung zwischen der Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts und der zentralen Markierung, die auf dem Probenlagerelement vorgesehen ist, ausgeführt. Zusätzlich ist es vorzuziehen, dass „Zusammenfallen“, das hier beschrieben ist, exaktes Zusammenfallen ist, jedoch ist die Positionsabweichung in dem Bereich der Tiefe des Fokus in dem anfänglichen Sichtfeld als ein Fehlerbereich erlaubt.
Der Probenplatzierungsabschnitt 137, der Probenbasisabschnitt 141, der Probenabdeckabschnitt 140 und dergleichen, die die Probenhalterung 116 bilden, sind unter Verwendung eines Materials wie z. B. SUS316 in diesem Beispiel hergestellt, das Material ist jedoch nicht besonders eingeschränkt, solange das Material SUS304, AI, C (Graphit), Cu, Ta, Mo, Ti, W, Messing, Bronze, eine Verbindung oder eine Legierung, die diese Substanzen enthält, und dergleichen ist und elektrische Leitfähigkeit aufweist, jedoch ein nichtmagnetisches Material ist.
Der Probenplatzierungsabschnitt 137 enthält den Drehknopf 139 und ist so konfiguriert, dass das Probenlagerelement 115, das auf dem Probenplatzierungsabschnitt 137 platziert ist, durch Betätigen des Drehknopfes 139 gedreht oder an einem beliebigen Winkel gehalten wird, während es mit der Oberseite des Probenba.sisabschnitts 141 bündig ist.
Die Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts 137 ist so konfiguriert, dass sie mit der Mitte des Probenlagerelements 115 zusammenfällt. Ferner ist der Probenplatzierungsabschnitt 137 mit dem Probenbasisabschnitt 141 so zusammengebaut, dass die seine Drehachse mit der optischen Achse des elektronenoptischen Systems 108 des SEM 101 zusammenfällt, wenn die Probenhalterung 116 auf dem Montageteil 119 des Probentisches 118 installiert ist. Dementsprechend ist es, selbst wenn der Anwender den Probenplatzierungsabschnitt 137 in irgendeinem Winkel in 360 Grad dreht, um die horizontale Richtung des Probenlagerelements 115 an der horizontalen Richtung der Probenhalterung 116 auszurichten, da die Mitte des Probenlagerelements 115 immer mit der optischen Achse des elektronenoptischen Systems 108 zusammenfällt, möglich, ein Kalibrierungsverfahren anzuwenden, das später beschrieben werden soll. Zusätzlich ist es vorzuziehen, dass „Zusammenfallen“, das hier beschrieben ist, exaktes Zusammenfallen ist, jedoch ist die Positionsabweichung in dem Bereich der Tiefe des Fokus in dem anfänglichen Sichtfeld als ein Fehlerbereich erlaubt.
In diesem Beispiel ist der äußere Umfangdes Drehknopfs 139 einem Rändeln unterzogen, um die Drehoperation zu unterstützen, die Form zum einfachen Ausführen einer Drehoperation wie z. B. Rändeln des äußeren Umfangs, Bilden einer Rillen zum Verwenden eines Antriebs vom Plus-, Minus- oder Hex-Typ oder dergleichen ist nicht besonders eingeschränkt.
Der Probenabdeckabschnitt 140 befestigt das Probenlagerelement 115, das auf dem Probenplatzierungsabschnitt 137 platziert ist, durch Drücken des Probenlagerelements in einer Richtung von der Oberseite des Probenbasisabschnitts 141 zu der Unterseite. Zum Befestigen wird die Rückseite des Probenabdeckabschnitts 140 in engen Kontakt mit der Oberseite des Probenbasisabschnitts 141 gebracht, und dadurch wird der Probenabdeckabschnitt 140 mit einer Abdeckungsbefestigungsschraube 142, die auf dem Probenbasisabschnitt 141 vorgesehen ist, befestigt. In dem Beispiel, wie in der Schnittansicht von 4B gezeigt ist, sind Federn 143 um die Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts 137 angeordnet. Auf die Kontaktfläche des Endwindungsteils jeder Feder 143 mit dem Probenbasisabschnitt 141 und dem Probenplatzierungsabschnitt 137 wird immer der Druck durch die Feder 143 ausgeübt, und der Probenabdeckabschnitt 140 ist an dem Probenbasisabschnitt 141 befestigt, und somit fallen die Höhe der Oberseite des Probenlagerelements 115 und die Höhe der Oberseite des Probenbasisabschnitts 141 miteinander zusammen, wodurch das Probenlagerelement 114 mit dem Druck durch die Feder 143 befestigt wird, so dass es sich nicht aufgrund von Vibration oder dergleichen bewegt.
Zusätzlich ist der Probenabdeckabschnitt 140 mit einem Fenster 144 gebildet, so dass die Probe 112 und das Probenlagerelement 114 dadurch beobachtet werden können, und die Peripherie des Fensters 144 ist in diesem Beispiel einer Prägung unterzogen, um gute elektrische Leitfähigkeit mit der Oberseite des Probenlagerelements 115 sicherzustellen und den physikalischen Kontakt zu unterstützen. Die Verarbeitung ist jedoch nicht auf Prägen beschränkt, der Grat des gestanzten Lochs kann verwendet werden, die Federform kann gebildet sein oder die Klinkenform kann gebildet sein, und die Form zum Unterstützen des Kontakts ist nicht besonders eingeschränkt. Ferner ist in dem Beispiel, um das Überprüfen der Drehrichtung des Probenlagerelements 115 zu unterstützen, eine Orientierungsabflachung 145 vorgesehen, die die horizontale Richtung des anfänglichen Sichtfelds repräsentiert, wenn die Beobachtung mit dem SEM 101 ausgeführt wird, die Form kann jedoch eine Kerbenform oder dergleichen sein, die Richtung der Form kann eine vertikale Richtung sein, die Richtung kann 15 Grad, 30 Grad, 45 Grad, 60 Grad, 75 Grad oder dergleichen sein, und die Form zum Unterstützen der Überprüfung der Drehrichtung ist nicht besonders eingeschränkt.
Um einen günstigen elektrischen Kontakt zwischen der Oberseite des Probenlagerelements 115 und dem Probenbasisabschnitt 141 sicherzustellen, obwohl SUS316 in dem vorliegenden Beispiel verwendet ist, ist das Material, das den Probenabdeckabschnitt 140 und die Abdeckungsbefestigungsschraube 142 bildet, nicht besonders eingeschränkt, solange das Material SUS304, AI, Cu, Ta, Mo, Ti, W, Messing, Bronze oder eine Verbindung oder eine Legierung, die diese Substanzen enthält, und dergleichen ist, elektrische Leitfähigkeit aufweist und das Verschleißen der Schraube durch Anwenden eines Gleitmittels wie z. B. MoS₂, WS₂ und dergleichen und Mischungen, die diese Substanzen enthalten, auf der Abdeckungsbefestigungsschraube 142 vermeiden kann.
Der Probenbasisabschnitt 141 enthält einen eingepassten Teil (nicht dargestellt) zum Montieren der Probenhalterung 116 auf dem Montageabschnitt 119 des Probentischs 118 und eine Abdeckungsbefestigungsschraube 142.
Obwohl die Oberseite des Probenbasisabschnitts 141 einer V-förmigen Rillenverarbeitung 138 in der horizontalen Richtung und der vertikalen Richtung in dem vorliegenden Beispiel unterzogen wird, um die horizontale Richtung der Struktur zur Ausrichtung 117, die auf dem Probenlagerelement 115 gebildet ist, und die horizontale Richtung in dem anfänglichen Bildaufnahmesichtfeld, wenn Beobachtung mit dem SEM 101 ausgeführt wird, auszurichten, kann die Rillenverarbeitung 138 nur in der horizontalen Richtung oder nur in der vertikalen Richtung, in einer Richtung von 15 Grad, 30 Grad, 45 Grad, 60 Grad, 75 Grad oder dergleichen ausgeführt werden, wobei die Richtung eine Richtung in Bezug auf die Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts 137 sein kann, oder die Schnittform kann eine U-Form, eine W-Form eine seitenverkehrte C-Form oder einen konkaven Teil, der diesen ähnlich ist, aufweisen, und die Form zum Unterstützen der Überprüfung der Drehrichtung ist nicht besonders eingeschränkt.
4C stellt eine schematische Ansicht aus Vogelperspektive der Probenhalterung dar, die drei Probenplatzierungsabschnitte enthält. Der Probenplatzierungsabschnitt 137 kann mehrfach in Bezug auf die Probenhalterung 116 vorgesehen sein, solange wenigstens ein oder mehrere Probenplatzierungsabschnitte vorgesehen sind, die Anzahl von Probenplatzierungsabschnitten ist jedoch nicht besonders eingeschränkt. Die Probenhalterung 116 enthält den Probenplatzierungsabschnitt 137, die Rillenverarbeitung 138 (nicht dargestellt), den Drehknopf 139, den Probenabdeckabschnitt 140, den Probenbasisabschnitt 141, die Abdeckungsbefestigungsschraube 142 (nicht dargestellt), die Feder 143 (nicht dargestellt), das Fenster 144 (nicht dargestellt) und die Orientierungsabflachung 145 (nicht dargestellt).
Wenn eine Elektronenmikroskopbeobachtungsarbeit unter Verwendung der Probenhalterung 116, die mehrere Probenplatzierungsabschnitte enthält, durch die Bewegung in der XY-Ebene des Probentisches 118 (in der Ebene, die durch die x-Richtung senkrecht zu dem Elektronenstrahl 106 und die y-Richtung orthogonal zu dem Elektronenstrahl 106 und senkrecht zu der x-Richtung) ausgeführt wird, steuert eine Probenbewegungsvorrichtungssteuereinheit die Bewegung des Objekttischs, so dass die Mitte des Probenplatzierungsabschnitts 137, der über die Bedieneinheit 151 durch den Anwender ausgewählt ist, in das anfängliche Sichtfeld des SEM-Bildes fällt. Die Mittenposition jedes Probenplatzierungsabschnitts 137 ist in der Steuervorrichtung 105 aufgezeichnet, und der Objekttisch wird so gesteuert, dass die Mittenposition des Probenplatzierungsabschnitts 137, der beliebig durch den Anwender ausgewählt ist, zu der Mitte des anfänglichen Sichtfelds wird. Mit dieser Bewegungssteuerung ist es, selbst wenn die Probenhalterung 116, die die mehreren Probenplatzierungsabschnitte 137 enthält, verwendet wird, möglich, immer die Struktur zur Ausrichtung 117 auf dem Probenlagerelement 115 in dem anfänglichen Sichtfeld zu überprüfen, wodurch es möglich ist, Positionsvergrößerungsberechnung auszuführen.
<Positionsvergrößerungsberechnungseinheit>
5A ist eine Ansicht, die eine Positionsbeziehung zwischen dem anfänglichen Sichtfeld (Sichtfeld des SEM 146) des SEM-Bildes und der Mitte 147m des SEM-Bild-Sichtfelds und der Struktur zur Ausrichtung 117 (133, 134 und 135) darstellt, und 5B ist eine Ansicht zum Beschreiben einer Positionsbeziehung zwischen den Strukturdaten 148, die aus den Formdaten und den Koordinatendaten der Struktur zur Ausrichtung 117 bestehen, und dem Sichtfeld des SEM 146.
Die Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 liest die Bilddaten des SEM-Bildes und des OM-Bildes und berechnet die Beobachtungsvergrößerung in jedem aus dem Beobachtungsbild und die relativen Positionsinformationen der Strukturkoordinaten und der Sichtfeldpositiön durch Verwenden der Strukturdaten 148, die in der Strukturdatenspeichereinheit 126 gespeichert sind und aus den Formdaten und den Koordinatendaten der Struktur zur Ausrichtung 117 bestehen. Zum Berechnen der Beobachtungsvergrößerung wird die Gitterstruktur 133 verwenden, und zum Berechnen der Positionsinformationen wird die zentrale Markierung 134 in dem Fall des SEM-Bildes verwendet, und die zentrale Markierung 134 oder die Adressmarkierung 135 wird in dem Fall des OM-Bildes verwendet.
Nachstehend wird ein Operationsbeispiel in dem Fall zum Lesen eines SEM-Bildes mit Bezug auf die 5A und 5B und 6 als ein Operationsbeispiel der Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127 des Beispiels beschrieben.
6 ist ein Ablaufplan, der eine Operation der Positionsvergrößerungsberechnungseinheit zeigt.
Wenn die Operation gestartet wird (Schritt S301), werden zuerst Formdaten der Struktur zur Ausrichtung 117 aus der Strukturdatenspeichereinheit 126 gelesen (Schritt S302). Die Formdaten enthalten den Gitterabstand der Gitterstruktur 133, Formdaten der zentralen Markierung 134, Formdaten der Adressmarkierung 135 und Positionskoordinatendaten der Gitterstruktur 133 oder jeder Markierung.
Als Nächstes wird das Lesen von SEM-Bilddaten, die ein Beobachtungsbild mit dem anfänglichen Sichtfeld des SEM sind und in Schritt S209 aufgenommen sind, ausgeführt (Schritt S303). Wie in 5A dargestellt ist, werden in dem SEM-Bild die zentrale Markierung 134 und die Gitterstruktur 133 notwendigerweise innerhalb des Sichtfelds des SEM 146 beobachtet.
Nachfolgend werden die SEM-Bilddaten analysiert, um den Abstand und einen Drehwinkel der Gitterstruktur zu berechnen (Schritt S304). Insbesondere wird beispielsweise eine gerade Linie der Gitterstruktur 133 aus den SEM-Bilddaten durch Verwenden bekannter Bildverarbeitung wie z. B. Hough-Transformation, Strukturabgleich oder dergleichen, und einer Bilderkennungstechnik erkannt, um die Steigung der geraden Linie zu berechnen, und dadurch wird der Drehwinkel berechnet. Zusätzlich wird der Gitterabstand berechnet, beispielsweise durch Messen des Abstands zwischen wenigstens zwei parallelen geraden Linien.
Nachfolgend werden der Gitterabstand, der in Schritt S304 erhalten wird, und der bekannte tatsächliche Abstand der Gitterstruktur 133 miteinander verglichen, und dadurch wird eine Beobachtungsvergrößerung der SEM-Bilddaten berechnet (Schritt S305).
Nachdem die Beobachtungsvergrößerung berechnet worden ist, wird die Größe der Positionsabweichung zwischen der zentralen Markierung 134 und der Mitte 147 des SEM-Bild-Sichtfelds berechnet (Schritt S306). Insbesondere wird die zentrale Markierung 134 beispielsweise durch Verwenden einer bekannten Bilderkennungstechnik wie z. B. Strukturabgleich erkannt, um die Größe der Positionsabweichung zu berechnen.
Da der Drehwinkel, die Beobachtungsvergrößerung und die Größe der Positionsabweichung des SEM-Bild-Sichtfelds bisher bereits durch die Schritte S304, S305 und S306 erhalten worden sind, die relative Position der Struktur zur Ausrichtung 117 und das SEM-Bild-Sichtfeld in dem nachfolgenden Schritt (Schritt S307).
Wie in den 5A und 5B dargestellt ist, ist das Koordinatensystem des Sichtfelds des SEM auf ein Sichtfeld-Koordinatensystem (X,Y-Koordinatensystem) eingestellt, und das Koordinatensystem der Strukturdaten 148 ist auf ein Struktur-Koordinatensystem (X',Y'-Koordinatensystem) eingestellt, so dass die SEM-Sichtfeldposition auf E(X, Y) eingestellt ist. In diesem Zustand, wenn der Drehwinkel des SEM-Bild-Sichtfelds auf θ eingestellt ist, die Beobachtungsvergrößerung auf M eingestellt ist und die Größe der Positionsabweichung auf S eingestellt ist, kann eine Positionskoordinate E(X', Y') des Sichtfelds des SEM in dem Struktur-Koordinatensystem unter Verwendung einer Umsetzungsfunktion T(θ, M, S) wie folgt ausgedrückt werden. $E (X',Y') = E (X,Y) T (θ,M,S)$
Dadurch ist es möglich, die relative Position der Struktur zur Ausrichtung 117 und das SEM-Bild-Sichtfeld zu berechnen.
Schließlich werden die Positionskalibrierung des Probentischs 118 und die Vergrößerungskalibrierung des elektronenoptischen Systems 108 ausgeführt (S308), um die Daten der relativen Position zu der Sichtfeldausrichtungseinheit zu übertragen (Schritt S309).
Bisher ist ein Operationsbeispiel in dem Fall zum Lesen des SEM-Bildes beschrieben worden. Wenn das OM-Bild gelesen wird, wird ein Bilderkennungsziel in Schritt S306 einer Bilderkennungsverarbeitung als wenigstens eines aus der zentralen Markierung 134 oder der Adressmarkierung unterzogen, und Schritt S308 wird weggelassen.
Wie vorstehend beschrieben arbeitet die Positionsvergrößerungsberechnungseinheit 127, um Informationen über die relative Position zu berechnen, und somit kann das SEM-System in dem Beispiel die Ausrichtung zwischen einem OM-Bild und einem Sichtfeld nur durch einmalige Bildaufnahme mit dem anfänglichen Sichtfeld realisieren.
Bisher ist es gemäß dem Beispiel möglich, eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung bereitzustellen, die eine Ladungsträgerquelle, eine Probenhalterung mit einer darauf platzierten Probe, ein optisches System für den Ladungsträgerstrahl, in dem die Probe mit einem Ladungsträger, der aus der Ladungsträgerquelle als ein Ladungsträgerstrahl emittiert wird, bestrahlt wird, einen Detektor, der ein Signal detektiert, das aus der Probe emittiert wird, und eine Steuereinheit, die jeden Bestandteil steuert, enthält, wobei die Probenhalterung einen Probenplatzierungsabschnitt, der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite enthält, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an einem Probenlagerelement montiert ist, das eine Struktur zur Ausrichtung aufweist, die eine zentrale Markierung und eine Struktur und eine Adressmarkierung zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels aufweist, einen Probenbasisabschnitt, der eine Öffnung, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, und einen Probenabdeckabschnitt, der Leitfähigkeit aufweist, enthält, ein Fenster enthält, durch das die Struktur zur Ausrichtung des Probenlagerelements freigelegt ist, und wird nach unten in eine Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts gedrückt, so dass eine Oberseite des Probenlagerelements, das auf dem Probenplatzierungsabschnitt platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind.
Zusätzlich ist es möglich, eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung bereitzustellen, die eine Ladungsträgerquelle, eine Probenhalterung, die mit einer Probe platziert ist, ein optisches Ladungsträgerstrahlsystem, in dem die Probe mit einem Ladungsträger, der aus der Ladungsträgerquelle als ein Ladungsträgerstrahl emittiert wird, bestrahlt wird, einen Detektor, der ein Signal, das aus der Probe emittiert wird, detektiert, und eine Steuereinheit, die jeden Bestandteil steuert, enthält, wobei die Probenhalterung einen Probenplatzierungsabschnitt enthält, der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an ein Probenlagerelement montiert ist, das eine Struktur zur Ausrichtung aufweist, die eine zentrale Markierung und eine Struktur und eine Adressmarkierung zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels enthält, einen Probenbasisabschnitt, der eine Öffnung enthält, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, und einen Probenabdeckabschnitt, der Leitfähigkeit aufweist, enthält, ein Fenster enthält, durch das die Struktur zur Ausrichtung des Probenlagerelements freigelegt ist, und nach unten in eine Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts gedrückt wird, so dass eine Oberseite des Probenlagerelements, das auf dem Probenplatzierungsabschnitt platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind, wobei die Steuereinheit einen ersten Bildprozessor, der erste Bildaufnahmedaten verarbeitet, die eine Struktur zum Analysieren der Vergrößerung und des Drehwinkels des Probenlagerelements, die unter Verwendung eines optischen Mikroskops und der zentralen Markierung oder der Adressmarkierung erhalten wird, enthalten, einen zweiten Bildprozessor, der zweite Bildaufnahmedaten verarbeitet, die eine Struktur zum Analysieren der Vergrößerung und des Drehwinkels des Probenlagerelements enthalten, die unter Verwendung eines Detektors und der zentralen Markierung erhalten werden, eine Strukturdatenspeichereinheit, in der Strukturdaten, die Formdaten und Koordinatendaten der Struktur zur Ausrichtung enthalten, gespeichert sind, und eine Positionsvergrößerungsberechnungseinheit, die Beobachtungsvergrößerung unter Verwendung der ersten Bilddaten, die durch den ersten Bildprozessor verarbeitet sind, der zweiten Bilddaten, die durch den zweiten Bildprozessor verarbeitet sind, und Informationen über die relative Position der Strukturkoordinaten und einer Sichtfeldposition berechnet, enthält.
Zusätzlich ist es möglich, die Probenhalterung bereitzustellen, die einen Probenplatzierungsabschnitt, der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an ein Probenlagerelement montiert ist, das eine Struktur zur Ausrichtung aufweist, die eine zentrale Markierung und eine Struktur und eine Adressmarkierung zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels enthält, einen Probenbasisabschnitt, der eine Öffnung enthält, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, und einen Probenabdeckabschnitt, der Leitfähigkeit aufweist, enthält, ein Fenster enthält, durch das die Struktur zur Ausrichtung des Probenlagerelements freigelegt ist, und wird nach unten in eine Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts gedrückt, so dass eine Oberseite des Probenlagerelements, das auf dem Probenplatzierungsabschnitt platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind.
Wie vorstehend beschrieben ist es gemäß dem Beispiel möglich, eine Ladungsträgerstrahlvorrichtung und eine Probenhalterung bereitzustellen, die zum einfachen Suchen nach einem Beobachtungssichtfeld fähig sind. Insbesondere wird in einer Ladungsträgerstrahlvorrichtung, die Sichtfeldsuche unter Verwendung eines Beobachtungspositionsfestlegungsbildes ausführt, das mit dem OM aufgenommen ist, und einer Probenhalterung, die dafür verwendet wird, die Bildaufnahme eines Referenzbildes zur Kalibrierung oder Merkmalspunktzuordnungarbeit eliminiert, und dadurch wird die Anzahl von Operationen des Anwenders reduziert oder einfaches Beobachten des gleichen Sichtfelds wie das Sichtfeld der mit dem OM aufgenommenen Bildern. Ferner kann die Spezifikation der Vergrößerung, wenn die Bildaufnahmevorrichtung ein aufgenommenes Bild der Probe aufnimmt, oder die Erkennung der Position des Probenlagerelements in dem aufgenommenen Bild schnell und einfach oder mit höherer Genauigkeit ausgeführt werden, wodurch es möglich ist, eine Zeit zu reduzieren, die ein Anwender damit verbringt, nach einem Sichtfeld zu suchen.
Es wird darauf hingewiesen, dass die vorliegende Erfindung nicht auf die vorstehend beschriebenen Beispiele beschränkt ist, sondern verschiedene modifizierte Beispiele enthält. Beispielsweise sind die vorstehend beschriebenen Beispiele im Einzelnen beschrieben worden, um die vorliegende Erfindung besser zu verstehen, und die Beispiele sind nicht notwendigerweise auf diejenigen beschränkt, die alle vorstehend beschriebenen Konfigurationen aufweisen. Ferner ist es möglich, andere Konfigurationen hinzuzufügen oder für einen Teil einer speziellen Konfiguration zu ersetzen.
Bezugszeichenliste

101: SEM,
102: Elektronenstrahlsäule,
103: Probenkammer,
104: Mikroskopkörper,
105: Steuervorrichtung (Steuereinheit),
106: Elektronenstrahl,
107: Elektronenkanone,
108: elektronenoptisches System,
109: Kondensorlinse,
110: Deflektor,
111: Objektivlinse,
112: Probe,
113: Signal,
114: Detektor,
115: Probenlagerelement,
116: Probenhalterung,
117: Struktur zur Ausrichtung,
118: Probentisch,
119: Montageteil,
120: Probenbewegungsmechanismus,
121: OM,
122: Ob-jekttisch,
123: Bildaufnahmeelement,
124: Bildprozessor für das OM (erster Bildpro-zessor),
125: Bildprozessor für das SEM (zweiter Bildprozessor),
126: Strukturdatenspeichereinheit,
127: Positionsvergrößerungsberechnungseinheit,
128: Vergröße- rungsberechnungseinheit,
129: Positionsberechnungseinheit,
130: Steuereinheit für das elektronenoptische System,
131: Probentischsteuereinheit,
132: Sichtfeldausrichtungseinheit,
133: Gitterstruktur,
134: zentrale Markierung,
135: Adressmarkierung,
136: Markierung zur Erkennung der Richtung der Vorderseite und der Rückseite,
137: Probenplatzierungsabschnitt,
138: Rillenverarbeitung,
139: Drehknopf,
140: Probenabdeckabschnitt,
141: Probenbasisabschnitt,

142: Abdeckungsbefestigungsschraube,
143: Feder,
144: Fenster,
145: Orientierungsabflachung,
146: Sichtfeld des SEM,
147: Mitte des SEM-Bild-Sichtfelds,
148: Strukturdaten,
150: Anzeigeeinheit,
151: Bedieneinheit

Claims

Ladungsträgerstrahlvorrichtung, die eine Ladungsträgerquelle, eine Probenhalterung (116) mit einer darauf platzierten Probe (112), ein optisches Ladungsträgerstrahlsystem, in dem die Probe (112) mit einem Ladungsträger, der aus der Ladungsträgerquelle als ein Ladungsträgerstrahl emittiert wird, bestrahlt wird, einen Detektor (114), der ein Signal, das aus der Probe (112) emittiert wird, detektiert, und eine Steuereinheit (105), die jeden Bestandteil steuert, umfasst, wobei die Probenhalterung (116) enthält: einen Probenplatzierungsabschnitt (137), der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite enthält, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an einem Probenlagerelement (115) montiert ist, das eine Struktur zum Ausrichten (117), die eine zentrale Markierung (134) und eine Struktur und eine Adressmarkierung (135), zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels, enthält, aufweist, einen Probenbasisabschnitt (141), der eine Öffnung, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt (137) vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, und ein Probenabdeckungsabschnitt, der eine Leitfähigkeit aufweist, ein Fenster (144) enthält, durch das die Struktur zur Ausrichtung (117) des Probenlagerelements (115) freigelegt ist, und so nach unten in einer Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts (141) gedrückt wird, dass eine Oberseite des Probenlagerelements (115), das auf dem Probenplatzierungsabschnitt (137) platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Struktur zum Analysieren der Vergrößerung und des Drehwinkels eine Gitterstruktur (133) ist.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Probenlagerelement (115) ferner eine Markierung zur Erkennung der Richtung der Vorderseite und der Rückseite (136) enthält.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Probenlagerelement (115) aus einem isolierenden Material hergestellt ist und mit einer leitfähigen Beschichtung auf einer Oberfläche davon gebildet ist.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Ladungsträgerstrahlvorrichtung ferner einen Probenbewegungsmechanismus (120) enthält, der eine Position oder eine Orientierung der Probenhalterung (116) oder beides verlagert.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Probenhalterung (116) mehrere Gruppen aus dem Probenplatzierungsabschnitt (137) und dem Probenabdeckungsabschnitt enthält.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung, die eine Ladungsträgerquelle, eine Probenhalterung (116) mit einer platzierten Probe (112), ein optisches Ladungsträgerstrahlsystem, in dem die Probe (112) mit einem Ladungsträger, der aus der Ladungsträgerquelle als ein Ladungsträgerstrahl emittiert wird, bestrahlt wird, einen Detektor (114), der ein Signal, das aus der Probe (112) emittiert wird, detektiert, und eine Steuereinheit (105), die jeden Bestandteil steuert, umfasst, wobei die Probenhalterung (116) enthält: einen Probenplatzierungsabschnitt (137), der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite enthält, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an einem Probenlagerelement (115) montiert ist, das eine Struktur zum Ausrichten (117), die eine zentrale Markierung (134) und eine Struktur und eine Adressmarkierung (135) zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels enthält, aufweist, einen Probenbasisabschnitt (141), der eine Öffnung, durch sich der Probenplatzierungsabschnitt (137) vertikal bewegen, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält, und ein Probenabdeckungsabschnitt, der eine Leitfähigkeit aufweist, enthält ein Fenster (144), durch das die Struktur zur Ausrichtung (117) des Probenlagerelements (115) freigelegt ist, und so nach unten in einer Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts (141) gedrückt wird, dass eine Oberseite des Probenlagerelements (115), das auf dem Probenplatzierungsabschnitt (137) platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind, die Steuereinheit (105) enthält: einen ersten Bildprozessor (124), der die ersten Bildaufnahmedaten, die eine Struktur enthalten, die unter Verwendung eines optischen Mikroskops erhalten werden, zum Analysieren der Vergrößerung und des Drehwinkels des Probenlagerelements (115) und der zentralen Markierung (134) oder der Adressmarkierung (135) verarbeitet, einen zweiten Bildprozessor (125), der die zweiten Bildaufnahmedaten, die eine Struktur enthalten, die unter Verwendung des Detektors (114) erhalten werden, zum Analysieren der Vergrößerung und des Drehwinkels des Probenlagerelements (115) und der zentralen Markierung (134) verarbeitet, eine Strukturdatenspeichereinheit (126), in der Strukturdaten, die Formdaten und Koordinatendaten der Struktur zur Ausrichtung (117) enthalten, gespeichert sind, und eine Positionsvergrößerungsberechnungseinheit (127), die die Beobachtungsvergrößerung unter Verwendung der ersten Bilddaten, die durch den ersten Bildprozessor (124) verarbeitet sind, der zweiten Bilddaten, die durch den zweiten Bildprozessor (125) verarbeitet sind, und der Strukturdaten, die in der Strukturdatenspeichereinheit (126) gespeichert sind, und der Informationen über die relative Position der Strukturkoordinaten und einer Sichtfeldposition berechnet.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 7, wobei die Steuereinheit (105) ferner eine Sichtfeldausrichtungseinheit (132) enthält, die Positionsinformationen zum Erhalten des gleichen Sichtfelds wie das Sichtfeld, das mit dem optischen Mikroskop erhalten wird, berechnet.
Ladungsträgerstrahlvorrichtung nach Anspruch 7, wobei die Probenhalterung (116) mehrere Gruppen aus dem Probenplatzierungsabschnitt (137) und dem Probenabdeckungsabschnitt enthält, und in der Steuereinheit (105) die Mittenposition jedes Probenplatzierungsabschnitts (137) aufgezeichnet ist.
Probenhalterung (116), die umfasst: einen Probenplatzierungsabschnitt (137), der eine erste Oberseite, auf der ein abgesenkter Teil gebildet ist, und eine Drehachse zum horizontalen Drehen der ersten Oberseite enthält, wobei der abgesenkte Teil dadurch ausgerichtet ist, dass er an einem Probenlagerelement (115) montiert ist, das eine Struktur zum Ausrichten (117), die eine zentrale Markierung (134) und eine Struktur und eine Adressmarkierung (135) zum Analysieren der Vergrößerung und eines Drehwinkels enthält, aufweist; einen Probenbasisabschnitt (141), der eine Öffnung, durch die sich der Probenplatzierungsabschnitt (137) vertikal bewegen kann, und eine zweite Oberseite um die Öffnung enthält; und ein Probenabdeckungsabschnitt, der eine Leitfähigkeit aufweist, enthält ein Fenster (144), durch das die Struktur zur Ausrichtung (117) des Probenlagerelements (115) freigelegt ist, und so nach unten in einer Richtung der zweiten Oberseite des Probenbasisabschnitts (141) gedrückt wird, dass eine Oberseite des Probenlagerelements (115), das auf dem Probenplatzierungsabschnitt (137) platziert ist, und die zweite Oberseite miteinander bündig sind.
Probenhalterung (116) nach Anspruch 10, wobei der abgesenkte Teil des Probenplatzierungsabschnitts (137) ein Abschnitt zum Ausführen von Ausrichtung zwischen der zentralen Markierung (134) des Probenlagerelements (115) und der Drehachse des Probenplatzierungsabschnitts (137) ist.
Probenhalterung (116) nach Anspruch 10, wobei die Probenhalterung (116) mehrere Gruppen aus dem Probenplatzierungsabschnitt (137) und dem Probenabdeckungsabschnitt enthält.