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Hintergrund
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Eine lichtemittierende Anzeige mit Aktivmatrix (AMOLED) bietet Vorteile, wie etwa Selbstbeleuchtung, einen niedrigen Leistungsverbrauch, eine hohe Antwortgeschwindigkeit, einen hohen Kontrast und einen weiten Blickwinkel.
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Bei dem Prozess zur Herstellung einer AMOLED-Anzeigetafel wird ein Abschnitt mit Zwischenräumen einer Maske verwendet, um ein Aufdampfen auf rote (R) Pixel, grüne (G) Pixel bzw. blaue (B) Pixel durchzuführen. Bei dem Vorgang des Aufdampfens wird ferner ein nicht-Aufdampf-Bereich (d. h. ein Bereich, in dem der Aufdampfprozess nicht durchzuführen ist) durch einen Abschnitt ohne Zwischenräume der Maske abgeschirmt. 1 ist ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer Maske aus dem Stand der Technik zeigt. Wie in 1 gezeigt, weist eine Maske 10 einen aktiven Bereich 11 und einen Übergangsbereich 12 auf. Der aktive Bereich 11, der als Aufdampfbereich wirkt, entspricht einem Anzeigebereich der AMOLED-Anzeigetafel, und der Übergangsbereich 12, der als nicht-Aufdampf-Bereich wirkt, entspricht einem Übergangsbereich zwischen den AMOLED-Anzeigetafeln. Der aktive Bereich 11 weist ferner Zwischenräume 111 auf, die durch Ätzen gebildet und für das Aufdampfen verwendet werden, während der Übergangsbereich 12 nicht geätzt wird.
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Vor dem Aufdampfen wird eine Spannkraft mittels einer Streckvorrichtung auf die Maske aufgebracht, um die Maske mit der Spannkraft zu spannen, und dann wird die geplättete Maske an einem Metallrahmen geschweißt, um einen flachen Zustand der gesamten Maske zu erhalten. Aufgrund der Gestaltung der Struktur der Maske aus dem Stand der Technik, bei der der aktive Bereich 11 die durch Ätzen gebildeten Zwischenräume 111 aufweist, der Übergangsbereich 12 jedoch nicht geätzt ist, werden die auf den aktiven Bereich 11 und den Übergangsbereich 12 aufgebrachten Kräfte ungleichförmig verteilt, wenn die Spannkraft auf die Maske aufgebracht wird, wodurch sich die Flachheit der Maske verschlechtert. Während des Aufdampfprozesses ruft die Maske mit der verschlechterten Flachheit eine Farbvermischung in der AMOLED-Anzeigetafel hervor, wodurch die Ausbeute der Anzeigetafel verringert wird.
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Kurzzusammenfassung
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In Anbetracht des obigen Problems stellen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung eine Maske, ein Verfahren zur Herstellung der Maske und eine Prozessvorrichtung bereit, um das technische Problem der verschlechterten Flachheit der Maske aus dem Stand der Technik, die durch die ungleichmäßige Verteilung der auf die Maske aufgebrachten Kraft hervorgerufen wird, zu lösen.
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Bei einem ersten Aspekt wird in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung eine Maske mit einem aktiven Bereich und einem Übergangsbereich bereitgestellt, wobei der Übergangsbereich mindestens einen ersten Bereich mit einer ersten Dicke umfasst, die geringer ist als die Dicke des aktiven Bereichs.
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Bei einem zweiten Aspekt wird in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ferner eine Prozessvorrichtung mit einer Maske gemäß dem ersten Aspekt bereitgestellt.
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Bei einem dritten Aspekt wird in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ferner ein Verfahren zur Herstellung einer Maske gemäß dem ersten Aspekt bereitgestellt, das Folgendes umfasst:
Formen von Mustern des aktiven Bereichs und des Übergangsbereichs in einem Maskenkörper, wobei der Übergangsbereich zumindest mindestens einen ersten Bereich mit einer ersten Dicke umfasst, die geringer ist als eine Dicke des aktiven Bereichs.
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Mit der Maske, dem Verfahren zur Herstellung der Maske und der Prozessvorrichtung nach Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung wird mindestens ein erster Bereich mit der ersten Dicke in dem Übergangsbereich gebildet, wobei die erste Dicke geringer ist als die Dicke des aktiven Bereichs, so dass die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich der Maske aufgebrachten Kräfte beim Strecken der Maske gleichmäßiger verteilt werden können, was zu der guten Flachheit der gestreckten Maske führt. Darüber hinaus kann durch das Ausführen des Aufdampfens mit einer derartigen Maske bei der Herstellung der AMOLED-Anzeigetafel die Farbvermischung bei der hergestellten AMOLED-Anzeigetafel verhindert werden, wodurch die Ausbeute der Anzeigetafel verbessert wird.
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Beschreibung der Zeichnungen
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Merkmale, Gegenstände und Vorteile der vorliegenden Offenbarung ergeben sich aus der nachfolgenden ausführlichen Beschreibung nicht einschränkender Ausführungsformen anhand der nachstehenden beigefügten Zeichnungen. Darin zeigen:
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1 ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer Maske aus dem Stand der Technik zeigt,
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2 ein schematisches Schaubild, das eine Auswirkung des Aufdampfens zeigt, das mit einer Maske mit einer verschlechterten Flachheit durchgeführt wurde,
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3 ein schematisches Schaubild, das eine Auswirkung des Aufdampfens zeigt, das mit einer gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellten Maske durchgeführt wurde,
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4A ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer Maske gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt,
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4B ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie A1-A2 aus 4A zeigt,
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5A ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer weiteren Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt,
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5B ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie B1-B2 aus 5A zeigt,
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6A ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer weiteren Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt,
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6B ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie C1-C2 aus 6A zeigt,
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7A ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer weiteren Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt,
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7B ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie D1-D2 aus 7A zeigt,
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8 ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer Prozessvorrichtung gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt, und
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9 ein schematisches Schaubild, das ein Flussdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung einer Maske gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt.
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Ausführliche Beschreibung der Ausführungsformen
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Die vorliegende Offenbarung wird nachfolgend in Verbindung mit den nachfolgenden Zeichnungen und Ausführungsformen weiter ausführlich veranschaulicht. Es versteht sich, dass hier beschriebene besondere Ausführungsformen lediglich der Erläuterung der vorliegenden Offenbarung dienen und nicht die vorliegende Offenbarung einschränken sollen. Es sei zudem angemerkt, dass zur Vereinfachung der Beschreibung lediglich ein Teil des zu der vorliegenden Offenbarung zugehörigen Inhalts und nicht der gesamte Inhalt in den beigefügten Zeichnungen veranschaulicht ist.
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Vor der Beschreibung der technischen Lösungen der vorliegenden Offenbarung wird die für den Aufdampfprozess bei der Herstellung einer AMOLED-Anzeigetafel verwendete Maske kurz veranschaulicht. Bei der Herstellung der AMOLED-Anzeigetafel besteht ein wesentlicher Prozess darin, organische lichtemittierende Materialien durch Aufdampfen unter Vakuum an einem Substrat zu befestigen. Die im Aufdampfprozess verwendete Maske kann eine feine Metallmaske sein, bei der es sich um ein dünnes Blech handelt, deren Flachheit im unbenutzten Zustand schlecht ist. Somit wird vor der Durchführung des Aufdampfens durch die Maske mittels einer Streckvorrichtung eine bestimmte Spannkraft auf die Maske aufgebracht und dann die Maske auf einen Metallrahmen geschweißt, so dass die Maske zur Durchführung des Aufdampfens flach gehalten wird. Die Verteilung der Kräfte, die auf die Maske aufgebracht werden, die gestreckt wird, und somit die Flachheit der gestreckten Maske hängen jedoch von der Ausgestaltung der Struktur der Maske ab.
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Die Maske weist einen aktiven Bereich und einen Übergangsbereich auf, wobei der aktive Bereich einem Anzeigebereich der AMOLED-Anzeigetafel entspricht und als Aufdampfbereich dient. Der Übergangsbereich entspricht einem Übergangsbereich zwischen den AMOLED-Anzeigetafeln und dient als Nicht-Aufdampf-Bereich. Der aktive Bereich ist zudem mit Zwischenräumen versehen, deren Form, Größe, Anordnungsrichtung, Abstandsentfernung usw. von der Struktur der in der AMOLED-Anzeigetafel zu bildenden Pixel abhängig ist. Wenn der aktive Bereich die durch Ätzen gebildeten Zwischenräume aufweist, der Übergangsbereich jedoch nicht geätzt ist, werden in der Maske die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich aufgebrachten Kräfte beim Strecken der Maske jedoch ungleichmäßig verteilt, so dass sich die Flachheit der gestreckten Maske verschlechtert.
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2 ist ein schematisches Schaubild, das eine Auswirkung des Aufdampfens zeigt, das mit einer Maske mit verschlechterter Flachheit durchgeführt wird. Wie in 2 gezeigt, wird die gestreckte Maske mit dem Substrat 23 verklebt, um das Aufdampfen durchzuführen. Die Maske weist einen mit Zwischenräumen versehenen aktiven Bereich 21 und einen um den aktiven Bereich herum vorgesehenen Übergangsbereich 22 auf. Da die Flachheit der Maske aufgrund der beim Strecken der Maske ungleichmäßig verteilten Kräfte nicht gut ist, kann sich die Maske mit schlechter Flachheit während des Aufdampfprozesses leicht verformen, so dass die Wahrscheinlichkeit besteht, dass sich die Maske während des Aufdampfprozesses von dem Substrat 23 löst und somit die Position der gebildeten Pixel 24 verschoben wird. Wie gezeigt, ist das Pixel 24, das in 2 durch eine durchgezogene Linie angegeben ist, ein Pixel 24, das gebildet wird, wenn die Maske nicht von dem Substrat 23 getrennt ist, d. h. ein tatsächlich erwartetes Pixel, und ein in 2 mit einer gestrichelten Linie angegebenes Pixel ist ein Pixel, das nach dem Lösen der Maske von dem Substrat 23 gebildet wird, d. h. ein tatsächlich unerwünschtes Pixel. Außerdem gibt eine durchgezogene Linie mit einem einseitig gerichteten Pfeil eine tatsächliche Bewegungsrichtung des organischen lichtemittierenden Materials an, das beim Aufdampfen das Pixel bildet, wenn die Maske nicht von dem Substrat 23 getrennt ist, und eine gestrichelte Linie mit einem einseitig gerichteten Pfeil gibt eine tatsächliche Bewegungsrichtung des organischen lichtemittierenden Materials an, das beim Aufdampfen das Pixel bildet, nachdem sich die Maske von dem Substrat 23 gelöst hat. Das oben erwähnte Phänomen führt zu einer Farbvermischung in der AMOLED-Anzeigetafel, wodurch die Ausbeute der Anzeigetafel verringert wird. In Anbetracht dieser Tatsache stellt eine erste Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung eine unten angegebene technische Lösung zur Vermeidung eines solchen Phänomens bereit.
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Bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird eine Maske mit einem aktiven Bereich und einem Übergangsbereich bereitgestellt, wobei der Übergangsbereich zumindest einen ersten Bereich mit einer ersten Dicke umfasst, die geringer ist als eine Dicke des aktiven Bereichs.
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Es sei angemerkt, dass die oben genannte erste Dicke, die Dicke des aktiven Bereichs und die bei den verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung betreffenden Dicken jeweils einen Wert haben, der größer ist als Null. Da der Wert der Dicke des (durch Ätzen durch den aktiven Bereich der Maske gebildeten) Zwischenraums, der in dem aktiven Bereich enthalten ist, gleich Null ist, ist die Dicke des aktiven Bereichs eine Dicke des nicht geätzten Abschnitts in dem aktiven Bereich, d. h. eine Dicke eines Maskenkörpers, der zur Herstellung der Maske verwendet wird. Die erste Dicke entspricht der Dicke des aktiven Bereichs minus die Dicke eines aus dem Übergangsbereich geätzten Abschnitts.
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Wenn der Übergangsbereich der Maske mindestens einen ersten Bereich mit der ersten Dicke umfasst, die geringer ist als eine Dicke des aktiven Bereichs, können beim Aufbringen einer bestimmten Spannkraft auf die Maske durch eine Streckvorrichtung die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich der Maske aufgebrachten Kräfte aufgrund des Vorhandenseins von geätzten Mustern in dem aktiven Bereich und in dem Übergangsbereich gleichmäßig verteilt werden, so dass die Flachheit der gestreckten Maske verbessert werden kann. 3 ist ein schematisches Schaubild, das eine Auswirkung des Aufdampfens zeigt, das mit der Maske gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung durchgeführt wird. Wie in 3 gezeigt, wird die gestreckte Maske mit dem Substrat 23 verklebt, um das Aufdampfen durchzuführen. Die Maske weist einen aktiven Bereich 21 und einen Übergangsbereich 22 auf, wobei der Übergangsbereich 22 zumindest mindestens einen ersten Bereich 221 mit der ersten Dicke umfasst. Da die Flachheit der Maske aufgrund der beim Strecken der Maske gleichmäßig verteilten Kräfte gut ist, wird die Maske mit der guten Flachheit beim Aufdampfprozess fest an das Substrat 23 geklebt, so dass sich die Maske wahrscheinlich nicht verformt und sich nicht von dem Substrat 23 löst, so dass die Position des Pixels 24 sich nicht verschiebt und das Pixel 24 durch das Aufdampfen wie tatsächlich gewünscht erhalten wird, so dass die Farbvermischung in der AMOLED-Anzeigetafel verhindert werden kann, wodurch die Ausbeute der Anzeigetafel verbessert wird. Eine durchgezogene Linie mit einem einseitig gerichteten Pfeil in 3 zeigt eine tatsächliche Bewegungsrichtung des das Pixel 24 bildenden organischen lichtemittierenden Materials beim Aufdampfen.
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Mit der in der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellten Maske wird der mindestens eine erste Bereich mit der ersten Dicke innerhalb des Übergangsbereichs vorgesehen, wobei die erste Dicke des mindestens einen ersten Bereichs geringer ist als die Dicke des aktiven Bereichs, so dass die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich der Maske aufgebrachten Kräfte beim Strecken der Maske gleichmäßig verteilt werden können, was zu der guten Flachheit der gestreckten Maske führt. Als solches kann aufgrund der Durchführung des Aufdampfens mit einer derartigen Maske bei der Herstellung der AMOLED-Anzeigetafel die Farbvermischung in der hergestellten AMOLED-Anzeigetafel verhindert werden, wodurch die Ausbeute der Anzeigetafel verbessert wird.
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Bei der obigen ersten Ausführungsform beträgt die erste Dicke 20% bis 80% der Dicke des aktiven Bereichs. Bei der Gestaltung des ersten Bereichs in dem Übergangsbereich kann der Wert der ersten Dicke je nach Bedarf ausgewählt werden. Wenn der Übergangsbereich beispielsweise lediglich mit dem ersten Bereich vorgesehen ist, kann eine geeignete Dicke des ersten Bereichs aus der obigen Größenordnung für die erste Dicke ausgewählt werden, so dass die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich aufgebrachten Kräfte beim Strecken der Maske so gleichmäßig wie möglich verteilt werden können. Wenn der Übergangsbereich zusätzlich zu dem ersten Bereich ferner noch andere Bereiche umfasst, kann wiederum eine geeignete Dicke für den ersten Bereich aus der obigen Größenordnung für die erste Dicke ausgewählt werden, wobei zusätzlich die Dicke der anderen Bereiche berücksichtigt wird, so dass es möglich ist, die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich aufgebrachten Kräfte beim Strecken der Maske so gleichmäßig wie möglich zu verteilen.
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Auf der Basis der obigen technischen Prinzipien kann die Struktur der Maske ferner auf verschiedene besondere Arten und Weisen implementiert werden. Zusätzlich zu dem ersten Bereich mit der ersten Dicke kann der Übergangsbereich beispielsweise ferner andere Bereiche mit einer Dicke aufweisen, die sich von der Dicke des ersten Bereichs unterscheidet, solange die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich aufgebrachten Kräfte gleichmäßig verteilt werden können und die Flachheit der Maske verbessert werden kann. Einige bevorzugte Ausführungsformen werden nachfolgend ausführlich beschrieben.
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Die zweite Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt ferner eine Maske bereit. Auf der Basis der ersten Ausführungsform umfasst der Übergangsbereich der Maske gemäß der vorliegenden Ausführungsform zudem einen zweiten Bereich mit einer zweiten Dicke, die sich von der ersten Dicke unterscheidet.
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Der erste Bereich und der zweite Bereich können vorzugsweise eine Form haben, die aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus einer Stabform, einer quadratischen Form, einer Kreisform und aus einer Kombination aus mindestens zwei dieser Formen besteht.
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Die Form des ersten Bereichs kann sich ferner von derjenigen des zweiten Bereichs unterscheiden.
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Wenn die zweite Dicke sich von der ersten Dicke unterscheidet, entspricht die zweite Dicke vorzugsweise der Dicke des aktiven Bereichs. 4A ist ein schematisches Schaubild, das die Struktur der Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt, und 4B ist ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie A1-A2 aus 4A zeigt. Wie in den 4A und 4B gezeigt, ist die erste Dicke des ersten Bereichs 221 (die mit Schatten angegeben ist, was bedeutet, dass der erste Bereich eine bestimmte Dicke hat ohne durchgeätzt zu sein, wobei es nachfolgend der gleiche Fall ist) in dem Übergangsbereich 22 der Maske 20 geringer ist als die zweite Dicke des zweiten Bereichs 222, und die zweite Dicke entspricht einer Dicke des aktiven Bereichs 21. Es sei angemerkt, dass 4A lediglich ein besonderes Beispiel der Struktur der Maske zeigt, bei der die zweite Dicke der Dicke des aktiven Bereichs entspricht, es können jedoch andere Strukturen der Maske in Abhängigkeit von der Anzahl, der Größe, der Form, der Abstandsentfernung und der Anordnungsrichtung der ersten Bereiche 221 sowie von dem Wert der ersten Dicke, der Position des ersten Bereichs 221 in dem Übergangsbereich 22 usw. erhalten werden, was hier nicht beschränkt ist. Es sei ferner angemerkt, dass das in 4A gezeigte Muster in dem aktiven Bereich und die entsprechend dem Muster gebildete Struktur der Maske auch lediglich ein besonderes Beispiel der vorliegenden Offenbarung darstellen, was hier nicht beschränkt ist. In nachfolgenden verschiedenen Ausführungsformen wird das Muster in dem aktiven Bereich zum Beispiel auch mit Bezug auf das in 4A gezeigte Muster veranschaulicht.
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Wenn die zweite Dicke einer Dicke des aktiven Bereichs entspricht, stimmt das Muster in dem ersten Bereich vorzugsweise mit dem Muster in dem aktiven Bereich hinsichtlich der Anordnungsrichtung und/oder der Abstandsentfernung und/oder der Form und/oder der Größe überein. Wie oben erwähnt, hängen die Verteilung der auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich beim Dehnen ausgeübten Kräfte und somit die gute oder schlechte Flachheit der gesamten Maske von den Ausgestaltungen der Muster sowohl in dem aktiven Bereich als auch in dem Übergangsbereich der Maske ab. Darüber hinaus kann das Muster in dem aktiven Bereich vorab entsprechend der Struktur der Pixel in der AMOLED-Anzeigetafel gestaltet werden. Damit die auf den Übergangsbereich aufgebrachte Kraft der auf den aktiven Bereich aufgebrachten Kraft so ähnlich ist wie möglich, d. h. die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich aufgebrachten Kräfte so gleichmäßig verteilt werden wie möglich, wird somit das Muster in dem ersten Bereich so ausgestaltet, dass es mit dem Muster in dem aktiven Bereich hinsichtlich der Anordnungsrichtung und/oder der Abstandsentfernung und/oder der Form und/oder der Größe übereinstimmt. 5A ist ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer weiteren Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt. 5B ist ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie B1-B2 aus 5A zeigt. Wie in den 5A und 5B gezeigt, weist eine Maske 20 einen aktiven Bereich 21 und einen Übergangsbereich 22 auf, wobei der aktive Bereich 21 mit Zwischenräumen 211 versehen ist, der Übergangsbereich 22 mit ersten Bereichen 221 und einem zweiten Bereich 222 versehen ist und die Anordnungsrichtung, die Abstandsentfernung, die Form und die Größe der ersten Bereiche mit denen der Zwischenräume 211 in dem aktiven Bereich 21 übereinstimmen.
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Wenn sich die zweite Dicke von der ersten Dicke unterscheidet, ist die zweite Dicke vorzugsweise geringer als die erste Dicke, und das Muster in dem zweiten Bereich stimmt mit dem Muster in dem aktiven Bereich hinsichtlich der Anordnungsrichtung und/oder der Abstandsentfernung und/oder der Form und/oder der Größe überein. Da der zweite Bereich in dem Übergangsbereich auch geätzt ist, können die auf den Übergangsbereich und den aktiven Bereich aufgebrachten Kräfte gleichmäßiger verteilt werden, wenn die Maske gestreckt wird, so dass die Flachheit der gestreckten Maske weiter verbessert werden kann. 6A ist ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer weiteren Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt, und 6B ist ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie C1-C2 aus 6A zeigt. Wie in den 6A und 6B gezeigt, ist die zweite Dicke des zweiten Bereichs 222 geringer als die erste Dicke des ersten Bereichs 221, d. h. der Übergangsbereich ist im Vergleich zu dem Fall, bei dem die zweite Dicke des zweiten Bereichs 222 der Dicke des aktiven Bereichs 21 entspricht, wie in 4A oder 5A gezeigt, weiter geätzt, so dass die auf den Übergangsbereich und den aktiven Bereich aufgebrachten Kräfte gleichmäßiger verteilt werden können, wenn die Maske gestreckt wird, was die Flachheit der Maske weiter verbessert.
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Es gibt vorzugsweise mindestens zwei aktive Bereiche, die getrennt in dem Übergangsbereich eingeschoben sind, der erste Bereich ist in einem Umfangsbereich der Maske angeordnet, der zweite Bereich ist zwischen den aktiven Bereichen angeordnet, die aneinander angrenzen, die zweite Dicke ist größer als die erste Dicke, und die erste Dicke beträgt 90% der zweiten Dicke. Die zweite Dicke kann ferner in einer Größenordnung von 30% bis 85% der Dicke des aktiven Bereichs liegen. 7A ist ein schematisches Schaubild, das die Struktur einer weiteren Maske gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt, und 7B ist ein schematisches Schaubild im Schnitt, das einen Teil der Struktur entlang einer Linie D1-D2 aus 7A zeigt. Wie in den 7A und 7B gezeigt, ist die zweite Dicke des zweiten Bereichs 222 größer als die erste Dicke des ersten Bereichs 221, d. h. im Vergleich zu dem Fall, bei dem die zweite Dicke des zweiten Bereichs 222 der Dicke des in 4A oder 5A gezeigten aktiven Bereichs 21 entspricht, ist der Übergangsbereich weiter geätzt, so dass die auf den Übergangsbereich und den aktiven Bereich aufgebrachten Kräfte gleichmäßiger verteilt werden können, wenn die Maske gestreckt wird, wodurch die Flachheit der Maske weiter verbessert wird.
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Bei der dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird eine Prozessvorrichtung bereitgestellt. 8 ist ein schematisches Schaubild, das die Struktur der Prozessvorrichtung gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt. Wie in 8 gezeigt, weist eine Prozessvorrichtung 32 eine Heizvorrichtung 321, eine Verdampfungsquelle 322 und eine Maske 323 auf. Die Prozessvorrichtung 32 ist zum Ausführen des Aufdampfens auf einem auf der Maske 323 angeordneten Substrats 31 ausgebildet, wobei die Heizvorrichtung 321 zum Heizen der Verdampfungsquelle 322 ausgebildet ist. Die Verdampfungsquelle 322 ist getrennt von und parallel zur Maske 323 vorgesehen und dazu ausgebildet, wenn sie auf eine bestimmte Temperatur erwärmt ist, das Substrat 31 mit einem organischen lichtemittierenden Material zu versehen, um rote Pixel, grüne Pixel und blaue Pixel auf dem Substrat 31 zu bilden. Der Bereich ohne Zwischenraum in der Maske 323 ist dazu ausgebildet, einen Nicht-Aufdampf-Bereich auf dem Substrat 31 abzuschirmen, und die Maske 323 kann eine der Masken sein, die in den obigen verschiedenen Ausführungsformen vorgesehen sind. Es sei angemerkt, dass die Prozessvorrichtung 32 zum Zweck des Aufdampfens in einem abgedichteten Raum mit Vakuum angeordnet werden muss.
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Mit der Prozessvorrichtung gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann aufgrund der Durchführung des Aufdampfens mit der Maske gemäß den obigen verschiedenen Ausführungsformen die Farbvermischung in der nach dem Aufdampfen erhaltenen AMOLED-Anzeigetafel verhindert werden, wodurch die Ausbeute der Anzeigetafel verbessert wird.
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Die vierte Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt ein Verfahren zur Herstellung einer Maske bereit, das zur Herstellung der Maske gemäß der obigen ersten Ausführungsform oder zweiten Ausführungsform ausgelegt ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform kann Bezug auf die erste Ausführungsform und die zweite Ausführungsform hinsichtlich der Erläuterung und Veranschaulichung des aktiven Bereichs und des Übergangsbereichs usw. und der Beschreibung des damit verbundenen Prinzips genommen werden, was hier nicht erneut erläutert wird.
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9 ist ein schematisches Schaubild, das ein Flussdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung einer Maske gemäß der vierten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt. Das Verfahren zur Herstellung einer Maske umfasst die nachfolgenden Schritte S41 und S42.
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Schritt S41: Bereitstellen eines Maskenkörpers.
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Es sei angemerkt, dass der Maskenkörper eine Grundplatte zur Herstellung der Maske sein kann, wobei kein Muster auf der Grundplatte gebildet ist.
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Schritt S42: Bilden von Mustern in dem aktiven Bereich und in dem Übergangsbereich des Maskenkörpers, wobei der Übergangsbereich zumindest mindestens einen ersten Bereich mit einer ersten Dicke umfasst, die geringer ist als eine Dicke des aktiven Bereichs.
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Es sei angemerkt, dass das Muster in dem Übergangsbereich den ersten Bereich mit einer ersten Dicke umfasst, wobei es auch weitere Bereiche umfassen kann, die in dem Übergangsbereich gebildet sind und eine Dicke haben, die sich von der ersten Dicke unterscheidet.
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Um mehr Muster in dem Übergangsbereich der Maske zu bilden, umfasst das Verfahren zur Herstellung der Maske vorzugsweise ferner das Bilden mindestens eines zweiten Bereichs mit einer zweiten Dicke in dem Übergangsbereich, wobei sich die zweite Dicke von der ersten Dicke unterscheidet.
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Das Ausbilden von Mustern in dem aktiven Bereich und in dem Übergangsbereich des Maskenkörpers umfasst vorzugsweise das Ausbilden von Mustern in dem aktiven Bereich und in dem Übergangsbereich des Maskenkörpers durch synchrones Ätzen.
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Das synchrone Ätzen kann darüber hinaus durch Anwendung eines partiellen Maskenätzverfahrens erreicht werden. Das Muster in dem Übergangsbereich umfasst beispielsweise den ersten Bereich mit der ersten Dicke und den zweiten Bereich mit der zweiten Dicke, wobei die erste Dicke geringer ist als die zweite Dicke, die erste Dicke 30% der Dicke des aktiven Bereichs beträgt und die zweite Dicke 60% der Dicke des aktiven Bereichs beträgt. Um dies zu erhalten kann das Ausbilden des ersten Bereichs, des zweiten Bereichs und des Musters in dem aktiven Bereich durch synchrones Ätzen unter Anwendung des partiellen Maskenätzverfahrens Folgendes umfassen: Auftragen eines Photoresists auf den Maskenkörper; Bereitstellen einer Photoätzmaske, wobei Teile der Photoätzmaske, die jeweils dem Muster in dem aktiven Bereich, dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich entsprechen, eine Lichtdurchlässigkeit von 100%, 60% bzw. 30% haben; Belichten des Photoresists zum ersten Mal, um den Maskenkörper an der Position des Musters in dem aktiven Bereich zu belichten, und Wegätzen des Maskenkörpers an der Position des Musters in dem aktiven Bereich um 30% der Dicke des aktiven Bereichs; Belichten des Photosresists zum zweiten Mal, um den Maskenkörper an der Position des ersten Bereichs weiter zu belichten, und synchrones Wegätzen des Maskenkörpers an der Position des ersten Bereichs und an den Positionen des Musters in dem aktiven Bereich um 30% der Dicke des aktiven Bereichs; und Belichten des Photoresists zum dritten Mal, um den Maskenkörper an der Position des zweiten Bereichs weiter zu belichten, und synchrones Wegätzen des Maskenkörpers an der Position des ersten Bereichs, an der Position des zweiten Bereichs und an der Position des Musters in dem aktiven Bereich um 40% der Dicke des aktiven Bereichs, so dass der erste Bereich, der zweite Bereich und das Muster in dem aktiven Bereich gebildet werden. Die obige Darstellung ist lediglich ein Beispiel, die jeweiligen Teile der spezifischen Photoätzmaske, die den Mustern in der Maske gemäß der vorliegenden Offenbarung entsprechen, und die Lichtdurchlässigkeit dieser Teile hängen von den speziellen tatsächlichen Bedingungen ab, was hierin nicht beschränkt ist.
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Zusätzlich zu dem partiellen Maskenätzprozess kann das synchrone Ätzen ferner mit der Steuerung der Ätzdauer erreicht werden. Die Struktur der obigen Maske wird wiederum als Beispiel veranschaulicht. Unter der Voraussetzung, dass die Ätzdauer zur Bildung des Musters in dem aktiven Bereich 100 Minuten beträgt, kann die Bildung des ersten Bereichs, des zweiten Bereichs und des Musters in dem aktiven Bereich durch synchrones Ätzen mittels der Steuerung der Ätzdauer dann Folgendes umfassen: zunächst 30 Minuten langes Ätzen des Maskenkörpers an der Position des Musters in dem aktiven Bereich; dann 30 Minuten langes synchrones Ätzen des Maskenkörpers an der Position des ersten Bereichs und an der Position des Musters in dem aktiven Bereich; und anschließend 40 Minuten langes synchrones Ätzen des Maskenkörpers an der Position des Musters in dem aktiven Bereich, an der Position des ersten Bereichs und an der Position des zweiten Bereichs, so dass der erste Bereich, der zweite Bereich und das Muster in dem aktiven Bereich gebildet werden.
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Mit dem Verfahren zur Herstellung der Maske gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Offenbarung wird zumindest ein erster Bereich mit der ersten Dicke in dem Übergangsbereich gebildet, wobei die erste Dicke geringer ist als die Dicke des aktiven Bereichs, so dass die auf den aktiven Bereich und den Übergangsbereich der Maske aufgebrachten Kräfte beim Strecken der Maske gleichmäßiger verteilt werden können, was zu der guten Flachheit der gestreckten Maske führt. Darüber hinaus kann durch die Durchführung des Aufdampfens mit einer derartigen Maske bei der Herstellung der AMOLED-Anzeigetafel die Farbvermischung in der hergestellten AMOLED-Anzeigetafel verhindert werden, was die Ausbeute der Anzeigetafel verbessert.
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Es sei angemerkt, dass lediglich die bevorzugten Ausführungsformen und die angewandten technischen Prinzipien der vorliegenden Offenbarung oben beschrieben sind. Der Fachmann sollte verstehen, dass die vorliegende Offenbarung nicht auf hier beschriebene besondere Ausführungsformen beschränkt ist. Der Fachmann kann zahlreiche offensichtliche Änderungen, Anpassungen und Auswechslungen vornehmen, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen. Die vorliegende Offenbarung ist zwar durch die obigen Ausführungsformen ausführlich veranschaulicht, die vorliegende Offenbarung ist somit jedoch nicht nur auf die obigen Ausführungsformen beschränkt und kann noch weitere zusätzliche gleichwertige Ausführungsformen umfassen, ohne von dem Konzept der vorliegenden Offenbarung abzuweichen. Der Umfang der vorliegenden Offenbarung ist von den beigefügten Ansprüchen abhängig.
