DE102014104647A1 - Flüssigkristallanzeige, Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus und Herstellverfahren dafür - Google Patents

Flüssigkristallanzeige, Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus und Herstellverfahren dafür Download PDF

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Abstract

Die vorliegende Erfindung offenbart eine Flüssigkristallanzeige, ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus und ein Herstellverfahren dafür, um das Problem des Standes der Technik zu lösen, dass das Array-Substrat im IPS-Modus nicht in der Lage ist, gleichzeitig eine hohe Transmission zu erreichen und die Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden vorgegebenen Positionen zu erhöhen. Das Array-Substrat umfasst ein Substrat und eine Passivierungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrats angeordnet ist, ferner einen ersten organischen Film, der auf einer Oberfläche der Passivierungsschicht angeordnet und mit einer Nut versehen ist, eine gemeinsame Elektrode, die auf einer Oberfläche des ersten organischen Films außerhalb der Nut angeordnet ist, und eine Pixelelektrode, die in der Nut angeordnet ist, wobei ein vertikal abstehender Bereich der gemeinsamen Elektrode auf der Oberfläche der Passivierungsschicht einen vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode auf der Oberfläche der Passivierungsschicht nicht überlappt.

Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Displaytechnologien und insbesondere auf eine Flüssigkristallanzeige, ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus und ein Herstellverfahren dafür.
  • Hintergrund der Erfindung
  • Dünnfilmtransistor-Flüssigkristallanzeigen entwickeln sich immer schneller und sind zu gängigen Flachbildschirmen geworden. Seit ihrem Aufkommen wurden bis heute mehrere Kategorien von Dünnfilmtransistor-Flüssigkristallanzeigen mit unterschiedlichen Betriebsweisen und Displayeffekten entwickelt, wobei jede Kategorie ihre eigenen Vorteile hat. So verfügt eine Dünnfilmtransistor-Flüssigkristallanzeige in einem In-Plane-Switching(IPS)-Modus (umfassend ein Array-Substrat im IPS-Modus) mit ihren besonderen Baumerkmalen und ihrem besonderen Betriebsprinzip über ein hervorragendes Darstellungsvermögen und einen hervorragenden Displayeffekt.
  • Wie in 1 gezeigt, bei der es sich um eine Draufsicht auf ein Array-Substrat im IPS-Modus handelt, sind zwischen einer Pixelelektrode 1 und einer gemeinsamen Elektrode 2, in Normalrichtung der Oberfläche des Array-Substrates gesehen, spezielle Spalte 7 zur Vermeidung von Kurzschlüssen vorgesehen.
  • Die 2a2c zeigen Schnittdarstellungen eines Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 in dessen kontinuierlichen Herstellungsschritten nach dem Stand der Technik. Wie in den 2a2c gezeigt, wird zunächst ein erster organischer Film 4, wie in 2b gezeigt, auf der Oberfläche einer Passivierungsschicht 3, wie in 2a gezeigt, gebildet, und dann werden eine streifenförmige Pixelelektrode 1 und eine streifenförmige gemeinsame Elektrode 2, die abwechselnd angeordnet sind, wie dies 2c zeigt, auf der Oberfläche des ersten organischen Films 4 gebildet. Da die Pixelelektrode 1 und die gemeinsame Elektrode 2 in derselben Ebene des Array-Substrates angeordnet sind, ist das Öffnungsverhältnis des Array-Substrates klein und die Lichttransmission im Anzeigeverfahren daher niedrig.
  • Die 3a3d zeigen Schnittdarstellungen eines Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 in einer weiteren Reihe kontinuierlicher Herstellungsschritte nach dem Stand der Technik. Wie in den 3a3d gezeigt, wird zunächst eine streifenförmige Pixelelektrode 1, wie in 3b gezeigt, auf der Oberfläche einer Passivierungsschicht 3, wie in 3a gezeigt, und dann ein erster organischer Film 4, wie in 3c gezeigt, der die Pixelelektrode 1 bedeckt, gebildet und eine streifenförmige gemeinsame Elektrode 2, wie in 3d gezeigt, wird auf der Oberfläche des ersten organischen Films 4 gebildet. Bei diesem Herstellverfahren sind die Pixelelektrode 1 und die gemeinsame Elektrode 2 in unterschiedlichen Ebenen desselben Array-Substrates angeordnet, so dass die Transmission erhöht werden kann, wobei die Pixelelektrode 1 und die gemeinsame Elektrode 2 jedoch in zwei Schritten gebildet werden. Gemäß den obigen Herstellschritten ist die Pixelelektrode 1, wenn die gemeinsame Elektrode 2 gebildet wird, bereits mit dem ersten organischen Film 4 bedeckt, und die gemeinsame Elektrode 2 kann nicht unter Einbeziehung der Position der Pixelelektrode 1 gebildet werden, so dass das Auftreten eines Fehlers an den speziellen Spalten zwischen der Pixelelektrode 1 und der gemeinsamen Elektrode 2 wahrscheinlich ist, was zu einer geringen Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode 1 und der gemeinsamen Elektrode 2 mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen führt.
  • Zusammenfassend ist festzustellen, dass es derzeit kein Array-Substrat gibt, mit dem gleichzeitig eine hohe Transmission erreicht und der Mangel der geringen Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen beseitigt werden kann.
  • Kurzfassung der Erfindung
  • Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sehen eine Flüssigkristallanzeige, ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus und ein Herstellverfahren dafür vor, um das Problem aus dem Stand der Technik zu lösen, dass das Array-Substrat im IPS-Modus nicht in der Lage ist, gleichzeitig die hohe Transmission zu erreichen und die Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen zu erhöhen.
  • Die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beruhen auf der folgenden technischen Lösung:
    Ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus umfasst ein Substrat und eine Passivierungsschicht, die auf einer Oberfläche des Substrates angeordnet ist, wobei das Array-Substrat ferner umfasst: einen ersten organischen Film, der auf einer Oberfläche der Passivierungsschicht angeordnet und mit einer Nut versehen ist, eine gemeinsame Elektrode, die auf einer Oberfläche des ersten organischen Films außerhalb der Nut angeordnet ist, und eine Pixelelektrode, die in der Nut angeordnet ist, wobei ein vertikal abstehender Bereich der gemeinsamen Elektrode auf der Oberfläche der Passivierungsschicht einen vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode auf der Oberfläche der Passivierungsschicht nicht überlappt.
  • Eine Flüssigkristallanzeige umfasst das oben beschriebene Array-Substrat und ein Farbfilmsubstrat, das gegenüber dem Array-Substrat angeordnet ist, wobei eine Flüssigkristallschicht zwischen dem Array-Substrat und dem Farbfilmsubstrat gebildet ist.
  • Ein Herstellverfahren für ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus umfasst die Schritte: Bilden eines ersten organischen Films auf einer Oberfläche einer Passivierungsschicht des Array-Substrates, Entfernen eines Teils des ersten organischen Films durch Ätzen eines Bereichs, in dem eine vorgegebene Position vertikal von dem ersten organischen Film absteht, wobei die vorgegebene Position die Bedingung erfüllt, dass sie eine Pixelelektrodenposition umfasst und zumindest keinen Bereich umfasst, in dem eine Position für die gemeinsame Elektrode auf einer Oberfläche des ersten organischen Films vertikal von einer Oberfläche absteht, auf der sich die Pixelelektrodenposition befindet, und Bilden einer Pixelelektrode an der Pixelelektrodenposition bei gleichzeitigem Bilden einer gemeinsamen Elektrode an der Position für die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films.
  • Gegenüber dem Stand der Technik weist die technische Lösung der vorliegenden Erfindung folgende vorteilhafte Effekte auf:
    Da die Pixelelektrode in der Nut des ersten organischen Films und die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films außerhalb der Nut angeordnet ist, können die Pixelelektrode und die gemeinsame Elektrode in unterschiedlichen Ebenen desselben Array-Substrates angeordnet sein und zudem in einem einzigen Schritt gebildet werden, um dadurch sowohl die Lichttransmission des Array-Substrates sicherzustellen als auch die speziellen Spalte zwischen der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode genau zu steuern und somit die Präzision der Überlappung der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen zu erhöhen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 zeigt eine Draufsicht auf ein Array-Substrat im IPS-Modus;
  • Die 2a2c zeigen Schnittdarstellungen eines Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 in kontinuierlichen Herstellschritten nach dem Stand der Technik;
  • Die 3a3d zeigen Schnittdarstellungen eines Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 in einer weiteren Reihe kontinuierlicher Herstellschritte nach dem Stand der Technik;
  • 4 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 5 ist ein Ablaufschema eines Herstellverfahrens für ein Array-Substrat gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • Die 6a6e zeigen Schnittdarstellungen eines Array-Substrates in kontinuierlichen Herstellschritten gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 7 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines anderen Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
  • 8a zeigt ein Aufbauschema einer Flüssigkristallanzeige gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und
  • 8b zeigt ein Aufbauschema einer anderen Flüssigkristallanzeige gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • Detaillierte Beschreibung der Ausführungsformen
  • Zur Lösung des Problems nach dem Stand der Technik, dass das Array-Substrat im IPS-Modus nicht gleichzeitig eine hohe Transmission erreichen und die Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen erhöhen kann, stellen die Erfinder aufgrund ihrer Forschung eine Flüssigkristallanzeige, ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus und ein Herstellverfahren dafür bereit. Bei dieser technischen Lösung können die Pixelelektrode und die gemeinsame Elektrode, da die Pixelelektrode in der Nut des ersten organischen Films und die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films außerhalb der Nut angeordnet ist, in unterschiedlichen Ebenen desselben Array-Substrates angeordnet sein und zudem in einem einzigen Schritt gebildet werden, um dadurch sowohl die Lichttransmission des Array-Substrates sicherzustellen als auch die speziellen Spalte zwischen der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode genau zu steuern, um dadurch die Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen zu erhöhen.
  • Um die obigen Ziele, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung noch anschaulicher und verständlicher darzulegen, werden nachfolgend besondere Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung in Verbindung mit den Zeichnungen noch näher beschrieben.
  • Für das volle Verständnis der vorliegenden Erfindung werden in der nachfolgenden Beschreibung spezifische Einzelheiten erläutert. Die vorliegende Erfindung kann jedoch auch auf andere Weisen als die hier beschriebenen ausgeführt werden, und entsprechende Erweiterungen können durch den Fachmann vorgenommen werden, ohne vom Gedanken der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Daher ist die vorliegende Erfindung nicht auf die nachfolgend beschriebenen, besonderen Ausführungsformen beschränkt.
  • 4 ist ein schematisches Diagramm eines Schnittaufbaus eines Array-Substrates entlang der Linie I-I' in 1 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Bezugnehmend auf 4, umfasst das Array-Substrat ein Substrat 5, eine Passivierungsschicht 3, die auf der Oberfläche des Substrates 5 angeordnet ist, einen ersten organischen Film 4, der auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 angeordnet und mit einer Nut versehen ist, wobei die Passivierungsschicht 3 am Boden der Nut freigelegt ist, eine Pixelelektrode 1, die auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 in der Nut angeordnet ist, eine gemeinsame Elektrode 2, die auf der Oberfläche des ersten organischen Films 4 außerhalb der Nut angeordnet ist, und einen zweiten organischen Film 6, der die Pixelelektrode 1 bedeckt.
  • Hier liegt keine Überlappung eines vertikal abstehenden Bereichs der gemeinsamen Elektrode 2 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 mit einem vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode 1 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 vor. Generell sollte der vertikal abstehende Bereich einer beliebigen gemeinsamen Elektrode 2 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 die Bedingung erfüllen: der Abstand vom vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode 1 benachbart der gemeinsamen Elektrode 2 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 sollte nicht weniger als 2 µm betragen.
  • Es ist zu beachten, dass sowohl die Dicke des ersten organischen Films 4 als auch die Dicke des zweiten organischen Films 6 allgemein größer oder gleich 1 µm sind, wobei gleichzeitig auch die Bedingung erfüllt sein sollte, dass die Summe der Dicke des zweiten organischen Films 6 über der Pixelelektrode 1 und der Dicke der Pixelelektrode 1 nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films 4 unter der gemeinsamen Elektrode 2 ist.
  • Ein Herstellverfahren für das in 4 gezeigte Array-Substrat wird nachfolgend näher beschrieben:
    5 zeigt ein Ablaufschema eines Herstellverfahrens für ein Array-Substrat gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und die 6a6e zeigen Schnittdarstellungen des Array-Substrates in kontinuierlichen Herstellschritten.
  • In Schritt 501 werden nacheinander eine Gatterelektrode, eine Gatterelektroden-Isolierschicht, eine Halbleiterschicht, Drain- und Source-Elektroden (in 6a nicht gezeigt) und eine Passivierungsschicht 3 auf einem Substrat 5, wie in 6a gezeigt, gebildet.
  • Da dieser Schritt hier dem Implementierungsverfahren gemäß dem Stand der Technik entspricht, wird er hier nicht näher beschrieben.
  • In Schritt 502 wird ein erster organischer Film 4 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 gebildet, wie dies in 6b gezeigt ist.
  • In Schritt 503 wird ein Teil des ersten organischen Films 4 durch Ätzen eines Bereichs entfernt, in dem eine vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film 4 absteht.
  • Die vorgegebene Position sollte hier die Bedingung erfüllen, dass sie eine Pixelelektrodenposition 9 umfasst und zumindest keinen Bereich umfasst, in dem eine Position für die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films 4 vertikal von der Oberfläche absteht, auf der sich die Pixelelektrodenposition 9 befindet.
  • Wenn sich die Pixelelektrodenposition 9 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht befindet, kann dieser Schritt insbesondere folgendermaßen ablaufen: Ätzen des Bereichs, in dem die vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film 4 absteht, bis die Passivierungsschicht 3 in dem Bereich freigelegt ist, in dem die vorgegebene Position liegt, wie dies in 6c gezeigt ist.
  • In Schritt 504 wird eine Pixelelektrode 1 an der Pixelelektrodenposition 9 gebildet, während gleichzeitig eine gemeinsame Elektrode 2 an der Position für die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films 4 gebildet wird.
  • Bei dieser Ausführungsform kann das Material der Pixelelektrode 1 und der gemeinsamen Elektrode 2 Indiumzinnoxid oder Indiumzinkoxid sein, ohne in praktischen Anwendungen jedoch darauf beschränkt zu sein, wie dies in 6d gezeigt ist.
  • In Schritt 505 werden die Pixelelektrode 1 und die gemeinsame Elektrode 2 mit einem zweiten organischen Film 6 bedeckt und ein Teil des zweiten organischen Films 6 geätzt, um den zweiten organischen Film 6 beizubehalten, der die vorgegebene Position bedeckt, und die gemeinsame Elektrode 2 freizulegen, wie dies in 6e gezeigt ist.
  • Insbesondere sollte beim Ätzen des zweiten organischen Films 6 ferner sichergestellt werden, dass die Summe der Dicke der Pixelelektrode 1 und der Dicke des zweiten organischen Films 6 über der Pixelelektrode 1 nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films 4 unter der gemeinsamen Elektrode 2 ist.
  • Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird der erste organische Film 4 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 des Array-Substrates gebildet, ein Teil des ersten organischen Films 4 durch Ätzen des Bereichs, in dem die vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film 4 absteht, entfernt und schließlich die Pixelelektrode 1 an der Pixelelektrodenposition 9 sowie die gemeinsame Elektrode 2 an der Position für die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films gebildet, so dass die Pixelelektrode 1 und die gemeinsame Elektrode 2 nicht nur in unterschiedlichen Ebenen desselben Array-Substrates angeordnet werden können, sondern auch gleichzeitig gebildet werden, um dadurch sowohl die Lichttransmission des Array-Substrates sicherzustellen als auch die speziellen Spalte zwischen der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode genau zu steuern, um dadurch die Überlappungsgenauigkeit der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit entsprechenden, vorgegebenen Positionen zu erhöhen.
  • In einer Variante der obigen Ausführungsform stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ferner ein Array-Substrat bereit, wie es in 7 gezeigt ist, bei der es sich um ein schematisches Diagramm eines Schnittaufbaus des Array-Substrates gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung handelt.
  • Nun sei auf 7 Bezug genommen, in der das Array-Substrat umfasst: ein Substrat 5, eine auf der Oberfläche des Substrates 5 angeordnete Passivierungsschicht 3, einen ersten organischen Film 4, der auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 angeordnet und mit einer Nut versehen ist, wobei der erste organische Film 4 am Boden der Nut freigelegt ist, eine Pixelelektrode 1, die auf der Oberfläche des ersten organischen Films 4 in der Nut angeordnet ist, eine gemeinsame Elektrode 2, die auf der Oberfläche des ersten organischen Films außerhalb der Nut angeordnet ist, und einen zweiten organischen Film 6, der die Pixelelektrode 1 bedeckt.
  • Hier liegt keine Überlappung eines vertikal abstehenden Bereichs der gemeinsamen Elektrode 2 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 mit einem vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode 1 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 vor. Allgemein sollte der vertikal abstehende Bereich einer beliebigen gemeinsamen Elektrode 2 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 die Bedingung erfüllen: der Abstand vom vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode 1 benachbart der gemeinsamen Elektrode 2 auf der Oberfläche der Passivierungsschicht 3 sollte nicht weniger als 2 µm betragen.
  • Es ist zu beachten, dass sowohl die Dicke des ersten organischen Films 4 als auch die Dicke des zweiten organischen Film 6 allgemein größer oder gleich 1 µm sind, und gleichzeitig sollte auch die Bedingung erfüllt sein, dass die Summe der Dicke des zweiten organischen Films 6 über der Pixelelektrode 1, der Dicke der Pixelelektrode 1 und der Dicke des ersten organischen Films 4 unter der Pixelelektrode 1 nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films 4 unter der gemeinsamen Elektrode 2 ist. Das oben beschriebene Herstellverfahren für das Array-Substrat entspricht im wesentlichen den oben beschriebenen Schritten 501 bis 505, mit dem Unterschied, dass bei der Herstellung des Array-Substrates gemäß der Ausführungsform in Schritt 503, bei dem ein Teil des ersten organischen Films 4 durch Ätzen des Bereichs, in dem die vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film 4 absteht, entfernt wird, die Passivierungsschicht 3 in dem Bereich, in dem die vorgegebene Position liegt, nicht freigelegt werden muss.
  • Ferner sollte im Schritt 505, bei dem der zweite organische Film 6 geätzt wird, zusätzlich zum Prinzip des Freilegens der gemeinsamen Elektrode 2 unter Beibehalten des zweiten organischen Films 6, der die vorgegebene Position bedeckt, auch das Prinzip eingehalten werden, dass die Summe der Dicke der Pixelelektrode 1, der Dicke des ersten organischen Films 4 unter der Pixelelektrode 1 und der Dicke des zweiten organischen Films 6 über der Pixelelektrode 1 nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films 4 unter der gemeinsamen Elektrode 2 ist.
  • Gemäß der Ausführungsform kann das Material der Pixelelektrode 1 und der gemeinsamen Elektrode 2 Indiumzinnoxid oder Indiumzinkoxid sein, ohne jedoch bei praktischen Anwendungen darauf beschränkt zu sein.
  • Ferner stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Flüssigkristallanzeige bereit, wie sie in 8a gezeigt ist, bei der es sich um ein Aufbauschema der Flüssigkristallanzeige gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung handelt. Die Flüssigkristallanzeige umfasst ein Array-Substrat 81 und ein Farbfilmsubstrat 82, das gegenüber dem Array-Substrat 81 angeordnet ist, wobei eine Flüssigkristallschicht 83 zwischen dem Array-Substrat 81 und dem Farbfilmsubstrat 82 gebildet ist. Da die spezifische Struktur des Array-Substrates 81 dabei dem Aufbau des Array-Substrates aus 4 entspricht, wird diese hier nicht wiederholt.
  • Es ist zu beachten, dass das Array-Substrat in der Flüssigkristallanzeige bei praktischen Anwendungen auch so gebildet sein kann, wie dies in 8b gezeigt ist, wobei die Flüssigkristallanzeige ein Array-Substrat 81’ und ein Farbfilmsubstrat 82 umfasst, das gegenüber dem Array-Substrat 81’ angeordnet ist, wobei eine Flüssigkristallschicht 83 zwischen dem Array-Substrat 81’ und dem Farbfilmsubstrat 82 gebildet ist. Da die spezifische Struktur des Array-Substrates 81’ dabei dem Aufbau des Array-Substrates aus 7 entspricht, wird diese hier nicht wiederholt.
  • Somit ist das Array-Substrat in der Flüssigkristallanzeige gemäß der vorliegenden Erfindung zulässig, sofern es dem Aufbau des Array-Substrates entspricht, wie er in einer beliebigen Ausführungsform gemäß der vorliegenden Erfindung beschrieben ist.
  • Zwar wurden hier die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung beschrieben, aber der Fachmann, der sich den zugrundeliegenden Erfindungsgedanken zunutze macht, kann zusätzliche Modifikationen und Variationen dieser Ausführungsformen vornehmen. Daher sollen die beigefügten Ansprüche so ausgelegt werden, dass sie die bevorzugten Ausführungsformen und alle Modifikationen und Variationen, die unter den Umfang der Erfindung fallen, umfassen.
  • Es versteht sich, dass der Fachmann verschiedene Modifikationen und Variationen der Erfindung vornehmen kann, ohne vom Wesen und Umfang der Erfindung abzuweichen. Die Erfindung soll daher auch diese Modifikationen und Variationen umfassen, sofern sie unter den Umfang der dieser Erfindung beigefügten Ansprüche und ihrer Entsprechungen fallen.

Claims (13)

  1. Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus, umfassend ein Substrat (5) und eine Passivierungsschicht (3), die auf einer Oberfläche des Substrates (5) angeordnet ist, wobei das Array-Substrat ferner umfasst: einen ersten organischen Film (4), der auf einer Oberfläche der Passivierungsschicht (3) angeordnet und mit einer Nut versehen ist, eine gemeinsame Elektrode (2), die auf einer Oberfläche des ersten organischen Films (4), außerhalb der Nut, angeordnet ist, und eine Pixelelektrode (1), die in der Nut angeordnet ist, wobei ein vertikal abstehender Bereich der gemeinsamen Elektrode (2) auf der Oberfläche der Passivierungsschicht (3) einen vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode (1) auf der Oberfläche der Passivierungsschicht (3) nicht überlappt.
  2. Array-Substrat nach Anspruch 1, wobei das Array-Substrat ferner umfasst: einen zweiten organischen Film (6), der die Pixelelektrode (1) bedeckt.
  3. Array-Substrat nach Anspruch 2, wobei die Passivierungsschicht (3) an einem Boden der Nut freigelegt ist und dabei eine Summe der Dicke des zweiten organischen Films (6) über der Pixelelektrode (1) und der Dicke der Pixelelektrode (1) nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films (4) unter der gemeinsamen Elektrode (2) ist.
  4. Array-Substrat nach Anspruch 2, wobei der erste organische Film (4) am Boden der Nut freigelegt ist und dabei eine Summe der Dicke des zweiten organischen Films (6) über der Pixelelektrode (1), der Dicke der Pixelelektrode (1) und der Dicke des ersten organischen Films (4) unter der Pixelelektrode (1) nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films (4) unter der gemeinsamen Elektrode (2) ist.
  5. Array-Substrat nach Anspruch 1, wobei der vertikal abstehende Bereich der gemeinsamen Elektrode (2) auf der Oberfläche der Passivierungsschicht (3) die Bedingung erfüllt: ein Abstand vom vertikal abstehenden Bereich der Pixelelektrode (1) benachbart der gemeinsamen Elektrode (2) auf der Oberfläche der Passivierungsschicht (3) beträgt nicht weniger als 2 µm.
  6. Flüssigkristallanzeige, umfassend ein Array-Substrat (81, 81’) nach einem der Ansprüche 1 bis 5 und ein Farbfilmsubstrat (82), das gegenüber dem Array-Substrat (81, 81’) angeordnet ist, wobei eine Flüssigkristallschicht (83) zwischen dem Array-Substrat (81, 81’) und dem Farbfilmsubstrat (82) gebildet ist.
  7. Herstellverfahren für ein Array-Substrat in einem In-Plane-Switching-Modus, das die Schritte umfasst: Bilden eines ersten organischen Films auf einer Oberfläche einer Passivierungsschicht des Array-Substrats (502); Entfernen eines Teils des ersten organischen Films durch Ätzen eines Bereichs, in dem eine vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film absteht (503), wobei die vorgegebene Position die Bedingung erfüllt, dass sie eine Pixelelektrodenposition umfasst und zumindest keinen Bereich umfasst, in dem eine Position für die gemeinsame Elektrode auf einer Oberfläche des ersten organischen Films vertikal von einer Oberfläche absteht, auf der sich die Pixelelektrodenposition befindet, und Bilden einer Pixelelektrode an der Pixelelektrodenposition bei gleichzeitiger Bildung einer gemeinsamen Elektrode an der Position für die gemeinsame Elektrode auf der Oberfläche des ersten organischen Films (504).
  8. Herstellverfahren nach Anspruch 7, wobei die Pixelelektrodenposition auf der Oberfläche der Passivierungsschicht angeordnet wird, und dann das Entfernen des Teils des ersten organischen Films durch Ätzen des Bereichs, in dem die vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film absteht (503), insbesondere umfasst: Ätzen des Bereichs, in dem die vorgegebene Position vertikal vom ersten organischen Film absteht, bis die Passivierungsschicht in einem Bereich freigelegt ist, in dem sich die vorgegebene Position befindet.
  9. Herstellverfahren nach Anspruch 8, wobei das Verfahren nach der Bildung der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode ferner die Schritte umfasst: Bedecken der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit einem zweiten organischen Film und Ätzen des zweiten organischen Films mit der Maßgabe, dass die gemeinsame Elektrode freigelegt und gleichzeitig der zweite organische Film, der die vorgegebene Position bedeckt, erhalten bleibt (505).
  10. Herstellverfahren nach Anspruch 9, wobei das Ätzen des zweiten organischen Films nach dem Prinzip, bei dem die gemeinsame Elektrode freigelegt und gleichzeitig der zweite organische Film, der die vorgegebene Position bedeckt, erhalten bleibt, insbesondere umfasst: Ätzen des zweiten organischen Film nach dem Prinzip, bei dem die gemeinsame Elektrode freigelegt und gleichzeitig der zweite organische Film, der die vorgegebene Position bedeckt, erhalten bleibt, und mit der Maßgabe, dass eine Summe der Dicke der Pixelelektrode und der Dicke des zweiten organischen Films über der Pixelelektrode nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films unter der gemeinsamen Elektrode ist.
  11. Herstellverfahren nach Anspruch 7, wobei sich die Pixelelektrodenposition auf der Oberfläche des ersten organischen Films angeordnet ist.
  12. Herstellverfahren nach Anspruch 11, wobei das Verfahren nach der Bildung der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode ferner folgende Schritte umfasst: Bedecken der Pixelelektrode und der gemeinsamen Elektrode mit einem zweiten organischen Film und Ätzen des zweiten organischen Films mit der Maßgabe, dass die gemeinsame Elektrode freigelegt und gleichzeitig der zweite organische Film, der die vorgegebene Position bedeckt, erhalten bleibt (505).
  13. Herstellverfahren nach Anspruch 12, wobei das Ätzen des zweiten organischen Films mit der Maßgabe, dass die gemeinsame Elektrode freigelegt und gleichzeitig der zweite organische Film, der die vorgegebene Position bedeckt, erhalten bleibt, insbesondere umfasst: Ätzen des zweiten organischen Films nach dem Prinzip, bei dem die gemeinsame Elektrode freigelegt und gleichzeitig der zweite organische Film, der die vorgegebene Position bedeckt, erhalten bleibt, und mit der Maßgabe, dass die Summe der Dicke der Pixelelektrode, der Dicke des ersten organischen Films unter der Pixelelektrode und der Dicke des zweiten organischen Films über der Pixelelektrode nicht größer als die Dicke des ersten organischen Films unter der gemeinsamen Elektrode ist.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105931985A (zh) * 2016-05-13 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN105824158A (zh) * 2016-05-30 2016-08-03 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示装置及阵列基板制作方法
CN106024808A (zh) * 2016-06-08 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示器件
CN106129063B (zh) * 2016-07-05 2019-06-25 深圳市华星光电技术有限公司 薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
CN112068373B (zh) * 2020-09-10 2022-05-03 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制作方法、显示面板
CN114488627B (zh) * 2020-10-26 2024-04-30 瀚宇彩晶股份有限公司 显示面板

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6697129B1 (en) 1996-02-14 2004-02-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Guest-host mode liquid crystal display device of lateral electric field driving type
EP0919850B1 (de) * 1997-11-25 2008-08-27 NEC LCD Technologies, Ltd. Aktiv-Matrix-Flüssigkristallanzeige und deren Herstellungsverfahren
US6731361B2 (en) 2001-06-07 2004-05-04 International Business Machines Corporation High resolution in-plane switching mode TFT-LCD
TW522570B (en) * 2001-11-06 2003-03-01 Hannstar Display Corp Manufacturing method of thin film transistor array substrate and its structure
KR100928921B1 (ko) * 2002-12-11 2009-11-30 엘지디스플레이 주식회사 횡전계모드 액정표시소자
JP4194362B2 (ja) * 2002-12-19 2008-12-10 奇美電子股▲ふん▼有限公司 液晶表示セルおよび液晶ディスプレイ
JP4929432B2 (ja) 2005-07-29 2012-05-09 Nltテクノロジー株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
KR101193381B1 (ko) 2005-12-29 2012-10-19 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치의 제조방법
KR101180718B1 (ko) 2005-12-29 2012-09-07 엘지디스플레이 주식회사 횡전계형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법
JP5013367B2 (ja) * 2007-01-17 2012-08-29 Nltテクノロジー株式会社 液晶表示装置、及び、液晶表示装置の製造方法
TWI344035B (en) 2007-08-02 2011-06-21 Au Optronics Corp Multi-domain liquid crystal display
KR101286544B1 (ko) * 2008-07-11 2013-07-17 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20120044745A (ko) 2010-10-28 2012-05-08 삼성모바일디스플레이주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
CN102707513B (zh) * 2012-03-21 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板和显示装置
CN102830560A (zh) 2012-08-27 2012-12-19 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法
KR101493128B1 (ko) * 2012-09-27 2015-02-23 엘지디스플레이 주식회사 액정표시패널 및 그 제조방법

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