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Die vorliegende Erfindung betrifft das Gebiet der Displays, insbesondere ein Verfahren zur Produktion eines OLED-Pixels (Organic Light Emitting Diode – Organische Leuchtdiode) und ein Verfahren zur Produktion einer OLED-Display-Vorrichtung.
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Derzeit wird OLED-Display-Vorrichtungen, die als aktive lichtemittierende Vorrichtungen dienen, zunehmend Aufmerksamkeit zuteil, und die Produktionstechnik der OLED Display-Vorrichtung gestaltet sich zunehmend ausgereift. Im Allgemeinen wird ein OLED-Pixel hauptsächlich in den folgenden drei Schritten produziert: Herstellen einer TFT-Schaltung (Dünnschichttransistor) und einer OLED-Anode auf einem OLED-Substrat; Herstellen einer OLED lichtemittierenden Schicht; und Abscheiden eines Films zum Herstellen einer OLED-Katode, wobei die OLED lichtemittierende Schicht allgemein durch Aufdampfen gebildet wird, wobei das Aufdampfen jedoch folgende Probleme mit sich bringt:
- 1. Da die Sublimationstemperatur eines OLED lichtemittierenden Materials sehr hoch ist, kommt es während des Aufdampfens leicht zur Verformung einer Maske, so dass die Feinheit einer Vorrichtungsstruktur der Norm nicht gerecht wird;
- 2. Eine großflächige Produktion lässt sich nicht erreichen, da ansonsten die Mitte der Maske durchhängt;
- 3. Ungleichförmiges Aufdampfen führt leicht zu einer ungleichmäßigen Filmdicke;
- 4. Wenn die OLED lichtemittierende Schicht durch Aufdrucken gebildet wird, werden die Probleme eines ungleichmäßigen Displays, einer geringen Lichtemissionseffizienz und dergleichen aufgrund der Eigenschaften des Materials, dessen aufgesprühte Körner in der Mitte dick und am Rand dünn sind, verursacht; und
- 5. Wenn die OLED lichtemittierende Schicht in einem Siebdruckverfahren gebildet wird, besteht ebenfalls das Problem, dass die Anzeige ungleichmäßig und die lichtemittierende Schicht in der Mitte dick und am Rand dünn ist.
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Zudem leidet das beschriebene Verfahren noch unter folgenden Problemen, die derzeit nicht lösbar sind:
- 1. Eine R(ot)G(rün)B(lau)-Vollfarb-Filmherstellung ist nicht realisierbar, da die OLED lichtemittierende Schicht nicht belichtet werden darf und nicht in Kontakt mit H2O oder O2 kommen und folglich nicht geätzt werden kann;
- 2. um einen Vollfarb-Anzeigeeffekt zu erzielen, muss ein Mischfarbenfilter hinzugefügt werden, doch eine Display-Vorrichtung ist in diesem Fall sehr dick, komplex in der Herstellung und verfügt über eine niedrige Lichtnutzungsrate; und
- 3. wertvolle OLED lichtemittierende Materialien werden verschwendet.
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Die
US 6 566 156 B1 offenbart das Folgende: organische lichtemittierende Vorrichtungen und Verfahren zu deren Herstellung werden beschrieben. Die Vorrichtungen enthalten ein Substrat, eine erste elektrische Kontaktschicht, eine gemusterte organische Schicht, und eine zweite elektrische Kontaktschicht. Ein Abdeckabschnitt deckt die Seiten der organischen Schicht ab und schützt dieselbe. Bei dem Verfahren wird eine erste organische Schicht über einer ersten elektrischen Kotaktschicht vorgesehen, gefolgt durch eine gemusterte zweite elektrische Kontaktschicht. Die organische Schicht wird unter Verwendung der gemusterten elektrischen Kontaktschicht als eine Maske geätzt. In einem Ausführungsbeispiel legt der Ätzschritt einen Bereich über der ersten elektrischen Kotaktschicht fei, und eine zweite organische Schicht ist über dem freigelegten Bereich vorgesehen.
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Die
US 2013/0119857 A1 offenbart das Folgende: eine organische Elektrolumineszenz-Vorrichtung (OLED-Vorrichtung) umfasst mindestens eine erste Anordnung und eine zweite Anordnung. Die erste Anordnung weist ein erstes Substrat und eine organische Elektrolumineszenzeinheit auf, die auf dem ersten Substrat gebildet ist. Die zweite Anordnung, die mit der ersten Anordnung zusammengesetzt ist, umfasst ein zweites Substrat, eine Farbfilterschicht und eine gemusterte Lichtabdeckungsschicht. Die Farbfilterschicht ist auf dem zweiten Substrat angeordnet und besitzt eine Vielzahl von kolorierten Bereichen mit unterschiedlichen Farben. Die gemusterte lichtabdeckende Schicht ist auf der Farbfilterschicht und zwischen den gefärbten Bereichen angeordnet. Ein Teil der gemusterten lichtabdeckenden Schicht berührt die erste Anordnung, um einen Zellenabstand zwischen der ersten Anordnung und der zweiten Anordnung zu erhalten.
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In Anbetracht dieser Umstände schaffen Ausführungsbeispiele der Erfindung ein Verfahren zur Produktion eines OLED-Pixels und ein Verfahren zur Produktion einer OLED-Display-Vorrichtung. Insbesondere schafft ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ein Verfahren zur Produktion eines OLED-Pixels, wobei das OLED-Pixel wenigstens ein erstes Subpixel, ein zweites Subpixel und ein drittes Subpixel aufweist und das Verfahren zur Produktion des OLED-Pixels Folgendes aufweist: Herstellen einer Anode und einer Pixelabgrenzungsschicht auf einem Substrat, wobei die Pixelabgrenzungsschicht einen ersten Subpixelbereich in Entsprechung zum ersten Subpixel, einen zweiten Subpixelbereich in Entsprechung zum zweiten Subpixel, einen dritten Subpixelbereich in Entsprechung zum dritten Subpixel und einen Pixelabstandsbereich aufweist, und wobei das erste Subpixel, das zweite Subpixel und das dritte Subpixel voneinander durch den Pixelabstandsbereich getrennt sind; Auftragen einer ersten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, den zweiten Subpixelbereich und den dritten Subpixelbereich; Auftragen einer ersten lichtemittierenden Schicht auf den ersten Subpixelbereich und die erste langkettige Fettsäureesterschicht; Ätzen des Substrats und Entfernen der ersten langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen eines ersten lichtemittierenden Rasters; Auftragen einer zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, den ersten lichtemittierenden Raster und den dritten Subpixelbereich; Auftragen einer zweiten lichtemittierenden Schicht auf den zweiten Subpixelbereich und die zweite langkettige Fettsäureesterschicht; Ätzen des Substrats und Entfernen der langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen eines zweiten lichtemittierenden Rasters; Auftragen einer dritten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, den ersten lichtemittierenden Raster und den zweiten lichtemittierenden Raster; Auftragen einer dritten lichtemittierenden Schicht auf den dritten Subpixelbereich und die dritte langkettige Fettsäureesterschicht; Ätzen des Substrats und Entfernen der dritten langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen eines dritten lichtemittierenden Rasters; und Herstellen einer Kathode.
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Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung schafft auch ein Verfahren zur Produktion einer OLED-Display-Vorrichtung, das Folgendesaufweist: Herstellen eines ersten Substrats beim Herstellen mehrerer OLED-Pixel auf dem ersten Substrat; Herstellen eines zweiten Substrats; und Verkleben des ersten Substrats und des zweiten Substrats durch eine Fritte zum Herstellen der OLED-Display-Vorrichtung, wobei jedes OLED-Pixel wenigstens ein erstes Subpixel, ein zweites Subpixel und ein drittes Subpixel aufweist; das Herstellen der mehreren OLED-Pixel auf dem ersten Substrat Folgendes aufweist: Herstellen einer Anode und einer Pixelabgrenzungsschicht auf dem ersten Substrat, wobei die Pixelabgrenzungsschicht mehrere erste Subpixelbereiche in Entsprechung zu den ersten Subpixeln, mehrere zweite Subpixelbereiche in Entsprechung zu den zweiten Subpixeln, mehrere dritte Subpixelbereiche in Entsprechung zu den dritten Subpixeln und einen Pixelabstandsbereich aufweist, und wobei die ersten Subpixel, die zweiten Subpixel und die dritten Subpixel voneinander durch den Pixelabstandsbereich getrennt sind; Auftragen einer ersten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, die zweiten Subpixelbereiche und die dritten Subpixelbereiche; Auftragen einer ersten lichtemittierenden Schicht auf die ersten Subpixelbereiche und die erste langkettige Fettsäureesterschicht; Ätzen des ersten Substrats und Entfernen der ersten langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen erster lichtemittierender Raster; Auftragen einer zweiten langkettigen Fettsäureschicht auf den Pixelabstandsbereich, die ersten lichtemittierenden Raster und die dritten Subpixelbereiche; Auftragen einer zweiten lichtemittierenden Schicht auf die zweiten Subpixelbereiche und die zweite langkettige Fettsäureesterschicht; Ätzen des ersten Substrats und Entfernen der langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen zweiter lichtemittierender Raster; Auftragen einer dritten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, die ersten lichtemittierenden Raster und die zweiten lichtemittierenden Raster; Auftragen einer dritten lichtemittierenden Schicht auf die dritten Subpixelbereiche und die dritte langkettige Fettsäureesterschicht; Ätzen des ersten Substrats und Entfernen der dritten langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen eines dritten lichtemittierenden Rasters; und Herstellen einer Kathode.
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Durch Anwendung des Verfahrens der Produktion von OLED-Pixel und des Verfahrens zur Produktion der OLED-Display-Vorrichtung wie in den Ausführungsbeispielen der Erfindung dargestellt wird verhindert, dass die OLED lichtemittierenden Schichten in einem Aufdampfverfahren gebildet werden, so dass mehrere oder wenigstens eine nachteilige Wirkung aufgrund des Aufdampfverfahrens vermieden und eine Vollfarbfilmherstellung der OLED lichtemittierenden Schicht realisiert werden kann.
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1 ist ein Fließdiagramm eines Verfahrens zur Produktion eines OLED-Pixels in einem Ausführungsbeispiel;
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2 bis 11 sind schematische Diagramme von Substraten, die unter Anwendung des Verfahrens in dem Ausführungsbeispiel hergestellt worden sind;
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12 ist eine Molekularformel einer langkettigen Fettsäure in dem Ausführungsbeispiel;
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13 bis 16 sind schematische Diagramme von Substraten, die durch die Anwendung eines Verfahrens in anderen Ausführungsbeispielen gewonnen wurden;
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17 ist ein Fließdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung einer OLED-Display-Vorrichtung in einem anderen Ausführungsbeispiel.
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Zur näheren Erläuterung der oben erwähnten Ziele, Merkmale und Vorteile der Erfindung und zu deren besseren Verständnis werden nachstehend spezifische Ausführungsbeispiele der Erfindung detailliert in Verbindung mit den begleitenden Zeichnungen beschrieben.
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Zum vollständigen Verständnis der Erfindung sind in der nachstehenden Beschreibung zahlreiche spezifische Details veranschaulicht, doch die Erfindung kann auch auf andere Arten implementiert werden, die sich von den hierin beschriebenen unterscheiden; sie ist also nicht auf die nachstehend offenbarten spezifischen Ausführungsbeispiele beschränkt.
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Ein Ausführungsbeispiel schafft ein Verfahren zur Produktion eines OLED-Pixels, wobei das OLED-Pixel wenigstens ein erstes Subpixel, ein zweites Subpixel und ein drittes Subpixel umfasst und allgemein das erste Subpixel, das zweite Subpixel und das dritte Subpixel den lichtemittierende Schichten dreier Farben entsprechen, namentlich R (rot), G (grün) und B (blau), um eine Vollfarbanzeige zu realisieren. Wie in 1 dargestellt, umfasst das Verfahren zur Produktion des OLED-Pixels Folgendes:
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Schritt 1: Herstellen einer Anode und einer Pixelabgrenzungsschicht auf einem Substrat, wie in 2 dargestellt. Die Pixelabgrenzungsschicht umfasst einen ersten Subpixelbereich 11 in Entsprechung zum ersten Subpixel, einen zweiten Subpixelbereich 12 in Entsprechung zum zweiten Subpixel, einen dritten Subpixelbereich 13 in Entsprechung zum dritten Subpixel und einen Pixelabstandsbereich 14, wobei das erste Subpixel, das zweite Subpixel und das dritte Subpixel voneinander durch den Pixelabstandsbereich 14 getrennt sind, so dass jeweils zwei Subpixel voneinander durch den Pixelabstandsbereich 14 getrennt sind.
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Schritt 2: Auftragen einer ersten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich 14, den zweiten Subpixelbereich 12 und den dritten Subpixelbereich 13, wie in 3 dargestellt. Vorzugsweise kann die erste langkettige Fettsäureesterschicht per Siebdruckverfahren aufgebracht werden.
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Schritt 3: Auftragen einer ersten lichtemittierenden Schicht auf den ersten Subpixelbereich 11 und die erste langkettige Fettsäureesterschicht, wie in 4 dargestellt. Die erste lichtemittierende Schicht ist aus einer organischen Substanz hergestellt und die erste langkettige Fettsäureesterschicht ist aus einer organischen Substanz hergestellt, die aus langkettigen Fettsäureestermolekülen gebildet ist; die beiden organischen Substanzen infiltrieren einander nicht, so dass das Material der ersten lichtemittierenden Schicht nicht auf die Oberfläche aufgebracht werden kann, auf der der langkettige Festsäureester aufgetragen worden ist, und die erste lichtemittierende Schicht kann nur im ersten Subpixelbereich 11 gebildet werden, der nicht von der ersten langkettigen Fettsäureesterschicht bedeckt ist. Vorzugsweise wird die erste lichtemittierende Schicht mittels eines Spin-Coating-Verfahrens aufgetragen.
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Schritt 4: Ätzen des Substrats und Entfernen der ersten langkettigen Fettsäureesterschicht, um einen ersten lichtemittierenden Raster 21 zu bilden, wie in 5 dargestellt. Das Ätzen wird vorzugsweise durch Verwendung von Argon oder Oxid oder einem gemischten Gas aus Argon und Oxid in einem Plasmaätzverfahren implementiert.
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Schritt 5: Auftragen einer zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich 14, den ersten lichtemittierenden Raster 21 und den dritten Subpixelbereich 13, wie in 6 dargestellt. Es ist zu beachten, dass das Merkmal der Nichtinfiltration zwischen der ersten lichtemittierenden Schicht und dem langkettigen Fettsäureester hauptsächlich gegeben ist, wenn die erste lichtemittierende Schicht in einem nassen Zustand ist, und nachdem die erste lichtemittierende Schicht durch Anblasen über eine bestimmte Zeit getrocknet oder in einem anderen Zustand ist, ist das Merkmal der Nichtinfiltration zwischen dem später gebildeten ersten lichtemittierenden Raster 21 und dem langkettigen Fettsäureester nicht mehr gegeben, so dass die zweite langkettige Fettsäureesterschicht auf den getrockneten ersten lichtemittierenden Raster 21 aufgebracht werden kann. Vorzugsweise kann die zweite langkettige Fettsäureesterschicht mittels Siebdruckverfahrens aufgebracht werden.
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Schritt 6: Auftragen einer zweiten lichtemittierenden Schicht auf den zweiten Subpixelbereich 12 und die zweite langkettige Fettsäureesterschicht, wie in 7 dargestellt. Die zweite lichtemittierende Schicht wird vorzugsweise in einem Spin-Coating-Verfahren aufgebracht. Die zweite lichtemittierende Schicht kann nur im zweiten Subpixelbereich 12 gebildet werden.
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Schritt 7: Ätzen des Substrats und Entfernen der zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht, um einen zweiten lichtemittierenden Raster 22 zu bilden, wie in 8 dargestellt. Bezüglich des Ätzens kann auf die Behandlungsart in Schritt 4 Bezug genommen werden, die hier nicht noch einmal beschrieben wird.
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Schritt 8: Auftragen einer dritten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich 14, den ersten lichtemittierenden Raster 21 und den zweiten lichtemittierenden Raster 22, wie in 9 dargestellt. Vorzugsweise wird die dritte langkettige Fettsäureesterschicht mittels Siebdruckverfahrens aufgebracht.
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Schritt 9: Auftragen einer dritten lichtemittierenden Schicht auf den dritten Subpixelbereich 13 und die dritte langkettige Fettsäureesterschicht, wie in 10 dargestellt. Vorzugsweise wird die dritte lichtemittierende Schicht in einem Spin-Coating-Verfahren aufgebracht. Die dritte lichtemittierende Schicht kann noch immer nur im dritten Subpixelbereich 13 gebildet werden.
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Schritt 10: Ätzen des Substrats und Entfernen der dritten langkettigen Fettsäureesterschicht, um einen dritten lichtemittierenden Raster 23 zu bilden, wie in 11 dargestellt. Bezüglich des Ätzens kann auf die Behandlungsart in Schritt 4 Bezug genommen werden, die hier nicht noch einmal beschrieben wird.
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Schritt 11: Herstellen einer Katode.
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Es ist zu beachten, dass in diesem Ausführungsbeispiel der Schritt 1 zum Herstellen der Anode und der Pixelabgrenzungsschicht auf dem Substrat und der Schritt 11 zum Herstellen der Katode unter Bezugnahme auf den Stand der Technik durchgeführt werden können, weshalb Schritt 1 und Schritt 11 in diesem Ausführungsbeispiel nicht spezifisch beschrieben werden und von einschlägig bewanderten Fachpersonen nach Maßgabe ihrer Erfahrungen auf diesem Gebiet implementiert werden können. Beispielsweise kann das Verfahren vor dem Schritt der Herstellung der Anode auf dem Substrat zusätzlich einen Schritt der Reinigung des Substrats, einen Schritt der Herstellung von TFTs auf dem Substrat oder andere alternative Schritte umfassen.
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Die OLED lichtemittierenden Schichten werden in diesem Ausführungsbeispiel nicht unter Anwendung der traditionellen Aufdampfverfahren gebildet, so dass verschiedene oben erwähnte Nachteile im Zusammenhang mit dem Aufdampfen vermieden werden und auch eine Vollfarbanzeige der OLED-Pixel realisiert wird; ein Mischfarbfilter wird nicht benötigt, so dass die Defekte einer zu dicken Display-Vorrichtung und dergleichen überwunden werden.
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Vorzugsweise kann der erste langkettige Fettsäureester oder der zweite langkettige Fettsäureester oder der dritte langkettige Fettsäureester CH3(CH2)22COOH sein, dessen Molekularformel in 12 dargestellt ist. Es versteht sich, dass der erste langkettige Fettsäureester oder der zweite langkettige Fettsäureester oder der dritte langkettige Fettsäureester nicht auf die hier bezeichnete Lignocerinsäure beschränkt sind und auch andere langkettige Fettsäureester oder ein anderer Säureester sein können.
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Vorzugsweise kann die Dicke der ersten langkettigen Fettsäureesterschicht oder der zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht oder der dritten langkettigen Fettsäureesterschicht 1 nm betragen.
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Vorzugsweise ist die erste lichtemittierende Schicht eine rote (R) lichtemittierende Schicht, die zweite lichtemittierende Schicht eine grüne (G) lichtemittierende Schicht, die dritte lichtemittierende Schicht eine blaue (B) lichtemittierende Schicht, und eine Vollfarbfilmherstellung der drei Farben RGB ist in diesem Fall realisierbar. Die Dicke der ersten lichtemittierenden Schicht oder der zweiten lichtemittierenden Schicht oder der dritten lichtemittierenden Schicht kann 10 nm bis 100 nm betragen. Unter unterschiedlichen Bedingungen kann eine bestimmte Dicke des Films gemäß aktuellen Bedürfnissen gebildet werden, die hier nicht ausdrücklich eingeschränkt sind. Es versteht sich, dass die erste lichtemittierende Schicht, die zweite lichtemittierende Schicht und die dritte lichtemittierende Schicht möglicherweise nicht genau den roten, grünen bzw. blauen lichtemittierenden Schichten entsprechen, sondern nur einer jeweils anderen der lichtemittierenden Schichten der drei Farben RGB entsprechen müssen.
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Die Dicke der roten lichtemittierenden Schicht kann vorzugsweise 41 nm betragen, die Dicke der blauen lichtemittierenden Schicht oder der grünen lichtemittierenden Schicht kann zwischen 39 nm und 40 nm betragen, und nach der folgenden Plasmaätzbehandlung ist die Dicke des gewonnenen Rotlicht-emittierenden Rasters 40 nm, und die Dicke des Grünlicht-emittierenden Rasters oder des Blaulichtemittierenden Rasters ist 38 nm bis 39 nm.
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Zu beachten ist, dass das erste Subpixel, das zweite Subpixel und das dritte Subpixel in diesem Ausführungsbeispiel in ihrer Größe, Anordnungsart und dergleichen nicht begrenzt sind und auch länglich, wie in 2–11 dargestellt, oder in regelmäßigen geometrischen Formen erscheinen können, wie Rechteck, Dreieck, Trapezoid oder Kreis, oder auch in unregelmäßigen Formen; das erste Subpixel, das zweite Subpixel und das dritte Subpixel können zudem parallel angeordnet sein, wie in 2 bis 11 dargestellt, oder auch versetzt, beispielsweise in Form von Honigwaben und dergleichen, und die Anordnungsart ist hier ebenfalls nicht eingeschränkt.
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Vor dem Auftrag der zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht in Schritt 5 oder dem Auftrag der dritten langkettigen Fettsäureesterschicht in Schritt 8 kann dem Verfahren vorzugsweise ein Schritt des Brennens oder Erhitzens des Substrats hinzugefügt werden. Durch den Schritt des Brennens oder Erhitzens des Substrats kann der erste lichtemittierende Raster oder der zweite lichtemittierende Raster zusätzlich getrocknet oder gehärtet werden, so dass die zweite langkettige Fettsäureesterschicht später besser auf den ersten lichtemittierenden Raster aufgetragen werden kann oder die dritte langkettige Fettsäureesterschicht besser auf den zweiten lichtemittierenden Raster aufgetragen werden kann.
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Ein weiteres Ausführungsbeispiel wird auf der Grundlage des vorangehenden Ausführungsbeispiels gebildet. Zum Unterschied vom vorangehenden Ausführungsbeispiel umfasst in diesem Ausführungsbeispiel, wie in 13 dargestellt, der OLED-Pixel auch ein viertes Subpixel neben dem ersten Subpixel, dem zweiten Subpixel und dem dritten Subpixel im vorangehenden Ausführungsbeispiel; dementsprechend umfasst auch die Pixelabgrenzungsschicht einen vierten Subpixelbereich 34 in Entsprechung zum vierten Subpixel neben einem ersten Subpixelbereich 31 in Entsprechung zum ersten Subpixel, einen zweiten Subpixelbereich 32 in Entsprechung zum zweiten Subpixel, einen dritten Subpixelbereich 33 in Entsprechung zum dritten Subpixel und einen Pixelabstandsbereich 35, und das vierte Subpixel ist vom ersten Subpixel, vom zweiten Subpixel und vom dritten Subpixel durch den Pixelabstandsbereich 35 getrennt; d.h. jeweils zwei Subpixel sind voneinander durch den Pixelabstandsbereich 35 getrennt.
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Ein Verfahren zur Produktion eines OLED-Pixels umfasst ferner die folgenden Schritte nach dem Schritt der Herstellung des dritten lichtemittierenden Rasters und vor dem Schritt der Herstellung der Katode neben den Schritten 1–11 im vorangehenden Ausführungsbeispiel:
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Schritt 101: Auftragen einer vierten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich 35, den ersten lichtemittierenden Raster 41, den zweiten lichtemittierenden Raster 42 und den dritten lichtemittierenden Raster 43, wie in 14 dargestellt. Vorzugsweise wird die vierte langkettige Fettsäureesterschicht mittels Siebdruckverfahrens aufgebracht.
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Schritt 102: Auftragen einer vierten lichtemittierenden Schicht auf den vierten Subpixelbereich 34 und die vierte langkettige Fettsäureesterschicht, wie in 15 dargestellt. Die vierte lichtemittierende Schicht wird vorzugsweise in einem Spin-Coating-Verfahren aufgebracht. Die vierte lichtemittierende Schicht kann auch nur im vierten Subpixelbereich 34 ausgebildet werden.
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Schritt 103: Ätzen des Substrats und Entfernen der vierten langkettigen Fettsäureesterschicht zum Herstellen eines vierten lichtemittierenden Rasters 44, wie in 16 dargestellt. Mit Bezug auf das Ätzen wird auf die Behandlung des Schrittes 4 im vorangehenden Ausführungsbeispiel verwiesen und kann eine redundante Beschreibung an dieser Stelle unterbleiben.
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In diesem Ausführungsbeispiel wird ein Verfahren zur Produktion des OLED-Pixels einschließlich vier Subpixel offenbart. Die Produktionsweise jedes Subpixels ähnelt jener der im vorangehenden Ausführungsbeispiel dargestellten Subpixel, weshalb auf das vorangehende Ausführungsbeispiel verwiesen werden kann. Die Menge der Subpixel unterscheidet sich in diesem Ausführungsbeispiel von jener im vorangehenden Ausführungsbeispiel. Dem OLED-Pixel dieses Ausführungsbeispiels wird ein Subpixel hinzugefügt, so dass der vom OLED-Pixel dargestellte Farbbereich breiter sein kann.
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Ebenfalls erfolgt keine Einschränkung hinsichtlich der Form und der spezifischen Anordnungsarten des ersten Subpixels, des zweiten Subpixels, des dritten Subpixels und des vierten Subpixels in dem Ausführungsbeispiel. Die Darstellung der einzelnen Subpixel als quadratisch und die Anordnung der Subpixel in Matrixform erfolgt in 13 bis 16 lediglich zu illustrativen Zwecken, und die tatsächliche Anordnung bzw. Form richtet sich nach den jeweiligen Bedürfnissen.
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Zudem können das erste Subpixel, das zweite Subpixel, das dritte Subpixel und das vierte Subpixel solche derselben Farbe oder Subpixel unterschiedlicher Farben sein, oder auch Subpixel, von denen ein Teil dieselbe Farbe und der andere Teil eine andere Farbe aufweisen, wofür hier keinerlei Beschränkungen gelten sollen. Unter der Bedingung, dass das OLED-Pixel zwei oder mehr Subpixel derselben Farbe umfasst, können die zwei oder mehr Subpixel derselben Farbe vorzugsweise zusammen in einem Schritt (d.h. die zwei oder mehr Bereiche entsprechend den Subpixeln werden zusammen im Schritt des Auftragens einer lichtemittierenden Schicht aufgetragen) gebildet werden, um den gesamten Prozessfluss zu vereinfachen.
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Vorzugsweise kann der vierte langkettige Fettsäureester CH3(CH2)22COOH sein, oder die Dicke der vierten langkettigen Fettsäureesterschicht kann 1 nm sein, oder die Dicke der vierten lichtemittierenden Schicht kann zwischen 10 nm und 100 nm betragen. Dies entspricht dem vorangehenden Ausführungsbeispiel und muss hier nicht näher beschrieben werden; es wird vielmehr auf das vorangehende Ausführungsbeispiel verwiesen.
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Vorzugsweise kann die vierte lichtemittierende Schicht eine Schicht aus roten, grünen, blauen, gelben oder weißen lichtemittierenden Schichten sein und kann auch eine gemischte lichtemittierende Schicht sein, die aus lichtemittierenden Schichten mehrerer unterschiedlicher Farben gemischt ist, die hier nicht eingeschränkt sind.
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Ein weiteres Ausführungsbeispiel schafft ein Verfahren zur Produktion einer OLED-Display-Vorrichtung, wobei die OLED-Display-Vorrichtung mehrere OLED-Pixel umfasst, die durch Anwendung des Verfahrens eines der oben erwähnten Ausführungsbeispiele produziert wurden. Jedes OLED-Pixel umfasst mindestens ein erstes Subpixel, ein zweites Subpixel und ein drittes Subpixel. Insbesondere umfasst, wie in 17 dargestellt, das Verfahren zur Produktion der OLED-Display-Vorrichtung Folgendes:
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Schritt S1: Herstellen eines ersten Substrats bei der Herstellung mehrerer OLED-Pixel auf dem ersten Substrat, insbesondere umfassend:
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Schritt S101: Herstellen einer Anode und einer Pixelabgrenzungsschicht auf dem ersten Substrat, wobei die Pixelabgrenzungsschicht mehrere erste Subpixelbereiche in Entsprechung zu den ersten Subpixeln, mehrere zweite Subpixelbereiche in Entsprechung zu den zweiten Subpixeln, mehrere dritte Subpixelbereiche in Entsprechung zu den dritten Subpixeln und einen Pixelabstandsbereich umfasst, und wobei die ersten Subpixel, die zweiten Subpixel und die dritten Subpixel durch den Pixelabstandsbereich voneinander getrennt sind;
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Schritt S102: Auftragen einer ersten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, die zweiten Subpixelbereiche und die dritten Subpixelbereiche;
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Schritt S103: Auftragen einer ersten lichtemittierenden Schicht auf die ersten Subpixelbereiche und die erste langkettige Fettsäureesterschicht;
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Schritt S104: Ätzen des ersten Substrats und Entfernen der ersten langkettigen Fettsäureesterschicht zur Herstellung erster lichtemittierender Raster;
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Schritt S105: Auftragen einer zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, die ersten lichtemittierenden Raster und die dritten Subpixelbereiche;
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Schritt S106: Auftragen einer zweiten lichtemittierenden Schicht auf die zweiten Subpixelbereiche und die zweite langkettige Fettsäureesterschicht;
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Schritt S107: Ätzen des ersten Substrats und Entfernen der zweiten langkettigen Fettsäureesterschicht zur Herstellung der zweiten lichtemittierenden Raster;
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Schritt S108: Auftragen einer dritten langkettigen Fettsäureesterschicht auf den Pixelabstandsbereich, die ersten lichtemittierenden Raster und die zweiten lichtemittierenden Raster;
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Schritt S109: Auftragen einer dritten lichtemittierenden Schicht auf die dritten Subpixelbereiche und die dritte langkettige Fettsäureesterschicht;
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Schritt S110: Ätzen des ersten Substrats und Entfernen der dritten langkettigen Fettsäureesterschicht zur Herstellung dritter lichtemittierender Raster;
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Schritt S111: Herstellen einer Katode.
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Die Implementierung von Schritt S1 gleicht den in den vorangehenden Ausführungsbeispielen dargestellten Schritten, weshalb hier auf den Inhalt der vorangehenden Ausführungsbeispiele verwiesen wird, die hier nicht noch einmal detailliert ausgeführt werden müssen.
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Schritt S2: Herstellen eines zweiten Substrats;
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Schritt S3: Verkleben des ersten Substrats und des zweiten Substrats mittels einer Fritte zur Herstellung der OLED-Display-Vorrichtung. Im Allgemeinen wird die Fritte unter Laserbestrahlung geschmolzen, um das erste Substrat und das zweite Substrat zu verkleben, und die zwei Substrate werden nach dem Abkühlen der Fritte gepackt, wodurch die OLED-Display-Vorrichtung produziert wird.
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Als Variation dieses Ausführungsbeispiels kann jedes in der OLED-Display-Vorrichtung enthaltenen OLED-Pixel vier Subpixel enthalten, wobei das Produktionsverfahren der OLED-Display-Vorrichtung nur die oben aufgeführten Schritte der Produktion des OLED-Pixels mit drei Subpixeln, wie in Schritt S1 dieses Ausführungsbeispiels dargestellt, durch die Schritte der Produktion des OLED-Pixels einschließlich vier Subpixeln, wie im vorangehenden Ausführungsbeispiel dargestellt, ersetzen muss; andere Schritte sind beinahe identisch und müssen hier nicht wiederholt beschrieben werden.
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Durch Anwendung des in diesem Ausführungsbeispiel bereitgestellten Verfahrens der Produktion der OLED-Display-Vorrichtung werden die in der Produktion der OLED-Vorrichtung mittels traditioneller Aufdampfung verursachten Defekte überwunden. Darüber hinaus können eine RGB-Vollfarbfilmherstellung und ein verbesserter Anzeigeeffekt realisiert werden.
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Es wird darauf hingewiesen, dass die oben ausgeführten Ausführungsbeispiele aufeinander Bezug nehmend verwendet und in einem umfassenden Sinn umgesetzt werden können.
