DE102018131674A1 - Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung und Verfahren ihrer Herstellung - Google Patents

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Hakmin Lee
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LG Display Co Ltd
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Abstract

Es ist eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung offenbart, die ein Substrat, eine erste Elektrode, die auf dem Substrat vorgesehen ist, einen Wall, der konfiguriert ist, ein Ende der ersten Elektrode zu bedecken und ein Emissionsgebiet zu definieren, eine Emissionsschicht, die in dem durch den Wall definierten Emissionsgebiet vorgesehen ist, und eine zweite Elektrode, die auf der Emissionsschicht vorgesehen ist, umfasst, wobei die Emissionsschicht eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht und eine Emissionsmaterialschicht enthält und die zweite Elektrode ein Material enthält, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt, wobei die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung zum Reduzieren der Herstellungskosten und Bearbeitungszeit durch Bereitstellen der Emissionsschicht und der zweiten Elektrode, die durch einen Lösungsprozess gebildet sind, fähig ist.

Description

  • HINTERGRUND
  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Offenbarung bezieht sich auf eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung und ein Verfahren ihrer Herstellung
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • Eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung ist so beschaffen, dass eine Emissionsschicht zwischen zwei Elektroden gebildet ist. Dementsprechend wird, wenn die Emissionsschicht durch ein elektrisches Feld zwischen den beiden Elektroden Licht emittiert, ein Bild auf der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung angezeigt.
  • Die Emissionsschicht kann aus einem organischen Material gebildet sein, das Licht emittiert, wenn ein Exciton durch eine Kombination aus Elektron und Loch produziert wird und das Exciton aus einem angeregten Zustand in einen Grundzustand fällt. Andernfalls kann die Emissionsschicht aus einem anorganischen Material wie z. B. Quantenpunkt gebildet sein.
  • Nachstehend wird die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß dem Stand der Technik mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben.
  • 1 ist eine Querschnittsansicht, die die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß dem Stand der Technik darstellt.
  • Wie in 1 gezeigt ist, kann die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß dem Stand der Technik ein Substrat 10, eine Schaltungsvorrichtungsschicht 20, eine erste Elektrode 30, einen Wall 40, eine Emissionsschicht 50 und ein zweites Substrat 60 enthalten.
  • Die Schaltungsvorrichtungsschicht 20 ist auf dem ersten Substrat 10 gebildet. Hier sind verschiedene Signalleitungen, ein Dünnschichttransistor und ein Kondensator in der Schaltungsvorrichtungsschicht 20 gebildet.
  • Die erste Elektrode 30 ist auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 20 gebildet. Die erste Elektrode 30 ist durch jedes Pixel strukturiert, wobei die erste Elektrode 30 als eine Anode der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung funktioniert.
  • Der Wall 40 ist in Matrix-Konfiguration gebildet, um mehrere Emissionsgebiete zu definieren.
  • Die Emissionsschicht 50 ist in jedem der durch den Wall 40 definierten mehreren Emissionsgebiete gebildet. Die Emissionsschicht 50 ist in jedem der mehreren Emissionsgebiete durch einen Lösungsprozess unter Verwendung einer Tintenstrahleinrichtung gebildet.
  • Die zweite Elektrode 60 ist auf der Emissionsschicht 50 gebildet, wobei die zweite Elektrode 60 als eine Kathode der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung funktioniert.
  • Im Fall der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung des Standes der Technik wird die Emissionsschicht 50 durch den Lösungsprozess gebildet, und dann wird die zweite Elektrode 60 durch einen Abscheideprozess gebildet.
  • Dementsprechend sind im Stand der Technik die Tintenstrahleinrichtung zum Bilden der Emissionsschicht 50 bzw. eine Abscheideeinrichtung zum Bilden der zweiten Elektrode 60 zwangsläufig erforderlich, so dass die Herstellungskosten erhöht sind. Zusätzlich muss das Substrat 10 zu den unterschiedlichen Einrichtungen verlagert werden, um die Emissionsschicht 50 und die zweite Elektrode 60 zu bilden, und dadurch die der Anstieg der Bearbeitungszeit verursacht.
  • KURZZUSAMMENFASSUNG
  • Die vorliegende Offenbarung ist im Hinblick auf die vorstehenden Probleme gemacht worden, und es ist eine Aufgabe der vorliegenden Offenbarung, eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung und ein Verfahren zu deren Herstellung zu schaffen, die die Herstellungskosten und die Bearbeitungszeit verringern können.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung können die vorstehenden und andere Aufgaben erreicht werden durch die Schaffung eines Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, die ein Substrat, eine erste Elektrode, die auf dem Substrat vorgesehen ist, einen Wall, der konfiguriert ist, ein Ende der ersten Elektrode zu bedecken und ein Emissionsgebiet zu definieren, eine Emissionsschicht, die in dem Emissionsgebiet, das durch den Wall definiert ist, vorgesehen ist, und eine zweite Elektrode, die auf der Emissionsschicht vorgesehen ist, umfasst, wobei die Emissionsschicht eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht und eine Emissionsmaterialschicht enthält und die zweite Elektrode ein Material enthält, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung geschaffen, die ein Substrat, eine erste Elektrode, die auf dem Substrat vorgesehen ist, einen Wall, der konfiguriert ist, ein Ende der ersten Elektrode zu bedecken und ein erstes Emissionsgebiet, ein zweites Emissionsgebiet und ein drittes Emissionsgebiet zu definieren, eine erste Emissionsschicht, die in dem ersten Emissionsgebiet vorgesehen ist, eine zweite Emissionsschicht, die in dem zweite Emissionsgebiet vorgesehen ist, eine dritte Emissionsschicht, die in dem dritten Emissionsgebiet vorgesehen ist, eine zweite Elektrode, die auf jeder aus der ersten Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, und eine Verbindungsschicht zum Verbinden der ersten Elektrode, die auf der ersten Emissionsschicht vorgesehen ist, der zweiten Elektrode, die auf der zweiten Emissionsschicht vorgesehen ist, und der dritten Elektrode, die auf der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, miteinander, umfasst.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung geschaffen, die ein Substrat, das ein aktives Gebiet zum Anzeigen eines Bilds, und ein Dummy-Gebiet, das am Rand des aktiven Gebiets vorgesehen ist, enthält, einen Wall, der konfiguriert, ist ein Emissionsgebiet auf dem aktiven Gebiet des Substrats und ein Dummy-Emissionsgebiet auf dem Dummy-Gebiet des Substrats zu definieren, mehrere Emissionsschichten, die in dem durch den Wall definierten Emissionsgebiet vorgesehen sind, mehrere Elektroden, die jeweils auf den mehreren Emissionsschichten vorgesehen sind, mehrere Dummy-Emissionsschichten, die in dem durch den Wall definierten Dummy-Emissionsgebiet vorgesehen sind, mehrere Dummy-Elektroden, die jeweils auf den mehreren Dummy-Emissionsschichten vorgesehen sind, und eine Verbindungsschicht zum Verbinden der mehreren Elektroden miteinander umfasst.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt wird ein Verfahren zum Herstellen einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung geschaffen, das die folgenden Schritte umfasst: Bereitstellen eines Substrats, Bereitstellen einer Schaltungsvorrichtungsschicht, wobei die Schaltungsvorrichtungsschicht wenigstens einen Dünnschichttransistor umfasst, der eine Gate-Elektrode, eine aktive Schicht, eine Source-Elektrode und eine Drain-Elektrode aufweist, die eine erste Elektrode auf der Schaltungsvorrichtungsschicht bildet; Bilden eines Walls in einer Matrixkonfiguration, um mehrere Pixel zu definieren, von denen jedes ein Emissionsgebiet aufweist; Bilden einer Emissionsschicht in einem Emissionsgebiet durch Verwenden eines Lösungsprozesses; Bilden einer zweiten Elektrode in jedem Emissionsgebiet durch einen Lösungsprozess; Bilden einer Verbindungsschicht auf einer Oberseite des Walls, um die zweite Elektrode zu verbinden.
  • Durch Bereitstellen einer Emissionsschicht und einer zweiten Elektrode durch einen Lösungsprozess ist es möglich, eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung ohne Verwendung einer Maske herzustellen, um dadurch Herstellungskosten und Zeit zu reduzieren.
  • Figurenliste
  • Die vorstehenden und anderen Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Offenbarung werden aus der folgenden ausführlichen Beschreibung zusammen mit den begleitenden Zeichnungen besser verstanden; es zeigen:
    • 1 eine Querschnittsansicht, die die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß dem Stand der Technik darstellt;
    • 2 eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt;
    • 3 eine Draufsicht, die die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt;
    • 4 eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt;
    • 5 eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt;
    • 6 ein Diagramm, das die Änderung der Lichtdurchlässigkeit nach jedem Wellenlängenbereich gemäß einer Änderung einer zweiten Elektrode gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt;
    • 7 eine Draufsicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt;
    • 8 eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt und die einem Querschnitt entlang I-I von 7 entspricht; und
    • 9 eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt und die einem Querschnitt entlang I-I von 7 entspricht.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER OFFENBARUNG
  • Vorteile und Merkmale der vorliegenden Offenbarung und Implementierungsverfahren davon werden durch die folgenden Ausführungsformen, die mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben sind, verdeutlicht. Die vorliegende Offenbarung kann jedoch in unterschiedlichen Formen verwirklicht sein und sollte nicht so gedeutet werden, dass sie auf die hier dargelegten Ausführungsformen beschränkt ist. Vielmehr sind diese Ausführungsformen bereitgestellt, so dass diese Offenbarung umfassend und vollständig ist und den Schutzbereich der vorliegenden Offenbarung vollständig für Fachleute vermitteln kann. Ferner ist die vorliegende Offenbarung nur durch den Schutzbereich der Ansprüche definiert.
  • Die Formen, Größen, Verhältnisse, Winkel und Zahlen, die in den Zeichnungen zum Beschreiben von Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung offenbart sind, sind lediglich Beispiele, und somit ist die vorliegende Offenbarung nicht auf die dargestellten Einzelheiten beschränkt. Gleiche Bezugszeichen beziehen sich durchgehend auf gleiche Elemente. In der folgenden Beschreibung wird, wenn die ausführliche Beschreibung der relevanten bekannten Funktion oder Konfiguration als unnötigerweise den wichtigen Punkt der vorliegenden Offenbarung verdeckend bestimmt wird, die ausführliche Beschreibung weggelassen. In dem Fall, in dem „umfassen“, „aufweisen“ und „enthalten“, die in der vorliegenden Spezifikation beschrieben sind, verwendet werden, kann ein weiterer Teil ebenfalls vorhanden sein, sofern nicht „nur“ verwendet ist. Die Begriffe in einer Singularform können Pluralformen enthalten, sofern nicht auf das Gegenteil hingewiesen ist. Bei der Deutung eines Elements ist das Element so gedeutet, dass es einen Fehlerbereich enthält, obwohl keine explizite Beschreibung davon vorhanden ist. Bei der Beschreibung einer Positionsbeziehung, beispielsweise wenn die Positionsreihenfolge als „auf“, „oberhalb“, „unterhalb“ und „neben“ beschrieben ist, kann der Fall ohne Kontakt dazwischen enthalten sein, sofern nicht „genau“ oder „direkt“ verwendet ist. Falls erwähnt ist, dass ein erstes Element „auf“ einem zweiten Element positioniert ist, bedeutet das nicht, dass das erste Element im Wesentlichen oberhalb des zweiten Elements in der Figur positioniert ist. Der obere Teil und der untere Teil eines betroffenen Objekts können abhängig von der Orientierung des Objekts vertauscht sein. Folglich enthält der Fall, in dem ein erstes Element „auf“ einem zweiten Element positioniert ist, sowohl den Fall, in dem das erste Element „unterhalb“ des zweite Elements positioniert ist, als auch den Fall, in dem das erste Element „oberhalb“ des zweiten Elements in der Figur oder in einer tatsächlichen Konfiguration positioniert ist. Bei der Beschreibung einer zeitlichen Beziehung, beispielsweise wenn die zeitliche Reihenfolge als „nach“, „nachfolgend“, „als Nächstes“ und „vor“ beschrieben ist, kann ein Fall, der nicht kontinuierlich ist, enthalten sein, sofern nicht „genau“ oder „direkt“ verwendet ist. Es ist zu verstehen, dass, obwohl die Begriffe „erster“, „zweiter“ usw. hier verwendet sein können, um verschiedene Elemente zu beschreiben, diese Elemente durch diese Begriffe nicht eingeschränkt sein sollten. Diese Begriffe sind nur verwendet, um ein Element von einem anderen zu unterscheiden. Beispielsweise könnte ein erstes Element als ein zweites Element bezeichnet sein, und ähnlich könnte ein zweites Element als ein erstes Element bezeichnet sein, ohne von dem Schutzbereich der vorliegenden Offenbarung abzuweichen. Die Begriffe „erste horizontale Achsenrichtung“, „zweite horizontale Achsenrichtung“, und „vertikale Achsenrichtung“ sollten nicht nur basierend auf einer geometrischen Beziehung, in der die jeweiligen Richtungen senkrecht zueinander sind, interpretiert werden und können als Richtungen gemeint sein, die breitere Direktiven innerhalb des Bereichs, in dem die Komponenten der vorliegenden Offenbarung funktional arbeiten können, aufweisen. Es ist zu verstehen, dass der Begriff „wenigstens eines“ alle Kombinationen enthält, die sich auf ein Element beziehen. Beispielsweise kann „wenigstens eines aus einem ersten Element, einem zweiten Element und einem dritten Element“ sowohl alle Kombinationen aus zwei oder mehr Elementen, die aus dem ersten, dem zweiten und dem dritten Element ausgewählt sind, als auch jedes Element aus dem ersten, dem zweiten und dem dritten Element enthalten. Merkmale verschiedener Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können teilweise oder insgesamt miteinander gekoppelt oder kombiniert sein und können auf verschiedene Weise miteinander zusammenwirken und technisch angetrieben werden, wie Fachleute ausreichend verstehen können. Die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können unabhängig voneinander ausgeführt werden oder können zusammen in einer gegenseitig abhängigen Beziehung ausgeführt werden.
  • Nachstehend wird eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen genau beschrieben.
  • 2 ist eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt.
  • Wie in 2 gezeigt ist, kann die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ein Substrat 100, eine Schaltungsvorrichtungsschicht 200, eine erste Elektrode 300, einen Wall 400, eine Emissionsschicht 510, 520 und 530, eine zweite Elektrode 610, 620 und 630 und eine Verbindungsschicht 700 enthalten.
  • Das erste Substrat 100 kann aus einem Glas- oder Kunststoffmaterial gebildet sein, ist jedoch nicht auf dieses Material beschränkt. Das erste Substrat 100 kann aus einem lichtdurchlässigen oder lichtundurchlässigen Material gebildet sein.
  • Wenn die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung in einem oberen Emissionstyp gebildet ist, in dem sich das emittierte Licht zu einer obere Seite ausbreitet, kann das erste Substrat 100 sowohl aus einem lichtundurchlässigen Material als auch aus einem lichtdurchlässigen Material gebildet sein. Wenn indessen die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung in einem unteren Emissionstyp gebildet ist, in dem sich das emittierte Licht zu einer unteren Seite ausbreitet, kann das erste Substrat 100 aus einem lichtdurchlässigen Material gebildet sein.
  • Die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 ist auf dem Substrat 100 gebildet.
  • Die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 enthält eine aktive Schicht 210, einen Gate-Isolationsfilm 220, eine Gate-Elektrode 230, eine Isolationszwischenschicht 240, eine Source-Elektrode 250a, eine Drain-Elektrode 250b, eine Passivierungsschicht 260 und eine Planarisierungsschicht 270.
  • Die aktive Schicht 210 ist auf dem Substrat 100 gebildet. Die aktive Schicht 210 kann aus einem siliziumbasierten Halbleitermaterial oder oxidbasierten Halbleitermaterial gebildet sein, ist jedoch nicht auf diese Materialien beschränkt. Indessen, obwohl nicht gezeigt, kann zusätzlich eine Lichtschutzschicht zwischen dem Substrat 100 und der aktiven Schicht 210 vorgesehen sein, so dass es möglich ist zu verhindern, dass sich Licht zu der aktiven Schicht ausbreitet, um dadurch eine Verschlechterung der aktiven Schicht 210 zu verhindern.
  • Der Gate-Isolationsfilm 220 ist auf der aktiven Schicht 210 gebildet, um dadurch die aktive Schicht 210 und die Gate-Elektrode 230 voneinander zu isolieren.
  • Die Gate-Elektrode 230 ist auf dem Gate-Isolationsfilm 220 gebildet.
  • Die Isolationszwischenschicht 240 ist auf der Gate-Elektrode 230 gebildet, wobei die Isolationszwischenschicht 240 die Gate-Elektroden 230 von den Source-/Drain-Elektroden 250a/250b isoliert.
  • Die Source-Elektrode 250a ist in einem vorbestimmten Abstand von der Drain-Elektrode 250b vorgesehen, wobei die Source-Elektrode 250a und die Drain-Elektrode 250b, die einander gegenüber liegen oder zueinander weisen, auf der Isolationszwischenschicht 240 vorgesehen sind. Die Source-Elektrode 250a und die Drain-Elektrode 250b sind jeweils mit einem Ende mit der aktiven Schicht 210 über Kontaktlöcher, die in der Isolationszwischenschicht 240 und dem Gate-Isolationsfilm 220 vorgesehen sind, verbunden.
  • Die Passivierungsschicht 260 ist auf der Source-Elektrode 250a und der Drain-Elektrode 250b vorgesehen, um dadurch einen Dünnschichttransistor zu schützen.
  • Die Planarisierungsschicht 270 ist auf der Passivierungsschicht 260 gebildet, um dadurch eine Oberfläche des Substrats 100 zu ebenen.
  • Dementsprechend enthält die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 den Dünnschichttransistor, der die Gate-Elektrode 230, die aktive Schicht 210, die Source-Elektrode 250a und die Drain-Elektrode 250b aufweist. 2 zeigt den Dünnschichttransistor, der eine obere Gate-Struktur aufweist, wo die Gate-Elektrode 230 oberhalb der aktiven Schicht 210 vorgesehen ist, jedoch nicht auf diesen Typ beschränkt ist. Beispielsweise kann der Dünnschichttransistor, der eine untere Gate-Struktur aufweist, wo die Gate-Elektrode 230 unterhalb der aktiven Schicht 210 vorgesehen ist, in der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 vorgesehen sein.
  • In der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 ist durch jedes Pixel eine Schaltungsvorrichtung bereitgestellt, die verschiedene Signalleitungen, einen Dünnschichttransistor und einen Kondensator enthält. Die Signalleitungen können eine Gate-Leitung, eine Datenleitung, eine Stromversorgungsleitung und eine Referenzleitung enthalten, und der Dünnschichttransistor kann einen Schalt-Dünnschichttransistor, einen Ansteuer-Dünnschichttransistor und einen Erfassungs-Dünnschichttransistor enthalten.
  • Dementsprechend wird, wenn der Schalt-Dünnschichttransistor in Überstimmung mit einem Gate-Signal, das der Gate-Leitung zugeführt wird, geschaltet wird, eine Datenspannung, die von der Datenleitung bereitgestellt wird, dem Ansteuer-Dünnschichttransistor durch den Schalt-Dünnschichttransistor zugeführt.
  • Dementsprechend wird, wenn der Ansteuer-Dünnschichttransistor gemäß der Datenspannung, die von dem Schalt-Dünnschichttransistor zugeführt wird, geschaltet wird, ein Datenstrom durch den aus der Stromversorgungsleitung zugeführten Strom erzeugt, und der erzeugte Datenstrom wird der ersten Elektrode 300 zugeführt.
  • Der Erfassungs-Dünnschichttransistor erfasst eine Schwellenspannungsabweichung des Ansteuer-Dünnschichttransistors, die eine Verschlechterung der Bildqualität verursacht. Der Erfassungs-Dünnschichttransistor führt einen Strom des Ansteuer-Dünnschichttransistors in Reaktion auf ein Erfassungssteuersignal, das von der Gate-Leitung oder einer zusätzlichen Erfassungsleitung zugeführt wird, der Referenzleitung zu.
  • Der Kondensator erhält die dem Ansteuer-Dünnschichttransistor zugeführte Datenspannung für eine Rahmenzeitspanne aufrecht. Der Kondensator ist mit jedem der Gate- und Source-Anschlüsse des Ansteuer-Dünnschichttransistors verbunden.
  • Die erste Elektrode 300 ist auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 gebildet. Die erste Elektrode 300 ist pro Pixel strukturiert. Die erste Elektrode 300 funktioniert als eine Anode der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung. Somit besitzt jedes Pixel seine eigene erste Elektrode 300, die von den ersten Elektroden benachbarter Pixel getrennt oder isoliert ist.
  • Wenn die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung einem oberen Emissionstyp gebildet ist, kann die erste Elektrode 300 ein reflektierendes Material zum Reflektieren des Lichts, das aus der Emissionsschicht 500 emittiert wird, nach oben enthalten. In diesem Fall kann die erste Elektrode 300 in einer Abscheidestruktur gebildet sein, die das reflektierende Material und lichtdurchlässiges leitfähiges Material enthält. Wenn die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung in einem unteren Emissionstyp gebildet ist, kann die erste Elektrode 300 aus dem lichtdurchlässigen leitfähigen Material gebildet sein.
  • Die erste Elektrode 300 ist mit der Drain-Elektrode 250b des Dünnschichttransistors über ein in der Planarisierungsschicht 270 und der Passivierungsschicht 260 vorgesehenes Kontaktloch verbunden. In einigen Fällen kann erste Elektrode 300 ist mit der Source-Elektrode 250a des Dünnschichttransistors über ein Kontaktloch in der Planarisierungsschicht 270 und der Passivierungsschicht 260 vorgesehenes verbunden sein.
  • Der Wall 400 ist in einer Matrixkonfiguration gebildet, so dass er Grenzlinie zwischen jedem der mehreren Pixel definiert, um dadurch ein Emissionsgebiet E1, E2 oder E3 in jedem der mehrere Pixel zu definieren. Das heißt, ein Öffnungsabschnitt, wo der Wall 400 nicht gebildet ist, in jedem Pixel wird zu den Emissionsgebieten E1, E2 und E3.
  • Der Wall 400 bedeckt beide Enden der ersten Elektrode 300, und der Wall 400 ist auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 gebildet. Somit können die mehreren ersten Elektroden 300, die für die mehreren Pixel strukturiert sind, durch den Wall 400 voneinander isoliert sein. Der Wall 400 ist in Kontakt mit der Schaltungsvorrichtungsschicht 200, insbesondere der Planarisierungsschicht 270, in einem Gebiet zwischen zwei benachbarten ersten Elektroden 300, um sie zu trennen.
  • Der Wall 400 kann aus einem organischen Isolationsmaterial, das die hydrophile Eigenschaft besitzt, gebildet sein. In diesem Fall verbreitet sich die Emissionsschicht 510, 520 und 530 gleichmäßig zu einer seitlichen Oberfläche des Walls 400, so dass es möglich ist, die Gleichmäßigkeit der Emissionsgebiete E1, E2 und E3 zu verwirklichen.
  • Indessen, falls das gesamte Gebiet des Walls 400 die hydrophile Eigenschaft besitzt, läuft die Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in irgendeinem Emissionsgebiet E1, E2 oder E3 gebildet ist, in das benachbarte Emissionsgebiet E1, E2 oder E3 über eine Oberseite des Walls 400 über, wodurch die Emissionsschicht 510, 520 und 530,die in irgendeinem anderen Emissionsgebiet E1,. E2 oder E3 gebildet ist, mit der Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in dem benachbarten Emissionsgebiet E1, E2 oder E3 gebildet ist, gemischt werden kann. Somit besitzt die Oberseite des Walls 400 vorzugsweise die hydrophobe Eigenschaft, um das Mischen der benachbarten Emissionsschichten 510, 520 und 533 zu verhindern.
  • Zu diesem Zweck kann der Wall 400 durch Beschichten einer Mischlösung aus einem organischen Isolationsmaterial, das die hydrophile Eigenschaft besitzt, und einem hydrophoben Material wie z. B. Fluor und Strukturieren der beschichten Mischlösung durch Verwendung eines Photolithographieprozesses erhalten werden. Durch Licht, das für den Photolithographieprozess eingestrahlt wird, kann sich das hydrophobe Material wie z. B. Fluor zu einem oberen Abschnitt des Walls 400 verlagern, wodurch der obere Abschnitt des Walls 400 die hydrophobe Eigenschaft besitzen kann, und die verbleibenden Abschnitte des Walls 400 können die hydrophile Eigenschaft besitzen. In diesem Fall besitzt die Oberseite des Walls 400 die hydrophob Eigenschaft, so dass es möglich ist, das Ausbreiten der benachbarten Emissionsschichten 510, 520 und 530 in die Oberseite des Walls in gewissem Maß zu herabzusetzen und dadurch ein Problem zu reduzieren, das mit der Mischung der benachbarten Emissionsschichten 510, 520 und 530 zusammenhängt.
  • Die Emissionsschicht 510, 520 und 530 ist auf der ersten Elektrode 300 gebildet. Im Einzelnen ist die Emissionsschicht 510, 520 und 530 in dem Emissionsgebiet E1, E2 und E3, das durch den Wall 400 definiert ist, gebildet.
  • Die Emissionsschicht 510, 520 und 530 ist in jedem der Emissionsgebiete E1, E2 bzw. E3 durch einen Lösungsprozess ohne Verwendung einer Maske strukturiert. In diesem Fall ist eine Höhe h1 eines oberen Endes der Emissionsschicht 510, 502 und 530 in der Mitte des Emissionsgebiets E1, E2 und E3 nach dem Trocknungsprozess der Lösung zum Bilden der Emissionsschicht 510, 520 und 530 niedriger als eine Höhe h2 eines oberen Endes der Emissionsschicht 510, 520, und 530 am Ende des Emissionsgebiets E1, E2 und E3 und insbesondere am Ende des Emissionsgebiets E1, E2 und E3, das in Kontakt mit dem Wall 400 ist. Insbesondere, wie in den Zeichnungen gezeigt ist, ist es dementsprechend, da die Höhe der Emissionsschicht 510, 520 und 520 von dem Ende des Emissionsgebiets E1, E2 und E3, das in Kontakt mit dem Wall 400 ist, zu der Mitte des Emissionsgebiets E1, E2 und E3 allmählich erniedrigt wird, möglich, eine allmählich erniedrigte Profilform zu verwirklichen.
  • Die Emissionsschichten 510, 520 und 530 können die erste Emissionsschicht 510, die in dem ersten Emissionsgebiet E1 des ersten Pixels vorgesehen ist, die zweite Emissionsschicht 520, die in dem zweiten Emissionsgebiet E2 des zweiten Pixels vorgesehen ist, und die dritte Emissionsschicht 530, die in dem dritten Emissionsgebiet E3 des dritten Pixels vorgesehen ist, enthalten.
  • Die erste Emissionsschicht 510 kann eine Lochinjektionsschicht HIL, eine Lochtransportschicht HTL und eine Rot emittierende Materialschicht EML(R) enthalten. Die zweite Emissionsschicht 520 kann eine Lochinjektionsschicht HIL, eine Lochtransportschicht HTL und eine Grün emittierende Materialschicht EML(G) enthalten. Die dritte Emissionsschicht 530 kann eine Lochinjektionsschicht HIL, eine Lochtransportschicht HTL und eine Blau emittierende Materialschicht EML(B) enthalten.
  • Die Lochinjektionsschicht HIL ist in jedem aus dem ersten bis dritten Emissionsgebiet E1, E2 und E3 durch den Lösungsprozess gebildet, wobei die Lochinjektionsschicht HIL in jeder aus der ersten Emissionsschicht 510, der zweiten Emissionsschicht 520 und der dritten Emissionsschicht 530 enthalten ist. Die Lochtransportschicht HTL ist in jedem aus dem ersten bis dritten Emissionsgebiet E1, E2 und E3 durch den Lösungsprozess gebildet, wobei die Lochtransportschicht HTL in jeder aus der ersten Emissionsschicht 510, der zweiten Emissionsschicht 520 und der dritten Emissionsschicht 530 enthalten ist. Die Rot emittierende Materialschicht EML(R), die Grün emittierende Materialschicht EML(G) und die Blau emittierende Materialschicht EML(B) sind jeweils in den ersten bis dritten Emissionsgebieten E1, E2 und E3 durch den Lösungsprozess gebildet, wobei die Rot emittierende Materialschicht EML(R), die Grün emittierende Materialschicht EML(G) und die Blau emittierende Materialschicht EML(B) jeweils in der ersten Emissionsschicht 510, der zweiten Emissionsschicht 520 und der dritten Emissionsschicht 530 enthalten sind.
  • Jede der Emissionsschichten 510, 520 und 530 enthält die Lochinjektionsschicht HIL und die Lochtransportschicht HTL, um Löcher, die in der ersten Elektrode 300 erzeugt werden, zu jeder aus der Rot emittierenden Materialschicht EML(R), der Grün emittierenden Materialschicht EML(G) und der Blau emittierenden Materialschicht EML(B) zu übertragen.
  • Jede der Emissionsschichten 510, 520 und 530 enthält keine Elektroneninjektonsschicht EIL und Elektronentransportschicht ETL, um Elektronen, die in der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 erzeugt werden, zu jeder aus der Rot emittierenden Materialschicht EML(R), der Grün emittierenden Materialschicht EML(G) und der Blau emittierenden Materialschicht EML(B) zu übertragen. In einigen Fällen kann wenigstens eine aus der Elektroneninjektonsschicht EIL und der Elektronentransportschicht ETL in jeder der Emissionsschichten 510, 520 und 530 enthalten sein.
  • Die zweite Elektrode 610, 620 und 630 ist auf der Emissionsschicht 510, 520 und 530 gebildet. Die zweite Elektrode 610, 620 und 630 kann als eine Kathode der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung dienen.
  • Auf die gleiche Weise wie die Emissionsschicht 510, 520 und 530 kann die zweite Elektrode 610, 620 und 630 in jedem Emissionsgebiet E1, E2 und E3 durch einen Lösungsprozess ohne Verwendung einer Maske strukturiert sein. Somit ist die zweite Elektrode 610 auf der ersten Emissionsschicht 510 des ersten Emissionsgebiets E1 gebildet, die zweite Elektrode 620 ist auf der zweiten Emissionsschicht 520 des zweiten Emissionsgebiets E2 gebildet, und die zweite Elektrode 630 ist auf der dritten Emissionsschicht 520 der dritten Emissionsschicht E3 gebildet.
  • Wie vorstehend beschrieben kann, falls die Elektroneninjektonsschicht EIL und die Elektronentransportschicht ETL nicht in der Emissionsschicht 510, 520 und 530 enthalten sind, die zweite Elektrode 610, 620 und 630 ein Material enthalten, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt. Im Einzelnen kann die zweite Elektrode 610, 620 und 630 ein leitfähiges Material wie z. B. Silber (Ag) enthalten, so dass die zweite Elektrode 610, 620 und 630 als die Kathode der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung dienen kann. Zum Verwirklichen der Elektroneninjektionseigenschaft und der Elektronentransporteigenschaft kann die zweite Elektrode 610, 620 und 630 wenigstens eines aus einem Alkalimaterial, einem Metalloxid und einem Metallkarbonat enthalten. Die zweite Elektrode 610, 620 und 630 kann durch Mischen wenigstens eines aus dem Alkalimaterial, dem Material und dem Metallkarbonat mit Tinte, die Silber (Ag) enthält, und Ausführen des Lösungsprozesses mit dem vorstehenden Mischmaterial unter Verwendung einer Tintenstrahleinrichtung erhalten werden.
  • Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung können die Emissionsschicht 510, 520 und 530 und die zweite Elektrode 610, 620 und 630 durch den Lösungsprozess gebildet werden, so dass es möglich ist, die Herstellungskosten und die Prozesszeit zu reduzieren. Insbesondere enthält die zweite Elektrode 610, 620 und 630 das Material, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt, so dass es möglich ist, die Elektroneninjektonsschicht und die Elektronentransportschicht aus der Emissionsschicht 510, 520 und 530 zu entfernen und dadurch eine Prozesszeit zum Bilden der Emissionsschicht 510, 520 und 530 beträchtlich zu verkürzen.
  • Wenn die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung in einem oberen Emissionstyp gebildet ist, kann die zweite Elektrode 610, 620 und 630 aus einem lichtdurchlässigen leitfähigen Material gebildet sein zum Lenken des Lichts, das aus der Emissionsschicht 510, 520 und 530 emittiert wird, nach oben, oder kann mit einer sehr dünnen Dicke gebildet sein, um die Lichtdurchlässigkeit zu verbessern. Wenn die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung einem unteren Emissionstyp gebildet ist, kann die zweite Elektrode 610, 620 und 630 ein reflektierendes Material zum Reflektieren des Lichts, das aus der Emissionsschicht 510, 520 und 530 emittiert wird, nach unten enthalten.
  • Dementsprechend weist, da die zweite Elektrode 610, 620 und 630 durch den Lösungsprozess gebildet ist, die zweite Elektrode 610, 620 und 630 ein Profil auf, das dem Profil der Emissionsschicht 510, 520 und 530 entspricht.
  • Außerdem sind dementsprechend, da die zweite Elektrode 610, 620 und 630 in jedem Emissionsgebiet E1, E2 und E3 gebildet ist, die zweite Elektrode 610, die auf der ersten Emissionsschicht 510 gebildet ist, die zweite Elektrode 620, die auf der zweiten Emissionsschicht 520 gebildet ist, und die zweite Elektrode 630, die auf der dritten Emissionsschicht gebildet ist, voneinander getrennt, ohne miteinander verbunden zu sein.
  • Da die zweite Elektrode 610, die auf der ersten Emissionsschicht E1 gebildet ist, die zweite Elektrode 620, die auf der zweiten Emissionsschicht 520 gebildet ist, und die zweite Elektrode 630, die auf der dritten Emissionsschicht 530 gebildet ist, durch die Verbindungsschicht 700 miteinander verbunden sind, kann eine gemeinsame Spannung an jede der zweiten Elektroden 610, 620 und 630 angelegt werden. Somit ist die Verbindungsschicht 700 aus einem leitfähigen Material gebildet.
  • Die Verbindungsschicht 700 ist von den zweiten Elektroden unterscheidbar und ist auf der Oberseite des Walls 400 vorgesehen und erstreckt sich zu der zweite Elektrode 610, 620 und 630, wodurch die zweiten Elektroden 610, 620 und 630 elektrisch miteinander verbunden sein können. Die Verbindungsschicht 700 erstreckt sich zu einer Oberseite der zweiten Elektrode 610, 620 und 630. Falls die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der vorliegenden Offenbarung in dem oberen Emissionstyp gebildet ist, kann die Verbindungsschicht 700 aus einem lichtdurchlässigen leitfähigen Material gebildet sein, um das Verringern der Lichtdurchlässigkeit zu verhindern. Wenn indessen die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der vorliegenden Offenbarung unteren Emissionstyp gebildet ist, kann die Verbindungsschicht 700 aus einem lichtundurchlässigen leitfähigen Material gebildet sein. Die Struktur der Verbindungsschicht 700 wird mit Bezug auf 3 leicht verstanden.
  • Obwohl in den Figuren nicht gezeigt kann zusätzlich eine Einkapselungsschicht auf der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 gebildet sein. Die Einkapselungsschicht verhindert, dass externe Feuchtigkeit in die Emissionsschicht 510, 520 und 530 eindringt. Die Einkapselungsschicht kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial gebildet sein oder kann in einer Abscheidestruktur gebildet sein, die durch alternierendes Abscheiden eines organischen Isolationsmaterials und eines organischen Isolationsmaterials erhalten wird, ist jedoch nicht auf diese Strukturen beschränkt.
  • 3 ist eine Draufsicht, die die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt.
  • Wie in 3 gezeigt ist, ist der Wall 400 in der Matrixkonfiguration auf dem Substrat 100 gebildet, um dadurch das erste Emissionsgebiet E1, das zweite Emissionsgebiet E2 und das dritte Emissionsgebiet E3 zu definieren. Zur Bezugnahme ist der Wall auf 3 mit schrägen Linien gekennzeichnet.
  • Die erste Emissionsschicht 510 und die zweite Elektrode 610 sind in dem ersten Emissionsgebiet E1 gebildet, die zweite Emissionsschicht 520 und die zweite Elektrode 620 sind in dem zweiten Emissionsgebiet E2 gebildet, und die dritte Emissionsschicht 530 und die dritte Elektrode 630 sind in dem dritten Emissionsgebiet E3 gebildet.
  • Die Verbindungsschicht 700 ist auf der Oberseite des Walls 400 gebildet, während sie mit dem Wall 400 überlappt. Die Verbindungsschicht 700 kann mehrere erste Verbindungsleitungen 710, mehrere zweite Verbindungsleitungen 720, mehrere erste Verbindungselektroden 715, mehrere zweite Verbindungselektroden 725 und eine dritte Verbindungsleitung 730 enthalten. Die Dicke der Verbindungsschicht kann aufgrund eines variierenden Profils einer Struktur, auf der sie gebildet ist, variieren. Die Dicke der Verbindungsschicht 700, wenn sie auf einer Oberfläche parallel zu der Oberseite des Substrats 100 gebildet ist, ist typischerweise kleiner als die zweite Elektrode 600.
  • Die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 erstrecken sich in einer ersten Richtung auf der Oberseite des Walls 400, beispielsweise einer horizontalen Richtung. Die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720 erstrecken sich in einer zweiten Richtung auf der Oberseite des Walls 400, beispielsweise einer vertikalen Richtung.
  • Jede der mehreren ersten Verbindungselektroden 715 verbindet die erste Verbindungsleitung 710 und die zweite Elektrode 610, 620 und 630 miteinander, und jede der mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 verbindet die zweite Verbindungsleitung 720 und die zweite Elektrode 610, 620 und 630 miteinander. Dementsprechend kann sich jede der mehreren ersten Verbindungselektroden 715 und jede der mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 zu der Oberseite der zweiten Elektroden 610, 620 und 630 auf der Oberseite des Walls 400 erstrecken.
  • Die dritte Verbindungsleitung 730 verbindet die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 mit den mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720. Die dritte Verbindungsleitung 730 kann in der Peripherie des Walls 400 gebildet sein, beispielsweise einem Kontaktstellengebiet, das mit einem Schaltungstreiber verbunden ist. Die dritte Verbindungsleitung 730 kann in der Peripherie eines aktiven Gebiets zum Anzeigen eines Bilds vorgesehen sein und so vorgesehen sein, dass sie das aktive Gebiet umgibt.
  • Die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710, die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720, die mehreren ersten Verbindungselektroden 715, die mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 und die dritte Verbindungsleitung 730 können aus dem gleichen Material gebildet sein und können durch denselben Prozess hergestellt sein, jedoch nicht notwendigerweise. Die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710, die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720 und die dritte Verbindungsleitung 730 können aus einem Metallmaterial hergestellt sein, das eine hohe Leitfähigkeit aufweist, und können durch denselben Prozess hergestellt sein. Die mehreren ersten Verbindungselektroden 715 und die mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 können aus einem lichtdurchlässigen leitfähigen Material hergestellt sein und können durch denselben Prozess hergestellt sein.
  • Die Verbindungsschicht 700 kann zu verschiedenen Strukturen verändert sein, die zum elektrischen Verbinden der mehreren zweiten Elektroden 610, 620 und 630 miteinander fähig sind. Beispielsweise ist es möglich, die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 und die mehreren ersten Verbindungselektroden 715 wegzulassen, die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720 und die mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 wegzulassen und die dritte Verbindungsleitung 730 wegzulassen.
  • 4 ist eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt. Außer einer Struktur des Walls 400 ist die in 4 gezeigte Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gleich der Struktur der in 2 gezeigten Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, wodurch die gleichen Bezugszeichen durchgehend durch die Zeichnungen verwendet werden, um die gleichen Teile zu bezeichnen. Nachstehend werden nur die unterschiedlichen Strukturen im Einzelnen wie folgt beschrieben.
  • Bezug nehmend auf 4 enthält der Wall 400 einen ersten Wall 410 und einen zweiten Wall 420.
  • Der Erste Wall 410 bedeckt ein Ende einer ersten Elektrode 300, und der erste Wall 410 ist auf einer Schaltungsvorrichtungsschicht 200 gebildet. Eine Dicke des ersten Walls 410 ist relativ kleiner als eine Dicke des zweiten Walls 420, und eine Breite des ersten Walls 410 ist relativ größer als eine Breite des zweiten Walls 420. Die Höhe ist in einer Richtung senkrecht zu der Oberfläche des Substrats gemessen, und die Breite ist in einer Richtung parallel zu der Oberfläche des Substrats gemessen. Auf die gleiche Weise wie eine Emissionsschicht 510, 520 und 530 besitzt der erste Wall, der die vorstehende Struktur aufweist, die hydrophile Eigenschaft. Der erste Wall 410, der die hydrophile Eigenschaft besitzt, kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid gebildet sein. Somit kann sich, wenn die Emissionsschicht 510, 520 und 530 durch einen Lösungsprozess gebildet wird, eine Lösung zum Bilden der Emissionsschicht 510, 520 und 530 leicht auf dem ersten Wall 410 verteilen.
  • Die Höhe (h1) einer Emissionsschicht ist von der Oberseite der ersten Elektrode 300 gemessen. Die Höhe einer zweiten Elektrode 600 ist ebenfalls von der Oberseite der ersten Elektrode 300 gemessen. Die Höhe eines Walls 400 ist von der Oberseite der Planarisierungsschicht 270 gemessen. Der Rand des Emissionsgebiets kann als die Oberseite des Emissionsgebiets, die in direktem Kontakt mit dem Wall ist, betrachtet werden. Die Oberseite eines Merkmals ist die Oberfläche des Merkmals, die am weitesten von dem ersten Substrat entfernt und parallel zu der Oberfläche des Substrats ist.
  • Der zweite Wall 420 ist auf dem ersten Wall 410 gebildet. Die Breite des zweiten Walls 420 ist kleiner als die Breite des ersten Walls 410. Der zweite Wall kann 420 durch Beschichten einer Mischlösung aus einem organischen Isolationsmaterial, das die hydrophile Eigenschaft besitzt, und einem hydrophoben Material wie z. B. Fluor und Strukturen der beschichten Mischlösung durch Verwendung eines Photolithographieprozesses erhalten werden. Durch das Licht, das für den Photolithographieprozess eingestrahlt wird, kann sich das hydrophobe Material wie z. B. Fluor zu einem oberen Abschnitt des zweiten Walls 420 verlagern, wodurch der obere Abschnitt des zweiten Walls 420 die hydrophobe Eigenschaft besitzt und die verbleibenden Abschnitte des zweiten Walls 420 die hydrophile Eigenschaft besitzen. Das heißt, der untere Abschnitt des zweiten Walls 420, der in Kontakt mit dem ersten Wall 410 ist, besitzt die hydrophile Eigenschaft, und der obere Abschnitt des zweite Walls 420 besitzt die hydrophobe Eigenschaft, ist jedoch nicht auf diese Struktur beschränkt. Beispielsweise können alle Abschnitte des zweiten Walls 420 die hydrophobe Eigenschaft besitzen.
  • Hier kann die Ausbreitungsfähigkeit der Lösung zum Bilden der Emissionsschicht 510, 520, 530 verbessert werden, was darauf zurückzuführen ist, dass der erste Wall 410 die hydrophile Eigenschaft besitzt und der untere Abschnitt des zweiten Walls die hydrophile Eigenschaft besitzt. Insbesondere ist es, da der erste Wall 410 die relativ kleinere Dicke und die relativ größere Breite im Vergleich zu dem zweiten Wall aufweist, möglich, eine 2-Stufen-Struktur der hydrophilen Eigenschaft durch die Kombination des ersten Walls 410 und des zweiten Walls 410 vorzubereiten, wodurch sich die Lösung zum Bilden der Emissionsschicht 510. 520 und 530 leicht zu dem linken und rechten Ende des Emissionsgebiets E1, E2 und E3 ausbreiten kann.
  • Außerdem verhindert der obere Abschnitt des zweiten Walls 420, der die hydrophobe Eigenschaft besitzt, dass sich die Lösung zum Bilden der Emissionsschicht 510 520 und 530 zu einem anderen benachbarten Emissionsgebiet E1, E2 und E3 ausbreitet, so dass es möglich ist zu verhindern, dass die Emissionsschicht 510, 520 und 530 eines Emissionsgebiets E2, E2 und E3 mit der Emissionsschicht 510., 520 und 530 eines anderen benachbarten Emissionsgebiets E1, E2 und E3 vermischt wird.
  • Der erste Wall oder der zweite Wall können eine lineare Struktur in dem aktiven Gebiet aufweisen. Eine lineare Struktur ist eine gerade Struktur, d. h. der Wall erstreckt sich entlang einer ersten Richtung und weist einen konstanten Querschnitt senkrecht zu der ersten Richtung auf. Der erste Wall kann als eine Gitterstruktur gebildet sein, die eine Struktur ist, die eine einzelne Schicht umfasst, die mehrere regelmäßige Öffnungen aufweist, die typischerweise rechteckige Öffnungen sind, die in einer rechteckigen Anordnung angeordnet sind, die eine regelmäßige Struktur von Emissionsgebieten in dem aktiven Gebiet definieren. Eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung kann mehrere zweite Wälle mit linearer Struktur aufweisen, die zueinander parallel sind und die oben auf dem ersten Wall gebildet sind, der eine Gitterstruktur aufweist. Eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung kann mehrere zweite Wälle mit linearer Struktur aufweisen, die zueinander parallel sind und die oben auf mehreren ersten Wällen von linearer Struktur gebildet sind, die zueinander parallel und senkrecht zu der linearen Struktur der zweiten Wälle sind. Ein Wall mit einer parallelen Struktur kann eine solche Struktur nur in dem aktiven Gebiet aufweisen. In einigen Fällen kann ein Wall aus mehreren linearen Strukturen gebildet sein, die zueinander parallel sind und in dem Dummy-Gebiet, das das aktive Gebiet umgibt, verbunden sein, was ein schlangenförmiges Muster bildet.
  • 5 ist eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt. Außer einer Struktur einer zweiten Elektrode 610, 620 und 630 ist die in 5 gezeigte Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gleich der Struktur der in 2 gezeigten Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, wodurch die gleichen Bezugszeichen durchgehend durch die Zeichnungen verwendet werden, um die gleichen Teile zu bezeichnen. Nachstehend werden nur die unterschiedlichen Strukturen im Einzelnen wie folgt beschrieben.
  • Wie in 5 gezeigt, ist gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung eine erste Dicke T1 einer zweiten Elektrode 610, die in einem erste Emissionsgebiet E1 vorgesehen ist, größer als eine zweite Dicke T2 einer zweiten Elektrode 620, die in einem zweiten Emissionsgebiet E2 vorgesehen ist, und eine dritte Dicke T3 einer zweiten Elektrode 630, die in dem dritten Emissionsgebiet E3 vorgesehen ist. Zusätzlich ist die zweite Dicke (T2) der zweiten Elektrode 620, die in dem zweiten Emissionsgebiet (E2) vorgesehen ist, größer als die dritte Dicke (T3) der zweiten Elektrode 630, die in dem dritten Emissionsgebiet (E3) vorgesehen ist. In dieser Spezifikation geben die Dicken T1, T2 und T3 der zweiten Elektroden 610, 620 und 630 jeweils die Dicke in der Mitte jedes Emissionsgebiets E1, E2 und E3 an.
  • Wenn die Dicke T1, T2 und T3 der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 groß ist, kann ein elektrischer Widerstand reduziert sein. Somit ist die Zunahme der Dicke T1, T2 und T3 in der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 vorzugsweise für die Reduktion des Widerstands vorteilhaft. Wenn die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der vorliegenden Offenbarung jedoch in einem oberen Emissionstyp gebildet ist, kann die Zunahme der Dicke T1, T2 und T3 der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 die Lichtdurchlässigkeit verringern. Somit muss die Dicke T1, T2 und T3 der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 unter Berücksichtigung der Lichtdurchlässigkeit bestimmt werden.
  • 6 ist ein Diagramm, das die Änderung der Lichtdurchlässigkeit für jeden Wellenlängenbereich gemäß einer Änderung der zweiten Elektrode gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zeigt. Das Diagramm von 6 zeigt Ergebnisse, die durch Ändern der Dicke der zweiten Elektrode 610, 620 und 630, die ein Alkalimaterial wie z. B. MgAg (Legierung aus Magnesium und Silber) enthält, auf 5,0 nm ~ 20,0 nm erhalten werden.
  • Wie in 6 gezeigt ist, wird, wenn die Dicke der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 erhöht wird, dementsprechend die Lichtdurchlässigkeit verringert. Insbesondere ist die Lichtdurchlässigkeit in einem Bereich kurzer Wellenlängen am niedrigsten, die Lichtdurchlässigkeit in einem Bereich langer Wellenlängen ist am höchsten, und die Lichtdurchlässigkeit in einem Bereich mittlerer Wellenlängen ist in der Mitte.
  • Unter Berücksichtigung des Unterschieds der Lichtdurchlässigkeit für jeden Wellenlängenbereich ist, wie in 5 gezeigt ist, die erste Dicke T1 der zweiten Elektrode 610, die in dem ersten Emissionsgebiet E1 zum Emittieren von Licht roter Farbe, das dem Bereich langer Wellenlängen entspricht, vorgesehen ist, am größten, die dritte Dicke T3 der zweiten Elektrode 630, die in dem dritten Emissionsgebiet E3 zum Emittieren von Licht blauer Farbe, das dem Bereich kurzer Wellenlängen entspricht, vorgesehen ist, ist am kleinsten, und die Dicke T2 der zweiten Elektrode 620, die in dem zweiten Emissionsgebiet E2 zum Emittieren von Licht grüner Farbe, das dem Bereich mittlerer Wellenlängen entspricht, vorgesehen ist, ist in der Mitte zwischen der erste Dicke T1 und der zweiten Dicke T3.
  • Mit mehr Einzelheiten wird, wenn die Lichtdurchlässigkeit jedes Emissionsgebiets E1, E2 und E3 auf 70 % oder mehr als 70 % eingestellt ist, ein Verfahren zum Einstellen der Dicke T1, T2 und T3 in jeder zweiten Elektrode 610, 620 und 630 wie folgt beschrieben.
  • Zuerst kann in dem Fall des ersten Emissionsgebiets E1 zum Emittieren des Lichts, das den Bereich langer Wellenlängen aufweist, die erste Dicke T1 der zweiten Elektrode 610 in Bezug auf den Wellenlängenbereich von 625 nm eingestellt sein. In diesem Fall, wenn die erste Dicke T1 der zweiten Elektrode 610 auf 17 nm oder weniger als 17 nm eingestellt ist, ist es möglich, die Lichtdurchlässigkeit von 70 % oder mehr als 70 % beizubehalten. Dann kann in dem Fall des zweiten Emissionsgebiets E2 zum Emittieren des Lichts, das den Bereich mittlerer Wellenlängen aufweist, die zweite Dicke T2 der zweiten Elektrode 620 in Bezug auf den Wellenlängenbereich von 525 nm eingestellt sein. In diesem Fall, wenn die zweite Dicke T2 der zweiten Elektrode 620 auf 12 nm oder weniger als 12 nm eingestellt ist, ist es möglich, die Lichtdurchlässigkeit von 70 % oder mehr als 70 % beizubehalten. Dann kann in dem Fall des dritten Emissionsgebiets E3 zum Emittieren des Lichts, das den Bereich kurzen Wellenlängen aufweist, die dritte Dicke T3 der zweiten Elektrode 630 in Bezug auf den Wellenlängenbereich von 450 nm eingestellt sein. In diesem Fall, wenn die dritte Dicke T3 der zweiten Elektrode 630 auf 6 nm oder weniger als 6 nm eingestellt ist, ist es möglich, die Lichtdurchlässigkeit von 70 % oder mehr als 70 % beizubehalten. Dementsprechend kann die Dicke T1, T2 und T3 jeder zweiten Elektrode 610, 620 und 630 unter Berücksichtigung des Wellenlängenbereichs der Lichtdurchlässigkeit in einer konstruierten Anzeigevorrichtung eingestellt werden.
  • Indessen wird unter Berücksichtigung eines Widerstands der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 die Dicke T1, T2 und T3 der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 vorzugsweise auf 1 nm oder mehr als 1 nm eingestellt. Somit, falls die Lichtdurchlässigkeit auf 70 % oder mehr als 70 % eingestellt ist, ist vorzugsweise die erste Dicke T1 der zweite Elektrode 610, die in dem ersten Emissionsgebiet E1 vorgesehen ist, so eingestellt, dass sie im Bereich von 1 nm bis 17 nm ist, die zweite Dicke T2 der zweiten Elektrode 620, die in dem zweiten Emissionsgebiet E2 vorgesehen ist, ist so eingestellt, dass sie in einem Bereich von 1 nm bis 12 nm ist, und die dritte Dicke T3 der zweiten Elektrode 630, die in dem dritten Emissionsgebiet E3 vorgesehen ist, ist so eingestellt, dass sie in einem Bereich von 1 nm bis 6 nm ist.
  • Anstelle der oder zusätzlich zu der Variation der Dicke kann die Lichtdurchlässigkeit der zweiten Elektroden 610, 620 und 630 in unterschiedlichen Emissionsgebieten variieren. Es können drei Emissionsgebiete vorhanden sein, die Gebieten entsprechen, die rotes, grünes und blaues Licht emittieren, von denen jedes eine entsprechende zweite Elektrode aufweist. Die Lichtdurchlässigkeit der zweiten Elektrode in dem blauen Gebiet kann größer sein als die Lichtdurchlässigkeit der zweiten Elektrode in dem grünen Gebiet. Die Lichtdurchlässigkeit der zweiten Elektrode in dem grünen Gebiet kann wiederum größer sein als die Lichtdurchlässigkeit der zweiten Elektrode in dem roten Gebiet. Die Variation der Lichtdurchlässigkeit kann durch eine Variation der Dicke der zweiten Elektrode, durch eine Variation der Materialeigenschaften der zweiten Elektrode in den Emissionsgebieten oder durch Auswählen eines Materials für die zweite Elektrode, das rotes Licht mehr als grünes Licht dämpft und das grünes Licht mehr als blaues Licht dämpft, gebildet sein. Durch die Variation der Lichtdurchlässigkeit und/oder der Dicke kann die Lichtdämpfung optimiert werden, und dadurch wird die Qualität von Bildern, die durch die Anzeigevorrichtung gebildet werden, verbessert.
  • Obwohl nicht im Einzelnen gezeigt kann der Wall 400 von 5 den ersten Wall 410 und den zweiten Wall 420 enthalten, wie in 4 gezeigt ist.
  • 7 ist eine Draufsicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt, die sich auf eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung bezieht, die ein aktives Gebiet AA, ein Dummy-Gebiet DA und ein Kontaktstellengebiet PA enthält.
  • Das aktive Gebiet AA funktioniert als ein Anzeigegebiet zum Anzeigen eines Bilds. In dem aktiven Gebiet AA ist ein Wall vorgesehen, um ein erstes Emissionsgebiet E1, ein zweites Emissionsgebiet E2 und ein drittes Emissionsgebiet E3 zu definieren, wobei eine erste Emissionsschicht 510 und eine zweite Elektrode 610 in dem erste Emissionsgebiet E1 vorgesehen sind, eine zweite Emissionsschicht 520 und eine zweite Elektrode 620 in dem zweiten Emissionsgebiet E2 vorgesehen sind, und eine dritte Emissionsschicht 530 und eine zweite Elektrode 630 in dem dritten Emissionsgebiet E3 vorgesehen sind.
  • Das Dummy-Gebiet DA ist so vorgesehen, dass es das aktive Gebiet AA umgibt. Im Einzelnen ist das Dummy-Gebiet DA auf den linken, rechten, unteren und oberen peripheren Seiten des aktiven Gebiets AA vorgesehen. Auf die gleiche Weise wie das aktive Gebiet AA ist in dem Dummy-Gebiet DA ein Wall 400 zum Definieren eines Dummy-Emissionsgebiets DE vorhanden. Außerdem sind eine Dummy-Emissionsschicht 550 und eine zweite Dummy-Elektrode 650 in dem Dummy-Emissionsgebiet DE vorhanden. Der Wall ist in einer Matrixkonfiguration auf dem gesamten aktiven Gebiet AA und dem Dummy-Gebiet DA gebildet und definiert dadurch das Emissionsgebiet E1, E2 und E3 und das Dummy-Emissionsgebiet DE. In 7 ist der Wall 400 als eine schräge Linie markiert.
  • Das Dummy-Gebiet DA ist nicht das Anzeigegebiet zum Anzeigen eines Bilds, so dass in dem Dummy-Emissionsgebiet DE des Dummy-Pixels, das in dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen ist, keine Lichtemission erzeugt wird. Das Dummy-Gebiet DA ist vorgesehen, um ein gleichmäßiges Profil zwischen der Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in der Mitte des aktiven Gebiets gebildet ist, und der Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in der Peripherie des aktiven Gebiets AA gebildet ist, zu verwirklichen.
  • Wenn die Emissionsschicht 510. 520 und 530 durch einen Lösungsprozess gebildet wird, kann sie einen Unterschied zwischen einer Trocknungsgeschwindigkeit der Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in der Mitte eines Substrats gebildet ist, und einer Trocknungsgeschwindigkeit der Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in dem Rand des Substrats gebildet ist, verursachen. Somit können, wenn nur das aktive Gebiet AA ohne das Dummy-Gebiet DA gebildet wird, das Profil der Emissionsschicht 510, 520 und 530, die in der Mitte des aktiven Gebiets AA gebildet ist, und das Profil der Emissionsschicht 510. 520 und 530, die am Rand des aktiven Gebiets AA gebildet ist, ungleichmäßig sein, wodurch die Lichtemission in der Mitte des aktiven Gebiets AA und die Lichtemission am Rand des aktiven Gebiets ungleichmäßig sein können.
  • Somit wird gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, wenn das Dummy-Gebiet DA in der Peripherie des aktiven Gebiets AA gebildet wird und die Emissionsschicht 510, 520 und 530 in dem aktiven Gebiet AA durch den Lösungsprozess gebildet wird, auch die Dummy-Emissionsschicht 550 in dem Dummy-Gebiet DA durch den Lösungsprozess gebildet. In diesem Fall ist es, selbst wenn das Profil der Dummy-Emissionsschicht 550 und das Profil der Emissionsschicht 510, 520 und 530 ungleichmäßig sind, möglich, das gleichmäßige Profil der Emissionsschicht 510, 520 und 530 in dem gesamten aktiven Gebiet AA zu realisieren. Als Referenz ist in 7 die Dummy-Emissionsschicht 550, in der keine Lichtemission erzeugt wird, als ‚D‘ gekennzeichnet, um die Emissionsschicht 510, 520 und 530 zum Emittieren von rotem R, grünem G und blauem B Licht zu unterscheiden, was in den 8 und 9 gleich angewandt wird.
  • Außerdem wird gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, wenn die zweite Elektrode 610, 620 und 630 in dem aktiven Gebiet AA durch den Lösungsprozess gebildet wird, die zweite Dummy-Elektrode 650 ebenfalls in dem Dummy-Gebiet DA durch den Lösungsprozess gebildet. In diesem Fall ist es, selbst wenn das Profil der zweiten Dummy-Elektrode 650 und das Profil der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 ungleichmäßig sind, möglich, das gleichmäßige Profil der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 in dem gesamten aktiven Gebiet AA zu realisieren.
  • Das Kontaktstellengebiet PA ist in der Peripherie des Dummy-Gebiets DA vorgesehen.
  • Ein Schaltungstreiber wie z. B. ein Gate-Treiber oder ein Datentreiber kann in dem Kontaktstellengebiet PA vorbereitet sein. Der Schaltungstreiber kann in wenigstens einer der linken, rechten, unteren und oberen peripheren Seiten des Dummy-Gebiets DA gebildet sein. Der Schaltungstreiber, der in dem Kontaktstellengebiet PA vorbereitet ist, ist mit der Schaltungsvorrichtung innerhalb des aktiven Gebiets AA über das Dummy-Gebiet DA verbunden.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist eine Verbindungsschicht 700 auf einer Oberseite des Walls 400 gebildet, während die mit dem Wall 400 überlappt. Die Verbindungsschicht 700 kann mehrere erste Verbindungsleitungen 710, mehrere zweite Verbindungsleitungen 720, mehrere erste Verbindungselektroden 715, mehrere zweite Verbindungselektroden 725 und eine dritte Verbindungsleitung 730 enthalten.
  • Die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 sind in einer ersten Richtung, beispielsweise einer horizontalen Richtung, auf der Oberseite des Walls 400, der in dem aktiven Gebiet AA und dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen ist, angeordnet, und die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 können sich zu dem Kontaktstellengebiet PA erstrecken. Die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720 sind in einer zweiten Richtung, beispielsweise einer vertikalen Richtung, auf der Oberseite des Walls 400, der in dem aktiven Gebiet AA und dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen ist, angeordnet, und die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720 können sich zu dem Kontaktstellengebiet PA erstrecken.
  • Jede der mehreren ersten Verbindungselektroden 715 verbindet die erste Verbindungsleitung 710 und die zweite Elektrode 610, 620 und 630 miteinander auf der Oberseite des Walls 400, der in dem aktiven Gebiet AA vorgesehen ist. Jede der mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 verbindet die zweite Verbindungsleitung 720 und die zweite Elektrode 610, 620 und 630 miteinander auf der Oberseite des Walls 400, der in dem aktiven Gebiet AA vorgesehen ist. Dementsprechend kann sich jede der mehreren ersten Verbindungselektroden 715 und jede der mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 zu der Oberseite der zweiten Elektroden 610, 620 und 630 auf der Oberseite des Walls 400, der in dem aktiven Gebiet AA vorgesehen ist, erstrecken. Jede der mehreren ersten Verbindungselektroden 715 und jede der mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 ist jedoch nicht in dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen. Das liegt daran, dass das Dummy-Gebiet DA nicht als Lichtemissionsgebiet vorgesehen ist. Das heißt, es gibt keine Notwendigkeit, eine Spannung an die zweite Dummy-Elektrode 650, die in dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen ist, anzulegen. Das heißt, da die zweite Elektrode 610, 620 und 630 mit der Verbindungsleitung 700 verbunden ist, ist es möglich, eine gemeinsame Spannung über die Verbindungsleitung 700 anzulegen. Die zweite Dummy-Elektrode 650 ist jedoch nicht mit der Verbindungsleitung 700 verbunden, wodurch keine Notwendigkeit vorhanden ist, die gemeinsame Spannung daran anzulegen.
  • Die dritte Verbindungsleitung 730 verbindet die mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 in dem Kontaktstellengebiet PA miteinander und verbindet außerdem die mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720 in dem Kontaktstellengebiet PA miteinander. Die dritte Verbindungsleitung 730 kann mit dem Schaltungstreiber, der in dem Kontaktstellengebiet PA vorgesehen ist, verbunden sein.
  • Hier können das Material und die Struktur in jeder der mehreren ersten Verbindungsleitungen 710 der mehreren zweiten Verbindungsleitungen 720, der mehreren ersten Verbindungselektroden 715, der mehreren zweiten Verbindungselektroden 725 und der dritten Verbindungsleitung 710 gleich denjenigen von 3 sein, wodurch eine genaue Beschreibung für die gleichen Teile weggelassen wird.
  • 8 ist eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt, was einem Querschnitt entlang I-I von 7 entspricht. 8 stellt dar, dass ein aktives Gebiet AA in der Struktur von 2 gebildet ist.
  • Die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann ein Substrat 100, eine Schaltungsvorrichtungsschicht 200, eine erste Elektrode 300, einen Wall 400, eine Emissionsschicht 510, 520, und 530, eine Dummy-Emissionsschicht 550, eine zweite Elektrode 610, 620 und 630, eine zweite Dummy-Elektrode 650, eine zweite Verbindungsleitung 720, eine zweite Verbindungselektrode 725 und eine dritte Verbindungsleitung 730 enthalten.
  • Die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 ist in einem aktiven Gebiet AA, einem Dummy-Gebiet DA und einem Kontaktstellengebiet PA gebildet. Die Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, kann in der Struktur gleich der in dem aktiven Gebiet AA gebildeten Schaltungsvorrichtungsschicht 200 sein, und die Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, und die Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem aktiven Gebiet AA gebildet ist, können durch denselben Prozess hergestellt sein, jedoch nicht notwendigerweise. Das heißt, einige der Signalleitungen wie z. B. eine Gate-Leitung, eine Datenleitung, eine Stromversorgungsleitung und eine Referenzleitung können in der Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, nicht enthalten sein, oder einige aus dem Schalt-Dünnschichttransistor und dem Ansteuer-Dünnschichttransistor können in der Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, nicht enthalten sein, wodurch in dem Dummy-Gebiet DA keine Lichtemission erzeugt werden kann. In einigen Fällen kann die Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, unvollständig konfiguriert sein, um nicht irgendeinen aus dem Schalt-Dünnschichttransistor und dem Ansteuer-Dünnschichttransistor zu betätigen. In dem Fall, in dem die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 in dem Kontaktstellengebiet PA gebildet ist, kann sich die Signalleitung, die in dem aktiven Gebiet AA vorgesehen ist, zu der Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Kontaktstellengebiet gebildet ist, erstrecken, und der Dünnschichttransistor für die Lichtemission kann nicht in der Schaltungsvorrichtungsschicht 200, die in dem Kontaktstellengebiet PA gebildet ist, enthalten sein, anders als in dem aktiven Gebiet AA. In anderen Fällen kann eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern einer Schaltungsvorrichtung, die in dem aktiven Gebiet AA vorgesehen ist, in dem Kontaktstellengebiet PA enthalten sein. In diesem Fall kann ein Dünnschichttransistor für die Ansteuervorrichtung in dem Kontaktstellengebiet PA enthalten sein.
  • Die erste Elektrode 300 ist in dem aktiven Gebiet AA und dem Dummy-Gebiet DA gebildet. Die erste Elektrode 300, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, kann in der Struktur gleich der ersten Elektrode 300 sein, die in dem aktiven Gebiet AA gebildet ist, und die erste Elektrode 300, die in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, und die erste Elektrode 300, die in dem aktiven Gebiet AA gebildet ist, können durch denselben Prozess hergestellt sein. Die erste Elektrode 300 kann nicht in dem Dummy-Gebiet DA gebildet sein, wodurch keine Lichtemission in dem Dummy-Gebiet DA erzeugt werden kann.
  • Der Wall 400 ist in dem aktiven Gebiet AA und dem Dummy-Gebiet DA gebildet. Der Wall 400, der in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, kann in der Struktur gleich dem Wall 400 sein, der in dem aktiven Gebiet AA gebildet ist, und der Wall 400, der in dem Dummy-Gebiet DA gebildet ist, und der Wall 400, der in dem aktiven Gebiet AA gebildet ist, können durch denselben Prozess hergestellt sein. Obwohl nicht im Einzelnen gezeigt kann der Wall 400 einen ersten und einen zweiten Wall 410 und 420 enthalten, wie in 4 beschrieben ist.
  • Die Emissionsschicht 510, 520 und 530 ist in dem aktiven Gebiet AA gebildet. Die Emissionsschicht 510, 520 und 530 kann durch den Lösungsprozess gebildet sein, wie in 2 beschrieben ist, und eine genaue Beschreibung für die Emissionsschicht 510, 520 und 530 wird weggelassen.
  • Die Dummy-Emissionsschicht 550 ist in dem Dummy-Gebiet DA gebildet. Die Struktur der Dummy-Emissionsschicht 550 kann gleich der Struktur einer der ersten, zweiten und dritten Emissionsschichten 510, 520 und 530 sein. Das heißt, auf die gleiche Weise wie für die erste Emissionsschicht 510 kann die Dummy-Emissionsschicht 550 eine Lochinjektionsschicht HIL, eine Lochtransportschicht HTL und eine Rot emittierende Materialschicht EML(R) enthalten. Die Dummy-Emissionsschicht 550 kann eine Grün emittierende Materialschicht EML(G) anstelle der Rot emittierenden Materialschicht EML(R) enthalten, wodurch sie die gleiche Struktur aufweisen kann wie diejenige der zweiten Emissionsschicht 520. Die Dummy-Emissionsschicht 550 kann eine Blau emittierende Materialschicht EML(B) anstelle der Rot emittierenden Materialschicht EML(R) enthalten, wodurch sie die gleiche Struktur aufweisen kann wie diejenige der dritten Emissionsschicht 530. Jede aus der Lochinjektionsschicht HIL, der Lochtransportschicht HTL, der Rot emittierenden Materialschicht EML(R), der Grün emittierenden Materialschicht EML(G) und der Blau emittierenden Materialschicht EML(B), die die Dummy-Emissionsschicht 550 bilden, kann durch den Lösungsprozess gebildet sein.
  • Die mehreren Dummy-Emissionsschichten 550 können in dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen sein, wobei die mehreren Dummy-Emissionsschichten 550 in der gleichen Struktur gebildet sein können, jedoch nicht notwendigerweise. Unter den mehreren Dummy-Emissionsschichten 550 können einige der Dummy-Emissionsschichten 550 in der gleichen Struktur wie diejenige der ersten Emissionsschicht 510 gebildet sei, einige andere Dummy-Emissionsschichten 550 können in der gleichen Struktur wie diejenige der zweiten Emissionsschicht 520 gebildet sein, und die restlichen Dummy-Emissionsschichten 550 können in der gleichen Struktur wie diejenige der dritten Emissionsschicht 530 gebildet sein.
  • Die zweite Elektrode 610, 620 und 630 ist auf der Emissionsschicht 510, 520 und 530 in dem aktiven Gebiet AA gebildet. Die zweite Elektrode 610, 620 und 630 kann durch den Lösungsprozess gebildet sein, wie in einer weiteren Ausführungsform von 2 gezeigt ist, wodurch eine genaue Beschreibung für die zweite Elektrode 610, 620 und 630 weggelassen wird.
  • Die zweite Dummy-Elektrode 650 ist auf der Dummy-Emissionsschicht 550 in dem Dummy-Gebiet DA gebildet. Die zweite Dummy-Elektrode 650 ist in der gleichen Struktur wie diejenige der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 gebildet. Das heißt, die zweite Dummy-Elektrode 650 kann ein Mischmaterial enthalten, das durch Mischen eines leitfähigen Materials wie z. B. Silber (Ag) mit wenigstens einem aus einer Alkalikomponente, einem Metalloxidmaterial und einem Metallkarbonatmaterial erhalten wird. Die zweite Dummy-Elektrode 650 kann durch Vorbereiten des Mischmaterials, das durch Mischen des leitfähigen Materials wie z. B. Silber (Ag) mit wenigstens einem aus der Alkalikomponente, dem Metalloxidmaterial und dem Metallkarbonatmaterial erhalten wird, und Ausführen des Lösungsprozesses mit dem Mischmaterial unter der Verwendung einer Tintenstrahlvorrichtung gebildet sein. Außerdem kann die zweite Dummy-Elektrode 650 mit der gleichen Dicke wie diejenige der zweiten Elektrode 610, 620 und 630 gebildet sein. In dieser vorliegenden Offenbarung gibt die Dicke der zweiten Dummy-Elektrode 650 die Dicke in der Mitte des Dummy-Emissionsgebiets DE an.
  • Die zweite Verbindungsleitung 720 ist auf einer Oberseite des Walls 400 des aktiven Gebiets AA gebildet, und die zweite Verbindungselektrode 725 erstreckt sich von der zweiten Verbindungsleitung 720 zu einer Oberseite der zweiten Elektrode 610, 620 und 630. Die dritte Verbindungsleitung 730 ist in dem Kontaktstellengebiet PA gebildet. Der Wall 400 kann nicht in dem Kontaktstellengebiet PA vorgesehen sein, wodurch die dritte Verbindungsleitung 730 auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 gebildet sein kann.
  • 9 ist eine Querschnittsansicht, die eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellt, was einem Querschnitt entlang I-I von 7 entspricht. 9 stellt dar, dass ein aktives Gebiet AA in der gleichen Struktur wie diejenige von 5 gebildet ist. Somit ist die Struktur von 9 außer einer Dicke T1, T2 und T3 einer zweiten Elektrode 610, 620 und 630 und einer Dicke T1 einer zweiten Dummy-Elektrode 650 gleich der Struktur von 8, wodurch nur die unterschiedlichen Strukturen im Einzelnen beschrieben werden.
  • Bezug nehmend auf 9 ist eine erste Dicke T1 einer zweiten Elektrode 610, die auf einer ersten Emissionsschicht 510 vorgesehen ist, größer als eine zweite Dicke T2 einer zweiten Elektrode 620, die auf einer zweiten Emissionsschicht 502 vorgesehen ist, und eine dritte Dicke T3 einer zweiten Elektrode 630, die auf einer dritten Emissionsschicht 503 vorgesehen ist, und die zweite Dicke T2 der zweiten Elektrode 620, die auf der zweiten Emissionsschicht 520 vorgesehen ist, ist größer als die dritte Dicke T3 der zweiten Elektrode 630, die auf der dritten Emissionsschicht 530 vorgesehen ist, wie vorstehend in 5 beschrieben ist.
  • Außerdem weist eine zweite Dummy-Elektrode 650 eine Dicke T1 auf, die gleich der ersten Dicke T1 der zweiten Elektrode 610 ist, die auf der ersten Emissionsschicht 510 vorgesehen ist. In diesem Fall kann die zweite Dummy-Elektrode 650 durch Sprühen einer Lösung unter Verwendung einer Tintenstrahldüse gebildet werden, wobei die Menge der gesprühten Lösung gleich der Menge der Lösung für die zweite Elektrode 610 ist, die auf der ersten Emissionsschicht 510 vorgesehen ist, jedoch nicht notwendigerweise. Die zweite Dummy-Elektrode 650 kann eine Dicke T2 aufweisen, die gleich der zweiten Dicke T2 der zweiten Elektrode 620 ist, die auf der zweiten Emissionsschicht 520 vorgesehen ist, oder kann eine Dicke T3 aufweisen, die gleich der dritten Dicke T3 der zweiten Elektrode 630 ist, die auf der dritten Emissionsschicht 530 vorgesehen ist.
  • Indessen sind die mehreren zweiten Dummy-Elektroden 650 in dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen, wobei die mehreren zweiten Dummy-Elektroden 650 die gleiche Dicke aufweisen können. Die Lichtemission wird in dem Dummy-Gebiet DA nicht erzeugt. Aus diesem Grund ist es nicht notwendig, die Lichtdurchlässigkeit zu berücksichtigen, wenn die Dicke der zweiten Dummy-Elektrode 650, die in dem Dummy-Gebiet DA vorgesehen ist, eingestellt wird.
  • Gemäß der vorliegenden Offenbarung können sowohl die Emissionsschicht als auch die zweite Elektrode durch den Lösungsprozess gebildet werden, so dass es möglich ist, die Herstellungskosten und Verarbeitungszeit zu reduzieren. Insbesondere enthält die zweite Elektrode das Material, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt, so dass es möglich ist, die Elektroneninjektonsschicht und die Elektronentransportschicht von der Emissionsschicht zu entfernen, das heißt es ist möglich, eine Bearbeitungszeit zum Bilden der Emissionsschicht zu verkürzen.
  • Es wird für Fachleute offensichtlich sein, dass die vorstehend beschriebene vorliegende Offenbarung nicht durch die vorstehend beschriebenen Ausführungsformen und die begleitenden Zeichnungen eingeschränkt ist und dass verschiedene Ersetzungen, Modifikationen und Variationen an der vorliegenden Offenbarung vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzbereich der Offenbarung abzuweichen. Folglich ist der Schutzbereich der vorliegenden Erfindung durch die begleitenden Ansprüche definiert. Es ist beabsichtigt, dass alle Variationen oder Modifikationen, die von der Bedeutung, dem Schutzbereich oder dem äquivalenten Konzept der Offenbarung abgeleitet werden, in den Schutzbereich der begleitenden Ansprüche fallen.
  • Die verschiedenen vorstehend beschriebenen Ausführungsformen können kombiniert werden, um weitere Ausführungsformen zu schaffen. Aspekte der Ausführungsformen können modifiziert werden, falls notwendig, um Konzepte der verschiedenen Patente, Anmeldungen und Veröffentlichungen einzusetzen, um noch weitere Ausführungsformen zu schaffen.
  • Diese und andere Änderungen können an den Ausführungsformen angesichts der vorstehenden ausführlichen Beschreibung vorgenommen werden. Im Allgemeinen sollten in den folgenden Ansprüchen die verwendeten Begriffe nicht so gedeutet werden, dass sie die Ansprüche auf die spezifischen in der Spezifikation offenbarten Ausführungsformen beschränken, sondern sollten so gedeutet werden, dass sie den vollen Schutzbereich, für den solche Ansprüche berechtigt sind, enthalten.
  • Die folgende Liste stellt Aspekte der Offenbarung bereit und bildet einen Teil der Beschreibung. Diese Aspekte können in jeder kompatiblen Kombination, die über die ausdrücklich festgestellten hinausgehen, kombiniert werden. Die Aspekte können außerdem mit irgendwelchen hier beschriebenen kompatiblen Merkmalen kombiniert werden:
  • In einem Aspekt ist eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung bereitgestellt, die umfasst: ein Substrat; eine erste Elektrode, die auf dem Substrat vorgesehen ist; einen Wall, der konfiguriert ist, ein Ende der ersten Elektrode zu bedecken und ein Emissionsgebiet zu definieren; eine Emissionsschicht, die in dem durch den Wall definierten Emissionsgebiet vorgesehen ist; und eine zweite Elektrode, die auf der Emissionsschicht vorgesehen ist, wobei die Emissionsschicht eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht und eine Emissionsmaterialschicht enthält und die zweite Elektrode ein Material enthält, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt.
  • Vorzugsweise enthält die Emissionsschicht keine aus einer Elektroneninjektonsschicht (EIL) und/oder einer Elektronentransportschicht (ETL), um Elektronen zu übertragen.
  • Vorzugsweise enthält das Material, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt, wenigstens eines aus einem Alkalimaterial, einem Metalloxid und einem Metallkarbonat.
  • In einigen Ausführungsformen ist die zweite Elektrode in dem Emissionsgebiet vorgesehen, und eine Verbindungsschicht, die mit der zweiten Elektrode verbunden ist, ist zusätzlich auf dem Wall vorgesehen.
  • In einigen Ausführungsformen enthält die Emissionsschicht eine erste Emissionsschicht, die in dem ersten Emissionsgebiet vorgesehen ist, eine zweite Emissionsschicht, die in dem zweiten Emissionsgebiet vorgesehen ist, und eine dritte Emissionsschicht, die in dem dritten Emissionsgebiet vorgesehen ist.
  • Vorzugsweise ist die zweite Elektrode auf jeder aus der ersten Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen.
  • Vorzugsweise sind eine erste Dicke der zweiten Elektrode, die auf der erste Emissionsschicht vorgesehen ist, eine zweite Dicke der zweiten Elektrode, die auf der zweiten Emissionsschicht vorgesehen ist, und eine dritte Dicke der zweiten Elektrode, die auf der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, voneinander verschieden.
  • In einigen Ausführungsformen emittiert die erste Emissionsschicht Licht von roter Farbe, die zweite Emissionsschicht emittiert Licht von grüner Farbe und die dritte Emissionsschicht emittiert Licht von blauer Farbe.
  • In einigen Ausführungsformen ist die erste Dicke größer als die zweite Dicke und die dritte Dicke, und die zweite Dicke ist größer als die dritte Dicke.
  • In einigen Ausführungsformen ist ein Profil der Emissionsschicht auf eine solche Weise vorgesehen, dass eine Höhe eines oberen Endes der Emissionsschicht in der Mitte des Emissionsgebiets relativ niedriger ist als eine Höhe eines oberen Endes der Emissionsschicht an dem Ende des Emissionsgebiets, und ein Profil der zweiten Elektrode entspricht dem Profil der Emissionsschicht.
  • In einem weiteren Aspekt ist eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung bereitgestellt, die umfasst: ein Substrat; eine erste Elektrode, die auf dem Substrat vorgesehen ist; einen Wall, der konfiguriert ist, ein Ende der ersten Elektrode zu bedecken und ein erstes Emissionsgebiet, ein zweites Emissionsgebiet und ein drittes Emissionsgebiet zu definieren; eine erste Emissionsschicht, die in dem ersten Emissionsgebiet vorgesehen ist; eine zweite Emissionsschicht, die in dem zweiten Emissionsgebiet vorgesehen ist; eine dritte Emissionsschicht, die in dem dritten Emissionsgebiet vorgesehen ist; eine zweite Elektrode, die auf jeder aus der ersten Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist; und eine Verbindungsschicht zum Verbinden der zweiten Elektrode, die auf der ersten Emissionsschicht vorgesehen ist, der zweiten Elektrode, die auf der zweiten Emissionsschicht vorgesehen ist, und der zweiten Elektrode, die auf der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, miteinander.
  • In einigen Ausführungsformen enthält die Verbindungsschicht mehrere erste Verbindungsleitungen, die sich in einer ersten Richtung auf einer Oberseite des Walls erstrecken und mehrere erste Verbindungselektroden zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen mit den zweiten Elektroden, die jeweils auf der erste Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen sind.
  • In einigen Ausführungsformen enthält die Verbindungsschicht zusätzlich mehrere zweite Verbindungsleitungen, die sich in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, auf der Oberseite des Walls erstrecken, und mehrere zweite Verbindungselektroden zum Verbinden der mehreren zweiten Verbindungsleitungen mit den zweiten Elektroden, die jeweils auf der erste Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen sind.
  • In einer Ausführungsformen enthält die Verbindungsleitung zusätzlich eine dritte Verbindungsleitung zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen und der mehreren zweiten Verbindungsleitungen, und die dritte Verbindungsleitung ist in der Peripherie des Walls vorgesehen.
  • In einigen Ausführungsformen enthält jede aus der ersten, der zweiten und der dritten Emissionsschicht eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht und eine Emissionsmaterialschicht.
  • In einigen Ausführungsformen enthält jede der zweiten Elektroden, die jeweils auf der ersten, der zweiten und der dritten Emissionsschicht vorgesehen sind, ein Material, das eine Elektroneninjektionseigenschaft und eine Elektronentransporteigenschaft besitzt.
  • In einigen Ausführungsformen sind eine erste Dicke der zweiten Elektrode, die auf der erste Emissionsschicht vorgesehen ist, eine zweite Dicke der zweiten Elektrode, die auf der zweiten Emissionsschicht vorgesehen ist, und eine dritte Dicke der zweiten Elektrode, die auf der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, voneinander verschieden.
  • In einigen Ausführungsformen emittiert die erste Emissionsschicht Licht von roter Farbe, die zweite Emissionsschicht emittiert Licht von grüner Farbe und die dritte Emissionsschicht emittiert Licht von blauer Farbe.
  • In einigen Ausführungsformen ist die erste Dicke größer als die zweite Dicke und die dritte Dicke, und die zweite Dicke ist größer als die dritte Dicke.
  • In einem weiteren Aspekt ist eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung bereitgestellt, die umfasst: ein Substrat, das ein aktives Gebiet zum Anzeigen eines Bilds und ein Dummy-Gebiet, das in der Peripherie des aktiven Gebiets vorgesehen ist, enthält; einen Wall, der konfiguriert ist, ein Emissionsgebiet auf dem aktiven Gebiet des Substrats und ein Dummy-Emissionsgebiet auf dem Dummy-Gebiet des Substrats zu definieren; mehrere Emissionsschichten, die in dem durch den Wall definierten Emissionsgebiet vorgesehen sind; mehrere Elektroden, die jeweils auf den mehreren Emissionsschichten vorgesehen sind; mehrere Dummy-Emissionsschichten, die in dem durch den Wall definierten Dummy-Emissionsgebiet vorgesehen sind; mehrere Dummy-Elektroden, die jeweils auf den mehreren Dummy-Emissionsschichten vorgesehen sind; und eine Verbindungsschicht zum Verbinden der mehreren Elektroden miteinander.
  • Vorzugsweise ist die Verbindungsschicht nicht mit den mehreren Dummy-Elektroden verbunden.
  • Vorzugsweise enthält die Verbindungsschicht mehrere erste Verbindungsleitungen, die sich in einer ersten Richtung auf einer Oberseite des Walls erstrecken, und mehrere erste Verbindungselektroden zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen mit den mehreren Elektroden.
  • Vorzugsweise sind die mehreren ersten Verbindungsleitungen in dem aktiven Gebiet und dem Dummy-Gebiet vorgesehen, und die mehreren ersten Verbindungsleitungen sind in dem aktiven Gebiet vorgesehen.
  • Vorzugsweise enthält das Substrat zusätzlich ein Kontaktstellengebiet, das in der Peripherie des Dummy-Gebiets vorgesehen ist, und die Verbindungsschicht enthält ferner eine zusätzliche Verbindungsleitung zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen miteinander in dem Kontaktstellengebiet.
  • Vorzugsweise enthält die Emissionsschicht eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht und eine Emissionsmaterialschicht, und die zweite Elektrode enthält ein Material, das die Elektroneninjektionseigenschaft und die Elektronentransporteigenschaft besitzt.
  • Vorzugsweise enthält die Emissionsschicht eine erste Emissionsschicht, die in einem ersten Emissionsgebiet vorgesehen ist, eine zweite Emissionsschicht, die in einem zweiten Emissionsgebiet vorgesehen ist, und eine dritte Emissionsschicht, die in einem dritten Emissionsgebiet vorgesehen ist, wobei die zweite Elektrode auf jeder aus der ersten Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist.
  • Vorzugsweise sind eine erste Dicke der zweiten Elektrode, die auf der erste Emissionsschicht vorgesehen ist, eine zweite Dicke der zweiten Elektrode, die auf der zweiten Emissionsschicht vorgesehen ist, und eine dritte Dicke der zweiten Elektrode, die auf der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, voneinander verschieden.
  • Vorzugsweise emittiert die erste Emissionsschicht Licht roter Farbe, die zweite Emissionsschicht emittiert Licht grüner Farbe, und die dritte Emissionsschicht emittiert Licht blauer Farbe, und die erste Dicke ist größer als die zweite Dicke und die dritte Dicke, und die zweite Dicke ist größer als die dritte Dicke.

Claims (21)

  1. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, die umfasst: ein Substrat (100); eine erste Elektrode (300), die auf dem Substrat (100) vorgesehen ist; einen Wall (400), der konfiguriert ist, ein erstes Ende der ersten Elektrode (300) zu bedecken und ein erstes Emissionsgebiet (E1, E2, E3) zu definieren; eine Emissionsschicht (510, 520, 530), die in dem durch den Wall (400) definierten Emissionsgebiet (E1, E2, E3) vorgesehen ist; und eine zweite Elektrode (610, 620, 630), die auf der Emissionsschicht (510, 520, 530) vorgesehen ist, wobei ein Profil einer Oberseite der zweiten Elektrode (610, 620, 630) eine erste Krümmung in der Mitte des Emissionsgebiets (E1, E2, E3) und eine zweite Krümmung an dem Rand des Emissionsgebiets (E1, E2, E3) aufweist und die zweite Krümmung größer ist als die erste Krümmung.
  2. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem vorhergehenden Anspruch, wobei eine Verbindungsschicht (700), die mit der zweiten Elektrode (610, 620, 630) verbunden ist, auf dem Wall (400) vorgesehen ist.
  3. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem vorhergehenden Anspruch, der eine erste Emissionsschicht (510), die in einem ersten Emissionsgebiet (E1) vorgesehen ist, eine zweite Emissionsschicht (520), die in einem zweiten Emissionsgebiet (E2) vorgesehen ist, und eine dritte Emissionsschicht (530), die in einem dritten Emissionsgebiet (E3) vorgesehen ist, umfasst und wobei die erste Emissionsschicht (510), die zweite Emissionsschicht (520) und die dritte Emissionsschicht (530) jeweils eine Lochinjektionsschicht (HIL), eine Lochtransportschicht (HTL) und eine Emissionsmaterialschicht (EML(R), EML(G), EML(B)) enthalten; wobei eine zweite Elektrode (610, 620, 630) auf der ersten Emissionsschicht (510), auf der zweiten Emissionsschicht (520) und auf der dritten Emissionsschicht (530) vorgesehen ist, wobei die zweiten Elektroden (610, 620, 630) voneinander getrennt sind.
  4. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, die umfasst: ein Substrat (100), das ein aktives Gebiet (AA) zum Anzeigen eines Bilds und ein Dummy-Gebiet (DA), das um die Peripherie des aktiven Gebiets (AA) vorgesehen ist, enthält; einen Wall (400), der konfiguriert ist, mehrere Emissionsgebiete (E1, E2, E3) auf dem aktiven Gebiet (AA) des Substrats (100) und mehrere Dummy-Emissionsgebiete (DE) auf dem Dummy-Gebiet (DA) des Substrats (100) zu definieren; mehrere Emissionsschichten (510, 520, 530), die jeweils auf den mehreren durch den Wall (400) definierten Emissionsgebieten (E1, E2, E3) vorgesehen sind; mehrere Elektroden (610, 620, 630), die jeweils auf den mehreren Emissionsschichten (510, 520, 530) vorgesehen sind; mehrere Dummy-Emissionsschichten (550), die jeweils in den mehreren durch den Wall (400) definierten Dummy-Emissionsgebieten (DE) vorgesehen sind; mehrere Dummy-Elektroden (650), die jeweils auf den mehreren Dummy-Emissionsschichten (550) vorgesehen sind; und eine Verbindungsschicht (700) zum Verbinden der mehreren Elektroden (610, 620, 630) miteinander.
  5. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 4, wobei die Verbindungsschicht (700) nicht mit den mehreren Dummy-Elektroden (650) verbunden ist.
  6. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, wobei die Verbindungsschicht (700) mehrere erste Verbindungsleitungen (710), die sich in einer ersten Richtung auf einer Oberseite des Walls (400) erstrecken, und mehrere erste Verbindungselektroden (715) zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen (710) mit den mehreren Elektroden (610, 620, 630) enthält, die mehreren erste Verbindungsleitungen (710) in dem aktiven Gebiet (AA) und dem Dummy-Gebiet (DA) vorgesehen sind, und die mehreren ersten Verbindungselektroden (715) in dem aktiven Gebiet (AA) vorgesehen sind.
  7. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 6, wobei das Substrat (100) zusätzlich ein Kontaktstellengebiet (PA) enthält, das um die Peripherie des Dummy-Gebiets (DA) vorgesehen ist, und die Verbindungsschicht (700) ferner eine zusätzliche Verbindungsleitung (730) zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen (710) miteinander in dem Kontaktstellengebiet (PA) enthält.
  8. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche, wobei die mehrere Emissionsschichten (510, 520, 530) eine erste Emissionsschicht (510), die in einem ersten Emissionsgebiet (E1) vorgesehen ist, eine zweite Emissionsschicht (520), die in einem zweiten Emissionsgebiet (E2) vorgesehen ist, und eine dritte Emissionsschicht (530), die in einem dritten Emissionsgebiet (E3) vorgesehen sind, enthalten, die mehreren Elektroden 610, 620, 630) eine Elektrode (610, 620, 630) enthalten, die auf jeder aus der erste Emissionsschicht (510), der zweiten Emissionsschicht (520) und der dritten Emissionsschicht (530) vorgesehen ist.
  9. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 8, wobei eine erste Dicke (T1) der Elektrode (610), die auf der ersten Emissionsschicht (510) vorgesehen ist, eine zweite Dicke (T2) der Elektrode (620), die auf der zweiten Emissionsschicht (520) vorgesehen ist, und eine dritte Dicke (T3) der Elektrode (630), die auf der dritten Emissionsschicht (530) vorgesehen ist, voneinander verschieden sind, vorzugsweise die erste Dicke (T1) größer ist als die zweite Dicke (T2) und die dritte Dicke (T3) und die zweite Dicke (T2) größer ist als die dritte Dicke (T3).
  10. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, die umfasst: ein Substrat (100); mehrere erste Elektroden (300), die auf dem Substrat (100) vorgesehen sind; einen Wall (400), der konfiguriert ist, ein Ende jeder ersten Elektrode (300) zu bedecken und ein erstes Emissionsgebiet (E1), ein zweites Emissionsgebiet (E2) und ein drittes Emissionsgebiet (E3) zu definieren; eine erste Emissionsschicht (510), die in dem ersten Emissionsgebiet (E1) vorgesehen ist; eine zweite Emissionsschicht (520), die in dem zweiten Emissionsgebiet (E2) vorgesehen ist; eine dritte Emissionsschicht (530) die in dem dritten Emissionsgebiet (E3) vorgesehen ist; eine zweite Elektrode (610, 620, 630), die auf jeder aus der ersten Emissionsschicht (510), der zweiten Emissionsschicht (E2) und der dritten Emissionsschicht (E3) vorgesehen ist; und eine Verbindungsschicht (700) zum Verbinden der zweiten Elektrode (610), die auf der erste Emissionsschicht (510) vorgesehen ist, der zweiten Elektrode (620), die auf der zweiten Emissionsschicht(520) vorgesehen ist, und der zweiten Elektrode (630), die auf der dritten Emissionsschicht (530) vorgesehen ist, miteinander.
  11. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wenigstens eine zweite Elektrode (610, 620, 630) eine Mittendicke (T) in der Mitte des entsprechenden Emissionsgebiets (E1, E2, E3) und eine Randdicke an einem Rand des entsprechenden Emissionsgebiets (E1, E2, E3) aufweist und die Mittendicke und die Randdicke unterschiedlich sind, vorzugsweise die Mittendicke größer ist als die Randdicke.
  12. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wenigstens eine Emissionsschicht eine erste Höhe (h1) in der Mitte des entsprechenden Emissionsgebiets (E1, E2, E3) und eine zweite Höhe (h2) an einem Rand des entsprechenden Emissionsgebiets (E1, E2, E3) aufweist und die erste Höhe (h1) niedriger ist als die zweite Höhe (h2); und/oder ein Profil der zweiten Elektrode (610, 620, 630) auf der wenigstens einen Emissionsschicht (510, 520, 530) einem Profil der wenigstens einen Emissionsschicht (510, 520, 530) entspricht.
  13. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei: die zweite Elektrode (610) auf der erste Emissionsschicht (510) eine erste Lichtdurchlässigkeit aufweist, die zweite Elektrode (620) auf der zweiten Emissionsschicht (520) eine zweite Lichtdurchlässigkeit aufweist, die zweite Elektrode (630) auf der dritten Emissionsschicht (530) eine dritte Lichtdurchlässigkeit aufweist; und die erste, die zweite und die dritte Lichtdurchlässigkeit voneinander verschieden sind.
  14. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wenigstens eine zweite Elektrode (610, 620, 630), die auf der wenigstens einen Emissionsschicht (510, 520, 530) vorgesehen ist, dicker als die Verbindungsschicht (700) ist.
  15. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Wall (400) einen ersten Wall (410) und einen zweiten Wall (420) umfasst, wobei der zweite Wall (420) auf dem ersten Wall (420) gebildet ist.
  16. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Verbindungsschicht (700) mehrere erste Verbindungsleitungen (710), die sich in einer ersten Richtung auf einer Oberseite des Walls (400) erstrecken, und mehrere erste Verbindungselektroden (715) zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen (710) mit der wenigstens einen zweiten Elektrode (610, 620, 630), die auf der wenigstens einen ersten Emissionsschicht (510), der zweiten Emissionsschicht (520) und der dritten Emissionsschicht (530) vorgesehen ist, enthält.
  17. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 16, wobei die Verbindungsschicht (700) mehrere zweite Verbindungsleitungen (720), die sich in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, auf einer Oberseite des Walls (400) erstrecken, und mehrere zweite Verbindungselektroden (725) zum Verbinden der mehreren zweiten Verbindungsleitungen (720) mit der wenigstens einen zweiten Elektrode (610, 620, 630), die auf der wenigstens einen ersten Emissionsschicht, der zweiten Emissionsschicht und der dritten Emissionsschicht vorgesehen ist, enthält.
  18. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 6-17, wobei die Verbindungsleitung (700) zusätzlich eine dritte Verbindungsleitung (730) zum Verbinden der mehreren ersten Verbindungsleitungen (710) und der mehreren zweiten Verbindungsleitungen (720) enthält und die dritte Verbindungsleitung (730) um die Peripherie des Walls (400) vorgesehen ist.
  19. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die wenigstens eine Emissionsschicht (510, 520, 530) eine Lochinjektionsschicht (HIL), eine Lochtransportschicht (HTL) und eine Emissionsmaterialschicht (EML(R), EML(G), EML(B)) enthält und/oder die wenigstens eine zweite Elektrode (610, 620, 630), die auf der wenigstens einen Emissionsschicht vorgesehen ist, ein Material enthält, das eine Elektroneninjektionseigenschaft und eine Elektronentransporteigenschaft besitzt.
  20. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 19, wobei das Material, das eine Elektroneninjektionseigenschaft und eine Elektronentransporteigenschaft besitzt, wenigstens eines aus einem Alkalimaterial, einem Metalloxid und einem Metallkarbonat enthält.
  21. Verfahren zum Herstellen einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, das umfasst: Bereitstellen eines Substrats (100), Bereitstellen einer Schaltungsvorrichtungsschicht (200), wobei die Schaltungsvorrichtungsschicht (200) wenigstens einen Dünnschichttransistor umfasst, der eine Gate-Elektrode (230), eine aktive Schicht (210), eine Source-Elektrode (250a) und eine Drain-Elektrode (250b) aufweist, Bilden einer ersten Elektrode (300) auf der Schaltungsvorrichtungsschicht (200); Bilden eines Walls (400) in einer Matrixkonfiguration, um mehrere Pixel zu definieren, von denen jedes ein Emissionsgebiet (E1, E2, E3) aufweist; Bilden einer Emissionsschicht (510, 520, 530) in irgendeinem Emissionsgebiet (E1, E2, E3) unter Verwendung eines Lösungsprozesses; Bilden einer zweiten Elektrode 610, 620, 630) in jedem Emissionsgebiet (E1, E2, E3) durch einen Lösungsprozess; Bilden einer Verbindungsschicht (700) auf einer Oberseite des Walls (400), um die zweite Elektrode (610, 620, 630) zu verbinden.
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