DE102019133709A1 - Elektroluminiszenzanzeigevorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Elektroluminiszenzanzeigevorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung Download PDF

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Young-Jun Yu
Hee-jin Kim
Myung-O JOO
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Abstract

Eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung kann mehrere Subpixel, die auf einem Substrat entlang einer ersten Richtung und einer zweiten Richtung angeordnet sind, eine Leuchtdiode, die an jedem Subpixel angeordnet ist und eine erste Elektrode, eine Lichtemissionsschicht und eine zweite Elektrode umfasst; eine erste Bank, die zwischen benachbarten Subpixeln entlang der zweiten Richtung angeordnet ist und mit Kanten der ersten Elektrode überlappt; eine zweite Bank mit einer Öffnung, die den Subpixeln entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln entlang der ersten Richtung angeordnet ist; und eine dritte Bank auf Seitenoberflächen der zweiten Bank, die entlang der zweiten Richtung einander zugewandt sind, umfassen.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Offenbarung
  • Die vorliegende Offenbarung bezieht sich auf eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung und insbesondere auf eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung mit einer großen Größe und einer hohen Auflösung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung.
  • Erörterung des Standes der Technik
  • Als eine von Flachfeldanzeigevorrichtungen weist eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung breite Blickwinkel im Vergleich zu einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung auf, da sie selbstleuchtend ist, und hat auch Vorteile einer geringen Dicke, eines leichten Gewichts und eines niedrigen Leistungsverbrauchs, da eine Hintergrundbeleuchtungseinheit nicht erforderlich ist.
  • Außerdem wird die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung durch niedrige Gleichstromspannungen (DC) angesteuert und weist eine schnelle Ansprechzeit auf. Ferner ist die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung stark gegen die externen Stöße stark und wird in einem breiten Bereich von Temperaturen verwendet, da ihre Komponenten Feststoffe sind, und insbesondere kann die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung mit niedrigen Kosten hergestellt werden.
  • Die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung umfasst mehrere Pixel, wovon jedes rote, grüne und blaue Subpixel aufweist, und zeigt Bilder mit verschiedenen Farben an, indem ermöglicht wird, dass die roten, grünen und blauen Subpixel selektiv Licht emittieren.
  • Die roten, grünen und blauen Subpixel weisen rote, grüne bzw. blaue Lichtemissionsschichten auf und jede Lichtemissionsschicht wird durch einen thermischen Vakuumverdampfungsprozess ausgebildet, in dem ein Leuchtmaterial selektiv unter Verwendung einer feinen Metallmaske (FMM) abgeschieden wird.
  • Der Verdampfungsprozess erhöht jedoch die Herstellungskosten aufgrund der Vorbereitung der Maske und weist ein Problem bei der Anwendung auf eine Anzeigevorrichtung mit großer Größe und hoher Auflösung aufgrund von Herstellungsvariationen, Senkung, eines Schatteneffekts der Maske und dergleichen auf.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Folglich ist die vorliegende Offenbarung auf eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung gerichtet, die im Wesentlichen eines oder mehrere der Probleme aufgrund von Begrenzungen und Nachteiulen des Stand der Technik vermeiden.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Offenbarung, eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung mit einer großen Größe und hohen Auflösung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung zu schaffen.
  • Weitere Merkmale und Vorteile der vorliegenden Offenbarung werden in der folgenden Beschreibung dargelegt und sind teilweise aus der Beschreibung ersichtlich oder können durch Ausführung der vorliegenden Offenbarung gelernt werden. Die Ziele und andere Vorteile der vorliegenden Offenbarung werden durch die Struktur verwirklicht und erreicht, auf die in der schriftlichen Beschreibung und den Ansprüchen hiervon sowie den beigefügten Zeichnungen speziell hingewiesen wird.
  • Diese Aufgaben werden durch den Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen und Verfeinerungen sind in den jeweiligen abhängigen Ansprüchen beschrieben.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung geschaffen, die mehrere Subpixel, die auf einem Substrat entlang einer ersten Richtung und einer zweiten Richtung angeordnet sind; eine Leuchtdiode, die an jedem Subpixel angeordnet ist und eine erste Elektrode, eine Lichtemissionsschicht und eine zweite Elektrode umfasst; eine erste Bank, die zwischen benachbarten Subpixeln entlang der zweiten Richtung angeordnet ist und mit Kanten der ersten Elektrode überlappt; eine zweite Bank mit einer Öffnung, die den Subpixeln entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln entlang der ersten Richtung angeordnet ist; und eine dritte Bank auf Seitenoberflächen der zweiten Bank, die entlang der zweiten Richtung einander zugewandt sind, umfasst.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung umfasst eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung: mehrere Pixel, die auf einem Substrat angeordnet sind, wobei die mehreren Pixel Subpixel mit unterschiedlichen Farben, die entlang einer ersten Richtung angeordnet sind, und Subpixel mit derselben Farbe, die entlang einer zweiten Richtung angeordnet sind, umfassen; wobei jedes Subpixel eine Leuchtdiode umfasst, wobei die Leuchtdiode eine erste Elektrode, eine Lichtemissionsschicht und eine zweite Elektrode umfasst; eine erste Bank, die zwischen benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe entlang der zweiten Richtung angeordnet ist und mit Kanten der ersten Elektrode überlappt; eine zweite Bank mit einer Öffnung, die den Subpixeln mit derselben Farbe entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln mit unterschiedlichen Farben angeordnet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind; und eine dritte Bank auf Seitenoberflächen der zweiten Bank, die entlang der zweiten Richtung einander zugewandt sind und der Öffnung entsprechen.
  • Die erste Bank und die dritte Bank können eine hydrophile Eigenschaft aufweisen. Die zweite Bank kann eine hydrophobe Eigenschaft aufweisen.
  • Die dritte Bank kann eine höhere Oberflächenenergie und/oder eine höhere hydrophile Eigenschaft als die erste Bank aufweisen.
  • Die dritte Bank kann zumindest teilweise auf einer oberen Oberfläche der zweiten Bank ausgebildet sein.
  • Die erste Bank kann ferner einen Abschnitt umfassen, der zwischen benachbarten Subpixeln mit unterschiedlichen Farben ausgebildet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind.
  • Der Abschnitt der ersten Bank, der zwischen den benachbarten Subpixeln ausgebildet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind, kann unter der zweiten Bank ausgebildet sein.
  • Die Lichtemissionsschichten auf den ersten Elektroden von benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, können auf der ersten Bank zwischen den benachbarten Subpixeln entlang der zweiten Richtung verbunden sein, um einen Körper zu bilden. Die Lichtemissionsschicht, die als ein Körper ausgebildet ist, kann eine höhere Höhe in einem Kantenabschnitt der Öffnung der zweiten Bank als in einem zentralen Abschnitt der Öffnung aufweisen.
  • Die erste Bank und die zweite Bank können durch einen Ätzmaskenprozess ausgebildet werden.
  • Die Lichtemissionsschicht von jedem Subpixel kann durch einen Lösungsprozess ausgebildet werden. Die als ein Körper ausgebildete Lichtemissionsschicht kann durch einen Lösungsprozess ausgebildet werden.
  • Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung umfasst ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung die folgenden Schritte: Ausbilden einer ersten Elektrode in jedem Subpixel auf einem Substrat, auf dem mehrere Pixel definiert sind, wobei die mehreren Pixel Subpixel mit unterschiedlichen Farben, die entlang einer ersten Richtung angeordnet sind, und Subpixel mit derselben Farbe, die entlang einer zweiten Richtung angeordnet sind, umfassen, definiert sind; Ausbilden einer ersten Bank, die zwischen benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe entlang der zweiten Richtung angeordnet ist, wobei die erste Bank mit Kanten der ersten Elektrode überlappt; Ausbilden einer zweiten Bank auf der ersten Bank; wobei die zweite Bank eine Öffnung aufweist, die den Subpixeln mit derselben Farbe entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln mit unterschiedlichen Farben angeordnet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind; Ausbilden eines Photoresistmusters, das der Öffnung entspricht, wobei das Photoresistmuster die erste Elektrode und die erste Bank bedeckt und die zweite Bank freilegt; Ausbilden eines ersten Isolationsmusters und eines zweiten Isolationsmusters, wobei das erste Isolationsmuster auf einer oberen Oberfläche und Seitenoberflächen der zweiten Bank angeordnet ist, und das zweite Isolationsmuster auf dem Photoresistmuster angeordnet ist; Ausbilden einer dritten Bank auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank durch Entfernen des Photoresistmusters und des zweiten Isolationsmusters; Ausbilden einer Lösungsschicht in der Öffnung und Kontaktieren der dritten Bank; Ausbilden einer Lichtemissionsschicht durch Trocknen der Lösungsschicht; und Ausbilden einer zweiten Elektrode auf der Lichtemissionsschicht.
  • Die dritte Bank kann auf Seitenoberflächen der zweiten Bank ausgebildet werden, die entlang der zweiten Richtung einander zugewandt sind und der Öffnung entsprechen.
  • Das Verfahren kann ferner das selektive Entfernen des ersten Isolationsmusters auf der oberen Oberfläche der zweiten Bank umfassen, bevor die dritte Bank ausgebildet wird.
  • Die erste Bank und die dritte Bank können eine hydrophile Eigenschaft aufweisen. Die zweite Bank kann eine hydrophobe Eigenschaft aufweisen.
  • Die dritte Bank kann eine höhere Oberflächenenergie und/oder eine höhere hydrophile Eigenschaft als die erste Bank aufweisen.
  • Die Lichtemissionsschicht kann so ausgebildet sein, dass sie auf der ersten Bank zwischen benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe verbunden ist, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, um einen Körper auszubilden. Die Emissionsschicht kann eine höhere Höhe in einem Kantenabschnitt der Öffnung der zweiten Bank als in einem zentralen Abschnitt der Öffnung aufweisen.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird auch ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung geschaffen, das das Ausbilden einer ersten Elektrode in jedem Subpixel auf einem Substrat, auf dem mehrere Subpixel, die entlang einer ersten Richtung und einer zweiten Richtung angeordnet sind, definiert sind; das Ausbilden einer ersten Bank, die zwischen benachbarten Subpixeln entlang der zweiten Richtung angeordnet ist und mit Kanten der ersten Elektrode überlappt; das Ausbilden einer zweiten Bank auf der ersten Bank, wobei die zweite Bank eine Öffnung aufweist, die den Subpixeln entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln entlang der ersten Richtung angeordnet ist; das Ausbilden eines Photoresistmusters, das der Öffnung entspricht, wobei das Photoresistmuster die erste Elektrode und die erste Bank bedeckt und die zweite Bank freilegt; das Ausbilden eines ersten Isolationsmusters und eines zweiten Isolationsmusters, wobei das erste Isolationsmuster auf einer oberen Oberfläche und Seitenoberflächen der zweiten Bank angeordnet ist, und das zweite Isolationsmuster auf dem Photoresistmuster angeordnet ist; das Ausbilden einer dritten Bank auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank durch Entfernen des Photoresistmusters und des zweiten Isolationsmusters; das Ausbilden einer Lösungsschicht in der Öffnung und das Kontaktieren der dritten Bank; das Ausbilden einer Lichtemissionsschicht durch Trocknen der Lösungsschicht; und das Ausbilden einer zweiten Elektrode auf der Lichtemissionsschicht umfasst.
  • Selbstverständlich sind sowohl die vorangehende allgemeine Beschreibung als auch die folgende ausführliche Beschreibung beispielhaft und erläuternd und sollen eine weitere Erläuterung der vorliegenden Offenbarung, wie beansprucht, schaffen.
  • Figurenliste
  • Die begleitenden Zeichnungen, die enthalten sind, um ein weiteres Verständnis der vorliegenden Offenbarung zu schaffen, und die in diese Patentbeschreibung eingegliedert sind und einen Teil von dieser bilden, stellen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung dar und dienen zusammen mit der Beschreibung zum Erläutern der Prinzipien der vorliegenden Offenbarung; es zeigen:
    • 1 einen Schaltplan einer Pixelregion einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
    • 2 einen schematischen Querschnitt einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
    • 3 eine schematische Draufsicht einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
    • 4 eine Querschnittsansicht, die der Linie IV-IV' von 3 entspricht;
    • 5 eine Querschnittsansicht, die der Linie V-V' von 3 entspricht;
    • 6A bis 6H Querschnittsansichten, die schematisch einen Herstellungsprozess einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellen;
    • 7 eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung; und
    • 8 eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Nun wird im Einzelnen auf Ausführungsformen der Offenbarung Bezug genommen, wovon Beispiele in den begleitenden Zeichnungen dargestellt sind.
  • Eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung weist einen Anzeigebereich, der ein Bild anzeigt, und einen Nicht-Anzeige-Bereich, der den Anzeigebereich umgibt, auf. Der Anzeigebereich umfasst mehrere Pixel und jedes der mehreren Pixel umfasst rote, grüne und blaue Subpixel, kann jedoch andere Farbanordnungen aufweisen. Eine Pixelregion, die jedem Subpixel entspricht, kann eine in 1 gezeigte Konfiguration aufweisen.
  • 1 ist ein Schaltplan einer Pixelregion einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. Alle Komponenten der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß allen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung sind betriebsfähig gekoppelt und konfiguriert.
  • In 1 umfasst die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung mehrere Gate-Leitungen und mehrere Datenleitungen, die einander kreuzen, um mehrere Pixelregionen zu definieren. Insbesondere kreuzen in dem Beispiel von 1 eine Gate-Leitung DL und eine Datenleitung DL einander, um eine Pixelregion P zu definieren. Ein Dünnschichtschalttransistor Ts, ein Dünnschichtansteuertransistor Td, ein Speicherkondensator Cst und eine Leuchtdiode De sind in jeder Pixelregion P ausgebildet.
  • Insbesondere ist eine Gate-Elektrode des Dünnschichtschalttransistors Ts mit der Gate-Leitung GL verbunden und eine Source-Elektrode des Dünnschichtschalttransistors Ts ist mit der Datenleitung DL verbunden. Eine Gate-Elektrode des Dünnschichtansteuertransistors Td ist mit einer Drain-Elektrode des Dünnschichtschalttransistors Ts verbunden und eine Source-Elektrode des Dünnschichtansteuertransistors Td ist mit einer Hochspannungsversorgung VDD verbunden. Eine Anode der Leuchtdiode De ist mit einer Drain-Elektrode des Dünnschichtansteuertransistors Td verbunden und eine Kathode der Leuchtdiode De ist mit einer Niederspannungsversorgung VSS verbunden. Der Speicherkondensator Cst ist mit der Gate-Elektrode und der Drain-Elektrode des Dünnschichtansteuertransistors Td verbunden.
  • Die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung wird angesteuert, um ein Bild anzuzeigen. Wenn beispielsweise der Dünnschichtschalttransistor Ts durch ein Gate-Signal eingeschaltet wird, das durch die Gate-Leitung GL angelegt wird, wird ein Datensignal von der Datenleitung DL an die Gate-Elektrode des Dünnschichtansteuertransistors Td und eine Elektrode des Speicherkondensators Cst durch den Dünnschichtschalttransistor Ts angelegt.
  • Wenn der Dünnschichtansteuertransistor Td durch das Datensignal eingeschaltet wird, wird ein elektrischer Strom, der durch die Leuchtdiode De fließt, gesteuert, wodurch ein Bild angezeigt wird. Die Leuchtdiode De emittiert Licht aufgrund des Stroms, der durch den Dünnschichtansteuertransistor Td von der Hochspannungsversorgung VDD zugeführt wird.
  • Der Betrag des Stroms, der durch die Leuchtdiode De fließt, ist nämlich zur Amplitude des Datensignals proportional und die Intensität von Licht, das durch die Leuchtdiode De emittiert wird, ist zum Betrag des Stroms, der durch die Leuchtdiode De fließt, proportional. Folglich zeigen die Pixelregionen P verschiedene Graustufen in Abhängigkeit von der Amplitude des Datensignals und folglich zeigt die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung ein Bild an.
  • Außerdem hält der Speicherkondensator Cst Ladungen, die dem Datensignal entsprechen, für einen Rahmen aufrecht, wenn der Dünnschichtschalttransistor Ts ausgeschaltet wird. Selbst wenn der Dünnschichtschalttransistor Ts ausgeschaltet wird, ermöglicht folglich der Speicherkondensator Cst, dass der Betrag des Stroms, der durch die Leuchtdiode De fließt, konstant ist und die Graustufe, die durch die Leuchtdiode De gezeigt wird, bis zu einem nächsten Rahmen aufrechterhalten wird.
  • Unterdessen können ein oder mehrere Transistoren und/oder Kondensatoren in der Pixelregion P zusätzlich zu den Dünnschichtschalt- und Dünnschichtansteuertransistoren Ts und Td und zum Speicherkondensator Cst hinzugefügt werden.
  • In der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung wird beispielsweise der Dünnschichtansteuertransistor Td für eine relativ lange Zeit eingeschaltet, während das Datensignal an die Gate-Elektrode des Dünnschichtansteuertransistors Td angelegt wird und die Leuchtdiode Licht emittiert, um dadurch die Graustufe anzuzeigen. Der Dünnschichtansteuertransistor Td kann sich aufgrund des Anlegens des Datensignals für eine lange Zeit verschlechtern. Daher werden die Mobilität und/oder die Schwellenspannung Vth des Dünnschichtansteuertransistors Td geändert und folglich zeigt die Pixelregion P der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung eine andere Graustufe in Bezug auf dasselbe Datensignal an. Dies verursacht eine ungleichmäßige Luminanz, wodurch die Bildqualität der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gesenkt wird.
  • Um die Änderung der Mobilität und/oder Schwellenspannung des Dünnschichtansteuertransistors Td zu kompensieren, können folglich mindestens ein Dünnschichterfassungstransistor und/oder Erfassungskondensator für die Erfassung einer Spannungsänderung weiter in der Pixelregion P hinzugefügt werden. Der Dünnschichterfassungstransistor und/oder Erfassungskondensator können mit einer Referenzleitung zum Anlegen einer Referenzspannung und Ausgeben einer Erfassungsspannung verbunden sein.
  • 2 ist ein schematischer Querschnitt einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und zeigt eine Pixelregion.
  • In der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung von 2 ist eine Pufferschicht 120 auf einem Substrat 110 ausgebildet. Die Pufferschicht 120 ist im Wesentlichen auf einer ganzen Oberfläche des Substrats 110 angeordnet. Das Substrat 110 kann ein Glassubstrat oder Kunststoffsubstrat sein. Polyimid kann beispielsweise als Kunststoffsubstrat verwendet werden. Die Pufferschicht 120 kann aus einem anorganischen Material wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) ausgebildet sein und kann eine einzelne Schicht oder mehrere Schichten sein.
  • Eine strukturierte Halbleiterschicht 122 ist auf der Pufferschicht 120 ausgebildet. Die Halbleiterschicht 122 kann aus einer Oxidhalbleiterschicht ausgebildet sein und ein Lichtabschirmmuster kann ferner unter der Halbleiterschicht 122 ausgebildet sein. Das Lichtabschirmmuster kann Licht blockieren, das auf die Halbleiterschicht 122 einfällt, und kann verhindern, dass sich die Halbleiterschicht 122 aufgrund des Lichts verschlechtert. Alternativ kann die Halbleiterschicht 122 aus polykristallinem Silizium ausgebildet sein und beide Enden der Halbleiterschicht 122 können mit Störstellen dotiert sein.
  • Eine Gate-Isolationsschicht 130 aus einem Isolationsmaterial ist auf der Halbleiterschicht 122 im Wesentlichen über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet. Die Gate-Isolationsschicht 130 kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) ausgebildet sein. Wenn die Halbleiterschicht 122 aus einem Oxidhalbleitermaterial hergestellt ist, kann die Gate-Isolationsschicht 130 aus Siliziumoxid (SiO2) ausgebildet sein. Wenn die Halbleiterschicht 122 aus einem polykristallinen Silizium hergestellt ist, kann alternativ die Gate-Isolationsschicht 130 aus Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) ausgebildet sein.
  • Eine Gate-Elektrode 132 aus einem leitfähigen Material wie z. B. Metall ist auf der Gate-Isolationsschicht 130 entsprechend dem Zentrum der Halbleiterschicht 122 ausgebildet. Außerdem können eine Gate-Leitung und eine erste Kondensatorelektrode auf der Gate-Isolationsschicht 130 ausgebildet sein. Die Gate-Leitung erstreckt sich in einer ersten Richtung und die erste Kondensatorelektrode ist mit der Gate-Elektrode 132 verbunden.
  • In der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist die Gate-Isolationsschicht 130 über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet. Die Gate-Isolationsschicht 130 kann jedoch strukturiert sein, so dass sie dieselbe Form wie die Gate-Elektrode 132 aufweist.
  • Eine Zwischenschichtisolationsschicht 140, die aus einem Isolationsmaterial besteht, ist auf der Gate-Elektrode 132 im Wesentlichen über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet. Die Zwischenschichtisolationsschicht 140 kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) ausgebildet sein. Alternativ kann die Zwischenschichtisolationsschicht 140 aus einem organischen Isolationsmaterial wie z. B. Photoacryl oder Benzocyclobuten ausgebildet sein.
  • Die Zwischenschichtisolationsschicht 140 weist ein erstes und ein zweites Kontaktloch 140a und 140b auf, die obere Oberflächen beider Enden der Halbleiterschicht 122 freilegen. Das erste und das zweite Kontaktloch 140a und 140b sind auf beiden Seiten der Gate-Elektrode 132 angeordnet und von der Gate-Elektrode 132 beabstandet. Das erste und das zweite Kontaktloch 140a und 140b sind auch in der Gate-Isolationsschicht 130 ausgebildet. Wenn die Gate-Isolationsschicht 130 strukturiert ist, so dass sie dieselbe Form wie die Gate-Elektrode 132 aufweist, sind alternativ das erste und das zweite Kontaktloch 140a und 140b nur in der Zwischenschichtisolationsschicht 140 ausgebildet.
  • Eine Source- und eine Drain-Elektrode 142 und 144 aus einem leitfähigen Material wie z. B. Metall sind auf der Zwischenschichtisolationsschicht 140 ausgebildet. Außerdem können eine Datenleitung, eine Leistungsversorgungsleitung und eine zweite Kondensatorelektrode ferner auf der Zwischenschichtisolationsschicht 140 ausgebildet sein.
  • Die Source- und die Drain-Elektrode 142 und 144 sind voneinander beabstandet, wobei die Gate-Elektrode 132 dazwischen angeordnet ist, und stehen mit beiden Enden der Halbleiterschicht 122 durch das erste bzw. das zweite Kontaktloch 140a und 140b in Kontakt. Die Datenleitung erstreckt sich in einer zweiten Richtung und kreuzt die Gate-Leitung, um dadurch die Pixelregion zu definieren. Die Leistungsversorgungsleitung zum Zuführen einer hohen Spannung ist von der Datenleitung beabstandet. Die zweite Kondensatorelektrode ist mit der Drain-Elektrode 144 verbunden. Die zweite Kondensatorelektrode überlappt mit der ersten Kondensatorelektrode, um dadurch einen Speicherkondensator mit der Zwischenschichtisolationsschicht 140 dazwischen als Dielektrikum zu bilden. Alternativ kann die erste Kondensatorelektrode mit der Drain-Elektrode 144 verbunden sein und die zweite Kondensatorelektrode kann mit der Gate-Elektrode 132 verbunden sein.
  • Die Halbleiterschicht 122, die Gate-Elektrode 132 und die Source- und die Drain-Elektrode 142 und 144 bilden einen Dünnschichttransistor. Der Dünnschichttransistor weist eine koplanare Struktur auf, in der die Gate-Elektrode 132 und die Source- und die Drain-Elektrode 142 und 144 auf derselben Seite in Bezug auf die Halbleiterschicht 122 angeordnet sind.
  • Alternativ kann der Dünnschichttransistor eine umgekehrte gestaffelte Struktur aufweisen, in der die Gate-Elektrode und die Source- und die Drain-Elektrode auf verschiedenen Seiten in Bezug auf die Halbleiterschicht angeordnet sind. Das heißt, die Gate-Elektrode kann unter der Halbleiterschicht angeordnet sein und die Source- und die Drain-Elektrode können über der Halbleiterschicht angeordnet sein. Die Halbleiterschicht kann aus einem Oxidhalbleiter oder amorphem Silizium ausgebildet sein.
  • Der Dünnschichttransistor entspricht einem Dünnschichtansteuertransistor und ein Dünnschichtschalttransistor mit derselben Struktur wie der Dünnschichtansteuertransistor kann ferner in der Pixelregion auf dem Substrat 110 ausgebildet sein. Die Gate-Elektrode 132 des Dünnschichtansteuertransistors kann mit einer Drain-Elektrode des Dünnschichtschalttransistors verbunden sein und die Source-Elektrode 142 des Dünnschichtansteuertransistors ist mit der Leistungsversorgungsleitung verbunden. Außerdem können eine Gate-Elektrode und eine Source-Elektrode des Dünnschichtschalttransistors mit der Gate-Leitung bzw. der Datenleitung verbunden sein.
  • Ein Dünnschichterfassungstransistor mit derselben Struktur des Dünnschichtansteuertransistors kann ferner in der Pixelregion auf dem Substrat 110 ausgebildet sein, aber die vorliegende Offenbarung ist nicht darauf begrenzt.
  • Eine Überzugsschicht 150 aus einem Isolationsmaterial ist auf der Source- und der Drain-Elektrode 142 und 144 im Wesentlichen über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet. Die Überzugsschicht 150 kann aus einem organischen Isolationsmaterial wie z. B. Photoacryl oder Benzocyclobuten ausgebildet sein. Die Überzugsschicht 150 kann eine flache obere Oberfläche aufweisen.
  • Unterdessen kann eine Isolationsschicht aus einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) ferner unter der Überzugsschicht 150 ausgebildet sein.
  • Die Überzugsschicht 150 weist ein Drain-Kontaktloch 150a auf, das die Drain-Elektrode 144 freilegt. Das Drain-Kontaktloch 150a kann vom zweiten Kontaktloch 140b beabstandet sein. Alternativ kann das Drain-Kontaktloch 150a direkt über dem zweiten Kontaktloch 140b angeordnet sein.
  • Eine erste Elektrode 162 ist auf der Überzugsschicht 150 ausgebildet und aus einem leitfähigen Material mit einer relativ hohen Arbeitsfunktion ausgebildet. Die erste Elektrode 162 ist in der Pixelregion angeordnet und steht mit der Drain-Elektrode 144 durch das Drain-Kontaktloch 150a in Kontakt. Die erste Elektrode 162 kann beispielsweise aus einem transparenten leitfähigen Material wie z. B. Indiumzinnoxid (ITO) oder Indiumzinkoxid (IZO) ausgebildet sein, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist ein Oberseitenemissionstyp, in dem Licht einer Leuchtdiode De zu einer Richtung entgegengesetzt zum Substrat 110 ausgegeben wird. Folglich kann die erste Elektrode 162 ferner eine Reflexionselektrode oder eine Reflexionsschicht umfassen, die aus einem Metallmaterial mit einem relativ hohen Reflexionsgrad unter dem transparenten leitfähigen Material ausgebildet ist. Die Reflexionselektrode oder Reflexionsschicht kann beispielsweise aus einer Aluminium-Palladium-Kupfer-Legierung (APC-Legierung) oder Silber (Ag) ausgebildet sein. Die erste Elektrode 162 kann eine Dreifachschichtstruktur aus ITO/APC/ITO oder ITO/Ag/ITO aufweisen, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Eine erste Bank 172 aus einem Isolationsmaterial ist auf der ersten Elektrode 162 ausgebildet. Die erste Bank 172 überlappt mit und bedeckt Kanten der ersten Elektrode 162 und legt einen zentralen Abschnitt der ersten Elektrode 162 frei. Die erste Bank 172 weist eine hydrophile Eigenschaft auf. Die erste Bank 172 kann beispielsweise aus einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) ausgebildet sein. Alternativ kann die erste Bank 172 aus Polyimid ausgebildet sein.
  • Eine zweite Bank 174 aus einem Isolationsmaterial ist auf der ersten Bank 172 ausgebildet. Die zweite Bank 172 weist eine schmälere Breite als die erste Bank 172 auf, ist auf der ersten Bank 172 angeordnet und legt Kanten der ersten Bank 172 frei. Die zweite Bank 174 weist eine hydrophobe Eigenschaft auf. Eine Dicke der zweiten Bank 174 kann größer sein als eine Dicke der ersten Bank 172. Die zweite Bank 174 kann aus einem organischen Isolationsmaterial mit einer hydrophoben Eigenschaft ausgebildet sein. Alternativ kann die zweite Bank 174 aus einem organischen Isolationsmaterial mit einer hydrophilen Eigenschaft ausgebildet sein und kann einer hydrophoben Behandlung unterzogen werden.
  • Unterdessen kann nur die erste Bank 172 auf anderen Kanten der ersten Elektrode 162 angeordnet sein. Selbst wenn die erste und die zweite Bank 172 und 174 auf den Kanten der ersten Elektrode 162 in 2 ausgebildet sind, kann außerdem die erste Bank 172 weggelassen werden und nur die zweite Bank 174 kann mit den Kanten der ersten Elektrode 162 überlappen und diese bedecken.
  • Eine Lichtemissionsschicht 180 ist auf der ersten Elektrode 162 ausgebildet, die durch die erste und die zweite Bank 172 und 174 freigelegt ist.
  • Die Lichtemissionsschicht 180 kann eine erste Ladungshilfsschicht, eine Lichtemissionsmaterialschicht und eine zweite Ladungshilfsschicht umfassen, die sequentiell über der ersten Elektrode 162 angeordnet sind. Die Lichtemissionsmaterialschicht kann aus irgendeinem von roten, grünen und blauen Lumineszenzmaterialien ausgebildet sein, ist jedoch nicht darauf begrenzt. Das Lumineszenzmaterial kann ein organisches Lumineszenzmaterial wie z. B. eine Phosphoreszenzverbindung oder eine Fluoreszenzverbindung sein oder kann ein anorganisches Lumineszenzmaterial wie z. B. ein Quantenpunkt sein.
  • Die erste Ladungshilfsschicht kann eine Lochhilfsschicht sein und die Lochhilfsschicht kann eine Lochinjektionsschicht (HIL) und/oder eine Lochtransportschicht (HTL) umfassen. Außerdem kann die zweite Ladungshilfsschicht eine Elektronenhilfsschicht sein und die Elektronenhilfsschicht kann eine Elektroneninjektionsschicht (EIL) und/oder eine Elektronentransportschicht (ETL) umfassen. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die Lichtemissionsschicht 180 wird durch einen Lösungsprozess ausgebildet. Folglich kann der Prozess vereinfacht werden und eine Anzeigevorrichtung mit einer großen Größe und hohen Auflösung kann geschaffen werden. Ein Aufschleuderverfahren, ein Tintenstrahldruckverfahren oder ein Siebdruckverfahren kann als Lösungsprozess verwendet werden, aber die vorliegende Offenbarung ist nicht darauf begrenzt. Wenn die Lösung getrocknet wird, ist eine Trocknungsgeschwindigkeit eines Lösungsmittels in einer Region benachbart zur zweiten Bank 174 von jener in anderen Regionen verschieden. Daher kann eine Höhe der Lichtemissionsschicht 180 in der Region benachbart zur zweiten Bank 174 ansteigen, wenn sie näher an die zweite Bank 174 gelangt.
  • Unter den Schichten der Lichtemissionsschicht 180 kann unterdessen die Elektronenhilfsschicht durch einen Vakuumverdampfungsprozess ausgebildet werden. Zu dieser Zeit kann die Elektronenhilfsschicht im Wesentlichen über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet werden.
  • Eine zweite Elektrode 190 aus einem leitfähigen Material mit einer relativ niedrigen Arbeitsfunktion ist auf der Lichtemissionsschicht 180 im Wesentlichen über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet. Die zweite Elektrode 190 kann aus Aluminium (A1), Magnesium (Mg), Silber (Ag) oder einer Legierung davon ausgebildet sein. Die zweite Elektrode 190 weist eine relativ dünne Dicke auf, so dass Licht von der Lichtemissionsschicht 180 durch diese übertragen werden kann. Alternativ kann die zweite Elektrode 190 aus einem transparenten leitfähigen Material wie z. B. Indium-Gallium-Oxid (IGO) ausgebildet sein, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die erste Elektrode 162, die Lichtemissionsschicht 180 und die zweite Elektrode 190 bilden eine Leuchtdiode De. Die erste Elektrode 162 kann als Anode dienen und die zweite Elektrode 190 kann als Kathode dienen, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Wie vorstehend beschrieben, kann die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ein Oberseitenemissionstyp sein, in dem Licht von der Lichtemissionsschicht 180 der Leuchtdiode De zu einer Richtung entgegengesetzt zum Substrat 110 ausgegeben wird, das heißt zur Außenseite durch die zweite Elektrode 190 ausgegeben wird. Die Anzeigevorrichtung vom Oberseitenemissionstyp kann einen breiteren Emissionsbereich aufweisen als eine Anzeigevorrichtung vom Unterseitenemissionstyp mit derselben Größe, um dadurch die Luminanz zu verbessein und den Leistungsverbrauch zu verringern.
  • Die Leuchtdiode De jeder Pixelregion kann eine Elementdicke für einen Mikrohohlraumeffekt aufweisen, die einer Wellenlänge des emittierten Lichts entspricht, wodurch die Lichteffizienz erhöht wird.
  • Unterdessen können eine Schutzschicht und/oder eine Einkapselungsschicht auf der zweiten Elektrode 190 im Wesentlichen über der ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet sein, um Feuchtigkeit oder Sauerstoff zu blockieren, die von außen eingeführt werden, wodurch die Leuchtdiode De geschützt wird.
  • <Erste Ausführungsform>
  • 3 ist eine schematische Draufsicht einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegende Offenbarung und zeigt hauptsächlich eine Bankkonfiguration.
  • In 3 umfasst die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung rote, grüne und blaue Subpixel R, G und B. Die roten, grünen und blauen Subpixel R, G und B sind sequentiell entlang einer ersten Richtung angeordnet und die Subpixel R, G und B derselben Farbe sind entlang einer zweiten Richtung angeordnet. R-, G- und B-Subpixel sind beispielsweise wiederholt in dieser Reihenfolge entlang der ersten Richtung (z. B. horizontalen Richtung) angeordnet, wohingegen eine Spalte oder eine Reihe von R-Subpixeln, eine Spalte oder eine Reihe von G-Subpixeln und eine Spalte oder eine Reihe von B-Subpixeln wiederholt und/oder sequentiell und/oder benachbart entlang der zweiten Richtung (z. B. vertikalen Richtung) angeordnet sind. Hier sind die roten, grünen und blauen Subpixel R, G und B so gezeigt, dass sie jeweils eine rechteckige Form aufweisen, sind jedoch nicht darauf begrenzt. Die roten, grünen und blauen Subpixel R, G und B können jeweils verschiedene Formen wie z. B. eine rechteckige Form mit abgerundeten Ecken, eine ovale Form oder dergleichen aufweisen.
  • Eine erste Bank 172 ist zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B derselben Farbe und zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben angeordnet. Alternativ kann die erste Bank 172 zwischen den benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben weggelassen werden. Das heißt, die erste Bank 172 kann zwischen den benachbarten Subpixeln R, G und B entlang der zweiten Richtung ausgebildet sein und kann sich entlang der ersten Richtung erstrecken.
  • Ferner kann die erste Bank 172 alle Subpixel R, G und B umschließen.
  • Eine zweite Bank 174 ist auf der ersten Bank 172 angeordnet. Die zweite Bank 174 weist eine Öffnung 174a auf, die einer Subpixelreihe derselben Farbe entspricht, und ist zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben angeordnet. Zu dieser Zeit kann die zweite Bank 174 eine schmälere Breite als die erste Bank 172 zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben aufweisen. Eine Subpixelreihe derselben Farbe entspricht Subpixeln mit derselben Farbe, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind.
  • Unterdessen ist eine dritte Bank 176 auf jeder von Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 ausgebildet, die entlang der zweiten Richtung einander zugewandt sind. Die dritte Bank 176 ist auf der Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 ausgebildet, die einer kurzen Seite der Öffnung 174a entspricht. Folglich ist die dritte Bank 176 nur in einem Kantenabschnitt des Anzeigefeldes angeordnet.
  • Die erste und die dritte Bank 172 und 176 weisen eine hydrophile Eigenschaft auf und die zweite Bank 174 weist eine hydrophile Eigenschaft auf. Hier kann die dritte Bank 176 eine höhere hydrophile Eigenschaft aufweisen als die erste Bank 172. Das heißt, die dritte Bank 176 kann eine höhere Oberflächenenergie aufweisen als die erste Bank 172. Alternativ können die erste und die zweite Bank 172 und 176 dieselbe hydrophile Eigenschaft aufweisen.
  • Eine Querschnittsstruktur der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung der vorliegenden Offenbarung wird mit Bezug auf 4 und 5 beschrieben.
  • 4 ist eine Querschnittsansicht, die der Linie IV-IV' von 3 entspricht, und 5 ist eine Querschnittsansicht, die der Linie V-V' von 3 entspricht.
  • In 4 und 5 sind eine Pufferschicht 120, eine Gate-Isolationsschicht 130, eine Zwischenschichtisolationsschicht 140 und eine Überzugsschicht 150 sequentiell auf einem Substrat 110 ausgebildet, auf dem mehrere Pixelregionen P, die jeweils roten, grünen und blauen Subpixeln R, G und B entsprechen, definiert sind. Eine erste Elektrode 162 ist in jeder Pixelregion P auf der Überzugsschicht 150 ausgebildet.
  • Ein oder mehrere Dünnschichttransistoren und/oder Kondensatoren mit der Konfiguration von 2 können ferner zwischen dem Substrat 110 und der Überzugsschicht 150 ausgebildet sein und der eine oder die mehreren Dünnschichttransistoren können mit der ersten Elektrode 162 verbunden sein.
  • Eine erste Bank 172 ist auf der ersten Elektrode 162 ausgebildet. Die erste Bank 172 überlappt mit und bedeckt Kanten der ersten Elektrode 162. Die erste Bank 172 ist zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B derselben Farbe und zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben ausgebildet. Alternativ kann die erste Bank 172 zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben weggelassen werden und kann nur zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B derselben Farbe angeordnet sein.
  • Die erste Bank 172 kann aus einem Material mit einer hydrophilen Eigenschaft, beispielsweise einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx), ausgebildet sein. Alternativ kann die erste Bank 172 aus Polyimid ausgebildet sein.
  • Außerdem ist eine zweite Bank 174 auf der ersten Bank 172 ausgebildet. Die zweite Bank 174 weist eine dickere Dicke als die erste Bank 172 auf. Die zweite Bank 174 ist nur zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben ausgebildet und ist nicht zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B derselben Farbe ausgebildet. Eine Breite der zweiten Bank 174 ist schmäler als eine Breite der ersten Bank 172 zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben.
  • Die zweite Bank 174 weist eine Öffnung 174a auf, die einer Subpixelreihe derselben Farbe entspricht, und legt die ersten Elektroden 162 der Subpixelreihe derselben Farbe und die erste Bank 172 zwischen benachbarten ersten Elektroden 162 durch die Öffnung 174a frei.
  • Wenn die erste Bank 172 zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B mit unterschiedlichen Farben weggelassen ist, kontaktiert hier die zweite Bank 174 Kanten jeder ersten Elektrode 162 von 4 und überlappt damit und bedeckt die Kanten jeder ersten Elektrode 162 von 4.
  • Die zweite Bank 174 kann aus einem organischen Isolationsmaterial mit einer hydrophoben Eigenschaft ausgebildet sein. Alternativ kann die zweite Bank 174 aus einem organischen Isolationsmaterial mit einer hydrophilen Eigenschaft ausgebildet sein und kann einer hydrophoben Behandlung unterzogen werden.
  • Die erste Bank 172 und die zweite Bank 174 können durch einen Ätzmaskenprozess ausgebildet werden.
  • Als nächstes ist eine dritte Bank 176 auf jeder von entgegengesetzten Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 ausgebildet. Die dritte Bank 176 ist an jedem von beiden Enden der Subpixelreihe derselben Farbe ausgebildet. Das heißt, die dritte Bank 176 ist auf jeder der kurzen Seiten der Öffnung 174a ausgebildet.
  • Die dritte Bank 176 kann aus einem Material mit einer hydrophilen Eigenschaft, beispielsweise einem anorganischen Isolationsmaterial wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx), ausgebildet sein. Alternativ kann die dritte Bank 176 aus Polyimid ausgebildet sein.
  • Hier kann die dritte Bank 176 aus einem von der ersten Bank 172 verschiedenen Material ausgebildet sein und kann eine höhere hydrophile Eigenschaft als die erste Bank 172 aufweisen. Das heißt, die dritte Bank 176 kann eine höhere Oberflächenenergie aufweisen als die erste Bank 172. Alternativ kann die dritte Bank 176 aus demselben Material wie die erste Bank 172 ausgebildet sein und kann dieselbe hydrophile Eigenschaft wie die erste Bank 172 aufweisen.
  • Eine Lichtemissionsschicht 180 ist auf der ersten Elektrode 162, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, in jeder Pixelregion P ausgebildet. Hier ist eine rote Lichtemissionsschicht im roten Subpixel R ausgebildet, eine grüne Lichtemissionsschicht ist im grünen Subpixel G ausgebildet und eine blaue Lichtemissionsschicht ist im blauen Subpixel B ausgebildet.
  • Außerdem ist die Lichtemissionsschicht 180 auch auf der ersten Bank 172, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, zwischen benachbarten Subpixeln R, G und B derselben Farbe ausgebildet. In 5 ist nämlich die blaue Lichtemissionsschicht 180 auch auf der ersten Bank 172, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, zwischen benachbarten Subpixeln B ausgebildet. Zu dieser Zeit ist die Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Bank 172 mit der Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Elektrode 162 in jeder Pixelregion P benachbart dazu verbunden, um einen Körper auszubilden.
  • Die Lichtemissionsschicht 180 wird durch einen Lösungsprozess ausgebildet. Die Lösungen, die in jeweilige Pixelregionen P, die den Subpixeln derselben Farbe entsprechen, beispielsweise der Reihe von blauen Subpixeln, durch verschiedene Düsen getropft werden, sind hier miteinander verbunden und die Lichtemissionsschicht 180 wird durch Trocknen der Lösungen ausgebildet. Folglich wird eine Abweichung der Tropfmengen zwischen den Düsen minimiert und Dicken der Lichtemissionsschichten 180 können in den jeweiligen Pixelregionen P gleichmäßig sein.
  • Da die dritte Bank 176 auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 eine hydrophile Eigenschaft aufweist, nimmt außerdem die Kraft zum Halten der Lösung an beiden Enden der Subpixelreihe derselben Farbe zu, wodurch verhindert wird, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird. Folglich ist es möglich, das Problem zu verhindern, dass die Lichtemissionsschicht 180 nicht nahe beiden Enden der Subpixelreihe derselben Farbe ausgebildet wird.
  • Eine zweite Elektrode 190 ist auf der Lichtemissionsschicht 180 und der zweiten Bank 174 ausgebildet. Zu dieser Zeit ist die zweite Elektrode 190 auch auf einer oberen Oberfläche und einer Seitenoberfläche der dritten Bank 176 ausgebildet und die zweite Elektrode 190 kontaktiert die obere Oberfläche und die Seitenoberfläche der dritten Bank 176.
  • Die erste Elektrode 162, die Lichtemissionsschicht 180 und die zweite Elektrode 190 bilden eine Leuchtdiode De.
  • Wie vorstehend beschrieben, sind in der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Lichtemissionsschichten 180 der Subpixel R, G und B derselben Farbe miteinander verbunden und als ein Körper ausgebildet, wodurch die Abweichung der Tropfmenge zwischen Düsen minimiert wird und die Dicken der Lichtemissionsschichten 180 der Subpixel R, G und B gleichmäßig ausgebildet werden. Daher wird die Unausgeglichenheit verhindert, wodurch effektiv verhindert wird, dass die Bildqualität der Anzeigevorrichtung gesenkt wird.
  • Ferner ist die dritte Bank 176 mit der hydrophilen Eigenschaft auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 ausgebildet, wodurch das Phänomen, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird, und das Problem, dass die Lichtemissionsschicht 180 nicht nahe beiden Enden der Subpixelreihe derselben Farbe ausgebildet wird verhindert werden.
  • Ein Herstellungsprozess einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird mit Bezug auf 6A bis 6H im Einzelnen beschrieben.
  • 6A bis 6H sind Querschnittsansichten, die schematisch einen Herstellungsprozess einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung darstellen.
  • In 6A werden eine Pufferschicht 120, eine Gate-Isolationsschicht 130, eine Zwischenschichtisolationsschicht 140 und eine Überzugsschicht 150 sequentiell aus Isolationsmaterialien auf einem Substrat 110 ausgebildet, auf dem mehrere Pixelregionen P, die jeweils roten, grünen und blauen Subpixeln R, G und B entsprechen, definiert sind. Jede der Pufferschicht 120 und der Gate-Isolationsschicht 130 kann durch Abscheiden eines anorganischen Isolationsmaterials wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) im Wesentlichen über einer ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet werden. Die Zwischenschichtisolationsschicht 140 kann durch Abscheiden eines anorganischen Isolationsmaterials wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) im Wesentlichen über einer ganzen Oberfläche des Substrats 110 oder Aufbringen eines organischen Isolationsmaterials wie z. B. Photoacryl oder Benzocyclobuten im Wesentlichen über einer ganzen Oberfläche des Substrats 110 ausgebildet werden.
  • Ein oder mehrere Dünnschichttransistoren und/oder Kondensatoren mit der Konfiguration von 2 können ferner zwischen dem Substrat 110 und der Überzugsschicht 150 ausgebildet werden.
  • Eine erste Elektrode 162 wird aus einen leitfähigen Material in jeder Pixelregion P auf der Überzugsschicht 150 ausgebildet. Die erste Elektrode 162 kann durch Abscheiden eines leitfähigen Materials mit einer relativ hohen Arbeitsfunktion und Strukturieren desselben durch einen Photolithographieprozess unter Verwendung einer Maske ausgebildet werden.
  • Die erste Elektrode 162 kann beispielsweise aus einem transparenten leitfähigen Material wie z. B. Indiumzinnoxid (ITO) oder Indiumzinkoxid (IZO) ausgebildet werden, ist jedoch nicht darauf begrenzt. Außerdem kann die erste Elektrode 162 ferner eine Reflexionselektrode oder eine Reflexionsschicht umfassen, die aus einem Metallmaterial mit einem relativ hohen Reflexionsgrad unter dem transparenten leitfähigen Material ausgebildet ist. Die Reflexionselektrode oder Reflexionsschicht kann beispielsweise aus einer Aluminium-Palladium-Kupfer-Legierung (APC-Legierung) oder Silber (Ag) ausgebildet werden. Die erste Elektrode 162 kann eine Dreifachschichtstruktur aus ITO/APC/ITO oder ITO/Ag/ITO aufweisen, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Eine erste Bank 172 wird aus einem Isolationsmaterial auf der ersten Elektrode 162 ausgebildet. Die erste Bank 172 kann durch Abscheiden eines anorganischen Isolationsmaterials wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx) und Strukturieren desselben durch einen Photolithographieprozess unter Verwendung einer Maske ausgebildet werden. Alternativ kann die erste Bank 172 durch Aufbringen von Polyimid und Strukturieren desselben ausgebildet werden.
  • Die erste Bank 172 wird zwischen benachbarten Pixelregionen P angeordnet und bedeckt Kanten der ersten Elektrode 162. Die erste Bank 172 kann nur zwischen den Pixelregionen P mit derselben Farbe angeordnet werden.
  • Dann wird eine zweite Bank 174 aus einem Isolationsmaterial auf der ersten Bank 172 ausgebildet. Die zweite Bank 174 wird durch Aufbringen eines organischen Isolationsmaterials mit einer hydrophoben Eigenschaft und Strukturieren desselben durch einen Photolithographieprozess unter Verwendung einer Maske ausgebildet. Alternativ kann die zweite Bank 174 durch Aufbringen eines organischen Isolationsmaterials mit einer hydrophilen Eigenschaft, Strukturieren desselben durch einen Photolithographieprozess unter Verwendung einer Maske und Durchführen einer hydrophoben Behandlung ausgebildet werden.
  • Die zweite Bank 174 wird zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben angeordnet. Die zweite Bank 174 weist eine Öffnung 174a auf, die einer Pixelreihe derselben Farbe entspricht, die die Pixelregionen P mit derselben Farbe umfasst, und die ersten Elektroden 162 der Pixelreihe derselben Farbe und die erste Bank 172 zwischen benachbarten ersten Elektroden 162 durch die Öffnung 174a freilegt.
  • Als nächstes wird in 6B ein Photoresistmuster 200 durch Aufbringen eines Photoresists und Entwickeln desselben ausgebildet.
  • Das Photoresistmuster 200 wird in der Öffnung 174a angeordnet. Das Photoresistmuster 200 bedeckt die erste Bank 172 zwischen den ersten Elektroden 162 der Pixelreihe derselben Farbe und legt die zweite Bank 174 an beiden Enden im Zusammenhang mit der Figur frei. Ferner kann das Photoresistmuster 200 eine obere Oberfläche der ersten Bank 172 unter der zweiten Bank 174 teilweise freilegen.
  • Das Photoresistmuster 200 kann eine obere Oberfläche und eine Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 zwischen den Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben bedecken.
  • Als nächstes werden in 6C ein erstes Isolationsmuster 176a und ein zweites Isolationsmuster 176b aus einem Isolationsmaterial ausgebildet. Das erste Isolationsmuster 176a wird auf einer oberen Oberfläche und einer Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 ausgebildet und das zweite Isolationsmuster 176b wird auf dem Photoresistmuster 200 ausgebildet. Das erste und das zweite Isolationsmuster 176a und 176b können voneinander getrennt sein. Hier kann das erste Isolationsmuster 176a auch auf der oberen Oberfläche der ersten Bank 172 ausgebildet werden, die teilweise freiliegt.
  • Das erste und das zweite Isolationsmuster 176a und 176b können durch Abscheiden eines Materials mit einer hydrophilen Eigenschaft, beispielsweise eines anorganischen Isolationsmaterials wie z. B. Siliziumoxid (SiO2) oder Siliziumnitrid (SiNx), ausgebildet werden. Alternativ können das erste und das zweite Isolationsmuster 176a und 176b aus Polyimid ausgebildet werden.
  • In 6D wird das erste Isolationsmuster 176a von 6C auf der oberen Oberfläche der zweiten Bank 174 entfernt, um dadurch eine dritte Bank 176 auf der Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 auszubilden.
  • Zu dieser Zeit kann das zweite Isolationsmuster 176b auf dem Photoresistmuster 200 teilweise oder vollständig entfernt werden.
  • Als nächstes werden in 6E das Photoresistmuster 200 von 6D und das zweite Isolationsmuster 176b von 6D entfernt. Zu dieser Zeit kann das zweite Isolationsmuster 176b von 6D zusammen mit dem Photoresistmuster 200 von 6D durch Entfernen des Photoresistmusters 200 von 6D durch einen Abhebeprozess entfernt werden. Folglich werden die erste Elektrode 162 und die erste Bank 172 in der Öffnung 174a freigelegt.
  • In 6F wird eine Lösungsschicht 180a auf der ersten Elektrode 162 und der ersten Bank 172, die durch die Öffnung 174a freiliegen, durch Tropfen einer Lumineszenzmateriallösung unter Verwendung einer Einspritzeinrichtung mit mehreren Düsen ausgebildet.
  • Zu dieser Zeit weist die zweite Bank 174 eine hydrophobe Eigenschaft auf. Selbst wenn die Lösungsschicht 180a auf die obere Oberfläche der zweiten Bank 174 aufgebracht wird, wird verhindert, dass die Lösungsschicht 180a in eine benachbarte Pixelregion P mit einer unterschiedlichen Farbe überläuft.
  • Da die dritte Bank 176 eine hydrophile Eigenschaft aufweist, hält ferner die dritte Bank 176 die Lösungsschicht 180a an beiden Enden der Öffnung 174a und es wird verhindert, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird.
  • Als nächstes wird in 6G eine Lichtemissionsschicht 180 auf den ersten Elektroden 162 in der Öffnung 174a durch Trocknen der Lösungsschicht 180a von 6F ausgebildet. Zu dieser Zeit kann Lösungsmittel in der Lösungsschicht 180a von 6F durch Durchführen eines Vakuumtrocknungsprozesses verdampft werden. Wenn die Lösung getrocknet wird, ist eine Trocknungsgeschwindigkeit des Lösungsmittels in einer Region benachbart zur zweiten Bank 174 von jener in anderen Regionen verschieden. Daher kann eine Höhe der Lichtemissionsschicht 180 in der Region benachbart zur zweiten Bank 174 ansteigen, wenn sie näher an die zweite Bank 174 gelangt.
  • Hier wird die Lichtemissionsschicht 180 auch auf der ersten Bank 172 in der Öffnung 174a ausgebildet. Die Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Bank 172 ist mit der Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Elektrode 162 der Pixelregion P benachbart dazu verbunden und ist als ein Körper ausgebildet.
  • In 6H wird eine zweite Elektrode 190 im Wesentlichen über einer ganzen Oberfläche des Substrats 110 durch Abscheiden eines leitfähigen Materials mit einer relativ niedrigen Arbeitsfunkton durch ein Sputterverfahren oder dergleichen auf der Lichtemissionsschicht 180 ausgebildet. Die zweite Elektrode 190 kann aus Aluminium (Al), Magnesium (Mg), Silber (Ag) oder einer Legierung davon ausgebildet werden. Die zweite Elektrode 190 weist eine relativ dünne Dicke auf, so dass Licht von der Lichtemissionsschicht 180 durch diese übertragen werden kann. Alternativ kann die zweite Elektrode 190 aus einem transparenten leitfähigen Material wie z. B. Indium-Gallium-Oxid (IGO) ausgebildet werden, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • In der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird die Lichtemissionsschicht 180 durch den Lösungsprozess ausgebildet und eine Anzeigevorrichtung mit einer großen Größe und hohen Auflösung kann implementiert werden.
  • Außerdem sind in der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Lichtemissionsschichten 180 der Pixelregionen P mit derselben Farbe miteinander verbunden und als ein Körper ausgebildet, wodurch die Abweichung der Tropfmenge zwischen Düsen minimiert wird und die Dicken der Lichtemissionsschichten 180 der jeweiligen Pixelregionen P gleichmäßig ausgebildet werden. Daher wird die Unausgeglichenheit verhindert, wodurch effektiv verhindert wird, dass die Bildqualität der Anzeigevorrichtung gesenkt wird.
  • Ferner wird die dritte Bank 176 mit der hydrophilen Eigenschaft auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 entsprechend kurzen Seiten der Öffnung 174a ausgebildet, wodurch das Phänomen, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird, und die Defekte bei der Ausbildung der Lichtemissionsschicht 180 verhindert werden.
  • <Zweite Ausführungsform>
  • 7 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. Die zweite Ausführungsform weist (einen) Unterschied(e) in der Struktur der dritten Bank zur ersten Ausführungsform auf. Dieselben Teile werden durch dieselben Bezugszeichen bezeichnet und auf Beschreibungen derselben Teile wird verzichtet oder sie sind kurz.
  • In 7 ist eine Überzugsschicht 150 auf einem Substrat 110 ausgebildet, auf dem mehrere Pixelregionen P, die jeweils roten, grünen und blauen Subpixeln R, G und B entsprechen, definiert sind. Eine erste Elektrode 162 ist in jeder Pixelregion P auf der Überzugsschicht 150 ausgebildet.
  • Eine erste Bank 172 mit einer hydrophilen Eigenschaft ist auf der ersten Elektrode 162 ausgebildet. Die erste Bank 172 überlappt mit und bedeckt Kanten der ersten Elektrode 162. Die erste Bank 172 ist zwischen benachbarten Pixelregionen P mit derselben Farbe ausgebildet. Außerdem kann die erste Bank 172 ferner zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet sein.
  • Eine zweite Bank 174 mit einer hydrophoben Eigenschaft ist auf der ersten Bank 172 ausgebildet. Die zweite Bank 174 weist eine Öffnung 174a auf, die einer Pixelreihe derselben Farbe entspricht, die die Pixelregionen P mit derselben Farbe umfasst, und die ersten Elektroden 162 der Pixelreihe derselben Farbe und die erste Bank 172 zwischen benachbarten ersten Elektroden 162 durch die Öffnung 174a freilegt. Ferner ist die zweite Bank 174 zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet.
  • Eine dritte Bank 276 ist auf jeder von entgegengesetzten Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 ausgebildet. Zu dieser Zeit ist die dritte Bank 276 an jedem von beiden Enden der Pixelreihe derselben Farbe ausgebildet. Das heißt, die dritte Bank 276 ist an jeder der kurzen Seiten der Öffnung 174a ausgebildet. Hier ist die dritte Bank 276 auch auf einer oberen Oberfläche der zweiten Bank 174 ausgebildet. Unterdessen ist die dritte Bank 276 nicht auf einer oberen Oberfläche der zweiten Bank 174 zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet.
  • Eine Lichtemissionsschicht 180 ist auf der ersten Elektrode 162, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, in jeder Pixelregion P ausgebildet. Außerdem ist die Lichtemissionsschicht 180 auch auf der ersten Bank 172 ausgebildet, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, und die Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Bank 172 ist mit der Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Elektrode 162 der Pixelregion P benachbart dazu verbunden und ist als ein Körper ausgebildet. Die Lichtemissionsschicht 180 wird durch einen Lösungsprozess ausgebildet.
  • Eine zweite Elektrode 190 ist auf der Lichtemissionsschicht 180 ausgebildet. Zu dieser Zeit ist die zweite Elektrode 190 auch auf einer oberen Oberfläche und einer Seitenoberfläche der dritten Bank 276 ausgebildet und die zweite Elektrode 190 kontaktiert die obere Oberfläche und die Seitenoberfläche der dritten Bank 276. Ferner ist die zweite Elektrode 190 auch auf der oberen Oberfläche und der Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet.
  • Wie vorstehend beschrieben, sind in der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Lichtemissionsschichten 180 der Pixelregionen P mit derselben Farbe miteinander verbunden und als ein Körper ausgebildet, wodurch die Abweichung der Tropfmenge zwischen Düsen minimiert wird und die Dicken der Lichtemissionsschichten 180 der jeweiligen Pixelregionen P gleichmäßig ausgebildet werden. Daher wird die Unausgeglichenheit verhindert, wodurch effektiv verhindert wird, dass die Bildqualität der Anzeigevorrichtung gesenkt wird.
  • Ferner ist die dritte Bank 276 mit der hydrophilen Eigenschaft auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 ausgebildet, wodurch das Phänomen, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird, und das Problem, dass die Lichtemissionsschicht 180 nicht nahe beiden Enden der Pixelreihe derselben Farbe ausgebildet wird, verhindert werden.
  • Außerdem weist die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der zweiten Ausführungsform Vorteile des einfachen Prozesses auf, da die dritte Bank 276 im Vergleich zur ersten Ausführungsform leicht ausgebildet werden kann.
  • Zu dieser Zeit wird in der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der zweiten Ausführungsform das Photoresistmuster 200 ausgebildet, wie in 6B gezeigt, und das erste und das zweite Isolationsmuster 176a und 176b werden ausgebildet, wie in 6C gezeigt. Dann werden das Photoresistmuster 200 und das zweite Isolationsmuster 176b entfernt, wodurch die dritte Bank 276 mit dem ersten Isolationsmuster 176a ausgebildet wird.
  • <Dritte Ausführungsform>
  • 8 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. Die dritte Ausführungsform weist (einen) Unterschied(e) in der Struktur der dritten Bank zur ersten Ausführungsform auf. Dieselben Teile werden mit denselben Bezugszeichen bezeichnet und auf Beschreibung derselben Teile wird verzichtet oder sie sind kurz.
  • In 8 ist eine Überzugsschicht 150 auf einem Substrat 110 ausgebildet, auf dem mehrere Pixelregionen P, die jeweils roten, grünen und blauen Subpixeln R, G und B entsprechen, definiert sind. Eine erste Elektrode 162 ist in jeder Pixelregion P auf der Überzugsschicht 150 ausgebildet.
  • Eine erste Bank 172 mit einer hydrophilen Eigenschaft ist auf der ersten Elektrode 162 ausgebildet. Die erste Bank 172 überlappt mit und bedeckt Kanten der ersten Elektrode 162. Die erste Bank 172 ist zwischen benachbarten Pixelregionen P mit derselben Farbe ausgebildet. Außerdem kann die erste Bank 172 ferner zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet sein.
  • Eine zweite Bank 174 mit einer hydrophoben Eigenschaft ist auf der ersten Bank 172 ausgebildet. Die zweite Bank 174 weist eine Öffnung 174a auf, die einer Pixelreihe derselben Farbe entspricht, die die Pixelregionen P mit derselben Farbe umfasst, und die ersten Elektroden 162 der Pixelreihe derselben Farbe und die erste Bank 172 zwischen benachbarten ersten Elektroden 162 durch die Öffnung 174a freilegt. Ferner ist die zweite Bank 174 zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet.
  • Eine dritte Bank 376 ist auf jeder von entgegengesetzten Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 ausgebildet. Zu dieser Zeit ist die dritte Bank 376 an jedem vom beiden Enden der Pixelreihe derselben Farbe ausgebildet. Das heißt, die dritte Bank 376 ist an jeder der kurzen Seiten der Öffnung 174a ausgebildet. Hier ist die dritte Bank 376 auch teilweise auf einer oberen Oberfläche der zweiten Bank 174 ausgebildet und legt die obere Oberfläche der zweiten Bank 174 frei. Unterdessen ist die dritte Bank 376 nicht auf einer oberen Oberfläche der zweiten Bank 174 zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet.
  • Eine Lichtemissionsschicht 180 ist auf der ersten Elektrode 162, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, in jeder Pixelregion P ausgebildet. Außerdem ist die Lichtemissionsschicht 180 auch auf der ersten Bank 172 ausgebildet, die durch die Öffnung 174a der zweiten Bank 174 freiliegt, und die Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Bank 172 ist mit der Lichtemissionsschicht 180 auf der ersten Elektrode 162 der Pixelregion P benachbart dazu verbunden und ist als ein Körper ausgebildet. Die Lichtemissionsschicht 180 wird durch einen Lösungsprozess ausgebildet.
  • Eine zweite Elektrode 190 ist auf der Lichtemissionsschicht 180 ausgebildet. Zu dieser Zeit ist die zweite Elektrode 190 auch auf einer oberen Oberfläche und einer Seitenoberfläche der dritten Bank 376 ausgebildet und die zweite Elektrode 190 kontaktiert die obere Oberfläche und die Seitenoberfläche der dritten Bank 376. Ferner ist die zweite Elektrode 190 auch auf der oberen Oberfläche und der Seitenoberfläche der zweiten Bank 174 zwischen benachbarten Pixelregionen P mit unterschiedlichen Farben ausgebildet.
  • Wie vorstehend beschrieben, sind in der Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Lichtemissionsschichten 180 der Pixelregionen P mit derselben Farbe miteinander verbunden und als ein Körper ausgebildet, wodurch die Abweichung der Tropfmenge zwischen Düsen minimiert wird und die Dicken der Lichtemissionsschichten 180 der jeweiligen Pixelregionen P gleichmäßig ausgebildet werden. Daher wird die Unausgeglichenheit verhindert, wodurch effektiv verhindert wird, dass die Bildqualität der Anzeigevorrichtung gesenkt wird.
  • Ferner ist die dritte Bank 376 mit der hydrophilen Eigenschaft auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank 174 ausgebildet, wodurch das Phänomen, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird, und das Problem, dass die Lichtemissionsschicht 180 nicht nahe beiden Enden der Pixelreihe derselben Farbe ausgebildet wird, verhindert werden.
  • Außerdem weist die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der dritten Ausführungsform Vorteile des einfachen Prozesses auf, da die dritte Bank 376 im Vergleich zur ersten Ausführungsform leicht ausgebildet werden kann. Überdies kann, da die zweite Bank 174 mit der hydrophoben Eigenschaft freigelegt ist, die Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung gemäß der dritten Ausführungsform im Vergleich zur zweiten Ausführungsform verhindern, dass die Lösung in eine benachbarten Pixelregion P mit einer unterschiedlichen Farbe überläuft.
  • In der vorliegenden Offenbarung wird durch Ausbilden der Lichtemissionsschicht jedes Subpixels durch den Lösungsprozess eine Maske weggelassen, um dadurch die Herstellungskosten zu verringern, und eine Anzeigevorrichtung mit einer großen Größe und hohen Auflösung kann implementiert werden.
  • Überdies sind die Lichtemissionsschichten der Subpixel derselben Farbe miteinander verbunden und als ein Körper ausgebildet, wodurch die Abweichung der Tropfmenge zwischen Düsen minimiert wird und die Dicken der Lichtemissionsschichten der Subpixel gleichmäßig ausgebildet werden. Daher wird die Unausgeglichenheit verhindert, wodurch effektiv verhindert wird, dass die Bildqualität der Anzeigevorrichtung gesenkt wird.
  • Da die hydrophile Bank auf den Seitenoberflächen der hydrophoben Bank ausgebildet ist, die beiden Enden der Subpixelreihe derselben Farbe entsprechen, wird überdies verhindert, dass die Lösung in das Zentrum gezogen wird, und es ist möglich, das Problem zu verhindern oder anzugehen, dass die Lichtemissionsschicht nicht nahe beiden Enden der Subpixelreihe derselben Farbe ausgebildet wird.
  • Für dem Fachmann auf dem Gebiet ist ersichtlich, dass verschiedene Modifikationen und Variationen in einer Anzeigevorrichtung der vorliegenden Offenbarung durchgeführt werden können, ohne vom Schutzbereich der Ausführungsformen abzuweichen. Folglich ist beabsichtigt, dass die vorliegende Offenbarung die Modifikationen und Variationen dieser Erfindung abdeckt, vorausgesetzt, dass sie in den Schutzbereich der beigefügten Ansprüche und ihrer Äquivalente fallen.

Claims (15)

  1. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, die umfasst: mehrere Pixel, die auf einem Substrat angeordnet sind, wobei die mehreren Pixel Subpixel mit unterschiedlichen Farben, die entlang einer ersten Richtung angeordnet sind, und Subpixel mit derselben Farbe, die entlang einer zweiten Richtung angeordnet sind, umfassen; wobei jedes Subpixel eine Leuchtdiode (De) umfasst, wobei die Leuchtdiode (De) eine erste Elektrode (162), eine Lichtemissionsschicht (180) und eine zweite Elektrode (190) umfasst; eine erste Bank (172), die zwischen benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe entlang der zweiten Richtung angeordnet ist und mit Kanten der ersten Elektrode (162) überlappt; eine zweite Bank (174) mit einer Öffnung (174a), die den Subpixeln mit derselben Farbe entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln mit unterschiedlichen Farben angeordnet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind; und eine dritte Bank (176, 276, 376) auf Seitenoberflächen der zweiten Bank (174), die einander entlang der zweiten Richtung zugewandt sind und der Öffnung (174a) entsprechen.
  2. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 1, wobei die erste Bank (172) und die dritte Bank (176, 276, 376) eine hydrophile Eigenschaft aufweisen und die zweite Bank (174) eine hydrophobe Eigenschaft aufweist.
  3. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die dritte Bank (176, 276, 376) eine höhere Oberflächenenergie und/oder eine höhere hydrophile Eigenschaft aufweist als die erste Bank (172).
  4. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die dritte Bank (176, 276, 376) ferner auf einer oberen Oberfläche der zweiten Bank (174) ausgebildet ist.
  5. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die erste Bank (172) ferner einen Abschnitt umfasst, der zwischen benachbarten Subpixeln mit unterschiedlichen Farben ausgebildet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind.
  6. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 5, wobei der Abschnitt der ersten Bank (172), der zwischen den benachbarten Subpixeln ausgebildet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind, unter der zweiten Bank (174) ausgebildet ist.
  7. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Lichtemissionsschichten (180) auf den ersten Elektroden (162) von benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, auf der ersten Bank (172) zwischen den benachbarten Subpixeln entlang der zweiten Richtung verbunden sind, um einen Körper zu bilden.
  8. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach Anspruch 7, wobei die Emissionsschicht (180), die als ein Körper ausgebildet ist, eine höhere Höhe in einem Kantenabschnitt der Öffnung (174a) der zweiten Bank (174) als in einem zentralen Abschnitt der Öffnung (174a) aufweist.
  9. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die erste Bank (172) und die zweite Bank (174) durch einen Ätzmaskenprozess ausgebildet werden.
  10. Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Lichtemissionsschicht (180) jedes Subpixels durch einen Lösungsprozess ausgebildet wird.
  11. Verfahren zur Herstellung einer Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung, wobei das Verfahren umfasst: Ausbilden einer ersten Elektrode (162) in jedem Subpixel auf einem Substrat, auf dem mehrere Pixel definiert sind, wobei die mehreren Pixel Subpixel mit unterschiedlichen Farben, die entlang einer ersten Richtung angeordnet sind, und Subpixel mit derselben Farbe, die entlang einer zweiten Richtung angeordnet sind, umfassen, definiert sind; Ausbilden einer ersten Bank (172), die zwischen benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe entlang der zweiten Richtung angeordnet ist, wobei die erste Bank (172) mit Kanten der ersten Elektrode (162) überlappt; Ausbilden einer zweiten Bank (174) auf der ersten Bank (172), wobei die zweite Bank (174) eine Öffnung (174a) aufweist, die den Subpixeln mit derselben Farbe entspricht, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, und zwischen benachbarten Subpixeln mit unterschiedlichen Farben angeordnet ist, die entlang der ersten Richtung angeordnet sind; Ausbilden eines Photoresistmusters (200), das der Öffnung (174a) entspricht, wobei das Photoresistmuster (200) die erste Elektrode (162) und die erste Bank (172) bedeckt und die zweite Bank (174) freilegt; Ausbilden eines ersten Isolationsmusters (176a) und eines zweiten Isolationsmusters (176b), wobei das erste Isolationsmuster (176a) auf einer oberen Oberfläche und Seitenoberflächen der zweiten Bank (174) angeordnet ist, und das zweite Isolationsmuster (176b) auf dem Photoresistmuster (200) angeordnet ist; Ausbilden einer dritten Bank (176, 276, 376) auf den Seitenoberflächen der zweiten Bank (174) durch Entfernen des Photoresistmusters (200) und des zweiten Isolationsmusters (176b); Ausbilden einer Lösungsschicht (180a) in der Öffnung (174a) und Kontaktieren der dritten Bank (176, 276, 376); Ausbilden einer Lichtemissionsschicht (180) durch Trocknen der Lösungsschicht (180a); und Ausbilden einer zweiten Elektrode (190) auf der Lichtemissionsschicht (180).
  12. Verfahren nach Anspruch 11, das ferner das selektive Entfernen des ersten Isolationsmusters (176a) auf der oberen Oberfläche der zweiten Bank (174) vor dem Ausbilden der dritten Bank (176, 276, 376) umfasst.
  13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, wobei die erste Bank (172) und die dritte Bank (176, 276, 376) eine hydrophile Eigenschaft aufweisen und die zweite Bank (174) eine hydrophobe Eigenschaft aufweist.
  14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei die dritte Bank (176, 276, 376) eine höhere Oberflächenenergie und/oder eine höhere hydrophile Eigenschaft aufweist als die erste Bank (172).
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, wobei die Lichtemissionsschicht (180) so ausgebildet ist, dass sie auf der ersten Bank (172) zwischen benachbarten Subpixeln mit derselben Farbe, die entlang der zweiten Richtung angeordnet sind, verbunden ist, um einen Körper zu bilden, und/oder wobei die Emissionsschicht (180) eine höhere Höhe in einem Kantenabschnitt der Öffnung (174a) der zweiten Bank (174) aufweist als in einem zentralen Abschnitt der Öffnung (174a).
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102655061B1 (ko) * 2019-03-25 2024-04-09 삼성디스플레이 주식회사 양자점층 제조 방법, 양자점층을 포함하는 발광 소자 제조 방법, 및 양자점층을 포함하는 표시 장치
KR20210000383A (ko) * 2019-06-25 2021-01-05 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시 장치
KR20210104196A (ko) * 2020-02-14 2021-08-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
US11980046B2 (en) * 2020-05-27 2024-05-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method for forming an isolation structure having multiple thicknesses to mitigate damage to a display device
KR20220093874A (ko) * 2020-12-28 2022-07-05 엘지디스플레이 주식회사 투명표시장치

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100508002B1 (ko) * 2002-09-03 2005-08-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 노즐코팅을 이용한 유기 전계 발광 소자 제조 방법
JP2007294118A (ja) * 2006-04-21 2007-11-08 Toppan Printing Co Ltd 有機el表示素子及びその製造方法
KR101325577B1 (ko) * 2006-04-28 2013-11-06 삼성디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 및 그 제조방법
JP2007305331A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Toppan Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2008234989A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置、及びラインヘッド
JP4396732B2 (ja) * 2007-06-01 2010-01-13 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出ヘッドの配置方法、ヘッドユニットおよび液滴吐出装置、並びに、電気光学装置の製造方法
JP2009176590A (ja) * 2008-01-25 2009-08-06 Seiko Epson Corp 有機el装置、有機el装置の製造方法、電子機器
JP2009272277A (ja) * 2008-05-12 2009-11-19 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
EP2242334B1 (de) * 2008-06-06 2014-04-30 Panasonic Corporation Organische el-anzeigetafel und verfahren zu ihrer herstellung
KR100971751B1 (ko) * 2008-10-23 2010-07-21 삼성모바일디스플레이주식회사 유기전계발광표시장치 및 그의 제조방법
JP2011034814A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Casio Computer Co Ltd 発光装置、表示装置、及び、発光装置の製造方法
KR101917800B1 (ko) 2011-11-24 2018-11-13 엘지디스플레이 주식회사 감광성 바인더 수지, 이를 포함한 뱅크 형성용 조성물 및 이를 이용한 유기전계발광소자
KR102205700B1 (ko) * 2014-07-16 2021-01-21 삼성전자주식회사 유기 전계발광 표시장치 및 그 제조 방법
CN104167430B (zh) * 2014-08-08 2017-04-05 京东方科技集团股份有限公司 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置
KR102280423B1 (ko) * 2014-09-16 2021-07-22 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광 표시장치
CN107771358A (zh) * 2015-06-12 2018-03-06 默克专利有限公司 具有含氟聚合物台架结构的有机电子器件
KR102536628B1 (ko) * 2015-08-24 2023-05-26 엘지디스플레이 주식회사 투명표시장치
KR102543973B1 (ko) * 2015-12-31 2023-06-15 엘지디스플레이 주식회사 유기발광소자 표시장치
JP6658043B2 (ja) * 2016-02-09 2020-03-04 株式会社デンソー 有機el表示装置およびその製造方法
CN106129264B (zh) 2016-07-21 2018-06-05 深圳市华星光电技术有限公司 像素界定层的制作方法与oled器件的制作方法
KR20180032736A (ko) * 2016-09-22 2018-04-02 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 다이오드 표시장치
KR20180076813A (ko) 2016-12-28 2018-07-06 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시 장치
KR20180076820A (ko) 2016-12-28 2018-07-06 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시 장치
KR20180077718A (ko) 2016-12-29 2018-07-09 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시 장치
WO2018167926A1 (ja) * 2017-03-16 2018-09-20 シャープ株式会社 表示装置およびその製造方法
KR102410500B1 (ko) * 2017-11-30 2022-06-16 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시장치
KR102513383B1 (ko) * 2017-12-05 2023-03-22 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시장치
KR20190068315A (ko) * 2017-12-08 2019-06-18 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시장치
KR102555143B1 (ko) * 2017-12-14 2023-07-12 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시장치
KR102560918B1 (ko) * 2017-12-29 2023-07-27 엘지디스플레이 주식회사 전계 발광 표시장치
KR102640196B1 (ko) * 2018-10-12 2024-02-22 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치

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