DE102014112789B4 - Zellen-Layout und Struktur - Google Patents

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Abstract

Verfahren zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung, wobei das Verfahren Folgendes umfasst:Anordnen einer ersten Zelle (301) und einer zweiten Zelle (405) in einer ersten Zellenreihe (401);Anordnen einer dritten Zelle (409) und einer vierten Zelle (411) in einer zweiten Zellenreihe (402), die der ersten Zellenreihe benachbart ist,wobei die Zellen Durchkontaktierungen aufweisen; und danachAusführen einer Behandlung, mittels eines Mikroprozessors, wobei die Behandlung umfasst:Kombinieren einer ersten Durchkontaktierung (331) der ersten Zelle (301) und einer zweiten Durchkontaktierung (329) der dritten Zelle (409) zu einer dritten Durchkontaktierung (501), wobei die erste und die zweite Durchkontaktierung die gleichen Strukturen elektrisch miteinander verbinden und physisch eng benachbart angeordnet sind; undEntfernen einer vierten Durchkontaktierung (333) der ersten Zelle (301), ohne eine elektrische Verbindung zu unterbrechen, wobei die vierte Durchkontaktierung (333) eine redundante Verbindung zu den gleichen Strukturen bereitstellt.

Description

  • HINTERGRUND
  • Im Allgemeinen helfen Electronic-Design-Automation-(EDA)-Werkzeuge Halbleiter-Designern dabei, eine rein verhaltensmäßige Beschreibung einer angestrebten Schaltung zu nehmen und daran zu arbeiten, ein fertiges Layout der Schaltung zu erstellen, das bereit für die Herstellung ist. Dieser Vorgang nimmt normalerweise die verhaltensmäßige Beschreibung der Schaltung und überführt sie in eine funktionale Beschreibung, die dann in Tausende von booleschen Funktionen zerlegt wird und mittels einer Standard-Zellenbibliothek in Reihen von Zellen überführt wird. Sobald sie überführt ist, wird eine Synthese ausgeführt, um das strukturelle Design in ein physisches Layout zu verwandeln.
  • Während Halbleitervorrichtungen jedoch im Allgemeinen kleiner und kleiner wurden, sind technische Probleme im Gebiet der Electronic-Design-Automation aufgetreten. Solche Probleme können auftreten, wenn strukturelle Designs die physikalischen Grenzen des Herstellungsverfahrens erreichen, das verwendet wird, um die Designs in die physische Halbleitervorrichtung zu verwandeln. Solche Probleme müssen angegangen und gelöst werden, um damit fortzufahren, die Gesamtgröße der Halbleitervorrichtungen zu verringern.
  • Die US 8,356,262 B1 offenbart ein Verfahren zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung, wobei Durchkontaktierungen, die nahe beieinanderliegen und beide mit Versorgungsleitungen verbunden sind, kombiniert werden. Die kombinierten Durchkontaktierungen liegen jeweils innerhalb ein und derselben Zelle.
  • In der US 2003/0229866 A1 ist beschrieben, dass eine ursprüngliche Zelle durch eine Klonzelle ersetzt werden kann, wenn elektrische Redundanz vorliegt.
  • Es ist eine Aufgabe der Erfindung, das Layout und dadurch die Bearbeitung der Halbleitervorrichtung zu vereinfachen.
  • Die Erfindung sieht ein Verfahren nach Anspruch 1 und ein Verfahren nach Anspruch 8 vor. Ausgestaltungen sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
  • Figurenliste
  • Aspekte der vorliegenden Offenbarung werden am besten aus der folgenden detaillierten Beschreibung verstanden, wenn sie mit den beigefügten Figuren gelesen wird. Man beachte, dass in Übereinstimmung mit dem üblichen Vorgehen in der Branche verschiedene Einrichtungen nicht im Maßstab gezeichnet sind. In Wirklichkeit können die Abmessungen der verschiedenen Einrichtungen zur Klarheit der Beschreibung beliebig vergrößert oder verkleinert werden.
    • 1 zeigt ein Blockdiagramm eines Verarbeitungssystems in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 2 zeigt ein Flussdiagramm, das von einem Electronic-Design-Automation-System in Übereinstimmung mit manchen Ausführungsformen verwendet wird.
    • 3 zeigt eine einzelne Zelle in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 4A-4D zeigen eine erste Zellenreihe und eine zweite Zellenreihe in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 5A-5D zeigen ein Ergebnis einer Behandlung nach dem Anordnen in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 6A-6F zeigen Ergebnisse der Behandlung nach dem Anordnen in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 7A-14G zeigen einen Verfahrensfluss für die Behandlung nach dem Anordnen in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 15 zeigt einen Verfahrensfließdiagramm für die Behandlung nach dem Anordnen in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 16A-25G zeigen einen zweiten Verfahrensfluss für die Behandlung nach dem Anordnen in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
    • 26 zeigt ein zweites Verfahrensfließdiagramm für die Behandlung nach dem Anordnen in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
  • Die folgende Offenbarung sieht viele verschiedene Ausführungsformen oder Beispiele vor, um verschiedene Merkmale des angegebenen Gegenstands zu implementieren. Spezielle Beispiele von Komponenten und Anordnungen sind unten beschrieben, um die vorliegende Offenbarung zu vereinfachen. Diese sind natürlich nur Beispiele und sollen nicht einschränkend wirken. Das Ausbilden einer ersten Einrichtung über oder auf einer zweiten Einrichtung in der folgenden Beschreibung kann beispielsweise Ausführungsformen umfassen, in denen die erste und die zweite Einrichtung in direktem Kontakt ausgebildet sind, und kann auch Ausführungsformen umfassen, in denen zusätzliche Einrichtungen zwischen der ersten und der zweiten Einrichtung ausgebildet sein können, so dass die erste und die zweite Einrichtung nicht in direktem Kontakt sein müssen. Zusätzlich kann die vorliegende Offenbarung Bezugszeichen und/oder Buchstaben in den verschiedenen Beispielen wiederholen. Diese Wiederholung dient der Einfachheit und Klarheit und erzwingt als solche keine Beziehung zwischen den verschiedenen beschriebenen Ausführungsformen und/oder Konfigurationen.
  • Die vorliegenden Ausführungsformen werden mit Bezug auf spezielle Ausführungsformen in einem speziellen Kontext beschrieben, das heißt mittels eines Electronic-Design-Automation-(EDA)-Werkzeugs, um Zellen anzuordnen und dann nach dem Anordnen eine Behandlung der Durchkontaktierungen auszuführen, um eine Zellenstruktur mit höherer Dichte zu erhalten. Die Ausführungsformen können jedoch auch auf andere Designverfahren angewendet werden.
  • Bezieht man sich jetzt auf 1, so ist ein Blockdiagramm eines Verarbeitungssystems 100, etwa eines EDA-Verarbeitungssystems, in Übereinstimmung mit einer Ausführungsform vorgesehen. Das Verarbeitungssystem 100 ist eine Allzweck-Computerplattform und kann verwendet werden, um einige oder alle der Verfahren zu implementieren, die hier beschrieben sind, oder ist eine dedizierte Computerplattform, um elektronisches Design anzuwenden. Das Verarbeitungssystem 100 kann eine Verarbeitungseinheit 110 umfassen, etwa einen Desktop-Computer, eine Workstation, einen Laptop-Computer oder eine dedizierte Einheit, die für eine bestimmte Anwendung angepasst ist. Das Verarbeitungssystem 100 kann mit einer Anzeige 114 und einer oder mehreren Eingabe/Ausgabevorrichtungen 112 ausgestattet sein, etwa einer Maus, einer Tastatur oder einem Drucker. Die Verarbeitungseinheit 110 kann einen Zentralprozessor (CPU) 120, Speicher 122, eine Massenspeichervorrichtung 124, einen Videoadapter 126 und eine I/O-Schnittstelle 128 umfassen, die mit einem Bus 130 verbunden sind.
  • Der Bus 130 kann eine oder mehrere von jeder Art von Bus-Architekturen sein einschließlich eines Speicherbusses oder Speicher-Controllers, eines Peripherie-Busses oder eines Video-Busses. Die CPU 120 kann jede Art von elektronischem Datenprozessor umfassen, etwa einen Mikroprozessor, und der Speicher 122 kann jede Art von Systemspeicher umfassen, etwa statisches RAM (SRAM), dynamisches RAM (DRAM) oder ROM.
  • Die Massenspeichervorrichtung 124 kann jede Art von Speichervorrichtung umfassen, die konfiguriert ist, um Daten, Programme und andere Information zu speichern und die Daten, Programme und andere Information über den Bus 130 verfügbar zu machen. Die Massenspeichervorrichtung 124 kann beispielsweise eine Festplatte und/oder eine Magnetplatte und/oder ein optisches Disk-Laufwerks oder Ähnliches umfassen.
  • Der Videoadapter 126 und die I/O-Schnittstelle 128 bieten Schnittstellen, um externe Eingabe- und Ausgabevorrichtungen mit der Verarbeitungseinheit 110 zu verbinden. Wie in 1 gezeigt ist, umfassen Beispiele der Eingabe- und Ausgabevorrichtungen die Anzeige 114, die mit dem Videoadapter 126 verbunden ist, und die I/O-Vorrichtung 112, etwa eine Maus, eine Tastatur, einen Drucker und Ähnliches, die mit der I/O-Schnittstelle 128 verbunden sind. Andere Vorrichtungen können mit der Verarbeitungseinheit 110 verbunden sein, und zusätzliche oder weniger Schnittstellenkarten können verwendet werden. Es kann beispielsweise eine serielle Schnittstellenkarte (nicht gezeigt) verwendet werden, um eine serielle Schnittstelle für einen Drucker bereitzustellen. Die Verarbeitungseinheit 110 kann auch eine Netzwerkschnittstelle 140 umfassen, die eine Kabelverbindung mit einem LAN oder einem WAN 116 sein kann und/oder eine drahtlose Verbindung.
  • Man beachte, dass das Verarbeitungssystem 100 andere Komponenten umfassen kann. Das Verarbeitungssystem 100 kann beispielsweise Stromversorgung, Kabel, eine Hauptplatine, entfernbare Speichermedien, Gehäuse und Ähnliches umfassen. Diese anderen Komponenten werden, obwohl sie nicht gezeigt sind, als Teil des Verarbeitungssystems 100 angesehen.
  • In einer Ausführungsform ist ein EDA Programmcode, der durch die CPU 120 ausgeführt wird, um eine Nutzerdatei zu analysieren, um ein Layout für eine integrierte Schaltung zu erhalten (das unten mit Bezug auf 2 weiter beschrieben ist). Weiter kann, während des Ausführens der EDA, die EDA funktionale Komponenten des Layouts analysieren, wie in der Branche bekannt ist. Auf den Programmcode kann durch die CPU 120 über den Bus 130 von dem Speicher 122, der Massenspeichervorrichtung 124 oder Ähnlichem oder entfernt durch die Netzwerkschnittstelle 140 zugegriffen werden.
  • 2 zeigt einen möglichen Verfahrensfluss, der durch die EDA in einer Ausführungsform verwendet wird, um ein physisches Layout aus einem von einem Nutzer bereitgestellten verhaltensmäßigen/funktionalen Design 201 zu erzeugen. Das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 gibt das angestrebte Verhalten oder die angestrebte Funktion der Schaltungen an, gestützt auf verschiedene Signale oder Stimuli, die an die Eingänge des Gesamtdesigns angelegt werden, und kann in einer geeigneten Sprache geschrieben sein, etwa einer Hardwarebeschreibungssprache (HDL). Das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 kann in die Verarbeitungseinheit 110 über die I/O-Schnittstelle 128 geladen werden (siehe 1), etwa indem ein Nutzer die Datei erstellt, während die EDA ausgeführt wird. Alternativ kann das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 in den Speicher 122 oder die Massenspeichervorrichtung 124 geladen und/oder gespeichert werden oder das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 kann über die Netzwerkschnittstelle 140 von einem entfernten Nutzer geladen werden (siehe 1). In diesen Fällen greift die CPU 120 auf das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 während des Ausführens der EDA zu.
  • Zusätzlich stellt der Nutzer auch eine Menge von Designeinschränkungen 203 bereit, um das Gesamtdesign des physischen Layouts des verhaltensmäßigen/funktionalen Designs 201 einzuschränken. Die Designeinschränkungen 203 können beispielsweise über die I/O-Schnittstelle 128 eingegeben werden, über die Netzwerkschnittstelle heruntergeladen werden oder Ähnliches. Die Designbeschränkungen 203 können Zeitsteuerung oder andere geeignete Beschränkungen angeben, an die sich das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 halten muss, sobald es physisch in einer integrierten Schaltung ausgebildet wurde.
  • Die EDA nimmt das verhaltensmäßige/funktionale Design 201 und die Designbeschränkungen 203 und führt eine Synthese 205 aus, um eine funktional äquivalente logische Schaltungsbeschreibung auf Gate-Ebene, etwa eine Netzliste, zu erzeugen. Die Synthese 205 bildet die funktional äquivalente logische Schaltungsbeschreibung auf Gate-Ebene, indem es das Verhalten und/oder die Funktionen, die in dem verhaltensmäßigen/funktionalen Design 201 angestrebt sind, mit Standard-Zellen von Zellbibliotheken 206 abgleicht, die die Designeinschränkungen 203 erfüllen.
  • Die Zellbibliotheken 206 können eine oder mehrere einzelne Zellbibliotheken umfassen. Jede der einzelnen Zellbibliotheken umfasst eine Auflistung von vorher entworfenen Komponenten, die Zellen genannt werden, die jeweils eine getrennte Logikfunktion in einem kleinen Maßstab ausführen. Die Zelle ist in den einzelnen Zellbibliotheken als Information gespeichert, die interne Schaltungselemente umfasst, die verschiedenen Verbindungen zu diesen Schaltungselementen, eine vorher entworfene physische Layoutstruktur, die die Höhe jeder Zelle zusammen mit der entworfenen Speisespannungsleitung der Zelle umfasst, Implantierungen von Dotierungsmitteln, Wannen und Ähnliches. Zusätzlich kann die gespeicherte Zelle auch eine Form der Zelle umfassen, Anschlussorte für externe Verbindungen, Verzögerungscharakteristika, Stromverbrauch und Ähnliches.
  • Sobald die Synthese 205 die funktional äquivalente logische Schaltungsbeschreibung auf Gate-Ebene aus dem verhaltensmäßigen/funktionalen Design 201 und den Designeinschränkungen 203 erzeugt hat, indem eine oder mehrere der Zellbibliotheken 206 verwendet werden, wird ein Platzierungs- und Routing-Verfahren (engl. „place and route“) 213 ausgeführt, um ein wirkliches physisches Design für die Gesamtstruktur zu erzeugen. Das Platzierungs- und Routing-Verfahren 213 bildet das physische Design aus, indem es die gewählten Zellen aus den Zellbibliotheken 206 nimmt und sie in Zellenreihen platziert (etwa eine erste Zellenreihe 401 und eine zweite Zellenreihe 403, die beide nicht in 2 gezeigt sind, aber unten mit Bezug auf 4A gezeigt und beschrieben sind). Die Platzierung jeder einzelnen Zelle in den Zellenreihen und die Platzierung jeder der Zellenreihen mit Bezug auf andere Zellenreihen kann durch Kostenfunktionen geleitet werden, um Verdrahtungslängen und Flächenanforderungen der sich ergebenden integrierten Schaltung zu minimieren. Diese Platzierung kann entweder automatisch durch das Platzierungs- und Routing-Verfahren 213 ausgeführt werden oder kann alternativ teilweise durch ein manuelles Verfahren ausgeführt werden, wobei ein Nutzer eine oder mehrere Zellen in eine Reihe manuell einfügen kann.
  • Nach dem anfänglichen Platzieren der einzelnen Zellen z.B. in der ersten Zellenreihe 401 und der zweiten Zellenreihe 403 wird eine Behandlung nach dem Layout 215 ausgeführt. In einer Ausführungsform ist die Behandlung nach dem Layout 215 eine Behandlung, die nach der Platzierung der einzelnen Zellen in die erste Zellenreihe 401 und die zweite Zellenreihe 403 ausgeführt wird, und ist eine Behandlung, die die Durchkontaktierungen entlang den Grenzbereichen zwischen den einzelnen Zellen (z.B. die Grenzbereiche zwischen einer ersten Zelle 301 und einer zweiten Zelle 405, die in 2 nicht gezeigt sind, aber in 3 bzw. 4A unten gezeigt und beschrieben sind) analysiert und diese Durchkontaktierungen entlang des Grenzbereichs modifiziert, um Einschränkungen zu beseitigen, die mit den physikalischen Einschränkungen des Lithographieverfahrens zu tun haben, was dazu beiträgt, dass eine Zelle mit höherer Dichte erzeugt wird. Die Behandlung nach dem Layout 215 ist unten weiter mit Bezug auf 5A-13G beschrieben.
  • Sobald ein physisches Designlayout durch das Platzierungs- und Routing-Verfahren 213 erzeugt wurde und die Behandlung nach dem Layout 215 ausgeführt wurde, kann das physische Design zu einem Herstellungswerkzeug 217 gesendet werden, um z.B. photolithographische Masken zu erzeugen, die in der physischen Herstellung des angestrebten Designs verwendet werden können. Das physische Designlayout kann zu dem Herstellungswerkzeug 217 über das LAN/WAN 166 oder andere geeignete Arten von Übertragungsmitteln von der EDA zu dem Herstellungswerkzeug 217 gesendet werden.
  • Wendet man sich wieder dem Platzierungs- und Routing-Verfahren 213 und der Behandlung nach dem Layout 215 zu, zeigt 3 eine Ausführungsform der ersten Zelle 301, die in den Zellbibliotheken 206 gespeichert sein kann. In einer Ausführungsform kann die erste Zelle 301 eine Zelle sein, die einen Inverter repräsentiert, mit einem ersten Transistor 303 und einem zweiten Transistor 305 die z.B. durch eine Isolierstruktur 307 getrennt sind, etwa eine Grabenisolation (STI). In dem ersten Transistor 303 liegt ein erster Source-Bereich 309 und ein erster Drain-Bereich 311, während der zweite Transistor 305 einen zweiten Source-Bereich 313 und einen zweiten Drain-Bereich 315 aufweist.
  • Zusätzlich teilen sich, als ein Inverter, der erste Transistor 303 und der zweite Transistor 305 eine gemeinsame Gate-Elektrode 317 (z.B. aus Polysilizium oder einem anderen leitenden Material), die sich über die Isolierstruktur 307 erstreckt und den ersten Source-Bereich 309 von dem ersten Drain-Bereich 311 trennt und auch den zweiten Source-Bereich 313 von dem zweiten Drain-Bereich 315 trennt. Die Gate-Elektrode 317 weist ein Gate-Dielektrikum (nicht getrennt in 3 gezeigt) zwischen der Gate-Elektrode 317 und dem darunter liegenden Substrat auf (das den ersten Source-Bereich 309, den ersten Drain-Bereich 311, den zweiten Source-Bereich 313 und den zweiten Drain-Bereich 315 umfasst).
  • Zusätzlich zu der Gate-Elektrode 317 können eine erste Zellenrand-Leitung 319 eine zweite Zellenrand-Leitung 321, eine dritte Zellenrand-Leitung 318 und eine vierte Zellenrand-Leitung 320 auch auf einer ähnlichen Ebene liegen (z.B. direkt über dem Substrat) wie die Gate-Elektrode 317. Die erste Zellenrand-Leitung 319, die zweite Zellenrand-Leitung 321, die dritte Zellenrand-Leitung 318 und die vierte Zellenrand-Leitung 320 liegen entlang des äußeren Umkreises der ersten Zelle 301 und sind so ausgebildet, dass sie eine Vorspannung der Zelle bereitstellen und dazu beitragen, dass Übersprechen und Interferenz zwischen benachbarten Zellen verhindert wird. Die erste Zellenrand-Leitung 319, die zweite Zellenrand-Leitung 321, die dritte Zellenrand-Leitung 318 und die vierte Zellenrand-Leitung 320 können aus einem gleichen Material ausgebildet werden wie die Gate-Elektrode 317 (z.B. Polysilizium oder einem anderen leitenden Material).
  • Um elektrischen Kontakt mit z.B. einer Speisespannungsleitung 323 (die auf einer ersten Seite der ersten Zelle 301 liegt) und einer Erdungsleitung 325 (die auf einer zweiten Seite der ersten Zelle 301 liegt) herzustellen, können Kontakte 327 über dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 ausgebildet werden. Diese Kontakte 327 ermöglichen es, dass elektrische Verbindungen zu dem äußeren Umkreis der ersten Zelle 301 verlegt werden, so dass Durchkontaktierungen (die unten weiter beschrieben sind) einen elektrischen Kontakt mit den Kontakten 327 und den darüber liegenden Leiterwegen (z.B. der Speisespannungsleitung 323 oder der Erdungsleitung 325) herstellen können.
  • Die Speisespannungsleitung 323 und die Erdungsleitung 325 liegen in den Metallisierungsschichten über dem Substrat und stellen Strom- und Erdungsverbindungen für den ersten Transistor 303 und den zweiten Transistor 305 bereit. Die Speisespannungsleitung 323 und die Erdungsleitung 325 (von der Draufsicht der 3 aus gesehen) liegen entlang eines oberen bzw. eines unteren Randes der ersten Zelle 301. Als solche richten sich, wenn die erste Zelle 301 in einer Zellenreihe angeordnet wird, z.B. der ersten Zellenreihe 401 (unten mit Bezug auf 4A gezeigt und beschrieben), die Speisespannungsleitung 323 und die Erdungsleitung 325 in der ersten Zelle 301 an den Speisespannungsleitungen und Erdungsleitungen in benachbarten Zellen aus, um eine durchgängige Speisespannungsleitung und eine durchgängige Erdungsleitung auszubilden.
  • Durchkontaktierungen können ausgebildet werden, um die verschiedenen Elemente der ersten Zelle 301 mit der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 zu verbinden. Eine erste Durchkontaktierung 329 kann beispielsweise ausgebildet werden, um die Speisespannungsleitung 323 mit dem ersten Source-Bereich 309 über einen der Kontakte 327 zu verbinden. Eine zweite Durchkontaktierung 331 kann ausgebildet werden, um die Erdungsleitung 325 mit dem zweiten Source-Bereich 313 über einen anderen der Kontakte 327 zu verbinden.
  • Zusätzlich kann eine dritte Durchkontaktierung 332 ausgebildet werden, um die erste Zellenrand-Leitung 319 mit der Speisespannungsleitung 323 zu verbinden, und eine vierte Durchkontaktierung 333 kann ausgebildet werden, um die zweite Zellenrand-Leitung 321 mit der Erdungsleitung 325 zu verbinden. Indem die erste Zellenrand-Leitung 319 mit einem elektrischen Potential verbunden wird, kann die erste Zellenrand-Leitung 319 besser Übersprechen und Interferenz zwischen benachbarten Zellen verhindern.
  • Schließlich sind in 3 eine erste Metall-Null-Verbindung 335 und eine zweite Metall-Null-Verbindung 337 gezeigt. Diese Verbindungen sind leitende Verbindungen, die entlang der Oberfläche des Substrats angeordnet sind. Die erste Metall-Null-Verbindung 335 kann beispielsweise in physischem Kontakt mit dem ersten Source-Bereich 309, mit dem Kontakt 327 über dem ersten Source-Bereich 309 sowie in physischem Kontakt mit der zweiten Zellenrand-Leitung 321 sein. Als solche stellt die erste Metall-Null-Verbindung 335 eine elektrische Verbindung zwischen der Speisespannungsleitung 323 und der zweiten Zellenrand-Leitung 321 her. Ähnlich stellt die zweite Metall-Null-Verbindung 337 eine elektrische Verbindung zwischen der vierten Zellenrand-Leitung 320 und der Erdungsleitung 325 her.
  • 4A zeigt, dass die erste Zelle 301 während des Platzierungs- und Routing-Verfahrens 213 in der ersten Zellenreihe 401 angeordnet werden kann. Zusätzlich kann eine zweite Zelle 405 in der ersten Zellenreihe 401 angrenzend an die erste Zelle 301 angeordnet werden. In einer Ausführungsform kann die zweite Zelle 405 strukturell der ersten Zelle 301 ähneln, etwa indem sie eine Zelle für einen Inverter ist. Wenn sie jedoch angrenzend an einander und in der gleichen Orientierung angeordnet werden, können die erste Zellenrand-Leitung 319 der ersten Zelle 301 (siehe 3) und die zweite Zellenrand-Leitung 321 der zweiten Zelle 405 in eine fünfte Randleitung 407 und eine sechste Randleitung 408 vereinigt werden, die die erste Zelle 301 von der zweiten Zelle 405 trennen.
  • 4A zeigt auch das Anordnen einer dritten Zelle 409 und einer vierten Zelle 411 in die zweite Zellenreihe 403, wobei die zweite Zellenreihe 403 eine angrenzende Zellenreihe an die erste Zellenreihe 401 ist. Als solche grenzt die dritte Zelle 409 sowohl an die erste Zelle 301 als auch an die vierte Zelle 411 an. Zusätzlich grenzt die vierte Zelle 411 an die dritte Zelle 409 und die zweite Zelle 405 an.
  • In einer Ausführungsform können die dritte Zelle 409 und die vierte Zelle 411 der ersten Zelle 301 ähneln, so dass die erste Zelle 301, die zweite Zelle 405, die dritte Zelle 409 und die vierte Zelle 411 zu diesem Zeitpunkt alle mit einander identisch sind (wobei die erste Zelle 301 und die zweite Zelle 405 die fünfte Randleitung 407 und die sechste Randleitung 408 teilen und die dritte Zelle 409 und die vierte Zelle 411 eine siebte Randleitung 413 und eine achte Randleitung 414 teilen).
  • 4B zeigt einen von drei Bereichen von Interesse in 4A, nachdem das Platzierungs- und Routing-Verfahren 213 die erste Zelle 301 und die zweite Zelle 405 in die erste Zellenreihe 401 angeordnet hat und die dritte Zelle 409 und die vierte Zelle 411 in die zweite Zellenreihe 403 angeordnet hat. In dem ersten Bereich von Interesse (in 4A durch den Kreis wiedergegeben, der mit 415 bezeichnet ist) gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die zweite Durchkontaktierung 331 von der ersten Zelle 301 und die erste Durchkontaktierung 329 von der dritten Zelle 409), die an einander angrenzen. Die zweite Durchkontaktierung 331 von der ersten Zelle 301 und die erste Durchkontaktierung 329 von der dritten Zelle 409 sind mit ähnlichen Kontakten 327 verbunden und sind mit der Erdungsleitung 325 verbunden. Mit anderen Worten gibt es in dem ersten Bereich von Interesse 415 mehrere Durchkontaktierungen, die die gleichen Strukturen elektrisch mit einander verbinden und physisch eng benachbart angeordnet sind.
  • 4C zeigt einen zweiten Bereich von Interesse (in 4A durch den Kreis dargestellt, der mit 417 bezeichnet ist), in dem es mehrere Mengen von Durchkontaktierungen gibt, die die gleichen Strukturen verbinden. In dem zweiten Bereich von Interesse 417 gibt es beispielsweise die vierte Durchkontaktierung 333 von der ersten Zelle 301, die zweite Durchkontaktierung 331 von der zweiten Zelle 405, die dritte Durchkontaktierung 332 von der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 von der vierten Zelle 411. Alle diese Durchkontaktierungen stellen jedoch eine Verbindung zwischen der Erdungsleitung 325, den Kontakten 327, der sechsten Randleitung 408 und der achten Randleitung 414 her.
  • 4D zeigt einen dritten Bereich von Interesse (in 4A durch den Kreis wiedergegeben, der mit 419 bezeichnet ist), in dem es weitere zwei Durchkontaktierungen gibt (z.B. die vierte Durchkontaktierung 333 von der zweiten Zelle 405 und die dritte Durchkontaktierung 332 von der vierten Zelle 411), die an einander angrenzen, mit der dritten Randleitung 318 in der zweiten Zelle 405 verbunden sind und auch mit der ersten Randleitung 319 in der vierten Zelle 411 verbunden sind.
  • 5A-5D zeigen ein Layout der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411, nachdem die Behandlung nach dem Layout 215 auf das ursprüngliche Design angewendet wurde. Insbesondere zeigt 5A einen Überblick über die erste Zelle 301, die zweite Zelle 405, die dritte Zelle 409 und die vierte Zelle 411. Zusätzlich zeigt 5B eine vergrößerte Ansicht des ersten Bereichs von Interesse 415, 5C zeigt eine vergrößerte Ansicht des zweiten Bereichs von Interesse 417 und 5D zeigt eine vergrößerte Ansicht des dritten Bereichs von Interesse 419 nach der Behandlung nach dem Layout 215.
  • In einer Ausführungsform berücksichtigt die Behandlung nach dem Layout 215, dass die mehreren Durchkontaktierungen, die in dem ersten Bereich von Interesse 415, dem zweiten Bereich von Interesse 417 und dem dritten Bereich von Interesse 419 liegen, entweder kombiniert oder sonst vollständig entfernt werden können. In dem ersten Bereich von Interesse 415 können beispielsweise die zweite Durchkontaktierung 331 von der ersten Zelle 301 und die erste Durchkontaktierung 329 von der dritten Zelle 409 in eine einzige fünfte Durchkontaktierung 501 kombiniert oder vereinigt werden. Ähnlich können in dem dritten Bereich von Interesse 419 die vierte Durchkontaktierung 333 von der zweiten Zelle 405 und die dritte Durchkontaktierung 332 von der vierten Zelle 411 in eine einzige sechste Durchkontaktierung 503 kombiniert werden. Schließlich können in dem zweiten Bereich von Interesse 417 die zweite Durchkontaktierung 331 von der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 von der vierten Zelle 411 in eine einzige siebte Durchkontaktierung 505 kombiniert werden.
  • Zusätzlich sind, weil die sechste Randleitung 408 mit den Kontakten 327 durch die zweite Metall-Null-Verbindung 337 in der zweiten Zelle 405 verbunden ist und weil die achte Randleitung 414 mit den Kontakten 327 durch die erste Metall-Null-Verbindung 335 in der vierten Zelle 411 verbunden ist, die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301, die mit der sechsten Randleitung 408 verbunden ist, und die dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409, die mit der achten Randleitung 414 verbunden ist, redundante Verbindungen. Als solche können die vierte Durchkontaktierung 333 und die dritte Durchkontaktierung 332 entfernt werden, wodurch alle elektrischen Verbindungen getrennt werden und ohne dass ein wesentlicher Einfluss auf das Gesamtdesign ausgeübt wird.
  • Vor dem Ausführen der Behandlung nach dem Layout 215 sind die Durchkontaktierungen, etwa die vierte Durchkontaktierung 333, die mit der sechsten Randleitung 408 verbunden ist, und die dritte Durchkontaktierung 332, die mit der achten Randleitung 414 verbunden ist, physisch sehr nah benachbart. In der Tat kann, wenn die Größen verringert werden, der Abstand zwischen den Durchkontaktierungen so klein werden, dass er unter den Möglichkeiten liegt, die photolithographische Verfahren zuverlässig erreichen können. Indem jedoch die Behandlung nach dem Layout 215 ausgeführt wird, um Durchkontaktierungen zu kombinieren oder andernfalls redundante Durchkontaktierungen zu entfernen, wird das Gesamtdesign vereinfacht und die physikalischen Grenzen des Photolithographieverfahrens werden vermieden, was es erlaubt, die Größe weiter zu verringern.
  • 6A-6F zeigen Ansichten von alternativen Ausführungsformen der Behandlung nach dem Layout 215, die in dem zweiten Bereich von Interesse 417 für verschiedene Anordnungen und Orientierungen der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411 ausgeführt werden können. In 6A werden die erste Zelle 301, die zweite Zelle 405, die dritte Zelle 409 und die vierte Zelle 411 beispielsweise so angeordnet, dass die Transistoren, die angrenzend an einander angeordnet sind, jeweils einen Source-Bereich haben (in 6A durch den Buchstaben „S“ wiedergegeben, wobei die Drain-Bereiche in den 6A-6F durch den Buchstaben „D“ wiedergegeben sind), der in dem zweiten Bereich von Interesse 417 liegt. In dieser Ausführungsform können die zweite Zelle 405 und die vierte Zelle 411 so orientiert sei, wie es in 4A oben gezeigt ist, aber die erste Zelle 301 und die dritte Zelle 409 können um 180° in der ersten Zellenreihe 401 und der zweiten Zellenreihe 403 gedreht sein.
  • In dieser Ausführungsform beginnt die Behandlung nach dem Layout 215, indem die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 analysiert werden. Sobald die Behandlung nach dem Layout 215 ermittelt hat, dass die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 beide ähnliche Strukturen verbinden, kombiniert und vereinigt die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 in eine erste Schlitz-Durchkontaktierung 601.
  • Die Behandlung nach dem Layout 215 analysiert ähnlich die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411. Sobald die Behandlung nach dem Layout 215 ermittelt hat, dass die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 ähnliche Strukturen verbinden, kombiniert die Behandlung nach dem Layout 215 diese beiden Durchkontaktierungen in eine zweite Schlitz-Durchkontaktierung 603.
  • 6B zeigt eine andere Ausführungsform, in der die erste Zelle 301, die zweite Zelle 405 und die vierte Zelle 411 so angeordnet sind, wie es in 4A oben gezeigt ist, so dass der dritte Bereich von Interesse 419 Source-Bereiche von sowohl der zweiten Zelle 405 als auch der vierten Zelle 411 und einen Drain-Bereich von der ersten Zelle 301 umfasst. In dieser Ausführungsform ist die dritte Zelle 409 jedoch um 180° in der zweiten Zellenreihe 403 gedreht, so dass der zweite Bereich von Interesse 417 einen Source-Bereich von der dritten Zelle 409 umfasst.
  • In dieser Ausführungsform analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409, um zu untersuchen, ob sie mit irgendwelchen anderen Durchkontaktierungen interagiert, mit denen sie vereinigt werden kann. Weil der Kontakt 327 über dem Drain in der ersten Zelle 301 jedoch keine Durchkontaktierung hat, die ihn mit der Erdungsleitung 325 oder der Speisespannungsleitung 323 verbindet, gibt es keine Durchkontaktierung, mit der die Behandlung nach dem Layout 215 die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 vereinigen kann. Als solche modifiziert die Behandlung nach dem Layout 215 die zweite Durchkontaktierung 331 nicht.
  • Zusätzlich analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, um zu untersuchen, ob sie mit einander interagieren. Da dies der Fall ist, vereinigt die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 in eine dritte Schlitz-Durchkontaktierung 605.
  • Die Behandlung nach dem Layout 215 analysiert auch die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und erkennt, dass sie redundant ist. Insbesondere erkennt die Behandlung nach dem Layout 215, dass die dritte Schlitz-Durchkontaktierung 605 die angestrebten Verbindungen der vierten Durchkontaktierung 333 durch z.B. die zweite Metall-Null-Verbindung 337 der zweiten Zelle 405 und die erste Metall-Null-Verbindung 335 der vierten Zelle 411 bereitstellt. Als solche entfernt die Behandlung nach dem Layout 215 die vierte Durchkontaktierung 333 von dem Design (in 6B durch das unschattierte Rechteck wiedergegeben).
  • Diese Analyse ist auch für andere Situationen nützlich, wie in 6B gezeigt ist. Eine ähnliche Analyse kann beispielsweise dafür ausgeführt werden, wenn der zweite Bereich von Interesse 417 einen Source-Bereich von der ersten Zelle 301, einen Drain-Bereich von der zweiten Zelle 405, einen Source-Bereich von der dritten Zelle 409 und einen Source-Bereich von der vierten Zelle 411 umfasst. Ähnlich kann eine ähnliche Analyse dafür ausgeführt werden, wenn die Zellen so angeordnet sind, dass der zweite Bereich von Interesse 417 einen Source-Bereich von sowohl der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405 als auch der dritten Zelle 409 und einen Drain-Bereich von der vierten Zelle 411 umfasst und auch wenn der zweite Bereich von Interesse 417 Source-Bereiche von sowohl der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405 als auch der vierte Zelle 411 und einen Drain-Bereich von der dritten Zelle 409 umfasst.
  • 6C zeigt eine andere Ausführungsform, bei der der zweite Bereich von Interesse 417 einen Source-Bereich von der ersten Zelle 301, einen Drain-Bereich von der zweiten Zelle 405, einen Source-Bereich von der dritten Zelle 409 und einen Drain-Bereich von der vierten Zelle 411 umfasst. In dieser Ausführungsform analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409, um zu untersuchen, ob sie interagieren. Da dies der Fall ist, vereinigt die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 in eine vierte Schlitz-Durchkontaktierung 607.
  • Zusätzlich analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und die vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411, um zu untersuchen, ob sie mit einander oder mit der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 interagieren. Da die dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und die vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 mit der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle und der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 elektrisch verbunden sind (z.B. durch die erste Metall-Null-Verbindung 335 und die zweite Metall-Null-Verbindung 337), entfernt die Behandlung nach dem Layout 215 die dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und die vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411.
  • Diese Ausführungsform ist auch für weitere Situationen nützlich. In einer Ausführungsform beispielsweise, in der der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst, kann eine ähnliche Analyse zur Vereinigung und zum Entfernen ausgeführt werden.
  • 6D zeigt eine andere Ausführungsform, bei der der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, eine Source von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst. In dieser Ausführungsform analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die zweite Durchkontaktierung 331 von der zweiten Zelle 405 und die zweite Durchkontaktierung 331 von der dritten Zelle 409 und ermittelt, dass es keine weiteren Durchkontaktierungen gibt, mit denen diese Durchkontaktierungen vereinigt werden sollen. Als solche erfolgt keine weitere Bearbeitung.
  • Zusätzlich analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und die vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411. Da die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 mit der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 elektrisch verbunden ist (z.B. durch die zweite Metall-Null-Verbindung 337) und da die vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 mit der zweiten Durchkontaktierung in der dritten Zelle 409 elektrisch verbunden ist (z.B. durch die zweite Metall-Null-Verbindung 337 in der dritten Zelle), werden die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und die vierte Durchkontaktierung 333 in der dritten Zelle 409 von dem Design entfernt.
  • Diese Ausführungsform ist auch für zusätzliche Situationen nützlich. In einer Ausführungsform beispielsweise, in der der zweite Bereich von Interesse 417 eine Source von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst, kann eine ähnliche Analyse zum Entfernen ausgeführt werden.
  • 6E zeigt eine andere Ausführungsform der Behandlung nach dem Layout 215, die ausgeführt wird, wenn der zweite Bereich von Interesse eine Source von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst. In dieser Ausführungsform analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle und ermittelt, dass sie alle mit einander interagieren. Als solche kann eine große Durchkontaktierung 609 verwendet werden, die alle diese Zellen überquert, um die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle und die dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 zu ersetzen.
  • Diese Ausführungsform ist auch für zusätzliche Situationen nützlich. In einer Ausführungsform beispielsweise, in der der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, eine Source von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst, kann eine ähnliche Analyse zur Vereinigung der Durchkontaktierungen in eine große Durchkontaktierung 609 ausgeführt werden.
  • 6F zeigt noch eine andere Ausführungsform, bei der die Behandlung nach dem Layout 215 auf ein Layout angewendet wird, in dem der zweite Bereich von Interesse 417 eine Source von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst. In dieser Ausführungsform analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und ermittelt, dass sie interagieren. Als solche vereinigt die Behandlung nach dem Layout 215 diese beiden Durchkontaktierungen in eine Durchkontaktierung in „L“-Form 611.
  • Zusätzlich analysiert die Behandlung nach dem Layout 215 auch die dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405. In dieser Analyse ermittelt die Behandlung nach dem Layout 215, dass die dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 mit der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 interagiert (z.B. durch die erste Metall-Null-Verbindung 335 in der ersten Zelle 301) und als solche redundant ist. Daher entfernt die Behandlung nach dem Layout 215 die dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 von dem Design.
  • Diese Ausführungsform ist auch für weitere Situationen nützlich. Eine solche Analyse kann beispielsweise in Ausführungsformen verwendet werden, bei denen der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst; in denen der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst; und in denen der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, eine Source von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst.
  • 7A bis 7G beginnt damit, eine Ausführungsform eines schrittweisen Verfahrens zu zeigen, das von der Behandlung nach dem Layout 215 verwendet werden kann, um die oben beschriebenen Vereinigungen und Entfernungen zu erzeugen. Jeder der unterschiedlichen Buchstaben in den Figuren (z.B. 7A, 7B, 7C etc.) repräsentiert unterschiedliche Kombinationen für den zweiten Bereich von Interesse 417, wobei die unterschiedlichen Zellen durch die gestrichelten Linien unterschieden werden. 7A zeigt beispielsweise den Startpunkt, bei dem der zweite Bereich von Interesse 417 eine Source von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, eine Source von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst; 7B zeigt den Startpunkt, wobei der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, eine Source von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst; 7C zeigt den Startpunkt, wobei der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, eine Source von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst; 7D zeigt den Startpunkt, wobei der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst; 7E zeigt den Startpunkt, wobei der zweite Bereich von Interesse 417 eine Source von der ersten Zelle 301, eine Source von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst; 7F zeigt den Startpunkt, wobei der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und eine Source von der vierten Zelle 411 umfasst; und 7G zeigt den Startpunkt, wobei der zweite Bereich von Interesse 417 einen Drain von der ersten Zelle 301, einen Drain von der zweiten Zelle 405, einen Drain von der dritten Zelle 409 und einen Drain von der vierten Zelle 411 umfasst.
  • In einer Ausführungsform beginnt der Verfahrensfluss 1500 (zusammengefasst in Form eines Verfahrensfließdiagramms unten mit Bezug auf 15) mit einem ersten Schritt 1501, der Abschnitte einer ersten Markierungsschicht 701, Abschnitte einer zweiten Markierungsschicht 702 und Abschnitte einer dritten Markierungsschicht 703 über dem Design anordnet. Die erste Markierungsschicht 701, die zweite Markierungsschicht 702 und die dritte Markierungsschicht 703 sind keine physischen Schichten sondern repräsentieren stattdessen Designschichten, die es einem Nutzer ermöglichen, die Interaktionen im Zusammenhang mit den verschiedenen Durchkontaktierungen zu ermitteln (wie unten beschrieben), so dass die Durchkontaktierungen für Vereinigungen und Entfernungen analysiert werden können. Das Anordnen der Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701, der Abschnitte der zweiten Markierungsschicht 702 und der Abschnitte der dritten Markierungsschicht 703 werden ausgeführt, indem (in einer Draufsicht) die Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701, die Abschnitte der zweiten Markierungsschicht 702 und die Abschnitte der dritten Markierungsschicht 703 über ihre entsprechenden Elemente überlagert werden.
  • In einer Ausführungsform hat die erste Markierungsschicht 701 eine solche Größe, dass sie dazu fähig ist, eine Interaktion zwischen den Durchkontaktierungen in der ersten Markierungsschicht 701 und Durchkontaktierungen in der zweiten Markierungsschicht 702 anzuzeigen. In einer Ausführungsform kann die erste Markierungsschicht 701 eine solche Größe haben, dass sie eine erste Breite W1 von zwischen etwa 15 nm und etwa 25 nm hat, etwa 20 nm, und eine erste Länge L1 von zwischen etwa 15 nm und etwa 25 nm. In einer bestimmten Ausführungsform hat die erste Markierungsschicht 701 eine erste Länge L1 von 20 nm und eine erste Breite W1 von 20 nm. Alle geeigneten Abmessungen können jedoch alternativ für die erste Markierungsschicht 701 verwendet werden.
  • Die erste Markierungsschicht 701 ist über den Durchkontaktierungs-Landestellen angeordnet (z.B. wo die Durchkontaktierungen die darunter liegende Struktur kontaktieren), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegen. Zur Konsistenz und Klarheit sind die Speisespannungsleitung 323 und die Erdungsleitung 325 nicht in den 7A-7G gezeigt (obwohl sie beispielsweise in 4A klar zu erkennen sind), und die Terminologie der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 wird beibehalten, um anzuzeigen, in welcher Zelle sie liegen, obwohl diese Ränder schon während des Anordnens der ersten Zellenreihe 401 und der zweiten Zellenreihe 403 vereinigt wurden.
  • Betrachtet man den zweiten Bereich von Interesse 417, der in 7A gezeigt ist (wobei vier Source-Bereiche in dem zweiten Bereich von Interesse 417 liegen), so gibt es keine Durchkontaktierungs-Landungsstellen, die auf der der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegen. Als solches geschieht keine Anordnung der ersten Markierungsschicht 701 auf irgendeiner der Strukturen in dem zweiten Bereich von Interesse 417 in dieser Konfiguration.
  • Betrachtet man 7B, das einen einzigen Drain und drei Source-Bereiche aufweist, die in dem zweiten Bereich von Interesse 417 liegen, so gibt es eine einzige Durchkontaktierung (z.B. die vierte Durchkontaktierung 333 von der ersten Zelle 301), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegt. Als solche ist die erste Markierungsschicht 701 über der vierten Durchkontaktierung 333 angeordnet.
  • Betrachtet man 7C, die einen Drain-Bereich, einen Source-Bereich, einen Source-Bereich und einen Drain-Bereich aufweist, so gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die vierte Durchkontaktierung 333 von der ersten Zelle 301 und die vierte Durchkontaktierung 333 von der vierten Zelle 411), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegen. Als solche wird eine erste der ersten Markierungsschicht 701 auf der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 angeordnet und eine zweite der ersten Markierungsschicht 701 auf der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Betrachtet man 7D, die einen Drain-Bereich, einen Source-Bereich, einen Drain-Bereich und einen Source-Bereich aufweist, gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die vierte Durchkontaktierung 333 von der ersten Zelle 301 und die dritte Durchkontaktierung 332 von der dritten Zelle 409), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegen. Als solche ist eine erste der ersten Markierungsschicht 701 auf der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 angeordnet und eine zweite der ersten Markierungsschicht 701 auf der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 angeordnet.
  • Betrachtet man 7E, die den zweiten Bereich von Interesse 417 zeigt, der einen Source-Bereich, einen Source-Bereich, einen Drain-Bereich und einen Drain-Bereich umfasst, gibt es eine einzige Durchkontaktierung (z.B. die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegt. Als solche ist eine einzige der ersten Markierungsschicht 701 über der kombinierten Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Betrachtet man 7F, die den zweiten Bereich von Interesse 417 mit einem Drain-Bereich, einem Drain-Bereich, einem Drain-Bereich und einem Source-Bereich zeigt, gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und die kombinierte dritte Durchkontaktierung in der zweiten Zelle 405 und vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegen. Als solche ist eine erste der ersten Markierungsschicht 701 über der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 angeordnet und eine zweite der ersten Markierungsschicht 701 über der kombinierten dritten Durchkontaktierung in der zweiten Zelle 405 und vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 angeordnet.
  • Betrachtet man 7G, die den zweiten Bereich von Interesse 417 mit vier Drain-Bereichen zeigt, gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die kombinierte vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und die kombinierte dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411), die auf der Gate-Elektrode 317, der ersten Zellenrand-Leitung 319, der zweiten Zellenrand-Leitung 321, der dritten Zellenrand-Leitung 318 und der vierten Zellenrand-Leitung 320 unter der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 liegen. Als solche ist eine erste der Markierungsschicht 701 über der kombinierten vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 angeordnet und eine zweite der ersten Markierungsschicht 701 ist über der kombinierten dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Nachdem die erste Markierungsschicht 701 auf das Gesamtdesign angewendet wurde, wird die zweite Markierungsschicht 702 auf das Design angewendet. In einer Ausführungsform hat die zweite Markierungsschicht 702 eine solche Größe, dass die folgende Analyse eine Interaktion zwischen den Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert werden, und den Durchkontaktierungen, die von der zweiten Markierungsschicht 702 überlagert werden, anzeigt. In einer Ausführungsform kann die zweite Markierungsschicht 702 eine solche Größe haben, dass sie eine zweite Breite W2 von zwischen etwa 35 nm und etwa 45 nm hat, etwa 40 nm, und eine zweite Länge L2 von zwischen etwa 70 nm und etwa 90 nm. In einer bestimmten Ausführungsform hat die zweite Markierungsschicht 702 eine zweite Länge L2 von 82 nm und eine zweite Breite W2 von 40 nm. Andere geeignete Abmessungen können jedoch alternativ für die zweite Markierungsschicht 702 verwendet werden.
  • Die zweite Markierungsschicht 702 ist über den Durchkontaktierungs-Landestellen angeordnet (z.B. wo die Durchkontaktierungen die darunter liegende Struktur kontaktieren), die über dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 in der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411 angeordnet sind. Betrachtet man beispielsweise den zweiten Bereich von Interesse 417, der in 7A gezeigt ist (mit vier Source-Bereichen, die in dem zweiten Bereich von Interesse 417 liegen), gibt es vier Durchkontaktierungen (z.B. die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411), die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet sind. Als solche ist eine erste der zweiten Markierungsschicht 702 auf der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 angeordnet, eine zweite der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 angeordnet, eine dritte der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 angeordnet und eine vierte der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Betrachtet man 7B, die den zweiten Bereich von Interesse 417 zeigt, der einen einzigen Drain und drei Source-Bereiche umfasst, gibt es drei Durchkontaktierungen (z.B. die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411), die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet sind. Als solche ist eine erste der zweiten Markierungsschicht 702 auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 angeordnet, eine zweite der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 angeordnet und eine dritte der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Betrachtet man 7C, die den zweiten Bereich von Interesse 417 zeigt, der einen Drain-Bereich, einen Source-Bereich, einen Source-Bereich und einen Drain-Bereich umfasst, gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409), die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet sind. Als solche ist eine erste der zweiten Markierungsschicht 702 auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 angeordnet und eine zweite der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 angeordnet.
  • Betrachtet man 7D, die den zweiten Bereich von Interesse 417 zeigt, der einen Drain-Bereich, einen Source-Bereich, einen Drain-Bereich und einen Source-Bereich umfasst, gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411), die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet sind. Als solche ist eine erste der zweiten Markierungsschicht 702 auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 angeordnet und eine zweite der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Betrachtet man 7E, die den zweiten Bereich von Interesse 417 zeigt, der einen Source-Bereich, einen Source-Bereich, einen Drain-Bereich und einen Drain-Bereich umfasst, gibt es zwei Durchkontaktierungen (z.B. die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405), die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet sind. Als solche ist eine erste der zweiten Markierungsschicht 702 auf der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 angeordnet und eine zweite der zweiten Markierungsschicht 702 ist auf der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 angeordnet.
  • Betrachtet man 7F, die den zweiten Bereich von Interesse 417 mit einem Drain-Bereich, einem Drain-Bereich, einem Drain-Bereich und einem Source-Bereich umfasst, gibt es nur eine Durchkontaktierung (z.B. die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411), die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet ist. Als solche ist eine erste der zweiten Markierungsschicht 702 auf der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 angeordnet.
  • Betrachtet man 7G, die den zweiten Bereich von Interesse 417 mit vier Drain-Bereichen zeigt, gibt es keine Durchkontaktierungen, die auf dem ersten Source-Bereich 309, dem ersten Drain-Bereich 311, dem zweiten Source-Bereich 313 und dem zweiten Drain-Bereich 315 angeordnet sind. Als solche ist die zweite Markierungsschicht 702 nicht über irgendeiner Durchkontaktierung in 7G angeordnet.
  • Sobald die erste Markierungsschicht 701 und die zweite Markierungsschicht 702 auf ihren entsprechenden Strukturen angeordnet wurden (wie oben beschrieben), wird die dritte Markierungsschicht 703 verwendet, um zu ermitteln, welche der Strukturen in der Behandlung nach dem Layout 215 weiter behandelt werden sollen. In einer Ausführungsform kann die dritte Markierungsschicht 703 eine Quadratform haben mit einer Länge L3 , die ausreicht, um anzuzeigen, dass nahe benachbarte Durchkontaktierungen mit einander interagieren. In einer Ausführungsform kann die dritte Länge L3 zwischen etwa 70nm und etwa 90nm liegen, etwa 82nm. Jede andere geeignete Länge kann jedoch alternativ verwendet werden.
  • Die dritte Markierungsschicht 703 wird dann über einem der Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701 und der zweiten Markierungsschicht 702 angeordnet, die vorher angeordnet wurden. In der Ausführungsform, die in 7A bis 7G beschrieben ist, wird die dritte Markierungsschicht 703 so angeordnet, dass die erste Markierungsschicht 701, die auf den leitenden Zellenrändern angeordnet ist, in der Mitte der dritten Markierungsschicht 703 angeordnet ist. Jede geeignete Anordnung kann jedoch alternativ verwendet werden.
  • Sobald sie am Ort ist, wird eine Analyse ausgeführt, um zu ermitteln, welche der ersten Markierungsschicht 701 und der zweiten Markierungsschicht 702 in der dritten Markierungsschicht 703 angeordnet sind. Diejenigen, die zusammen in der dritten Markierungsschicht 703 angeordnet sind, werden weiter analysiert. Mit anderen Worten werden, wenn es zwei oder mehr der ersten Markierungsschicht 701 oder der zweiten Markierungsschicht 702 gibt, diese Strukturen weiter zusammen analysiert. Diejenigen, die nicht in der dritten Markierungsschicht 703 angeordnet sind, werden bei diesem Verfahren nicht weiter analysiert.
  • In einem zweiten Schritt 1502 wird eine Analyse ausgeführt, um diejenigen Durchkontaktierungen zu identifizieren, die vorher von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert wurden und auch einen alternativen Weg zu der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 haben. In einer Ausführungsform kann jede der Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert werden, zu entweder der ersten Metall-Null-Verbindung 335 oder der zweiten Metall-Null-Verbindung 337 um eine erste Strecke D1 (im Folgenden als Abstand D1 bezeichnet) erweitert werden. In einer Ausführungsform wird der erste Abstand D1 so gewählt, dass es keine nachteiligen Auswirkungen von dem Ausführen der Behandlung nach dem Layout 215 gibt, etwa indem er kleiner als etwa 50nm ist, etwa 30nm, obwohl jeder geeignete Abstand alternativ gewählt werden kann. Wenn die erweiterten Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert werden, sich entweder zu der ersten Metall-Null-Verbindung 335 oder der zweiten Metall-Null-Verbindung 337 erstrecken, gibt es keinen alternativen Weg zu der Speisespannungsleitung 323 oder der Erdungsleitung 325 und die Durchkontaktierung ist redundant.
  • Betrachtet man beispielsweise 7B (weil 7A keine Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701 hat), wird die erste Markierungsschicht 701 in 7B analysiert, um zu ermitteln, ob sie innerhalb des ersten Abstands D1 liegt. Während die Breite der ersten Zellenreihe 401 zumindest teilweise von dem Gesamtdesign abhängig ist, schrumpft sie fortlaufend mit verkleinerter Technologie und kann in manchen Fällen zwischen etwa 300nm und etwa 500nm liegen; in einer Ausführungsform, in der die erste Zellenreihe 401 eine Breite von 360nm hat, kann die erste Markierungsschicht 701 im Abstand von 47nm von der zweiten Metall-Null-Verbindung 337 der dritten Zelle 409 und der ersten Metall-Null-Verbindung 335 der vierten Zelle 411 angeordnet sein. Als solche kann die erste Markierungsschicht 701 in 7B entfernt werden, wie unten weiter mit Bezug auf 13A-13G beschrieben ist. Betrachtet man 7C-7F, wird eine ähnliche Analyse ausgeführt und diejenigen Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701, die innerhalb des ersten Abstands D1 von entweder der ersten Metall-Null-Verbindung 335 oder der zweiten Metall-Null-Verbindung 337 in der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411 liegen, werden analysiert, um zu ermitteln, ob sie entfernt werden können.
  • In 7G liegen die Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701 jedoch nicht innerhalb des ersten Abstands D1 von entweder der ersten Metall-Null-Verbindung 335 oder der zweiten Metall-Null-Verbindung 337 in der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411. Insbesondere sind, wenn es vier Drain-Bereiche in dem zweiten Bereich von Interesse 417 gibt, alle der ersten Metall-Null-Verbindungen 335 oder der zweiten Metall-Null-Verbindungen 337 in der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411 weiter weg als der erste Abstand D1 angeordnet. Als solche werden die Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701 nicht ausgewählt, um entfernt zu werden.
  • 8A-8G zeigen einen dritten Schritt 1503, bei dem die Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert werden, identifiziert werden, die mit den Durchkontaktierungen vereinigt werden können, die von der zweiten Markierungsschicht 702 überlagert werden. In einer Ausführungsform werden alle Durchkontaktierungen, die von der zweiten Markierungsschicht 702 überlagert werden, erweitert, um einen Ausschließungsbereich 801 auszubilden. In der Ausführungsform beispielsweise, die in 8E gezeigt ist, werden die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 erweitert, um den Ausschließungsbereich 801 auszubilden.
  • In einer Ausführungsform können die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 horizontal (z.B. in einer ersten Richtung 803, die parallel zu der ersten Zellenreihe 401 ist) um einen zweiten Abstand D2 erweitert werden, der eine Größe hat, die eine Interaktion zwischen den Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert werden, und den Durchkontaktierungen, die von der zweiten Markierungsschicht 702 überlagert werden, anzeigt. In einer Ausführungsform, in der es einen Mittenabstand von 63 nm zwischen den Abschnitten der zweiten Markierungsschicht 702 gibt, können die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 horizontal um einen zweiten Abstand D2 von zwischen etwa 40 nm und etwa 50 nm erweitert werden, etwa 43 nm. Alternativ kann in einer Ausführungsform, in der es einen Mittenabstand von 66 nm zwischen den Durchkontaktierungen gibt, die von der zweiten Markierungsschicht 702 überlagert werden, der zweite Abstand D2 etwa 46 nm betragen.
  • Zusätzlich können die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 vertikal (z.B. in einer zweiten Richtung 805, die rechtwinklig zu der ersten Zellenreihe 401 ist) um einen dritten Abstand D3 erweitert werden. In einer Ausführungsform kann der dritte Abstand D3 so festgelegt werden, dass er gleich dem halben Abstand zwischen den Durchkontaktierungen in vertikaler Richtung ist. In der Ausführungsform beispielsweise, die in 8E gezeigt ist, in der die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 voneinander um 2 nm getrennt sind, kann der dritte Abstand D3 auf mm festgelegt werden. Als solche kann, während der dritte Abstand D3 zumindest teilweise durch das anfängliche Design und die anfängliche Anordnung festgelegt ist, in einigen Ausführungsformen der dritte Abstand D3 zwischen etwa 0 nm und etwa 5nm liegen, etwa 1 nm. Jeder geeignete Abstand kann jedoch verwendet werden, um den Ausschließungsbereich 801 auszubilden.
  • Fährt man mit der Ausführungsform fort, die in 8E gezeigt ist, werden, sobald der Ausschließungsbereich durch die Erweiterung der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 erzeugt wurde, diejenigen Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 identifiziert werden, die außerhalb des Ausschließungsbereichs verbleiben, für eine weitere Vereinigung identifiziert. In der Ausführungsform, die in 8E gezeigt ist, wird die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 identifiziert.
  • Zusätzlich gibt es in der Ausführungsform der 8G keine Durchkontaktierungen, die von der zweiten Markierungsschicht 702 identifiziert werden. Als solche liegen die Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 identifiziert werden, außerhalb irgendeines Ausschließungsbereichs 801 (da es keinen Ausschließungsbereich 801 gibt). Somit werden die Durchkontaktierungen, die durch die erste Markierungsschicht 701 identifiziert werden, zur Vereinigung ausgewählt.
  • Folgt man einem ähnlichen Verfahren in der Ausführungsform, die in 8F gezeigt ist, wird durch die kombinierte Durchkontaktierung von der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 so identifiziert, dass sie außerhalb des Ausschließungsbereich 801 liegt, der durch die Erweiterung der ersten Durchkontaktierung 329 in die vierte Zelle 411 erzeugt wird. Die erste Markierungsschicht 701 über der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 wird durch den Ausschließungsbereich 801 kontaktiert und wird nicht so identifiziert, dass sie außerhalb des Ausschließungsbereichs 801 liegt. Zusätzlich gibt es in der Ausführungsform, die in 8A gezeigt ist, keine Durchkontaktierungen, die durch die erste Markierungsschicht 701 identifiziert werden. In dem Rest der Ausführungsformen, die in den 8B-8D gezeigt sind, sind alle Durchkontaktierungen in den erzeugten Ausschließungsbereichen angeordnet und als solche werden diese Durchkontaktierungen nicht zur Vereinigung ausgewählt. In der Ausführungsform, die in 8B gezeigt ist, in der die erste Markierungsschicht 701 auf der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 nur 11,5 nm von der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 angeordnet ist (in einer Ausführungsform, in der es einen Mittenabstand von 63 nm zwischen den Abschnitten der zweiten Markierungsschicht 702 gibt) oder 13 nm, wenn es einen Mittenabstand von 66 nm zwischen den Abschnitten der zweiten Markierungsschicht 702 gibt, kontaktiert der Ausschließungsbereich 801 beispielsweise die erste Markierungsschicht 701 und als solche werden diese Durchkontaktierungen nicht zur Vereinigung ausgewählt.
  • Sobald die Durchkontaktierungen identifiziert wurden, haben die Ausschließungsbereiche 801 ihren Zweck zu diesem Zeitpunkt erfüllt. Als solche werden in einer Ausführungsform die Ausschließungsbereiche 801 von dem Gesamtdesign entfernt. Die Durchkontaktierungen, die verwendet wurden, um die Ausschließungsbereiche 801 auszubilden, werden in ihre ursprüngliche Größe zurückversetzt.
  • 9A-9G zeigen einen vierten Schritt 1504 in dem Verfahren, bei dem diejenigen Durchkontaktierungen, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurden (oben beschrieben), in der ersten Richtung 803 parallel zu der ersten Zellenreihe 401 erweitert, um erste Erweiterungsbereiche 901 auszubilden. Betrachtet man die Ausführungsform, die in 9G gezeigt ist, werden in diesem Schritt die Durchkontaktierungen, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurden (z.B. die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411) jeweils in der ersten Richtung 803 parallel zu der ersten Zellenreihe 401 um einen vierten Abstand D4 von zwischen etwa 25nm und etwa 35nm erweitert, etwa 31,5 nm.
  • In einer Ausführungsform kann die Größe des vierten Abstands D4 beispielsweise durch den Mittenabstand des Poly, die Größe der Durchkontaktierungen und die Orte ermittelt werden. Als ein Beispiel ist in der Ausführungsform, die in 9E gezeigt ist, in der die Durchkontaktierung auf dem Poly landet, die Durchkontaktierung (z.B. die kombinierte dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411) auf der Mitte der kombinierten dritten Zellenrand-Leitung 318 in der vierten Zelle 411 und ersten Zellenrand-Leitung 319 in der dritten Zelle 409 angeordnet. In dieser Ausführungsform kann der vierte Abstand D4 auf die Hälfte des Mittenabstands zwischen z.B. der ersten Zellenrand-Leitung 319 in der dritten Zelle 409 und der Gate-Elektrode 317 in der dritten Zelle 409 festgelegt werden. Als solche kann in einer Ausführungsform, in der der Mittenabstand zwischen zwei Polysilizium-Bereichen 63 nm ist, der vierte Abstand D4 auf 31,5 festgesetzt werden. Alternativ kann in einer Ausführungsform, in der der Mittenabstand 66 nm ist, der vierte Abstand D4 auf 33 nm festgesetzt werden. Jeder andere geeignete Abstand kann jedoch alternativ verwendet werden.
  • Ähnlich wird in der Ausführungsform, die in 9F gezeigt ist, die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 (die Durchkontaktierung, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurde) auch in der ersten Richtung 803 parallel zu der ersten Zellenreihe 401 um den vierten Abstand D4 erweitert, um den ersten Erweiterungsbereich 901 auszubilden. Zusätzlich wird in der Ausführungsform, die in 9E gezeigt ist, die kombinierte Durchkontaktierung von der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 und der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 (die Durchkontaktierung, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurde) in der ersten Richtung 803 parallel zu der ersten Zellenreihe 401 um den vierten Abstand D4 erweitert.
  • 9A-9G zeigen auch einen fünften Schritt 1505 in dem Verfahren, in dem diejenigen Durchkontaktierungen, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurden (oben beschrieben), auch in einer dritten Richtung 906 erweitert werden, die der ersten Richtung 803 entgegengesetzt und parallel zu der ersten Zellenreihe 401 ist, um einen zweiten Erweiterungsbereich 904 auszubilden. Betrachtet man die Ausführungsform, die in 9G gezeigt ist, werden in diesem Schritt die Durchkontaktierungen, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurden (z.B. die kombinierte Durchkontaktierung von der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und auch die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411) jeweils in der dritten Richtung 906 entgegengesetzt zu der ersten Richtung 803 und parallel zu der ersten Zellenreihe 401 um einen fünften Abstand D5 von zwischen etwa 25 nm und etwa 35 nm erweitert, etwa 31,5 nm. Jeder geeignete Abstand kann jedoch alternativ verwendet werden.
  • Ähnlich wird in der Ausführungsform, die in 9F gezeigt ist, die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 (die Durchkontaktierung, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurde) auch in der dritten Richtung 906 entgegengesetzt zu der ersten Richtung 803 und parallel zu der ersten Zellenreihe 401 um den fünften Abstand D5 erweitert, um den zweiten Erweiterungsbereich 904 auszubilden. Zusätzlich wird in der Ausführungsform, die in 9E gezeigt ist, die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 (die Durchkontaktierung, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurde) in der dritten Richtung 906 entgegengesetzt zu der ersten Richtung 803 und parallel zu der ersten Zellenreihe 401 um den fünften Abstand D5 erweitert.
  • 10A-10G zeigen einen sechsten Schritt 1506, in dem die Durchkontaktierungs-Landestellen, die von der zweiten Markierungsschicht 702 überlagert werden, in der zweiten Richtung 805 rechtwinklig zu der ersten Zellenreihe 401 erweitert werden, um dritten Erweiterungsbereiche 907 auszubilden, und in einem siebten Schritt 1507 auch in einer vierten Richtung 905 erweitert werden, die der zweiten Richtung 805 entgegengesetzt und rechtwinklig zu der ersten Zellenreihe 401 ist, um vierte Erweiterungsbereiche 909 auszubilden. Betrachtet man die Ausführungsform, die in 10A gezeigt ist, werden alle Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert werden (z.B. die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411) in der zweiten Richtung um einen sechsten Abstand D6 von zwischen etwa 15 nm und etwa 25nm erweitert, etwa 21nm. Ähnlich werden die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 auch in der vierten Richtung 905 um einen siebten Abstand D7 von zwischen etwa 15 nm und etwa 25 nm erweitert, etwa 21 nm. Alle geeigneten Abstände können jedoch alternativ verwendet werden.
  • Betrachtet man 10B, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 (diejenigen Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden) auch in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905 erweitert. Betrachtet man 10C, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 (diejenigen Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden) auch in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905 erweitert. Betrachtet man 10D, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 (diejenigen Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden) auch in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905 erweitert. Betrachtet man 10E, werden die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 4ß5 (diejenigen Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden) auch in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905 erweitert. Betrachtet man schließlich 10F, wird die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 (die Durchkontaktierung, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurde) auch in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905 erweitert.
  • 10A-10G zeigen auch einen achten Schritt 1508 in dem Verfahren, in dem Interaktionen zwischen den erweiterten Durchkontaktierungen analysiert werden. In der Ausführungsform beispielsweise, die in 10E gezeigt ist, wird die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 (die in sowohl die erste Richtung 803 als auch die dritte Richtung 906 erweitert wurde) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit irgendeiner der Durchkontaktierungen interagiert, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden und in dem sechsten Schritt 1506 oder dem siebten Schritt 1507 erweitert wurden. In einer Ausführungsform kann die Interaktion erkannt werden, indem ermittelt wird, ob die erweiterte kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 mit entweder der erweiterten ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 oder der erweiterten zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 überlappt. Mit anderen Worten interagieren die Durchkontaktierungen, wenn irgendwelche der Erweiterungsbereiche (z.B. der erste Erweiterungsbereich 901, der zweite Erweiterungsbereich 904, der dritte Erweiterungsbereich 907 und der vierte Erweiterungsbereich 909) überlappen.
  • In einer Ausführungsform kann der achte Schritt 1508 in eine Abfolge von Unterschritten unterteilt werden. In einem ersten Unterschritt werden beispielsweise die Erweiterungen des vierten Schritts 1504 (z.B. die ersten Erweiterungsbereiche 901) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des sechsten Schritts 1506 (z.B. den dritten Erweiterungsbereichen 907) interagieren. Zusätzlich werden die Erweiterungen von dem vierten Schritt 1504 (z.B. die ersten Erweiterungsbereiche 901) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen von dem siebten Schritt 1507 (z.B. den vierten Erweiterungsbereichen 909) interagieren.
  • In einem zweiten Unterschritt werden die Erweiterungen des fünften Schritts 1505 (z.B. die zweiten Erweiterungsbereiche 903) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des sechsten Schritts 1506 (z.B. den dritten Erweiterungsbereichen 907) interagieren (z.B. sie überlappen). Ähnlich werden die Erweiterungen des fünften Schritts 1505 (z.B. die zweiten Erweiterungsbereiche 903) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des siebten Schritts 1507 (z.B. den vierten Erweiterungsbereichen 909) interagieren.
  • In einem dritten Unterschritt werden die Erweiterungen des sechsten Schritts 1506 (z.B. die dritten Erweiterungsbereiche 907) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des vierten Schritts 1504 (z.B. den ersten Erweiterungsbereichen 901) interagieren (z.B. sie überlappen). Ähnlich werden die Erweiterungen des sechsten Schritts 1506 (z.B. die dritten Erweiterungsbereiche 907) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des fünften Schritts 1505 (z.B. den zweiten Erweiterungsbereichen 903) interagieren.
  • In einem vierten Unterschritt werden die Erweiterungen des siebten Schritts 1507 (z.B. die vierten Erweiterungsbereiche 909) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des vierten Schritts 1504 (z.B. den ersten Erweiterungsbereichen 901) interagieren. Ähnlich werden die Erweiterungen des siebten Schritts 1507 (z.B. die vierten Erweiterungsbereiche 909) analysiert, um zu ermitteln, ob sie mit den Erweiterungen des fünften Schritts 1505 (z.B. den zweiten Erweiterungsbereichen 903) interagieren.
  • 10F zeigt diese Analyse, die auf die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 angewendet wird. Insbesondere wird die kombinierte Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 auf Interaktionen mit z.B. der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 analysiert, indem ermittelt wird, ob der erste Erweiterungsbereich 901 von der kombinierten Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 mit dem dritten Erweiterungsbereich 907 von der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 überlappt. Wie in 10F gezeigt ist, ist dies der Fall.
  • Ein ähnliches Verfahren wird in den verbleibenden Ausführungsformen ausgeführt. Insbesondere werden in den Ausführungsformen der verbleibenden Figuren, die nicht früher beschrieben wurden (10A-10D und 10G) alle Durchkontaktierungen (soweit sie erweitert wurden) individuell analysiert. Es gibt in diesen Ausführungsformen jedoch keine Interaktionen zwischen den verschiedenen Erweiterungsbereichen.
  • 11A-11G zeigen einen neunten Schritt 1509, in dem vereinigte Durchkontaktierungsformen identifiziert werden, gestützt auf die Interaktionen, die in dem achten Schritt 1508 identifiziert wurden. In einer Ausführungsform beispielsweise, in der der erste Unterschritt, der zweite Unterschritt, der dritte Unterschritt oder der vierte Unterschritt eine Interaktion identifiziert (wie oben beschrieben), bilden die Durchkontaktierungen und ihre überlappenden Erweiterungsbereiche eine „L“-Form 1101.
  • In der Ausführungsform beispielsweise, die in 11F gezeigt ist, identifizieren sowohl der erste Unterschritt als auch der dritte Unterschritt, dass eine Interaktion vorliegt. Insbesondere analysiert der erste Unterschritt, ob es eine Interaktion (z.B. eine Überlappung) zwischen den Erweiterungen des vierten Schritts 1504 (z.B. den ersten Erweiterungsbereichen 901) und den Erweiterungen des sechsten Schritts 1506 (z.B. den dritten Erweiterungsbereichen 907) gibt. Wie man sieht, wird eine „L“-Form 1101 erzeugt, wobei die „L“-Form 1101 die interagierenden Durchkontaktierungen zusammen mit den interagierenden Erweiterungsbereichen umfasst. In der Ausführungsform, die in 11F gezeigt ist, umfasst die „L“-Form die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411, den dritten Erweiterungsbereich 907 von der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411, den ersten Erweiterungsbereich 901 von der kombinierten Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 zusammen mit der kombinierten Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301.
  • Ähnlich wird, betrachtet man 11E, eine ähnliche Analyse in dem neunten Schritt 1509 ausgeführt. Wendet man sich beispielsweise zu der Ausführungsform zurück, die in 10E gezeigt ist, ermittelt die Analyse, dass es eine Interaktion zwischen der Erweiterung in dem vierten Schritt 1504 (z.B. den ersten Erweiterungsbereichen 901) und der Erweiterung in dem siebten Schritt 1507 (den vierten Erweiterungsbereichen 909) gibt. Zusätzlich gibt es eine Interaktion zwischen der Erweiterung in dem fünften Schritt 1505 (z.B. den zweiten Erweiterungsbereichen 903) und der Erweiterung des siebten Schritts 1507 (z.B. den vierten Erweiterungsbereichen 909). Als solche gibt es mehrere „L“-Formen 1101, die erzeugt werden, wobei eine der „L“-Formen 1101 eine kombinierte Durchkontaktierung der anderen der „L“-Formen 1101 von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 333 in der vierten Zelle 411 überlappt.
  • 12A-12G zeigen einen zehnten Schritt 1510, um zu ermitteln, ob irgendwelche der kombinierten Formen (z.B. die „L“-Formen 1101) mit einander interagieren. In der Ausführungsform beispielsweise, die in 12E gezeigt ist, gibt es zwei „L“-Formen 1101, die analysiert werden, um zu ermitteln, ob sie interagieren, etwa indem sie mit einander überlappen. In dieser Ausführungsform gibt es zwei „L“-Formen 1101, die über der kombinierten Durchkontaktierung von der dritten Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 und der vierten Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 überlappen.
  • Wenn es mehrere Formen gibt, etwa die „L“-Formen 1101, die in 12E gezeigt sind, für die ermittelt wurde, dass sie interagieren, kann ein zusätzlicher Schritt unternommen werden, um die Verarbeitung (z.B. photolithographisches Maskieren und Ätzen) einfacher zu machen, indem die mehreren Formen in eine einzige Form 1201 vereinigt werden. In der Ausführungsform, die in 12E gezeigt ist, können die beiden „L“-Formen 1101 in die einzige Form 1201 vereinigt werden und alle Bereiche, die von den beiden „L“-Formen 1101 umgeben sind, können dann gefüllt werden. Die beiden „L“-Formen 1101 können beispielsweise vereinigt und dann gefüllt werden, um eine einzige Form 1201 auszubilden, die rechteckig ist (obwohl die beiden „L“-Formen 1101 in der 12E zu Klarheit belassen wurden).
  • Sobald dieser Vereinigungsvorgang beendet wurde, werden der erste Erweiterungsbereich 901, der zweite Erweiterungsbereich 903, der dritte Erweiterungsbereich 907 und der vierte Erweiterungsbereich 909 von dem Design entfernt. Indem der erste Erweiterungsbereich 901, der zweite Erweiterungsbereich 903, der dritte Erweiterungsbereich 907 und der vierte Erweiterungsbereich 909 entfernt werden, werden die Durchkontaktierungen, die nicht vereinigt wurden, in ihre normalen Formen für weitere Analysen zurückversetzt.
  • 13A-13G zeigen einen elften Schritt 1511, in dem Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden (die nicht in dem zehnten Schritt 1510 vereinigt wurden), entweder belassen, vereinigt oder vollständig entfernt werden. In einer Ausführungsform kann der elfte Schritt 1511 begonnen werden, indem die Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden, zuerst in der zweiten Richtung 805 um einen achten Abstand D8 erweitert werden, um fünfte Erweiterungsbereich 1301 auszubilden, und die Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert wurden, auch in der vierten Richtung 905 um einen neunten Abstand D9 zu erweitern, um sechste Erweiterungsbereiche 1303 auszubilden. In einer Ausführungsform kann der achte Abstand D8 zwischen etwa 0 nm und etwa 5 nm liegen, etwa 1 nm, während der neunte Abstand D9 zwischen etwa 0 nm und etwa 5 nm liegen kann, etwa 1 nm.
  • In der Ausführungsform beispielsweise, die in 13A gezeigt ist, werden jede der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301, der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905 erweitert. Während der fünfte Erweiterungsbereich 1301 von der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 mit dem sechsten Erweiterungsbereich 1304 von der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 überlappt oder verbunden wird, schließt diese Erweiterung die Lücke zwischen der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 werden vereinigt. Ähnlich wird die Lücke zwischen der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 auch geschlossen und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 werden vereinigt. In einer Ausführungsform, in der die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 eine Größe von 20nm × 40nm hat und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 auch eine Größe von 20nm × 40nm hat, hat die neue vereinigte Zelle eine Größe von 20 nm × 82 nm.
  • Betrachtet man die Ausführungsform, die in 13B gezeigt ist, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 alle um den achten Abstand D8 und den neunten Abstand D9 erweitert. Als solche wird die Lücke zwischen der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 geschlossen und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 werden vereinigt.
  • Betrachtet man die Ausführungsform, die in 13C gezeigt ist, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 um den achten Abstand D8 und den neunten Abstand D9 erweitert. Da es jedoch keine Lücken gibt, die geschlossen werden müssen, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 nur erweitert und nicht vereinigt.
  • Betrachtet man die Ausführungsform, die in 13D gezeigt ist, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 um den achten Abstand D8 und den neunten Abstand D9 erweitert. Als solche wird die Lücke, die zwischen der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 liegt, geschlossen, und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 werden in eine einzige Durchkontaktierung vereinigt.
  • 13A-13G zeigen auch einen zwölften Schritt 1512, in dem die redundanten und unnötigen Durchkontaktierungen, die durch die erste Markierungsschicht 701 identifiziert werden, entfernt werden. In einer Ausführungsform wird das Entfernen ausgeführt, indem die Durchkontaktierungen um einen Abstand verkleinert werden, der größer als die Größe der ursprünglichen Durchkontaktierungen ist. In einer Ausführungsform beispielsweise, in der die ursprünglichen Durchkontaktierungen eine Größe von 20 nm × 40 nm haben, kann die Größe der Durchkontaktierungen in der zweiten Richtung 805 oder der vierten Richtung 905 geändert werden, indem die Größe der Durchkontaktierungen um 20nm verringert wird. Als solche werden alle Durchkontaktierungen, die nicht vereinigt wurden und ihre ursprüngliche Größe behalten, wirksam von dem Gesamtdesign entfernt.
  • Zusätzlich werden in dem zwölften Schritt 1512, nach dem Entfernen der Durchkontaktierungen, die verbleibenden Durchkontaktierungen (diejenigen, die vereinigt wurden und als solche eine größere Größe haben, als sie ursprünglich hatten), um den gleichen Abstand erweitert, um sie in die Größe zu überführen, die sie vor dem zwölften Schritt 1512 hatten. Als solcher entfernt der zwölfte Schritt 1512 Durchkontaktierungen, die nicht vereinigt wurden und redundant sind, überführt aber die anderen Durchkontaktierungen zurück in ihre ursprüngliche Größe.
  • Als ein Beispiel wird in der Ausführungsform, die in 13B gezeigt ist, die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 (siehe z.B. 12B) in der Größe um ihre ursprüngliche Größe verkleinert. Wenn die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 beispielsweise eine ursprüngliche Größe von 20 nm hat, wird die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 um mindestens 20 nm verkleinert, was die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 tatsächlich von dem Design entfernt.
  • Betrachtet man immer noch die Ausführungsform in 13B, so werden die vereinigte Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 jedoch um mindestens 20 nm verkleinert. Da diese Durchkontaktierungen jedoch schon vereinigt wurden, entfernt die Verkleinerung die vereinigte zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 nicht. Dann kehren, wenn die Erweiterung ausgeführt wird, die vereinigte zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 zu ihrer ursprünglichen Größe zurück.
  • Eine ähnliche Verarbeitung kann ausgeführt werden, um die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und die dritte Durchkontaktierung 332 in der dritten Zelle 409 in der Ausführungsform in 13D zu entfernen. Zusätzlich kann in der Ausführungsform, die in 13C gezeigt ist, der zwölfte Schritt 1512 verwendet werden, um die vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und die vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 zu entfernen.
  • 14A-14G zeigen einen dreizehnten Schritt 1513, der die vereinigten Durchkontaktierungen nach dem Schließen der Lücken in dem zwölften Schritt 1512 zurück in ihre ursprüngliche Größe versetzt. In einer Ausführungsform können die vereinigten Durchkontaktierungen um den gleichen Abstand verkleinert werden, um den sie während der Vereinigung erweitert wurden, während der vereinigte Abschnitt der Durchkontaktierungen immer noch beibehalten wird. Als solches verringert in einer Ausführungsform, in der der zwölfte Schritt 1512 eine Erweiterung von 1 nm in der dritten Richtung 906 und der vierten Richtung 905 verwendet hat, der dreizehnte Schritt 1513 die Größe der vereinigten Durchkontaktierungen um mm in der zweiten Richtung 805 und der vierten Richtung 905. Jede andere Verringerung der Größe kann jedoch alternativ verwendet werden.
  • In der Ausführungsform beispielsweise, die in 14A gezeigt ist, werden die vereinigten Durchkontaktierungen (von der vereinigten Durchkontaktierung von der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 und der vereinigten Durchkontaktierung von der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411) in der Größe auf ihre ursprüngliche Größe verkleinert. In einer bestimmten Ausführungsform, in der die vereinigte Durchkontaktierung eine Größe von 20 nm × 82 nm hat, führt diese Verkleinerung die Durchkontaktierung auf eine Größe von 20 nm × 80 nm zurück.
  • Ähnlich können die vereinigte Durchkontaktierung in der Ausführungsform, die in 11B gezeigt ist (die vereinigte Durchkontaktierung von der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und der zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409) und die vereinigte Durchkontaktierung in der Ausführungsform, die in 11D gezeigt ist (die vereinigte Durchkontaktierung von der zweiten Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und der ersten Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411) auch in der Größe auf ihre ursprüngliche Größe verkleinert werden. Die vereinigten Abschnitte der Durchkontaktierungen werden jedoch beibehalten (wie in 14A durch den vereinigten Abschnitt 1401 wiedergegeben wird, der durch die gestrichelte Linie gekennzeichnet ist).
  • 14A-14G zeigen auch in dem dreizehnten Schritt 1513, dass die zusammengefassten Durchkontaktierungen in das Design der ersten Zelle 301, der zweiten Zelle 405, der dritten Zelle 409 und der vierten Zelle 411 einbezogen werden. Die zusammengefassten Durchkontaktierungen beispielsweise, die durch die Behandlung nach dem Layout 215 vereinigt oder anderweitig modifiziert wurden, werden vollständig in das Gesamtdesign zurück integriert.
  • Zusätzlich können zu diesem Zeitpunkt, sobald die zusammengefassten Durchkontaktierungen zurück in das Design integriert wurden, die erste Markierungsschicht 701, die zweite Markierungsschicht 702 und die dritte Markierungsschicht 703 entfernt werden. Durch dieses Entfernen werden die erste Markierungsschicht 701, die zweite Markierungsschicht 702 und die dritte Markierungsschicht 703 nicht in das endgültige Design integriert, obwohl sie verwendet wurden, um dazu beizutragen, das endgültige Design zu ermitteln.
  • 15 zeigt einen Verfahrensfluss 1500 für eine Ausführungsform der Behandlung nach dem Layout 215, wie sie oben mit Bezug auf 7A-14G beschrieben ist. In dem ersten Schritt 1501 werden die erste Markierungsschicht 701, die zweite Markierungsschicht 702 und die dritte Markierungsschicht 703 angeordnet. In dem zweiten Schritt 1502 werden die Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert werden, analysiert, um zu ermitteln, ob es einen anderen Weg zu der Speisespannungsleitung 323 oder der Erdungsleitung 325 gibt. In dem dritten Schritt 1503 wird eine Identifizierung von Durchkontaktierungen, die von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert werden, die mit Durchkontaktierungen vereinigt werden können, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert werden, ausgeführt.
  • In dem vierten Schritt 1504 werden die ersten Erweiterungsbereiche 901 erzeugt und in dem fünften Schritt 1505 werden die zweiten Erweiterungsbereiche 903 erzeugt. Zusätzlich werden in dem sechsten Schritt 1506 die dritten Erweiterungsbereiche 907 erzeugt und in dem siebten Schritt 1507 werden die vierten Erweiterungsbereiche 909 erzeugt. In dem achten Schritt 1508 werden die Erweiterungsbereiche analysiert. In dem neunten Schritt 1509 werden Formen von den Erweiterungsbereichen identifiziert. In dem zehnten Schritt 1510 werden die Formen vereinigt.
  • In dem elften Schritt 1511 werden die verbleibenden Durchkontaktierungen in der Größe geändert, um die Durchkontaktierungen zu vereinigten. In dem zwölften Schritt 1512 werden die Durchkontaktierungen in der Größe geändert, um die Durchkontaktierungen zu entfernen, die redundant sind. In dem dreizehnten Schritt 1513 werden die Durchkontaktierungen in der Größe geändert und in das Design integriert und die Markierungsschichten (z.B. die erste Markierungsschicht 701, die zweite Markierungsschicht 702 und die dritte Markierungsschicht 703) werden entfernt.
  • Indem die Behandlung nach dem Layout 215 wie oben ausgeführt wird, kann Blockierung um die Randbereiche der Zellen verringert werden, so dass die Blockierung eine weitere Verkleinerung des Gesamtdesigns nicht verhindert, während die elektrischen Verbindungen mit den Zellenrand-Leitungen beibehalten werden, die dazu beitragen, dass Interferenz zwischen benachbarten Zellen verhindert wird. Als solches erlaubt die Behandlung nach dem Layout 215, dass ein zusätzlicher Poly-Mittenabstand (der eingeführt wurde) vermieden wird, so dass das Verfahren effizienter wird.
  • 16-24 zeigen eine weitere Ausführungsform der Behandlung nach dem Layout 215, das eine solche Behandlung auf die Zellenlayouts anwendet, bei der die Durchkontaktierungen sich tatsächlich über die Speisespannungsleitungen 323 und/oder Erdungsleitungen 325 hinaus erstrecken können, so dass, wenn die einzelnen Zellen in den Zellenreihen angeordnet werden (z.B. der ersten Zellenreihe 401 und der zweiten Zellenreihe 403), sich die Durchkontaktierungen in die angrenzende Zelle erstrecken können. Betrachtet man beispielsweise die Ausführungsform, die in 16A gezeigt ist, erstreckt sich die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 über die Erdungsleitung 325 hinaus und erstreckt sich als solche tatsächlich über den Zellenrand der ersten Zelle 301 hinaus und in die dritte Zelle 409. Ähnlich erstreckt sich die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 auch über den Zellenrand der dritten Zelle 409 hinaus, so dass die zweiten Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 mit der ersten Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 überlappt. Zusätzlich überlappen, betrachtet man die zweite Zelle 405 und die vierte Zelle 411, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 auch, wenn die einzelnen Zellen in den Zellenreihen angeordnet werden.
  • In einer Ausführungsform wird, um die Behandlung nach dem Layout 215 auf ein solches Layout anzuwenden, der erste Schritt 1501 wie oben mit Bezug auf 7A-7G beschrieben ausgeführt, indem Abschnitte der ersten Markierungsschicht 701, Abschnitte der zweiten Markierungsschicht 702 und Abschnitte der dritten Markierungsschicht 703 über dem Design angeordnet werden. Zusätzlich kann der zweite Schritt 1502 auch ausgeführt werden, um diejenigen Durchkontaktierungen zu identifizieren, die vorher von der ersten Markierungsschicht 701 überlagert wurden und auch einen alternativen Weg zu der Speisespannungsleitung 323 und der Erdungsleitung 325 aufweisen.
  • 17A-17G zeigen einen modifizierten dritten Schritt 1503', der die Durchkontaktierungen berücksichtigt, die sich über die Zellenränder hinaus erstrecken. Insbesondere wird, mit Bezug auf diejenigen Durchkontaktierungen, die sich über die Zellenränder hinaus erstrecken, diese Durchkontaktierung in der Größe verkleinert, so dass sie die Ränder zwischen den Zellen nicht länger überqueren. In der Ausführungsform, die in 17A gezeigt ist, wird die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 in der Größe um einen Abstand verkleinert, um sie entweder zurück zu oder zurück über den Rand der ersten Zelle 301 zu bringen. In einer bestimmten Ausführungsform, in der die erste Durchkontaktierung 329 eine vertikale Abmessung von 46 nm hat und sich 9 nm in die dritte Zelle 409 hinein erstreckt, wird die erste Durchkontaktierung 329 in der Größe um 9 nm auf eine vertikale Abmessung von 37 nm verkleinert, so dass sich die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 befindet.
  • Ähnlich werden, betrachtet man die Ausführungsform, die in 17B gezeigt ist, die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409, die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 in der Größe so verkleinert, dass die Durchkontaktierungen sich nicht über den Zellenrand hinaus erstrecken. Betrachtet man die Ausführungsform, die in 17C gezeigt ist, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der dritten Zelle 409 in der Größe verkleinert. Betrachtet man die Ausführungsform, die in 17D gezeigt ist, werden die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 und die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411 in der Größe verkleinert. Betrachtet man als nächstes die Ausführungsform, die in 17E gezeigt ist, werden die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 und die zweite Durchkontaktierung 331 in der zweiten Zelle 405 in der Größe verkleinert. Betrachtet man schließlich die Ausführungsform, die in 17F gezeigt ist, wird die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 311 in der Größe verkleinert.
  • Sobald die verschiedenen Durchkontaktierungen in der Größe verkleinert wurden, kann der Rest des modifizierten dritten Schritts 1503 wie oben mit Bezug auf 8A-8G beschrieben ausgeführt werden. Insbesondere werden die Durchkontaktierungen, die durch die erste Markierungsschicht 701 überlagert werden, die mit den Durchkontaktierungen vereinigt werden können, die durch die zweite Markierungsschicht 702 überlagert werden, identifiziert, indem die Ausschließungsbereiche 801 ausgebildet werden.
  • 18A-18G zeigen den vierten Schritt 1504 und den fünften Schritt 1505. Insbesondere werden diejenigen Durchkontaktierungen, die in dem dritten Schritt 1503 identifiziert wurden, in der ersten Richtung 803 und der dritten Richtung 906 erweitert. In einer Ausführungsform können der vierte Schritt 1504 und der fünfte Schritt 1505 wie oben mit Bezug auf 9A-9G beschrieben ausgeführt werden.
  • 19A-19G zeigen den sechsten Schritt 1506 und den siebten Schritt 1507, in denen die Durchkontaktierungs-Landestellen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 überlagert werden, in der zweiten Richtung erweitert werden und auch in der vierten Richtung 905 erweitert werden, um die dritten Erweiterungsbereiche 907 und die vierten Erweiterungsbereiche 909 auszubilden, um die Interaktion zwischen den erweiterten Durchkontaktierungen zu ermitteln. Weil die Durchkontaktierungen, die sich ursprünglich über die Zellenränder hinaus erstreckt haben, jedoch schon verkleinert wurden, werden diese bestimmten Durchkontaktierungen um einen anderen Betrag erweitert als die übrigen Durchkontaktierungen.
  • Betrachtet man beispielsweise die Ausführungsform, die in 19A gezeigt ist, kann die erste Durchkontaktierung 329 in der ersten Zelle 301 in sowohl der zweiten Richtung 805 als auch der vierten Richtung 905 um einen Abstand erweitert werden, der kleiner als bei den anderen Durchkontaktierungen ist, etwa indem sie um 13 nm erweitert wird, um die dritten Erweiterungsbereiche 907 und die vierten Erweiterungsbereiche 909 (die in 19A-19G durch die gestrichelten Rechtecke wiedergegeben sind) auszubilden. Zusätzlich werden die übrigen Durchkontaktierungen um einen größeren Betrag erweitert, etwa um 23 nm.
  • 19A-19G zeigen auch den achten Schritt 1508, in dem die Interaktionen zwischen den erweiterten Durchkontaktierungen analysiert werden. Insbesondere werden die Interaktionen dadurch ermittelt, ob die erweiterten Durchkontaktierungen sich nach ihrer Erweiterung überlappen. In einer Ausführungsform kann der achte Schritt 1508 wie oben mit Bezug auf 10A-10G ausgeführt werden, mit einigen Modifikationen. Insbesondere können der erste Unterschritt und der zweite Unterschritt wie oben mit Bezug auf 10A-10G ausgeführt werden.
  • Der dritte Unterschritt und der vierte Unterschritt werden jedoch modifiziert, um die ursprünglichen Durchkontaktierungen aufzunehmen, die in der Größe verkleinert werden müssen. Insbesondere werden, betrachtet man zuerst den dritten Unterschritt, diejenigen Durchkontaktierungen, die ursprünglich in der ersten Richtung 803 (in dem vierten Schritt 1504) und der dritten Richtung 906 (in dem fünften Schritt 1505) erweitert wurden, in der Größe um einen solchen Betrag so verkleinert, dass die Durchkontaktierungen nicht immer interagieren. In einer Ausführungsform können die Durchkontaktierungen, die ursprünglich in der ersten Richtung erweitert wurden, um einen Betrag wie 8nm verkleinert werden. Sobald die Durchkontaktierungen verkleinert wurden, können die Interaktionen wie oben beschrieben ermittelt werden.
  • In dem vierten Unterschritt werden diejenigen Durchkontaktierungen, die ursprünglich in der ersten Richtung 803 (in dem vierten Schritt 1504) und der dritten Richtung 906 (in dem fünften Schritt 1505) erweitert wurden, in der Größe um einen solchen Betrag verkleinert, dass die Durchkontaktierungen nicht immer interagieren. In einer Ausführungsform können die Durchkontaktierungen, die ursprünglich in der ersten Richtung erweitert wurden, um einen Betrag wie 8nm verkleinert werden. Sobald die Durchkontaktierungen verkleinert wurden, können die Interaktionen wie oben beschrieben ermittelt werden.
  • 20A-20G zeigen den neunten Schritt 1509, in dem vereinigte Durchkontaktierungsformen identifiziert werden, gestützt auf die Interaktionen, die in dem achten Schritt 1508 identifiziert wurden. In einer Ausführungsform kann der neunte Schritt 1509 wie oben mit Bezug auf 11A-11G beschrieben ausgeführt werden.
  • 21A-21G zeigen den zehnten Schritt 1510, um zu ermitteln, ob irgendwelche der kombinierten Formen mit einander interagieren und vereinigt werden können. In einer Ausführungsform kann der zehnte Schritt 1510 wie oben mit Bezug auf 12A-12G beschrieben ausgeführt werden.
  • 22A-22G zeigen den elften Schritt 1511, in dem Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert werden, mittels der fünften Erweiterungsbereiche 1301 und der sechsten Erweiterungsbereiche 1303 entweder belassen, vereinigt oder vollständig entfernt werden. In dieser Ausführungsform werden die Durchkontaktierungen, die schon vereinigt wurden (z.B. die Durchkontaktierungen mit einer vertikalen Abmessung von zwischen 86 nm und 98 nm, die Durchkontaktierungen, die unter der Speisespannungsleitung [---] angeordnet sind und die Durchkontaktierungen mit einer vertikalen Breite von 36 nm) auf eine Größe von 0,01 in der vertikalen Richtung gebracht.
  • Wegen der Einschränkungen auf die Größe kann die Größe dieser Durchkontaktierungen jedoch begrenzt werden, so dass sie nicht zu viel Platz verbrauchen und mit andere Strukturen in den einzelnen Zellen wechselwirken. Als solche werden die Durchkontaktierungen, die durch die zweite Markierungsschicht 702 identifiziert werden, die solche Abmessungen haben, dass sie sich über die Zellenränder hinaus erstrecken, entfernt und eine Ersatz-Durchkontaktierung, die in der Größe angepasst wurde, wird stattdessen angeordnet. Für Durchkontaktierungen beispielsweise, die eine ursprüngliche vereinigte Abmessung von 20 nm × 86 nm haben können, können diese Durchkontaktierungen durch eine Durchkontaktierung mit einer Abmessung von 20 nm × 74 nm ersetzt werden. Ähnlich können Durchkontaktierungen mit einer Abmessung von 20 nm × 90 nm durch Durchkontaktierungen mit einer Abmessung von 20 nm × 74 nm ersetzt werden. Eine solche Anpassung der Größe verhindert, dass die Durchkontaktierungen sich weiter in ihre entsprechenden Zellen erstrecken und mit dem Rest des Zellendesigns wechselwirken.
  • Ähnlich können für Durchkontaktierungen, die nicht vereinigt wurden, diese Durchkontaktierungen vergrößert werden, um sicherzustellen, dass die Durchkontaktierungen in ihre ursprünglichen Abmessungen zurückversetzt werden. Für Durchkontaktierungen beispielsweise, die eine ursprüngliche Abmessung von 20 nm × 36 nm haben, können diese Durchkontaktierungen 10 nm in der vertikalen Richtung erweitert werden, so dass sie Abmessungen von 20 nm × 46 nm haben. Ähnlich können Durchkontaktierungen, die Abmessungen von 20 nm × 72 nm haben, um 1 nm erweitert werden, so dass sie endgültige Abmessungen von 20 nm × 74 nm haben.
  • 22A-22G zeigen den zwölften Schritt 1512, bei dem die Durchkontaktierungen, die durch die erste Markierungsschicht 701 identifiziert werden, vereinigt, in der Größe angepasst oder vollständig entfernt werden. In der Ausführungsform, die in 22G gezeigt ist, werden die kombinierte vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und die kombinierte dritte Durchkontaktierung in der dritten Zelle 409 und vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 erweitert, um die Durchkontaktierungen in eine einzige Durchkontaktierung zu vereinigen. In einer Ausführungsform kann die Erweiterung ausgeführt werden, indem die Durchkontaktierungen in der vertikalen Richtung um einen Abstand erweitert werden, um die Zellen zu vereinigen, etwa um 2 nm in vertikaler Richtung.
  • Sobald die Durchkontaktierungen erweitert und vereinigt wurden, kann die einzige Durchkontaktierung dann in der vertikalen Richtung um einen ähnlichen Betrag verkleinert werden, um die Durchkontaktierungen wieder in eine passende Größe zu bringen. In der Ausführungsform beispielsweise, die in 22G gezeigt ist, in der die kombinierte vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 und die kombinierte dritte Durchkontaktierung in der dritten Zelle 409 und vierte Durchkontaktierung 333 in der vierten Zelle 411 vereinigt werden, kann die kombinierte Durchkontaktierung dann in der Größe um einen ähnlichen Abstand verkleinert werden, etwa 2 nm. Als solche hat in einer Ausführungsform, in der die ursprünglichen Durchkontaktierungen Abmessungen wie 20nm × 20nm haben, die neue kombinierte Durchkontaktierung Abmessungen von 20 nm × 44 nm.
  • 23A-34G zeigen einen fünfzehnten Schritt 1515, der verwendet werden kann, um dazu beizutragen, photolithographische Einschränkungen zu beseitigen, die mit der „L“-Form 1101 zusammenhängen. Insbesondere kann es aufgrund von Verfahrensbedingungen vorteilhaft sein, die photolithographischen Masken, die verwendet werden, um die „L“-Form 1101 auszubilden, in zwei getrennte Masken zu trennen, um Struktur-Degradation zu vermeiden. In der Ausführungsform, die in 23F gezeigt ist, wird die kombinierte vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405 (die als Teil der „L“-Form identifiziert wurde) vertikal um einen zehnten Abstand D10 erweitert, um einen siebten Erweiterungsbereich 2301 und einen achten Erweiterungsbereich 2303 auszubilden, um zu erkennen, ob sie mit einer Metall-Null-Verbindung interagiert (z.B. überlappt), etwa der ersten Metall-Null-Verbindung 335 in der vierten Zelle 411.
  • 24A-24G zeigen dass, sobald ermittelt wurde, dass die „L“-Form interagiert, die „L“-Form dann entfernt wird und durch zwei getrennte Formen ersetzt wird. In einer Ausführungsform können die erste Form ein erster Schenkel der ursprünglichen „L“-Form und die zweite Form der zweite Schenkel der ursprünglichen „L“-Form sein. In einem speziellen Beispiel kann die erste Form die ursprüngliche Durchkontaktierung sein (z.B. die kombinierte vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405) zusammen mit dem ersten Erweiterungsbereich 901 von dem vierten Schritt 1504 sein. Alternativ kann in einer Ausführungsform, in der der erste Erweiterungsbereich 901 nicht verwendet werden soll, die ursprüngliche Durchkontaktierung (z.B. die kombinierte vierte Durchkontaktierung 333 in der ersten Zelle 301 und dritte Durchkontaktierung 332 in der zweiten Zelle 405) einfach genügend erweitert werden, um den dritten Erweiterungsbereich 907 zu kontaktieren, etwa wenn sie um 24nm in der ersten Richtung 803 erweitert wird. Zusätzlich kann die zweite Form die ursprüngliche Durchkontaktierung (die erste Durchkontaktierung 329 in der vierten Zelle 411) zusammen mit dem dritten Erweiterungsbereich 907 von dem sechsten Schritt 1506 sein.
  • 25A-25G zeigen den dreizehnten Schritt 1513, der das Entfernen der ersten Markierungsschicht 701, der zweiten Markierungsschicht 702 und der dritten Markierungsschicht 703 ausführt. Sobald sie entfernt wurden, kann das endgültige Design verarbeitet, gespeichert und verwendet werden, um Masken für die folgende Herstellung von Halbleitervorrichtungen zu erstellen, die die Zellen in den Zellenreihen verwenden.
  • 26 zeigt einen Verfahrensfluss 2600 der Ausführungsform, die in 16A-25G gezeigt ist. Insbesondere zeigt sie die Verkleinerung der Durchkontaktierungen in dem modifizierten dritten Schritt 1503' sowie die Analyse und das mögliche Aufteilen der vereinigten Formen in dem fünfzehnten Schritt 1515.
  • Nachdem die Behandlung nach dem Layout 215 ausgeführt wurde, kann das Design gespeichert, modifiziert und schließlich gesendet werden, um in eine oder mehrere Serien von photolithographischen Masken überführt zu werden. Nachdem sie ausgebildet wurden, können die photolithographischen Masken in einer Abfolge von Maskierungs- und Ätzvorgängen neben anderen Herstellungsverfahren verwendet werden, um Halbleitervorrichtungen aus dem ursprünglichen Design herzustellen.
  • In Übereinstimmung mit einer Ausführungsform ist ein Verfahren zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung vorgesehen, das das Anordnen einer ersten Zelle und einer zweiten Zelle in eine erste Zellenreihe und das Anordnen einer dritten Zelle und einer vierten Zelle in eine zweite Zellenreihe angrenzend an die erste Zellenreihe umfasst. Eine Behandlung nach dem Anordnen wird mittels eines Mikroprozessors nach dem Anordnen der ersten Zelle und der zweiten Zelle und nach dem Anordnen der dritten Zelle und der vierten Zelle ausgeführt, wobei die Behandlung nach dem Anordnen das Kombinieren einer ersten Durchkontaktierung in der ersten Zelle und einer zweiten Durchkontaktierung in der dritten Zelle in eine dritte Durchkontaktierung umfasst und das Entfernen einer vierten Durchkontaktierung von der ersten Zelle ohne eine elektrische Verbindung zu unterbrechen.
  • In Übereinstimmung mit einer anderen Ausführungsform ist ein Verfahren zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung vorgesehen, das das Empfangen einer ersten Zelle, einer zweiten Zelle, einer dritten Zelle und einer vierten Zelle von einer Zellbibliotheken umfasst. Mittels eines Mikroprozessors werden die erste Zelle und die zweite Zelle in eine erste Zellenreihe angeordnet und die dritte Zelle und die vierte Zelle in einer zweiten Zellenreihe angeordnet, wobei ein Grenzbereich der ersten Zelle, der zweiten Zelle, der dritten Zelle und der vierten Zelle eine erste Durchkontaktierung und eine zweite Durchkontaktierung umfasst. Mittels des Mikroprozessors wird ein erster Abschnitt einer ersten Markierungsschicht über der ersten Durchkontaktierung angeordnet. Mittels des Mikroprozessors wird ein erster Abschnitt einer zweiten Markierungsschicht über der zweiten Durchkontaktierung angeordnet. Mittels des Mikroprozessors werden die erste Durchkontaktierung und die zweite Durchkontaktierung analysiert, gestützt auf die erste Markierungsschicht und die zweite Markierungsschicht, wobei das Analysieren der ersten Durchkontaktierung und der zweiten Durchkontaktierung weiter das Ermitteln umfasst, ob die erste Durchkontaktierung mit der zweiten Durchkontaktierung vereinigt oder entfernt werden soll.
  • In Übereinstimmung mit noch einer anderen Ausführungsform ist eine Halbleitervorrichtung vorgesehen, die eine erste Zellenreihe mit einer ersten Zelle und einer zweiten Zelle angrenzend an die erste Zelle umfasst. Eine zweite Zellenreihe ist angrenzend an die erste Zellenreihe, wobei die zweite Zellenreihe eine dritte Zelle und eine vierte Zelle umfasst. Eine vereinigte Durchkontaktierung ist elektrisch mit einer Speisespannungs-/Erdungsleitung mit einem ersten Source/Drain-Bereich und einem zweiten Source/Drain-Bereich verbunden, wobei der erste Source/Drain-Bereich in der zweiten Zelle liegt und der zweite Source/Drain-Bereich in der vierten Zelle liegt, wobei die vereinigte Durchkontaktierung sich sowohl in die zweite Zelle als auch in die vierte Zelle erstreckt.
  • Das Vorangegangene beschreibt Merkmale von mehreren Ausführungsformen, so dass der Fachmann die Aspekte der vorliegenden Offenbarung besser verstehen kann. Der Fachmann sollte anerkennen, dass er die vorliegende Offenbarung leicht als Basis verwenden kann, um andere Verfahren und Strukturen zu entwerfen oder modifizieren, um die gleichen Ziele zu erreichen und/oder die gleichen Vorteile der hier eingeführten Ausführungsformen zu realisieren. Der Fachmann sollte auch erkennen, dass solche äquivalenten Konstruktionen nicht von dem Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung abweichen und dass er verschiedene Änderungen, Ersetzungen und Modifikationen hier vornehmen kann, ohne von dem Geist und Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.

Claims (16)

  1. Verfahren zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Anordnen einer ersten Zelle (301) und einer zweiten Zelle (405) in einer ersten Zellenreihe (401); Anordnen einer dritten Zelle (409) und einer vierten Zelle (411) in einer zweiten Zellenreihe (402), die der ersten Zellenreihe benachbart ist, wobei die Zellen Durchkontaktierungen aufweisen; und danach Ausführen einer Behandlung, mittels eines Mikroprozessors, wobei die Behandlung umfasst: Kombinieren einer ersten Durchkontaktierung (331) der ersten Zelle (301) und einer zweiten Durchkontaktierung (329) der dritten Zelle (409) zu einer dritten Durchkontaktierung (501), wobei die erste und die zweite Durchkontaktierung die gleichen Strukturen elektrisch miteinander verbinden und physisch eng benachbart angeordnet sind; und Entfernen einer vierten Durchkontaktierung (333) der ersten Zelle (301), ohne eine elektrische Verbindung zu unterbrechen, wobei die vierte Durchkontaktierung (333) eine redundante Verbindung zu den gleichen Strukturen bereitstellt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei vor dem Entfernen der vierten Durchkontaktierung (333) die vierte Durchkontaktierung (333) eine Zellenrand-Leitung (408) mit einer Erdungsleitung (325) verbindet.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei die Zellenrand-Leitung (408) elektrisch mit der Erdungsleitung (325) über eine Metall-Null-Verbindung (337) verbunden bleibt.
  4. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die erste Zelle (301) ein Inverter ist.
  5. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die zweite Zelle (405) ein Inverter ist.
  6. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei ein Grenzbereich der ersten Zelle, der zweiten Zelle, der dritten Zelle und der vierten Zelle Folgendes umfasst: einen ersten Drain-Bereich der ersten Zelle; einen ersten Source-Bereich der zweiten Zelle; einen zweiten Source-Bereich der dritten Zelle; und einen zweiten Drain-Bereich der vierten Zelle.
  7. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei ein Grenzbereich der ersten Zelle (301), der zweiten Zelle (405), der dritten Zelle (409) und der vierten Zelle (411) Folgendes umfasst: einen ersten Source-Bereich der ersten Zelle; einen ersten Drain-Bereich der zweiten Zelle; einen zweiten Drain-Bereich der dritten Zelle; und einen dritten Drain-Bereich der vierten Zelle, wobei die erste Durchkontaktierung und die zweite Durchkontaktierung in eine „L“-Form kombiniert werden.
  8. Verfahren zum Entwerfen einer Halbleitervorrichtung mit einem EDA-Verarbeitungssystem, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Empfangen einer ersten Zelle, einer zweiten Zelle, einer dritten Zelle und einer vierten Zelle von einer Zellbibliothek; Anordnen, mittels eines Mikroprozessors, der erste Zelle und der zweiten Zelle in einer ersten Zellenreihe und Anordnen der dritten Zelle und der vierten Zelle in einer zweiten Zellenreihe, wobei ein Grenzbereich der ersten Zelle, der zweiten Zelle, der dritten Zelle und der vierten Zelle eine erste Durchkontaktierung und eine zweite Durchkontaktierung umfasst; Anordnen, mittels des Mikroprozessors, eines ersten Abschnitts einer ersten Markierungsschicht über der ersten Durchkontaktierung; Anordnen, mittels des Mikroprozessors, eines ersten Abschnitts einer zweiten Markierungsschicht über der zweiten Durchkontaktierung; und Analysieren, mittels des Mikroprozessors, der ersten Durchkontaktierung und der zweiten Durchkontaktierung, gestützt auf die erste Markierungsschicht und die zweite Markierungsschicht, wobei das Analysieren umfasst: Ermitteln, ob die erste Durchkontaktierung mit der zweiten Durchkontaktierung zu einer dritten Durchkontaktierung kombiniert werden soll, wenn die erste und die zweite Durchkontaktierung die gleichen Strukturen elektrisch miteinander verbinden und physisch eng benachbart angeordnet sind; oder ob die erste Durchkontaktierung andernfalls entfernt werden soll, wenn sie eine redundante Verbindung zu den gleichen Strukturen bereitstellt.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, das weiter Folgendes umfasst: Anordnen eines ersten Abschnitts einer dritten Markierungsschicht über der ersten Durchkontaktierung; und Ermitteln, ob die erste Markierungsschicht und die zweite Markierungsschicht in der dritten Markierungsschicht liegen.
  10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, wobei das Analysieren der ersten Durchkontaktierung und der zweiten Durchkontaktierung weiter Folgendes umfasst: Ausbilden von Ausschließungsbereichen um die zweite Durchkontaktierung; und Ermitteln, ob die erste Durchkontaktierung von den Ausschließungsbereichen kontaktiert wird.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, das weiter Folgendes umfasst: Erweitern der zweiten Durchkontaktierung in einer ersten Richtung rechtwinklig zu der ersten Zellenreihe, um einen ersten Erweiterungsbereich auszubilden; und Erweitern einer dritten Durchkontaktierung, die von einem zweiten Abschnitt der zweiten Markierungsschicht überlagert wird, in einer zweiten Richtung, die rechtwinklig zu der ersten Zellenreihe ist und sich von der ersten Richtung unterscheidet, um einen zweiten Erweiterungsbereich auszubilden; und Kombinieren der ersten Durchkontaktierung und der zweiten Durchkontaktierung, wenn der erste Erweiterungsbereich den zweiten Erweiterungsbereich kontaktiert.
  12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, das weiter Folgendes umfasst: Erweitern der zweiten Durchkontaktierung in eine erste Richtung, die rechtwinklig zu der ersten Zellenreihe ist, um einen ersten Erweiterungsbereich auszubilden; Erweitern der ersten Durchkontaktierung in eine zweite Richtung parallel zu der ersten Zellenreihe, um einen zweiten Erweiterungsbereich auszubilden; und Kombinieren der zweiten Durchkontaktierung, der ersten Durchkontaktierung, des ersten Erweiterungsbereichs und des zweiten Erweiterungsbereichs in eine erste einzelne vereinigte Durchkontaktierung.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei die erste einzelne vereinigte Durchkontaktierung eine „L“-Form hat.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, das weiter Folgendes umfasst: Analysieren, ob die erste einzelne vereinigte Durchkontaktierung eine zweite einzelne vereinigte Durchkontaktierung überlagert; und Kombinieren der ersten einzelnen vereinigten Durchkontaktierung und der zweiten einzelnen vereinigten Durchkontaktierung in eine einzelne vereinigte Form.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 14, das weiter das Verkleinern einer Größe der ersten Zelle über einen Zellenrand umfasst.
  16. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die kombinierten Durchkontaktierungen eine Speisespannungs- oder Erdungsleitung mit einem ersten Source/Drain-Bereich und einem zweiten Source/Drain-Bereich elektrisch verbinden, wobei der erste Source/Drain-Bereich in der ersten Zelle liegt und der zweite Source/Drain-Bereich in der dritten Zelle liegt, wobei die kombinierten Durchkontaktierungen sich sowohl in die erste Zelle als auch in die dritte Zelle erstrecken.
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