DE102011105645A1 - Entschichtungsverfahren für harte Kohlenstoffschichten - Google Patents

Entschichtungsverfahren für harte Kohlenstoffschichten Download PDF

Info

Publication number
DE102011105645A1
DE102011105645A1 DE102011105645A DE102011105645A DE102011105645A1 DE 102011105645 A1 DE102011105645 A1 DE 102011105645A1 DE 102011105645 A DE102011105645 A DE 102011105645A DE 102011105645 A DE102011105645 A DE 102011105645A DE 102011105645 A1 DE102011105645 A1 DE 102011105645A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
stripping
gas
substrate
reactive
carbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102011105645A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Jürgen Ramm
Benno Widrig
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Surface Solutions AG Pfaeffikon
Original Assignee
Oerlikon Trading AG Truebbach
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oerlikon Trading AG Truebbach filed Critical Oerlikon Trading AG Truebbach
Priority to DE102011105645A priority Critical patent/DE102011105645A1/de
Priority to EP12725315.1A priority patent/EP2718481B1/de
Priority to SG2014001168A priority patent/SG2014001168A/en
Priority to KR1020167002198A priority patent/KR101784638B1/ko
Priority to CA2846434A priority patent/CA2846434C/en
Priority to JP2014513932A priority patent/JP5933701B2/ja
Priority to RU2013158315A priority patent/RU2606899C2/ru
Priority to BR112013031584-9A priority patent/BR112013031584B1/pt
Priority to KR1020147000018A priority patent/KR20140019018A/ko
Priority to PCT/EP2012/002305 priority patent/WO2012167886A1/de
Priority to PH1/2014/500059A priority patent/PH12014500059A1/en
Priority to CN201280038683.9A priority patent/CN103717788B/zh
Publication of DE102011105645A1 publication Critical patent/DE102011105645A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02Pretreatment of the material to be coated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
DE102011105645A 2011-06-07 2011-06-07 Entschichtungsverfahren für harte Kohlenstoffschichten Withdrawn DE102011105645A1 (de)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011105645A DE102011105645A1 (de) 2011-06-07 2011-06-07 Entschichtungsverfahren für harte Kohlenstoffschichten
EP12725315.1A EP2718481B1 (de) 2011-06-07 2012-05-31 Entschichtungsverfahren für harte kohlenstoffschichten
SG2014001168A SG2014001168A (en) 2011-06-07 2012-05-31 Method for removing hard carbon layers
KR1020167002198A KR101784638B1 (ko) 2011-06-07 2012-05-31 경질 탄소층을 박리하기 위한 방법
CA2846434A CA2846434C (en) 2011-06-07 2012-05-31 Stripping process for hard carbon coatings
JP2014513932A JP5933701B2 (ja) 2011-06-07 2012-05-31 硬質の炭素層のためのコーティング除去方法
RU2013158315A RU2606899C2 (ru) 2011-06-07 2012-05-31 Способ удаления слоев для твердых углеродных слоев
BR112013031584-9A BR112013031584B1 (pt) 2011-06-07 2012-05-31 processo para remoção reativa de camadas de carbono de um substrato, e seu uso
KR1020147000018A KR20140019018A (ko) 2011-06-07 2012-05-31 경질 탄소층을 박리하기 위한 방법
PCT/EP2012/002305 WO2012167886A1 (de) 2011-06-07 2012-05-31 Entschichtungsverfahren für harte kohlenstoffschichten
PH1/2014/500059A PH12014500059A1 (en) 2011-06-07 2012-05-31 Method for removing hard carbon layers
CN201280038683.9A CN103717788B (zh) 2011-06-07 2012-05-31 硬质碳层的脱层方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011105645A DE102011105645A1 (de) 2011-06-07 2011-06-07 Entschichtungsverfahren für harte Kohlenstoffschichten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102011105645A1 true DE102011105645A1 (de) 2012-12-13

Family

ID=47220581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102011105645A Withdrawn DE102011105645A1 (de) 2011-06-07 2011-06-07 Entschichtungsverfahren für harte Kohlenstoffschichten

Country Status (11)

Country Link
EP (1) EP2718481B1 (enExample)
JP (1) JP5933701B2 (enExample)
KR (2) KR20140019018A (enExample)
CN (1) CN103717788B (enExample)
BR (1) BR112013031584B1 (enExample)
CA (1) CA2846434C (enExample)
DE (1) DE102011105645A1 (enExample)
PH (1) PH12014500059A1 (enExample)
RU (1) RU2606899C2 (enExample)
SG (1) SG2014001168A (enExample)
WO (1) WO2012167886A1 (enExample)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114645281A (zh) * 2022-04-06 2022-06-21 岭南师范学院 一种褪除金属工件表面碳膜的方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6381984B2 (ja) * 2014-06-13 2018-08-29 学校法人 芝浦工業大学 脱膜方法及び脱膜装置
KR101864877B1 (ko) * 2015-04-08 2018-06-07 신메이와 고교 가부시키가이샤 이온 조사에 의한 피복재의 탈막 방법 및 탈막 장치
CN107923030A (zh) * 2015-08-18 2018-04-17 塔塔钢铁荷兰科技有限责任公司 用于清洁和涂覆金属带材的方法和设备
RU2632702C1 (ru) * 2016-10-28 2017-10-09 Арчил Важаевич Цискарашвили Антиадгезивное антибактериальное покрытие для ортопедических имплантатов из титана и нержавеющей стали
US10347463B2 (en) * 2016-12-09 2019-07-09 Fei Company Enhanced charged particle beam processes for carbon removal
CN108987255A (zh) * 2018-06-19 2018-12-11 广东先导先进材料股份有限公司 类金刚石膜表面处理工艺
CN108754520A (zh) * 2018-06-29 2018-11-06 四川大学 硬质合金表面涂层去除方法和设备
US12163213B2 (en) * 2019-07-31 2024-12-10 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Graded hydrogen-free carbon-based hard material layer coated onto a substrate
JP7422540B2 (ja) * 2019-12-26 2024-01-26 東京エレクトロン株式会社 成膜方法および成膜装置
CN111871973A (zh) * 2020-07-30 2020-11-03 成都光明光电股份有限公司 Dlc膜的脱膜方法及脱膜机
CN115954269B (zh) * 2022-12-20 2024-08-16 西安理工大学 实现离子轰击和电子轰击辅助转换的氧等离子体刻蚀方法

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0510340A1 (de) 1991-04-23 1992-10-28 Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur Abtragung von Material von einer Oberfläche in einer Vakuumkammer
EP0652301A1 (en) 1993-11-09 1995-05-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for producing diamond-like coatings and coated articles made thereby
EP0666335A1 (de) 1994-01-25 1995-08-09 Vtd - Vakuumtechnik Dresden Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vakuumlichtbogenverdampfers und Stromversorgungseinrichtung dafür
DE19831914A1 (de) 1998-07-16 2000-01-20 Laser & Med Tech Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Säuberung und Entschichtung transparenter Werkstücke
US6331332B1 (en) 1999-09-29 2001-12-18 Da-Yung Wang Process for depositing diamond-like carbon films by cathodic arc evaporation
JP2003200350A (ja) 2001-12-27 2003-07-15 Nachi Fujikoshi Corp 硬質炭素被覆膜の脱膜方法及び再生方法並びに再生基材
US6902774B2 (en) 2002-07-25 2005-06-07 Inficon Gmbh Method of manufacturing a device
WO2005073433A1 (de) 2004-01-29 2005-08-11 Unaxis Balzers Ag Entschichtungsverfahren und einkammeranlage zur durchführung des entschichtungsverfahrens
EP1152861B1 (de) * 1999-02-19 2006-03-29 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung von bauteilen, verwendung desselben, luftgelagertes werkstück und vakuumbehandlungskammer
US20070187229A1 (en) 2003-10-21 2007-08-16 Aksenov Ivan I Filtered cathodic-arc plasma source
CN101308764A (zh) 2007-05-15 2008-11-19 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 消除蚀刻工序残留聚合物的方法
WO2009132758A1 (de) 2008-05-02 2009-11-05 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zum entschichten von werkstücken und entschichtungslösung
EP2180499A2 (de) 2008-10-25 2010-04-28 EITEC Gesellschaft für metallisches Hartstoffbeschichten GmbH & Co. KG Verfahren zum substratschonenden Entfernen von Hartstoffschichten

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU375326A1 (ru) * 1971-02-01 1973-03-23 ПОТОЧНАЯ ЛИНИЯ ДЛЯ очистки ДЕТАЛЕЙ
SU1227280A1 (ru) * 1984-06-26 1986-04-30 Магнитогорский горно-металлургический институт им.Г.И.Носова Способ очистки поверхности металлических изделий
JPS63211630A (ja) * 1988-01-29 1988-09-02 Hitachi Ltd プラズマ処理装置
JP3513811B2 (ja) * 1988-08-11 2004-03-31 株式会社半導体エネルギー研究所 炭素または炭素を主成分とする被膜の形成方法
JP2763172B2 (ja) * 1990-03-19 1998-06-11 株式会社神戸製鋼所 ダイヤモンド薄膜のエッチング方法
JPH0598412A (ja) * 1991-10-07 1993-04-20 Nippon Steel Corp 被溶射材料の前処理方法
JPH05339758A (ja) * 1992-06-08 1993-12-21 Nachi Fujikoshi Corp ダイヤモンド被覆工具の再研磨・再被覆方法
US5993680A (en) * 1996-08-15 1999-11-30 Citizen Watch Co., Ltd. Method of removing hard carbon film formed on inner circumferential surface of guide bush
JP3439423B2 (ja) * 2000-04-11 2003-08-25 オーエスジー株式会社 ダイヤモンド被膜除去方法およびダイヤモンド被覆部材の製造方法
JP4680066B2 (ja) * 2004-01-28 2011-05-11 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置の処理室清浄化方法、基板処理装置、および基板処理方法
DE112005002085A5 (de) * 2004-09-23 2007-08-16 Cemecon Ag Zerspanungswerkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung
JP2007134425A (ja) * 2005-11-09 2007-05-31 Sony Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
DE102006032568A1 (de) * 2006-07-12 2008-01-17 Stein, Ralf Verfahren zur plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung an der Innenwand eines Hohlkörpers
US7914692B2 (en) * 2006-08-29 2011-03-29 Ngk Insulators, Ltd. Methods of generating plasma, of etching an organic material film, of generating minus ions, of oxidation and nitriding
WO2008149824A1 (ja) * 2007-06-01 2008-12-11 Onward Ceramic Coating Co., Ltd. Dlc被覆工具

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0510340A1 (de) 1991-04-23 1992-10-28 Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur Abtragung von Material von einer Oberfläche in einer Vakuumkammer
EP0652301A1 (en) 1993-11-09 1995-05-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for producing diamond-like coatings and coated articles made thereby
EP0666335A1 (de) 1994-01-25 1995-08-09 Vtd - Vakuumtechnik Dresden Gmbh Verfahren zum Betreiben eines Vakuumlichtbogenverdampfers und Stromversorgungseinrichtung dafür
DE19831914A1 (de) 1998-07-16 2000-01-20 Laser & Med Tech Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Säuberung und Entschichtung transparenter Werkstücke
EP1152861B1 (de) * 1999-02-19 2006-03-29 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung von bauteilen, verwendung desselben, luftgelagertes werkstück und vakuumbehandlungskammer
US6331332B1 (en) 1999-09-29 2001-12-18 Da-Yung Wang Process for depositing diamond-like carbon films by cathodic arc evaporation
JP2003200350A (ja) 2001-12-27 2003-07-15 Nachi Fujikoshi Corp 硬質炭素被覆膜の脱膜方法及び再生方法並びに再生基材
US6902774B2 (en) 2002-07-25 2005-06-07 Inficon Gmbh Method of manufacturing a device
US20070187229A1 (en) 2003-10-21 2007-08-16 Aksenov Ivan I Filtered cathodic-arc plasma source
WO2005073433A1 (de) 2004-01-29 2005-08-11 Unaxis Balzers Ag Entschichtungsverfahren und einkammeranlage zur durchführung des entschichtungsverfahrens
EP1725700A1 (de) 2004-01-29 2006-11-29 OC Oerlikon Balzers AG Entschichtungsverfahren einkammeranlage zur durchführung des entschichtungsverfahrens
CN101308764A (zh) 2007-05-15 2008-11-19 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 消除蚀刻工序残留聚合物的方法
WO2009132758A1 (de) 2008-05-02 2009-11-05 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zum entschichten von werkstücken und entschichtungslösung
EP2180499A2 (de) 2008-10-25 2010-04-28 EITEC Gesellschaft für metallisches Hartstoffbeschichten GmbH & Co. KG Verfahren zum substratschonenden Entfernen von Hartstoffschichten
DE102008053254A1 (de) * 2008-10-25 2010-04-29 Ab Solut Chemie Gmbh Verfahren zum substratschonenden Entfernen von Hartstoffschichten

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Bericht über Forschung an Fachhochschulen, der im Jahr 2006 durch das deutsche Bundesministerium für Bildung und Forschung herausgegeben wurde, Seiten 21-22

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114645281A (zh) * 2022-04-06 2022-06-21 岭南师范学院 一种褪除金属工件表面碳膜的方法
CN114645281B (zh) * 2022-04-06 2023-11-24 岭南师范学院 一种褪除金属工件表面碳膜的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103717788A (zh) 2014-04-09
KR101784638B1 (ko) 2017-10-11
BR112013031584A8 (pt) 2018-02-06
EP2718481B1 (de) 2017-04-05
WO2012167886A8 (de) 2014-01-23
RU2013158315A (ru) 2015-07-20
JP2014525982A (ja) 2014-10-02
RU2606899C2 (ru) 2017-01-10
KR20160017662A (ko) 2016-02-16
PH12014500059A1 (en) 2014-03-24
CA2846434C (en) 2019-01-15
EP2718481A1 (de) 2014-04-16
CA2846434A1 (en) 2013-12-13
SG2014001168A (en) 2014-05-29
WO2012167886A1 (de) 2012-12-13
CN103717788B (zh) 2016-06-29
BR112013031584B1 (pt) 2020-11-03
BR112013031584A2 (pt) 2016-12-13
JP5933701B2 (ja) 2016-06-15
KR20140019018A (ko) 2014-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2718481B1 (de) Entschichtungsverfahren für harte kohlenstoffschichten
EP0798399B1 (de) Verfahren zum Beschichten von metallischen und keramischen substraten
DE3047888C2 (enExample)
EP1272683B2 (de) Dlc-schichtsystem sowie verfahren zur herstellung eines derartigen schichtsystems
EP0668938B1 (de) Werkzeug und verfahren zur beschichtung eines werkzeuggrundkörpers
DE10080124B3 (de) Substratverarbeitungssystem, dessen Verwendung sowie Verfahren zur Bearbeitung eines Substrates
DE102015114479A1 (de) Herstellungsverfahren für hartes gleitelement
CH694700A5 (de) Verarbeitungssystem mit doppelten Ionenquellen.
DE29615190U1 (de) Anlage zur Beschichtung von Werkstücken
DE102010034321B4 (de) Verfahren zur Herstellung einer Hartstoffbeschichtung auf metallischen, keramischen oder hartmetallischen Bauteilen sowie eine mit dem Verfahren hergestellte Hartstoffbeschichtung
EP3570973B1 (de) Verfahren zur additiven fertigung
DE102004054193A1 (de) Gegen Abrasion und hohe Flächenpressungen beständige Hartstoffbeschichtung auf nachgiebigen Substraten
DE102017205417A1 (de) Verfahren zur Ausbildung einer mit poly- oder einkristallinem Diamant gebildeten Schicht
EP1849886B1 (de) Einrichtung und Verfahren zur plasmagestützten Abscheidung von Hartstoffschichten
DE10149588A1 (de) Verfahren zur Diamantbeschichtung von Substraten
EP2286643B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum hochleistungs-puls-gasfluss-sputtern
DE102008028990B4 (de) Erhöhung der Hochtemperaturoxidationsbeständigkeit von TiAl-Legierungen und daraus bestehenden Bauteilen durch Pl3
DE10322292A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Schneidwerkzeugen, sowie Schneidwerkzeug
US9230778B2 (en) Method for removing hard carbon layers
DE102011108088B4 (de) Werkzeug mit einer nitridischen Hartstoffschicht sowie Verfahren zu dessen Herstellung
WO2019034728A1 (de) Verfahren zum beschichten temperaturempfindlicher substrate mit polykristallinem diamant
WO2024193815A1 (de) Verfahren zur oberflächenbehandlung eines substrats und verfahren zum bonden eines solchen substrats mit einem weiteren substrat und eine vorrichtung zur durchführung solcher verfahren
Engelmann Vor-und Nachteile der TEM-Probenpräparation mittels FIB/Advantages and Disadvantages of TEM Sample Preparation Using the FIB Technique
DD153976A3 (de) Beschichtungsverfahren,insbesondere fuer rasierklingenschneiden,und danach hergestellte rasierklinge
WO2008116238A1 (de) Hartmetallkörper mit einer beschichtung aus kubischem bornitrid

Legal Events

Date Code Title Description
R079 Amendment of ipc main class

Free format text: PREVIOUS MAIN CLASS: B08B0007000000

Ipc: C23C0014020000

R163 Identified publications notified
R005 Application deemed withdrawn due to failure to request examination