RU2013158315A

RU2013158315A - Способ удаления слоев для твердых углеродных слоев

Info

Publication number: RU2013158315A
Application number: RU2013158315/02A
Authority: RU
Inventors: Юрген РАММ; Бено ВИДРИГ
Original assignee: Эрликон Трэйдинг Аг, Трюббах
Priority date: 2011-06-07
Filing date: 2012-05-31
Publication date: 2015-07-20
Also published as: WO2012167886A1; KR20140019018A; CN103717788B; JP2014525982A; KR101784638B1; JP5933701B2; EP2718481A1; BR112013031584A2; CN103717788A; EP2718481B1; DE102011105645A1; BR112013031584A8; CA2846434A1; WO2012167886A8; SG2014001168A; BR112013031584B1; RU2606899C2; CA2846434C; KR20160017662A

Abstract

1. Способ реакционного удаления покрытий из углеродных слоев с подложки, в частности, реакционного удаления покрытий из ta-C-слоев, с поверхностей конструкционных деталей и инструментов, в котором освобождаемая от покрытия подложка размещается на держателе подложки в вакуумной камере, в вакуумную камеру подается по меньшей мере один реакционный газ, стимулирующий вынос углерода в газообразной форме, и в вакуумной камере для стимулирования требуемой химической реакции или, соответственно, реакций для удаления покрытий с покрытой подложки зажигается плазменный разряд, и реакционное удаление покрытия проводится в одной стадии или в нескольких стадиях, отличающийся тем, что плазменный разряд создают как низковольтный дуговой разряд постоянного тока, который имеет разрядные токи между 20 А и 1000 А, предпочтительно между 50 А и 300 А, и разрядное напряжение максимально 120 В, предпочтительно между 20 В и 80 В, причем для удаления по меньшей мере части углеродного покрытия с подложки во время по меньшей мере одной стадии реакционного удаления покрытия, предпочтительно во время последней стадии реакционного удаления покрытия, в качестве реакционного газа используют азотсодержащий газ, причем предпочтительно используемый азотсодержащий реакционный газ включает в основном газообразный азот, и в особенности предпочтительно используемый азотсодержащий реакционный газ по существу представляет собой газообразный азот.2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что подложку для низковольтного дугового разряда постоянного тока подключают в качестве анода, и благодаря этому поверхность подложки бомбардируют по существу исключител

Claims

1. Способ реакционного удаления покрытий из углеродных слоев с подложки, в частности, реакционного удаления покрытий из ta-C-слоев, с поверхностей конструкционных деталей и инструментов, в котором освобождаемая от покрытия подложка размещается на держателе подложки в вакуумной камере, в вакуумную камеру подается по меньшей мере один реакционный газ, стимулирующий вынос углерода в газообразной форме, и в вакуумной камере для стимулирования требуемой химической реакции или, соответственно, реакций для удаления покрытий с покрытой подложки зажигается плазменный разряд, и реакционное удаление покрытия проводится в одной стадии или в нескольких стадиях, отличающийся тем, что плазменный разряд создают как низковольтный дуговой разряд постоянного тока, который имеет разрядные токи между 20 А и 1000 А, предпочтительно между 50 А и 300 А, и разрядное напряжение максимально 120 В, предпочтительно между 20 В и 80 В, причем для удаления по меньшей мере части углеродного покрытия с подложки во время по меньшей мере одной стадии реакционного удаления покрытия, предпочтительно во время последней стадии реакционного удаления покрытия, в качестве реакционного газа используют азотсодержащий газ, причем предпочтительно используемый азотсодержащий реакционный газ включает в основном газообразный азот, и в особенности предпочтительно используемый азотсодержащий реакционный газ по существу представляет собой газообразный азот.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что подложку для низковольтного дугового разряда постоянного тока подключают в качестве анода, и благодаря этому поверхность подложки бомбардируют по существу исключительно электронами, которые вследствие их незначительной массы исключают распыление.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что подложку вносят в низковольтный дуговой разряд постоянного тока, будучи изолированной, благодаря чему попадающие на подложку ионы имеют энергию по существу ниже 20 эВ, и тем самым ниже энергетического порога распыления.

4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что для низковольтного дугового разряда постоянного тока в качестве анода применяют отличающийся от держателя подложки и стенки камеры электрод, и подложки поддерживаются при плавающем потенциале.

5. Способ по любому из пп. 1-4, отличающийся тем, что для удаления по меньшей мере части углеродного покрытия с подложки во время по меньшей мере одной стадии реакционного удаления покрытия, однако не во время последней стадии реакционного удаления покрытия, предпочтительно во время первой стадии реакционного удаления покрытия, в качестве реакционного газа используется кислородсодержащий газ, причем предпочтительно применяемый кислородсодержащий реакционный газ в основном включает газообразный кислород, и в особенности предпочтительно используемый кислородсодержащий реакционный газ по существу представляет собой газообразный кислород.

6. Способ по п. 5, отличающийся тем, что поток кислородсодержащего газа отключают до того, как углеродный слой на каком-нибудь участке подложки будет полностью удален в результате реакции с кислородом, и тем самым предотвращают то, что освобожденная от покрытия поверхность подложки начнет окисляться также в результате реакции с кислородом.

7. Способ по п. 6, отличающийся тем, что после того, как поток кислородсодержащего реакционного газа был отключен, в камеру для удаления покрытия вводят газообразный водород, и благодаря этому как кислородные компоненты в слое, так и нежелательные остатки кислорода на поверхности подложки восстанавливают.

8. Применение способа по одному из предшествующих пунктов для удаления покрытий с подложек, которые покрыты углеродными слоями, причем углеродные слои, наряду с углеродом, также содержат другие неметаллические элементы, в частности водород (Н), бор (В), кремний (Si) и/или германий (Ge).