RU2008112387A - Способ осаждения аморфных углеводородных покрытий - Google Patents
Способ осаждения аморфных углеводородных покрытий Download PDFInfo
- Publication number
- RU2008112387A RU2008112387A RU2008112387/02A RU2008112387A RU2008112387A RU 2008112387 A RU2008112387 A RU 2008112387A RU 2008112387/02 A RU2008112387/02 A RU 2008112387/02A RU 2008112387 A RU2008112387 A RU 2008112387A RU 2008112387 A RU2008112387 A RU 2008112387A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- plasma
- anode
- hydrocarbon
- plasma chamber
- discharge
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Способ осаждения аморфных углеводородных покрытий на изделия из металлических материалов, имеющих потенциал катода плазменной камеры, разложением углеводородсодержащих газов в плазме тлеющего разряда импульсно-периодического действия, поддерживаемого между катодом и анодом плазменной камеры в смеси инертного газа и, по меньшей мере, одного углеводородсодержащего газа, отличающийся тем, что между анодом и стенками плазменной камеры создают несамостоятельный импульсно-периодический электрический разряд, который поддерживают в широком диапазоне изменения давления и состава газовой смеси, плотности плазмы, напряжения между анодом и стенками плазменной камеры, находящимися под катодным потенциалом, электронной эмиссией плазменного катода с сеточной стабилизацией, эмитирующая плазма которого генерируется разрядом постоянного тока, причем энергию ионов, бомбардирующих растущее аморфное углеводородное покрытие, задают амплитудой импульсного напряжения, прикладываемого между анодом и стенками плазменной камеры, а плотность плазмы несамостоятельного разряда регулируют величиной тока эмиссии плазменного катода, причем высокую адгезию осажденного углеводородсодержащего покрытия обеспечивают предварительной ионной очисткой поверхности помещенных в плазменную камеру изделий ионами из плазмы химически инертного газа, например аргона, создаваемой электрическим разрядом между анодом и стенками плазменной камеры; формированием переходного слоя иммерсионной ионной имплантацией и имплантацией атомов отдачи в результате бомбардировки поверхности изделий ионами из плазмы разряда между анодом и ст�
Claims (1)
- Способ осаждения аморфных углеводородных покрытий на изделия из металлических материалов, имеющих потенциал катода плазменной камеры, разложением углеводородсодержащих газов в плазме тлеющего разряда импульсно-периодического действия, поддерживаемого между катодом и анодом плазменной камеры в смеси инертного газа и, по меньшей мере, одного углеводородсодержащего газа, отличающийся тем, что между анодом и стенками плазменной камеры создают несамостоятельный импульсно-периодический электрический разряд, который поддерживают в широком диапазоне изменения давления и состава газовой смеси, плотности плазмы, напряжения между анодом и стенками плазменной камеры, находящимися под катодным потенциалом, электронной эмиссией плазменного катода с сеточной стабилизацией, эмитирующая плазма которого генерируется разрядом постоянного тока, причем энергию ионов, бомбардирующих растущее аморфное углеводородное покрытие, задают амплитудой импульсного напряжения, прикладываемого между анодом и стенками плазменной камеры, а плотность плазмы несамостоятельного разряда регулируют величиной тока эмиссии плазменного катода, причем высокую адгезию осажденного углеводородсодержащего покрытия обеспечивают предварительной ионной очисткой поверхности помещенных в плазменную камеру изделий ионами из плазмы химически инертного газа, например аргона, создаваемой электрическим разрядом между анодом и стенками плазменной камеры; формированием переходного слоя иммерсионной ионной имплантацией и имплантацией атомов отдачи в результате бомбардировки поверхности изделий ионами из плазмы разряда между анодом и стенками плазменной камеры в смеси химически инертного газа и, по меньшей мере, одного углеводородсодержащего газа, ускоренными приложенным между изделиями и стенками плазменной камеры напряжением смещения величиной 1-10 кВ; и последующим осаждением на поверхность изделий аморфного углеводородного покрытия в результате поступления углеводородсодержащих частиц и ионов из плазмы импульсно-периодического разряда между анодом и стенками плазменной камеры в смеси инертного газа и, по меньшей мере, одного углеводородсодержащего газа.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008112387/02A RU2382116C2 (ru) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2008112387/02A RU2382116C2 (ru) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2008112387A true RU2008112387A (ru) | 2009-10-10 |
| RU2382116C2 RU2382116C2 (ru) | 2010-02-20 |
Family
ID=41260315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008112387/02A RU2382116C2 (ru) | 2008-03-31 | 2008-03-31 | Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2382116C2 (ru) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2637455C1 (ru) * | 2016-10-10 | 2017-12-04 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" | Способ импульсно-периодического плазменного формирования покрытия с диффузионным слоем карбида молибдена на изделии из молибдена |
| RU2760018C1 (ru) * | 2020-11-03 | 2021-11-22 | ООО "ТехноТерм-Саратов" | Способ получения аморфного наноструктурированного алмазоподобного покрытия |
-
2008
- 2008-03-31 RU RU2008112387/02A patent/RU2382116C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2382116C2 (ru) | 2010-02-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Sarakinos et al. | Exploring the potential of high power impulse magnetron sputtering for growth of diamond-like carbon films | |
| Grigoriev et al. | Broad fast neutral molecule beam sources for industrial-scale beam-assisted deposition | |
| CN107615888B (zh) | 利用宏粒子减少涂层的等离子体源和将等离子体源用于沉积薄膜涂层和表面改性的方法 | |
| AU2006349512B2 (en) | Method and apparatus for manufacturing cleaned substrates or clean substrates which are further processed | |
| US20090314633A1 (en) | Electron beam enhanced large area deposition system | |
| Pedersen et al. | A novel high-power pulse PECVD method | |
| JP2005248322A (ja) | 表面上への複合コーティングの蒸着プロセス | |
| JP2010065240A (ja) | スパッタ装置 | |
| Marcu et al. | Simultaneous carbon and tungsten thin film deposition using two thermionic vacuum arcs | |
| US20150318151A1 (en) | Plasma source | |
| JP2013049885A (ja) | 炭素薄膜成膜方法 | |
| Aijaz et al. | Principles for designing sputtering-based strategies for high-rate synthesis of dense and hard hydrogenated amorphous carbon thin films | |
| RU2008112387A (ru) | Способ осаждения аморфных углеводородных покрытий | |
| US20170280548A1 (en) | Plasma densification method | |
| WO2013099044A1 (ja) | イオンビーム処理装置および中和器 | |
| Gavrilov et al. | Magnetron sputtering system for coatings deposition with activation of working gas mixture by low-energy high-current electron beam | |
| JPH03274269A (ja) | ダイヤモンド状薄膜の合成方法及びダイヤモンド状薄膜 | |
| US10083822B2 (en) | Physical vapour deposition coating device as well as a physical vapour deposition method | |
| Oskomov et al. | Investigation of plasma ion composition generated by high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of graphite | |
| Azuma et al. | Electrical and optical characteristics of high-power pulsed sputtering glow discharge | |
| CN113366600A (zh) | 等离子体源的用于执行等离子体处理的电极装置 | |
| Akhmadeev et al. | Plasma sources based on a low-pressure arc discharge | |
| Grenadyorov et al. | Investigation of parameters of plasma generated by high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of graphite | |
| RU2190484C1 (ru) | Способ плазменного осаждения полимерных покрытий и способ генерации плазмы | |
| JP6104126B2 (ja) | 皮膜形成装置及び皮膜形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180401 |