DE102006019507B4 - Integrierter Halbleiterspeicher mit Testfunktion und Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers - Google Patents

Integrierter Halbleiterspeicher mit Testfunktion und Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers Download PDF

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Abstract

Integrierter Halbleiterspeicher mit Testfunktion, umfassend
– eine erste Bitleitung (BL1) mit einem ersten Ende (11) und mit einem zweiten Ende (12);
– eine zweite Bitleitung (BLC) mit einem ersten Ende (21) und mit einem zweiten Ende (22);
– eine Spannungserzeugungsschaltung (SA) mit einem ersten Anschluss (31), an dem ein erstes Leitungspotenzial erzeugbar ist und der mit dem ersten Ende (11) der ersten Bitleitung (BL1) gekoppelt ist, und mit einem zweiten Anschluss (32), an dem ein zweites Leitungspotenzial erzeugbar ist und der mit dem ersten Ende (21) der zweiten Bitleitung (BLC) gekoppelt ist;
– mehrere Speicherzellen (MC, MC2, MCN), die zwischen dem ersten Ende (11) und dem zweiten Ende (12) der ersten Bitleitung (BL1) an die erste Bitleitung (BL1) angeschlossen sind; und
– eine Schaltungseinheit (PR) mit einem Steuereingang (EQL) zum Zuführen eines ersten Steuersignals und einem ersten steuerbaren Schalter (100), der zwischen das jeweilige zweite...

Description

  • Die Erfindung betrifft einen integrierten Halbleiterspeicher mit Testfunktion, ein Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers sowie eine Verwendung des integrierten Halbleiterspeichers.
  • Ein Speicherfeld eines Halbleiterspeichers, insbesondere eines Dynamic Random Access Memory, DRAM, umfasst Speicherzellen, welche in Zeilen und Spalten angeordnet sind. Der Zugriff auf die einzelnen Speicherzellen erfolgt über Wortleitungen und Bitleitungen. Beim Speicherzugriff wird zunächst eine Wortleitung aktiviert. Dadurch werden die in einer Zeile angeordneten Speicherzellen jeweils mit einer Bitleitung leitend verschaltet. Eine in der Speicherzelle gespeicherte Ladung führt zu einer Auslenkung der Bitleitungsspannung. Am Ende der Bitleitung befindet sich ein Leseverstärker, der diese Spannung mit einer Spannung auf einer komplementären Bitleitung vergleicht und anschließend verstärkt.
  • Da der Herstellungsprozess von Halbleiterspeichern kostenoptimiert ist, ist es wünschenswert, die Bitleitungen auf dem Halbleiterspeicher mit einer möglichst geringen Breite herzustellen. Dabei kann es zu technologiebedingten Herstellungsfehlern kommen. Beispielsweise können bei der Fertigung hochohmige Bitleitungsstücke entstehen, die unter anderem die Leistungsfähigkeit des Halbleiterspeichers aber auch seine Zuverlässigkeit negativ beeinflussen.
  • Insbesondere im Dauerbetrieb des Halbleiterspeichers kann es auch dazu kommen, dass ein hochohmiges Bitleitungsstück, beispielsweise durch Elektromigration, noch hochohmiger wird oder vollständig die Leitfähigkeit verliert. Um Halbleiterspeicher mit derart defekten Bitleitungen vor einer Benutzung oder einem Verkauf aussortieren zu können, wird versucht, die fehlerhaften Halbleiterspeicher durch Tests beim Hersteller zu identifizieren.
  • Zuverlässigkeitsprobleme mit hochohmigen, sehr dünnen Bitleitungen, können beispielsweise dadurch erkannt werden, dass die Bitleitungen durch hohe Ströme gestresst werden. Dabei wird der Halbleiterspeicher bei erhöhter Temperatur und überhöhten internen Spannungen betrieben, um eine Verschlechterung der Leitfähigkeit beziehungsweise Zerstörung der Bitleitung zu beschleunigen. Dadurch tritt ein Defekt des Halbleiterspeichers, nicht beim Nutzer sondern noch beim Hersteller auf.
  • 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines herkömmlichen integrierten Halbleiterspeichers 1000. Dieser umfasst eine Steuerschaltung CCa mit einem Eingang 40a, einen Adresspuffer 70 mit einem Adresseingang 60 sowie ein Speicherzellenfeld 10a. Über einen Datenanschluss 50 können Daten aus dem Speicherzellenfeld 10a gelesen oder in das Speicherzellenfeld 10a geschrieben werden.
  • Das Speicherzellenfeld 10a weist einen Leseverstärker SA, daran angeschlossene Bitleitungen BL1, BLC und einen Vorladetransistor 100a auf. An eine Bitleitung BL1 ist wenigstens eine Speicherzelle MC angeschlossen, die über eine Wortleitung WL angesteuert werden kann.
  • Zum Auslesen einer Speicherzelle wird der Vorladetransistor 100a über ein Signal an seinem Steuereingang EQLa leitend gesteuert, so dass sich auf den Bitleitungen BL1 und BLC ein einheitliches Anfangspotenzial ergibt. In Abhängigkeit von Signalen am Eingang 40a der Steuerschaltung CCa und am Adresseingang 60 wird die Speicherzelle MC über die Wortleitung WL derart angesteuert, dass eine in der Speicherzelle gespeicherte Ladung das Potenzial auf der Bitleitung BL1 verändert. Der sich ergebende Potenzialunterschied zwischen den Potenzialen auf den Bitleitungen BL1 und BLC wird durch den Leseverstärker SA verstärkt, so dass sich auf einer der Bitleitungen BL1, BLC ein erstes Leitungspotenzial und auf der anderen ein zweites Leitungspotenzial einstellt. Der Vorladetransistor 100a ist zwischen den Leseverstärker SA und den Speicherzellen MC an die Bitleitungen BL1, BLC angeschlossen, also unmittelbar beim Leseverstärker SA.
  • Das Dokument DE 10 2004 008 245 B3 zeigt einen Halbleiterspeicher mit segmentierten Wortleitungen, die jeweils Hauptwortleitungen und daran über Kontaktlochfüllungen angeschlossene Leiterbahnsegmente aufweisen. Die Leiterbahnsegmente von jeweils zwei Wortleitungen können über Schalteinheiten kurzgeschlossen werden, um zu Testzwecken einen statischen Strom über die Kontaktlochfüllungen zu erzeugen.
  • 4 zeigt ein zeitliches Diagramm für Spannung und Strom beim Betrieb, beziehungsweise Testen eines Halbleiterspeichers, beispielsweise des in 5 gezeigten Halbleiterspeichers 1000. Der Spannungsverlauf VN stellt den Verlauf der Spannung an einem Punkt einer Bitleitung bei einem normalen Betrieb des Halbleiterspeichers dar. Die Bitleitung weist Widerstandseigenschaften und kapazitive Eigenschaften auf. Beim Anstieg der Spannung VN zum Zeitpunkt t1 von einer Anfangsspannung auf die Spannung VBLH erfolgt auf der Bitleitung ein Umladevorgang, der sich in dem Strom IBL bemerkbar macht. Bei einem Absinken der Spannung VN von der Ausgangsspannung zum Zeitpunkt t2 auf eine Bezugsspannung GND ergibt sich infolge des anders gerichteten Umladevorgangs der Umladestrom IBL auf der Bitleitung mit einer geänderten Stromrichtung.
  • Im Testbetrieb, auch als Einbrennen, englisch burn in, bezeichnet, sind die verwendeten Spannungen VBI höher. Zum Zeitpunkt t1 erhöht sich die Spannung VBI von einer Anfangsspannung, welche höher als die Anfangsspannung im Normalbetrieb, auf die Spannung VBLH BI. Da der Spannungsunterschied bei der Spannung VBI größer ist, resultiert dies auch in einem kurzzeitig höheren Stromfluss IBL BI auf der Bitleitung. Ähnliches gilt für den Spannungsabfall der Spannung VBI zum Zeitpunkt t3. Auch hier ergibt sich eine Stromspitze des Stroms IBL BI mit umgekehrter Stromrichtung.
  • Wie aus 4 ersichtlich, fließt nur ein dynamischer Strom beim Umladen über die Bitleitung. Aufgrund der höheren Spannung im Testbetrieb sind die dynamischen Ströme auf der Bitleitung gegenüber dem Normalbetrieb erhöht, allerdings ist die Häufigkeit der Umladungen gegenüber dem Normalbetrieb reduziert.
  • Mit dem bisherigen Testverfahren werden die Bitleitungen im Halbleiterspeicher nur durch die dynamischen Umladeströme belastet beziehungsweise gestresst. Bitleitungen mit Schwachstellen und einer erhöhten Ausfallwahrscheinlichkeit werden so unter Umständen beim Testen nicht zuverlässig zerstört und können so nicht erkannt werden.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anordnung für einen integrierten Halbleiterspeicher bereitzustellen, mit der man fehlerhafte Bitleitungen zuverlässiger erkennen kann. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben mit dem man fehlerhafte Bitleitungen in einem integrierten Halbleiterspeicher zuverlässiger erkennen kann. Ferner ist es Aufgabe der Erfindung, eine Verwendung für die Anordnung aufzuzeigen.
  • Diese Aufgaben werden mit den Gegenständen der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Ausgestaltungsformen und Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
  • Bezüglich der Anordnung wird die Aufgabe gelöst durch einen integrierten Halbleiterspeicher mit Testfunktion, die eine erste und eine zweite Bitleitung, eine Spannungserzeugungsschaltung, mehrere Speicherzellen und eine Schaltungseinheit umfasst. Die erste und die zweite Bitleitung weisen jeweils ein erstes und ein zweites Ende auf. Die Spannungserzeugungsschaltung weist einen ersten Anschluss auf, an dem ein erstes Leitungspotenzial erzeugbar ist und der mit dem ersten Ende der ersten Bitleitung gekoppelt, und einen zweiten Anschluss, an dem ein zweites Leitungspotenzial erzeugbar ist und der mit dem ersten Ende der zweiten Bitleitung gekoppelt ist. Die Speicherzellen sind zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende der ersten Bitleitung an die erste Bitleitung angeschlossen. Die Schaltungseinheit umfasst einen Steuereingang zum Zuführen eines ersten Steuersignals und einen ersten steuerbaren Schalter, der zwischen die zweiten Enden der ersten Bitleitung und der zweiten Bitleitung geschaltet ist. Ein Steueranschluss des ersten steuerbaren Schalters ist mit dem Steuereingang gekoppelt.
  • Durch die Spannungserzeugungsschaltung, die an einem Ende des aus der ersten und der zweiten Bitleitung gebildeten Bitleitungspaares angeschlossen ist, können Spannungen auf den Bitleitungen erzeugt werden, wodurch sich ein Potenzialunterschied zwischen den Spannungen auf der ersten und der zweiten Bitleitung ergibt. Durch Schließen des Schalters in der Schaltungseinheit, der am anderen Ende des Bitleitungspaars zwischen die Bitleitungen geschaltet ist, kann sich wegen des ohmschen Widerstands der Bitleitungen ein statischer Strom über die Bitleitungen einstellen. Da die Speicherzellen zwischen der Spannungserzeugungsschaltung und dem Schalter an die erste Bitleitung angeschlossen sind, fließt der Strom über den gesamten im Betrieb genutzten Bereich der Bitleitungen.
  • Im Gegensatz zu den dynamischen Umladeströmen belastet dieser statische Strom die Bitleitungen dauerhaft. Bitleitungen mit Schwachstellen können somit bereits beim Testen zum Ausfall oder zur Zerstörung gebracht werden. Damit wird eine Identifikation von fehlerhaften Bitleitungen zuverlässiger möglich.
  • In einem Aspekt der Erfindung erfasst der integrierte Halbleiterspeicher eine Steuerschaltung mit einem Eingang zur Auswahl einer Betriebsart aus einer ersten und einer zweiten Betriebsart des integrierten Halbleiterspeichers. Bei einem Auslesevorgang einer der mehreren Speicherzellen wird in der ersten und in der zweiten Betriebsart auf der ersten Bitleitung das erste Leitungspotenzial und auf der zweiten Bitleitung das zweite Leitungspotenzial erzeugt. Dabei ist der erste Schalter in der Schaltungseinheit durch die Steuerschaltung in der ersten Betriebsart gesperrt gesteuert und in der zweiten. Betriebsart leitend gesteuert.
  • Das Erzeugen eines statischen Stroms ist üblicherweise nur zum Testen des Halbleiterspeichers gewünscht. Im normalen Betrieb des Halbleiterspeichers ist der Schalter beim Auslesen einer Speicherzelle geöffnet, wodurch die Bitleitungen nicht niederohmig miteinander verbunden sind. Die erste Betriebsart entspricht demnach beispielsweise einem normalen Betrieb des Halbleiterspeichers, während die zweite Betriebsart einem Testbetrieb des Halbleiterspeichers entspricht.
  • In einem weiteren Aspekt der Erfindung ist zwischen die ersten Enden der ersten und der zweiten Bitleitung und die Anschlüsse der Spannungserzeugungsschaltung eine Koppelschaltung geschaltet, die einen Auswahleingang aufweist und ausgebildet ist, die ersten Enden der ersten und der zweiten Bitleitung mit den Anschlüssen der Spannungserzeugungsschaltung in Abhängigkeit eines zweiten Steuersignals am Auswahleingang zu verbinden.
  • Die Koppelschaltung kann einen ersten und einen zweiten steuerbaren Schalter umfassen, wobei der erste steuerbare Schalter zwischen den ersten Anschluss der Spannungserzeugungsschaltung und das erste Ende der ersten Bitleitung und der zweite steuerbare Schalter zwischen den zweiten Anschluss der Spannungserzeugungsschaltung und das erste Ende der zweiten Bitleitung geschaltet ist. Steueranschlüsse dieser steuerbaren Schalter sind mit dem Auswahleingang gekoppelt.
  • Durch die Koppelschaltung kann die Spannungserzeugungsschaltung von den Bitleitungen elektrisch getrennt werden, in dem beispielsweise die Schalter über das zweite Steuersignal am Auswahleingang sperrend gesteuert werden. Dadurch kann die Spannungserzeugungsschaltung alternativ auch für andere Bitleitungspaare eingesetzt werden, welche ebenfalls über steuerbare Schalter an die Spannungserzeugungsschaltung angeschlossen sind. Dabei soll immer nur ein Bitleitungspaar zur gleichen Zeit mit der Spannungserzeugungsschaltung elektrisch verbunden sein.
  • In einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die Schaltungseinheit als eine Vorladeschaltung zum Einspeisen eines Vorladepotenzials auf die erste und die zweite Bitleitung ausgebil det. Dabei liegt das Vorladepotenzial zwischen dem ersten und dem zweiten Leitungspotenzial.
  • Die Vorladeschaltung kann einen zweiten steuerbaren Schalter umfassen, der das zweite Ende der ersten Bitleitung mit einem Versorgungsanschluss zur Zuführung des Vorladepotenzials koppelt, sowie einen dritten steuerbaren Schalter, der das zweite Ende der zweiten Bitleitung mit dem Versorgungsanschluss koppelt. Steueranschlüsse des zweiten und des dritten steuerbaren Schalters sind dabei mit dem Steuereingang gekoppelt.
  • Dadurch wird es möglich, vor dem Ansteuern einer Speicherzelle zum Auslesen die Bitleitung auf ein im Wesentlichen einheitliches Potenzial, das Vorladepotenzial, vorzuladen. Das Vorladepotenzial wird dabei üblicherweise hochohmig zugeführt. Die steuerbaren Schalter in der Schaltungseinheit beziehungsweise der Vorladeschaltung werden gemeinsam über das erste Steuersignal am Steuereingang angesteuert. Wenn die Schalter leitend gesteuert sind während ein Spannungsunterschied zwischen den Bitleitungen vorliegt, fließt der Strom über die Bitleitungen im Wesentlichen über den ersten steuerbaren Schalter, insbesondere, wenn die zwei übrigen steuerbaren Schalter in der Vorladeschaltung im leitenden Zustand den gleichen elektrischen Widerstand aufweisen. In diesem Fall stellt sich nämlich an einem mit dem Versorgungsanschluss gekoppelten Verbindungsknoten der zwei Schalter ein Potenzial ein, das zwischen dem Potenzial auf der ersten Bitleitung und dem Potenzial auf der zweiten Bitleitung liegt. Dies entspricht üblicherweise auch dem Vorladepotenzial, welches über diesen Verbindungsknoten zuführbar ist.
  • Die steuerbaren Schalter in der Schaltungseinheit und der Koppelschaltung können jeweils als ein Transistor gebildet sein. Beispielsweise lassen sich dafür Feldeffekttransistoren einsetzen.
  • In einem anderen Aspekt der Erfindung ist wenigstens eine der mehreren Speicherzellen dazu ausgebildet ist, bei einer Ansteuerung über eine Wortleitung einen Potenzialunterschied zwischen einem Potenzial auf der ersten Bitleitung und einem Potenzial auf der zweiten Bitleitung zu erzeugen. Die Spannungserzeugungsschaltung kann dazu ausgebildet sein, diesen Potenzialunterschied zu verstärken.
  • Durch das Ansteuern einer Speicherzelle zum Auslesen wird die Speicherzelle üblicherweise niederohmig mit der ersten Bitleitung verbunden, so dass die in der Speicherzelle gespeicherte Ladung eine geringfügige Potenzialverschiebung auf der ersten Bitleitung bewirkt. Dies führt zu einem Potenzialunterschied zwischen dem Potenzial auf der ersten und der zweiten Bitleitung.
  • Wenn die Spannungserzeugungsschaltung als ein Leseverstärker ausgebildet ist, kann der Leseverstärker, der üblicherweise nach dem Prinzip eines Differenzverstärkers arbeitet, diesen Potenzialunterschied detektieren und gibt ihn verstärkt auf die Bitleitungen zurück.
  • Beispielsweise erzeugt der Leseverstärker zum Verstärken des Potenzialunterschieds in Abhängigkeit des Potenzialunterschieds das erste und das zweite Leitungspotenzial auf der ersten und der zweiten Bitleitung.
  • Wenn der anfängliche Potenzialunterschied positiv war, beispielsweise durch eine gespeicherte logische Eins, wird üblicherweise die erste Bitleitung durch den Leseverstärker mit einem hohen Bitleitungspotenzial und die zweite Bitleitung mit einem niedrigen Bitleitungspotenzial verbunden. Dadurch entsteht ein verstärkter positiver Potenzialunterschied zwischen den Bitleitungen. Wenn in der Speicherzelle eine logische Null gespeichert ist, ist der anfängliche Potenzialunterschied üblicherweise negativ. Durch den Leseverstärker wird dann an die erste Bitleitung das niedrige Bitleitungspotenzial und an die zweite Bitleitung das hohe Bitleitungspotenzial gelegt. Somit ergibt sich ein negativer verstärkter Potenzialunterschied zwischen den Bitleitungen.
  • Im Testbetrieb des Halbleiterspeichers kann dies genutzt werden, um bei einem niederohmigen Verbinden der Bitleitungen durch den steuerbaren Schalter in der Schaltungseinheit die Stromflussrichtung des statischen Stroms über die Bitleitung zu beeinflussen.
  • Zudem kann die Spannungserzeugungsschaltung dazu ausgebildet sein, an dem ersten Anschluss ein drittes Leitungspotenzial und an dem zweiten Anschluss ein viertes Leitungspotenzial zu erzeugen, wobei ein Potenzialunterschied zwischen dem dritten und vierten Leitungspotenzial größer ist als ein Potenzialunterschied zwischen dem ersten und zweiten Leitungspotenzial. Dadurch kann im Testbetrieb ein höherer statischer Strom über die Bitleitung erzeugt werden, um fehleranfällige Bitleitungen nach kürzerer Testzeit ausmachen zu können.
  • Der integrierte Halbleiterspeicher kann in einer der gezeigten Ausführungsformen in einem dynamischen Halbleiterspeichermodul, beispielsweise einem DRAM-Speichermodul eingesetzt werden.
  • Die Aufgabe wird ferner gelöst durch ein Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers. Dabei werden eine erste Bitleitung mit einem ersten und einem zweiten Ende und eine zweite Bitleitung an einem ersten und einem zweiten Ende bereitgestellt. Zudem werden mehrere Speicherzellen bereitgestellt, die zwischen dem ersten und dem zweiten Ende der ersten Bitleitung an die erste Bitleitung angeschlossen sind. Es wird ein Vorladepotenzial auf die erste und die zweite Bitleitung eingespeist. Eine der mehreren Speicherzellen wird derart angesteuert, dass sich ein Potenzialunterschied zwischen einem Potenzial auf der ersten Bitleitung und einem Potenzial auf der zweiten Bitleitung ergibt. Dieser Potenzialunterschied wird auf der ersten und der zweiten Bitleitung mit einer Spannungserzeugungsschaltung verstärkt, die an dem jeweils ersten Ende der ersten und der zweiten Bitleitung angeschlossen ist. Dabei werden während des Verstärkens des Potenzialunterschieds die erste und die zweite Bitleitung an dem jeweils zweiten Ende der ersten und der zweiten Bitleitung derart niederohmig verbunden, dass sich durch den verstärkten Potenzialunterschied ein Stromfluss über die erste und die zweite Bitleitung ergibt. Es wird ein Schreib- und Lesezugriff auf wenigstens eine der mehreren Speicherzellen durchgeführt.
  • Durch das Einspeisen des Vorladepotenzials auf die erste und die zweite Bitleitung weisen diese ein im Wesentlichen gleiches Potenzial auf. Ein Ansteuern einer der mehreren Speicherzellen führt zu einer Potenzialveränderung auf der ersten Bitleitung, wodurch sich ein Potenzialunterschied zwischen den Potenzialen der beiden Bitleitungen ergibt. Dieser wird durch eine Spannungserzeugungsschaltung verstärkt. Durch ein niederohmiges Verbinden der beiden Bitleitungen ergibt sich wegen des elektrischen Widerstands der Bitleitungen ein sta tischer Stromfluss. Der Strom fließt dabei über den gesamten im Betrieb genutzten Bereich der Bitleitungen. Durch den Stromfluss werden die Bitleitungen physikalisch belastet oder gestresst, so dass fehleranfällige Bitleitungen oder Bitleitungen mit fehlerhaften Bitleitungsstücken mit einer erhöhten Wahrscheinlichkeit zum Ausfall gebracht werden.
  • Durch das anschließende Durchführen eines Schreib- und Lesezugriffs, wie er auch in einem normalen Betrieb des Halbleiterspeichers stattfindet, kann festgestellt werden, ob die Bitleitungen nach der Belastung noch intakt sind. Ein fehlerfreies Auslesen ist nämlich nur bei unbeschädigten Bitleitungen möglich. Ein Fehler beim Auslesen lässt auf eine Beschädigung des Bitleitungspaares schließen. Die Speicherzelle, mit der der Auslesevorgang durchgeführt wird, muss nicht dieselbe Speicherzelle sein, welche zur Erzeugung des Stromflusses angesteuert wurde.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens wird beim Durchführen des Schreib- und Lesezugriffs ein erstes Datum an einen Datenanschluss angelegt. Es erfolgt ein Einlesen des angelegten Datums in die wenigstens eine der mehreren Speicherzellen. Durch Auslesen eines Speicherzustands der wenigstens einen der mehreren Speicherzellen wird ein zweites Datenwort am Datenanschluss erzeugt. Das zweite Datum wird mit dem angelegten ersten Datum verglichen. Bei einem Unterschied der zwei Daten kann von einer Beschädigung einer der Bitleitungen ausgegangen werden.
  • In einem Aspekt des Verfahrens erfolgt das niederohmige Verbinden durch leitend Steuern eines ersten steuerbaren Schalters in Abhängigkeit eines Steuersignals an einem Steuereingang. Das Einspeisen des Vorladepotenzials kann durch leitend Steuern eines zweiten und eines dritten steuerbaren Schalters erfolgen. Dabei koppelt der zweite steuerbare Schalter das zweite Ende der ersten Bitleitung mit einem Versorgungsanschluss zur Zuführung des Vorladepotenzials und der dritte steuerbare Schalter das zweite Ende der zweiten Bitleitung mit dem Versorgungsanschluss. Steueranschlüsse des zweiten und des dritten steuerbaren Schalters sind hierbei mit dem Steuereingang gekoppelt.
  • Wenn die beiden steuerbaren Schalter leitend gesteuert sind, kann durch Anlegen des Vorladepotenzials an einen Verbindungsknoten der zwei Schalter ein im Wesentlichen gleiches Potenzial auf den beiden Bitleitungen eingestellt werden. Üblicherweise wird dafür ein Potenzial gewählt, welches sich aus einem Mittelwert einer hohen und einer niedrigen Bitleitungsspannung ergibt. Ein derartiges Potenzial kann auch als Mittenpotenzial bezeichnet werden.
  • Der sich beim Ansteuern einer Speicherzelle ergebende Potenzialunterschied wird üblicherweise so verstärkt, dass durch die Spannungserzeugungsschaltung auf der ersten Bitleitung ein erstes Leitungspotenzial und auf der zweiten Bitleitung ein zweites Leitungspotenzial erzeugt wird. Dazu wird an eine der Bitleitungen die hohe Bitleitungsspannung und an die andere der Bitleitungen die niedrige Bitleitungsspannung angelegt. Der Vorgang des Verstärkens des Potenzialunterschieds wird auch als Spreizen der Bitleitungen bezeichnet. Durch das Einspeisen des Vorladepotenzials auf die Bitleitungen geht das Spreizen von einem definierten Anfangspotenzial aus.
  • In einem weiteren Aspekt des Verfahrens wird beim Ansteuern der einen Speicherzelle der mehreren Speicherzellen ein in der Speicherzelle gespeicherter Speicherzustand ausgelesen.
  • Dafür kann vor dem Ansteuern der einen Speicherzelle in der Speicherzelle ein gewünschter Speicherzustand gespeichert werden. Beim Ansteuern der Speicherzelle wird der in der Speicherzelle gespeicherte Speicherzustand, beispielsweise in Form einer elektrischen Ladung, zur Beeinflussung des Potenzials auf der ersten Bitleitung verwendet.
  • Durch den Inhalt der Speicherzelle ist festgelegt, ob sich ein positiver oder ein negativer Potenzialunterschied zwischen den Potenzialen der Bitleitungen ergibt. Somit hängt eine Polarität des Potenzialunterschieds von dem gespeicherten Speicherzustand der einen Speicherzelle ab. Dadurch ist auch die Stromrichtung des statischen Stroms festgelegt. Durch Speichern eines gewünschten Speicherzustands in der Speicherzelle vor dem Ansteuern kann somit die Stromrichtung des statischen Stromflusses vorab definiert festgelegt werden.
  • Im Folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen im Detail erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterspeichers,
  • 2 ein Ausführungsbeispiel eines Speicherzellenfelds eines erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterspeichers,
  • 3 ein beispielhaftes zeitliches Diagramm eines Stroms im erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterspeicher,
  • 4 ein beispielhaftes zeitliches Diagramm von Strömen und Spannungen in einem herkömmlichen integrierten Halbleiterspeicher und
  • 5 ein Ausführungsbeispiel eines herkömmlichen integrierten Halbleiterspeichers.
  • 1 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterspeichers 1000. Dieser umfasst eine Steuerschaltung CC mit einem Eingang 40, einen Adresspuffer 70 mit einem Adresseingang 60, einen Datenanschluss 50 und ein Speicherzellenfeld 10. Das Speicherzellenfeld 10 weist eine Spannungserzeugungsschaltung SA mit einem ersten Anschluss 31 und einem zweiten Anschluss 32 auf, die jeweils mit dem ersten Ende 11 einer ersten Bitleitung BL1 und dem ersten Ende 21 einer zweiten Bitleitung BLC gekoppelt sind. Zwischen einem zweiten Ende 12 der ersten Bitleitung BL1 und einem zweiten Ende 22 der zweiten Bitleitung BLC ist ein steuerbarer Schalter 100 in einer Schaltungseinheit PR angeschlossen. Der Schalter 100 ist mit einem Steuereingang EQL gekoppelt. Mehrere Speicherzellen MC, MC2, MCN sind zwischen dem ersten Ende und dem zweiten Ende 12 der ersten Bitleitung BL1 an die erste Bitleitung BL1 angeschlossen. Zudem sind die Speicherzellen MC, MC2, MCN mit Wortleitungen WL, WL2, WLN gekoppelt. Der Aufbau einer Speicherzelle MC ist beispielhaft durch einen Steuertransistor 103 und einen Speicherkondensator 106 dargestellt. In dem Speicherkondensator 106 kann über eine Ladung ein Wert oder ein Speicherzustand der Speicherzelle MC gespeichert werden. Eine Ansteuerung der Speicherzelle MC erfolgt über den Steuertransistor 103, dessen Steuereingang mit der Wortleitung WL verbunden ist.
  • Die Spannungserzeugungsschaltung SA ist beispielsweise als Leseverstärker ausgeführt. Ebenso ist die Schaltungseinheit PR beispielsweise als eine Vorladeschaltung ausgebildet.
  • Im Gegensatz zu einem herkömmlichen Halbleiterspeicher, wie er beispielsweise in 5 gezeigt ist, sind die Speicherzellen MC, MC2, MCN zwischen dem Leseverstärker SA und der Vorladeschaltung PR an die erste Bitleitung BL1 angeschlossen. Über den Eingang 40 kann in der Steuerschaltung CC eine Betriebsart ausgewählt werden, beispielsweise eine Betriebsart zum Testen und eine Betriebsart für einen normalen Betrieb.
  • In der Betriebsart zum Testen ist beispielsweise auf der ersten Bitleitung BL1 und auf der zweiten Bitleitung BLC ein Vorladepotenzial eingestellt, welches üblicherweise einem Mittelwert eines hohen Bitleitungspotenzials und eines niedrigen Bitleitungspotenzials entspricht. Durch das Ansteuern einer Speicherzelle MC über eine Wortleitung WL ergibt sich aufgrund der in der Speicherzelle MC gespeicherten Ladung eine Potenzialverschiebung auf der ersten Bitleitung BL1. Somit ergibt sich ein geringfügiger Potenzialunterschied zwischen den Potenzialen der Bitleitungen BL1 und BLC. Dieser wird von dem Leseverstärker SA detektiert und derart verstärkt, dass eine der Bitleitungen BL1, BLC auf dem hohen Bitleitungspotenzial liegt, während die andere Bitleitung auf dem niedrigen Bitleitungspotenzial liegt.
  • Durch ein Ansteuern des steuerbaren Schalters 100 wird dieser geschlossen. Dies führt zu einer niederohmigen Verbindung der beiden Bitleitungen BL1, BLC. Durch den elektrischen Widerstand der Bitleitungen BL1, BLC ergibt sich ein Stromfluss von dem ersten Anschluss 31 des Leseverstärkers SA über die erste Bitleitung BL1, den Schalter 100 und die zweite Bitleitung BLC zum zweiten Anschluss 32 des Leseverstärkers SA. Somit entsteht ein statischer Stromfluss über die Bitleitungen BL1, BLC, dessen Polarität beziehungsweise Stromflussrichtung davon abhängt, ob der verstärkte Potenzialunterschied positiv oder negativ ist. Die Stromflussrichtung wird somit von der in der Speicherzelle MC gespeicherten Ladung oder Information beeinflusst.
  • Gegenüber dynamischen Umladeströmen in einem normalen Betrieb des Halbleiterspeichers oder bei herkömmlichen Halbleiterspeichern ist die Beanspruchung der Bitleitungen BL1, BLC mit einem statischen Strom effizienter, da eine Belastung oder ein Stress für die Bitleitungen in kürzeren Zeiten für einen Testbetrieb erreicht werden können. Fehlerhafte Bitleitungen können somit frühzeitig zu einem Ausfall gebracht werden, wodurch die Wahrscheinlichkeit sinkt, dass ein Halbleiterspeicher im Einsatz, das heißt bei einem Kunden ausfällt.
  • Die Ansteuerung einer Wortleitung WL, WL2, WLN und damit einer Speicherzelle MC, MC2, MCN erfolgt in Abhängigkeit eines Adresssignals am Adresseingang 60 des Adresspuffers 70. Für den Testbetrieb ist es dabei unerheblich, welche der an die erste Bitleitung BL1 angeschlossenen Speicherzellen MC, MC2, MCN angesteuert wird, da der statische Strom über den gesamten im Betrieb genutzten Bereich der Bitleitungen BL1, BLC fließt.
  • Nach dem Belasten oder Stressen der Bitleitungen BL1, BLC mit dem statischen Strom kann in einer weiteren Betriebsart überprüft werden, ob die Funktion der Bitleitungen BL1, BLC und damit des Speicherzellenfeldes 10 gewährleistet ist. Die Funktionsfähigkeit kann beispielsweise durch einen Schreib- und Lesezugriff auf eine der an die Bitleitung BL1 angeschlossenen Speicherzellen MC, MC2, MCN in einem Normalbetrieb durchgeführt werden. Dazu wird ein erstes Datum an den Datenanschluss 50 angelegt und in eine der Speicherzellen eingelesen. Durch Auslesen des Speicherzustands der eben beschriebenen Speicherzelle wird ein zweites Datenwort am Datenanschluss 50 erzeugt. Wenn das erste und das zweite Datum unterschiedlich sind, kann von einer Beschädigung einer der Bitleitungen ausgegangen werden.
  • Wenn sich die Speicherzelle jedoch fehlerfrei beschreiben und auslesen lässt, wurden die Bitleitungen BL1, BLC im Testbetrieb durch den statischen Strom nicht beschädigt, was auf ein dauerhaft funktionsfähiges Bitleitungspaar schließen lässt.
  • Der Potenzialunterschied zwischen den Potenzialen der Bitleitungen BL1, BLC ist beim Testbetrieb üblicherweise höher als bei einem Lesevorgang im Normalbetrieb. Da sich daraus auch ein höherer Strom über die Bitleitungen BL1, BLC ergibt, werden fehlerhafte Bitleitungen mit einer höheren Wahrscheinlichkeit zerstört.
  • 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Speicherzellenfelds 10, welches in einem erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterspeicher eingesetzt werden kann. Funktions- beziehungsweise wirkungsgleiche Bauelemente tragen dabei gleiche Bezugszeichen. Das Speicherzellenfeld 10 umfasst mehrere Bitleitungspaare mit den Bitleitungen BL1 und BLC, BL1b und BLCb sowie BL1c und BLCc. Aus Übersichtsgründen ist jeweils für ein Bitleitungspaar nur eine Speicherzelle MC, MCb, MCc dargestellt, welche über eine gemeinsame Wortleitung WL ansteuerbar sind. Zwischen die ersten Enden 11, 21 der ersten und der zweiten Bitleitung BL1, BLC und die Anschlüsse 31, 32 des Leseverstärkers SA ist eine Koppelschaltung CP mit Transistoren 104 und 105 geschaltet, deren Steueranschlüsse mit einem Auswahleingang MUX gekoppelt sind. Zwischen die zweiten Enden 12, 22 der ersten und der zweiten Bitleitung BL1, BLC ist die Vorladeschaltung PR angeschlossen. Sie umfasst einen Transistor 100 als steuerbaren Schalter sowie eine Reihenschaltung aus zwei Transistoren 101, 102, deren Verbindungsknoten mit einem Potenzialeingang LIM verbunden ist. Steueranschlüsse der Transistoren 100, 101, 102 sind mit dem Steuereingang EQL gekoppelt.
  • Zwischen den ersten Enden 11b, 21b des Bitleitungspaares BL1b, BLCb und Anschlüssen 31b, 32b eines zweiten Leseverstärkers SAb ist eine Koppelschaltung CPb mit Transistoren 104b, 105b geschaltet, deren Steueranschlüsse mit einem Auswahleingang MUXb gekoppelt sind. Eine Vorladeschaltung PRb, welche mit den Transistoren 100b, 101b, 102b einen im Wesentlichen gleichen Aufbau wie die Vorladeschaltung PR aufweist, ist zwischen die zweiten Enden 12b, 22b des Bitleitungspaares BL1b, BLCb geschaltet. Steueranschlüsse der Transistoren 100b, 101b, 102b sind mit einem Steuereingang EQLb gekoppelt.
  • Auch ein drittes Bitleitungspaar BL1c, BLCc ist ähnlich wie die vorherigen Bitleitungspaare verschaltet. Eine Vorladeschaltung PRc weist Transistoren 100C, 101c, 102c auf, deren Steueranschlüsse mit einem Steuereingang EQLc verbunden sind. Die Vorladeschaltung PRc ist dabei zwischen zweite Enden 12c, 22c des Bitleitungspaares BL1c, BLCc geschaltet. Am anderen Ende 11c, 21c des Bitleitungspaares BL1c, BLCc ist über eine Koppelschaltung CPc mit Transistoren 104c, 105c ein Leseverstärker SAc mit den Anschlüssen 31c, 32c angeschlossen.
  • In dem Speicherzellenfeld 10 sind die Leseverstärker SA, SAb, SAc benachbarter Bitleitungspaare jeweils versetzt zueinander angeordnet. Die Funktionsweise der Vorladeschaltungen PR, PRb, PRc soll am Beispiel der Vorladeschaltung PR verdeutlicht werden. Über den Potenzialeingang LIM kann den Bitleitungen BL1, BLC ein Potenzial zugeführt werden. Dieses ergibt sich üblicherweise als ein Mittelwert aus einem hohen und einem niedrigen Bitleitungspotenzial, welches von dem Leseverstärker SA bereitgestellt werden kann. Durch ein Steuersignal am Steuereingang EQL können die Transistoren 100, 101, 102 leitend gesteuert werden, um so einerseits die Bitleitungen BL1 und BLC niederohmig zu verbinden und andererseits das Potenzial am Potenzialeingang LIM an die Bitleitung BL1, BLC zuzuführen. Die Verbindung des Potenzialeingangs LIM mit einer hier nicht gezeigten Spannungsquelle zur Bereitstellung des Vorladepotenzials erfolgt üblicherweise hochohmig.
  • Über die Transistoren 104, 105 kann eine Verbindung der Bitleitung BL1, BLC mit dem Leseverstärker SA hergestellt beziehungsweise unterbrochen werden. Dadurch ist es möglich, dass der Leseverstärker SA auch an ein hier nicht gezeigtes weiteres Bitleitungspaar angeschlossen wird. Dabei soll jedoch immer nur ein Bitleitungspaar gleichzeitig mit dem Leseverstärker SA leitend verbunden sein. Die Verbindung der Bitleitungen BL1, BLC mit dem Leseverstärker SA erfolgt in Abhängigkeit eines Signals am Auswahleingang MUX.
  • Die Transistoren 104b, 105b am Leseverstärker SAb sowie die Transistoren 104c, 105c am Leseverstärker SAc erfüllen die gleiche beschriebene Funktion. Somit können auch an die Leseverstärker SAb und SAc jeweils weitere Bitleitungspaare angeschlossen werden. Die Ansteuerung erfolgt unabhängig über die Auswahleingänge MUX, MUXb, MUXc.
  • Aufbau und Funktion der Vorladeschaltungen PRb und PRc entsprechen der Vorladeschaltung PR. Eine Ansteuerung der Vorladeschaltungen PR, PRb, PRc erfolgt unabhängig über die Steuereingänge EQL, EQLb, EQLc.
  • Zum Testen des Halbleiterspeichers werden beispielsweise die Transistoren in den Vorladeschaltungen PR, PRb, PRc durch Steuersignale an den Steuereingängen EQL, EQLb, EQLc leitend gesteuert. Dadurch wird das Vorladepotenzial am Potenzialeingang LIM an die Bitleitungspaare BL1, BLC, BL1b, BLCb und BL1c, BLCc zugeführt. Wenn sämtliche Bitleitungen auf das Vorladepotenzial am Potenzialeingang LIM vorgeladen sind, können die Transistoren in den Vorladeschaltungen PR, PRb und PRc wieder gesperrt gesteuert werden. Durch ein Anlegen einer Steuerspannung an die Wortleitung WL werden die Speicherzellen MC, MCb, MCc angesteuert und leitend mit den jeweils ersten Bitleitungen BL1, BL1b, BL1c verbunden. Dadurch ergibt sich auf den ersten Bitleitungen BL1, BL1b, BL1c jeweils ein geringer Potenzialunterschied zu dem Potenzial auf den zweiten Bitleitungen BLC, BLCb, BLCc.
  • Die Transistoren 104, 105, 104b, 105b, 104c, 105c sind leitend gesteuert, so dass die Leseverstärker SA, SAb, SAc jeweils niederohmig mit den Bitleitungen verbunden sind. Die Leseverstärker SA, SAb, SAc detektieren den Potenzialunterschied auf den Bitleitungen und verstärken diesen. Wenn der Potenzialunterschied positiv ist, wird jeweils an die erste Bitleitung BL1, BL1b, BL1c das hohe Bitleitungspotenzial angelegt, während an die zweite Bitleitung BLC, BLCb, BLCc das niedrige Bitleitungspotenzial angelegt wird. Wenn der Potenzialunterschied negativ ist, wird an die erste Bitleitung BL1, BL1b, BL1c das niedrige und an die zweite Bitleitung BLC, BLCb, BLCc das hohe Bitleitungspotenzial angelegt. Dabei spricht man auch von einem Spreizen der Bitleitungen.
  • Durch ein Ansteuern der Transistoren in den Vorladeschaltungen PR, PRb, PRc für einen leitenden Zustand werden die ersten Bitleitungen BL1, BL1b, BL1c mit den jeweils zweiten Bitleitungen BLC, BLCb, BLCc niederohmig verbunden. Dadurch kommt es zu einem Stromfluss von den Leseverstärkern SA, SAb, SAc über die Bitleitungen BL1, BLC, BL1b, BLCb, BL1c, BLCc über die Transistoren 100, 100b, 100c. Wenn die Transistoren 101 und 102 im Wesentlichen identisch sind, wird sich am Knotenpunkt der Transistoren 101, 102 ein Potenzial einstellen, welches im Wesentlichen dem Mittelwert aus niedrigem und hohem Bitleitungspotenzial entspricht. Da üblicherweise dieses Potenzial auch als Vorladepotenzial über den Potenzialeingang zugeführt wird, ist der Stromfluss über die Transistoren 101, 102 vernachlässigbar. Ähnliches gilt für die Transistoren 101b, 102b sowie die Transistoren 101c, 102c.
  • Der sich ergebende Stromfluss ist ein statischer Strom, dessen zeitlicher Verlauf beispielhaft in 3 dargestellt ist. Bei einem positiven Potenzialunterschied zwischen den Potenzialen der Bitleitungen ergibt sich beispielsweise ein positiver Strom mit dem Wert IBI. Bei einem negativen Potenzialunterschied hingegen ergibt sich ein negativer Strom mit dem Wert-IBI, wobei das negative Vorzeichen die geänderte Polarität der Stromflussrichtung ausdrückt.
  • Durch den statischen Strom können die Bitleitungen effizienter belastet werden als mit dynamischen Umladeströmen bei herkömmlichen integrierten Halbleiterspeichern. Bei herkömmlichen Halbleiterspeichern ist die Belastung mit einem statischen Strom zudem deshalb nicht möglich, da die Speicherzel len MC, MCb, MCc nicht zwischen Leseverstärker SA, SAb, SAc und Vorladeschaltung PR, PRb, PRc an die erste Bitleitung BL1, BL1b, BL1c angeschlossen sind, wie auch in 5 gezeigt. Bei einem herkömmlichen Halbleiterspeicher sind die Vorladeschaltungen PR, PRb, PRc auf der Seite des Leseverstärkers SA, SAb, SAc an die Bitleitungen BL1, BLC, BL1b, BLCb, BL1c, BLCc angeschlossen. Dadurch ist kein Stromfluss über die gesamte Bitleitung möglich.
  • Die Anordnung von Leseverstärker und Vorladeschaltung im erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterspeicher erfolgt im Wesentlichen flächenneutral, da lediglich die Vorladeschaltung an das andere Ende eines Bitleitungspaares zu verschieben ist.
  • Bei einem herkömmlichen Halbleiterspeicher werden die Transistoren in einer Vorladeschaltung immer nur dann niederohmig geschaltet, wenn keine Wortleitung aktiviert und damit die Leseverstärker, die an das entsprechende Bitleitungspaar angeschlossen sind, keinen Potenzialunterschied verstärken. Nach dem erfindungsgemäßen Prinzip kann diese Verriegelung aufgehoben werden, um den statischen Stromfluss zu ermöglichen. Dies kann beispielsweise durch die Steuerschaltung CC, gezeigt in 1, bewirkt werden.
  • Nach dem Belasten der Bitleitungen mit dem statischen Strom kann die Funktionsfähigkeit der Bitleitungen durch einen Schreib- und Lesezugriff, wie er auch im üblichen Betrieb des Halbleiterspeichers vorgenommen wird, überprüft werden. Eine fehlerhafte Bitleitung, die durch die Strombelastung zerstört wurde, kann bei diesem Schreib- und Lesezugriff als nicht funktionsfähig erkannt werden.
  • Wenn mehrere Bitleitungspaare gleichzeitig der Strombelastung ausgesetzt werden, sinkt die Zeit, die für einen Test des gesamten Halbleiterspeichers nötig ist. Dadurch kann der Halbleiterspeicher noch effizienter getestet werden. Das erfindungsgemäße Prinzip ist in 1 beispielhaft für ein Bitleitungspaar und in 2 beispielhaft für drei Bitleitungspaare dargestellt. Es lässt sich jedoch auf beliebig viele Bitleitungspaare anwenden, somit für alle in einem integrierten Halbleiterspeicher benötigten Bitleitungspaare. Wenn mehrere Bitleitungspaare gleichzeitig der Strombelastung ausgesetzt werden, ist die Zahl der Bitleitungspaare im Wesentlichen nur durch die Leistungsfähigkeit der Strom- beziehungsweise Spannungsversorgung begrenzt.
  • 10, 10a
    Speicherzellenfeld
    11, 12, 21, 22
    Anschlüsse Bitleitung
    11b, 12b, 21b, 22b
    Anschlüsse Bitleitung
    11c, 12c, 21c, 22c
    Anschlüsse Bitleitung
    31, 32
    Anschlüsse Spannungserzeugungsschaltung
    31b, 32b, 31c, 32c
    Anschlüsse Leseverstärker
    40, 40a
    Eingangssteuerschaltung
    50
    Datenanschluss
    60
    Adresseingang
    70
    Adresspuffer
    100
    steuerbarer Schalter
    100, ..., 105
    Transistoren
    100b, ..., 105b
    Transistoren
    100C, ..., 105c
    Transistoren
    1000
    integrierter Halbleiterspeicher
    CC, CCa
    Steuerschaltung
    SA
    Spannungserzeugungsschaltung
    SAb, SAc
    Leseverstärker
    PR
    Schaltungseinheit
    PRb, PRc
    Vorladeschaltung
    MC, MCb, MCc
    Speicherzelle
    MC2, MCN
    Speicherzelle
    BL1, BL1b, BL1c
    Bitleitung
    BLC, BLCb, BLCc
    Bitleitung
    WL, WL2, WLN
    Wortleitung
    IBI
    Strom
    IBL, IBLBI
    Strom
    VBLH, VBLH BI
    hohe Bitleitungsspannung
    GND
    niedrige Bitleitungsspannung
    VN, VBI
    Spannung
    LIM
    Potenzialeingang
    MUX, MUXb, MUXc
    Auswahleingang
    EQL, EQLb
    Steuereingang
    EQLa, EQLc
    Steuereingang
    CP, CPb, CPc
    Koppelschaltung

Claims (20)

  1. Integrierter Halbleiterspeicher mit Testfunktion, umfassend – eine erste Bitleitung (BL1) mit einem ersten Ende (11) und mit einem zweiten Ende (12); – eine zweite Bitleitung (BLC) mit einem ersten Ende (21) und mit einem zweiten Ende (22); – eine Spannungserzeugungsschaltung (SA) mit einem ersten Anschluss (31), an dem ein erstes Leitungspotenzial erzeugbar ist und der mit dem ersten Ende (11) der ersten Bitleitung (BL1) gekoppelt ist, und mit einem zweiten Anschluss (32), an dem ein zweites Leitungspotenzial erzeugbar ist und der mit dem ersten Ende (21) der zweiten Bitleitung (BLC) gekoppelt ist; – mehrere Speicherzellen (MC, MC2, MCN), die zwischen dem ersten Ende (11) und dem zweiten Ende (12) der ersten Bitleitung (BL1) an die erste Bitleitung (BL1) angeschlossen sind; und – eine Schaltungseinheit (PR) mit einem Steuereingang (EQL) zum Zuführen eines ersten Steuersignals und einem ersten steuerbaren Schalter (100), der zwischen das jeweilige zweite Ende (12, 22) der ersten Bitleitung (BL1) und der zweiten Bitleitung (BLC) geschaltet ist und dessen Steueranschluss mit dem Steuereingang (EQL) gekoppelt ist.
  2. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, – der eine Steuerschaltung (CC) mit einem Eingang (40) zur Auswahl einer ersten oder einer zweiten Betriebsart des integrierten Halbleiterspeichers umfasst; wobei – bei einem Auslesevorgang einer der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN) in der ersten und in der zweiten Betriebsart auf der ersten Bitleitung (BL1) das erste Leitungspo tenzial und auf der zweiten Bitleitung (BLC) das zweite Leitungspotenzial erzeugt wird; und – der erste Schalter (100) durch die Steuerschaltung (CC) in der ersten Betriebsart gesperrt gesteuert ist und in der zweiten Betriebsart leitend gesteuert ist.
  3. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 1 oder 2, bei dem zwischen die ersten Enden (11, 21) der ersten und der zweiten Bitleitung (BL1, BLC) und die Anschlüsse (31, 32) der Spannungserzeugungsschaltung (SA) eine Koppelschaltung (CP) geschaltet ist, die einen Auswahleingang (MUX) aufweist und ausgebildet ist, die ersten Enden (11, 21) der ersten und der zweiten Bitleitung (BL1, BLC) mit den Anschlüssen (31, 32) der Spannungserzeugungsschaltung (SA) in Abhängigkeit eines zweiten Steuersignals am Auswahleingang (MUX) zu verbinden.
  4. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 3, bei dem die Koppelschaltung (CP) einen ersten und einen zweiten steuerbaren Schalter (104, 105) umfasst, wobei – der erste steuerbare Schalter (104) zwischen den ersten Anschluss (31) der Spannungserzeugungsschaltung (SA) und das erste Ende (11) der ersten Bitleitung (BL1) geschaltet ist; – der zweite steuerbare Schalter (105) zwischen den zweiten Anschluss (32) der Spannungserzeugungsschaltung (SA) und das erste Ende (21) der zweiten Bitleitung (BLC) geschaltet ist; und – Steueranschlüsse der steuerbaren Schalter (104, 105) mit dem Auswahleingang (MUX) gekoppelt sind.
  5. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Schaltungseinheit (PR) als eine Vorladeschaltung (PR) zum Einspeisen eines Vorladepotenzials auf die erste und die zweite Bitleitung (BL1, BLC) ausgebildet ist, wobei das Vorladepotenzial zwischen dem ersten und dem zweiten Leitungspotenzial liegt.
  6. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 5, bei dem die Vorladeschaltung – einen zweiten steuerbaren Schalter (101) umfasst, der das zweite Ende (12) der ersten Bitleitung (BL1) mit einem Versorgungsanschluss (LIM) zur Zuführung des Vorladepotenzials koppelt; – einen dritten steuerbaren Schalter (102) umfasst, der das zweite Ende (22) der zweiten Bitleitung (BLC) mit dem Versorgungsanschluss (LIM) koppelt; und – Steueranschlüsse des zweiten und des dritten steuerbaren Schalters mit dem Steuereingang (EQL) gekoppelt sind.
  7. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem steuerbare Schalter (100, 101, 102, 104, 105) jeweils als ein Transistor gebildet sind.
  8. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem wenigstens eine der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN) dazu ausgebildet ist, bei einer Ansteuerung über eine Wortleitung (WL) einen Potenzialunterschied zwischen einem Potenzial auf der ersten Bitleitung (BL1) und einem Potenzial auf der zweiten Bitleitung (BLC) zu erzeugen.
  9. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 8, bei dem die Spannungserzeugungsschaltung (SA) ausgebildet ist zum Verstärken des Potenzialunterschieds.
  10. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 9, bei dem die Spannungserzeugungsschaltung (SA) als ein Leseverstärker ausgebildet ist, wobei der Leseverstärker (SA) zum Verstärken des Potenzialunterschieds in Abhängigkeit des Potenzialunterschieds das erste und das zweite Leitungspotenzial auf der ersten und der zweiten Bitleitung (BL1, BLC) erzeugt.
  11. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem die Spannungserzeugungsschaltung (SA) ausgebildet ist, an dem ersten Anschluss (31) ein drittes Leitungspotenzial und an dem zweiten Anschluss (32) ein viertes Leitungspotenzial zu erzeugen, wobei ein Potenzialunterschied zwischen dem dritten und vierten Leitungspotenzial größer ist als ein Potenzialunterschied zwischen dem ersten und zweiten Leitungspotenzial.
  12. Verwendung eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 1 bis 11 in einem dynamischen Halbleiterspeichermodul.
  13. Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers, umfassend die Schritte: – Bereitstellen einer ersten Bitleitung (BL1) mit einem ersten Ende (11) und einem zweiten Ende (12) und einer zweiten Bitleitung (BLC) mit einem ersten Ende (21) und einem zweiten Ende (22); – Bereitstellen von mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN), die zwischen dem ersten und dem zweiten Ende (11, 12) der ersten Bitleitung (BL1) an die erste Bitleitung (BL1) angeschlossen sind; – Einspeisen eines Vorladepotenzials auf die erste und die zweite Bitleitung (BL1, BLC); – Ansteuern einer der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN) derart, dass sich ein Potenzialunterschied zwischen einem Potenzial auf der ersten Bitleitung (BL1) und einem Potenzial auf der zweiten Bitleitung (BLC) ergibt; – Verstärken des Potenzialunterschieds auf der ersten und der zweiten Bitleitung (BL1, BLC) mit einer Spannungserzeugungsschaltung (SA), die an dem jeweils ersten Ende (11, 21) der ersten und der zweiten Bitleitung (BL1, BLC) angeschlossen ist, wobei während des Verstärkens des Potenzialunterschieds die erste und die zweite Bitleitung (BL1, BLC) an dem jeweils zweiten Ende (12, 22) der ersten und der zweiten Bitleitung (BL1, BLC) derart niederohmig verbunden werden, dass sich ein Stromfluss über die erste und die zweite Bitleitung (BL1, BLC) ergibt; – Durchführen eines Schreib- und Lesezugriffs auf wenigstens eine der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN).
  14. Verfahren nach Anspruch 13, bei dem das Durchführen des Schreib- und Lesezugriffs die Schritte umfasst: – Anlegen eines ersten Datums an einen Datenanschluss (50); – Einlesen des angelegten Datums in die wenigstens eine der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN); – Erzeugen eines zweiten Datums am Datenanschluss (50) durch Auslesen eines Speicherzustands der wenigstens einen der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN); – Vergleichen des ersten Datums mit dem zweiten Datum.
  15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, bei dem das niederohmige Verbinden durch leitend Steuern ei nes ersten steuerbaren Schalters (100) in Abhängigkeit eines Steuersignals an einem Steuereingang (EQL) erfolgt.
  16. Verfahren nach Anspruch 15, bei dem das Einspeisen des Vorladepotenzials durch leitend Steuern eines zweiten und eines dritten steuerbaren Schalters (101, 102) erfolgt; wobei – der zweite steuerbare Schalter (101) das zweite Ende (12) der ersten Bitleitung (BL1) mit einem Versorgungsanschluss (LIM) zur Zuführung des Vorladepotenzials koppelt; – der dritte steuerbare Schalter (102) das zweite Ende (22) der zweiten Bitleitung (BLC) mit dem Versorgungsanschluss (LIM) koppelt; und – Steueranschlüsse des zweiten und des dritten steuerbaren Schalters mit dem Steuereingang (EQL) gekoppelt sind.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 16, bei dem beim Verstärken des Potenzialunterschieds durch die Spannungserzeugungsschaltung (SA) auf der ersten Bitleitung (BL1) ein erstes Leitungspotenzial und auf der zweiten Bitleitung (BLC) ein zweites Leitungspotenzial erzeugt wird.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, bei dem beim Ansteuern der einen Speicherzelle (MC) der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN) ein in der Speicherzelle (MC) gespeicherter Speicherzustand ausgelesen wird.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, bei dem eine Polarität des Potenzialunterschieds von dem gespeicherten Speicherzustand der einen Speicherzelle (MC) abhängt.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 19, bei dem vor dem Ansteuern der einen Speicherzelle (MC) der mehreren Speicherzellen (MC, MC2, MCN) in der Speicherzelle (MC) ein gewünschter Speicherzustand gespeichert wird.
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