DE10111438A1 - Monolithische keramische Elektronikkomponente, Verfahren zum Herstellen derselben und elektronische Vorrichtung - Google Patents
Monolithische keramische Elektronikkomponente, Verfahren zum Herstellen derselben und elektronische VorrichtungInfo
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Abstract
Eine monolithische Elektronikkomponente umfaßt einen Verbundkörper mit einer Mehrzahl von gestapelten Keramikschichten. Die Keramikschichten umfassen Verbindungsleiter, die sich in jeder der Keramikschichten befinden, die erste Anschlüsse, die an einer ersten Endoberfläche in Stapelrichtung des Verbundkörpers zum Definieren von Verbindungen mit einem Verbindungssubstrat angeordnet sind, und zweite Anschlüsse, die an einer zweiten Endoberfläche gegenüber der ersten Endoberfläche des Verbundkörpers zum Definieren von Verbindungen mit einer angebrachten Komponente angeordnet sind, umfassen. Die ersten Anschlüsse sind durch Leiterschichten definiert, die sich an der ersten Endoberfläche befinden, und die zweiten Anschlüsse sind durch freiliegende Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter definiert, die sich vom inneren Abschnitt des Verbundkörpers bis zur zweiten Endoberfläche erstrecken. Die freiliegenden Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter sind flach und befinden sich im wesentlichen in der gleichen Ebene wie die zweite Endoberfläche.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich allgemein auf mono
lithische keramische Elektronikkomponenten, Verfahren zum
Herstellen derselben und elektronische Vorrichtungen, die
die monolithischen keramischen Elektronikkomponenten umfas
sen. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung
auf eine Verbesserung bei der Struktur von Anschlüssen der
monolithischen keramischen Elektronikkomponenten.
Eine herkömmliche Art von monolithischen keramischen Elek
tronikkomponenten, die sich auf die vorliegende Erfindung
bezieht, ist unter dem Namen "monolithisches keramisches
Substrat" bekannt. Die monolithische keramische Elektronik
komponente umfaßt einen Verbundkörper, der eine Mehrlagen
struktur aufweist, die eine Vielzahl von Keramikschichten
umfaßt.
Im Inneren des Verbundkörpers entsteht durch Verbindungs
leiter eine gewünschte Schaltung, wobei passive Elemente,
wie z. B. Kondensatoren und induktive Bauelemente, verwen
det werden. Außerhalb des Verbundkörpers sind ein aktives
Element, wie z. B. ein Leiter-IC-Chip, und ein Abschnitt
eines passiven Elements wie benötigt angebracht.
Die daraus resultierende monolithische keramische Elektro
nikkomponente wird an einem gewünschten Verbindungssubstrat
befestigt und bildet eine gewünschte elektronische Vorrich
tung.
Die monolithische keramische Elektronikkomponente wird als
eine LCR-Verbundhochfrequenzkomponente zur Verwendung bei
mobilen Kommunikationsanschlußvorrichtungen, und als eine
Verbundkomponente, die ein aktives Element, wie z. B. einen
Halbleiter-IC-Chip, und ein passives Element, wie z. B. ei
nen Kondensator, ein induktives Bauelement und einen Wider
stand, kombiniert, oder einfach als ein Halbleiter-IC-
Gehäuse zur Verwendung bei einem Computer verwendet.
Insbesondere wird die monolithische keramische Elektronik
komponente häufig zum Bilden verschiedener Arten von elek
tronischen Komponenten, wie z. B. Modulsubstraten, HF-
Diodenschaltern, Filtern, Chipantennen, verschiedenen Ge
häusekomponenten, Verbundvorrichtungen etc., verwendet.
Fig. 9 ist eine Schnittansicht einer herkömmlichen mono
lithischen keramischen Elektronikkomponente. Eine mono
lithische keramische Elektronikkomponente 1 aus Fig. 9 um
faßt einen Verbundkörper 3 mit einer Mehrzahl von gestapel
ten Keramikschichten 2. Der Verbundkörper 3 ist mit Verbin
dungsleitern ausgestattet, von denen sich jeder in Zuord
nung zu einer speziellen Keramikschicht 2 befindet.
Die Verbindungsleiter sind mehrere erste Anschlüsse 5, die
an einer ersten Endoberfläche 4 in Stapelrichtung des Ver
bundkörpers 3 angebracht sind, mehrere zweite Anschlüsse 7,
die an einer zweiten Endoberfläche 6 gegenüber der ersten
Endoberfläche 4 des Verbundkörpers 3 angebracht sind, meh
rere interne Leiterschichten 8, die an einer bestimmten
Grenzfläche zwischen den Keramikschichten 2 angeordnet
sind, und mehrere Durchgangslochleiter 9, die eine spezifi
sche Keramikschicht 2 durchdringen.
Der erste Anschluß 5 wird zum Bilden einer Verbindung mit
einem Verbindungssubstrat (nicht dargestellt) verwendet. Um
die Haftfestigkeit mit dem Verbindungssubstrat zu verbes
sern, umfaßt der erste Anschluß 5 eine Leiterschicht, die
durch eine leitfähige Paste definiert wird, die durch Druc
ken aufgetragen wird.
Der zweite Anschluß 7 wird zum Bilden einer Verbindung mit
einer angebrachten Komponente (nicht dargestellt) verwen
det. Um die Haftfestigkeit mit der angebrachten Komponente
wie beim ersten Anschluß 5 zu verbessern, umfaßt der zweite
Anschluß 7 eine Leiterschicht, die durch eine leitfähige
Paste definiert wird, die durch Drucken aufgetragen wird.
Die Fig. 10A bis 10E zeigen nacheinander einen Teil ei
nes typischen Verfahrens zum Herstellen der monolithischen
keramischen Elektronikkomponente 1 aus Fig. 9. Fig. 10A
zeigt eine keramische Grünschicht 11, die die keramische
Schicht 2 bilden wird, und die auf einer Trägerfolie 10 aus
Polyethylenterephthalat gebildet wird und eine Dicke von 50
bis 100 µm aufweist. So entsteht eine Verbundschicht 12,
bei der die keramische Grünschicht 11 durch die darunter
liegende Trägerfolie 10 unterstützt wird.
Während der darauf folgenden Schritte vor dem Stapelschritt
der keramischen Grünschicht 11 wird die keramische Grün
schicht 11 in Form der Verbundschicht 12 gehandhabt.
Der Grund dafür, daß die keramische Grünschicht 11 mit der
als Grundschicht fungierenden Trägerfolie 10 verarbeitet
wird, ist, daß die keramische Grünschicht 11 eine besonders
niedrige Festigkeit hat, weich und zerbrechlich ist, und es
extrem schwierig ist, die keramische Grünschicht 11 alleine
zu handhaben. Die keramische Grünschicht 11 in Form der
Verbundschicht 12 ist leicht zu handhaben und während des
Vorgangs leicht auszurichten. Außerdem kann unerwünschtes
Schrumpfen und Wellenbildung der keramischen Grünschicht 11
während des darauf folgenden Schrittes des Trocknens der
leitfähigen Paste vermieden werden.
Als nächstes zeigt Fig. 10B mehrere Durchgangslöcher 13 zum
Bilden der Durchgangslochleiter 9, die in der Verbund
schicht 12 gebildet werden. Alternativ können die Durch
gangslöcher 13 so gebildet werden, daß sie die Trägerfolie
10 nicht durchdringen und nur in der keramischen Grün
schicht 11 gebildet werden.
Als nächstes zeigt Fig. 10C, wie durch Füllen des Durch
gangsloches 13 mit einer leitfähigen Paste ein leitfähiger
Pastenabschnitt 14 gebildet wird, der den Durchgangs
lochleiter 9 bilden wird. Zur gleichen Zeit wird die
Schicht aus leitfähiger Paste 15, die die interne Leiter
schicht 8 oder einen zweiten Anschluß 7 bilden wird, gebil
det, indem eine leitfähige Paste auf die äußere Hauptober
fläche der keramischen Grünschicht 11 aufgetragen wird. Da
nach werden der leitfähige Pastenabschnitt 14 und der leit
fähige Pastenabschnitt 15 getrocknet.
Als nächstes zeigt Fig. 10D, wie nach dem Entfernen der
Trägerfolie 10 von der keramischen Grünschicht 11 eine
Mehrzahl von keramischen Grünschichten 11 gestapelt wird,
und so einen grünen Verbundkörper 16 definiert, der den
Verbundkörper 3 vor dem Brennen darstellt.
Die Abtrennung der Trägerfolie 10 kann auch vor dem Stapeln
der keramischen Grünschicht 11 wie in der obigen Beschrei
bung durchgeführt werden. Die Anordnung sollte so erfolgen,
daß die keramische Grünschicht 11 in Form der Verbund
schicht 12 gestapelt wird, wobei die nach oben zeigende
Trägerfolie 10 auf die Oberfläche aufgetragen wird, und daß
die Trägerfolie 10 jedesmal abgetrennt wird, wenn eine der
keramischen Grünschichten 11 gestapelt wird.
Als nächstes zeigt Fig. 10E, wie eine Schicht aus leitfähi
ger Paste 17, die den ersten Anschluß 5 bilden wird, durch
Auftragen einer leitfähigen Paste auf eine Endoberfläche
des grünen Verbundkörpers 16 durch Drucken gebildet wird.
Die Schicht aus leitfähiger Paste 17 wird dann getrocknet.
Es soll angemerkt werden, daß die Schicht aus leitfähiger
Paste 17, die nach dem Erhalten des grünen Verbundkörpers
16 gebildet wird, auch für den zweiten Anschluß 7, und
nicht für den ersten Anschluß 5 verwendet werden kann. In
diesem Fall wird die Schicht aus leitfähiger Paste für den
ersten Anschluß 5 durch die Schicht aus leitfähiger Paste
15 geschaffen, die durch den Schritt aus Fig. 10C gebildet
wird.
Als nächstes wird der grüne Verbundkörper 16 in dem Zustand
aus Fig. 10E in Stapelrichtung gepreßt und gebrannt. Da
durch wird die monolithische keramische Elektronikkomponen
te 1 aus Fig. 9 erhalten.
Der erste Anschluß 5 und der zweite Anschluß 7 werden mit
Nickel plattiert und dann wie benötigt mit Gold, Zinn oder
Lot plattiert.
Obwohl dies nicht in den Zeichnungen dargestellt ist, ist
die monolithische keramische Elektronikkomponente 1 an ei
nem Verbindungssubstrat befestigt, das gegenüber der ersten
Endoberfläche 4 liegt, um es elektrisch über die leitfähige
Schicht, die den ersten Anschluß 5 bildet, zu verbinden.
Eine Komponente ist an der zweiten Endoberfläche 6 befe
stigt und elektrisch mit der leitfähigen Schicht verbunden,
die den zweiten Anschluß 7 bildet, was ebenfalls nicht dar
gestellt ist.
Gemäß dem Herstellungsverfahren der monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente 1 aus Fig. 10 muß ein Schritt
zum Auftragen der leitfähigen Paste durch Drucken und ein
Schritt zum Trocknen derselben nochmals durchgeführt wer
den, nachdem der grüne Verbundkörper 16 erhalten wurde, um
die Schicht aus leitfähiger Paste 17 aus Fig. 10E zu bil
den. Dadurch entsteht ein Problem des reduzierten Produkti
onswirkungsgrades aufgrund dieser zusätzlichen Druck- und
Trocknungsschritte.
Es ist auch möglich, ein anderes Verfahren zu verwenden,
bei dem die Schicht aus leitfähiger Paste 17 durch Drucken
aufgebracht wird, getrocknet und gebrannt wird, nachdem der
grüne Verbundkörper 16 in dem Zustand aus Fig. 10D gebrannt
wurde. Auch in diesem Fall tritt wie oben ein Problem eines
reduzierten Produktionswirkungsgrades auf.
Da beim Auftragen der Schicht aus leitfähiger Paste 17 im
allgemeinen ein Siebdruckverfahren angewendet wird, ist die
Zuverlässigkeit des Siebdruckens bezüglich der Genauigkeit
nicht zufriedenstellend. Folglich tritt ein Problem der un
sachgemäßen Bildung und Verschiebung der Schicht aus leit
fähiger Paste 17 auf, sowie Verschmierungen in deren Struk
turen und Unregelmäßigkeiten bei der Dicke.
Wenn ein defekter Mutterverbundkörper verwendet wird, von
dem eine Mehrzahl von monolithischen keramischen Elektro
nikkomponenten 1 erhalten wird, können alle resultierenden
monolithischen keramischen Elektronikkomponenten 1 fehler
haft sein.
Es soll auch angemerkt werden, daß es während des Prozes
ses, bei dem die Schicht aus leitfähiger Paste 17 nach dem
Brennen gebildet wird, möglich ist, die Schicht aus leitfä
higer Paste 17 zu entfernen und den Druckschritt erneut
durchzuführen, wenn die oben beschriebenen Probleme auftre
ten. Es ist jedoch unmöglich, diese Defekte bei einem Pro
zeß zu reparieren, bei dem die Schicht aus leitfähiger Pa
ste 17 vor dem Brennen durch Drucken aufgetragen wird.
Außerdem neigen die keramische Grünschicht 11 und die kera
mische Schicht 2 während der Schritte des Pressens und
Brennens des grünen Verbundkörpers 16 zur Deformierung in
Richtung deren Hauptoberflächen. Entsprechend kann die
Schicht aus leitfähiger Paste 17, wenn Drucken zur Bildung
der Schicht aus leitfähiger Paste 17 auf dem Mutterverbund
körper durchgeführt wird, bedingt durch die Deformierung
versetzt werden.
Nach dem Schritt des Pressens des grünen Verbundkörpers 16
kann bei dem grünen Verbundkörper 16 oder bei dem Verbund
körper 3 nach dem Brennen eine Ablenkung beobachtet werden.
Dadurch wird die Oberfläche, auf der die Schicht aus leit
fähiger Paste 17 durch Drucken aufgetragen wird, unregelmä
ßig, was zu einer verschlechterten Genauigkeit des Druckens
führt.
Außerdem nimmt die Größe der Komponenten, die an der zwei
ten Endoberfläche 6 der monolithischen keramischen Elektro
nikkomponente 1 angebracht sind, ab. Bei einer angebrachte
nen Komponente mit blattartigen Anschlußelektroden, wie z. B.
einer an der Oberfläche angebrachten Komponente, wird
die Plangröße jeder Anschlußelektrode jetzt auf
0,6 mm × 0,3 mm reduziert. Bei einer angebrachten Komponente mit
Bump-Elektroden, wie z. B. einem Halbleiter-IC-Chip, wird
die Größe jeder einzelnen Bump-Elektrode z. B. auf einen
Durchmesser von ca. 70 µm reduziert und der Array-Abstand
derselben wird auf ca. 150 µm reduziert. Entsprechend muß
auch die leitfähige Schicht, die bei dem zweiten Anschluß 7
verwendet wird, größenmäßig reduziert werden, mittels des
Siebdruckverfahrens können aber keine leitfähigen Schichten
mit derartiger Genauigkeit gebildet werden.
Außerdem wird auch eine Elektronikkomponente, die elek
trisch durch Drahtbonden verbunden wird, wie z. B. ein
Halbleiter-IC-Chip, als die angebrachte Komponente verwen
det. Bei einem derartigen Fall ist der Durchmesser des Ver
bindungsdrahtes ca. 20 µm und die Breite eines Anschlußflä
chenelements für die Drahtbonden mißt ca. 80 µm. Wenn die
durch Siebdrucken gebildete leitfähige Schicht als das An
schlußflächenelement verwendet wird, zeigt der Querschnitt
der so gebildeten leitfähigen Schicht, daß es an jeder Kan
te einen abgeschrägten Teil von ca. 20 µm bis 30 µm Breite
gibt, der sich durch die Oberflächenspannung der leitfähi
gen Paste ergibt. Dadurch verschmälert sich der flache Ab
schnitt des Anschlußflächenelements mit einer Breite von
80 µm, was zu Verbindungsausfällen der Bonddrähte führt.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine mono
lithische keramische Elektronikkomponente, ein Verfahren
zum Herstellen derselben und eine elektronische Vorrichtung
zu schaffen, bei denen die oben genannten Probleme, die bei
der herkömmlichen Technik auftreten, vermieden werden kön
nen.
Diese Aufgabe wird durch eine monolithische keramische
Elektronikkomponente gemäß Anspruch 1, ein Verfahren zur
Herstellung derselben gemäß Anspruch 12 und eine elektroni
sche Vorrichtung gemäß Anspruch 21 gelöst.
Um die obigen Probleme zu überwinden, schaffen bevorzugte
Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung eine mono
lithische keramische Elektronikkomponente, ein Verfahren
zum Herstellen derselben und eine elektronische Vorrich
tung, die die monolithische keramische Elektronikkomponente
umfaßt, wobei alle frei von den obigen Problemen sind, die
bei der herkömmlichen Technik auftreten.
Eine monolithische keramische Elektronikkomponente gemäß
einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegen
den Erfindung umfaßt einen Verbundkörper mit einer Mehrzahl
von gestapelten Keramikschichten. Die Keramikschichten um
fassen Verbindungsleiter, die sich in jeder der Keramik
schichten befinden, und umfassen erste Anschlüsse, die auf
einer ersten Endoberfläche in Stapelrichtung des Verbund
körpers angebracht sind, so daß sie Verbindungen mit einem
Verbindungssubstrat definieren, und zweite Anschlüsse, die
sich auf einer zweiten Endoberfläche gegenüber der ersten
Endoberfläche des Verbundkörpers befinden, und so angeord
net sind, daß sie Verbindungen mit einer angebrachten Kom
ponente definieren. Die ersten Anschlüsse umfassen Leiter
schichten, die an der ersten Endoberfläche angebracht sind,
und die zweiten Anschlüsse umfassen freiliegende Endober
flächen der Anschlußdurchgangslochleiter, die sich vom in
neren Abschnitt des Verbundkörpers zu der zweiten Endober
fläche erstrecken.
Wie bereits beschrieben ist der erste Anschluß, der an der
ersten Endoberfläche des Verbundkörpers angebracht ist, zum
Verbinden mit dem Verbindungssubstrat durch die Leiter
schicht definiert, die sich auf der ersten Endoberfläche
befindet. Der zweite Anschluß, der so auf der zweiten
Endoberfläche des Verbundkörpers angebracht ist, daß er ei
ne Verbindung zu der angebrachten Komponente definiert, ist
durch die freiliegende Endoberfläche des Anschlußdurch
gangslochleiters definiert, der sich von dem inneren Ab
schnitt des Verbundkörpers zu der zweiten Endoberfläche er
streckt.
Entsprechend werden, wenn ein grüner Verbundkörper zum Er
halten des Verbundkörpers hergestellt wird, der in der
mehrschichtigen keramischen Elektronikkomponente unterge
bracht werden soll, Durchgangslöcher in die keramischen
Grünschichten gemacht, die den grünen Verbundkörper bilden,
und die leitfähige Paste füllt sich innerhalb der Durch
gangslöcher, so daß sich Abschnitte mit leitfähiger Paste
bilden, die als Durchgangslochleiter fungieren werden. Die
leitfähige Paste wird lediglich auf eine der Hauptoberflä
chen der entsprechenden keramischen Grünschichten aufge
bracht, so daß sich die Schicht aus leitfähiger Paste bil
det, die als leitfähige Schicht fungiert.
Während der oben genannten Schritte wird die keramische
Grünschicht vorzugsweise mit der unterstützenden Trägerfo
lie gehandhabt, bis der Stapelschritt beginnt. Die Bildung
der Durchgangslöcher und das Auftragen der leitfähigen Pa
ste zum Bilden der Abschnitte mit leitfähiger Paste und der
Schicht aus leitfähiger Paste können durchgeführt werden,
während die Trägerfolie die keramische Grünschicht unter
stützt.
Dadurch wird die Genauigkeit des Druckens, z. B. zum Auf
bringen der leitfähigen Paste, verbessert, die Größe der
monolithischen keramischen Elektronikkomponente kann redu
ziert und die Dichte der Verbindungen erhöht werden.
Auch muß ein Druckschritt nicht wiederholt werden, nachdem
der grüne Verbundkörper hergestellt oder gebrannt ist. Da
durch werden Fehler, die während des Druckschrittes auftre
ten können, zuverlässig beseitigt, was zu einem deutlich
verbesserten Ertrag und zu niedrigeren Kosten führt.
Da der zweite Anschluß zum Verbinden mit der angebrachten
Komponente durch die freiliegende Endoberfläche des An
schlußdurchgangslochleiters gebildet wird, kann außerdem
die Größe des zweiten Anschlusses leicht reduziert und
folglich der ausrichtende Abstand reduziert werden. Auch
diese Faktoren tragen zur Miniaturisierung der monolithi
schen keramischen Elektronikkomponente und zur Erhöhung der
Dichte der Verbindungen bei.
Vorzugsweise sind die freiliegenden Endoberflächen der An
schlußdurchgangslochleiter flach und im wesentlichen in der
gleichen Ebene wie die zweite Endoberfläche angeordnet.
So kann unerwünschtes Neigen der Elektronikkomponente, die
an der zweiten Endoberfläche durch ein oberflächenbefesti
gendes Verfahren befestigt werden soll, verhindert werden.
Die resultierenden freiliegenden Endoberflächen sind für
Drahtbonden und Bump-Verbindungen besonders geeignet.
Vorzugsweise umfassen die Verbindungsleiter außerdem einen
Verbindungsdurchgangslochleiter, um Verbindungen im Inneren
des Verbundkörpers zu schaffen, und der Querschnitt des An
schlußdurchgangslochleiters hat eine andere Größe als der
des Verbindungsdurchgangslochleiters.
Bei dieser Konfiguration ist es leicht, eine geeignete Grö
ße des Querschnitts für die Durchgangslochleiter zu wählen.
Noch besser ist es, wenn die Größe des Querschnittes des
Anschlußdurchgangslochleiters größer als die des Verbin
dungsdurchgangslochleiters ist.
So ist die Fläche der freiliegenden Endoberfläche des An
schlußdurchgangslochleiters, der als zweiter Anschluß fun
giert, relativ groß. Folglich ist diese Konfiguration zum
Befestigen einer elektronischen Komponente, die schichtar
tige Anschlußelektroden hat, und zum Befestigen eines Me
tallgehäuses besser geeignet.
Vorzugsweise umfaßt die angebrachte Komponente eine Elek
tronikkomponente mit schichtartigen Anschlußelektroden. Die
Oberflächen der Anschlußelektroden werden gegenüber der
Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter zusammenge
fügt, um die elektronische Komponente zu befestigen.
Vorzugsweite umfaßt die angebrachte Komponente ein Metall
gehäuse, das die zweite Endoberfläche abdeckt. Die Kan
tenoberflächen des Metallgehäuses sind gegenüber den
Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter zusammenge
fügt, um die elektronische Komponente zu befestigen.
Vorzugsweise ist der Querschnitt des Anschlußdurchgangs
lochleiters kleiner als der des Verbindungsdurchgangs
lochleiters.
Wenn der Querschnitt des Anschlußdurchgangslochleiters
kleiner ist als der des Verbindungsdurchgangslochleiters,
wird die Dichte zum Befestigen der Komponenten sehr verbes
sert, und die resultierende Konfiguration ist zum Befesti
gen einer elektronischen Komponente, die Bump-Elektroden
und eine Elektronikkomponente umfaßt, die elektrisch durch
Drahtbonden verbunden werden soll, besser geeignet.
Vorzugsweise umfaßt die angebrachte Komponente eine Elek
tronikkomponente mit Bump-Elektroden, und die angebrachte
Komponente ist mit den Endoberflächen der Anschlußdurch
gangslochleiter durch die Bump-Elektroden verbunden.
Vorzugsweise ist die angebrachte Komponente eine Elektro
nikkomponente, die elektrisch durch Drahtbonden verbunden
ist. Die angebrachte Komponente ist durch Bonddrähte elek
trisch mit den Endoberflächen der Anschlußdurchgangs
lochleiter verbunden.
Vorzugsweise umfaßt eine monolithische keramische Elektro
nikkomponente weiter einen Hohlraum mit einer Öffnung ent
lang der ersten Endoberfläche.
So kann die Elektronikkomponente im Hohlraum untergebracht
werden, wodurch eine weitere Miniaturisierung der multi
funktionalen monolithischen keramischen Elektronikkomponen
te erreicht wird.
Ein Verfahren zum Herstellen einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente gemäß einem weiteren bevorzugten
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung umfaßt die
Schritte des Herstellens einer Verbundschicht mit einer ke
ramischen Grünschicht und einer unterstützenden Trägerfo
lie, des Bildens von Durchgangslöchern, die zumindest die
keramische Grünschicht in der Verbundschicht durchdringen,
des Bildens eines Abschnitts mit leitfähiger Paste durch
Füllen des Durchgangsloches mit einer leitfähigen Paste,
des Bildens einer Schicht aus leitfähiger Paste durch Auf
bringen der leitfähigen Paste auf die äußere Hauptoberflä
che der keramischen Grünschicht der Verbundschicht, des Ab
trennens der Trägerfolie von der keramischen Grünschicht,
des Bildens eines grünen Verbundkörpers durch Stapeln der
Mehrzahl von keramischen Grünschichten und des Brennens des
grünen Verbundkörpers. Zumindest ein Abschnitt der Schicht
aus leitfähiger Pasten definiert die leitfähige Schicht,
die den ersten Anschluß bildet, und zumindest ein Abschnitt
der Abschnitte mit leitfähiger Paste definiert den An
schlußdurchgangslochleiter.
Eine elektronische Vorrichtung gemäß einem weiteren anderen
bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
umfaßt eine monolithische keramische Elektronikkomponente,
ein Verbindungssubstrat zum Befestigen der monolithischen
keramischen Elektronikkomponente, ein Verbindungssubstrat,
das der ersten Endoberfläche des Verbundkörpers zugewandt
ist und elektrisch durch die Leiterschicht verbunden ist,
die den ersten Anschluß bildet, und eine Komponente, die an
der zweiten Endoberfläche des Verbundkörpers befestigt ist,
der elektrisch durch die Endoberfläche der Anschlußdurch
gangslochleiter verbunden ist.
Durch die reduzierte Größe der monolithischen keramischen
Elektronikkomponente kann eine erhöhte Dichte der Verbin
dungen erreicht werden, und die elektronische Vorrichtung,
die mit einer derartigen monolithischen keramischen Elek
tronikkomponente ausgestattet ist, erreicht ebenfalls die
gleichen Vorteile und Vorzüge. Die elektronische Vorrich
tung dieses bevorzugten Ausführungsbeispiels der vorliegen
den Erfindung ist multifunktional und die Größe deutlich
reduziert.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung
werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeich
nungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Schnittansicht der monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente gemäß einem bevorzug
ten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 2A bis 2E Schnittansichten, die aufeinanderfolgend
einige der Schritte bei einem Verfahren zum Her
stellen der monolithischen keramischen Elektro
nikkomponente gemäß Fig. 1 zeigen;
Fig. 3 eine Schnittansicht zum Erklären eines ersten
Stapelvorgangs zum Erhalten eines grünen Verbund
körpers gemäß Fig. 2D;
Fig. 4 eine Schnittansicht zum Erklären eines zweiten
Stapelvorgangs zum Erhalten eines grünen Verbund
körpers gemäß Fig. 2D;
Fig. 5 eine Schnittansicht zum Erklären eines dritten
Stapelvorgangs zum Erhalten des grünen Verbund
körpers gemäß Fig. 2D;
Fig. 6 eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente gemäß einem anderen
bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung;
Fig. 7 eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente gemäß einem weiteren
anderen bevorzugten Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung;
Fig. 8 eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente gemäß einem weiteren
anderen bevorzugten Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung;
Fig. 9 eine Schnittansicht einer herkömmlichen mono
lithischen keramischen Elektronikkomponente, die
sich auf die vorliegende Erfindung bezieht; und
Fig. 10 eine Schnittansicht, die aufeinanderfolgend eini
ge der Schritte bei einem Verfahren zum Herstel
len einer monolithischen keramischen Elektronik
komponente 1 gemäß Fig. 9 zeigt.
Fig. 1 ist eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente 21 gemäß einem bevorzugten Aus
führungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
Die monolithische keramische Elektronikkomponente 21 umfaßt
vorzugsweise einen Verbundkörper 23, der eine Mehrzahl von
gestapelten Keramikschichten 22 aufweist. Der Verbundkörper
23 ist mit verschiedenen Verbindungsleitern ausgestattet,
von denen jeder in Zuordnung zu einer bestimmten Keramik
schicht 22 gebildet wird.
Die oben beschriebenen Verbindungsleiter sind mit mehreren
ersten Anschlüssen 25, die an einer ersten Endoberfläche 24
in Stapelrichtung des Verbundkörpers 23 angeordnet sind,
mit zweiten Anschlüssen 27, die auf einer zweiten Endober
fläche 26 gegenüberliegend der ersten Endoberfläche 24 des
Verbundkörpers 23 angeordnet sind, mit
mehreren inneren Leiterschichten 28, die entlang einer be
stimmten Grenzfläche zwischen den keramischen Schichten 22
angeordnet sind, und mit mehreren Durchgangslochleitern 29
und 30, die so angeordnet sind, daß sie eine bestimmte Ke
ramikschicht 22 durchdringen, versehen.
Der oben beschriebene erste Anschluß 25 umfaßt eine Leiter
schicht, die auf der ersten Endoberfläche 24 angeordnet ist
und die eine Verbindung mit einem Verbindungssubstrat 31
gemäß einer Phantomlinie in Fig. 1 definiert. Genauer ge
sagt ist die monolithische keramische Elektronikkomponente
21, während das Verbindungssubstrat so angeordnet ist, daß
es der ersten Endoberfläche 24 gegenüberliegt, an einem
Verbindungssubstrat 31 befestigt und elektrisch mit dem
Verbindungssubstrat 31 durch eine Leiterschicht verbunden,
die den ersten Anschluß 25 bildet.
Ein zweiter Anschluß 27 wird durch eine freiliegende
Endoberfläche des Anschlußdurchgangslochleiters 30 gebil
det, der sich vom inneren Abschnitt des Verbundkörpers 23
bis zu einer zweiten Endoberfläche 26 erstreckt. Der Quer
schnitt des Durchgangslochleiters 30 dieses bevorzugten
Ausführungsbeispiels ist größer als der des Verbindungs
durchgangslochleiters 29 zum Bilden von Verbindungen inner
halb des Verbundkörpers 23. Der zweite Anschluß 27 defi
niert eine Verbindung mit einer Komponente, die an der
zweiten Endoberfläche 26 befestigt ist. Nur der Durchgangs
lochleiter 30 liegt offen auf der zweiten Endoberfläche 26.
Die Durchgangslochleiter in der gleichen Keramikschicht 22
haben die gleiche Durchmessergröße.
Dieses bevorzugte Ausführungsbeispiel umfaßt wie die oben
beschriebene Befestigungskomponente eine Elektronikkompo
nente 33, die eine blattartige Anschlußelektrode 32 hat,
wie z. B. eine an der Oberfläche zu befestigende Komponen
te.
Auf dem Markt sind Elektronikkomponenten verschiedener Grö
ßen als Elektronikkomponente 33 erhältlich. Wenn die Plan
größe der Elektronikkomponente 1,0 mm × 0,5 mm ist, ist die
Plangröße der Anschlußelektrode 32 ca. 0,25 mm × 0,5 mm.
Dadurch wird der Querschnitt des Anschlußdurchgangslochlei
ters 30 so gewählt, daß er ungefähr genauso groß ist wie
der der Anschlußelektrode 32, das entspricht einen Durch
messer von ca. 0,4 mm. Wenn die Plangröße der Elektronik
komponente 33 0,6 mm × 0,3 mm ist, ist die Plangröße der
Anschlußelektrode 32 ca. 0,15 mm × 0,3 mm. Dadurch wird der
Querschnitt des Anschlußdurchgangslochleiters so gewählt,
daß er einen Durchmesser von ca. 0,3 mm hat.
Der Abschnitt des Anschlußdurchgangslochleiters 30 ist
nicht auf eine im wesentlichen kreisförmige Form beschränkt
und kann auch eine im wesentlichen rechtwinklige Form oder
eine andere geeignete Form aufweisen.
Vorzugsweise umfaßt der Anschlußdurchgangslochleiter 30
feine Mikroporen. Diese Mikroporen steuern das Schrumpfen
des Durchgangslochleiters 30 während des Brennens, wodurch
eine Anschlußelektrode produziert werden kann, die eine ge
wünschte Höhe aufweist.
An der zweiten Endoberfläche 26 werden alle Anschlüsse zum
Befestigen der Komponenten durch den Durchgangslochleiter
30 gebildet. Weitere Durchgangslöcher zum Führen zu einer
Oberflächenschaltung, können durch den regulären Durch
gangslochleiter 29 gebildet werden.
Die Elektronikkomponente 33 ist so angeordnet, daß die An
schlußelektrode 32 gegenüber der Endoberfläche des An
schlußdurchgangslochleiters 30 liegt, der als zweiter An
schluß 27 fungiert. Die Elektronikkomponente 33 wird dann
an der monolithischen keramischen Elektronikkomponente 21
durch Verbinden der Anschlußelektrode 32 mit der freilie
genden Endoberfläche des Anschlußdurchgangslochleiters 30
durch z. B. Lot oder ein leitfähiges Haftmittel 34 befe
stigt.
Während des oben beschriebenen Verbindungsschrittes der
Elektronikkomponente 33 ist die Endoberfläche des Anschluß
durchgangslochleiters 30 vorzugsweise flach und im wesent
lichen in der gleichen Ebene wie die zweite Endoberfläche
26, um zu verhindern, daß sich die Elektronikkomponente 33
ungewünschter Weise neigt, anders ausgedrückt um ein soge
nanntes "Grabsteinphänomen" zu verhindern. Um sicherzustel
len, daß der Anschlußdurchgangslochleiter 30 eine flache
Endoberfläche in der im wesentlichen gleichen Ebene wie die
zweite Endoberfläche 16 hat, werden das Schrumpfen der Ke
ramikschicht 22 und das Schrumpfen des Anschlußdurchgangs
lochleiters so eingestellt, daß sie gleich sind.
Im Gegensatz dazu wird der Querschnitt des Durchgangs
lochleiters 29 zum Definieren von Verbindungen so ausge
wählt, daß er einen Durchmesser von ca. 50 µm bis ca.
150 µm aufweist.
Der Grund dafür, daß der Querschnitt des Verbindungsdurch
gangslochleiters 29 dermaßen reduziert wird, lautet wie
folgt.
Um die Größe der monolithischen keramischen Elektronikkom
ponente 21 zu reduzieren und die Dichte der Verbindungen zu
erhöhen, ist es notwendig, den Abstand des Verbindungs
durchgangslochleiters 29 auf ca. 0,1 mm bis ca. 0,5 mm zu
reduzieren. Auf der anderen Seite unterscheiden sich wäh
rend des Brennschrittes die Schrumpfrate und die Tempera
tur, bei der ein Schrumpfen beim Brennen einsetzt, bei der
keramischen Schicht 22 und dem Verbindungsdurchgangs
lochleiter 29. Dadurch kann, wenn der Querschnitt des Ver
bindungsdurchgangslochleiters 29 zur gleichen Zeit erhöht
wird wie der Abstand des Verbindungsdurchgangslochleiters
29 erniedrigt wird, die keramische Schicht 22 am Abschnitt
zwischen dem Verbindungsdurchgangslochleiters 29 brechen,
was zu schwerwiegenden Defekten führt. Folglich wird der
Querschnitt des Verbindungsdurchgangslochleiters 29 vor
zugsweise nicht erhöht.
Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist ein Metall
gehäuse 35 auch an der zweiten Endoberfläche 26 des Ver
bundkörpers 23 als die angebrachte Komponente befestigt.
Das Metallgehäuse 35 wird über der zweiten Endoberfläche 26
so plaziert, daß es die Elektronikkomponente 33 abdeckt.
Die Kantenoberfläche des Metallgehäuses 35 und die Endober
fläche des Durchgangslochleiters 30, der als der zweite An
schluß 27 fungiert, sind so angeordnet, daß sie einander
gegenüberliegen und durch Löten oder ein anderes geeignetes
Verfahren miteinander verbunden werden.
Es soll angemerkt werden, das einige der Anschlußdurch
gangslochleiter 30, die mit dem Metallgehäuse 35 verbunden
sind und die nicht elektrisch mit dem Verbindungsleiter in
nerhalb des Verbundkörpers 23 verbunden sein müssen, ge
formt werden, ohne mit anderen Verbindungsleitern, wie z. B.
dem Anschlußdurchgangslochleiter 30, der auf der rechten
Seite von Fig. 1 dargestellt ist, verbunden zu sein.
Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die aufeinanderfolgend die
typischen Schritte eines Verfahrens zum Herstellen der mo
nolithischen keramischen Elektronikkomponente 21 gemäß Fig.
4 darstellt.
Wie Fig. 2A zeigt, wird eine keramische Grünschicht 37, die
die keramische Schicht 22 bildet, auf einer Trägerfolie 36
gebildet. Dadurch wird eine Verbundschicht 38, bei der die
keramische Grünschicht 37 durch die Trägerfolie 36 unter
stützt wird, erhalten. Die Trägerfolie 36 wird vorzugsweise
aus Polyethylenterephthalat hergestellt und weist eine Dic
ke von ca. 50 µm bis ca. 100 µm auf.
Die keramische Grünschicht 37 wird in der Form der Verbund
schicht 38 gehandhabt, bis ein Stapelschritt beginnt. Der
Grund dafür liegt wie im Fall der herkömmlichen Technik,
die bezugnehmend auf Fig. 10 beschrieben wird, darin, die
weiche und zerbrechliche keramische Grünschicht 37, die ei
ne extrem niedrige Festigkeit hat, zu verstärken, die Hand
habung und die Ausrichtung in jedem einzelnen der Schritte
zu erleichtern und zu verhindern, daß eine leitfähige Paste
für die interne Leiterschicht 28 und die Durchgangslochlei
ter 29 und 30 schrumpfen und während des Trocknens Unregel
mäßigkeiten entwickeln.
Als nächstes wird, wie Fig. 2B zeigt, in der Verbundschicht
38 ein Durchgangsloch 39 durch Bohren, Ausstanzen, Laser
strahlverfahren oder ein anderes geeignetes Verfahren ge
bildet. Das Durchgangsloch 39 wird zum Bilden der Durch
gangslochleiter 29 und 30 verwendet und die Größe desselben
wird so gewählt, daß sie dem Querschnitt der Durchgangs
lochleiter 29 bzw. 30 angepaßt wird.
Während des in Fig. 2B beschriebenen Schrittes kann das
Durchgangsloch 39 auch nur in der keramischen Grünschicht
37 gebildet werden.
Als nächstes wird eine leitfähige Paste, die z. B. Ag,
Ag/Pd, Ag/Pt, Cu, CuO, Ni oder ein weiteres geeignetes Ma
terial aufweist, als Hauptkomponente hergestellt. Die leit
fähige Paste füllt, wie Fig. 2C zeigt, das Durchgangsloch
39 und wird getrocknet. Dadurch befindet sich ein Abschnitt
mit leitfähiger Paste 40 in jedem der Durchgangslöcher 39.
Wie Fig. 2C zeigt, wird eine Schicht aus leitfähiger Paste
41, die nach außen zeigt, auf der Hauptoberfläche der kera
mischen Grünschicht 37 gebildet, indem die leitfähige Paste
in einem gewünschten Muster aufgetragen und getrocknet
wird. Die Schicht aus leitfähiger Paste 41 fungiert als ei
ne Leiterschicht, die den ersten Anschluß 25 bildet, oder
als interne Leiterschicht 28 in der resultierenden mono
lithischen keramischen Elektronikkomponente 21.
Bei dem Bilden des oben beschriebenen Abschnitts 40 mit
leitfähiger Paste und der Schicht aus leitfähiger Paste 41
wird vorzugsweise ein Druckverfahren, wie z. B. Siebdruc
ken, verwendet. Sowohl der Abschnitt 40 mit leitfähiger Pa
ste als auch die Schicht aus leitfähiger Paste 41 können
jeweils voreinander oder auch gleichzeitig gebildet werden.
Um Mikroporen in dem gebrannten Durchgangslochleiter zu
bilden, umfaßt der Abschnitt 40 mit leitfähiger Paste vor
zugsweise ein Harzpuder (z. B. ein Polypropylen-Harzpuder),
das sich in der Paste nicht löst und beim Brennen ver
dampft.
Vorzugsweise macht das Harzpuder unter dem Gesichtspunkt
der Steuerung des Schrumpfverhaltens und der Verbesserung
der Leitfähigkeit einen Anteil von ca. 3 Volumenprozent bis
ca. 40 Volumenprozent (noch bevorzugter ca. 15 Volumenpro
zent bis ca. 25 Volumenprozent) des Gesamtvolumens des Ab
schnittes 40 mit leitfähiger Paste aus. Unter dem gleichen
Gesichtspunkt liegt der durchschnittliche Korndurchmesser
des Harzpuders vorzugsweise zwischen ca.. 0,1 µm und ca.
75 µm (noch bevorzugter zwischen ca. 5 µm und ca. 50 µm).
Wenn die leitfähige Paste zum Bilden des Abschnitts 40 mit
leitfähiger Paste und der Schicht aus leitfähiger Paste 41
nach der Auftragung getrocknet wird, schrumpft die kerami
sche Grünschicht 37. Wenn die keramische Grünschicht allei
ne handgehabt wird, schwankt die Schrumpfrate um ca.
±0,15%. Wenn die keramische Grünschicht durch die Trägerfo
lie 36 unterstützt wird, wird das Variieren der Schrumpfra
te auf ca. ±0,02% oder weniger reduziert.
Es soll angemerkt werden, daß für den Fall, daß die kerami
sche Grünschicht 37 später geteilt werden soll, um eine
Mehrzahl von Verbundkörpern 23 zu erhalten, die Größe einer
derartigen keramischen Grünschicht 37 im allgemeinen ca.
100 mm × 100 mm oder mehr ist. Es sei nun angenommen, daß
die Größe der keramischen Grünschicht 37 ca. 100 mm × 100 mm
ist. Wenn keine Trägerfolie 36 als Grundschicht verwen
det wird und wenn die Variationsrate des Schrumpfens ca.
±0,15% ausmacht, entsteht eine Abweichung von ca. ±150 µm.
Wenn der Trägerfilm 36 als Grundschicht verwendet wird und
wenn die Variationsrate des Schrumpfens ca. ±0,02% oder we
niger ausmacht, beträgt die Abweichung ca. 20 µm oder weni
ger. Dies zeigt, welch wichtige Wirkung die Trägerfolie 36
ergeben kann. Während eines Schrittes des Stapelns der ke
ramischen Grünschicht 37, der später beschrieben wird, be
trägt die Schrumpfabweichung vorzugsweise ca. ±30 µm oder
weniger, um das Stapeln genau durchzuführen. Dadurch genügt
der oben genannte Wert von ±20 µm dieser Anforderung.
Als nächstes wird, wie Fig. 2D zeigt, die Trägerfolie 36
von der keramischen Grünschicht 37 getrennt. Eine Mehrzahl
von keramischen Grünschichten 37 wird gestapelt, um den
Verbundkörper 23 in einem grünen Zustand, d. h. einen grü
nen Verbundkörper 42, zu definieren.
Zum Bilden des grünen Verbundkörpers 42 kann jede der in
den Fig. 3, 4 und 5 gezeigten Verfahren zum Stapeln ange
wendet werden.
Bei einem Stapelverfahren gemäß Fig. 3 wird zuerst die Trä
gerfolie 36 getrennt, während die keramische Grünschicht 37
durch Vakuumansaugung gehalten wird, und dann werden die
keramischen Grünschichten 37 im Inneren einer Metallform 43
mit einer vorbestimmten Form gestapelt. Obwohl die kerami
schen Grünschichten 37 einfach im Inneren der Metallform 43
gestapelt werden, wird die keramische Grünschicht 37 nicht
wesentlich verschoben, da der Zwischenraum zwischen der Me
tallform 43 und der keramischen Grünschicht 37 klein ist,
z. B. ca. 50 µm.
Bei einem Stapelverfahren gemäß Fig. 4 wird wie beim oben
beschriebenen Stapelverfahren die Trägerfolie 36 getrennt,
während die keramische Grünschicht 37 durch Vakuumansaugung
gehalten wird. Dann werden die keramischen Grünschichten 37
auf einer Grundplatte 44, die ein Metall oder Harz umfaßt,
gestapelt. Wenn die keramischen Grünschichten 37 gestapelt
werden, wird jedesmal, wenn eine keramische Grünschicht 37
gestapelt wird, Wärme und Druck angewendet, so daß die ke
ramischen Grünschichten 37 temporär miteinander durch die
Bindungskraft eines Bindemittels und eines Weichmachers,
die in der keramischen Grünschicht 37 enthalten sind,
druckverbunden werden.
Bei einem Stapelverfahren gemäß Fig. 5 werden die kerami
schen Grünschichten 37 auf einer Grundplatte 45, die ein
Metall oder Harz umfaßt, gestapelt. Während dieses Stapel
schritts zeigt die Trägerfolie 36 nach oben und Wärme und
Druck werden durch die Trägerfolie 36 so angewendet, daß
die keramischen Grünschichten 37 durch die Bindungskraft
eines Bindemittels und eines Weichmachers, die in der kera
mischen Grünschicht 37 enthalten sind, temporär druckver
bunden werden. Dann wird die Trägerfolie 36 getrennt und
der gleiche Schritt wird jedesmal wiederholt, wenn eine ke
ramische Grünschicht 37 gestapelt wird.
Der grüne Verbundkörper 42, der durch eine der oben be
schriebenen Verfahren entstanden ist, weist, wie Fig. 2D
zeigt, die Schicht aus leitfähiger Paste 41 zum Bilden des
ersten Anschlusses 25 auf, der sich an einer Endoberfläche
in Stapelrichtung befindet. An der gegenüberliegenden
Endoberfläche liegt eine Endoberfläche des Abschnitts 40
mit leitfähiger Paste frei, der als zweiter Anschluß 27
fungiert.
Als nächstes wird der grüne Verbundkörper 42 in Stapelrich
tung gepreßt. Die keramischen Grünschichten 37 werden mit
einander druckverbunden und die freiliegende Endoberfläche
des Abschnitts 40 mit leitfähiger Paste, der den zweiten
Anschluß 27 bilden wird, weist eine verbesserte Flachheit
auf.
Als nächstes wird der grüne Verbundkörper 42 gebrannt.
Durch Sintern gemäß Fig. 2E wird der Verbundkörper 22 er
halten. In diesem Stadium wird das Schrumpfen des Ab
schnitts 40 mit leitfähiger Paste, der den zweiten Anschluß
27 ergeben wird, so angepaßt, daß es an das Schrumpfen der
keramischen Grünschicht 37 soweit wie möglich angepaßt ist.
Nachdem der Verbundkörper 23 durch Sintern wie oben be
schrieben erhalten wurde, wird ein aufgedruckter Widerstand
oder eine isolierende Schicht auf der zweiten Endoberfläche
26 des Verbundkörpers 23 wie benötigt gebildet. Die Leiter
schicht, die den ersten Anschluß 25 bildet, und die frei
liegende Endoberfläche des Anschlußdurchgangslochleiters 30
werden z. B. mit Nickel plattiert und können weiterhin mit
Gold, Zinn, Löt oder einem anderen geeigneten Material wie
nötig plattiert werden.
Der Verbundkörper 23 aus Fig. 2E wird verglichen mit dem
Verbundkörper 23 aus Fig. 1 auf dem Kopf dargestellt.
Als nächstes wird wie in Fig. 1 die Elektronikkomponente 33
an der zweiten Endoberfläche 26 des Verbundkörpers 23 befe
stigt, und das Metallgehäuse 35 wird angebracht. Alternativ
kann die Elektronikkomponente 33 durch Füllen des inneren
Abschnittes des Metallgehäuses 35 mit einem Harz versiegelt
werden.
Fig. 6 ist eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente 46 gemäß einem weiteren bevor
zugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. In
Fig. 6 werden die gleichen Bezugszeichen verwendet um die
gleichen Elemente wie die aus Fig. 1 zu bezeichnen, um eine
Verdoppelung der Beschreibung zu vermeiden.
Ein Verbundkörper 47, der in der monolithischen keramischen
Elektronikkomponente 46 aus Fig. 6 enthalten ist, wird
durch einen Anschlußdurchgangslochleiter 48 charakteri
siert. Der Querschnitt des Anschlußdurchgangslochleiters 48
ist vorzugsweise kleiner als der des Verbindungsdurchgangs
lochleiters 29.
Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist eine Elek
tronikkomponente mit Bump-Elektroden 49 an der zweiten
Endoberfläche 26 des Verbundkörpers 47 befestigt. Die Elek
tronikkomponente 50 ist mit der Endoberfläche des Anschluß
durchgangslochleiters 48, der als zweiter Anschluß 27 fun
giert, durch die Bump-Elektroden 49 verbunden.
Jede Bump-Elektrode 49 besteht aus Lot oder Gold und hat
einen Durchmesser von ca. 50 µm bis ca. 100 µm. Wie oben
beschrieben, ist der Durchmesser der Bump-Elektrode 49
kleiner als der des Verbindungsdurchgangslochleiters 29,
der ungefähr 50 µm bis ungefähr 150 µm beträgt. Folglich
ist es, wenn ein Verbinden durch Bump-Elektroden 49 durch
geführt wird, vorzuziehen, daß der Querschnitt des An
schlußdurchgangslochleiters 48 kleiner ist als der des Ver
bindungsdurchgangslochleiters 29, um die Dichte der Verbin
dungen zu erhöhen.
Der Abschnitt des Anschlußdurchgangslochleiters 48 dieses
bevorzugten Ausführungsbeispieles ist nicht auf eine im we
sentlichen kreisförmige Form beschränkt und kann auch eine
im wesentlichen rechtwinklige oder andere geeignete Form
aufweisen.
Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist der verbun
dene Abschnitt mit den Bump-Elektroden 49 mit einem Harz 51
versiegelt.
Fig. 7 ist eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente 52 gemäß einem weiteren anderen
bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
In Fig. 7 werden ähnliche Elemente wie die in Fig. 1 und
Fig. 6 durch die gleichen Bezugszeichen angegeben, um eine
Verdoppelung der Beschreibung zu vermeiden.
Ein Verbundkörper 53, der in der monolithischen keramischen
Elektronikkomponente 52 aus Fig. 7 enthalten ist, wird wie
in dem bevorzugten Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6 durch
einen Verbindungsdurchgangslochleiter 54 charakterisiert,
dessen Querschnitt kleiner als der des Verbindungsdurch
gangslochleiters 29 ist.
Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist eine Elek
tronikkomponente 55, die elektronisch durch Drahtbonden
verbunden ist, an der zweiten Endoberfläche 26 des Verbund
körpers 53 befestigt. Die Elektronikkomponente 55 ist durch
Bonddrähte 56 elektronisch mit der Endoberfläche des Ver
bindungsdurchgangslochleiters 54 verbunden, der als zweiter
Anschluß 27 fungiert.
Die Bonddrähte 56 bestehen vorzugsweise aus Gold, Alumini
um, Kupfer oder einem anderen geeigneten Material und jeder
Verbindungsdraht 56 hat einen Durchmesser von ca. 20 µm bis
ca. 30 µm. Dementsprechend ist es vorzuziehen, daß der
Querschnitt des Verbindungsdurchgangslochleiters 54 kleiner
ist als der Durchmesser des Verbindungsdurchgangslochlei
ters, der ca. 50 µm bis ungefähr 150 µm beträgt, um die
Dichte der Verbindungen zu erhöhen.
Auch bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist der Ab
schnitt des Verbindungsdurchgangslochleiters 54 nicht auf
eine im wesentlichen kreisförmige Form beschränkt und kann
auch eine im wesentlichen rechteckige Form oder eine andere
geeignete Form aufweisen.
Wenn die Verbindung wie in dem bevorzugten Ausführungsbei
spiel aus Fig. 6 durch Bump-Elektroden 49 erfolgt, und wenn
die Verbindung wie im bevorzugten Ausführungsbeispiel aus
Fig. 7 durch Bonddrähten 56 erreicht wird, müssen die
Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter 48 und 54
flach sein und die Coplanarität zwischen diesen Endoberflä
chen und der zweiten Endoberfläche 26 liegt vorzugsweise
bei ca. 20 µm oder weniger. Um eine derartige Flachheit und
Coplanarität zu erreichen, ist der Querschnitt der An
schlußdurchgangslochleiter 48 und 54 vorzugsweise klein.
Unter diesem Gesichtspunkt ist auch der Querschnitt der je
weiligen Anschlußdurchgangslochleiter 48 und 54 für die be
vorzugten Ausführungsbeispiele aus Fig. 6 und Fig. 7 vor
zugsweise klein.
Fig. 8 ist eine Schnittansicht einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente 57 gemäß einem weiteren anderen
bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
In Fig. 8 werden Elemente, die denen aus Fig. 1 entspre
chen, durch die gleichen Bezugszeichen angegeben, um eine
Verdoppelung der Beschreibung zu vermeiden.
Ein Verbundkörper 58, der in der monolithischen keramischen
Elektronikkomponente 57 aus Fig. 8 enthalten ist, weist ei
nen Hohlraum 60 auf, in dem eine Öffnung 59 entlang der er
sten Endoberfläche 24 angeordnet ist. Der Hohlraum 60 ist
mit einem Stufenteil 61 versehen sowie mit einer Anschluß
flächenelektrode 62 an der Oberfläche des Stufenteils 61,
das in Richtung der Öffnung 59 zeigt.
In dem Hohlraum 60 ist eine Elektronikkomponente 63, wie z. B.
ein Halbleiter-IC-Chip oder eine andere geeignete Kompo
nente untergebracht. Die Elektronikkomponente 63 ist durch
Bonddrähte 64 elektrisch mit der Anschlußflächenelektrode
62 verbunden.
Der innere Abschnitt des Hohlraums 60 kann mit einem Harz
65 gefüllt werden, so daß die Elektronikkomponente 63 ver
siegelt wird. Alternativ kann die Elektronikkomponente 63
mit einem Gehäuse abgedeckt werden, obwohl dies in der
Zeichnung nicht gezeigt ist.
Eine Elektronikkomponente 67 mit Anschlußelektroden 66 ist
an der zweiten Endoberfläche 26 des Verbundkörpers 58 befe
stigt. Jede Anschlußelektrode 66 der Elektronikkomponente
67 ist mit der Endoberfläche des Anschlußdurchgangslochlei
ters 30, der als zweiter Anschluß 27 fungiert, durch ein
Lot 68 verbunden.
Die oben beschriebene Elektronikkomponente 67 kann wie
durch eine gepunktete Linie in Fig. 8 gezeigt wird, mit ei
nem Gehäuse 69 abgedeckt werden oder mit einem Harz versie
gelt werden, obwohl dies nicht in der Zeichnung gezeigt
ist.
Gemäß dem bevorzugten Ausführungsbeispiel aus Fig. 8 können
die Anschlüsse, die sich am Verbundkörper 58 befinden und
die elektrische Verbindungen für die angebrachten Komponen
ten schaffen, flexibel und untereinander austauschbar ver
wendet werden. Wenn z. B. Verbindungen mit Bonddrähten 64
hergestellt werden, ist die Anschlußflächenelektrode 62,
die durch Drucken gebildet wird, besser geeignet als die
Endoberfläche des Anschlußdurchgangslochleiters 30. In ei
nem derartigen Fall wird die Anschlußflächenelektrode 62
verwendet, um eine Drahtbonden durchzuführen. Im Gegensatz
dazu ist, wenn Verbindungen durch Lot geschaffen werden,
der Anschlußdurchgangslochleiter 30 besser geeignet als die
Anschlußflächenelektrode 62. In einem derartigen Fall wird
die Endoberfläche des Anschlußdurchgangslochleiters 30 ver
wendet, um eine Lotverbindung durchzuführen.
Claims (21)
1. Monolithische keramische Elektronikkomponente
(21; 46; 52; 57) mit:
einem Verbundkörper (23; 47; 53; 58) mit einer Mehrzahl von gestapelten Keramikschichten (22), wobei die Mehr zahl von Keramikschichten folgende Merkmale umfaßt:
Verbindungsleiter (29; 48; 54), die in jeder der Kera mikschichten vorgesehen sind, mit ersten Anschlüssen (25), die an einer ersten Endoberfläche (24) in der Stapelrichtung des Verbundkörpers (23) angeordnet sind, um Verbindungen mit einem Verbindungssubstrat zu definieren, und mit zweiten Anschlüssen (27), die an einer zweiten Endoberfläche (26) gegenüber der ersten Endoberfläche (24) des Verbundkörpers (23; 47) angeord net sind, um Verbindungen mit einer angebrachten Kom ponente (50) zu definieren,
wobei die ersten Anschlüsse (25) Leiterschichten um fassen, die an der ersten Endoberfläche (24) vorgese hen sind, und wobei die zweiten Anschlüsse (27) frei liegende Endoberflächen von Anschlußdurchgangslochlei tern umfassen, die sich von dem inneren Abschnitt des Verbundkörpers (23; 47) bis zu der zweiten Endoberflä che (26) erstrecken.
einem Verbundkörper (23; 47; 53; 58) mit einer Mehrzahl von gestapelten Keramikschichten (22), wobei die Mehr zahl von Keramikschichten folgende Merkmale umfaßt:
Verbindungsleiter (29; 48; 54), die in jeder der Kera mikschichten vorgesehen sind, mit ersten Anschlüssen (25), die an einer ersten Endoberfläche (24) in der Stapelrichtung des Verbundkörpers (23) angeordnet sind, um Verbindungen mit einem Verbindungssubstrat zu definieren, und mit zweiten Anschlüssen (27), die an einer zweiten Endoberfläche (26) gegenüber der ersten Endoberfläche (24) des Verbundkörpers (23; 47) angeord net sind, um Verbindungen mit einer angebrachten Kom ponente (50) zu definieren,
wobei die ersten Anschlüsse (25) Leiterschichten um fassen, die an der ersten Endoberfläche (24) vorgese hen sind, und wobei die zweiten Anschlüsse (27) frei liegende Endoberflächen von Anschlußdurchgangslochlei tern umfassen, die sich von dem inneren Abschnitt des Verbundkörpers (23; 47) bis zu der zweiten Endoberflä che (26) erstrecken.
2. Monolithische keramische Elektronikkomponente (21) ge
mäß Anspruch 1, bei der die freiliegenden Endoberflä
chen der Anschlußdurchgangslochleiter (30) flach sind
und im wesentlichen in der gleichen Ebene wie die
zweite Endoberfläche (26) angeordnet sind.
3. Monolithische keramische Elektronikkomponente (46) ge
mäß Anspruch 1, bei der die Verbindungsleiter Verbin
dungsdurchgangslochleiter (29) zum Definieren von Ver
bindungen im inneren des Verbundkörpers umfassen, wo
bei die Anschlußdurchgangslochleiter (48) eine Quer
schnittsgröße aufweisen, die sich von der der Verbin
dungsdurchgangslochleiter (29) unterscheidet.
4. Monolithische keramische Elektronikkomponente (21) ge
mäß Anspruch 3, bei der die Querschnittsgröße der An
schlußdurchgangslochleiter (30) größer ist als die der
Verbindungsdurchgangslochleiter (29).
5. Monolithische keramische Elektronikkomponente (21) ge
mäß Anspruch 4, bei der die angebrachte Komponente ei
ne Elektronikkomponente (33) mit blattartigen An
schlußelektroden (32) ist, und die Endoberflächen der
Anschlußdurchgangslochleiter (30) mit der Oberfläche
der entsprechenden Anschlußelektrode verbunden sind,
um die angebrachte Komponente zu befestigen.
6. Monolithische keramische Elektronikkomponente (21) ge
mäß Anspruch 5, bei der die angebrachte Komponente ein
Metallgehäuse (35) ist, das die zweite Endoberfläche
(26) abdeckt, und die Kantenoberflächen des Metallge
häuses mit den Endoberflächen der Anschlußdurchgangs
lochleiter (30) verbunden sind, um die angebrachte
Komponente zu befestigen.
7. Monolithische keramische Elektronikkomponente (46) ge
mäß Anspruch 3, bei der die Querschnittsgröße der An
schlußdurchgangslochleiter (48) kleiner ist als die
der Verbindungsdurchgangslochleiter (29).
8. Monolithische keramische Elektronikkomponente (46) ge
mäß Anspruch 7, bei der die angebrachte Komponente ei
ne Elektronikkomponente (50) mit Bump-Elektroden (49)
ist und mit den Endoberflächen der Anschlußdurchgangs
lochleiter (48) durch die Bump-Elektroden (49) verbun
den ist.
9. Monolithische keramische Elektronikkomponente (52) ge
mäß Anspruch 8, bei der die angebrachte Komponente
eine Elektronikkomponente (55) ist, die elektrisch
durch Drahtbonden verbunden ist, und elektrisch mit
den Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter
(30) durch Bonddrähte verbunden ist.
10. Monolithische keramische Elektronikkomponente (57) ge
mäß Anspruch 1, die weiter einen Hohlraum (60) umfaßt,
der eine Öffnung (59) entlang der ersten Endoberfläche
(24) aufweist.
11. Monolithische keramische Elektronikkomponente (21) ge
mäß Anspruch 1, bei der der Anschlußdurchgangslochlei
ter (30) Mikroporen aufweist.
12. Verfahren zum Herstellen einer monolithischen kerami
schen Elektronikkomponente (21), wobei das Verfahren
folgende Schritte aufweist:
Herstellen einer Verbundschicht (38) mit einer kerami schen Grünschicht (37) und einer Trägerfolie (36);
Bilden von Durchgangslöchern (39), die zumindest die keramische Grünschicht (37) in der Verbundschicht (38) durchdringen;
Bilden von Abschnitten mit leitfähiger Paste (40) durch Füllen der Durchgangslöcher (39) mit einer leit fähigen Paste;
Bilden einer Schicht aus leitfähiger Paste (41) durch Aufbringen der leitfähigen Paste auf die äußere Hauptoberfläche der keramischen Grünschicht (37) der Verbundschicht (38);
Trennen der Trägerfolie (36) von der keramischen Grün schicht (37);
Bilden eines grünen Verbundkörpers (42) durch Stapeln einer Mehrzahl von keramischen Grünschichten (37); und
Brennen des grünen Verbundkörpers (42),
wobei zumindest ein Abschnitt der Schicht aus leitfä higer Paste (41) die leitfähige Schicht definiert, die den ersten Anschluß bildet, und zumindest ein Ab schnitt der Abschnitte mit leitfähiger Paste (40) den Anschlußdurchgangslochleiter (30) definiert.
Herstellen einer Verbundschicht (38) mit einer kerami schen Grünschicht (37) und einer Trägerfolie (36);
Bilden von Durchgangslöchern (39), die zumindest die keramische Grünschicht (37) in der Verbundschicht (38) durchdringen;
Bilden von Abschnitten mit leitfähiger Paste (40) durch Füllen der Durchgangslöcher (39) mit einer leit fähigen Paste;
Bilden einer Schicht aus leitfähiger Paste (41) durch Aufbringen der leitfähigen Paste auf die äußere Hauptoberfläche der keramischen Grünschicht (37) der Verbundschicht (38);
Trennen der Trägerfolie (36) von der keramischen Grün schicht (37);
Bilden eines grünen Verbundkörpers (42) durch Stapeln einer Mehrzahl von keramischen Grünschichten (37); und
Brennen des grünen Verbundkörpers (42),
wobei zumindest ein Abschnitt der Schicht aus leitfä higer Paste (41) die leitfähige Schicht definiert, die den ersten Anschluß bildet, und zumindest ein Ab schnitt der Abschnitte mit leitfähiger Paste (40) den Anschlußdurchgangslochleiter (30) definiert.
13. Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem der grüne Ver
bundkörper (42) Verbindungsleiter umfaßt, die in jeder
der Keramikschichten vorgesehen sind, wobei die Ver
bindungsleiter erste Anschlüsse, die an einer ersten
Endoberfläche (24) in der Stapelrichtung des Verbund
körpers angebracht sind, um Verbindungen mit einem
Verbindungssubstrat zu definieren, und zweite An
schlüsse umfassen, die an einer zweiten Endoberfläche
(26) gegenüber der ersten Endoberfläche des Verbund
körpers (23) angeordnet sind, um Verbindungen mit ei
ner angebrachten Komponente zu definieren, wobei die
ersten Anschlüsse Leiterschichten umfassen, die an der
ersten Endoberfläche (24) vorgesehen sind, und wobei
die zweiten Anschlüsse freiliegende Endoberflächen der
Anschlußdurchgangslochleiter umfassen, die sich von
dem inneren Abschnitt des Verbundkörpers zu der zwei
ten Endoberfläche (26) erstrecken.
14. Verfahren gemäß Anspruch 13, bei dem die freiliegenden
Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter (30)
flach sind und im wesentlichen in der gleichen Ebene
angeordnet sind wie die zweite Endoberfläche (26).
15. Verfahren gemäß Anspruch 13, bei dem die Verbindungs
leiter Verbindungsdurchgangslochleiter (29) zum Defi
nieren der Verbindungen innerhalb des Verbundkörpers
umfassen, und die Anschlußdurchgangslochleiter (48)
eine Querschnittsgröße aufweisen, die sich von der der
Verbindungsdurchgangslochleiter (29) unterscheidet.
16. Verfahren gemäß Anspruch 15, bei dem die Querschnitts
größe der Anschlußdurchgangslochleiter (30) größer ist
als die der Verbindungsdurchgangslochleiter (29).
17. Verfahren gemäß Anspruch 16, bei dem die angebrachte
Komponente eine Elektronikkomponente (21) mit blattar
tigen Anschlußelektroden (32) ist, und die Endoberflä
chen der Anschlußdurchgangslochleiter (30) mit der
Oberfläche der entsprechenden Anschlußelektrode ver
bunden sind, um die angebrachte Komponente zu befesti
gen.
18. Verfahren gemäß Anspruch 17, bei dem die angebrachte
Komponente ein Metallgehäuse (35) ist, das die zweite
Endoberfläche (26) bedeckt, und die Kantenoberflächen
des Metallgehäuses (35) mit den Endoberflächen der An
schlußdurchgangslochleiter (30) verbunden sind, um die
angebrachte Komponente zu befestigen.
19. Verfahren gemäß Anspruch 13, das weiterhin einen Hohl
raum (60) umfaßt, der eine Öffnung (59) entlang der
ersten Endoberfläche (24) aufweist.
20. Verfahren gemäß Anspruch 13, bei dem der Anschluß
durchgangslochleiter (30) Mikroporen aufweist.
21. Elektronikvorrichtung mit:
einer monolithischen keramischen Elektronikkomponente (21) gemäß Anspruch 1;
einem Verbindungssubstrat (31), an dem die monolithi sche keramische Elektronikkomponente (21) angebracht ist, wobei das Verbindungssubstrat (31) der ersten Endoberfläche (24) des Verbundkörpers zugewandt ist und durch die Leiterschicht elektrisch verbunden ist, die den ersten Anschluß bildet; und
einer Komponente, die an der zweiten Endoberfläche (26) des Verbundkörpers angebracht ist und durch die Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter (30) elektrisch angeschlossen ist.
einer monolithischen keramischen Elektronikkomponente (21) gemäß Anspruch 1;
einem Verbindungssubstrat (31), an dem die monolithi sche keramische Elektronikkomponente (21) angebracht ist, wobei das Verbindungssubstrat (31) der ersten Endoberfläche (24) des Verbundkörpers zugewandt ist und durch die Leiterschicht elektrisch verbunden ist, die den ersten Anschluß bildet; und
einer Komponente, die an der zweiten Endoberfläche (26) des Verbundkörpers angebracht ist und durch die Endoberflächen der Anschlußdurchgangslochleiter (30) elektrisch angeschlossen ist.
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